JPH10153794A - Liquid crystal display panel - Google Patents
Liquid crystal display panelInfo
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- JPH10153794A JPH10153794A JP8312258A JP31225896A JPH10153794A JP H10153794 A JPH10153794 A JP H10153794A JP 8312258 A JP8312258 A JP 8312258A JP 31225896 A JP31225896 A JP 31225896A JP H10153794 A JPH10153794 A JP H10153794A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は着色パターンが形成
されたフィルタ基板と、アクティブ素子およびそのアク
ティブ素子のそれぞれに接続する画素電極が形成された
アクティブマトリクス基板との間に、液晶が充填された
アクティブマトリクス型液晶表示パネルに関し、画素電
極の形成領域を拡張せしめ高開口化させることで輝度を
改善させる。The present invention relates to a liquid crystal filled between a filter substrate on which a colored pattern is formed and an active matrix substrate on which active elements and pixel electrodes connected to each of the active elements are formed. With regard to an active matrix type liquid crystal display panel, luminance is improved by expanding a region where a pixel electrode is formed and increasing the aperture.
【０００２】[0002]
【従来の技術】液晶表示パネルには、各種ＯＡ装置等に
使用される透過型のものと、投写装置等に使用される反
射型に大別されるが、カラー表示の液晶表示パネルとし
ては、マルチカラー方式とフルカラー方式があり、両者
ともに、通常はカラーフィルタを用いている。2. Description of the Related Art Liquid crystal display panels are roughly classified into transmissive type used for various OA devices and the like and reflective type used for a projection device and the like. There are a multi-color system and a full-color system, both of which usually use color filters.
【０００３】２分割のフィルタ基板としては、例えばマ
ゼンタとグリーンの２色の着色パターンが形成されたも
のがあり、３分割のフィルタ基板としては、例えば赤，
緑，青の３色の着色パターンを形成したものが知られて
いる。As a two-divided filter substrate, for example, there is a substrate on which two colored patterns of magenta and green are formed. As a three-divided filter substrate, for example, red,
It is known to form three colored patterns of green and blue.
【０００４】また、アクティブマトリクス基板に形成し
たアクティブ素子には、能動素子（ＴＦＴ：薄膜トラン
ジスタ）をマトリクス状に形成したものと、非線形素子
（ＭＩＭ：メタルインシュレータメタル）をマトリクス
状に形成したものが、一般に知られており、ＴＦＴマト
リクスが形成された基板は、一般にＴＦＴ基板と呼ばれ
ている。The active elements formed on the active matrix substrate include an active element (TFT: thin film transistor) formed in a matrix and a non-linear element (MIM: metal insulator metal) formed in a matrix. A substrate which is generally known and on which a TFT matrix is formed is generally called a TFT substrate.
【０００５】図１０は液晶表示パネルの回路の一部を示
す概略図、図１１は従来の高開口化液晶表示パネルの概
略構成図である。図１０において、液晶表示パネルは複
数のゲートバスライン１と複数のデータバスライン２が
交差し、その交差部近傍に配設されたＴＦＴ３は、ゲー
ト電極４がゲートバスライン１に、ドレイン電極５がデ
ータバスライン２に、ソース電極６に接続する画素電極
９は液晶７を介してコモン電極８に接続されている。FIG. 10 is a schematic diagram showing a part of a circuit of a liquid crystal display panel, and FIG. 11 is a schematic configuration diagram of a conventional high-aperture liquid crystal display panel. In FIG. 10, in the liquid crystal display panel, a plurality of gate bus lines 1 and a plurality of data bus lines 2 intersect, and a TFT 3 arranged near the intersection has a gate electrode 4 connected to the gate bus line 1 and a drain electrode 5 connected to the gate bus line 1. Are connected to the data bus line 2, and the pixel electrode 9 connected to the source electrode 6 is connected to the common electrode 8 via the liquid crystal 7.
【０００６】図１１において、マルチカラー方式の反射
型液晶表示パネル１１は、ＴＦＴ基板１２とフィルタ基
板１３の間に液晶７が充填されている。一般にガラスに
てなるＴＦＴ基板１２の上面には、ゲートバスライン
（１），ゲート絶縁膜１４，ＴＦＴ３，データバスライ
ン２，ＴＦＴ３等を覆う絶縁層１５，絶縁層１５上の画
素電極９が形成され、画素電極９は絶縁層１５に穿設し
たコンタクトホール１６を介してＴＦＴ３のソース電極
６に接続する。In FIG. 11, a multi-color reflective liquid crystal display panel 11 has a liquid crystal 7 filled between a TFT substrate 12 and a filter substrate 13. On the upper surface of the TFT substrate 12, which is generally made of glass, an insulating layer 15 covering the gate bus line (1), the gate insulating film 14, the TFT 3, the data bus line 2, the TFT 3, etc., and the pixel electrode 9 on the insulating layer 15 are formed. The pixel electrode 9 is connected to the source electrode 6 of the TFT 3 via a contact hole 16 formed in the insulating layer 15.
【０００７】一般にガラスにてなるフィルタ基板１３の
下面には、画素電極９に対向するマゼンタパターン１７
とグリーンパターン１８およびブラックマスク１９を形
成したのち、ＩＴＯにてなるコモン電極８が形成されて
いる。A magenta pattern 17 facing the pixel electrode 9 is provided on the lower surface of a filter substrate 13 generally made of glass.
After forming the green pattern 18 and the black mask 19, the common electrode 8 made of ITO is formed.
【０００８】かかる反射型液晶表示パネル１１は、絶縁
層１５を形成することで、ゲートバスライン１とデータ
バスライン２およびＴＦＴ３の上に画素電極９が形成可
能となり、そのことで高開口化を実現している。In the reflection type liquid crystal display panel 11, the pixel electrode 9 can be formed on the gate bus line 1, the data bus line 2, and the TFT 3 by forming the insulating layer 15, thereby increasing the aperture. Has been realized.
【０００９】図１２は液晶表示パネルにおける着色パタ
ーンの配列例を示す平面図であり、フルカラー表示の液
晶表示パネルにおける着色パターンの配列として、
（ａ）に示すストライプ配列、（ｂ）に示すトライアン
グル配列、（ｃ）に示すモザイク配列が知られている。
ストライプ配列は、赤色パターンＲと緑色パターンＧと
青色パターンＢが、それぞれ色別に同一列に整列する構
成であり、行別に１／２ピッチだけずれるトライアング
ル配列は、赤色パターンＲと緑色パターンＧと青色パタ
ーンＢが正三角形の頂点に配設された構成であり、モザ
イク配列は、赤色パターンＲと緑色パターンＧと青色パ
ターンＢが前後・左右方向に揃って所定順序で整列す
る。FIG. 12 is a plan view showing an example of the arrangement of colored patterns in a liquid crystal display panel.
A stripe arrangement shown in (a), a triangle arrangement shown in (b), and a mosaic arrangement shown in (c) are known.
The stripe arrangement is such that a red pattern R, a green pattern G, and a blue pattern B are arranged in the same column for each color. The triangle arrangement, which is shifted by １ ／ pitch for each row, has a red pattern R, a green pattern G, and a blue pattern. The pattern B is arranged at the vertices of an equilateral triangle. In the mosaic arrangement, the red pattern R, the green pattern G, and the blue pattern B are aligned in the front-rear, left-right direction, and in a predetermined order.
【００１０】[0010]
【発明が解決しようとする課題】以上説明したように、
ＴＦＴ基板１２に絶縁層１５を形成し、その絶縁層１５
上に画素電極９を形成することで、ゲートバスライン１
およびデータバスライン２の上に画素電極９が形成可能
となり、高開口化された反射型液晶表示パネル１１が知
られている。As described above,
An insulating layer 15 is formed on the TFT substrate 12, and the insulating layer 15
By forming the pixel electrode 9 on the gate bus line 1
In addition, a reflection type liquid crystal display panel 11 having a high aperture in which a pixel electrode 9 can be formed on the data bus line 2 is known.
【００１１】しかしながら、液晶表示パネル１１は多数
の画素電極９が同一面、即ち平坦な絶縁層１５の表面に
形成された構成であり、各画素電極９の周囲に電気的絶
縁領域を必要とし、更なる高開口化が前記電気的絶縁領
域によって妨げられていた。However, the liquid crystal display panel 11 has a structure in which a large number of pixel electrodes 9 are formed on the same surface, that is, on the surface of a flat insulating layer 15, and requires an electrically insulating region around each pixel electrode 9. Further increase in aperture is hindered by the electrically insulating region.
【００１２】特に、携帯型装置等に使用する反射型液晶
表示パネルにおいて、その開口率は表示品質を高める上
で極めて重要であり、一層の高開口化が液晶表示パネル
に要望されていた。In particular, in a reflection type liquid crystal display panel used for a portable device or the like, the aperture ratio is extremely important for improving the display quality, and there has been a demand for a liquid crystal display panel having a higher aperture ratio.
【００１３】[0013]
【課題を解決するための手段】本発明の目的は画素電極
の形成領域を拡張可能とし、高開口化させることで輝度
を改善させることである。SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to improve the brightness by making the formation area of the pixel electrode expandable and increasing the aperture.
【００１４】本発明の第１の液晶表示パネルは、複数本
のゲートバスライン、該複数本のゲートバスラインに交
差する複数本のデータバスライン、該ゲートバスライン
とデータバスラインに接続するアクティブ素子、該アク
ティブ素子のそれぞれの素子に接続する画素電極が形成
されたアクティブマトリクス基板と、着色パターンフィ
ルタと該画素電極に対向するコモン電極が形成されたフ
ィルタ基板との間に、液晶が充填されたアクティブマト
リクス型液晶表示パネルであって、該アクティブマトリ
クス基板に形成された複数の画素電極の少なくとも一辺
が、隣接画素電極に対し画素電極厚さ方向に電気的に隔
離されてなることである。A first liquid crystal display panel according to the present invention comprises a plurality of gate bus lines, a plurality of data bus lines intersecting the plurality of gate bus lines, and an active device connected to the gate bus lines and the data bus lines. Liquid crystal is filled between an element, an active matrix substrate on which a pixel electrode connected to each element of the active element is formed, and a filter substrate on which a colored pattern filter and a common electrode opposed to the pixel electrode are formed. In the active matrix type liquid crystal display panel, at least one side of the plurality of pixel electrodes formed on the active matrix substrate is electrically isolated from the adjacent pixel electrodes in the pixel electrode thickness direction.
【００１５】本発明の第２の液晶表示パネルは、前記ア
クティブマトリクス基板に、少なくとも一方の隣接画素
電極形成領域との境界に沿って段差を有する絶縁層が形
成され、該段差によって前記画素電極厚さ方向の電気的
隔離がなされていることである。In a second liquid crystal display panel of the present invention, an insulating layer having a step is formed on the active matrix substrate along a boundary with at least one adjacent pixel electrode forming region, and the step makes the pixel electrode thicker. Electrical isolation in the vertical direction.
【００１６】本発明の第３の液晶表示パネルは、前記ア
クティブマトリクス基板に、二方の隣接画素電極形成領
域の境界に沿って段差を有する絶縁層が形成され、該段
差によって前記画素電極厚さ方向の電気的隔離されてな
ることである。In a third liquid crystal display panel according to the present invention, an insulating layer having a step is formed on the active matrix substrate along a boundary between two adjacent pixel electrode forming regions, and the thickness of the pixel electrode is reduced by the step. The direction is to be electrically isolated.
【００１７】本発明の第４の液晶表示パネルは、前記ア
クティブマトリクス基板に、四方の隣接画素電極形成領
域の境界に沿って段差を有する絶縁層が形成され、該段
差によって前記画素電極厚さ方向の電気的隔離がなされ
ていることである。In a fourth liquid crystal display panel according to the present invention, an insulating layer having a step is formed on the active matrix substrate along a boundary between four adjacent pixel electrode forming regions, and the step forms the pixel electrode in a thickness direction. Electrical isolation of the
【００１８】本発明の第５の液晶表示パネルは、前記ア
クティブマトリクス基板上には、一部の前記画素電極
と、該一部の画素電極の左右方向または前後方向に隣接
する画素電極形成領域上の絶縁層とが形成され、他の前
記画素電極が該絶縁層上に形成され、該絶縁層の段差に
よって該一部の画素電極と該他の画素電極との隣接部の
前記電気的隔離がなされていることである。In a fifth liquid crystal display panel according to the present invention, a portion of the pixel electrode and a portion of the pixel electrode formation region adjacent to the portion of the pixel electrode in the left-right direction or the front-rear direction are provided on the active matrix substrate. And the other pixel electrode is formed on the insulating layer, and the step of the insulating layer reduces the electrical isolation of the adjacent portion between the part of the pixel electrode and the other pixel electrode. That is what is being done.
【００１９】本発明の第６の液晶表示パネルは、前記ア
クティブマトリクス基板上には、一部の前記画素電極
と、該一部の画素電極の左右方向および前後方向に隣接
する画素電極形成領域上の絶縁層とが形成され、他の前
記画素電極が該絶縁層上に形成され、該絶縁層の段差に
よって該一部の画素電極と該他の画素電極との隣接部の
前記電気的隔離がなされていることである。In a sixth liquid crystal display panel according to the present invention, a portion of the pixel electrode and a portion of the pixel electrode formation region adjacent to the portion of the pixel electrode in the left-right direction and the front-rear direction are provided on the active matrix substrate. And the other pixel electrode is formed on the insulating layer, and the step of the insulating layer reduces the electrical isolation of the adjacent portion between the part of the pixel electrode and the other pixel electrode. That is what is being done.
【００２０】本発明の第７の液晶表示パネルは、前記ア
クティブマトリクス基板には各画素電極形成領域の一
部、かつ、該画素電極形成領域の輪郭の少なくとも１／
２に接する絶縁層が形成され、前記画素電極が該絶縁層
と該アクティブマトリクス基板上に連通し形成され、該
絶縁層の段差によって前記画素電極厚さ方向の電気的隔
離がなされていること、である。According to a seventh liquid crystal display panel of the present invention, the active matrix substrate has a part of each pixel electrode forming region and at least 1/1 / the contour of the pixel electrode forming region.
An insulating layer in contact with 2 is formed, the pixel electrode is formed so as to communicate with the insulating layer and the active matrix substrate, and electrical isolation in the pixel electrode thickness direction is performed by a step of the insulating layer; It is.
【００２１】本発明の第８の液晶表示パネルは、前記絶
縁層の段差によって隔離された前記画素電極の境界に対
応し、前記フィルタ基板の着色パターンが密接し形成さ
れてなることである。An eighth liquid crystal display panel according to the present invention is characterized in that a color pattern of the filter substrate is formed in close contact with a boundary of the pixel electrode separated by a step of the insulating layer.
【００２２】本発明の第９の液晶表示パネルは、前記画
素電極が光学的反射性の導電部材で形成された反射型表
示であることである。本発明の第１０の液晶表示パネル
は、前記ゲートバスラインとデータバスラインおよび画
素電極が、透光性導体で形成された透過型表示であるこ
とである。A ninth liquid crystal display panel according to the present invention is a reflection type display in which the pixel electrodes are formed of an optically reflective conductive member. A tenth liquid crystal display panel according to the present invention is a transmissive display in which the gate bus lines, the data bus lines, and the pixel electrodes are formed of a translucent conductor.
【００２３】本発明の第１１の液晶表示パネルは、前記
フィルタ基板にマルチカラー表示用着色パターンが形成
されてなることである。本発明の第１２の液晶表示パネ
ルは、前記フィルタ基板にフルカラー表示用着色パター
ンが形成されてなることである。An eleventh liquid crystal display panel according to the present invention is characterized in that a color pattern for multicolor display is formed on the filter substrate. A twelfth liquid crystal display panel according to the present invention is characterized in that a full-color display coloring pattern is formed on the filter substrate.
【００２４】本発明の第１３の液晶表示パネルは、前記
本発明の第１２の液晶表示パネルにおいて、前記フィル
タ基板に形成された着色パターンが赤・緑・青の３色で
あり、前記絶縁層の段差による前記液晶の厚さが、該フ
ィルタ基板の赤色パターン対応部より緑色パターン対応
部が薄く、該緑色パターン対応部より青色パターン対応
部が薄くなるように、該絶縁層が形成されてなることで
ある。According to a thirteenth liquid crystal display panel of the present invention, in the twelfth liquid crystal display panel of the present invention, the color pattern formed on the filter substrate is three colors of red, green, and blue, and the insulating layer The insulating layer is formed such that the thickness of the liquid crystal due to the step is thinner in the green pattern corresponding part than in the red pattern corresponding part and thinner in the blue pattern corresponding part than the green pattern corresponding part of the filter substrate. That is.
【００２５】前記本発明の第１の液晶表示パネルは、複
数の画素電極の少なくとも一辺が、隣接画素電極に対し
画素電極厚さ方向に電気的に隔離されることで、その電
気的隔離部に従来技術で必要とした平面的隔離スペース
が不要となり、画素電極形成領域が拡張可能となり、そ
のことで高開口化し、輝度が改善される。In the first liquid crystal display panel of the present invention, at least one side of the plurality of pixel electrodes is electrically isolated from the adjacent pixel electrode in the thickness direction of the pixel electrode, so that the electrical isolation portion is provided. The planar isolation space required in the prior art is not required, and the pixel electrode formation region can be expanded, thereby increasing the aperture and improving the luminance.
【００２６】前記本発明の第２〜第７の液晶表示パネル
は、本発明の第１の液晶表示パネルにおける画素電極厚
さ方向の電気的隔離に、絶縁層を利用した構成であり、
その作用効果は本発明の第１の液晶表示パネルと同じで
ある。The second to seventh liquid crystal display panels of the present invention have a structure in which an insulating layer is used for electrical isolation in the thickness direction of the pixel electrode in the first liquid crystal display panel of the present invention.
The functions and effects are the same as those of the first liquid crystal display panel of the present invention.
【００２７】前記本発明の第８〜第１３の液晶表示パネ
ルは、本発明の第１〜第７の液晶表示パネルを透過型ま
たはマルチカラー表示用またはフルカラー表示用に適応
せしめた構成である。The eighth to thirteenth liquid crystal display panels of the present invention have a structure in which the first to seventh liquid crystal display panels of the present invention are adapted for transmission type, multicolor display or full color display.
【００２８】[0028]
【発明の実施の形態】図１は本発明の第１の実施例によ
る液晶表示パネルの説明図であり、（ａ）はデータバス
ライン２とゲート電極４を横断する模式断面図、（ｂ）
はゲートバスラインを横断する（ａ）のＡ−Ａ矢視断面
図である。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS FIG. 1 is an explanatory view of a liquid crystal display panel according to a first embodiment of the present invention, wherein (a) is a schematic sectional view crossing a data bus line 2 and a gate electrode 4, and (b).
FIG. 3 is a cross-sectional view taken along line AA of FIG.
【００２９】図１において、マルチカラー方式の反射型
液晶表示パネル３１は、ＴＦＴ基板３２とフィルタ基板
３３の間に液晶７が充填されている。ガラス等にてなる
ＴＦＴ基板３２の上面には、ゲートバスライン１，デー
タバスライン２，ＴＦＴ３，ゲート絶縁膜１４，ＴＦＴ
３等を覆う絶縁層３４，絶縁層３４上の画素電極３６と
３７が形成され、画素電極３６と３７は絶縁層３４に穿
設したコンタクトホール３５を介し、対向するＴＦＴ３
のソース電極６に接続されている。In FIG. 1, a liquid crystal 7 is filled between a TFT substrate 32 and a filter substrate 33 in a multi-color reflective liquid crystal display panel 31. On the upper surface of the TFT substrate 32 made of glass or the like, the gate bus line 1, the data bus line 2, the TFT 3, the gate insulating film 14, the TFT
3 and the pixel electrodes 36 and 37 on the insulating layer 34 are formed. The pixel electrodes 36 and 37 are opposed to each other through a contact hole 35 formed in the insulating layer 34.
Is connected to the source electrode 6 of
【００３０】アルミニウム等にて形成して光学的に反射
性を具え、厚さが１５００Å程度の画素電極３６と３７
は、図１（ａ）の図紙厚さ方向，図１（ｂ）の左右方向
に複数個が整列し形成されており、その整列方向に個々
の画素電極３６または３７は、適当幅の間隙４０例えば
数μｍ幅の間隙４０によって分割されている。The pixel electrodes 36 and 37 which are made of aluminum or the like and have optical reflectivity and have a thickness of about 1500 °
Are formed so as to be aligned in the thickness direction of the drawing in FIG. 1A and in the left-right direction of FIG. 1B, and each pixel electrode 36 or 37 is formed with a gap having an appropriate width in the alignment direction. For example, it is divided by a gap 40 having a width of several μm.
【００３１】ガラスまたは透光性フィルム等にてなるフ
ィルタ基板３３の下面には、ストライブ配列の透光性マ
ゼンタパターン３８と透光性グリーンパターン３９、即
ち画素電極３６に対向するマゼンタパターン３８と、画
素電極３７に対向するグリーンパターン３９および、Ｔ
ＦＴ基板３２の間隙４０に対向するブラックマスク４１
を形成したのち、ＩＴＯにてなるコモン電極８が被着さ
れている。On the lower surface of the filter substrate 33 made of glass or a light-transmitting film, a light-transmitting magenta pattern 38 and a light-transmitting green pattern 39 in a stripe arrangement, that is, a magenta pattern 38 facing the pixel electrode 36 are provided. , A green pattern 39 facing the pixel electrode 37 and T
Black mask 41 facing gap 40 of FT substrate 32
Is formed, a common electrode 8 made of ITO is adhered.
【００３２】アクリル系樹脂，ポリイミド系樹脂，エポ
キシ系樹脂またはＳｉＯ2 等の無機組成物にてなる絶縁
層３４は、均一厚さに形成したのち一部をエッチングす
るまたは、所定の２層構成とすることで薄層部３４ａと
厚層部３４ｂの段付きとし、その段差ｄは隣合う画素電
極３６と３７が電気的に接続されない値、例えば１μｍ
程度の段差ｄとし、薄層部３４ａがフィルタ基板３３の
マゼンタパターン３８に対向するとき、厚層部３４ｂは
フィルタ基板３３のグリーンパターン３９に対向する。The acrylic resin, insulating layer 34 made by a polyimide resin, an epoxy resin or SiO 2 or the like of the inorganic composition is partially etched after forming a uniform thickness or a predetermined two-layer structure By doing so, the thin layer portion 34a and the thick layer portion 34b are stepped, and the step d is a value at which the adjacent pixel electrodes 36 and 37 are not electrically connected, for example, 1 μm.
When the thin layer portion 34a faces the magenta pattern 38 of the filter substrate 33, the thick layer portion 34b faces the green pattern 39 of the filter substrate 33.
【００３３】かかる液晶表示パネル３１において、隣合
う画素電極３６と３７は上から見たとき隙間なしであ
り、そのことによって画素電極３６と３７は、四方に隙
間を必要とした従来の画素電極９より拡張形成が可能と
なり、高開口化されるようになる。In such a liquid crystal display panel 31, adjacent pixel electrodes 36 and 37 have no gap when viewed from above, so that the pixel electrodes 36 and 37 are separated from the conventional pixel electrode 9 which requires a gap in all directions. It is possible to further expand and form a high aperture.
【００３４】なお、マルチカラー方式の反射型液晶表示
パネル３１では、ゲートバスライン１およびデータバス
ライン２に、アルミニウム等の非透光性金属を使用す
る。そこで、液晶表示パネル３１の構成を透過型液晶表
示パネルに応用するには、ゲートバスライン１およびデ
ータバスライン２に透光性導体材料、例えばＩＴＯを使
用し、ＴＦＴ基板にＴＦＴ基板３２と同様な絶縁層３４
および画素電極３６，３７を形成する。In the multi-color reflective liquid crystal display panel 31, a non-translucent metal such as aluminum is used for the gate bus line 1 and the data bus line 2. Therefore, in order to apply the configuration of the liquid crystal display panel 31 to a transmission type liquid crystal display panel, a light-transmitting conductive material, for example, ITO is used for the gate bus line 1 and the data bus line 2, and the TFT substrate is the same as the TFT substrate 32. Insulating layer 34
And pixel electrodes 36 and 37 are formed.
【００３５】その結果、反射型液晶表示パネル３１と同
様に高開口化された、マルチカラーの透過型液晶表示パ
ネルが得られる。図２は本発明の第２の実施例による液
晶表示パネルの説明図であり、マルチカラー方式の反射
型液晶表示パネル４５は、ＴＦＴ基板３２とフィルタ基
板４６の間に液晶７が充填されている。As a result, a multi-color transmissive liquid crystal display panel having a high aperture like the reflective liquid crystal display panel 31 is obtained. FIG. 2 is an explanatory view of a liquid crystal display panel according to a second embodiment of the present invention. In a multi-color reflective liquid crystal display panel 45, a liquid crystal 7 is filled between a TFT substrate 32 and a filter substrate 46. .
【００３６】液晶表示パネル３１と同一ＴＦＴ基板３２
を使用した液晶表示パネル４５において、フィルタ基板
４６は、ＴＦＴ基板３２の絶縁層３４の段差ｄに対応し
液晶７の厚さを均一化させるまたは、マゼンタパターン
３８とグリーンパターン３９に対応し液晶７の厚さを適
性化させる構成である。The same TFT substrate 32 as the liquid crystal display panel 31
In the liquid crystal display panel 45 using the liquid crystal display panel 45, the filter substrate 46 makes the thickness of the liquid crystal 7 uniform according to the step d of the insulating layer 34 of the TFT substrate 32, or the liquid crystal 7 This is a configuration for optimizing the thickness of.
【００３７】即ち、ガラスまたは透光性フィルム等にて
なるフィルタ基板４６の下面には、フィルタ基板３３と
同じくストライブ配列のマゼンタパターン３８とグリー
ンパターン３９、およびブラックマスク（図示せず）を
形成したのち、絶縁層３４の段差（１μｍ程度）ｄに相
当し均一厚さの透光性パッド４７を形成し、次いでＩＴ
Ｏにてなるコモン電極８が被着されている。That is, a magenta pattern 38, a green pattern 39, and a black mask (not shown) having a stripe arrangement like the filter substrate 33 are formed on the lower surface of the filter substrate 46 made of glass or a translucent film or the like. After that, a light-transmitting pad 47 having a uniform thickness corresponding to the step (about 1 μm) d of the insulating layer 34 is formed.
A common electrode 8 made of O is attached.
【００３８】ただし、パッド４７の形成に代えてマゼン
タパターン３８を厚くしたり、コモン電極８を選択的に
厚くしてもよい。かかる液晶表示パネル４５は、液晶表
示パネル３１と同じく画素電極３６および３７の形成領
域が拡張され輝度が改善されると共に、全表示領域に渡
って液晶７の厚さを均一化または適性化し、そのことに
よって色調に優れたものとなる。However, instead of forming the pad 47, the magenta pattern 38 may be made thicker, or the common electrode 8 may be made selectively thicker. In the liquid crystal display panel 45, as in the liquid crystal display panel 31, the area in which the pixel electrodes 36 and 37 are formed is expanded to improve the luminance, and the thickness of the liquid crystal 7 is made uniform or appropriate over the entire display area. This results in an excellent color tone.
【００３９】そして、パッド４７またはそれに代わる前
記構成は、ゲートバスライン１およびデータバスライン
２にＩＴＯを使用した前記マルチカラーの透過型液晶表
示パネル、即ち絶縁層３４と画素電極３６，３７を具え
た透過型液晶表示パネルにも適用可能である。The pad 47 or the above-mentioned alternative structure includes the multicolor transmissive liquid crystal display panel using ITO for the gate bus line 1 and the data bus line 2, that is, the insulating layer 34 and the pixel electrodes 36 and 37. It is also applicable to transmission type liquid crystal display panels.
【００４０】図３は本発明の第３の実施例による液晶表
示パネルの説明図であり、データバスライン２とゲート
電極４を横断する断面である図３において、マルチカラ
ー方式の反射型液晶表示パネル５１は、ＴＦＴ基板５２
とフィルタ基板３３の間に液晶７が充填されている。FIG. 3 is an explanatory view of a liquid crystal display panel according to a third embodiment of the present invention. In FIG. 3, which is a cross section traversing the data bus line 2 and the gate electrode 4, a multi-color reflective liquid crystal display is shown. The panel 51 includes a TFT substrate 52
The liquid crystal 7 is filled between the substrate and the filter substrate 33.
【００４１】ガラス等にてなるＴＦＴ基板５２の上面に
は、ゲートバスライン１，データバスライン２，ＴＦＴ
３，ゲート絶縁膜１４，ＴＦＴ３等を選択的に覆う絶縁
層５３，ゲート絶縁膜１４上の画素電極５４，絶縁層５
３上の画素電極５５が形成されている。On the upper surface of a TFT substrate 52 made of glass or the like, a gate bus line 1, a data bus line 2, a TFT
3, an insulating layer 53 for selectively covering the gate insulating film 14, the TFT 3, etc., a pixel electrode 54 on the gate insulating film 14, an insulating layer 5
3 is formed.
【００４２】アクリル系樹脂，ポリイミド系樹脂，エポ
キシ系樹脂またはＳｉＯ2 等の無機組成物にてなる絶縁
層５３は、例えばストライプ配列のグリーンパターン３
９と対向するように形成され、その厚さはＴＦＴ３によ
る凹凸を平坦化し画素電極５４と５５が電気的に隔離さ
れる値、例えば数μｍ程度である。The insulating layer 53 made of an acrylic resin, a polyimide resin, an epoxy resin, or an inorganic composition such as SiO 2 is formed of, for example, a green pattern 3 having a stripe arrangement.
9 is formed so as to oppose the unevenness due to the TFT 3 and electrically isolate the pixel electrodes 54 and 55, for example, about several μm.
【００４３】液晶表示パネル３１の画素電極３６に相当
する画素電極５４は、ＴＦＴ３のソース電極６と直接的
に接続し、液晶表示パネル３１の画素電極３７に相当す
る画素電極５５は、絶縁層５３に穿設したコンタクトホ
ール３５を介し、対向するＴＦＴ３のソース電極６に接
続されている。The pixel electrode 54 corresponding to the pixel electrode 36 of the liquid crystal display panel 31 is directly connected to the source electrode 6 of the TFT 3, and the pixel electrode 55 corresponding to the pixel electrode 37 of the liquid crystal display panel 31 is connected to the insulating layer 53. Is connected to the source electrode 6 of the opposing TFT 3 via a contact hole 35 formed in the TFT 3.
【００４４】アルミニウム等にて形成して光学的に反射
性を具え、厚さが１５００Å程度の画素電極５４と５５
は、画素電極３６および３７と同じく、図紙の厚さ方向
に複数個が整列されており、その整列方向に各画素電極
５４と５５は、画素電極３６および３７と同じく適当幅
の間隙により分割されている。The pixel electrodes 54 and 55 which are made of aluminum or the like and have optical reflectivity and have a thickness of about 1500 °
In the same manner as the pixel electrodes 36 and 37, a plurality of pixels are aligned in the thickness direction of the drawing paper. In the alignment direction, each of the pixel electrodes 54 and 55 is divided by a gap having an appropriate width similarly to the pixel electrodes 36 and 37. Have been.
【００４５】かかる液晶表示パネル５１は、前記液晶表
示パネル３１と同じく画素電極５４および５５が従来の
画素電極９より拡張可能となり、そのことによって高開
口化され輝度が改善される。In the liquid crystal display panel 51, similarly to the liquid crystal display panel 31, the pixel electrodes 54 and 55 can be expanded more than the conventional pixel electrode 9, thereby increasing the aperture and improving the luminance.
【００４６】なお、液晶表示パネル５１において、フィ
ルタ基板３３に代え図２に示すフィルタ基板４６を使用
すれば、液晶７の厚さを均一化させることが可能であ
り、さらにゲートバスライン１およびデータバスライン
２にＩＴＯを使用することで、透過型液晶表示パネルに
応用し液晶表示パネル５１と同等の効果が得られる。In the liquid crystal display panel 51, if the filter substrate 46 shown in FIG. 2 is used instead of the filter substrate 33, the thickness of the liquid crystal 7 can be made uniform, and the gate bus line 1 and the data By using ITO for the bus line 2, the same effect as that of the liquid crystal display panel 51 can be obtained by applying to the transmission type liquid crystal display panel.
【００４７】図４は本発明の第４の実施例による液晶表
示パネルの説明図であり、フルカラー方式の反射型液晶
表示パネル５６は、ＴＦＴ基板３２とフィルタ基板５７
の間に液晶７が充填されている。FIG. 4 is an explanatory view of a liquid crystal display panel according to a fourth embodiment of the present invention. The reflection type liquid crystal display panel 56 of the full color system comprises a TFT substrate 32 and a filter substrate 57.
The liquid crystal 7 is filled in between.
【００４８】データバスライン２とゲート電極４を横断
する断面であり、液晶表示パネル３１と同一ＴＦＴ基板
３２を使用した液晶表示パネル５６を示す図４におい
て、ガラスまたは透光性フィルム等にてなるフィルタ基
板５７の下面には、それぞれ透光性の赤色パターンＲと
緑色パターンＧと青色パターンＢを形成したのち、ＩＴ
Ｏにてなるコモン電極８が被着されている。FIG. 4 shows a liquid crystal display panel 56 using the same TFT substrate 32 as the liquid crystal display panel 31 in a cross section crossing the data bus line 2 and the gate electrode 4. After a translucent red pattern R, a green pattern G, and a blue pattern B are formed on the lower surface of the filter substrate 57, respectively,
A common electrode 8 made of O is attached.
【００４９】着色パターンＲ，Ｇ，Ｂがストライプ配列
のフィルタ基板５７では、図紙の厚さ方向にそれぞれ複
数の着色パターンＲ，Ｇ，Ｂが整列し、その間にはＴＦ
Ｔ基板３２と同様なブラックマスク４１（図１（ｂ）参
照）が形成されている。In the filter substrate 57 in which the colored patterns R, G, and B are arranged in a stripe pattern, a plurality of colored patterns R, G, and B are arranged in the thickness direction of the drawing paper.
A black mask 41 (see FIG. 1B) similar to the T substrate 32 is formed.
【００５０】かかる液晶表示パネル５６は、液晶表示パ
ネル３１と同じく画素電極３６および３７が従来の画素
電極９より拡張可能となり、そのことによって高開口化
され輝度が改善される。In the liquid crystal display panel 56, similarly to the liquid crystal display panel 31, the pixel electrodes 36 and 37 can be expanded more than the conventional pixel electrode 9, thereby increasing the aperture and improving the luminance.
【００５１】なお、液晶表示パネル５６において、フィ
ルタ基板５７に形成した３色の着色パターンＲ，Ｇ，Ｂ
は、その位置によって画素電極３６または３７と対向
し、液晶７の厚さが異なるようになる。そこで、フィル
タ基板５７に図２を用いて説明したパッド４７を選択的
に形成し、全体に渡りまたは同一着色パターンＲ，Ｇ，
Ｂについて、液晶７の厚さを均一化させることが可能で
ある。In the liquid crystal display panel 56, the three colored patterns R, G, and B formed on the filter substrate 57 are formed.
Faces the pixel electrode 36 or 37 depending on the position, and the thickness of the liquid crystal 7 varies. Therefore, the pads 47 described with reference to FIG. 2 are selectively formed on the filter substrate 57 so as to cover all or the same colored patterns R, G,
Regarding B, it is possible to make the thickness of the liquid crystal 7 uniform.
【００５２】さらに、ゲートバスライン１およびデータ
バスライン２にＩＴＯを使用することで、フルカラーの
透過型液晶表示パネルに応用し、液晶表示パネル５６と
同等の高開口化効果が得られる。Further, by using ITO for the gate bus line 1 and the data bus line 2, it can be applied to a full-color transmissive liquid crystal display panel, and the same high aperture effect as the liquid crystal display panel 56 can be obtained.
【００５３】図５は本発明の第５の実施例による液晶表
示パネルの説明図であり、フルカラー方式の反射型液晶
表示パネル６１は、ＴＦＴ基板６２とフィルタ基板５７
の間に液晶７が充填されている。FIG. 5 is an explanatory view of a liquid crystal display panel according to a fifth embodiment of the present invention. The reflection type liquid crystal display panel 61 of the full color system comprises a TFT substrate 62 and a filter substrate 57.
The liquid crystal 7 is filled in between.
【００５４】データバスライン２とゲート電極４を横断
する断面を示す図５において、ガラス等にてなるＴＦＴ
基板６２の上面には、ゲートバスライン（１），データ
バスライン２，ＴＦＴ３，ゲート絶縁膜１４，ＴＦＴ３
等を覆う絶縁層６３，絶縁層６３上の画素電極６４と６
５と６６が形成され、画素電極６４〜６６は絶縁層６３
に穿設したコンタクトホール３５を介し、対向するＴＦ
Ｔ３のソース電極６に接続されている。In FIG. 5 showing a cross section traversing the data bus line 2 and the gate electrode 4, in FIG.
On the upper surface of the substrate 62, the gate bus line (1), the data bus line 2, the TFT 3, the gate insulating film 14, the TFT 3
And the pixel electrodes 64 and 6 on the insulating layer 63.
5 and 66 are formed, and the pixel electrodes 64-66 are formed of an insulating layer 63.
Through the contact hole 35 formed in the TF
It is connected to the source electrode 6 of T3.
【００５５】アルミニウム等にて形成して光学的に反射
性を具え、厚さが１５００Å程度の画素電極６４〜６６
は、図紙の厚さ方向に複数個が整列されており、その整
列方向に個々の画素電極６４〜６６は、適当幅の間隙４
０（図１（ｂ）参照）によって分割されている。The pixel electrodes 64 to 66 which are made of aluminum or the like and have optical reflectivity and have a thickness of about 1500 °
Are arranged in the thickness direction of the drawing paper, and the individual pixel electrodes 64-66 are arranged in the alignment direction with the gap 4 having an appropriate width.
0 (see FIG. 1B).
【００５６】アクリル系樹脂，ポリイミド系樹脂，エポ
キシ系樹脂またはＳｉＯ2 等の無機組成物にてなる絶縁
層６３は、均一厚さに形成したのち一部をエッチングす
るまたは積層形成とすることで、薄層部６３ａと中層部
６３ｂと厚層部６３ｃが一体化されている。The insulating layer 63 made of an inorganic composition such as an acrylic resin, a polyimide resin, an epoxy resin, or SiO 2 is formed to have a uniform thickness and then partially etched or laminated. The thin portion 63a, the middle portion 63b, and the thick portion 63c are integrated.
【００５７】薄層部６３ａと中層部６３ｂと厚層部６３
ｃの段差は、隣合う画素電極６４〜６６が電気的に接続
されない段差、例えば１μｍ程度の段付き構成とし、薄
層部６３ａがフィルタ基板５７の着色パターンＲに対向
するとき、中層部６３ｂはフィルタ基板５７の着色パタ
ーンＧに対向し、厚層部６３ｃがフィルタ基板５７の着
色パターンＢに対向する。The thin portion 63a, the middle portion 63b, and the thick portion 63
The step c is a step in which the adjacent pixel electrodes 64 to 66 are not electrically connected, for example, a stepped structure of about 1 μm. When the thin layer portion 63a faces the coloring pattern R of the filter substrate 57, the middle layer portion 63b The thick layer portion 63c faces the coloring pattern B of the filter substrate 57, and faces the coloring pattern G of the filter substrate 57.
【００５８】かかる液晶表示パネル６１において、隣合
う画素電極６４〜６６は上から見たとき隙間なしであ
り、そのことによって画素電極６４〜６６は、四方に隙
間を必要とした従来の画素電極９より拡張形成が可能と
なり、高開口化されることで輝度が改善される。In the liquid crystal display panel 61, the adjacent pixel electrodes 64 to 66 have no gap when viewed from above, so that the pixel electrodes 64 to 66 have the conventional pixel electrode 9 which requires a gap in all directions. The extension can be formed more, and the brightness is improved by increasing the aperture.
【００５９】なお、液晶表示パネル６１は、ゲートバス
ライン１およびデータバスライン２にＩＴＯを使用する
ことで、フルカラーの透過型液晶表示パネルに応用可能
であり、液晶表示パネル６１と同等の高開口化効果が得
られる。The liquid crystal display panel 61 can be applied to a full-color transmissive liquid crystal display panel by using ITO for the gate bus line 1 and the data bus line 2, and has a high aperture equivalent to that of the liquid crystal display panel 61. Effect is obtained.
【００６０】なお、フルカラーの液晶表示パネルにおい
て液晶７の厚さは、着色パターンＲ，Ｇ，Ｂに対応し最
適化させることの望ましいことが知られている。そこ
で、本発明では着色パターンＲに対応する液晶７の厚さ
を約６μｍとしたとき、着色パターンＧに対応する液晶
７の厚さが約５μｍ、着色パターンＢに対応する液晶７
の厚さが約４μｍになるように、薄層部６３ａと中層部
６３ｂと厚層部６３ｃを設定することを推奨する。It is known that in a full-color liquid crystal display panel, it is desirable to optimize the thickness of the liquid crystal 7 in accordance with the coloring patterns R, G, and B. Therefore, in the present invention, when the thickness of the liquid crystal 7 corresponding to the color pattern R is about 6 μm, the thickness of the liquid crystal 7 corresponding to the color pattern G is about 5 μm, and the thickness of the liquid crystal 7 corresponding to the color pattern B is about 5 μm.
It is recommended that the thin layer portion 63a, the middle layer portion 63b, and the thick layer portion 63c be set so that the thickness of the thin layer becomes approximately 4 μm.
【００６１】かかる液晶表示パネル６１において、開口
率１００％を可能にする画素電極６４〜６６の製造例
は、厚さが異なる薄層部６３ａと中層部６３ｂと厚層部
６３ｃを個別に、フォトリソグラフィーとエッチングに
よりパターン形成し、コンタクトホール３５を形成した
のち、アルミニウムの全面蒸着で画素電極６４〜６６を
形成した。In such a liquid crystal display panel 61, a manufacturing example of the pixel electrodes 64 to 66 capable of achieving an aperture ratio of 100% is that the thin layer portion 63a, the middle layer portion 63b, and the thick layer portion 63c having different thicknesses are individually photo-formed. After pattern formation by lithography and etching to form a contact hole 35, pixel electrodes 64-66 were formed by vapor deposition of aluminum over the entire surface.
【００６２】かかる画素電極６４〜６６の形成に際し、
隣接間の短絡防止が必要になる。そこで、前記製造例で
は絶縁層６３の表面に耐エッチング性に優れた絶縁性薄
膜を被着し、例えば三洋化成株式会社製のＬＣ２０１
（商品名）で形成した絶縁層６３の表面に、酸素プラズ
マ処理を施して無機系の耐エッチング性薄膜を形成せし
め、さらに具体的にはアルミニウムを１００Å程度蒸着
し、しかるのち酸素プラズマ処理にてエッチングするこ
とで耐エッチング性薄膜を形成せしめ、該薄膜によるサ
イドエッチング現象を利用した。In forming the pixel electrodes 64 to 66,
It is necessary to prevent short circuit between adjacent devices. Therefore, in the above-mentioned manufacturing example, an insulating thin film having excellent etching resistance is applied to the surface of the insulating layer 63, and for example, LC201 manufactured by Sanyo Chemical Co., Ltd.
The surface of the insulating layer 63 formed by (trade name) is subjected to oxygen plasma treatment to form an inorganic etching-resistant thin film, and more specifically, aluminum is vapor-deposited by about 100 °, and thereafter, is subjected to oxygen plasma treatment. An etching-resistant thin film was formed by etching, and a side etching phenomenon caused by the thin film was used.
【００６３】図６は本発明の第６の実施例による液晶表
示パネルの説明図、図７は図６に示す画素電極の説明図
（その１）、図８は図６に示す画素電極の説明図（その
２）である。ただし、図７および８において、（ａ），
（ｃ），（ｅ），（ｇ）は平面図、（ｂ）は（ａ）のｌ
点鎖線の断面図、（ｄ）は（ｃ）のｌ点鎖線の断面図、
（ｆ）は（ｅ）のｌ点鎖線の断面図、（ｈ）は（ｇ）の
ｌ点鎖線の断面図である。FIG. 6 is an explanatory view of a liquid crystal display panel according to a sixth embodiment of the present invention, FIG. 7 is an explanatory view (part 1) of the pixel electrode shown in FIG. 6, and FIG. 8 is an explanatory view of the pixel electrode shown in FIG. It is a figure (the 2). However, in FIGS. 7 and 8, (a),
(C), (e) and (g) are plan views, and (b) is l of (a).
(D) is a cross-sectional view taken along a dashed-dotted line in (c),
(F) is a cross-sectional view taken along the dashed-dotted line in (e), and (h) is a cross-sectional view taken along the dashed-dotted line in (g).
【００６４】データバスライン２とゲート電極４を横断
する断面を示す図６において、フルカラー方式の反射型
液晶表示パネル７１は、ＴＦＴ基板７２とフィルタ基板
５７の間に液晶７が充填されている。In FIG. 6 showing a cross section crossing the data bus line 2 and the gate electrode 4, the liquid crystal 7 is filled between the TFT substrate 72 and the filter substrate 57 in the full-color reflective liquid crystal display panel 71.
【００６５】ガラス等にてなるＴＦＴ基板７２の上面に
は、ゲートバスライン（１），データバスライン２，Ｔ
ＦＴ３，ゲート絶縁膜１４，ＴＦＴ３等を覆って選択的
に形成された絶縁層７３，一部が絶縁層７３上に位置す
る画素電極７４が形成され、画素電極７４は絶縁層７３
に穿設したコンタクトホール３５を介し、対向するＴＦ
Ｔ３のソース電極６に接続されている。A gate bus line (1), a data bus line 2, and a
An insulating layer 73 selectively formed over the FT 3, the gate insulating film 14, the TFT 3, and the like, and a pixel electrode 74 partially located on the insulating layer 73 are formed.
Through the contact hole 35 formed in the TF
It is connected to the source electrode 6 of T3.
【００６６】アルミニウム等にて形成して光学的に反射
性を具え、厚さが１５００Å程度の画素電極７４は、図
７および８にも示す如く、それぞれの形成領域において
少なくとも連続する輪郭の１／２が絶縁層７３の上に位
置し、他部がゲート絶縁膜１４の上に形成される。As shown in FIGS. 7 and 8, a pixel electrode 74 which is made of aluminum or the like and has optical reflectivity and has a thickness of about 1500.degree. 2 is located on the insulating layer 73 and the other part is formed on the gate insulating film 14.
【００６７】即ち、図７（ａ）および（ｂ）おいて画素
電極７４-1は、形成領域の左半分のが絶縁層７３-1の上
に一部が形成され、他部の右半分がゲート絶縁膜１４の
上に形成される。[0067] That is, FIG. 7 (a) and (b) Oite pixel electrode 74 -1, the left half of the formation area part is formed on the insulating layer 73 -1, the right half of the other portion It is formed on the gate insulating film 14.
【００６８】かかる画素電極７４-1は、フィルタ基板の
着色パターンのストライプ配列およびモザイク配列に対
し、左右方向の密接形成が可能となり、該着色パターン
のトライアングル配列に対し、左右方向および前後方向
への密接形成が可能となる。[0068] Such a pixel electrode 74 -1, compared stripe arrangement and the mosaic arrangement of the colored pattern of the filter substrate, it is possible to closely formed in the left-right direction, with respect to the triangle array of colored pattern, in the lateral direction and the longitudinal direction Close formation is possible.
【００６９】ただし、上記トライアングル配列に対する
画素電極７４-1は、前後方向に半ピッチずれた次行の画
素電極７４-1と、絶縁層７３-1の上に形成したコーナ部
で接触する恐れがある。そのため、接触の可能性がある
該コーナ部に切欠を設ける必要がある。[0069] However, the pixel electrode 74 -1 for the triangle sequence, may be contacted before and after the pixel electrode 74 -1 of the next row shifted by a half pitch in the direction, the corner portion formed on the insulating layer 73 -1 is there. Therefore, it is necessary to provide a notch at the corner where there is a possibility of contact.
【００７０】図７（ｃ）および（ｄ）おいて画素電極７
４-2は、形成領域の右上コーナと左下コーナを結ぶ対角
線の左側に形成した直角三角形の絶縁層７３-2の上に一
部が形成され、他部がゲート絶縁膜１４の上に形成され
る。In FIGS. 7C and 7D, the pixel electrode 7
4 -2, part of which is formed on a right triangle which is formed on the left side of the diagonal lines connecting the upper right corner and lower left corner of the formation region of the insulating layer 73 -2, the other portion is formed on the gate insulating film 14 You.
【００７１】かかる画素電極７４-2は、フィルタ基板の
着色パターンのストライプ配列とモザイク配列に対し、
左右方向および前後方向への密接形成が可能となり、該
着色パターンのトライアングル配列に対し、左右方向の
密接形成が可能となる。[0071] Such a pixel electrode 74 -2 to stripe arrangement and the mosaic arrangement of the color pattern of the filter substrate,
It is possible to form a close contact in the left-right direction and the front-back direction, and it is possible to form a close contact in the left-right direction with respect to the triangle arrangement of the colored pattern.
【００７２】ただし、上記ストライプ配列とモザイク配
列に対する画素電極７４-2の密接形成は、左辺下および
右辺上のコーナ部が斜め右上，斜め左下の画素電極７４
-2と接触する恐れがある。そのため、接触の可能性があ
る該コーナ部に切欠を設ける必要がある。[0072] However, close formation of the pixel electrode 74 -2 relative to the stripe arrangement and the mosaic arrangement are corner portion upper right on the left side and under the right-hand side, lower left of the pixel electrode 74
There is a risk of contact with -2 . Therefore, it is necessary to provide a notch at the corner where there is a possibility of contact.
【００７３】図７（ｅ）および（ｆ）おいて画素電極７
４-3は、形成領域の周辺部に形成したロ字形状の絶縁層
７３-3の上に一部が形成され、他部が絶縁層７３-3に囲
まれた中央部のゲート絶縁膜１４の上に形成される。In FIGS. 7E and 7F, the pixel electrode 7
4 -3 is partially formed on the hollow square shape formed on the periphery of the forming region of the insulating layer 73 -3, the gate insulating central portion surrounded by the other part is an insulating layer 73 -3 film 14 Formed on
【００７４】かかる画素電極７４-2は、左右方向および
前後方向への密接形成が不可能になる。そこで、画素電
極７４-2は他の画素電極、例えば凹凸が画素電極７４-2
と逆の画素電極等を隣合わせ形成することで、着色パタ
ーンのストライプ配列およびモザイク配列に対し、左右
方向と前後方向の一方または双方に密接形成が可能とな
る。[0074] Such a pixel electrode 74 -2, becomes impossible closely formed in the lateral direction and the longitudinal direction. Therefore, the pixel electrode 74 -2 other pixel electrode, for example, irregularities pixel electrode 74 -2
By forming pixel electrodes and the like opposite to each other adjacent to each other, it is possible to closely form one or both of the stripe arrangement and the mosaic arrangement of the colored pattern in the left-right direction and the front-back direction.
【００７５】そして、斜め方向に位置する画素電極と接
触する恐れのあるコーナ部または輪郭の一部には、接触
防止用の切欠を設ける必要が生じる。図７（ｇ）および
（ｈ）おいて画素電極７４-4は、形成領域の左側のコ字
形周辺部に形成したコ字形絶縁層７３-4の上に一部が形
成され、他部がゲート絶縁膜１４の上に形成される。Then, it is necessary to provide a notch for preventing contact at a corner or a part of the contour which may come into contact with a pixel electrode located in an oblique direction. Shown in FIG. 7 (g) and (h) Oite pixel electrode 74 -4 part on the U-shaped insulating layer 73 -4 formed in a U-shape around the portion of the left formation region is formed, the other section is the gate It is formed on the insulating film 14.
【００７６】かかる画素電極７４-4は、フィルタ基板の
着色パターンのストライプ配列およびモザイク配列に対
し、左右方向の密接形成が可能となり、該着色パターン
のトライアングル配列に対し、左右方向および前後方向
への密接形成が可能となる。[0076] Such a pixel electrode 74 -4 to stripe arrangement and the mosaic arrangement of the colored pattern of the filter substrate, it is possible to closely formed in the left-right direction, with respect to the triangle array of colored pattern, in the lateral direction and the longitudinal direction Close formation is possible.
【００７７】ただし、上記トライアングル配列に対する
画素電極７４-4は、前後方向に半ピッチずれた次行の画
素電極７４-4と、絶縁層７３-4の上に形成したコーナ部
で接触する恐れがある。そのため、接触の可能性がある
該コーナ部に切欠を設ける必要がある。[0077] However, the pixel electrode 74 -4 with respect to the triangle array, may be contacted before and after the pixel electrode 74 -4 next row shifted by a half pitch in the direction, the corner portion formed on the insulating layer 73 -4 is there. Therefore, it is necessary to provide a notch at the corner where there is a possibility of contact.
【００７８】図８（ａ）および（ｂ）おいて画素電極７
４-5は、形成領域の上辺部と左辺部に沿うＬ字形状に形
成された絶縁層７３-5の上に一部が形成され、他部がゲ
ート絶縁膜１４の上に形成される。In FIGS. 8A and 8B, the pixel electrode 7
4 -5 is partially formed on the formed in an L-shape along the upper side portion and the left side portion of the formation region of the insulating layer 73 -5, the other portion is formed on the gate insulating film 14.
【００７９】かかる画素電極７４-5は、フィルタ基板の
着色パターンのストライプ配列とモザイク配列に対し、
左右方向および前後方向への密接形成が可能となり、該
着色パターンのトライアングル配列に対し、左右方向の
密接形成が可能となる。[0079] Such a pixel electrode 74 -5, compared stripe arrangement and the mosaic arrangement of the color pattern of the filter substrate,
It is possible to form a close contact in the left-right direction and the front-back direction, and it is possible to form a close contact in the left-right direction with respect to the triangle arrangement of the colored pattern.
【００８０】ただし、上記ストライプ配列とモザイク配
列に対する画素電極７４-5の密接形成は、左辺下および
右辺上のコーナ部が斜め右上，斜め左下の画素電極７４
-5と接触する恐れがある。そのため、接触の可能性があ
る該コーナ部に切欠を設ける必要がある。[0080] However, close formation of the pixel electrode 74 -5 with respect to the stripe arrangement and the mosaic arrangement are corner portion upper right on the left side and under the right-hand side, lower left of the pixel electrode 74
May contact with -5 . Therefore, it is necessary to provide a notch at the corner where there is a possibility of contact.
【００８１】図８（ｃ）および（ｄ）おいて画素電極７
４-6は、形成領域の上辺部と左辺部および下辺部に沿う
コ字形状に形成された絶縁層７３-6の上に一部が形成さ
れ、他部がゲート絶縁膜１４の上に形成される。In FIGS. 8C and 8D, the pixel electrode 7
4 -6 is partially formed on the formed U-shape along the upper side portion and the left side portion and the lower portion of the formation region of the insulating layer 73 -6, formed on the other portion of the gate insulating film 14 Is done.
【００８２】かかる画素電極７４-6は、コ字形絶縁層７
３-6の両先端部上の一部を切欠くことで、左右方向への
密接形成が可能になる。さらに、画素電極７４-6は他の
画素電極、例えば凹凸が画素電極７４-6と逆の画素電極
等を隣合わせ形成と前記切欠を設けることで、着色パタ
ーンのストライプ配列およびモザイク配列に対し、左右
方向と前後方向の一方または双方に密接形成が可能とな
る。The pixel electrode 74-6 has the U-shaped insulating layer 7.
By notching a part on both ends of 3-6, it is possible to form a close contact in the left-right direction. Further, the pixel electrode 74 -6 another pixel electrode, for example, irregularities by providing the notch and side by side forming the pixel electrode 74 -6 opposite the pixel electrodes, etc., to a stripe arrangement and the mosaic arrangement of the colored pattern, the left and right It is possible to form a close contact in one or both of the forward and backward directions.
【００８３】図９は図８（ｃ）に示す画素電極の密接形
成方法の説明図であり、前後（図の上下）方向に間隙４
０を有し、左右方向に密接する画素電極７４-6は、コ字
形絶縁層７３-6（図８参照）両先端部上の切欠７５と、
その切欠７５が接するコーナの切欠７６を設け、左右方
向の隣接画素電極７４-6と短絡しないように構成されて
いる。FIG. 9 is an explanatory view of a method for forming the pixel electrodes in close contact with each other as shown in FIG.
0, and the pixel electrodes 74-6 closely contacted in the left-right direction are provided with notches 75 on both ends of the U-shaped insulating layer 73-6 (see FIG. 8).
A notch 76 is provided at a corner where the notch 75 contacts, so that a short circuit with the adjacent pixel electrode 74-6 in the left-right direction is prevented.
【００８４】[0084]
【発明の効果】以上説明したように、本発明ではアクテ
ィブ素子基板の上に、段付き絶縁層または画素電極形成
領域内の一部の絶縁層または選択された画素電極形成領
域の絶縁層を形成し、その絶縁層による段差を利用して
絶縁層の厚さ方向に隔離された画素電極を形成すること
で、９０％〜１００％の高開口化を可能とし、その高開
口化によって輝度が改善された。As described above, according to the present invention, a stepped insulating layer, a part of an insulating layer in a pixel electrode forming region or an insulating layer of a selected pixel electrode forming region is formed on an active element substrate. Then, by forming a pixel electrode isolated in the thickness direction of the insulating layer by using a step due to the insulating layer, it is possible to increase the aperture by 90% to 100%, and the luminance is improved by increasing the aperture. Was done.
【図１】 本発明の第１の実施例による液晶表示パネル
の説明図FIG. 1 is an explanatory diagram of a liquid crystal display panel according to a first embodiment of the present invention.
【図２】 本発明の第２の実施例による液晶表示パネル
の説明図FIG. 2 is an explanatory diagram of a liquid crystal display panel according to a second embodiment of the present invention.
【図３】 本発明の第３の実施例による液晶表示パネル
の説明図FIG. 3 is an explanatory diagram of a liquid crystal display panel according to a third embodiment of the present invention.
【図４】 本発明の第４の実施例による液晶表示パネル
の説明図FIG. 4 is an explanatory diagram of a liquid crystal display panel according to a fourth embodiment of the present invention.
【図５】 本発明の第５の実施例による液晶表示パネル
の説明図FIG. 5 is an explanatory diagram of a liquid crystal display panel according to a fifth embodiment of the present invention.
【図６】 本発明の第６の実施例による液晶表示パネル
の説明図FIG. 6 is an explanatory diagram of a liquid crystal display panel according to a sixth embodiment of the present invention.
【図７】 図６に示す画素電極の説明図（その１）FIG. 7 is an explanatory view of the pixel electrode shown in FIG. 6 (part 1)
【図８】 図６に示す画素電極の説明図（その２）FIG. 8 is an explanatory view of the pixel electrode shown in FIG. 6 (part 2)
【図９】 図８（ｃ）に示す画素電極の密接形成方法の
説明図FIG. 9 is an explanatory diagram of a method for forming a pixel electrode closely shown in FIG.
【図１０】 液晶表示パネルの回路の一部を示す概略図FIG. 10 is a schematic view showing a part of a circuit of a liquid crystal display panel.
【図１１】 従来の高開口化液晶表示パネルの概略構成
図FIG. 11 is a schematic configuration diagram of a conventional high-aperture liquid crystal display panel.
【図１２】 液晶表示パネルにおける着色パターンの配
列例を示す平面図FIG. 12 is a plan view showing an example of an arrangement of a coloring pattern in a liquid crystal display panel.
１ ゲートバスライン ２ データバスライン ３ ＴＦＴ ４ ゲート電極 ５ ドレイン電極 ６ ソース電極 ７ 液晶 ８ コモン電極 １４ ゲート絶縁膜 ３１、４５、５１、５６、６１ 液晶表示パネル ３２、５２、６２ ＴＦＴ基板 ３３、４６、５７ フィルタ基板 ３４、５３、６３、７３-1、７３-2、７３-3、７３-4、
７３-5、７３-6 絶縁層 ３５ コンタクトホール ３６、３７、５４、５５、６４、６５、６６、７４-1、
７４-2、７４-3、７４ -4、７４-5、７４-6 画素電極 ３８ マゼンタパターン ３９ グリーンパターン ４０ 画素電極間の間隙 ４１ ブラックマスク DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Gate bus line 2 Data bus line 3 TFT 4 Gate electrode 5 Drain electrode 6 Source electrode 7 Liquid crystal 8 Common electrode 14 Gate insulating film 31, 45, 51, 56, 61 Liquid crystal display panel 32, 52, 62 TFT substrate 33, 46 , 57 Filter substrate 34, 53, 63, 73-1, 73-2, 73-3, 73-Four,
73-Five, 73-6 Insulating layer 35 Contact hole 36, 37, 54, 55, 64, 65, 66, 74-1,
74-2, 74-3, 74 -Four, 74-Five, 74-6 Pixel electrode 38 Magenta pattern 39 Green pattern 40 Gap between pixel electrodes 41 Black mask
Claims (13)
ゲートバスラインに交差する複数本のデータバスライ
ン、該ゲートバスラインとデータバスラインに接続する
アクティブ素子、該アクティブ素子のそれぞれの素子に
接続する画素電極が形成されたアクティブマトリクス基
板と、着色パターンフィルタと該画素電極に対向するコ
モン電極が形成されたフィルタ基板との間に、液晶が充
填されたアクティブマトリクス型液晶表示パネルであっ
て、 該アクティブマトリクス基板に形成された複数の画素電
極の少なくとも一辺が、隣接画素電極に対し画素電極厚
さ方向に電気的に隔離されてなること、 を特徴とする液晶表示パネル。A plurality of gate bus lines; a plurality of data bus lines intersecting the plurality of gate bus lines; an active element connected to the gate bus line and the data bus line; and respective elements of the active element An active matrix liquid crystal display panel in which liquid crystal is filled between an active matrix substrate on which a pixel electrode connected to a pixel electrode is formed, and a filter substrate on which a colored electrode and a common electrode opposed to the pixel electrode are formed. A liquid crystal display panel, wherein at least one side of the plurality of pixel electrodes formed on the active matrix substrate is electrically isolated from adjacent pixel electrodes in the pixel electrode thickness direction.
なくとも一方の隣接画素電極形成領域との境界に沿って
段差を有する絶縁層が形成され、該段差によって前記画
素電極厚さ方向の電気的隔離がなされていること、 を特徴とする請求項１記載の液晶表示パネル。2. The active matrix substrate has an insulating layer having a step formed along a boundary with at least one adjacent pixel electrode forming region, and the step makes the pixel electrode electrically isolated in the thickness direction. The liquid crystal display panel according to claim 1, wherein:
方の隣接画素電極形成領域の境界に沿って段差を有する
絶縁層が形成され、該段差によって前記画素電極厚さ方
向の電気的隔離がなされていること、 を特徴とする請求項１記載の液晶表示パネル。3. An insulating layer having a step is formed on the active matrix substrate along a boundary between two adjacent pixel electrode forming regions, and the step causes electrical isolation in the pixel electrode thickness direction. The liquid crystal display panel according to claim 1, wherein:
方の隣接画素電極形成領域の境界に沿って段差を有する
絶縁層が形成され、該段差によって前記画素電極厚さ方
向の電気的隔離がなされていること、 を特徴とする請求項１記載の液晶表示パネル。4. An insulating layer having a step is formed on the active matrix substrate along a boundary between four adjacent pixel electrode forming regions, and the step provides electrical isolation in the pixel electrode thickness direction. The liquid crystal display panel according to claim 1, wherein:
一部の前記画素電極と、該一部の画素電極の左右方向ま
たは前後方向に隣接する画素電極形成領域上の絶縁層と
が形成され、他の前記画素電極が該絶縁層上に形成さ
れ、該絶縁層の段差によって該一部の画素電極と該他の
画素電極との隣接部の前記電気的隔離がなされているこ
と、 を特徴とする請求項１記載の液晶表示パネル。5. The method according to claim 1, wherein the active matrix substrate comprises:
A part of the pixel electrode, an insulating layer on a pixel electrode formation region adjacent to the part of the pixel electrode in the left-right direction or the front-back direction is formed, and the other pixel electrode is formed on the insulating layer; 2. The liquid crystal display panel according to claim 1, wherein the step of the insulating layer performs the electrical isolation of an adjacent portion between the part of the pixel electrode and the other pixel electrode.
一部の前記画素電極と、該一部の画素電極の左右方向お
よび前後方向に隣接する画素電極形成領域上の絶縁層と
が形成され、他の前記画素電極が該絶縁層上に形成さ
れ、該絶縁層の段差によって該一部の画素電極と該他の
画素電極との隣接部の前記電気的隔離がなされているこ
と、 を特徴とする請求項１記載の液晶表示パネル。6. On the active matrix substrate,
A part of the pixel electrode, an insulating layer on a pixel electrode formation region adjacent to the part of the pixel electrode in the left-right direction and the front-back direction is formed, and the other pixel electrode is formed on the insulating layer; 2. The liquid crystal display panel according to claim 1, wherein the step of the insulating layer performs the electrical isolation of an adjacent portion between the part of the pixel electrode and the other pixel electrode.
素電極形成領域の一部、かつ、該画素電極形成領域の輪
郭の少なくとも１／２に接する絶縁層が形成され、前記
画素電極が該絶縁層と該アクティブマトリクス基板上に
連通し形成され、該絶縁層の段差によって前記画素電極
厚さ方向の電気的隔離がなされていること、 を特徴とする請求項１記載の液晶表示パネル。7. The active matrix substrate is provided with an insulating layer that is in contact with a part of each pixel electrode forming region and at least one half of the outline of the pixel electrode forming region. 2. The liquid crystal display panel according to claim 1, wherein the liquid crystal display panel is formed so as to communicate with the active matrix substrate, and is electrically isolated in a thickness direction of the pixel electrode by a step of the insulating layer.
された前記画素電極の境界に対応し、前記フィルタ基板
の着色パターンが密接し形成されてなること、 を特徴とする請求項１〜７記載の液晶表示パネル。8. The color pattern of the filter substrate is formed in close contact with a boundary of the pixel electrode which is electrically isolated by a step of the insulating layer. Liquid crystal display panel as described.
で形成された反射型表示であること、 を特徴とする請求項１〜７記載の液晶表示パネル。9. The liquid crystal display panel according to claim 1, wherein said pixel electrode is a reflection type display formed of an optically reflective conductive member.
インおよび画素電極が、透光性導体で形成された透過型
表示であること、 を特徴とする請求項１〜７記載の液晶表示パネル。10. The liquid crystal display panel according to claim 1, wherein the gate bus line, the data bus line, and the pixel electrode are of a transmissive display formed of a translucent conductor.
用着色パターンが形成されてなること、 を特徴とする請求項１〜７記載の液晶表示パネル。11. The liquid crystal display panel according to claim 1, wherein a color pattern for multi-color display is formed on the filter substrate.
着色パターンが形成されてなること、 を特徴とする請求項１〜７記載の液晶表示パネル。12. The liquid crystal display panel according to claim 1, wherein a color pattern for full color display is formed on the filter substrate.
いて、前記フィルタ基板に形成された着色パターンが赤
・緑・青の３色であり、前記絶縁層の段差による前記液
晶の厚さが、該フィルタ基板の赤色パターン対応部より
緑色パターン対応部が薄く、該緑色パターン対応部より
青色パターン対応部が薄くなるように、該絶縁層が形成
されてなること、 を特徴とする液晶表示パネル。13. The liquid crystal display panel according to claim 12, wherein the color patterns formed on the filter substrate are three colors of red, green, and blue, and the thickness of the liquid crystal due to a step in the insulating layer is less than the thickness of the liquid crystal. The liquid crystal display panel, wherein the insulating layer is formed such that a green pattern corresponding portion is thinner than a red pattern corresponding portion and a blue pattern corresponding portion is thinner than the green pattern corresponding portion of the filter substrate.
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|---|---|---|---|
| JP31225896A JP3776184B2 (en) | 1996-11-22 | 1996-11-22 | LCD panel |
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Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001311936A (en) * | 2000-04-27 | 2001-11-09 | Victor Co Of Japan Ltd | Liquid crystal display element |
| JP2004240457A (en) * | 2001-07-13 | 2004-08-26 | Seiko Epson Corp | Color filter substrate, electro-optical device, method for manufacturing color filter substrate, method for manufacturing electro-optical device, and electronic apparatus |
| US20110164214A1 (en) * | 2010-01-07 | 2011-07-07 | Samsung Mobile Display Co., Ltd., | Display device |
| JP2016218211A (en) * | 2015-05-19 | 2016-12-22 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | Display device, display module having display device, and electronic apparatus having display device or display module |
-
1996
- 1996-11-22 JP JP31225896A patent/JP3776184B2/en not_active Expired - Lifetime
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| US8860915B2 (en) * | 2010-01-07 | 2014-10-14 | Samsung Display Co., Ltd. | Display device |
| JP2016218211A (en) * | 2015-05-19 | 2016-12-22 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | Display device, display module having display device, and electronic apparatus having display device or display module |
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