JPH10156892A - 密封装置及び密封方法 - Google Patents
密封装置及び密封方法Info
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- JPH10156892A JPH10156892A JP9310416A JP31041697A JPH10156892A JP H10156892 A JPH10156892 A JP H10156892A JP 9310416 A JP9310416 A JP 9310416A JP 31041697 A JP31041697 A JP 31041697A JP H10156892 A JPH10156892 A JP H10156892A
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- B29C45/27—Sprue channels ; Runner channels or runner nozzles
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- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
- Injection Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 導通路又は通路に隣接するピークを有する密
封応力分布が得られる改良した密封方法及び密封装置を
提供する。 【解決手段】 本発明による密封装置は、射出成形機に
隣接して設けられると共に接触領域５４で互いに連絡し
かつ加圧された溶融樹脂を案内する２つの導通路４２、
５０と、接触領域５４で傾斜する密封力を発生して２つ
の導通路４２、５０の間の接触領域５４を密封する密封
装置５２とを備え、２つの導通路４２、５０の間の通路
を密封する。
封応力分布が得られる改良した密封方法及び密封装置を
提供する。 【解決手段】 本発明による密封装置は、射出成形機に
隣接して設けられると共に接触領域５４で互いに連絡し
かつ加圧された溶融樹脂を案内する２つの導通路４２、
５０と、接触領域５４で傾斜する密封力を発生して２つ
の導通路４２、５０の間の接触領域５４を密封する密封
装置５２とを備え、２つの導通路４２、５０の間の通路
を密封する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、射出成形型に配置
される２つの導通路（導管）の間の通路を密封し、繰り
返し操作（cycling operation）で成形型のキャビティ
内に高圧力で加熱された溶融樹脂を案内する方法及び装
置に関する。
される２つの導通路（導管）の間の通路を密封し、繰り
返し操作（cycling operation）で成形型のキャビティ
内に高圧力で加熱された溶融樹脂を案内する方法及び装
置に関する。
【０００２】
【従来の技術】射出成形機又は射出成形型の設計では、
高温高圧の溶融樹脂材料の漏洩を回避することが大きな
関心事である。例えば、射出成形機の臨界漏洩区域（cr
iticalleakage area）は、射出成形機の射出ノズルと成
形型のスプルーブッシュ（sprue bushing）との間にあ
る。一般に、射出成形機からの溶融樹脂の漏洩は、マニ
ホルドとノズル型との間又はノズル型とキャビティ型と
の間の境界（接触領域）で発生する。
高温高圧の溶融樹脂材料の漏洩を回避することが大きな
関心事である。例えば、射出成形機の臨界漏洩区域（cr
iticalleakage area）は、射出成形機の射出ノズルと成
形型のスプルーブッシュ（sprue bushing）との間にあ
る。一般に、射出成形機からの溶融樹脂の漏洩は、マニ
ホルドとノズル型との間又はノズル型とキャビティ型と
の間の境界（接触領域）で発生する。
【０００３】通常、射出成形マニホルドは、成形型のキ
ャビティに隣接して配置された射出ノズルと連絡する大
きな塊のランナブロックから成る。例えば、高温で流動
する溶融樹脂の高い圧力と材料の相対的熱膨張とによっ
て、射出ノズルに対してランナブロックが横すべりし
て、ランナブロックから射出ノズルへ移動する溶融材料
が漏洩する大きな問題が生ずる。従って、ランナブロッ
ク又はマニホルドに配置された内部導通路と射出ノズル
との間の溶融樹脂の通路の密封は、重大な設計上の問題
となり、特に、漏洩が発生すると射出工程を停止しなけ
ればならない。
ャビティに隣接して配置された射出ノズルと連絡する大
きな塊のランナブロックから成る。例えば、高温で流動
する溶融樹脂の高い圧力と材料の相対的熱膨張とによっ
て、射出ノズルに対してランナブロックが横すべりし
て、ランナブロックから射出ノズルへ移動する溶融材料
が漏洩する大きな問題が生ずる。従って、ランナブロッ
ク又はマニホルドに配置された内部導通路と射出ノズル
との間の溶融樹脂の通路の密封は、重大な設計上の問題
となり、特に、漏洩が発生すると射出工程を停止しなけ
ればならない。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】種々の密封方法及び密
封要素が開発されているが、これらは、特にマニホルド
とノズル型との間の境界（接触領域）での漏洩の問題を
満足に解決できない。
封要素が開発されているが、これらは、特にマニホルド
とノズル型との間の境界（接触領域）での漏洩の問題を
満足に解決できない。
【０００５】射出成形型の公知の設計では、常温状態又
は低温状態で小さい予荷重（pre-load）がマニホルドと
ノズルとの間に加えられる。マニホルドに固有の熱膨張
が発生しても、付加される予荷重により部品間に十分な
圧縮力を与えて、マニホルドとノズルとの間又はシステ
ム中の他の導通路の間の密封を維持することができる。
しかしながら、予荷重による圧縮力が小さ過ぎると、樹
脂の漏洩が発生する反面、過度の圧縮を加えると、鋼製
のマニホルドに永久変形（permanent setting）を発生
したり又はノズルハウジングが損傷することがある。ま
た、長期間の周期的な射出成形動作によって予荷重の効
果が低減され、漏洩の危険が増加する。
は低温状態で小さい予荷重（pre-load）がマニホルドと
ノズルとの間に加えられる。マニホルドに固有の熱膨張
が発生しても、付加される予荷重により部品間に十分な
圧縮力を与えて、マニホルドとノズルとの間又はシステ
ム中の他の導通路の間の密封を維持することができる。
しかしながら、予荷重による圧縮力が小さ過ぎると、樹
脂の漏洩が発生する反面、過度の圧縮を加えると、鋼製
のマニホルドに永久変形（permanent setting）を発生
したり又はノズルハウジングが損傷することがある。ま
た、長期間の周期的な射出成形動作によって予荷重の効
果が低減され、漏洩の危険が増加する。
【０００６】これらの設計思想に対し、樹脂（レジン）
の漏洩を防止する異なる方法及び手段を用いるいくつか
の改善がなされている。
の漏洩を防止する異なる方法及び手段を用いるいくつか
の改善がなされている。
【０００７】シャード（Schad）所有の米国特許第４,５
８８,３６７号は、マニホルド導通路と射出ノズルとの
間の通路を通る樹脂流を密封する熱膨張要素、付加的な
弾性的密封性を与えるアンダカット部を有する熱膨張要
素及び弾力性を付加して密封性を高めるばね要素を有す
る熱膨張要素を開示する。熱膨張要素は、マニホルド、
熱膨張要素及びノズル間の相対運動を許容する。
８８,３６７号は、マニホルド導通路と射出ノズルとの
間の通路を通る樹脂流を密封する熱膨張要素、付加的な
弾性的密封性を与えるアンダカット部を有する熱膨張要
素及び弾力性を付加して密封性を高めるばね要素を有す
る熱膨張要素を開示する。熱膨張要素は、マニホルド、
熱膨張要素及びノズル間の相対運動を許容する。
【０００８】ゲスナー（Gessner）所有の米国特許第５,
３７４,１８２号では、温度上昇のためにノズル本体及
び空気ピストンハウジングが膨張するに従って偏向する
ばねが用いられる。この密封装置は、断熱スリーブ上で
組み立てられる皿ばね式（Belleville style）円板ばね
を使用する。マニホルドの加熱に従って円板ばねユニッ
トは熱膨張を吸収し、ノズルハウジングへの過剰応力又
はマニホルドを構成する板鋼の残留歪みを防止する。こ
の構造は、射出圧力が比較的小さい多くの射出成形機に
優れた漏洩防止策となる。米国特許第５,３７４,１８２
号の円板ばねシステムは、ノズルとマニホルド板との間
の境界面（接触領域）に垂直な純然たる軸方向（purely
axial direction）の荷重をノズルハウジングのフラン
ジに付加して、密封力を生ずる。軸方向の密封力を付与
すると、ばねとノズルとの間の接触点において密封応力
はピークに達するのに対し、密封応力の分布では、密封
応力のピークから溶融樹脂の通路に向かって著しく減少
する。射出圧力がさらに高い場合、この改良された構造
では通路の外側での溶融樹脂の漏洩を効果的に防止でき
ない。
３７４,１８２号では、温度上昇のためにノズル本体及
び空気ピストンハウジングが膨張するに従って偏向する
ばねが用いられる。この密封装置は、断熱スリーブ上で
組み立てられる皿ばね式（Belleville style）円板ばね
を使用する。マニホルドの加熱に従って円板ばねユニッ
トは熱膨張を吸収し、ノズルハウジングへの過剰応力又
はマニホルドを構成する板鋼の残留歪みを防止する。こ
の構造は、射出圧力が比較的小さい多くの射出成形機に
優れた漏洩防止策となる。米国特許第５,３７４,１８２
号の円板ばねシステムは、ノズルとマニホルド板との間
の境界面（接触領域）に垂直な純然たる軸方向（purely
axial direction）の荷重をノズルハウジングのフラン
ジに付加して、密封力を生ずる。軸方向の密封力を付与
すると、ばねとノズルとの間の接触点において密封応力
はピークに達するのに対し、密封応力の分布では、密封
応力のピークから溶融樹脂の通路に向かって著しく減少
する。射出圧力がさらに高い場合、この改良された構造
では通路の外側での溶融樹脂の漏洩を効果的に防止でき
ない。
【０００９】即ち、図１０は米国特許第５,３７４,１８
２号に開示された密封装置を示す。この密封装置は、ホ
ットランナマニホルド１０及びマニホルド導通路１２を
備え、射出ノズル１４はマニホルド導通路１２に隣接す
るノズル導通路１６を有する。射出ノズル１４は、マニ
ホルド１０と隣接する肩部１８と、ノズル導通路１６と
マニホルド導通路１２との間の境界（接触領域）を密封
する２つの皿ばね式円板ばねユニット２０とを備えてい
る。ホットランナマニホルド１０の加熱に従って円板ば
ねユニット２０は熱膨張を吸収し、ノズルハウジングへ
の過剰応力又はホットランナマニホルド１０を構成する
板鋼の残留歪みを防止して、改善された漏洩防止特性を
示す。しかしながら、図１０の円板ばねシステムは、ノ
ズル導通路１６とマニホルド導通路１２との間の境界に
垂直な純然たる軸方向の荷重をノズル肩１８に付加す
る。図１０でホットランナマニホルド１０の上方のグラ
フ２２は、ノズル導通路１６とマニホルド導通路１２と
の間の境界及び隣接する表面における密封応力分布を示
し、密封応力（密封力）がホットランナマニホルド１０
とノズル肩１８との間の接触点において達成されるピー
クに対し溶融樹脂の通路に向かって著しく減少すること
を示す。従って、射出圧力が高い場合、この装置では溶
融樹脂の漏洩を効果的に防止できない。
２号に開示された密封装置を示す。この密封装置は、ホ
ットランナマニホルド１０及びマニホルド導通路１２を
備え、射出ノズル１４はマニホルド導通路１２に隣接す
るノズル導通路１６を有する。射出ノズル１４は、マニ
ホルド１０と隣接する肩部１８と、ノズル導通路１６と
マニホルド導通路１２との間の境界（接触領域）を密封
する２つの皿ばね式円板ばねユニット２０とを備えてい
る。ホットランナマニホルド１０の加熱に従って円板ば
ねユニット２０は熱膨張を吸収し、ノズルハウジングへ
の過剰応力又はホットランナマニホルド１０を構成する
板鋼の残留歪みを防止して、改善された漏洩防止特性を
示す。しかしながら、図１０の円板ばねシステムは、ノ
ズル導通路１６とマニホルド導通路１２との間の境界に
垂直な純然たる軸方向の荷重をノズル肩１８に付加す
る。図１０でホットランナマニホルド１０の上方のグラ
フ２２は、ノズル導通路１６とマニホルド導通路１２と
の間の境界及び隣接する表面における密封応力分布を示
し、密封応力（密封力）がホットランナマニホルド１０
とノズル肩１８との間の接触点において達成されるピー
クに対し溶融樹脂の通路に向かって著しく減少すること
を示す。従って、射出圧力が高い場合、この装置では溶
融樹脂の漏洩を効果的に防止できない。
【００１０】シャード他（Schad et at.）所有の米国特
許第５,５０７,６３７号は、マニホルドに取り付けられ
かつノズルハウジングを包囲してマニホルドとノズルと
の間の境界（接触領域）での樹脂の漏洩を防止する密封
クランプリングを開示する。クランプリングとノズルと
の間に残る横方向のクリアランスは、型ゲート（moldga
te）に対するノズルチップの整列に影響を及ぼすことな
くマニホルド及びクランプリングの横方向への滑動を許
容する。
許第５,５０７,６３７号は、マニホルドに取り付けられ
かつノズルハウジングを包囲してマニホルドとノズルと
の間の境界（接触領域）での樹脂の漏洩を防止する密封
クランプリングを開示する。クランプリングとノズルと
の間に残る横方向のクリアランスは、型ゲート（moldga
te）に対するノズルチップの整列に影響を及ぼすことな
くマニホルド及びクランプリングの横方向への滑動を許
容する。
【００１１】前記の米国特許第４,５８８,３６７号、第
５,３７４,１８２号及び第５,５０７,６３７号の構造思
想は非常に進歩的であり、マニホルドとノズルハウジン
グとの間で滑動する境界（接触領域）を使用する。マニ
ホルドが加熱して膨張するに従い、マニホルドはキャビ
ティ板のカウンタボア（counter bores）内に保持され
るノズルハウジングを横切って滑動する。これにより、
マニホルドの温度と独立して、ノズルチップ位置を型ゲ
ートと適切に整列した状態に維持することができる。し
かしながら、ノズルとマニホルドとの間の滑動する境界
（接触領域）において、前記米国特許に開示の密封手段
を用いて２部品の導通路の間の通路を完全に密封するこ
とは困難であり、通路に隣接するピークを有する密封応
力分布を達成することができない。
５,３７４,１８２号及び第５,５０７,６３７号の構造思
想は非常に進歩的であり、マニホルドとノズルハウジン
グとの間で滑動する境界（接触領域）を使用する。マニ
ホルドが加熱して膨張するに従い、マニホルドはキャビ
ティ板のカウンタボア（counter bores）内に保持され
るノズルハウジングを横切って滑動する。これにより、
マニホルドの温度と独立して、ノズルチップ位置を型ゲ
ートと適切に整列した状態に維持することができる。し
かしながら、ノズルとマニホルドとの間の滑動する境界
（接触領域）において、前記米国特許に開示の密封手段
を用いて２部品の導通路の間の通路を完全に密封するこ
とは困難であり、通路に隣接するピークを有する密封応
力分布を達成することができない。
【００１２】そこで、本発明の主な目的は、射出成形装
置の２つの導通路の間、特に射出ノズル用の導通路とホ
ットランナマニホルド用の導通路との間の通路を密封す
る改良した密封方法及び密封装置を提供することにあ
る。
置の２つの導通路の間、特に射出ノズル用の導通路とホ
ットランナマニホルド用の導通路との間の通路を密封す
る改良した密封方法及び密封装置を提供することにあ
る。
【００１３】また、本発明の他の目的は、前記のよう
に、導通路（conduits）又は通路（passageways）に隣
接してピークを有する密封応力分布が得られる改良した
密封方法及び密封装置を提供することにある。
に、導通路（conduits）又は通路（passageways）に隣
接してピークを有する密封応力分布が得られる改良した
密封方法及び密封装置を提供することにある。
【００１４】本発明のその他の目的及び利点は、以下の
説明より明らかとなろう。
説明より明らかとなろう。
【００１５】
【課題を解決するための手段】本発明により、前記の目
的及び利点を容易に達成することができる。
的及び利点を容易に達成することができる。
【００１６】本発明の密封装置は、射出成形機に隣接し
て設けられると共に接触領域（５４）で互いに連絡しか
つ加圧された溶融樹脂を案内する２つの導通路（condui
ts）（４２、５０）と、接触領域（５４）で傾斜する密
封力を発生して２つの導通路（４２、５０）の間の接触
領域（５４）を密封する密封装置（５２）とを備え、２
つの導通路（４２、５０）の間の通路（passageways）
を密封する。本発明の実施の形態では、特に、２つの導
通路（４２、５０）の一方は、射出ノズル（３０）用の
導通路（４２）であり、２つの導通路（４２、５０）の
他方は、射出ノズル（３０）用の導通路（４２）に隣接
するホットランナマニホルド（３２）用の導通路（５
０）である。射出ノズル（３０）は、ホットランナマニ
ホルド（３２）に隣接する肩部（４４）を有する。密封
装置（５２）は接触領域（５４）で傾斜する密封力を発
生する偏向密封要素（５２）である。肩部（４４）は、
射出ノズル（３０）用の導通路（４２）に隣接する内側
部を有し、偏向密封要素（５２）は、導通路（４２）に
隣接する肩部（４４）の内側部に対し大きな密封応力を
発生する。偏向密封要素（５２）は、第１の厚さ（Ｔ
１）を有する第１の外側部（６２）と、第１の厚さ（Ｔ
１）より小さい第２の厚さ（Ｔ２）を有する第２の内側
部とを備える。第２の内側部は湾曲内側部を有する。偏
向密封要素（５２）は、射出ノズル（３０）用の導通路
（４２）の径方向面に対し５°〜３０°の角度（α）を
少なくとも一部に形成する。偏向密封要素（５２）はデ
ィスク状部材であってもよい。特に、密封応力分布は、
射出ノズル（３０）の導通路（４２）及び接触領域（５
４）に隣接してピークを有する。
て設けられると共に接触領域（５４）で互いに連絡しか
つ加圧された溶融樹脂を案内する２つの導通路（condui
ts）（４２、５０）と、接触領域（５４）で傾斜する密
封力を発生して２つの導通路（４２、５０）の間の接触
領域（５４）を密封する密封装置（５２）とを備え、２
つの導通路（４２、５０）の間の通路（passageways）
を密封する。本発明の実施の形態では、特に、２つの導
通路（４２、５０）の一方は、射出ノズル（３０）用の
導通路（４２）であり、２つの導通路（４２、５０）の
他方は、射出ノズル（３０）用の導通路（４２）に隣接
するホットランナマニホルド（３２）用の導通路（５
０）である。射出ノズル（３０）は、ホットランナマニ
ホルド（３２）に隣接する肩部（４４）を有する。密封
装置（５２）は接触領域（５４）で傾斜する密封力を発
生する偏向密封要素（５２）である。肩部（４４）は、
射出ノズル（３０）用の導通路（４２）に隣接する内側
部を有し、偏向密封要素（５２）は、導通路（４２）に
隣接する肩部（４４）の内側部に対し大きな密封応力を
発生する。偏向密封要素（５２）は、第１の厚さ（Ｔ
１）を有する第１の外側部（６２）と、第１の厚さ（Ｔ
１）より小さい第２の厚さ（Ｔ２）を有する第２の内側
部とを備える。第２の内側部は湾曲内側部を有する。偏
向密封要素（５２）は、射出ノズル（３０）用の導通路
（４２）の径方向面に対し５°〜３０°の角度（α）を
少なくとも一部に形成する。偏向密封要素（５２）はデ
ィスク状部材であってもよい。特に、密封応力分布は、
射出ノズル（３０）の導通路（４２）及び接触領域（５
４）に隣接してピークを有する。
【００１７】射出成形機に設けられた２つの導通路（４
２、５０）の間の通路を密封する本発明の密封方法は、
加圧された溶融樹脂を案内すると共に接触領域（５４）
を形成する２つの導通路（４２、５０）を設ける工程
と、接触領域（５４）で傾斜する密封力を発生して２つ
の導通路（４２、５０）の間の接触領域（５４）を密封
する工程とを含む。本発明の実施の形態では、好ましく
は、２つの導通路（４２、５０）の一方は、射出ノズル
（３０）用の導通路（４２）であり、２つの導通路（４
２、５０）の他方は、射出ノズル（３０）用の導通路
（４２）に隣接するホットランナマニホルド（３２）用
の導通路（５０）であり、２つの導通路（４２、５０）
の間の接触領域（５４）で傾斜する密封力を発生する密
封装置（５２）により２つの導通路（４２、５０）の間
の接触領域（５４）を密封する工程を含む。さらに、射
出ノズル（３０）用の導通路（４２）に隣接して射出ノ
ズル（３０）に肩部（４４）を設ける工程と、接触領域
（５４）で傾斜する密封力を加える偏向密封要素（５
２）を肩部（４４）に隣接して配置する工程とを含む。
肩部（４４）は射出ノズル（３０）用の導通路（４２）
に隣接する内側部と、射出ノズル（３０）用の導通路
（４２）から離間する外側部とを含み、偏向密封要素
（５２）により射出ノズル（３０）用の導通路（４２）
に隣接する肩部（４４）の内側部に大きな密封応力を発
生する工程を含む。密封装置（５２）は射出ノズル（３
０）用の導通路（４２）の径方向面に対し５°〜３０°
の角度（α）を少なくとも一部に形成する偏向密封要素
（５２）である。望ましくは、密封応力分布は射出ノズ
ル（３０）の導通路（４２）及び接触領域（５４）に隣
接してピークを有する。
２、５０）の間の通路を密封する本発明の密封方法は、
加圧された溶融樹脂を案内すると共に接触領域（５４）
を形成する２つの導通路（４２、５０）を設ける工程
と、接触領域（５４）で傾斜する密封力を発生して２つ
の導通路（４２、５０）の間の接触領域（５４）を密封
する工程とを含む。本発明の実施の形態では、好ましく
は、２つの導通路（４２、５０）の一方は、射出ノズル
（３０）用の導通路（４２）であり、２つの導通路（４
２、５０）の他方は、射出ノズル（３０）用の導通路
（４２）に隣接するホットランナマニホルド（３２）用
の導通路（５０）であり、２つの導通路（４２、５０）
の間の接触領域（５４）で傾斜する密封力を発生する密
封装置（５２）により２つの導通路（４２、５０）の間
の接触領域（５４）を密封する工程を含む。さらに、射
出ノズル（３０）用の導通路（４２）に隣接して射出ノ
ズル（３０）に肩部（４４）を設ける工程と、接触領域
（５４）で傾斜する密封力を加える偏向密封要素（５
２）を肩部（４４）に隣接して配置する工程とを含む。
肩部（４４）は射出ノズル（３０）用の導通路（４２）
に隣接する内側部と、射出ノズル（３０）用の導通路
（４２）から離間する外側部とを含み、偏向密封要素
（５２）により射出ノズル（３０）用の導通路（４２）
に隣接する肩部（４４）の内側部に大きな密封応力を発
生する工程を含む。密封装置（５２）は射出ノズル（３
０）用の導通路（４２）の径方向面に対し５°〜３０°
の角度（α）を少なくとも一部に形成する偏向密封要素
（５２）である。望ましくは、密封応力分布は射出ノズ
ル（３０）の導通路（４２）及び接触領域（５４）に隣
接してピークを有する。
【００１８】本発明のその他の特徴は、以下の説明より
明らかとなろう。
明らかとなろう。
【００１９】
【発明の実施の形態】以下、本発明による密封装置及び
密封方法の実施の形態を図１〜図９について説明する。
密封方法の実施の形態を図１〜図９について説明する。
【００２０】図１の実施形態では、ホットチップ型ホッ
トランナ射出ノズル３０はホットランナマニホルドブロ
ック３２と協働し、成形型のキャビティ（図示せず）へ
高圧力の溶融樹脂を導入する。射出ノズル３０は、例え
ばバルブゲート又はエッジゲート等のあらゆる適当な構
造が可能であり、この点は本発明の構造及び効果に影響
しない。射出ノズル３０は、成形型のキャビティ（図示
せず）に溶融樹脂を導入する成形型のキャビティゲート
３８と整列するノズルチップ３６を末端に有するノズル
本体又はノズルハウジング３４を備える。通常、ノズル
ハウジング３４は加熱要素４０に包囲され、ノズル導通
路（nozzle channel）４２を通り成形型のキャビティへ
流動する溶融樹脂流を最適温度に維持する。ノズルハウ
ジング３４は、ホットランナマニホルドブロック３２と
直接接触する状態に維持される上部フランジ又は肩部４
４を有し、ノズルハウジング３４とホットランナマニホ
ルドブロック３２との間の境界区域５４での漏洩を防止
する。マニホルド３２は成形型のキャビティ板４６と型
バックプレート４８との間に配置され、必要数の射出ノ
ズル３０へ溶融樹脂を案内する数多くの内側のマニホル
ド導通路（マニホルド導管、manifold conduits）５０
を含む。図１に明示するように、マニホルド導通路５０
はノズル導通路（ノズル導管、nozzle conduit）４２に
直接隣接しかつ流体連結し、マニホルド導通路５０から
ノズル導通路４２へ溶融樹脂を案内する。本発明によれ
ば、マニホルド導通路５０からノズル導通路４２へ流動
する射出圧力の溶融樹脂の漏洩を防ぐために、高力鋼に
よる強い弾力を生ずる偏向密封要素５２が射出ノズル３
０の周囲に配置され、ノズル導通路４２とマニホルド導
通路５０との間の境界区域（接触領域）５４に向かい傾
斜した強い密封力を生じる。後述のように、偏向密封要
素５２の特別な構造は変更可能であるが、射出ノズル３
０とマニホルド導通路５０との間の境界区域５４上で、
偏向密封要素５２が傾斜した密封力を発生することが重
要である。図１に示すように、偏向密封要素５２はノズ
ル肩部４４に接し、成形型のキャビティ板４６の上側部
分に機械加工された円筒状（円柱状）の凹部５６内に配
置される。
トランナ射出ノズル３０はホットランナマニホルドブロ
ック３２と協働し、成形型のキャビティ（図示せず）へ
高圧力の溶融樹脂を導入する。射出ノズル３０は、例え
ばバルブゲート又はエッジゲート等のあらゆる適当な構
造が可能であり、この点は本発明の構造及び効果に影響
しない。射出ノズル３０は、成形型のキャビティ（図示
せず）に溶融樹脂を導入する成形型のキャビティゲート
３８と整列するノズルチップ３６を末端に有するノズル
本体又はノズルハウジング３４を備える。通常、ノズル
ハウジング３４は加熱要素４０に包囲され、ノズル導通
路（nozzle channel）４２を通り成形型のキャビティへ
流動する溶融樹脂流を最適温度に維持する。ノズルハウ
ジング３４は、ホットランナマニホルドブロック３２と
直接接触する状態に維持される上部フランジ又は肩部４
４を有し、ノズルハウジング３４とホットランナマニホ
ルドブロック３２との間の境界区域５４での漏洩を防止
する。マニホルド３２は成形型のキャビティ板４６と型
バックプレート４８との間に配置され、必要数の射出ノ
ズル３０へ溶融樹脂を案内する数多くの内側のマニホル
ド導通路（マニホルド導管、manifold conduits）５０
を含む。図１に明示するように、マニホルド導通路５０
はノズル導通路（ノズル導管、nozzle conduit）４２に
直接隣接しかつ流体連結し、マニホルド導通路５０から
ノズル導通路４２へ溶融樹脂を案内する。本発明によれ
ば、マニホルド導通路５０からノズル導通路４２へ流動
する射出圧力の溶融樹脂の漏洩を防ぐために、高力鋼に
よる強い弾力を生ずる偏向密封要素５２が射出ノズル３
０の周囲に配置され、ノズル導通路４２とマニホルド導
通路５０との間の境界区域（接触領域）５４に向かい傾
斜した強い密封力を生じる。後述のように、偏向密封要
素５２の特別な構造は変更可能であるが、射出ノズル３
０とマニホルド導通路５０との間の境界区域５４上で、
偏向密封要素５２が傾斜した密封力を発生することが重
要である。図１に示すように、偏向密封要素５２はノズ
ル肩部４４に接し、成形型のキャビティ板４６の上側部
分に機械加工された円筒状（円柱状）の凹部５６内に配
置される。
【００２１】偏向リングを構成する偏向密封要素５２は
傾斜した密封力を生じ、幅広い操作温度及び射出圧力領
域にわたってノズル導通路４２とマニホルド導通路５０
との間の密封接触を維持する。また、キャビティ板４６
のノズルハウジング３４内に偏向密封要素５２を配置し
てもよい。従来の装置と異なり、本発明の密封装置によ
って生じる密封力は、温度勾配及び射出圧力に従い、初
めの予荷重に応答し、さらに型の操作条件及び要因によ
り生ずるその後の連続荷重に応答する。加えて、従来の
システムと異なり、本発明の密封要素によって生じる密
封力は、図４の密封応力分布曲線６０に明示するよう
に、ノズル導通路４２とマニホルド導通路５０とに隣接
して最大値に到達する密封応力分布を発生する。これ
は、漏洩防止の上で大きな利点及び改善となる。図４に
示すように、境界区域（接触領域）５４は、ノズル導通
路４２の周囲でノズル肩４４の上面に形成され、境界区
域５４の周囲はノズル肩４４とホットランナマニホルド
ブロック３２とが接触しないように環状凹部が形成され
るが、図１に示すように、境界区域５４をノズル肩４４
の上面全体に形成してもよい。
傾斜した密封力を生じ、幅広い操作温度及び射出圧力領
域にわたってノズル導通路４２とマニホルド導通路５０
との間の密封接触を維持する。また、キャビティ板４６
のノズルハウジング３４内に偏向密封要素５２を配置し
てもよい。従来の装置と異なり、本発明の密封装置によ
って生じる密封力は、温度勾配及び射出圧力に従い、初
めの予荷重に応答し、さらに型の操作条件及び要因によ
り生ずるその後の連続荷重に応答する。加えて、従来の
システムと異なり、本発明の密封要素によって生じる密
封力は、図４の密封応力分布曲線６０に明示するよう
に、ノズル導通路４２とマニホルド導通路５０とに隣接
して最大値に到達する密封応力分布を発生する。これ
は、漏洩防止の上で大きな利点及び改善となる。図４に
示すように、境界区域（接触領域）５４は、ノズル導通
路４２の周囲でノズル肩４４の上面に形成され、境界区
域５４の周囲はノズル肩４４とホットランナマニホルド
ブロック３２とが接触しないように環状凹部が形成され
るが、図１に示すように、境界区域５４をノズル肩４４
の上面全体に形成してもよい。
【００２２】図１の実施形態に示すように、偏向密封要
素５２とノズル肩部４４との間で径方向密着が生じて射
出ノズル３０とホットランナマニホルドブロック３２と
の間での強力な接触状態が形成され、優先的に径方向に
沿って、偏向密封要素５２からノズル導通路４２とマニ
ホルド導通路５０との間で接触領域５４への最大密封力
が伝達される。
素５２とノズル肩部４４との間で径方向密着が生じて射
出ノズル３０とホットランナマニホルドブロック３２と
の間での強力な接触状態が形成され、優先的に径方向に
沿って、偏向密封要素５２からノズル導通路４２とマニ
ホルド導通路５０との間で接触領域５４への最大密封力
が伝達される。
【００２３】勿論、本発明の密封装置は、例えば溶融樹
脂の漏洩が問題となりうる他のマニホルド連結のよう
に、射出成形装置の他の導通路連結において効果的に使
用可能である。
脂の漏洩が問題となりうる他のマニホルド連結のよう
に、射出成形装置の他の導通路連結において効果的に使
用可能である。
【００２４】密封要素５２の好適な実施形態の詳細を図
２に示す。密封要素５２は、第１の直径Ｄ１及び第１の
厚さＴ１を有する外側面６２と、第１の直径Ｄ１より小
さい第２の直径Ｄ２を有する第１の内側面６４とを備え
るほぼ平坦なリング又は円板である。さらに、密封要素
５２は、第２の直径Ｄ２より小さい第３の直径Ｄ３及び
第１の厚さＴ１より小さい第２の厚さＴ２を有する傾斜
部６６を備える。内側面６４は、好ましくは丸味端６８
を有する内側傾斜部６６を備える。密封要素又は偏向要
素は、円板以外の形状、例えば正方形、六角形その他の
所望の非円状輪郭を有してもよい。平滑な外側面６２
は、円柱状の凹部５６とほぼ同一の直径を有する。
２に示す。密封要素５２は、第１の直径Ｄ１及び第１の
厚さＴ１を有する外側面６２と、第１の直径Ｄ１より小
さい第２の直径Ｄ２を有する第１の内側面６４とを備え
るほぼ平坦なリング又は円板である。さらに、密封要素
５２は、第２の直径Ｄ２より小さい第３の直径Ｄ３及び
第１の厚さＴ１より小さい第２の厚さＴ２を有する傾斜
部６６を備える。内側面６４は、好ましくは丸味端６８
を有する内側傾斜部６６を備える。密封要素又は偏向要
素は、円板以外の形状、例えば正方形、六角形その他の
所望の非円状輪郭を有してもよい。平滑な外側面６２
は、円柱状の凹部５６とほぼ同一の直径を有する。
【００２５】図２に示すように、傾斜部６６はノズル導
通路４２の径方向面に対し、好ましくは５°〜３０°の
角度αを形成し、ノズル導通路４２とマニホルド導通路
５０との間の接触領域５４に対して傾斜した密封力を確
保する。
通路４２の径方向面に対し、好ましくは５°〜３０°の
角度αを形成し、ノズル導通路４２とマニホルド導通路
５０との間の接触領域５４に対して傾斜した密封力を確
保する。
【００２６】図３の実施の形態では、偏向密封要素５２
は雄ねじ７０を有し、対応する円筒状の凹部７２にねじ
込まれる。これにより、組立又は操作時に、偏向密封要
素５２の取り付け及び取り外しが容易となる。
は雄ねじ７０を有し、対応する円筒状の凹部７２にねじ
込まれる。これにより、組立又は操作時に、偏向密封要
素５２の取り付け及び取り外しが容易となる。
【００２７】図５及び図６は偏向密封要素５２の変更実
施形態を示す。図５に示す平坦な円板状要素（disk-lik
e element）７４も傾斜した密封力を発生し、ノズル導
通路４２に隣接してピークを有する分布曲線７６に示す
密封応力分布が達成される。一方、図６に示す平坦な円
板状要素７８は、本体部８０と、本体部８０に対し上向
きの環状チップ８２とを有し、分布曲線８４に示すよう
に導通路に隣接してピークを有する密封応力分布を達成
する。
施形態を示す。図５に示す平坦な円板状要素（disk-lik
e element）７４も傾斜した密封力を発生し、ノズル導
通路４２に隣接してピークを有する分布曲線７６に示す
密封応力分布が達成される。一方、図６に示す平坦な円
板状要素７８は、本体部８０と、本体部８０に対し上向
きの環状チップ８２とを有し、分布曲線８４に示すよう
に導通路に隣接してピークを有する密封応力分布を達成
する。
【００２８】偏向密封要素５２は種々の材料又は材料の
結合より形成でき、最終的には特別な成形条件に基づい
て選択される。好ましくは、偏向要素（密封要素）５２
は高力鋼等の高熱伝導性材料から成る。また、ノズルハ
ウジング３４を銅（Ｃｕ）又は銅ベリリウム（Ｃｕ−Ｂ
ｅ）により形成し、偏向要素（密封要素）５２をノズル
ハウジング３４の材料よりも熱伝導率の低い材料、例え
ばチタン（Ｔｉ）又はチタン合金で形成してもよい。場
合によって、この構成は、ノズルの放射状の大きな熱膨
張が低温の型板に包囲された偏向リング５２の小さな熱
膨張によって制限されるときに力が付加されるため、密
封の信頼性をさらに高めることができる。また、偏向リ
ング５２は、鋼から成るコア部と、低熱伝導率材料（断
熱材）から成る表皮部（又は断熱材被覆層のみ）とを備
えてもよい。勿論、他の付加部品（オプション）を使用
してもよい。
結合より形成でき、最終的には特別な成形条件に基づい
て選択される。好ましくは、偏向要素（密封要素）５２
は高力鋼等の高熱伝導性材料から成る。また、ノズルハ
ウジング３４を銅（Ｃｕ）又は銅ベリリウム（Ｃｕ−Ｂ
ｅ）により形成し、偏向要素（密封要素）５２をノズル
ハウジング３４の材料よりも熱伝導率の低い材料、例え
ばチタン（Ｔｉ）又はチタン合金で形成してもよい。場
合によって、この構成は、ノズルの放射状の大きな熱膨
張が低温の型板に包囲された偏向リング５２の小さな熱
膨張によって制限されるときに力が付加されるため、密
封の信頼性をさらに高めることができる。また、偏向リ
ング５２は、鋼から成るコア部と、低熱伝導率材料（断
熱材）から成る表皮部（又は断熱材被覆層のみ）とを備
えてもよい。勿論、他の付加部品（オプション）を使用
してもよい。
【００２９】動作時には、密封リング５２とノズル肩部
４４との間で締まり嵌め（interference fit）が形成さ
れる。リング５２とノズル肩部４４との間の径方向の緊
密な密着は、例えば温度、圧力の変化等の動作条件の幅
広い範囲について、締まり嵌めを維持する。
４４との間で締まり嵌め（interference fit）が形成さ
れる。リング５２とノズル肩部４４との間の径方向の緊
密な密着は、例えば温度、圧力の変化等の動作条件の幅
広い範囲について、締まり嵌めを維持する。
【００３０】この最初の締まり嵌めは、まず常温状態で
形成され、密封すべき２つの導通路（channels）の間の
境界に向いた大きな傾斜した力成分を生じる。この最初
の密封力は、誤って常温状態から成形工程を開始した場
合にも、ホットランナマニホルドブロック３２とノズル
ハウジング３４とを密封する十分な強度を有する。
形成され、密封すべき２つの導通路（channels）の間の
境界に向いた大きな傾斜した力成分を生じる。この最初
の密封力は、誤って常温状態から成形工程を開始した場
合にも、ホットランナマニホルドブロック３２とノズル
ハウジング３４とを密封する十分な強度を有する。
【００３１】最初の締まり嵌めによって、効果的な密封
動作の確保に関し、全体のホットランナシステムへの予
荷重（pre-loading）を厳密に制御する必要はなくな
る。射出成形圧力が付加される間、温度勾配及び循環射
出圧力は、ノズルと密封リング５２との間で付加的な力
を発生する。公知の密封要素と異なり、本発明の偏向密
封リング５２は、温度及び射出圧力の増加と共に、密封
すべき通路に対し傾斜した密封力が増加して、成形型の
動作状態に応答する。
動作の確保に関し、全体のホットランナシステムへの予
荷重（pre-loading）を厳密に制御する必要はなくな
る。射出成形圧力が付加される間、温度勾配及び循環射
出圧力は、ノズルと密封リング５２との間で付加的な力
を発生する。公知の密封要素と異なり、本発明の偏向密
封リング５２は、温度及び射出圧力の増加と共に、密封
すべき通路に対し傾斜した密封力が増加して、成形型の
動作状態に応答する。
【００３２】このように、漏洩問題を生じることなく、
非常に幅広い温度及び圧力の動作領域を処理することが
できる。密封力が２つの導通路（channels）の間の通路
（passageway）に向かって傾斜する限り、密封リング５
２と円筒状（円柱状）の凹部との特定の幾何学的形状及
び公差を厳密に制御する必要はなくなる。加えて、本発
明は、動作条件の変化、特に温度勾配に応答する。
非常に幅広い温度及び圧力の動作領域を処理することが
できる。密封力が２つの導通路（channels）の間の通路
（passageway）に向かって傾斜する限り、密封リング５
２と円筒状（円柱状）の凹部との特定の幾何学的形状及
び公差を厳密に制御する必要はなくなる。加えて、本発
明は、動作条件の変化、特に温度勾配に応答する。
【００３３】実験によれば、適当な材料を選択しかつ締
まり嵌めが低温状態で達成されると、１平方メートル当
たり約２４,６１０,０００ｋｇ（３５,０００ｐｓｉ）
以下の射出圧力及び±５０℃の温度変化に対して効果的
な密封力が生じることが判明した。
まり嵌めが低温状態で達成されると、１平方メートル当
たり約２４,６１０,０００ｋｇ（３５,０００ｐｓｉ）
以下の射出圧力及び±５０℃の温度変化に対して効果的
な密封力が生じることが判明した。
【００３４】勿論、結果として放射状の密封力を生じ、
低温状態及び高温状態の両方で必要な密封力を発生する
パラメータの範囲内で、密封リングを他の幾何学的形状
に種々変更してもよい。密封力は二重効果があり、一つ
は、ノズルの肩部の上面をわずかに変形することであ
る。二つ目は、ホットランナマニホルドブロック３２と
ノズルハウジング３４との間で、密封すべき導通路４
２、５０の外側面にすぐ隣接して最大値に達する密封応
力分布を生じることである。
低温状態及び高温状態の両方で必要な密封力を発生する
パラメータの範囲内で、密封リングを他の幾何学的形状
に種々変更してもよい。密封力は二重効果があり、一つ
は、ノズルの肩部の上面をわずかに変形することであ
る。二つ目は、ホットランナマニホルドブロック３２と
ノズルハウジング３４との間で、密封すべき導通路４
２、５０の外側面にすぐ隣接して最大値に達する密封応
力分布を生じることである。
【００３５】また、例えば、領域（接触領域）の熱伝導
を改善するため、セラミックリング、チタンリングその
他の低熱伝導性材料等、密封要素５２に追加して１又は
２以上の要素を使用してもよい。
を改善するため、セラミックリング、チタンリングその
他の低熱伝導性材料等、密封要素５２に追加して１又は
２以上の要素を使用してもよい。
【００３６】型マニホルドとノズルとの間、より正確に
はノズルの入口部の周囲の接触領域において、型板の温
度が低いことに起因して発生する溶融物（溶融樹脂）の
温度降下を防ぐため、本発明では、図７〜図９に示すよ
うな被覆、スリーブ及び／又はリング等のこの領域に配
置される断熱手段を使用する。
はノズルの入口部の周囲の接触領域において、型板の温
度が低いことに起因して発生する溶融物（溶融樹脂）の
温度降下を防ぐため、本発明では、図７〜図９に示すよ
うな被覆、スリーブ及び／又はリング等のこの領域に配
置される断熱手段を使用する。
【００３７】図７に明示するように、ノズル導通路４２
の入口部４３に隣接する型板には、例えばあらゆる公知
の適当なセラミック、チタン、チタン合金、ヴェスペル
（Vespel、商標名）等の断熱材料から成る断熱リング５
３が配置される。従って、本発明による偏向密封リング
５２は断熱リング５３の頂部上に配座され、好適な実施
形態では、断熱リング５３は型板にノズルを正確に配置
する付加的機能を有する。この形態では、密封リング５
２及び断熱リング５３は機能的に協働しない。
の入口部４３に隣接する型板には、例えばあらゆる公知
の適当なセラミック、チタン、チタン合金、ヴェスペル
（Vespel、商標名）等の断熱材料から成る断熱リング５
３が配置される。従って、本発明による偏向密封リング
５２は断熱リング５３の頂部上に配座され、好適な実施
形態では、断熱リング５３は型板にノズルを正確に配置
する付加的機能を有する。この形態では、密封リング５
２及び断熱リング５３は機能的に協働しない。
【００３８】図８に示す別の実施形態では、例えばあら
ゆるセラミック、チタン、チタン合金、ヴェスペル（Ve
spel、商標名）等の前記同様にあらゆる公知の適当な材
料から成る断熱スリーブ５５は、偏向密封リング５２と
協働する。より正確には、断熱スリーブ５５は密封リン
グ５２の延長として、また、場合により、型板に密封リ
ング５２及びノズルの両方を配置するために使用され
る。
ゆるセラミック、チタン、チタン合金、ヴェスペル（Ve
spel、商標名）等の前記同様にあらゆる公知の適当な材
料から成る断熱スリーブ５５は、偏向密封リング５２と
協働する。より正確には、断熱スリーブ５５は密封リン
グ５２の延長として、また、場合により、型板に密封リ
ング５２及びノズルの両方を配置するために使用され
る。
【００３９】図９に示す別の実施形態では、断熱手段５
７、５９は、図示のように密封リング５２の外側又はノ
ズルハウジング３４に当接する被覆若しくは中実のスリ
ーブ（solid sleeve）又は分離した要素であり、やはり
前記のような適当な公知の材料により形成される。２つ
のスリーブ５７、５９及びこれらと均等に作用する被覆
領域は、製造及び処理する物に応じて、両方又はいずれ
か一つを使用することができる。断熱手段５７及び／又
は５９として断熱被覆を使用する場合、一つの付加的部
品（オプション）として、例えばアルミナ（酸化アルミ
ニウム）、ジルコニア（酸化ジルコニウム）、酸化チタ
ン又はチタン酸アルミニウム（aluminumtitanete）等の
セラミックから成る断熱薄膜を使用する。用途により、
ノズル導通路４２の内側部に、もっと正確には溶融物
（溶融樹脂）の通路面（channelsurface）にこれらの被
覆を形成してもよい。場合によっては、耐摩耗材料から
成る薄膜保護層を断熱層（断熱被覆）上に形成してもよ
い。この点で、ＴｉＮ（窒化チタン）薄膜又はダイヤモ
ンド等の炭素薄膜を使用すると良好な結果が得られる。
別の実施形態では、断熱被覆は、例えばセラミックを含
む被覆等の適当な公知の層を噴射することによって形成
できる。７.６２ｍｍ（０.３００インチ）以下の厚さで
噴射されたジルコニア（酸化ジルコニウム）によって良
好な結果が達成できる。断熱層を用いる場合、続けて耐
摩耗保護層を形成してもよい。この点で、ニッケル（Ｎ
ｉ）、チタン（Ｔｉ）、炭化タングステン（ＷＣ）又は
モリブデン（Ｍｏ）等の公知材料が良好に使用できる。
７、５９は、図示のように密封リング５２の外側又はノ
ズルハウジング３４に当接する被覆若しくは中実のスリ
ーブ（solid sleeve）又は分離した要素であり、やはり
前記のような適当な公知の材料により形成される。２つ
のスリーブ５７、５９及びこれらと均等に作用する被覆
領域は、製造及び処理する物に応じて、両方又はいずれ
か一つを使用することができる。断熱手段５７及び／又
は５９として断熱被覆を使用する場合、一つの付加的部
品（オプション）として、例えばアルミナ（酸化アルミ
ニウム）、ジルコニア（酸化ジルコニウム）、酸化チタ
ン又はチタン酸アルミニウム（aluminumtitanete）等の
セラミックから成る断熱薄膜を使用する。用途により、
ノズル導通路４２の内側部に、もっと正確には溶融物
（溶融樹脂）の通路面（channelsurface）にこれらの被
覆を形成してもよい。場合によっては、耐摩耗材料から
成る薄膜保護層を断熱層（断熱被覆）上に形成してもよ
い。この点で、ＴｉＮ（窒化チタン）薄膜又はダイヤモ
ンド等の炭素薄膜を使用すると良好な結果が得られる。
別の実施形態では、断熱被覆は、例えばセラミックを含
む被覆等の適当な公知の層を噴射することによって形成
できる。７.６２ｍｍ（０.３００インチ）以下の厚さで
噴射されたジルコニア（酸化ジルコニウム）によって良
好な結果が達成できる。断熱層を用いる場合、続けて耐
摩耗保護層を形成してもよい。この点で、ニッケル（Ｎ
ｉ）、チタン（Ｔｉ）、炭化タングステン（ＷＣ）又は
モリブデン（Ｍｏ）等の公知材料が良好に使用できる。
【００４０】本発明は、以上のように図示しかつ説明し
た例には限定されず、これらの例は単に本発明を実施す
るための最良の形態を説明するに過ぎず、本発明は、形
状、サイズ、部品配列及び動作の詳細の変更の余地があ
ることを理解されたい。むしろ、本発明は、発明の精神
及び特許請求の範囲により定められる範囲内でなされる
全ての変更を包含することを意図する。
た例には限定されず、これらの例は単に本発明を実施す
るための最良の形態を説明するに過ぎず、本発明は、形
状、サイズ、部品配列及び動作の詳細の変更の余地があ
ることを理解されたい。むしろ、本発明は、発明の精神
及び特許請求の範囲により定められる範囲内でなされる
全ての変更を包含することを意図する。
【００４１】
【発明の効果】前記のように、本発明では、ホットラン
ナマニホルド及び射出ノズルに損傷又は永久歪みを発生
せずに溶融樹脂を案内する２つの導通路の接触領域にお
いて溶融樹脂の漏洩を確実に防止できるので、射出成形
を円滑に行うことができる。
ナマニホルド及び射出ノズルに損傷又は永久歪みを発生
せずに溶融樹脂を案内する２つの導通路の接触領域にお
いて溶融樹脂の漏洩を確実に防止できるので、射出成形
を円滑に行うことができる。
【図１】 本発明の射出成形装置を示す断面図
【図２】 図１の射出成形装置の密封要素の断面図
【図３】 図１の射出成形装置の密封要素の変更実施形
態を示す断面図
態を示す断面図
【図４】 図１の密封要素−導通路接触領域及びその密
封応力分布を示す断面図
封応力分布を示す断面図
【図５】 変更実施形態についての密封要素−導通路接
触領域及びその密封応力分布を示す断面図
触領域及びその密封応力分布を示す断面図
【図６】 他の変更実施形態についての密封要素−導通
路接触領域及びその密封応力分布を示す断面図
路接触領域及びその密封応力分布を示す断面図
【図７】 本発明による偏向密封リングと独立した断熱
ノズル配置リングの使用を示す断面図
ノズル配置リングの使用を示す断面図
【図８】 断熱スリーブと組み合わせた本発明による偏
向密封リングの使用状態を示す断面図
向密封リングの使用状態を示す断面図
【図９】 本発明による偏向密封リングと独立して断熱
スリーブを使用する状態を示す断面図
スリーブを使用する状態を示す断面図
【図１０】 従来の密封装置の断面図及びその密封応力
分布曲線を示すグラフ
分布曲線を示すグラフ
【符号の説明】 ３０・・射出ノズル、 ３２・・ホットランナマニホル
ド、 ４４・・肩部、４２、５０・・導通路、 ５２・
・密封装置（偏向密封要素）、 ５４・・接触領域、
ド、 ４４・・肩部、４２、５０・・導通路、 ５２・
・密封装置（偏向密封要素）、 ５４・・接触領域、
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ピョートル ラジンスキ カナダ エル５ジー ２ジェイ３ オンタ リオ州ミシソーガ、ケノリー アベニュー 300 (72)発明者 ラジャン プーリ カナダ エル５アール ３ジー９ オンタ リオ州ミシソーガ、バゲッタ クレセント 512 (72)発明者 アンドリュー スカースガード カナダ エム３ケイ １ダブリュー２ オ ンタリオ州ノースヨーク、ホークスデイル ロード 14
Claims (17)
- 【請求項１】 射出成形機に隣接して設けられると共に
接触領域で互いに連絡しかつ加圧された溶融樹脂を案内
する２つの導通路と、接触領域で傾斜する密封力を発生
して２つの導通路の間の接触領域を密封する密封装置と
を備え、２つの導通路の間の通路を密封することを特徴
とする密封装置。 - 【請求項２】 ２つの導通路の一方は、射出ノズル用の
導通路である請求項１に記載の密封装置。 - 【請求項３】 ２つの導通路の他方は、射出ノズル用の
導通路に隣接するホットランナマニホルド用の導通路で
ある請求項２に記載の密封装置。 - 【請求項４】 射出ノズルは、ホットランナマニホルド
に隣接する肩部を有する請求項３に記載の密封装置。 - 【請求項５】 密封装置は接触領域で傾斜する密封力を
発生する偏向密封要素である請求項４に記載の密封装
置。 - 【請求項６】 肩部は、射出ノズル用の導通路に隣接す
る内側部を有し、偏向密封要素は、導通路に隣接する肩
部の内側部に対し大きな密封応力を発生する請求項５に
記載の密封装置。 - 【請求項７】 偏向密封要素は、第１の厚さを有する第
１の外側部と、第１の厚さより小さい第２の厚さを有す
る第２の内側部とを備える請求項５に記載の密封装置。 - 【請求項８】 第２の内側部は湾曲内側部を有する請求
項７に記載の密封装置。 - 【請求項９】 偏向密封要素は、射出ノズル用の導通路
の径方向面に対し５°〜３０°の角度を少なくとも一部
に形成する請求項５に記載の密封装置。 - 【請求項１０】 偏向密封要素はディスク状部材である
請求項９に記載の密封装置。 - 【請求項１１】 密封応力分布は、射出ノズルの導通路
に隣接してピークを有する請求項１に記載の密封装置。 - 【請求項１２】 射出成形機に設けられた２つの導通路
の間の通路を密封する方法において、 加圧された溶融樹脂を案内すると共に接触領域を形成す
る２つの導通路を設ける工程と、 接触領域で傾斜する密封力を発生して２つの導通路の間
の接触領域を密封する工程と、 を含むことを特徴とする密封方法。 - 【請求項１３】 ２つの導通路の一方は、射出ノズル用
の導通路であり、２つの導通路の他方は、射出ノズル用
の導通路に隣接するホットランナマニホルド用の導通路
であり、２つの導通路の間の接触領域で傾斜する密封力
を発生する密封装置により２つの導通路の間の接触領域
を密封する工程を含む請求項１２に記載の密封方法。 - 【請求項１４】 射出ノズル用の導通路に隣接して射出
ノズルに肩部を設ける工程と、接触領域で傾斜する密封
力を加える偏向密封要素を肩部に隣接して配置する工程
とを含む請求項１３に記載の密封方法。 - 【請求項１５】 肩部は射出ノズル用の導通路に隣接す
る内側部と、射出ノズル用の導通路から離間する外側部
とを含み、偏向密封要素により射出ノズル用の導通路に
隣接する肩部の内側部に大きな密封応力を発生する工程
を含む請求項１４に記載の密封方法。 - 【請求項１６】 密封装置は射出ノズル用の導通路に対
し５°〜３０°の角度を少なくとも一部に形成する偏向
密封要素である請求項１３に記載の密封方法。 - 【請求項１７】 射出ノズルの導通路に隣接してピーク
を有する密封応力分布を形成して隣接する２つの導通路
の間の接触領域を密封する工程を含む請求項１２に記載
の密封方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US08/747,281 US5896640A (en) | 1996-11-12 | 1996-11-12 | Deflection sealing apparatus and method |
| US08/747281 | 1996-11-12 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10156892A true JPH10156892A (ja) | 1998-06-16 |
| JP3048984B2 JP3048984B2 (ja) | 2000-06-05 |
Family
ID=25004427
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9310416A Expired - Lifetime JP3048984B2 (ja) | 1996-11-12 | 1997-11-12 | 密封装置及び密封方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5896640A (ja) |
| EP (1) | EP0841141B1 (ja) |
| JP (1) | JP3048984B2 (ja) |
| DE (1) | DE69700357T2 (ja) |
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|---|---|---|---|---|
| WO2005023509A1 (en) * | 2003-09-09 | 2005-03-17 | Mold-Masters Limited | Hot runner nozzle and manifold seal |
| JP2008213154A (ja) * | 2007-02-28 | 2008-09-18 | Ozeki Hotrunner Plan:Kk | 射出成形装置 |
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-
1996
- 1996-11-12 US US08/747,281 patent/US5896640A/en not_active Expired - Fee Related
-
1997
- 1997-11-12 EP EP97810860A patent/EP0841141B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1997-11-12 JP JP9310416A patent/JP3048984B2/ja not_active Expired - Lifetime
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