JPH10185440A - Low temperature nitriding method for aluminum material and low temperature aluminum nitriding furnace - Google Patents

Low temperature nitriding method for aluminum material and low temperature aluminum nitriding furnace

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JPH10185440A
JPH10185440A JP34547596A JP34547596A JPH10185440A JP H10185440 A JPH10185440 A JP H10185440A JP 34547596 A JP34547596 A JP 34547596A JP 34547596 A JP34547596 A JP 34547596A JP H10185440 A JPH10185440 A JP H10185440A
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JP
Japan
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gas
furnace
nitriding
muffle
temperature
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JP34547596A
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Japanese (ja)
Inventor
Hirohisa Miura
宏久 三浦
Eikichi Matsubara
永吉 松原
Yasuhiro Yamada
泰弘 山田
Hirobumi Matsunaga
博文 松永
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NIPPON TOKUSHU KIKAI KK
Toyota Motor Corp
Original Assignee
NIPPON TOKUSHU KIKAI KK
Toyota Motor Corp
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  • Solid-Phase Diffusion Into Metallic Material Surfaces (AREA)
  • Muffle Furnaces And Rotary Kilns (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To form a nitrided case with high efficiency by a method wherein in low temperature nitriding treatment for an aluminum material to form a nitrided case, a flow rate of introduction nitrogen gas and a discharge area of the gas are regulated by a specified temperature in the middle of the increase of temperature, and an oxygen gas partial pressure in the furnace and a furnace pressure are held at a specified temp.. SOLUTION: A horizontal type cylindrical heating furnace 1 having one end being opening is provided on the inner peripheral surface of a furnace wall with an electric heater 10 and a horizontal type cylindrical muffle 2 having an base end opening being opened is contained in the heating furnace 1 in a state to be separated away from the inner surface of the heating furnace 1 by a given distance. Gas for nitriding is introduced in the furnace 1 containing an aluminum material coated with nitriding auxiliaries and the interior of the furnace 1 is held at a positive pressure, the aluminum material is heated to 400-600 deg.C, and a nitrided case is formed on the surface part of the aluminum material. In this case, at a high temperature stage from a given temperature to reaction completion, an oxygen gas partial pressure in the furnace 1 is held at 2.0Pa or less and a furnace pressure at a positive pressure of 0.5mmH2 O to form the excellent nitrided case.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、アルミニウム材の
窒化炉に関する。
The present invention relates to a furnace for nitriding aluminum materials.

【0002】[0002]

【従来の技術】アルミニウム材の表面部に窒化層を形成
する従来技術として、プラズマ化したりイオン化した窒
素ガスを用いる方法が従来より知られているが、このよ
うな窒化層形成方法では高真空雰囲気が必要となるの
で、その実施に当たっては生産性等において解決困難な
問題がある。
2. Description of the Related Art As a conventional technique for forming a nitride layer on the surface of an aluminum material, a method using a plasma or ionized nitrogen gas has been conventionally known. However, such a method for forming a nitride layer employs a high vacuum atmosphere. Therefore, there is a problem that is difficult to solve in terms of productivity, etc.

【0003】そこで本出願人は、アルミニウム合金粉末
及び樹脂バインダを主体とする窒化処理用助剤をアルミ
ニウム材に塗布し、アルミニウム材の融点以下の低温の
雰囲気温度下でほぼ窒素ガスからなる雰囲気ガスを用い
ることにより、アルミニウム材の表面部(内側)に窒化
層を形成する方法を先に開発した(特開平7ー1663
21号)。
[0003] The applicant of the present invention has applied an aluminum alloy powder and a nitriding aid mainly composed of a resin binder to an aluminum material, and applied an atmosphere gas consisting essentially of nitrogen gas at a low temperature below the melting point of the aluminum material. A method of forming a nitrided layer on the surface (inside) of an aluminum material by using GaN was developed first (Japanese Patent Laid-Open No. 7-1663).
No. 21).

【0004】このアルミニウム材窒化法(以下、低温ガ
ス利用窒化層形成方法ともいう)では、詳細な作用機序
は不明であるものの、まず窒化処理用助剤中のアルミニ
ウム合金粉末が窒化され、引き続いてアルミニウム材の
表面からその内部に窒化層が形成される。
In this aluminum material nitriding method (hereinafter, also referred to as a method of forming a nitride layer utilizing a low-temperature gas), although the detailed mechanism of action is unknown, the aluminum alloy powder in the nitriding aid is first nitrided, and subsequently Thus, a nitride layer is formed from the surface of the aluminum material to the inside thereof.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら本発明者
らによる引き続きの研究により、上記低温ガス利用窒化
層形成方法を用いて実証炉試験を行ったところ、実験室
レベルでは良好な形成速度で窒化層が形成されるもの
の、炉による大規模な実証段階レベルになると、窒化層
の組織異常、純度低下及び形成速度の低下などの問題が
生じることが判明し、本発明者らの解析によればその原
因が以下の要因に起因することがわかった。
However, as a result of continuing research conducted by the present inventors, a demonstration furnace test was conducted using the above-described method for forming a nitride layer utilizing low-temperature gas. However, when the furnace reaches a large-scale demonstration stage level, it has been found that problems such as abnormalities in the structure of the nitride layer, a decrease in purity and a decrease in the formation rate occur, and according to the analysis of the present inventors, The cause was found to be due to the following factors.

【0006】上記した低温ガス利用窒化層形成方法を用
いたアルミニウム材への窒化層形成では窒化反応に供さ
れる窒化用ガスの温度が低く、かつ、プラズマ化やイオ
ン化などの処理もなされていないので、すなわち窒化用
ガスの反応活性が低く、一方、アルミニウムは高温下で
極めて易酸化性であるため、炉内の酸素ガス、水分、一
酸化炭素ガス、炭酸ガス等のガス除去が不十分である
と、これらのガスに汚染されて窒化層の組織異常及び純
度低下が生じ、所要の膜強度が得られなかったり、更に
は膜形成が遅れる。
In the formation of a nitride layer on an aluminum material using the above-described method for forming a nitride layer using a low-temperature gas, the temperature of the nitriding gas used for the nitridation reaction is low, and no treatment such as plasma or ionization is performed. That is, the reaction activity of the nitriding gas is low, while aluminum is very easily oxidized at high temperatures, and the gas removal of oxygen gas, moisture, carbon monoxide gas, carbon dioxide gas, etc. in the furnace is insufficient. If so, these gases are contaminated, and the structure of the nitride layer is abnormal and the purity of the nitride layer is reduced, so that the required film strength cannot be obtained or the film formation is delayed.

【0007】すなわち、上記低温ガス利用窒化層形成方
法を実際に炉により実用化するには、従来、この種の炉
(例えば鋼材窒化用の窒化炉)などに比べて格段に炉内
の不純ガス分圧を低減しなければならず、従来の鋼材窒
化用の窒化炉の採用は全く問題外であった。本発明は、
以上の知見に基づいてなされたものであり、窒化層形成
速度の格段の向上が可能な低温ガス利用窒化層形成方
法、それを実現する量産容易な低温アルミニウム窒化炉
を提供することを、その目的としている。
That is, in order to practically use the above-described method for forming a nitride layer utilizing low-temperature gas in a furnace, it is necessary to compare the impurity gas in the furnace by far compared with a conventional furnace of this type (for example, a nitriding furnace for nitriding steel materials). The partial pressure had to be reduced, and the adoption of the conventional nitriding furnace for nitriding steel was out of the question at all. The present invention
Based on the above findings, it is an object of the present invention to provide a low-temperature gas-using nitride layer forming method capable of remarkably improving a nitride layer forming speed, and a low-temperature aluminum nitriding furnace easy to mass-produce to realize the method. And

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】請求項1記載の方法によ
れば、金属粉末と樹脂バインダを主体とした窒化助剤が
塗布されているアルミニウム材を炉内に収容し、前記炉
内に窒素ガスを主成分とする窒化用ガスを導入して前記
炉内を大気圧を超える正圧に保持し、前記アルミニウム
材を400〜600℃に加熱することにより、前記アル
ミニウム材の表面部に窒化層を形成するアルミニウム材
の低温窒化方法において、昇温途中の少なくとも300
℃を超える所定温度から反応終了までの高温段階を、導
入窒素ガス流量及びガスの排出面積を調節することによ
り、炉内の酸素ガス分圧を2.0Pa以下に保持し、か
つ、炉内圧力を0.5〜20mmH2Oの正圧に保持す
る。これにより、良好な窒化層を能率よく形成する事が
できる。以下、詳しく説明する。アルミニウム材をした
直後は、装入材やトレーから付着ガスが発生する。従っ
て、この段階では、ガス排出口面積を拡大するなどして
ガス排出口の部位における流体抵抗を低減してできるだ
け多量の洗浄ガスにてこれらの付着ガスの排出を行うこ
とが好ましい。昇温段階の少なくとも300℃を超える
所定温度から反応終了までの期間における炉内の窒化用
ガス以外の有害ガスは窒化層組織の異常やその純度の低
下を招いてしまう。この有害ガスには、酸素ガス、水素
ガス、水蒸気、一酸化炭素ガス、窒素酸化物等がある。
特に、200〜400℃の間では、窒化助剤中のバイン
ダ(結着剤)としての樹脂や溶剤から生じるガスが、こ
の有害ガスの有力成分をなす。そこで、本発明では、炉
内清浄度として酸素ガス分圧を2.0Pa以下(好まし
くは、0.2〜2.0Pa)に保持し、かつ、炉内圧力
を0.5〜20mmH2Oの正圧に保持する。このように
すれば低温加熱炉による窒化処理における有害ガスに起
因する窒化層組織の異常やその純度の低下、更には窒化
層厚さのばらつきなどの不具合を低減することができ
る。炉内圧力が0.5mmH2O未満の場合にはガス排出
口からの外部空気の流入の可能性が高くなり、20mm
H2Oを超えると、炉内におけるガスの流速が大きくなっ
て炉の内部のガス流の状態が層流状態からずれ、その結
果、炉内各部に乱流や渦流ができるなどして排出すべき
ガス成分が滞流して排出されにくくなったり、窒化助剤
が被窒化材から剥離し易くなったりしてしまう。
According to the first aspect of the present invention, an aluminum material coated with a nitriding aid mainly composed of a metal powder and a resin binder is accommodated in a furnace, and nitrogen is contained in the furnace. By introducing a nitriding gas containing a gas as a main component and maintaining the inside of the furnace at a positive pressure exceeding atmospheric pressure and heating the aluminum material to 400 to 600 ° C., a nitride layer is formed on the surface of the aluminum material. The low-temperature nitriding method of aluminum material for forming
The high-temperature stage from a predetermined temperature exceeding ℃ to the end of the reaction is controlled by adjusting the flow rate of the introduced nitrogen gas and the discharge area of the gas so that the oxygen gas partial pressure in the furnace is maintained at 2.0 Pa or less, and the furnace pressure is controlled. the hold a positive pressure of 0.5~20mmH 2 O. Thereby, a good nitride layer can be efficiently formed. The details will be described below. Immediately after the aluminum material is used, gas is generated from the charge and the tray. Therefore, at this stage, it is preferable to reduce the fluid resistance at the gas outlet by increasing the area of the gas outlet, and to discharge these adhered gases with as much cleaning gas as possible. The harmful gas other than the nitriding gas in the furnace during a period from a predetermined temperature exceeding at least 300 ° C. in the temperature raising stage to the end of the reaction causes an abnormality in the nitride layer structure and a decrease in its purity. This harmful gas includes oxygen gas, hydrogen gas, water vapor, carbon monoxide gas, nitrogen oxide and the like.
Particularly, at a temperature of 200 to 400 ° C., a gas generated from a resin or a solvent as a binder (binder) in the nitriding aid forms a major component of the harmful gas. Therefore, in the present invention, the oxygen gas partial pressure is maintained at 2.0 Pa or less (preferably, 0.2 to 2.0 Pa) as the furnace cleanliness, and the furnace pressure is 0.5 to 20 mmH 2 O. Hold at positive pressure. By doing so, it is possible to reduce problems such as abnormalities in the nitrided layer structure, a decrease in the purity thereof, and variations in the thickness of the nitrided layer caused by the harmful gas in the nitriding treatment by the low-temperature heating furnace. If the furnace pressure is less than 0.5 mmH 2 O, the possibility of inflow of external air from the gas outlet increases,
When the flow rate exceeds H 2 O, the flow velocity of the gas in the furnace increases, and the gas flow inside the furnace deviates from the laminar flow state. The gas components to be retained flow and become difficult to be discharged, and the nitriding aid tends to peel off from the material to be nitrided.

【0009】酸素ガス分圧はそれに付随する上記各種有
害ガス成分の増大を意味するので、炉内の清浄度の目安
となる。酸素ガス分圧が2.0Paを超える炉内清浄度
では、上記した不具合が増大する。このことは、酸素ガ
スが窒素ガスよりも格段にアルムニウムと反応し易いと
いう事実からも理解される。更に、酸素ガス分圧は他の
有害ガスの分圧と深い相関を持つので、炉内清浄度を露
点計で推定してもよい。この場合、酸素ガス分圧が2.
0Paを露点ー60℃に相当するとすることが好適であ
る。また、発明の実施に際しては露点ー65℃以下にま
で炉内を清浄化する事が一層好ましい。一方、酸素ガス
分圧が、0.2Pa未満とすると、高価な高純度窒化ガ
スを多量に消費してしまう他、炉内流速の増大により窒
化助剤が急速な乾燥のためかアルミニウム材から剥離す
る傾向が助長されて窒化層形成効率が低下するという不
具合が生じた。特に420℃から反応終了までの窒化層
形成が主に行われる高温期間中は、被窒化材の窒化のた
めに窒化助剤が被窒化材に密着した状態を維持すること
がきわめて重要である。ところが、炉内ガス流量が大き
いほど、窒化助剤の上記剥離が大きくなってしまう。従
って、420℃から反応終了までの窒化期間において
は、炉内へ導入する窒化用ガスの流量は、炉内圧を上記
した0.5mmH2Oの正圧以上を確保して外部からの空
気の侵入を阻止しつつ、できる限り低減することが好ま
しい。このようにすれば、被窒化材からの窒化助剤の剥
離を十分に低減することができるので、窒化用ガス流量
の増大に伴う窒化層形成速度の低下を阻止する事ができ
る。以下、請求項1及び2にかかる上記説明を以下に整
理する。窒化助剤を用いることにより窒化反応性を向上
した窒化助剤使用方式の低温窒化方法では、アルミニウ
ム材の融点未満の低温度にて効率よく窒化層を形成する
事が可能となる。しかし、上記アルミニウム材の低温窒
化方法の実施に際しては、実際には下記の条件を実現す
ることが重要である。
The partial pressure of oxygen gas means an increase in the above-mentioned various harmful gas components accompanying the oxygen gas partial pressure, and thus serves as a measure of cleanliness in the furnace. If the oxygen gas partial pressure exceeds 2.0 Pa, the above-mentioned problems increase. This can be understood from the fact that oxygen gas is much more reactive with aluminum than nitrogen gas. Further, since the oxygen gas partial pressure has a deep correlation with the partial pressure of other harmful gases, the cleanliness in the furnace may be estimated by a dew point meter. In this case, the oxygen gas partial pressure is 2.
Preferably, 0 Pa corresponds to a dew point of −60 ° C. In practicing the invention, it is more preferable to clean the inside of the furnace to a dew point of −65 ° C. or less. On the other hand, when the oxygen gas partial pressure is less than 0.2 Pa, a large amount of expensive high-purity nitriding gas is consumed, and the nitriding aid is separated from the aluminum material due to rapid drying due to an increase in the flow rate in the furnace. The problem that the tendency to perform was promoted, and the efficiency of forming the nitride layer was reduced. In particular, during a high temperature period in which the formation of a nitride layer is mainly performed from 420 ° C. to the end of the reaction, it is extremely important to keep the nitriding aid in close contact with the material to be nitrided for nitriding the material to be nitrided. However, the larger the gas flow rate in the furnace, the greater the above-mentioned separation of the nitriding aid. Therefore, during the nitriding period from 420 ° C. to the end of the reaction, the flow rate of the nitriding gas introduced into the furnace is maintained at the furnace pressure of 0.5 mmH 2 O or higher, and the intrusion of air from outside is ensured. It is preferable to reduce as much as possible, while preventing the occurrence of blemishes. By doing so, the separation of the nitriding aid from the material to be nitrided can be sufficiently reduced, so that it is possible to prevent a decrease in the nitride layer formation speed due to an increase in the flow rate of the nitriding gas. Hereinafter, the above description according to claims 1 and 2 will be summarized below. In the low-temperature nitriding method using the nitriding aid, which has improved nitriding reactivity by using the nitriding aid, it is possible to efficiently form a nitride layer at a low temperature lower than the melting point of the aluminum material. However, when the low-temperature nitriding method of the aluminum material is performed, it is actually important to realize the following conditions.

【0010】窒化層形成がなされる上記高温段階(少な
くとも420℃以上、好ましくは300℃以上〜反応終
了まで)において、アルミニウム材への良質の窒化層形
成に有害な酸素ガス分圧で代表される有害ガスのレベル
を2.0Pa以下、好ましくは0.2〜2.0Paに保
持し、炉内の有害ガス濃度を従来の鋼材窒化炉のそれに
比べて格段に低く保持する。
In the above-mentioned high temperature step (at least 420 ° C. or more, preferably 300 ° C. or more to the end of the reaction) in which the nitride layer is formed, the partial pressure of oxygen gas harmful to the formation of a good-quality nitride layer on the aluminum material is represented. The level of the harmful gas is maintained at 2.0 Pa or less, preferably 0.2 to 2.0 Pa, and the concentration of the harmful gas in the furnace is kept much lower than that of the conventional steel nitriding furnace.

【0011】窒化層形成がなされる上記高温段階(少な
くとも420℃以上、好ましくは300℃以上〜反応終
了まで)において、炉内圧力を0.5mmH2O以上の正
圧に保持し、アルミニウム材への良質の窒化層形成に有
害な外部からの空気の侵入を抑止しする。窒化層形成が
なされる上記高温段階(少なくとも420℃以上、好ま
しくは300℃以上〜反応終了まで)において、炉内圧
力を20mmH2O以下の正圧に保持する。これにより、
このような高圧における窒化用ガス流の乱れに起因し
て、アルミニウム材への良質の窒化層形成が妨害される
のを阻止する。なお、炉のガス排出口を厳しく閉じ、そ
の漏れを減らせば、炉内へ導入する窒化用ガス流量を低
減しつつ炉内圧力を高めることはできる。しかし、この
場合には、炉内の炉壁やアルミニウム材に付着していた
付着ガス、炉内に滞留している残存ガス、窒化助剤から
発生する発生ガスの排出不良が生じ、良質な窒化層形成
が阻害されてしまう。請求項2記載の方法によれば、ア
ルミニウム材の温度が180〜300℃内の所定の温
度、好ましくは200℃付近までは、高温段階の窒化用
ガスの流量より多量の洗浄ガスを炉内に導入し、かつ、
ガス排出経路の流体抵抗も高温段階におけるそれよりも
減少させる。このようにすれば、効率よく、炉の生産性
を向上することができる。
In the above-mentioned high temperature step (at least 420 ° C. or more, preferably 300 ° C. or more to the end of the reaction) in which the nitride layer is formed, the furnace pressure is maintained at a positive pressure of 0.5 mmH 2 O or more, and To prevent the invasion of air from outside, which is harmful to the formation of a high quality nitride layer. In the high temperature step (at least 420 ° C. or higher, preferably 300 ° C. or higher to completion of the reaction) in which the nitride layer is formed, the furnace pressure is maintained at a positive pressure of 20 mmH 2 O or lower. This allows
This prevents the formation of a high quality nitride layer on the aluminum material from being hindered due to the turbulence of the nitriding gas flow at such a high pressure. If the gas outlet of the furnace is strictly closed and its leakage is reduced, the pressure in the furnace can be increased while reducing the flow rate of the nitriding gas introduced into the furnace. However, in this case, poor discharge of adhered gas adhering to the furnace wall and aluminum material in the furnace, remaining gas remaining in the furnace, and gas generated from the nitriding aid occurs, resulting in good nitriding. Layer formation is hindered. According to the method of claim 2, when the temperature of the aluminum material is a predetermined temperature in the range of 180 to 300 ° C., preferably up to around 200 ° C., a larger amount of the cleaning gas than the flow rate of the nitriding gas in the high-temperature stage is introduced into the furnace. Introduce, and
The flow resistance of the gas discharge path is also reduced more than in the high temperature stage. In this case, the productivity of the furnace can be efficiently improved.

【0012】請求項3記載の炉構造によれば、上記低温
ガス利用窒化層形成方法によりアルミニウム材の表面部
に窒化層を形成するために、炉体内にマッフルを設けた
二重炉体構造を採用する。このようにすれば、炉体内面
が複雑な形状で酸素吸着能が大きく、また酸素ガスが滞
留する部位があったとしても、通常は内面平滑で酸素ガ
スの吸着も少ないマッフルがアルミニウム材を囲包し、
マッフル内がそのマッフル外より正圧に保持されるの
で、炉体内面に吸着された酸素ガスや炉体の隅部などに
滞留する酸素ガスなどがアルミニウム材に作用してその
窒化層形成反応を阻害することがない。
According to a third aspect of the present invention, there is provided a double furnace structure in which a muffle is provided in a furnace in order to form a nitride layer on a surface portion of an aluminum material by the method for forming a nitride layer utilizing low temperature gas. adopt. In this way, even if the inside of the furnace has a complicated shape and the oxygen adsorption capacity is large, and even if there is a portion where oxygen gas stays, a muffle usually having a smooth inner surface and little oxygen gas adsorption surrounds the aluminum material. Wrap,
Since the inside of the muffle is maintained at a more positive pressure than the outside of the muffle, oxygen gas adsorbed on the inside of the furnace and oxygen gas staying in the corners of the furnace act on the aluminum material to cause the nitride layer formation reaction. Does not inhibit.

【0013】更に、本請求項記載の炉構造では、ガス導
入口は、アルミニウム材を挟んでガス排出口と反対側の
端部に形成され、かつ、ガス導入口は窒化用ガスのマッ
フル内の平均流速よりも優速にてマッフルのガス導入口
側の内面に到達するように構成されている。更に具体的
に言えば、ガス導入口から吹き出された窒化用ガスはマ
ッフルの上流側の内端面に射突するかこの内端面に沿っ
て高速で流れる。このようにすれば、マッフルのガス導
入口側(上流側)の内端面からガス排出口へ向けて均一
な流れをマッフル内に形成することができ、アルミニウ
ム材はこの流れに包まれることができる。また、この方
法によれば、アルミニウム材の上流側にアルミニウム材
出入用開口などの酸素ガス侵入が懸念される開口を設け
る必要がなく、マッフル内のアルミニウム材より最上流
側に酸素ガスが侵入することがなく、それらがアルミニ
ウム材に影響することがない。なお、アルミニウム材出
入用開口などはどうしても必要であるが、それがマッフ
ル内の下流側に設けることによりそこから酸素ガスが侵
入しようとしても、窒化用ガスの流れがそれを阻害す
る。更に、ガス導入口からのガスの吹き付けにより、ア
ルミニウム材の上流側のマッフルの内端面に酸素ガスが
吸着し続けたり滞留したりすることがなく、それらが窒
化層形成中に下流のアルミニウム材の部位に流れ込んで
窒化層形成を邪魔することがない。すなわち、アルミニ
ウム材の上流に位置するマッフルのガス導入口側の内端
面近傍における酸素ガスの吸着や滞留を、この内端面に
向けてガス導入口から窒化用ガスを吹き付けることによ
り高速に除去することにより速やかにマッフル内の酸素
ガス分圧を許容範囲まで低下させることができる。結
局、本請求項記載の炉構造の採用により、上記した低温
ガス利用窒化層形成方法が要求する低酸素ガス分圧を実
用炉段階で実現することができる。
Further, in the furnace structure according to the present invention, the gas inlet is formed at an end opposite to the gas outlet with the aluminum material interposed therebetween, and the gas inlet is provided in the muffle of the nitriding gas. The muffle is configured to reach the inner surface on the gas inlet side at a higher speed than the average flow velocity. More specifically, the nitriding gas blown out from the gas inlet impinges on the inner end face on the upstream side of the muffle or flows at a high speed along this inner end face. In this way, a uniform flow can be formed in the muffle from the inner end face on the gas inlet side (upstream side) of the muffle toward the gas outlet, and the aluminum material can be enveloped in this flow. . Further, according to this method, it is not necessary to provide an opening at which an oxygen gas is likely to enter, such as an aluminum material entry / exit opening, on the upstream side of the aluminum material, and the oxygen gas enters the muffle in the most upstream side of the aluminum material. And they do not affect the aluminum material. In addition, although an aluminum material entrance / exit opening is indispensable, if it is provided on the downstream side in the muffle, even if oxygen gas attempts to enter therefrom, the flow of the nitriding gas will hinder it. Further, by blowing the gas from the gas inlet, the oxygen gas does not continue to adsorb or stay on the inner end surface of the muffle on the upstream side of the aluminum material. It does not flow into the part and hinder the formation of the nitride layer. That is, high-speed removal of oxygen gas adsorption and stagnation near the inner end face of the muffle located on the gas inlet side located upstream of the aluminum material by spraying a nitriding gas from the gas inlet toward the inner end face. Accordingly, the partial pressure of oxygen gas in the muffle can be promptly reduced to an allowable range. After all, by adopting the furnace structure according to the present invention, the low oxygen gas partial pressure required by the low-temperature gas utilizing nitride layer forming method can be realized at the practical furnace stage.

【0014】請求項4記載の炉構造によれば、ガス導入
口から吹き出されてマッフルの上流側の内端面に到達し
たガス流は、この内端面に沿って層流をなしてガス排出
口側へ反転して流れるようにされるので、この内端面近
傍での酸素ガスの吸着や滞留を良好に阻止することがで
きる。請求項5記載の炉構造によれば、マッフル内へア
ルミニウム材の窒化処理前にこのアルミニウム材を洗浄
する洗浄ガスを導入する。洗浄ガスとしては、窒素ガス
などの不活性ガスに水素などの還元性ガスを混合したも
のが好適であるが、単に窒化処理用の低酸素ガス分圧の
窒化用ガスより高酸素ガス分圧の安価な不活性ガスであ
ってもよい。。
According to the fourth aspect of the present invention, the gas flow blown out from the gas inlet and reaching the inner end face on the upstream side of the muffle forms a laminar flow along the inner end face to form the gas outlet. Therefore, the adsorption and stagnation of oxygen gas in the vicinity of the inner end face can be satisfactorily prevented. According to the furnace structure of the fifth aspect, a cleaning gas for cleaning the aluminum material is introduced into the muffle before nitriding the aluminum material. As the cleaning gas, a gas obtained by mixing a reducing gas such as hydrogen with an inert gas such as a nitrogen gas is preferable, but a gas having a higher oxygen gas partial pressure than a nitriding gas having a low oxygen gas partial pressure for nitriding treatment is preferable. Inexpensive inert gas may be used. .

【0015】このようにすれば、アルミニウム材の窒化
処理前に単に高価、高純度の上記窒化用ガスを導入する
のに比べて費用を低減できる他、還元性ガスにより滞留
乃至吸着酸素ガスを除去する効果が生じる。請求項6ま
たは7記載の炉構造では、ガス排出口は、幅が0.1〜
1.0mmに設定されたスリットや、10段以上のフィ
ンを互いに隣接して交互に配設されたラビリンス構造と
いった特別の構造を採用している。このようにすれば、
加熱炉に従来、一般的に採用されている丸管状のガス排
出口に比べてガス排出口における圧力損失を格段に増大
することができる。更に、上記した従来の丸管状のガス
排出口では管内においてガスの対流が生じて外部から炉
内へ空気が逆流する傾向を生ずるが、上記したスリット
やラビリンス構造をガス排出口に付設する事により、こ
れらの問題を抑止して、本発明の加熱炉に必要な高精度
の炉内ガス雰囲気の制御を簡素な構造で実現することが
できる。請求項8記載の炉構造では、マッフルの開口部
とそれを遮蔽する遮蔽部との間の隙間をガス排出口とし
て用い、この遮蔽部を駆動して遮蔽部とマッフルとの間
の隙間を調節し、それによりガス排出口の流体抵抗を調
節し、炉内圧力を上記範囲に制御する。このようにすれ
ば、もともと隙間が生じるマッフルの開口部とそれを遮
蔽する遮蔽部との間の隙間を調節可能なガス排出口とす
るので、この隙間からのガスの漏れを制御する事がで
き、遮蔽部の閉鎖具合により炉内からのガスの漏れがば
らついても容易にそれに対処する事ができる。また、遮
蔽部自体がその開閉のためにマッフルに対してもともと
可動構造となっているので、その調節移動機構の付与は
簡単となる。また、開口総延長と開口隙間幅との積によ
り開口断面積が構成されるとするとき、この開口総延長
を長く取れるので、開口隙間幅を従来の単独のガス排出
口より格段に狭くすることができ、このためガスを層流
化してその逆流を抑止することが一層容易となり、好都
合である。なお、この遮蔽部とマッフルの開口との間の
隙間に上記したスリットを配設する場合には、隙間がテ
ーパー形状となるように構成すれば遮蔽部の移動制御に
より容易にこの隙間の流体抵抗を良好に制御できる。更
に、この遮蔽部とマッフルの開口との間の隙間に上記し
たラビリンス構造を配設する場合には、遮蔽部の移動制
御により容易にラビリンス構造のフィン段数が変更でき
るので、この隙間の流体抵抗を良好に制御できる。請求
項9記載の炉構造では、マッフルの開口部を開閉可能に
遮蔽する遮蔽部に近接して炉内圧力制御のための開口面
積可変のガス排出経路を更に設ける。特に、この別設さ
れた独立のガス排出口は、200ないし300℃以下の
低温ガスを効率よく排出する際に好適である。
According to this method, the cost can be reduced as compared with simply introducing the expensive and high-purity nitriding gas before the nitriding treatment of the aluminum material. In addition, the stagnation or adsorbed oxygen gas is removed by the reducing gas. Effect. In the furnace structure according to claim 6 or 7, the gas outlet has a width of 0.1 to 0.1 mm.
A special structure such as a labyrinth structure in which slits set to 1.0 mm and fins of ten or more stages are alternately arranged adjacent to each other is adopted. If you do this,
The pressure loss at the gas outlet can be remarkably increased as compared with the generally tubular gas outlet commonly used in heating furnaces. Further, in the above-mentioned conventional round tubular gas discharge port, gas convection occurs in the pipe and air tends to flow backward from the outside to the furnace, but by providing the above-described slit or labyrinth structure to the gas discharge port. By suppressing these problems, a highly accurate control of the in-furnace gas atmosphere required for the heating furnace of the present invention can be realized with a simple structure. In the furnace structure according to claim 8, a gap between the opening of the muffle and the shielding part for shielding the muffle is used as a gas outlet, and the shielding part is driven to adjust the gap between the shielding part and the muffle. Thereby, the fluid resistance of the gas outlet is adjusted, and the furnace pressure is controlled within the above range. In this way, the gap between the opening of the muffle, which originally has a gap, and the shielding section that shields the gap is an adjustable gas outlet, so that gas leakage from this gap can be controlled. Also, even if the gas leaks from the furnace due to the degree of closure of the shielding portion, it can be easily dealt with. In addition, since the shielding portion itself has a movable structure with respect to the muffle for opening and closing, the provision of the adjusting and moving mechanism is simplified. In addition, when it is assumed that the cross-sectional area of the opening is formed by the product of the total opening length and the opening gap width, the opening total width can be made longer, so that the opening gap width is significantly narrower than the conventional single gas outlet. This makes it easier and more convenient to make the gas laminar and prevent the backflow. When the above-mentioned slit is provided in the gap between the shield and the opening of the muffle, if the gap is configured to have a tapered shape, the flow resistance of the gap can be easily controlled by controlling the movement of the shield. Can be controlled well. Further, when the above-mentioned labyrinth structure is provided in the gap between the shielding portion and the opening of the muffle, the number of fin stages of the labyrinth structure can be easily changed by controlling the movement of the shielding portion. Can be controlled well. In the furnace structure according to the ninth aspect, a gas discharge path having a variable opening area for controlling the pressure in the furnace is further provided in the vicinity of the shielding portion for opening and closing the opening of the muffle. In particular, the separately provided independent gas outlet is suitable for efficiently discharging a low-temperature gas of 200 to 300 ° C. or lower.

【0016】請求項10記載の炉構造によれば、マッフ
ルは、扉部で互いに遮断可能な装入室(前室)、窒化
室、搬出室(後室)を順番に有し、各室それぞれにガス
導入口及びガス排出口を設けたので、窒化層形成を行う
窒化室内の酸素ガス分圧を一層低減することができる。
請求項11記載の炉構造によれば、上記低温ガス利用窒
化層形成方法によりアルミニウム材の表面部に窒化層を
形成する炉体内にアルミニウム材よりも高温の黒鉛部材
を配設するので、この高温の黒鉛部材がアルミニウム材
よりも優先的に酸素をゲッタし、アルミニウム材近傍の
酸素ガス分圧を一層低減することができる。請求項12
記載の炉構造によれば、アルミニウム材加熱のための加
熱手段がこの黒鉛部材を兼ねる。このようにすれば、構
造の簡素化を実現することができる。請求項13記載の
炉構造によれば、黒鉛部材を兼ねる加熱手段がアルミニ
ウム材より上流側に配設されるので、アルミニウム材近
傍での酸素ガス分圧低減に一層効果的である。
According to the furnace structure of the tenth aspect, the muffle has a charging chamber (front chamber), a nitriding chamber, and a carrying-out chamber (rear chamber) which can be shut off from each other by a door in order, and each of the chambers has its own. Since the gas inlet and the gas outlet are provided in the chamber, the partial pressure of oxygen gas in the nitriding chamber for forming the nitride layer can be further reduced.
According to the furnace structure of the eleventh aspect, the graphite member having a higher temperature than the aluminum material is provided in the furnace in which the nitride layer is formed on the surface of the aluminum material by the method for forming the nitride layer using the low-temperature gas. The graphite member preferentially obtains oxygen over the aluminum material, and the oxygen gas partial pressure near the aluminum material can be further reduced. Claim 12
According to the furnace structure described above, the heating means for heating the aluminum material also serves as the graphite member. In this way, the structure can be simplified. According to the furnace structure of the thirteenth aspect, since the heating means also serving as the graphite member is disposed upstream of the aluminum material, it is more effective in reducing the partial pressure of oxygen gas near the aluminum material.

【0017】請求項14記載の炉構造によれば、炉体と
マッフルとの間の空間は、窒素ガスを主成分とするガス
によりマッフル内圧と大気圧との中間圧に維持される。
このようにすれば、マッフル内は大気から二重に遮断さ
れるので、酸素ガス分圧を一層低減することができる。
According to the furnace structure of the present invention, the space between the furnace body and the muffle is maintained at an intermediate pressure between the muffle internal pressure and the atmospheric pressure by the gas mainly containing nitrogen gas.
In this way, the inside of the muffle is double-shielded from the atmosphere, so that the partial pressure of oxygen gas can be further reduced.

【0018】[0018]

【発明の実施の形態】アルミニウム材の温度は、直接測
定される他、雰囲気ガス温度や、マッフル温度などで代
用することができる。アルミニウム材に塗布する窒化助
剤に用いる金属粉末としては、平均粒径が3〜200程
度のアルミニウム粉末が好適である他、扁平なアルミ箔
なども採用することができる。樹脂バインダとしては、
ポリブテン、ポリビニルブチラール、ニトロセルロー
ス、エチルセルロース、ポリエチレンオキサイドなどを
採用することができる。窒化層形成時に、アルミニウム
材特にその表面部は400〜600℃、好ましくは、4
50〜600℃に加熱される。400℃以下では窒化層
形成速度が低下し、600℃を超えるとアルミニウム材
の溶融や変形の可能性が生じる。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The temperature of an aluminum material can be directly measured, and can be replaced with the ambient gas temperature, muffle temperature, or the like. As the metal powder used for the nitriding aid applied to the aluminum material, an aluminum powder having an average particle size of about 3 to 200 is suitable, and a flat aluminum foil or the like can also be used. As a resin binder,
Polybutene, polyvinyl butyral, nitrocellulose, ethyl cellulose, polyethylene oxide and the like can be employed. At the time of forming the nitride layer, the aluminum material, particularly its surface, has a temperature of 400-600 ° C., preferably 4 ° C.
Heated to 50-600 ° C. If the temperature is lower than 400 ° C., the speed of forming the nitride layer is reduced.

【0019】マッフルはステンレス鋼や耐熱鋼などの素
材を用いて形成されることができる。窒化用ガスの組成
は99.995以上(露点≦マイナス65℃)の窒素ガ
スとすることができる。窒化用ガス中の酸素ガス分圧は
1.0Pa以下とされる。洗浄ガスには、窒素ガスと水
素ガスや一酸化炭素ガスなどの還元性ガスとの混合ガス
を採用することができる。窒化層形成前にマッフル内に
導入されるこの洗浄ガスは450℃までの温度範囲で使
用することが好ましい。この温度を超えると、洗浄ガス
中の酸素ガスがアルミニウム材と反応する場合が生じ
る。アルミニウム材の昇温中、特に100〜420℃付
近では、窒化助剤に含まれる樹脂や溶剤からガスが発生
するので、洗浄ガスはこれら随伴ガスを良好に排出する
ために、100〜420℃付近でこの排出に必要な流量
及び時間を確保することが好ましい。
The muffle can be formed using a material such as stainless steel or heat-resistant steel. The composition of the nitriding gas can be a nitrogen gas having a composition of 99.995 or more (dew point ≦ −65 ° C.). The partial pressure of oxygen gas in the nitriding gas is set to 1.0 Pa or less. A mixed gas of a nitrogen gas and a reducing gas such as a hydrogen gas or a carbon monoxide gas can be used as the cleaning gas. This cleaning gas introduced into the muffle before the formation of the nitride layer is preferably used in a temperature range up to 450 ° C. Exceeding this temperature may cause the oxygen gas in the cleaning gas to react with the aluminum material. During the temperature rise of the aluminum material, especially at around 100 to 420 ° C, a gas is generated from the resin or solvent contained in the nitriding aid, so that the cleaning gas should be around 100 to 420 ° C in order to discharge these accompanying gases well. It is preferable to secure the flow rate and time required for this discharge.

【0020】マッフル内面はできるだけ平滑とすること
が酸素ガスの滞留、吸着抑止の点で好ましい。マッフル
内に導入される窒化用ガスは予熱することが窒化活性の
向上のために好ましい。ガス導入口から吹き出された窒
化用ガスの流速はマッフルの上流側内端面近傍で10c
m/secとすることが好ましい。窒化用ガスがマッフ
ルの上流側内端面に沿って層流状態で流れるようにガス
導入口の位置及び吹き出し方向を設定することにより、
窒化用ガス流は上流側内端面を持続的に嘗めるように接
触し、酸素ガスの吸着乃至滞留を阻止することができ
る。
It is preferable that the inner surface of the muffle be as smooth as possible from the viewpoint of the retention of oxygen gas and the suppression of adsorption. It is preferable to preheat the nitriding gas introduced into the muffle to improve the nitriding activity. The flow velocity of the nitriding gas blown out from the gas inlet is 10 c near the inner end face on the upstream side of the muffle.
m / sec. By setting the position of the gas inlet and the blowing direction so that the nitriding gas flows in a laminar state along the upstream inner end surface of the muffle,
The nitriding gas flow is continuously in contact with the upstream inner end face so as to lick, thereby preventing adsorption or retention of oxygen gas.

【0021】黒鉛部材を兼ねる加熱手段としてはいわゆ
るグラファイトヒーターを採用することができる。窒化
用ガスをアルミニウム材の上流側でこの黒鉛部材を兼ね
る加熱手段に吹き付けることにより、アルミニウム材に
接触する前に窒化用ガス中の酸素ガスを一層低減するこ
とができる。
A so-called graphite heater can be employed as a heating means also serving as a graphite member. By spraying the nitriding gas on the heating means also serving as the graphite member on the upstream side of the aluminum material, the oxygen gas in the nitriding gas can be further reduced before contacting the aluminum material.

【0022】[0022]

【実施例】次に、実施例により更に説明する。 (実施例1)本発明の低温アルミニウム窒化炉の一例を
図1の模式断面図を参照して説明する。
Next, the present invention will be further described with reference to examples. (Embodiment 1) An example of a low-temperature aluminum nitriding furnace of the present invention will be described with reference to the schematic sectional view of FIG.

【0023】1は、一端が開口された横置き円筒形状の
加熱炉(本発明でいう炉体)であり、耐熱材料で形成さ
れた炉壁内周面には電熱ヒータ(以下、単にヒータとも
いう)10が設けられている。2は、同じく基端が開口
された横置き円筒形状のマッフルであり、加熱炉1内に
加熱炉1の内面から所定間隔離れて収容されている。マ
ッフル2は耐熱金属板で形成され、その頂部はドーム状
に形成されている。
Reference numeral 1 denotes a horizontal cylindrical heating furnace (furnace body in the present invention) having an opening at one end, and an electric heater (hereinafter simply referred to as a heater) formed on the inner peripheral surface of the furnace wall formed of a heat-resistant material. 10) are provided. Reference numeral 2 denotes a horizontal cylindrical muffle having a base end opened, and is housed in the heating furnace 1 at a predetermined distance from the inner surface of the heating furnace 1. The muffle 2 is formed of a heat-resistant metal plate, and the top is formed in a dome shape.

【0024】3は、窒素ガス(本発明でいう窒化用ガ
ス)をマッフル2内に導入するガス導入管である。ガス
導入管3はマッフル2の開口近傍の周壁からマッフル2
内に嵌挿され、マッフル2の周壁に沿ってマッフル2の
ドーム状の頂部の周縁部近傍まで延設されている。ガス
導入管3の先端は本発明でいうガス導入口を構成してい
る。
Reference numeral 3 denotes a gas introduction pipe for introducing nitrogen gas (nitriding gas in the present invention) into the muffle 2. The gas introduction pipe 3 extends from the peripheral wall near the opening of the muffle 2
And extends along the peripheral wall of the muffle 2 to near the periphery of the dome-shaped top of the muffle 2. The tip of the gas introduction pipe 3 constitutes the gas introduction port referred to in the present invention.

【0025】4は、窒素ガスをマッフル2内から外部に
排出するガス排出管であり、ガス排出管4は減圧弁40
及び露点計41を介して大気に連通している。ガス流量
は、減圧弁40で制御され、不要の場合は閉じられてい
る。5は、マッフル2の開口を遮蔽する扉部(本発明で
いう遮蔽部)であり、扉部5はガイド6の案内により軸
方向に変位してマッフル2の開口を開閉する。また、扉
部5とマッフル2との間のリング状の隙間Dは相対的に
若干のテーパーを有するスリット、またはどちらか一方
にラビリンス構造を有しており、扉部5を変位させるこ
とにより、隙間Dの流体抵抗を調節できるようになって
おり、マッフル2内へのガス導入量に応じて隙間Dを調
節することにより、マッフル2内を常に適当な正圧範囲
(ここでは10mmH2O)に維持している。隙間Dは本
発明でいうガス排出口を構成している。
Reference numeral 4 denotes a gas discharge pipe for discharging nitrogen gas from the inside of the muffle 2 to the outside.
And the atmosphere through the dew point meter 41. The gas flow rate is controlled by the pressure reducing valve 40, and is closed when unnecessary. Reference numeral 5 denotes a door portion (shielding portion in the present invention) that shields the opening of the muffle 2, and the door portion 5 is displaced in the axial direction by the guide of the guide 6 to open and close the opening of the muffle 2. The ring-shaped gap D between the door 5 and the muffle 2 has a labyrinth structure in a slit having a relatively slight taper, or in either one of the slits. The fluid resistance of the gap D can be adjusted, and by adjusting the gap D in accordance with the amount of gas introduced into the muffle 2, the inside of the muffle 2 always has a proper positive pressure range (here, 10 mmH 2 O). Has been maintained. The gap D constitutes a gas outlet according to the present invention.

【0026】7は、洗浄ガスをマッフル2内に導入する
洗浄ガス導入口であり、マッフル2の開口近傍の周壁に
形成されている。また、必要に応じて、ガス排出口とし
ても用いられる。なお、ヒーター10への通電電力は、
図示しないコントローラによりなされる。アルミニウム
材であるワークWの温度は、その近傍に配設された温度
センサにより検出され、この検出温度に基づいて、マッ
フル2の温度の時間変化が所定のカーブとなるように、
コントローラがヒーター10への通電電力を制御する。
Reference numeral 7 denotes a cleaning gas inlet for introducing a cleaning gas into the muffle 2, which is formed on a peripheral wall near an opening of the muffle 2. It is also used as a gas outlet as needed. The power supplied to the heater 10 is
This is performed by a controller (not shown). The temperature of the work W, which is an aluminum material, is detected by a temperature sensor disposed in the vicinity thereof, and based on the detected temperature, the time change of the temperature of the muffle 2 becomes a predetermined curve.
The controller controls the electric power supplied to the heater 10.

【0027】以下、この炉による窒化処理動作を説明す
る。 (アルミニウム材の準備)まず、アルミニウム粉末を含
む窒化助剤が窒化層を形成すべき表面に塗布、乾燥され
たアルミニウム材を準備する。用いた窒化助剤の組成を
以下に示す。 (窒化助剤の組成)金属粉末としてマグネシウムを47
wt%含有する150メッシュ以下の合金粉末40重量
部、樹脂バインダーとしてポリブテン樹脂(出光石油株
式会社製)8重量部、溶剤としてIPソルベント(出光
石油株式会社製)52重量部のものを用いた。 (アルミニウム材の装入)次に、扉部5を後退させて、
試料であるアルミニウム材をマッフル2内に装入し、更
に扉部5を前進させて、隙間Dを広めに調節した。 (マッフル2の昇温、ガス交換、洗浄)次に、ヒーター
10に通電するとともに、洗浄ガス導入口7から、純窒
素ガスまたは5wt%の水素ガスを含む窒素ガスを装入
ワークの量及び汚染状況に応じて5〜15リットル/分
の流量にて供給する。材料装入から200℃付近まで
は、装入材やトレーから発生するガス類を掃気する目的
でガス排出口は最大に開口する。200〜420℃の間
では、主として窒化助剤中のバインダー樹脂や溶剤から
発生する有害なガス類を掃気するために、導入ガスとし
ては窒素ガスのみとし、発生する有害ガス量を露点計な
どでモニタし、炉内圧力を0.5〜20mmH2Oに保持
しつつ、炉内露点がマイナス60℃以下となるガス流量
で掃気を行う。 (反応直前温度から反応終了まで)420℃付近から反
応終了までは、窒化助剤が被窒化材に密着していること
が重要であるので、その剥離防止のために、導入窒素ガ
スは、炉内圧力を0.5mmH2O以上を保ちながら最小
流量に制御する。特に、得られる窒化層の純度(及びそ
れにより決定される窒化層の特性)に多大な影響を与え
る300℃以上においては、導入ガス量及びガス排出口
の流体抵抗を調節することにより、炉内酸素ガス分圧を
2.0Pa以下に維持する。反応温度は、被窒化材の材
質、窒化助剤の種類、希望する窒化層の深さに応じて種
々選択される。たとえば、被窒化材をJIS;AC8Aの鋳造材
とし、前記窒化助剤を用いた場合、480〜510℃の
温度範囲に2〜8時間保持することにより、窒化層深さ
100〜300μmを確保することができる。 (取り出し工程)次に、ヒーター10への通電を停止
し、窒素ガスを流入させながら、扉部5を開いてアルミ
ニウム材を取り出す。アルミニウム材の材質により異な
るが、通常はT6処理(アルミニウムの溶体化処理)を
兼ねるので、取り出し後、40〜80℃の水中にそれを
浸けて焼入れを行う。扉部5は、ボルトなどで締結され
ていないので、ミル規格で規定されている430℃以上
での焼入れがスムーズに行うことができる。 (実施例2)本発明の低温ガス利用窒化層形成方法を実
現する他の低温アルミニウム窒化炉の他例を図2を参照
して説明する。ただし、理解を容易とするために共通機
能をもつ構成要素にはなるべく共通の符号を付すものと
する。
Hereinafter, the nitriding operation by this furnace will be described. (Preparation of Aluminum Material) First, a nitride material containing aluminum powder is applied to a surface on which a nitride layer is to be formed and dried to prepare an aluminum material. The composition of the nitriding aid used is shown below. (Composition of nitriding aid) Magnesium was used as metal
40 parts by weight of an alloy powder having a weight of 150 mesh or less, 8 parts by weight of a polybutene resin (made by Idemitsu Oil Co., Ltd.) as a resin binder, and 52 parts by weight of an IP solvent (made by Idemitsu Oil Co., Ltd.) were used as a solvent. (Charging of aluminum material) Next, the door part 5 is retracted,
An aluminum material as a sample was charged into the muffle 2, and the door 5 was further advanced to adjust the gap D to be wider. (Temperature increase, gas exchange, cleaning of muffle 2) Next, the heater 10 is energized, and pure nitrogen gas or nitrogen gas containing 5 wt% hydrogen gas is supplied from the cleaning gas inlet 7 to the amount and contamination of the workpiece. Supply at a flow rate of 5 to 15 liters / minute depending on the situation. From the charging of the material to around 200 ° C., the gas outlet is maximally opened in order to scavenge the gas generated from the charging material and the tray. Between 200 and 420 ° C., in order to scavenge harmful gases mainly generated from the binder resin and the solvent in the nitriding aid, only nitrogen gas is used as the introduced gas, and the generated harmful gas amount is measured by a dew point meter or the like. While monitoring and keeping the furnace pressure at 0.5 to 20 mmH 2 O, scavenging is performed at a gas flow rate at which the furnace dew point is lower than or equal to −60 ° C. (From the temperature just before the reaction to the end of the reaction) From around 420 ° C. to the end of the reaction, it is important that the nitriding aid is in close contact with the material to be nitrided. The internal pressure is controlled to the minimum flow rate while maintaining 0.5 mmH 2 O or more. In particular, at 300 ° C. or higher, which greatly affects the purity of the obtained nitrided layer (and the properties of the nitrided layer determined thereby), the furnace gas is controlled by adjusting the amount of gas introduced and the fluid resistance of the gas outlet. The partial pressure of oxygen gas is maintained at 2.0 Pa or less. The reaction temperature is selected variously according to the material of the material to be nitrided, the type of nitriding aid, and the desired depth of the nitrided layer. For example, when the material to be nitrided is a cast material of JIS; AC8A and the nitriding aid is used, the nitrided layer is kept at a temperature range of 480 to 510 ° C for 2 to 8 hours to secure a nitrided layer depth of 100 to 300 µm. be able to. (Taking out step) Next, the power supply to the heater 10 is stopped, and the door 5 is opened to take out the aluminum material while flowing the nitrogen gas. Although it varies depending on the material of the aluminum material, it usually also serves as T6 treatment (solution treatment of aluminum), so after being taken out, it is immersed in water at 40 to 80 ° C and quenched. Since the door portion 5 is not fastened with bolts or the like, quenching at 430 ° C. or more specified by the mill standard can be performed smoothly. (Embodiment 2) Another example of a low-temperature aluminum nitriding furnace for realizing the low-temperature gas-using nitride layer forming method of the present invention will be described with reference to FIG. However, in order to facilitate understanding, components having common functions are given the same reference numerals as much as possible.

【0028】この実施例の窒化炉は図1に示す実施例1
の窒化炉と基本構造自体は同じであり、加熱炉1及びマ
ッフル2が角箱形状に形成されている点、扉部の構造と
マッフル2からのガス排出系統が異なるのみであるの
で、それらだけを説明するものとする。 (扉部)扉部8は、加熱炉1の横側の角形開口を開閉す
る外側扉部81と、その内側に配設されてマッフル2の
角形開口を開閉する内側扉部82とを有し、外側扉部8
1の中央部には内側扉部82を横方向に変位させるため
のハンドル操作装置83が配設されている。このハンド
ル操作装置83のハンドル84を回転させるとこのハン
ドル84が螺着された棒体85が横方向に変位する。ま
た、外部からモーターまたはシリンダーにて駆動する構
造としてもよいことはもちろんである。棒体85の先端
部は内側扉部82に固定されている。この結果、内側扉
部82はハンドル84の回動に応じて横方向に変位し、
隙間Dの流体抵抗が調節される。
The nitriding furnace of this embodiment is the same as that of the first embodiment shown in FIG.
Since the basic structure itself is the same as that of the nitriding furnace, the only difference is that the heating furnace 1 and the muffle 2 are formed in the shape of a rectangular box, the door structure and the gas discharge system from the muffle 2 are different. Shall be explained. (Door Part) The door part 8 has an outer door part 81 that opens and closes a rectangular opening on the lateral side of the heating furnace 1 and an inner door part 82 that is disposed inside and opens and closes the square opening of the muffle 2. , Outer door part 8
A handle operation device 83 for displacing the inner door portion 82 in the lateral direction is disposed at the center of the handle 1. When the handle 84 of the handle operation device 83 is rotated, the rod 85 to which the handle 84 is screwed is displaced in the lateral direction. In addition, it is needless to say that the structure may be driven by a motor or a cylinder from the outside. The tip of the rod 85 is fixed to the inner door 82. As a result, the inner door portion 82 is displaced in the lateral direction according to the rotation of the handle 84,
The fluid resistance of the gap D is adjusted.

【0029】(ガス排出系統)マッフル2と内側扉部8
2との間に形成され、マッフル2と加熱炉1との間の空
間とマッフル2内の空間とを連通する隙間Dにはラビリ
ンスシール構造体86が設けられている。このラビリン
スシール構造体86では、ガスは、狭小な隙間から広い
隙間に移動する際、急激に膨張し、その圧力が低下する
ので、外部から侵入した不純ガスがそれ以上、内部に入
ることがない。また、蓋を引き出すことにより、シール
部分のフィンの段数が減少し、それによりガス流量を増
大することができる。試験によれば、炉内温度が500
℃、炉内圧力が15mmH2Oの正圧という条件におい
て、内側蓋部82を引き出して有効なフィン段数を16
段から4段に変更することにより、図1の丸蓋(蓋径1
00mm、マッフル径105.5mm、隙間面積0.7
9cm2)の場合では10.8リットル/分から5.4リ
ットル/分までガス排出流量すなわちガス流入流量を調
節する事ができた。一方、図2の角蓋(隙間幅0.2m
m、サイズ90cm・60cm、隙間面積6.0cm
2)の場合では同一条件にて82.1リットル/分から
41.0リットル/分までそれを調節する事ができた。
従って、図2においてプロセス制御装置400によりマ
スフローメータ300をモニタしつつ導入ガス流量を制
御する場合、操業中にガス流量を調整する際には差圧計
87の変化分だけ内側扉部82を引き出したり、送り込
んだりして有効なフィン段数を調節し、炉内圧力を所望
値に保持しつつガス流量を調節することができる。
(Gas discharge system) Muffle 2 and inner door 8
A labyrinth seal structure 86 is provided in a gap D formed between the muffle 2 and the space between the muffle 2 and the heating furnace 1 and the space inside the muffle 2. In the labyrinth seal structure 86, when the gas moves from a narrow gap to a wide gap, the gas expands abruptly and its pressure decreases, so that the impure gas that has entered from the outside does not enter the inside any more. . Also, by pulling out the lid, the number of fins in the seal portion can be reduced, thereby increasing the gas flow rate. According to the test, the furnace temperature was 500
° C., the furnace pressure in the condition that 15 mmH 2 O positive pressure, the effective fin stages pull the inner lid part 82 16
By changing the number of stages to four, the round lid (lid diameter 1) shown in FIG.
00 mm, muffle diameter 105.5 mm, gap area 0.7
In the case of 9 cm 2 ), the gas discharge flow rate, that is, the gas inflow flow rate could be adjusted from 10.8 l / min to 5.4 l / min. On the other hand, the square lid shown in FIG.
m, size 90cm / 60cm, gap area 6.0cm
In the case of 2), it could be adjusted from 82.1 l / min to 41.0 l / min under the same conditions.
Therefore, in FIG. 2, when controlling the introduced gas flow rate while monitoring the mass flow meter 300 by the process control device 400, when adjusting the gas flow rate during operation, the inner door portion 82 may be pulled out by the change of the differential pressure gauge 87. The gas flow rate can be adjusted while maintaining the furnace internal pressure at a desired value by adjusting the number of effective fin stages by feeding.

【0030】更に、マッフル2と加熱炉1との間の空間
は、外側扉部81と加熱炉1との間の隙間などを通じて
外部に連通している。更に、マッフル2の内外の圧力差
が差圧計87により計測される。 (動作)この装置における圧力制御動作を説明すると、
マッフル2内へは設定された流量の窒素ガスが導入さ
れ、差圧計87にて差圧が所定範囲(ここでは0.5〜
30mmH2O)となるように、内側扉部82の位置が
調整される。
Further, the space between the muffle 2 and the heating furnace 1 communicates with the outside through a gap between the outer door 81 and the heating furnace 1. Further, the pressure difference between the inside and outside of the muffle 2 is measured by the differential pressure gauge 87. (Operation) The pressure control operation of this device will be described.
A set flow rate of nitrogen gas is introduced into the muffle 2, and the differential pressure is measured by a differential pressure gauge 87 in a predetermined range (here, 0.5 to 0.5).
The position of the inner door portion 82 is adjusted so as to be 30 mmH2O).

【0031】(実施例3)本発明の低温ガス利用窒化層
形成方法を実現する他の低温アルミニウム窒化炉の他例
を図3を参照して説明する。ただし、理解を容易とする
ために共通機能をもつ構成要素にはなるべく共通の符号
を付すものとする。この実施例の窒化炉は図1に示す実
施例1の窒化炉と基本構造自体は同じであり、加熱炉1
を釣鐘(ベル)形としたものである。以下、その構造及
び動作をまとめて説明する。
(Embodiment 3) Another example of a low-temperature aluminum nitriding furnace for realizing the method of forming a nitride layer utilizing low-temperature gas of the present invention will be described with reference to FIG. However, in order to facilitate understanding, components having common functions are given the same reference numerals as much as possible. The nitriding furnace of this embodiment has the same basic structure as the nitriding furnace of the first embodiment shown in FIG.
In the shape of a bell. Hereinafter, its structure and operation will be described together.

【0032】垂直軸90を中心にターンテーブル91が
回動可能となっており、このターンテーブル91上には
周方向一定間隔で複数(ここでは2つ)の置台92がセ
ットされている。また、マッフル2の底部を受承する輪
板形状の台座93が置台92の外側に置台92と同心配
置で配設されている。台座93はスプリング94により
ターンテーブル91に弾性支持されている。
A turntable 91 is rotatable about a vertical axis 90, and a plurality of (two in this case) mounting tables 92 are set on the turntable 91 at regular intervals in the circumferential direction. A wheel-shaped pedestal 93 that receives the bottom of the muffle 2 is disposed outside the pedestal 92 in a concentric arrangement with the pedestal 92. The pedestal 93 is elastically supported on the turntable 91 by a spring 94.

【0033】図中、右側の置台92にアルミニウム材で
あるワークWをセットした後、その上方からベル形のマ
ッフル2を吊り下げる。吊り下げられたマッフル2の基
端部は台座93上に着座する。図に示すようにマッフル
2にはガス導入管3や洗浄ガス導入管7がセットされて
いる。次に、ターンテーブル91を半回転し、その上方
からベル形の加熱炉1を吊り下げる。吊り下げられた加
熱炉1の基端部はマッフル2の基端部上に着座する。加
熱炉1にはヒーター10が配設されている。
In the drawing, after the work W which is an aluminum material is set on the table 92 on the right side, the bell-shaped muffle 2 is suspended from above. The base end of the suspended muffle 2 sits on the pedestal 93. As shown in the figure, a gas introduction pipe 3 and a cleaning gas introduction pipe 7 are set in the muffle 2. Next, the turntable 91 is rotated half a turn, and the bell-shaped heating furnace 1 is suspended from above. The base end of the suspended heating furnace 1 is seated on the base end of the muffle 2. The heating furnace 1 is provided with a heater 10.

【0034】ガス導入管3や洗浄ガス導入管7やヒータ
ー10を用いてマッフル2内部の洗浄、脱ガス、窒素ガ
スパージを行うとともに、スプリング94を受承するタ
ーンテーブル91側のスプリング受け座96の高さを実
施例2のハンドル操作装置83のような装置で調整する
ことにより、輪板状の台座93と置台92との間の隙間
Dを調節し、マッフル2の内外の差圧を調整する。マッ
フル2内に吹き出された導入ガスはこの隙間Dからマッ
フル2の外かつ加熱炉1の内に漏れ、更にそこから各隙
間を通じて外部に漏れる。
The inside of the muffle 2 is cleaned, degassed, and purged with nitrogen gas by using the gas introducing pipe 3, the cleaning gas introducing pipe 7, and the heater 10, and the spring receiving seat 96 on the turntable 91 side for receiving the spring 94. By adjusting the height with a device such as the handle operation device 83 of the second embodiment, the gap D between the wheel-shaped pedestal 93 and the mounting table 92 is adjusted, and the differential pressure between the inside and outside of the muffle 2 is adjusted. . The introduced gas blown into the muffle 2 leaks from the gap D to the outside of the muffle 2 and the heating furnace 1, and further to the outside through each gap.

【0035】窒化処理後、加熱炉1を吊り上げ、ターン
テーブル91を半回転し、マッフル2を吊り上げた後、
ワークが搬出される。 (実施例4)本発明の低温ガス利用窒化層形成方法を実
現する他の低温アルミニウム窒化炉の他例を図4を参照
して説明する。図4(a)はワーク搬送方向の断面図を
示し、図4(b)はそのA−A線矢視半断面図である。
ただし、理解を容易とするために共通機能をもつ構成要
素にはなるべく共通の符号を付すものとする。
After the nitriding treatment, the heating furnace 1 is lifted, the turntable 91 is rotated half a turn, and the muffle 2 is lifted.
The work is unloaded. (Embodiment 4) Another example of a low-temperature aluminum nitriding furnace for realizing the method for forming a nitride layer utilizing low-temperature gas according to the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 4A is a cross-sectional view in the work transfer direction, and FIG. 4B is a half-sectional view taken along the line AA.
However, in order to facilitate understanding, components having common functions are given the same reference numerals as much as possible.

【0036】この実施例の窒化炉は図2に示す実施例2
の窒化炉と基本構造自体は同じであり、加熱炉1内を多
室化した点が異なっている。以下、その構造及び動作を
まとめて説明する。加熱炉1の左側部には装入扉100
が設けられ、右側部には取り出し扉101が設けられて
いる。加熱炉1の内面にヒーター10が配設され、その
内側にマッフル2が設けられていること他の実施例と同
じである。マッフル2の左側部の開口は下方へ抜き出し
可能なシャッター102により遮蔽されており、マッフ
ル2の右側部の開口も下方へ抜き出し可能なシャッター
103により遮蔽されている。更に、マッフル2内には
シャッター102、103と対面してシャッター10
4、105が設けられており、シャッター104、10
5はマッフル2内を左側の前室、中央の窒化室、右側の
後室に区画している。シャッター104、105もま
た、下方へ抜き出し可能とされている。
The nitriding furnace of this embodiment is similar to that of Embodiment 2 shown in FIG.
The basic structure itself is the same as that of the above-mentioned nitriding furnace, except that the inside of the heating furnace 1 is multi-chambered. Hereinafter, its structure and operation will be described together. A charging door 100 is provided on the left side of the heating furnace 1.
And a take-out door 101 is provided on the right side. The heater 10 is disposed on the inner surface of the heating furnace 1 and the muffle 2 is provided inside the heater 10 as in the other embodiments. The opening on the left side of the muffle 2 is shielded by a shutter 102 that can be extracted downward, and the opening on the right side of the muffle 2 is also shielded by a shutter 103 that can be extracted downward. Further, the shutter 10 is provided in the muffle 2 so as to face the shutters 102 and 103.
4 and 105 are provided, and shutters 104 and 10 are provided.
Reference numeral 5 denotes the inside of the muffle 2 which is divided into a left front chamber, a central nitriding chamber, and a right rear chamber. The shutters 104 and 105 can also be pulled out downward.

【0037】上記各室にはそれぞれ、ガス導入管3から
窒素ガスが導入される。また、マッフル2の天井部から
シャッター102〜105の頂部に向けてシール用の窒
素ガス流が供給され、このシール用の窒素ガス流は各室
間の分離及び各室とマッフル2のとの分離を図り、各室
の気密化を行う。各ガス導入管3から各室に導入された
窒素ガスはシャッター102〜105とマッフル2との
間の隙間からマッフル2の外かつ加熱炉1の内に排出さ
れ、更に加熱炉1と両扉100、101との間の隙間か
ら外部に漏出する。
A nitrogen gas is introduced into each of the above-mentioned chambers from the gas introduction pipe 3. Further, a nitrogen gas flow for sealing is supplied from the ceiling of the muffle 2 toward the tops of the shutters 102 to 105, and the nitrogen gas flow for sealing separates the chambers from each other and separates the muffle 2 from each chamber. And make each room airtight. Nitrogen gas introduced into each chamber from each gas introduction pipe 3 is discharged from the gap between the shutters 102 to 105 and the muffle 2 outside the muffle 2 and into the heating furnace 1, and furthermore, the heating furnace 1 and the double doors 100. , 101 to the outside.

【0038】本実施例では更に、前室及び後室のガスが
減圧弁106、107を通じて排気ブロワ(図示せず)
により外部に排出されており、この排出分だけ前室の圧
力P1及び後室の圧力P2は中央の窒化室P2の圧力に
より低下されている。このようにすることにより、前室
及び後室から窒化室への酸素ガスの侵入が阻止されてい
る。
Further, in this embodiment, the gas in the front chamber and the rear chamber is exhausted through exhaust valves (not shown) through the pressure reducing valves 106 and 107.
, And the pressure P1 in the front chamber and the pressure P2 in the rear chamber are reduced by the pressure of the central nitriding chamber P2. This prevents oxygen gas from entering the nitriding chamber from the front and rear chambers.

【0039】工程を説明すれば、装入扉100及びシャ
ッター102を開いて外部から前室にワークを搬入し、
シャッター102を閉じて窒素ガスの吹き出し及びヒー
ター10への通電を行って脱ガス、脱酸とワークの予熱
を行う。一定時間後、シャッター104を開いてワーク
を前室から窒化室に移送し、窒化を行う。一定時間後、
シャッター105を開き、ワークWを後室に移送してシ
ャッター105を閉じ、その後、取り出し扉101を開
いてワークWを取り出す。なお、本実施例では、窒化室
の圧力P1は前室及び後室の圧力P2、P3より3mm
H2O以上高くなるように設定した。
To explain the process, the loading door 100 and the shutter 102 are opened, and the work is carried into the front room from the outside.
The shutter 102 is closed, and nitrogen gas is blown out and the heater 10 is energized to perform degassing, deoxidation, and preheating of the work. After a certain time, the shutter 104 is opened, and the workpiece is transferred from the front chamber to the nitriding chamber to perform nitriding. After a certain time,
The shutter 105 is opened, the work W is transferred to the rear room, the shutter 105 is closed, and then the take-out door 101 is opened to take out the work W. In this embodiment, the pressure P1 in the nitriding chamber is 3 mm higher than the pressures P2 and P3 in the front chamber and the rear chamber.
It was set to be higher than H 2 O.

【0040】(実施例5)本発明の低温ガス利用窒化層
形成方法を実現する他の低温アルミニウム窒化炉の他例
を図5を参照して説明する。この実施例の窒化炉は図1
に示す実施例1の窒化炉と基本構造自体は同じであり、
ワーク出入構造及びマッフル2の内部構造に修正を加え
たものである。
(Embodiment 5) Another example of a low-temperature aluminum nitriding furnace for realizing the low-temperature gas-using nitride layer forming method of the present invention will be described with reference to FIG. The nitriding furnace of this embodiment is shown in FIG.
The basic structure itself is the same as the nitriding furnace of Example 1 shown in FIG.
The work entry / exit structure and the internal structure of the muffle 2 are modified.

【0041】更に詳しく説明すれば、この窒化炉は縦型
構造であり、マッフル2は加熱炉1の内面に僅かな間隙
を挟んで対面するように加熱炉1内に収容されている。
扉部201は油圧により昇降するロッド202の上端プ
レート203に設置されており、ロッド202の上昇に
より扉部201が加熱炉1及びマッフル2の開口を遮蔽
する。ロッド202の上端プレート203には扉部20
1を囲んで、輪板形状の邪魔板204が扉部201と同
心配置で配設されている。邪魔板204はスプリング2
05により上端プレート203に弾性支持されている。
扉部201の上端には置台206が固定されている。
More specifically, this nitriding furnace has a vertical structure, and the muffle 2 is housed in the heating furnace 1 so as to face the inner surface of the heating furnace 1 with a slight gap therebetween.
The door unit 201 is installed on an upper end plate 203 of a rod 202 which moves up and down by hydraulic pressure. When the rod 202 rises, the door unit 201 shields the openings of the heating furnace 1 and the muffle 2. The upper end plate 203 of the rod 202 has a door 20
1, a wheel-shaped baffle plate 204 is arranged concentrically with the door portion 201. Baffle 204 is spring 2
05 is elastically supported by the upper end plate 203.
A table 206 is fixed to the upper end of the door 201.

【0042】次に、マッフル2の内部構成を説明する。
マッフル2の内部には両端開口の円筒形の隔壁筒210
が立設されている。隔壁筒210の下端は、マッフル2
の底面に固定され、隔壁筒210の上端はマッフル2の
天井面より僅かに離れて配設されている。隔壁筒210
の外側に位置して黒鉛ヒータ10が垂直に配設されてい
る。黒鉛ヒータ10の表面には黒鉛材が露出している。
すなわち、隔壁筒210は、マッフル2内の空間を、内
側の窒化室と外側のガス加熱室に分離している。ガス導
入管3はマッフル2の周壁底部に開口されており、この
ガス導入管3からマッフル2内へ導入された窒素ガスは
黒鉛ヒータ10により加熱されつつ上昇して隔壁筒21
0の上端側の隙間(本発明でいうガス導入口)D2から
窒化室に入り、扉部201と邪魔板204との間の隙間
Dから外部に排出される。
Next, the internal structure of the muffle 2 will be described.
Inside the muffle 2, a cylindrical partition tube 210 having both ends opened is provided.
Is erected. The lower end of the partition tube 210 is a muffle 2
, And the upper end of the partition tube 210 is disposed slightly away from the ceiling surface of the muffle 2. Partition tube 210
, A graphite heater 10 is vertically disposed. A graphite material is exposed on the surface of the graphite heater 10.
That is, the partition tube 210 divides the space inside the muffle 2 into an inner nitriding chamber and an outer gas heating chamber. The gas introduction pipe 3 is opened at the bottom of the peripheral wall of the muffle 2, and the nitrogen gas introduced into the muffle 2 from the gas introduction pipe 3 rises while being heated by the graphite heater 10 and rises.
The gas enters the nitriding chamber through a gap D2 (gas introduction port in the present invention) on the upper end side of the chamber 0, and is discharged outside through a gap D between the door 201 and the baffle plate 204.

【0043】以下、工程を説明する。置台206にワー
クWを載置した後、ロッド202を上昇させてマッフル
2内に装入するとともに扉部201でマッフル2の開口
を遮蔽する。次に、ガス導入口からマッフル2内へ窒素
ガスを導入し、黒鉛ヒータ10を加熱することによりマ
ッフル2内を昇温するとともに、その内部のガス置換を
行う。邪魔板204は加熱炉1の下面に接し、扉部20
1と邪魔板204との間の隙間Dはロッド202の昇降
により調節され、マッフル2内は所定の正圧に保持され
る。
Hereinafter, the steps will be described. After placing the work W on the mounting table 206, the rod 202 is lifted and inserted into the muffle 2, and the opening of the muffle 2 is shielded by the door 201. Next, nitrogen gas is introduced into the muffle 2 from the gas inlet, and the graphite heater 10 is heated to raise the temperature inside the muffle 2 and replace the gas inside the muffle 2. The baffle plate 204 contacts the lower surface of the heating furnace 1 and
The gap D between 1 and the baffle plate 204 is adjusted by raising and lowering the rod 202, and the inside of the muffle 2 is maintained at a predetermined positive pressure.

【0044】ワークWに窒化層を形成した後、マッフル
2内への窒素ガスの導入と黒鉛ヒータ10への通電とを
遮断し、ロッド202を下降させてワークWを取り出
す。本実施例では、ヒータとしてマッフル2内のワーク
Wより上流側に黒鉛ヒータ10を配設しているので、マ
ッフル2内に導入された窒素ガスに含まれる微量の酸素
ガスは、高温(700℃以上)の黒鉛ヒータ10に接触
して二酸化炭素に変換されるので、ワークW近傍におけ
る酸素ガス分圧を一層低減することができる。また、隔
壁筒210は、ワークWの温度のばらつきを低減すると
ともに、窒素ガス流の経路を反対に形成し、マッフル2
の小型化を図る。
After the nitride layer is formed on the work W, the introduction of the nitrogen gas into the muffle 2 and the power supply to the graphite heater 10 are cut off, and the rod 202 is lowered to take out the work W. In the present embodiment, since the graphite heater 10 is disposed as a heater upstream of the work W in the muffle 2, the trace amount of oxygen gas contained in the nitrogen gas introduced into the muffle 2 is heated to a high temperature (700 ° C.). Since the carbon dioxide is converted into carbon dioxide by contact with the graphite heater 10 described above, the partial pressure of oxygen gas in the vicinity of the work W can be further reduced. In addition, the partition wall cylinder 210 reduces the variation in the temperature of the work W, and forms the path of the nitrogen gas flow in the opposite direction, so that the muffle 2
To reduce the size.

【0045】(変形実施例)上記実施例では、窒素ガス
流の酸素ガス分圧低減効果を奏する黒鉛ヒータ10をマ
ッフル2内に配設したが、窒素ガス流にワークWよりも
先に接触する位置であれば、加熱炉1内のどの位置に配
設してもよいことは明白である。
(Modified Embodiment) In the above embodiment, the graphite heater 10 having the effect of reducing the oxygen gas partial pressure of the nitrogen gas flow is disposed in the muffle 2, but the graphite heater 10 comes into contact with the nitrogen gas flow before the work W. Obviously, it may be disposed at any position in the heating furnace 1 as long as it is a position.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の低温ガス利用窒化層形成方法を実施す
る実施例1の低温アルミニウム窒化炉の断面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view of a low-temperature aluminum nitriding furnace of Example 1 for implementing a method for forming a low-temperature gas-using nitride layer of the present invention.

【図2】本発明の低温ガス利用窒化層形成方法を実施す
る実施例2の低温アルミニウム窒化炉の断面図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view of a low-temperature aluminum nitriding furnace according to a second embodiment for implementing the method for forming a nitride layer utilizing low-temperature gas of the present invention.

【図3】本発明の低温ガス利用窒化層形成方法を実施す
る実施例3の低温アルミニウム窒化炉の断面図である。
FIG. 3 is a cross-sectional view of a low-temperature aluminum nitriding furnace of Example 3 for implementing a method for forming a low-temperature gas-assisted nitride layer according to the present invention.

【図4】(a)は本発明の低温ガス利用窒化層形成方法
を実施する実施例4の低温アルミニウム窒化炉の断面図
であり、(b)はそのA−A線矢視半断面図である。
FIG. 4A is a cross-sectional view of a low-temperature aluminum nitriding furnace according to a fourth embodiment for implementing the method for forming a low-temperature gas-assisted nitrided layer of the present invention, and FIG. 4B is a half-sectional view taken along line AA of FIG. is there.

【図5】本発明の低温ガス利用窒化層形成方法を実施す
る実施例5の低温アルミニウム窒化炉の断面図である。
FIG. 5 is a sectional view of a low-temperature aluminum nitriding furnace according to a fifth embodiment for implementing the method for forming a low-temperature gas-assisted nitrided layer of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1は加熱炉(炉体)、2はマッフル、3はガス導入筒、
4はガス排出管、Dは隙間、10はヒーター(加熱手
段)。
1 is a heating furnace (furnace body), 2 is a muffle, 3 is a gas introduction cylinder,
4 is a gas discharge pipe, D is a gap, and 10 is a heater (heating means).

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山田 泰弘 愛知県豊田市トヨタ町1番地 トヨタ自動 車株式会社内 (72)発明者 松永 博文 大阪府茨木市学園南町16番24号 日本特殊 機械株式会社内 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Yasuhiro Yamada 1 Toyota Town, Toyota City, Aichi Prefecture Inside Toyota Motor Corporation (72) Inventor Hirofumi Matsunaga 16-24 Gakuen Minamicho, Ibaraki City, Osaka Japan Special Machinery Co., Ltd. Inside

Claims (14)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】金属粉末と樹脂バインダを主体とした窒化
助剤が塗布されているアルミニウム材を炉内に収容し、
前記炉内に窒素ガスを主成分とする窒化用ガスを導入し
て前記炉内を大気圧を超える正圧に保持し、前記アルミ
ニウム材を400〜600℃に加熱することにより、前
記アルミニウム材の表面部に窒化層を形成するアルミニ
ウム材の低温窒化方法において、 前記窒化用ガスの流量及び炉のガス排出経路の流体抵抗
を調節することにより、昇温段階の300℃を超える所
定温度から反応終了までの高温段階を、前記炉内の酸素
ガス分圧を2.0Pa以下に保持し、かつ、炉内圧力を
0.5〜20mmH2Oえの正圧に保持することを特徴と
するアルミニウム材の低温窒化方法。
An aluminum material coated with a nitriding aid mainly composed of a metal powder and a resin binder is housed in a furnace,
By introducing a nitriding gas containing nitrogen gas as a main component into the furnace and maintaining the inside of the furnace at a positive pressure exceeding atmospheric pressure, and heating the aluminum material to 400 to 600 ° C., the In a low-temperature nitriding method of an aluminum material for forming a nitrided layer on a surface portion, the reaction is terminated from a predetermined temperature exceeding 300 ° C. in a heating stage by adjusting a flow rate of the nitriding gas and a fluid resistance of a gas discharge path of a furnace. An aluminum material, wherein the oxygen gas partial pressure in the furnace is maintained at 2.0 Pa or less, and the furnace pressure is maintained at a positive pressure of 0.5 to 20 mmH 2 O. Low-temperature nitriding method.
【請求項2】請求項1記載のアルミニウム材の低温窒化
方法において、 前記アルミニウム材の温度が180〜300℃内の所定
の温度に達するまでの昇温期間からなる低温段階に炉内
洗浄用の導入ガスを前記炉内へ導入して前記炉内の掃気
を実施するとともに、前記高温段階の前記窒化用ガスの
流量は前記低温段階の前記流量より絞った値に制限さ
れ、かつ、前記ガス排出経路の流体抵抗は前記高温段階
において前記低温段階より増大されることを特徴とする
アルミニウム材の低温窒化方法。
2. The method for nitriding an aluminum material at a low temperature according to claim 1, wherein the temperature of the aluminum material is raised to a predetermined temperature within a range from 180 to 300 ° C. to a low temperature stage comprising a heating period. The introduced gas is introduced into the furnace to perform scavenging of the furnace, and the flow rate of the nitriding gas in the high-temperature stage is limited to a value narrower than the flow rate in the low-temperature stage, and the gas discharge is performed. The method of claim 3, wherein the fluid resistance of the path is increased in the high temperature step than in the low temperature step.
【請求項3】金属粉末と樹脂バインダを主体とした窒化
助剤が塗布されているアルミニウム材を出入する遮蔽可
能な開口部を有する炉体と、 前記アルミニウム材を出入する遮蔽可能な開口部を有す
るとともに前記炉体内に前記炉体内面から所定間隙を隔
てて収容されたマッフルと、 前記開口部を持たない前記マッフルの一端部側に配設さ
れるとともに窒素ガスを主成分とする窒化用ガスを前記
マッフル内へ導入して前記マッフル内を大気圧より正圧
に保持するガス導入口と、 前記アルミニウム材を挟んで前記ガス導入口と反対側に
位置する前記マッフルの他端部から前記窒化用ガスを排
出する前記ガス排出口と、 前記アルミニウム材を400〜600℃に加熱する加熱
手段とを備え、 前記ガス導入口は、前記窒化用ガスの前記マッフル内の
平均流速を超える速度で前記マッフルの前記一端部側の
マッフル内面に到達するように前記窒化用ガスを前記マ
ッフルの前記一端部側のマッフル内面に向けて吹き出す
ことを特徴とする低温アルミニウム窒化炉。
3. A furnace body having a shieldable opening for entering and exiting an aluminum material coated with a nitriding aid mainly composed of a metal powder and a resin binder, and a shieldable opening for entering and exiting the aluminum material. A muffle, which is housed in the furnace at a predetermined distance from the inner surface of the furnace, and a gas for nitriding, which is disposed on one end side of the muffle without the opening and has nitrogen gas as a main component. Into the muffle to maintain the inside of the muffle at a pressure higher than the atmospheric pressure, and the nitriding from the other end of the muffle located on the opposite side of the gas inlet with respect to the aluminum material. A gas outlet for discharging a gas for use, and heating means for heating the aluminum material to 400 to 600 ° C., wherein the gas inlet is provided in the muffle of the nitriding gas. Cold aluminum nitride furnaces, characterized in that blowing the gas nitriding to reach the muffle inner surface of the one end the muffle at a rate greater than the average flow velocity towards the muffle inner surface of the one end side of the muffle.
【請求項4】請求項3記載の低温アルミニウム窒化炉に
おいて、 前記ガス導入口から吹き出されて前記マッフルの前記一
端部側のマッフル内面に到達した前記窒化用ガスは、前
記マッフルの前記一端部側のマッフル内面に沿って層流
をなして前記ガス排出口側へ反転して流れることを特徴
とする低温アルミニウム窒化炉。
4. The low-temperature aluminum nitriding furnace according to claim 3, wherein the nitriding gas blown out from the gas inlet and reaching an inner surface of the muffle on the one end side of the muffle is provided on the one end side of the muffle. A low-temperature aluminum nitriding furnace characterized in that it flows in a laminar flow along the inner surface of the muffle to the gas discharge side.
【請求項5】請求項3又は4記載の低温アルミニウム窒
化炉において、 前記マッフル内へ前記アルミニウム材を洗浄する洗浄ガ
スを導入する洗浄ガス導入口を有することを特徴とする
低温アルミニウム窒化炉。
5. The low-temperature aluminum nitriding furnace according to claim 3, further comprising a cleaning gas inlet for introducing a cleaning gas for cleaning the aluminum material into the muffle.
【請求項6】請求項3乃至5記載の低温アルミニウム窒
化炉において、 前記ガス排出口は、幅が0.1〜1.0mmに設定され
たスリットを有することを特徴とする 低温アルミニウ
ム窒化炉。
6. The low-temperature aluminum nitriding furnace according to claim 3, wherein the gas outlet has a slit having a width of 0.1 to 1.0 mm.
【請求項7】請求項3乃至5記載の低温アルミニウム窒
化炉において、 前記ガス排出口は、10段以上のフィンが互いに隣接し
て配設されたラビリンス構造を有することを特徴とする
低温アルミニウム窒化炉。
7. The low-temperature aluminum nitriding furnace according to claim 3, wherein said gas discharge port has a labyrinth structure in which ten or more fins are arranged adjacent to each other. Furnace.
【請求項8】請求項3乃至5記載の低温アルミニウム窒
化炉において、 前記マッフルの開口部を開閉可能に遮蔽する遮蔽部と、
前記ガス排出口としての前記遮蔽部と前記マッフルとの
間の隙間を前記遮蔽部を駆動することにより調節して炉
内圧力を前記範囲内に調節する圧力調節機構とを備える
ことを特徴とする低温アルミニウム窒化炉。
8. The low-temperature aluminum nitriding furnace according to claim 3, wherein a shielding portion for opening and closing the opening of the muffle is provided.
A pressure adjusting mechanism that adjusts a gap between the shielding portion as the gas outlet and the muffle by driving the shielding portion to adjust a furnace pressure within the range. Low temperature aluminum nitriding furnace.
【請求項9】請求項6乃至8記載のガス排出口に加え
て、前記マッフルの開口部を開閉可能に遮蔽する遮蔽部
に近接して炉内圧力制御のための開口面積可変のガス排
出経路を備えることを特徴とする低温アルミニウム窒化
炉。
9. A gas discharge path having a variable opening area for controlling the pressure in the furnace in close proximity to a shielding portion for opening and closing the opening of the muffle, in addition to the gas exhaust port according to claim 6. A low-temperature aluminum nitriding furnace comprising:
【請求項10】請求項3乃至9記載の低温アルミニウム
窒化炉において、 前記マッフルは、扉部で互いに遮断可能な装入室、窒化
室、搬出室を順番に有し、前記各室はそれぞれ前記ガス
導入口及びガス排出口を有することを特徴とする低温ア
ルミニウム窒化炉。
10. The low-temperature aluminum nitriding furnace according to claim 3, wherein the muffle has a charging chamber, a nitriding chamber, and an unloading chamber, which can be shut off from each other by a door, in order, and each of the chambers includes A low-temperature aluminum nitriding furnace having a gas inlet and a gas outlet.
【請求項11】金属粉末と樹脂バインダを主体とした窒
化助剤が塗布されているアルミニウム材を出入する遮蔽
可能な開口部を有する炉体と、 前記アルミニウム材を出入する遮蔽可能な開口部を有す
るとともに前記炉体内に前記炉体内面から所定間隙を隔
てて収容されたマッフルと、 前記開口部を持たない前記マッフルの一端部側に配設さ
れるとともに窒素ガスを主成分とする窒化用ガスを前記
マッフル内へ導入して前記マッフル内を大気圧より正圧
に保持するガス導入口と、 前記アルミニウム材を挟んで前記ガス導入口と反対側に
位置する前記マッフルの他端部から前記窒化用ガスを排
出する前記ガス排出口と、 前記アルミニウム材を400〜600℃に加熱する加熱
手段とを備え、 加熱された前記アルミニウム材よりも高温の黒鉛部材を
前記マッフル内に配設することを特徴とする低温アルミ
ニウム窒化炉。
11. A furnace body having a shieldable opening for entering and exiting an aluminum material coated with a nitriding aid mainly composed of a metal powder and a resin binder, and a shieldable opening for entering and exiting the aluminum material. A muffle, which is housed in the furnace at a predetermined distance from the inner surface of the furnace, and a gas for nitriding, which is disposed on one end side of the muffle without the opening and has nitrogen gas as a main component. Into the muffle to maintain the inside of the muffle at a pressure higher than the atmospheric pressure, and the nitriding from the other end of the muffle located on the opposite side of the gas inlet with respect to the aluminum material. A gas outlet for discharging a working gas, and heating means for heating the aluminum material to 400 to 600 ° C., wherein a graphite portion having a higher temperature than the heated aluminum material Cold aluminum nitride furnaces, characterized in that disposed within said muffle a.
【請求項12】請求項11記載の低温アルミニウム窒化
炉において、 前記加熱手段は前記黒鉛部材を兼ねることを特徴とする
低温アルミニウム窒化炉。
12. The low-temperature aluminum nitriding furnace according to claim 11, wherein said heating means also serves as said graphite member.
【請求項13】請求項11記載の低温アルミニウム窒化
炉において、 前記黒鉛部材を兼ねる前記加熱手段は前記炉内の前記ア
ルミニウム材より上流側に配設されることを特徴とする
低温アルミニウム窒化炉。
13. The low-temperature aluminum nitriding furnace according to claim 11, wherein said heating means serving also as said graphite member is disposed upstream of said aluminum material in said furnace.
【請求項14】請求項3乃至13記載の低温アルミニウ
ム窒化炉において、 前記炉体と前記マッフルとの間の空間は、窒素ガスを主
成分とするガスにより前記マッフル内の圧力と大気圧と
の間の中間圧力に保持されることを特徴とする低温アル
ミニウム窒化炉。
14. The low-temperature aluminum nitriding furnace according to claim 3, wherein a space between the furnace body and the muffle is formed by a gas containing nitrogen gas as a main component. A low-temperature aluminum nitriding furnace maintained at an intermediate pressure between the two.
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