JPH10138405A - 積層法 - Google Patents
積層法Info
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- JPH10138405A JPH10138405A JP31304996A JP31304996A JPH10138405A JP H10138405 A JPH10138405 A JP H10138405A JP 31304996 A JP31304996 A JP 31304996A JP 31304996 A JP31304996 A JP 31304996A JP H10138405 A JPH10138405 A JP H10138405A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 クニック欠陥とシワ欠陥がなく外観性に優れ
たセルロース系フィルムとポリビニルアルコール系フィ
ルムとの(光学)積層体を得る積層法を提供する。 【解決手段】 セルロース系フィルムとポリビニルアル
コール系フィルムと積層するにあたり、ロールの表面の
動摩擦係数が0.6(JIS K 7125)以下(0
を含まない)のラミネートロールを用いロールラミネー
トする。
たセルロース系フィルムとポリビニルアルコール系フィ
ルムとの(光学)積層体を得る積層法を提供する。 【解決手段】 セルロース系フィルムとポリビニルアル
コール系フィルムと積層するにあたり、ロールの表面の
動摩擦係数が0.6(JIS K 7125)以下(0
を含まない)のラミネートロールを用いロールラミネー
トする。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、セルロース系フィ
ルムとポリビニルアルコール系フィルムとの積層法に関
し、更に詳しくは、外観欠陥が少なく、外観品質が良好
な偏光板や位相差板等の光学積層体の製造時に特に有用
な積層法に関するものである。
ルムとポリビニルアルコール系フィルムとの積層法に関
し、更に詳しくは、外観欠陥が少なく、外観品質が良好
な偏光板や位相差板等の光学積層体の製造時に特に有用
な積層法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来より、ポリビニルアルコール(以
下、PVAと称することがある。)系の偏光板や位相差
板は、偏光フィルムや位相差フィルムの両側にセルロー
ス系フィルムが設けられた構造を有しており、かかる偏
光板や位相差板を製造するにあたっては、通常、水系接
着剤を用いたウェットラミが行われ、具体的には、先
に接着剤を偏光フィルム(又は位相差フィルム)の両側
に塗っておき三酢酸セルロース(以下TACと称するこ
とがある。)フィルムとのラミネートを片側ずつ繰り返
す方法、先に接着剤を偏光フィルム(又は位相差フィ
ルム)の両側に塗っておき同時に両側のTACフィルム
とのラミネートを行う方法、先に接着剤を各TACフ
ィルムの片側に塗っておき偏光フィルム(又は位相差フ
ィルム)とのラミネートを片側ずつ繰り返す方法、先
に接着剤を各TACフィルムの片側に塗っておき同時に
両側の偏光フィルム(又は位相差フィルム)とのラミネ
ートを行う方法、先に接着剤を一方のTACフィルム
の片側に塗っておき偏光フィルム(又は位相差フィル
ム)とラミネートし二層積層体を得て、かかる二層積層
体の偏光フィルム(又は位相差フィルム)側に更に接着
剤を塗りもう一方のTACフィルムとラミネートを行う
方法、先に接着剤を偏光フィルム(又は位相差フィル
ム)の片側に塗っておき一方のTACフィルムとラミネ
ートし二層積層体を得て、次にもう一方のTACフィル
ムの片側に接着剤を塗り、かかるTACフィルムと二層
積層体とラミネートを行う方法、偏光フィルム(又は
位相差フィルム)とTACフィルムと三層同時に接着剤
の塗工及びラミネートをおこなう方法(スクイーズコー
トアンドラミネーション)の7つの方法があり、かかる
積層法で使用される従来のラミネートロールの仕様要件
(スペック)については、ラミネートする基材を傷つけ
ないロールであること、ロールに遺漏残存接着剤などの
異物が付着しても除去しやすいロールであること、使用
時に静電気を極端に発生させないロールであることの要
件(スペック)程度であり、ラミネート時の従来のテク
ニック面もとりわけ注意すべき点はなく、積層時の難易
度においても容易な技術であった。
下、PVAと称することがある。)系の偏光板や位相差
板は、偏光フィルムや位相差フィルムの両側にセルロー
ス系フィルムが設けられた構造を有しており、かかる偏
光板や位相差板を製造するにあたっては、通常、水系接
着剤を用いたウェットラミが行われ、具体的には、先
に接着剤を偏光フィルム(又は位相差フィルム)の両側
に塗っておき三酢酸セルロース(以下TACと称するこ
とがある。)フィルムとのラミネートを片側ずつ繰り返
す方法、先に接着剤を偏光フィルム(又は位相差フィ
ルム)の両側に塗っておき同時に両側のTACフィルム
とのラミネートを行う方法、先に接着剤を各TACフ
ィルムの片側に塗っておき偏光フィルム(又は位相差フ
ィルム)とのラミネートを片側ずつ繰り返す方法、先
に接着剤を各TACフィルムの片側に塗っておき同時に
両側の偏光フィルム(又は位相差フィルム)とのラミネ
ートを行う方法、先に接着剤を一方のTACフィルム
の片側に塗っておき偏光フィルム(又は位相差フィル
ム)とラミネートし二層積層体を得て、かかる二層積層
体の偏光フィルム(又は位相差フィルム)側に更に接着
剤を塗りもう一方のTACフィルムとラミネートを行う
方法、先に接着剤を偏光フィルム(又は位相差フィル
ム)の片側に塗っておき一方のTACフィルムとラミネ
ートし二層積層体を得て、次にもう一方のTACフィル
ムの片側に接着剤を塗り、かかるTACフィルムと二層
積層体とラミネートを行う方法、偏光フィルム(又は
位相差フィルム)とTACフィルムと三層同時に接着剤
の塗工及びラミネートをおこなう方法(スクイーズコー
トアンドラミネーション)の7つの方法があり、かかる
積層法で使用される従来のラミネートロールの仕様要件
(スペック)については、ラミネートする基材を傷つけ
ないロールであること、ロールに遺漏残存接着剤などの
異物が付着しても除去しやすいロールであること、使用
時に静電気を極端に発生させないロールであることの要
件(スペック)程度であり、ラミネート時の従来のテク
ニック面もとりわけ注意すべき点はなく、積層時の難易
度においても容易な技術であった。
【0003】一方でかかる偏光板や位相差板を用いた液
晶表示装置の進歩はここ数年来激しく、以前は小型のウ
ォッチ等のTNタイプ液晶表示装置だけであったが、最
近ではノート型パソコン、カーナビゲーションに代表さ
れるSTNタイプ液晶表示装置、TFTタイプ液晶表示
装置が発明されて実使用されだし、特にTFTタイプ液
晶表示装置の進歩は著しくCRT表示装置なみの大型表
示と表示品位が可能となってきた。
晶表示装置の進歩はここ数年来激しく、以前は小型のウ
ォッチ等のTNタイプ液晶表示装置だけであったが、最
近ではノート型パソコン、カーナビゲーションに代表さ
れるSTNタイプ液晶表示装置、TFTタイプ液晶表示
装置が発明されて実使用されだし、特にTFTタイプ液
晶表示装置の進歩は著しくCRT表示装置なみの大型表
示と表示品位が可能となってきた。
【0004】それにともない、液晶表示装置内のガラス
セル、液晶物質、偏光板、位相差板等の各部品の各種性
能向上と同時にそれらのなかの欠陥も益々小さくかつ数
が少ないことが要求されるようになってきた。偏光板に
おいても、8セグメント白黒表示だけであったものがノ
ート型パソコンやカーナビゲーションに実装され、より
詳細・精密なカラー動画表示に至って、光学性能、耐久
性能、視認性、外観品質、大型面積化、光学性能むら減
少等さまざまな性能の向上が要求されるようになってき
た。偏光板製造現場においても、かつての小型のウォッ
チ等のTNタイプ用偏光板製造の時は、欠陥において、
サイズも100〜700μmで、個数も5〜35個/m
2であったものが、現在のTFTタイプ偏光板製造の時
は、欠陥がない(つまりは0個/m2である)ことを要
求され、現実には60〜100μmで1個/m2以下の
0.05個/m2が要求されている時代になってきてお
り、急加速的に製造法の革新が要求されつづけてきた。
セル、液晶物質、偏光板、位相差板等の各部品の各種性
能向上と同時にそれらのなかの欠陥も益々小さくかつ数
が少ないことが要求されるようになってきた。偏光板に
おいても、8セグメント白黒表示だけであったものがノ
ート型パソコンやカーナビゲーションに実装され、より
詳細・精密なカラー動画表示に至って、光学性能、耐久
性能、視認性、外観品質、大型面積化、光学性能むら減
少等さまざまな性能の向上が要求されるようになってき
た。偏光板製造現場においても、かつての小型のウォッ
チ等のTNタイプ用偏光板製造の時は、欠陥において、
サイズも100〜700μmで、個数も5〜35個/m
2であったものが、現在のTFTタイプ偏光板製造の時
は、欠陥がない(つまりは0個/m2である)ことを要
求され、現実には60〜100μmで1個/m2以下の
0.05個/m2が要求されている時代になってきてお
り、急加速的に製造法の革新が要求されつづけてきた。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記背景に
鑑みてTFTタイプ液晶表示装置用の偏光板及び位相差
板(まとめて称する時は光学積層体と称する。)に特に
好ましく、クニック欠陥(セルロース系フィルム及びそ
の積層体に発生する欠陥で、微細で局部的な凹凸状の折
れ・座屈欠陥であり、大きさは60〜1500μmあ
り、ピラミッド、バンド痕とも言われている。)とシワ
欠陥(ラミネートする際に、セルロース系フィルム、ポ
リビニルアルコール系フィルムやその積層体に発生する
欠陥で、ライン方向(基材長手方向)に筋状として発生
する微細な折れ欠陥であり、大きさは30〜3500μ
mある。)の少ないセルロース系フィルムとポリビニル
アルコール系フィルムとの積層法を提供することを目的
とする。
鑑みてTFTタイプ液晶表示装置用の偏光板及び位相差
板(まとめて称する時は光学積層体と称する。)に特に
好ましく、クニック欠陥(セルロース系フィルム及びそ
の積層体に発生する欠陥で、微細で局部的な凹凸状の折
れ・座屈欠陥であり、大きさは60〜1500μmあ
り、ピラミッド、バンド痕とも言われている。)とシワ
欠陥(ラミネートする際に、セルロース系フィルム、ポ
リビニルアルコール系フィルムやその積層体に発生する
欠陥で、ライン方向(基材長手方向)に筋状として発生
する微細な折れ欠陥であり、大きさは30〜3500μ
mある。)の少ないセルロース系フィルムとポリビニル
アルコール系フィルムとの積層法を提供することを目的
とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】しかるに、本発明者はか
かる課題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、セルロー
ス系フィルムとポリビニルアルコール系フィルムとをロ
ールラミネートするにあたり、ロールの表面の動摩擦係
数(JIS K 7125に基づいて測定)が0.60
以下(尚、0を含まない、更に好ましくは0.40以
下)のラミネートロールを用いる時、本発明の効果を発
揮でき、更には、かかるラミネートロールが、表面硬度
(ショアーA)が70〜95(度)(JIS K 63
01に基づいて測定)であるゴムロールの時又は金属表
面の粗度が0.5〜5.0Sである金属ロール、あるい
は表面がテフロンコート又はセラミックコートされかつ
それらの表面の粗度が0.1〜10Sである金属ロール
の時に、特に本発明の効果を顕著にできることを見いだ
し本発明を完成するに到った。
かる課題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、セルロー
ス系フィルムとポリビニルアルコール系フィルムとをロ
ールラミネートするにあたり、ロールの表面の動摩擦係
数(JIS K 7125に基づいて測定)が0.60
以下(尚、0を含まない、更に好ましくは0.40以
下)のラミネートロールを用いる時、本発明の効果を発
揮でき、更には、かかるラミネートロールが、表面硬度
(ショアーA)が70〜95(度)(JIS K 63
01に基づいて測定)であるゴムロールの時又は金属表
面の粗度が0.5〜5.0Sである金属ロール、あるい
は表面がテフロンコート又はセラミックコートされかつ
それらの表面の粗度が0.1〜10Sである金属ロール
の時に、特に本発明の効果を顕著にできることを見いだ
し本発明を完成するに到った。
【0007】尚、ここで述べるロールの表面の動摩擦係
数とは、各ロール素材とセルロース系フィルムとの間の
動摩擦係数であり、具体的測定法について、JIS K
7125−1987において、「の試験片」部分に
は、三酢酸セルロース樹脂を塩化メチレンで溶解して8
0μmの厚みのフィルムに製膜した時の乾燥エアー面を
使用し、「の相手材料」部分として、各種ロール表面
をもってきて測定する(尚、クニック欠陥及びシワ欠陥
は、セルロース系フィルム特有の欠陥であり、ポリビニ
ルアルコール系フィルムとは関係なし、故に、ラミロー
ル表面とポリビニルアルコール系フィルム表面との動摩
擦係数は関係なし。)。「の相手材料」部分につい
て、ゴムロールの時は、かかるゴムロール表面を3mm
厚みに剥いで装着し、その他の金属ロール、各種コート
ロールは、金属平板の表面に、これらのロール表面と同
一の表面処理をおこない代用し装着し測定する。該測定
前に、かかる製膜三酢酸セルロースフィルムや、各種ロ
ール表面サンプルは23℃50%RHにて10日間放置
された後に測定される。
数とは、各ロール素材とセルロース系フィルムとの間の
動摩擦係数であり、具体的測定法について、JIS K
7125−1987において、「の試験片」部分に
は、三酢酸セルロース樹脂を塩化メチレンで溶解して8
0μmの厚みのフィルムに製膜した時の乾燥エアー面を
使用し、「の相手材料」部分として、各種ロール表面
をもってきて測定する(尚、クニック欠陥及びシワ欠陥
は、セルロース系フィルム特有の欠陥であり、ポリビニ
ルアルコール系フィルムとは関係なし、故に、ラミロー
ル表面とポリビニルアルコール系フィルム表面との動摩
擦係数は関係なし。)。「の相手材料」部分につい
て、ゴムロールの時は、かかるゴムロール表面を3mm
厚みに剥いで装着し、その他の金属ロール、各種コート
ロールは、金属平板の表面に、これらのロール表面と同
一の表面処理をおこない代用し装着し測定する。該測定
前に、かかる製膜三酢酸セルロースフィルムや、各種ロ
ール表面サンプルは23℃50%RHにて10日間放置
された後に測定される。
【0008】又、本発明では、PVAフィルムへヨウ素
化合物の吸着配向により偏光性能が付与されたフィルム
を「偏光フィルム」と称し、該「偏光フィルム」の両面
(又は片面)に保護フィルムのTACフィルムを設けた
時「偏光板」と称して区別している。又、PVAフィル
ムを延伸して位相差性能を付与されたフィルムを「位相
差フィルム」と称し、該「位相差フィルム」の両面(又
は片面)に保護フィルムのTACフィルムを設けた時
「位相差板」と称して区別している。
化合物の吸着配向により偏光性能が付与されたフィルム
を「偏光フィルム」と称し、該「偏光フィルム」の両面
(又は片面)に保護フィルムのTACフィルムを設けた
時「偏光板」と称して区別している。又、PVAフィル
ムを延伸して位相差性能を付与されたフィルムを「位相
差フィルム」と称し、該「位相差フィルム」の両面(又
は片面)に保護フィルムのTACフィルムを設けた時
「位相差板」と称して区別している。
【0009】
【発明の実施の形態】以下、本発明について具体的に説
明する。本発明の積層法で使用される基材について述べ
る。本発明で使用されるセルロース系フィルムの原料と
なるセルロースエステルとしては、セルロースと酸のエ
ステルであれば特には限定しないが、好ましくは、セル
ロースと脂肪酸のエステルで、セルローストリアセテー
ト、セルロースジアセテート、セルローストリプロピオ
ネート、セルロースジプロピオネート等が使用される。
かかるセルロース系フィルムの原料の光学積層体用途の
ものとしては、低複屈折の面と高透過率の面よりセルロ
ーストリアセテート(三酢酸セルロース)が好適であ
り、該三酢酸セルロースフィルム(TACフィルム)の
市販品としては具体的に、富士写真フィルム製「UV−
50」、「SH−50」、「UV−80」、「SH−8
0」、「TD−80U」や、コニカ製の「三酢酸セルロ
ース80μmシリーズ」、ロンザジャパン製「三酢酸セ
ルロース80μmシリーズ」等を挙げることができ、こ
れらの中で、透過率と耐久性の面でTFTタイプ液晶表
示装置に適合する改善を行ったTACフィルム、具体的
には、富士写真フィルム製「TD−80U」が更に好ま
しい。該セルロース系フィルムの厚みは特には限定され
ないが、20〜150μmが好ましく、更には50〜8
5μmが好ましい。尚、これらのセルロース系フィルム
は、ラミネートにでの接着補強のために、通常、その接
着面をアルカリケン化やコロナ処理等の表面改質されて
実用に供される。
明する。本発明の積層法で使用される基材について述べ
る。本発明で使用されるセルロース系フィルムの原料と
なるセルロースエステルとしては、セルロースと酸のエ
ステルであれば特には限定しないが、好ましくは、セル
ロースと脂肪酸のエステルで、セルローストリアセテー
ト、セルロースジアセテート、セルローストリプロピオ
ネート、セルロースジプロピオネート等が使用される。
かかるセルロース系フィルムの原料の光学積層体用途の
ものとしては、低複屈折の面と高透過率の面よりセルロ
ーストリアセテート(三酢酸セルロース)が好適であ
り、該三酢酸セルロースフィルム(TACフィルム)の
市販品としては具体的に、富士写真フィルム製「UV−
50」、「SH−50」、「UV−80」、「SH−8
0」、「TD−80U」や、コニカ製の「三酢酸セルロ
ース80μmシリーズ」、ロンザジャパン製「三酢酸セ
ルロース80μmシリーズ」等を挙げることができ、こ
れらの中で、透過率と耐久性の面でTFTタイプ液晶表
示装置に適合する改善を行ったTACフィルム、具体的
には、富士写真フィルム製「TD−80U」が更に好ま
しい。該セルロース系フィルムの厚みは特には限定され
ないが、20〜150μmが好ましく、更には50〜8
5μmが好ましい。尚、これらのセルロース系フィルム
は、ラミネートにでの接着補強のために、通常、その接
着面をアルカリケン化やコロナ処理等の表面改質されて
実用に供される。
【0010】本発明で使用されるポリビニルアルコール
系フィルムの原料(ポリビニルアルコール系樹脂)は、
通常酢酸ビニルを重合したポリ酢酸ビニルをケン化して
製造されるものであるが、本発明では、これに限定され
るものでなく、少量の不飽和カルボン酸(塩、エステ
ル、アミド、ニトリル、等を含む)、オレフィン類、ビ
ニルエーテル類、不飽和スルホン酸塩類等、酢酸ビニル
と共重合可能な成分を含有していてもよい。ポリビニル
アルコール系フィルムとしてはかかる原料を使用してい
れば、特には限定しないが、ポリビニルアルコール系樹
脂を製膜した後にヨウ素化合物とホウ素化合物処理によ
って得られる偏光フィルムや、ポリビニルアルコール系
樹脂を製膜した後に130〜230℃で1.01〜1.
45倍の延伸処理によって得られた位相差フィルムがあ
り、更にはTFTタイプ液晶表示装置に適する高偏光
度、高透過率の偏光フィルムや、低リターデーション
(3〜50nm)の位相差フィルムが好ましい。該ポリ
ビニルアルコール系フィルムの厚みは特には限定されな
いが、20〜150μmが好ましく、更には45〜85
μmが好ましい。
系フィルムの原料(ポリビニルアルコール系樹脂)は、
通常酢酸ビニルを重合したポリ酢酸ビニルをケン化して
製造されるものであるが、本発明では、これに限定され
るものでなく、少量の不飽和カルボン酸(塩、エステ
ル、アミド、ニトリル、等を含む)、オレフィン類、ビ
ニルエーテル類、不飽和スルホン酸塩類等、酢酸ビニル
と共重合可能な成分を含有していてもよい。ポリビニル
アルコール系フィルムとしてはかかる原料を使用してい
れば、特には限定しないが、ポリビニルアルコール系樹
脂を製膜した後にヨウ素化合物とホウ素化合物処理によ
って得られる偏光フィルムや、ポリビニルアルコール系
樹脂を製膜した後に130〜230℃で1.01〜1.
45倍の延伸処理によって得られた位相差フィルムがあ
り、更にはTFTタイプ液晶表示装置に適する高偏光
度、高透過率の偏光フィルムや、低リターデーション
(3〜50nm)の位相差フィルムが好ましい。該ポリ
ビニルアルコール系フィルムの厚みは特には限定されな
いが、20〜150μmが好ましく、更には45〜85
μmが好ましい。
【0011】次にセルロース系フィルムとポリビニルア
ルコール系フィルムのラミネート(積層)の方法につい
て述べる。該方法には工業的に、上記の〜の7つの
方法があり、かかるラミネートを行うにあたり、特には
限定しないが、本発明ではかかるラミネート時に、ロー
ルの表面の動摩擦係数が0.60以下(尚、0を含まな
い、更に好ましくは0.40以下)のラミネートロール
を用いることを最大の特徴とするもので、かかる関係を
満たすロールであれば、特には限定されないが、具体的
には以下A〜Cの3種類のロールが好ましい。
ルコール系フィルムのラミネート(積層)の方法につい
て述べる。該方法には工業的に、上記の〜の7つの
方法があり、かかるラミネートを行うにあたり、特には
限定しないが、本発明ではかかるラミネート時に、ロー
ルの表面の動摩擦係数が0.60以下(尚、0を含まな
い、更に好ましくは0.40以下)のラミネートロール
を用いることを最大の特徴とするもので、かかる関係を
満たすロールであれば、特には限定されないが、具体的
には以下A〜Cの3種類のロールが好ましい。
【0012】A:ラミネートロールがゴムロールの場合
は、表面のゴム硬度(ショアーA)が70〜95(度)
(更に好ましくは80〜90(度))であるロールが好
ましく、硬度が70(度)未満の時は、ゴムにバルジ効
果(つきあたっているゴムの先端が凹み変形している現
象)による食い込みが発生し光学積層体の表面に凹凸欠
陥が発生したり、ロール自体が傷つきその傷により光学
積層体に更に欠陥を発生させ、逆に95(度)を越える
時はニップ開閉の時に光学積層体にキズを発生させた
り、光学積層体の表面凹凸への追従不足でラミネート性
に劣り不都合である。具体的には、ゴムロールの素材と
しては、EPDM(エチレンポリプロピレンゴム)、N
BR(ニトリルブチルゴム)が好ましく、かかるロール
表面の動摩擦係数のコントロール方法としては、ゴムの
素練り時に硬化剤の量を調整することにより硬度70〜
95(度)に硬化させた後に、これらの素材のゴムロー
ルの表面を1000〜3000番のサンドペーパーやエ
メリーぺーパーにて回転研磨する方法や、ゴムロールの
素材ゴムにフッ素系の表面改質剤、例えば大日本インキ
化学工業製の「MCF−323」を素材ゴム100重量
部に対し0.2〜3.5部添加し、ゴムロールの表面に
フッ素系の表面改質剤のミクロドメインを形成しなが
ら、かかる表面硬度に硬化調整する方法等があるが、こ
れらに限定されるものではない。
は、表面のゴム硬度(ショアーA)が70〜95(度)
(更に好ましくは80〜90(度))であるロールが好
ましく、硬度が70(度)未満の時は、ゴムにバルジ効
果(つきあたっているゴムの先端が凹み変形している現
象)による食い込みが発生し光学積層体の表面に凹凸欠
陥が発生したり、ロール自体が傷つきその傷により光学
積層体に更に欠陥を発生させ、逆に95(度)を越える
時はニップ開閉の時に光学積層体にキズを発生させた
り、光学積層体の表面凹凸への追従不足でラミネート性
に劣り不都合である。具体的には、ゴムロールの素材と
しては、EPDM(エチレンポリプロピレンゴム)、N
BR(ニトリルブチルゴム)が好ましく、かかるロール
表面の動摩擦係数のコントロール方法としては、ゴムの
素練り時に硬化剤の量を調整することにより硬度70〜
95(度)に硬化させた後に、これらの素材のゴムロー
ルの表面を1000〜3000番のサンドペーパーやエ
メリーぺーパーにて回転研磨する方法や、ゴムロールの
素材ゴムにフッ素系の表面改質剤、例えば大日本インキ
化学工業製の「MCF−323」を素材ゴム100重量
部に対し0.2〜3.5部添加し、ゴムロールの表面に
フッ素系の表面改質剤のミクロドメインを形成しなが
ら、かかる表面硬度に硬化調整する方法等があるが、こ
れらに限定されるものではない。
【0013】ラミネートロールが金属ロールの場合に
は、表面がかかる動摩擦係数であれば、特には限定され
ないが、動摩擦係数をコントロールする方法に、金属表
面の粗度でコントロールする方法と、金属表面に滑性物
質(特に好ましくはテフロン系のフッ素樹脂やセラミッ
ク化合物)をコートして樹脂表面の粗度をコントロール
する方法があり、以下のBとCのラミネートロールがあ
るが、これらに限定されるものではない。
は、表面がかかる動摩擦係数であれば、特には限定され
ないが、動摩擦係数をコントロールする方法に、金属表
面の粗度でコントロールする方法と、金属表面に滑性物
質(特に好ましくはテフロン系のフッ素樹脂やセラミッ
ク化合物)をコートして樹脂表面の粗度をコントロール
する方法があり、以下のBとCのラミネートロールがあ
るが、これらに限定されるものではない。
【0014】B:ラミネートロールが金属ロールで、金
属表面の粗度が0.5〜5.0Sであるロールが好まし
い。尚、粗度が0.5S未満の時は、フィルムと金属ロ
ール間の密着力が増大し動摩擦係数が0.60を越えて
不都合であり、5.0Sを越えると同じく動摩擦係数が
0.60を越えフィルム表面のスリキズが増大して好ま
しくない。尚、通常は、粗度が1.5〜3.0S付近で
動摩擦係数が最小となる(但し、0をこえる値)。又、
金属の表面に5〜40μmの厚みのニッケルの下メッキ
がしてありその上に更に5〜60μmの厚みのハードク
ロムメッキをしてあり、その表面の粗度が0.5〜5.
0Sであることが更に好ましい。
属表面の粗度が0.5〜5.0Sであるロールが好まし
い。尚、粗度が0.5S未満の時は、フィルムと金属ロ
ール間の密着力が増大し動摩擦係数が0.60を越えて
不都合であり、5.0Sを越えると同じく動摩擦係数が
0.60を越えフィルム表面のスリキズが増大して好ま
しくない。尚、通常は、粗度が1.5〜3.0S付近で
動摩擦係数が最小となる(但し、0をこえる値)。又、
金属の表面に5〜40μmの厚みのニッケルの下メッキ
がしてありその上に更に5〜60μmの厚みのハードク
ロムメッキをしてあり、その表面の粗度が0.5〜5.
0Sであることが更に好ましい。
【0015】C:ラミネートロールがテフロンコート又
はセラミックコートした金属ロールで、それらの表面の
粗度が0.1〜10Sであるロールが好ましい。かかる
粗度が0.1S未満の時は、使用中に磨かれて鏡面にな
り密着性が増し動摩擦が増大し、10Sを越えるとフィ
ルム表面のスリキズが増大する。尚、この時も上記同様
粗度が0.1S未満の時や10Sを越える時は、動摩擦
係数が0.60を越え、通常は、粗度が0.5〜5.0
S付近で動摩擦係数が最小となる(但し、0をこえる
値。)。具体的には、上記のように金属表面にハードク
ロムメッキをしてその上にポリテトラフルオロエチレン
樹脂や、酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化ケイ素、
酸化鉄等からなる溶射用のOATセラミックパウダーを
1〜55μm厚みだけコーティングしてそれらの表面を
0.1〜10Sに研磨したものが更に好ましい。
はセラミックコートした金属ロールで、それらの表面の
粗度が0.1〜10Sであるロールが好ましい。かかる
粗度が0.1S未満の時は、使用中に磨かれて鏡面にな
り密着性が増し動摩擦が増大し、10Sを越えるとフィ
ルム表面のスリキズが増大する。尚、この時も上記同様
粗度が0.1S未満の時や10Sを越える時は、動摩擦
係数が0.60を越え、通常は、粗度が0.5〜5.0
S付近で動摩擦係数が最小となる(但し、0をこえる
値。)。具体的には、上記のように金属表面にハードク
ロムメッキをしてその上にポリテトラフルオロエチレン
樹脂や、酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化ケイ素、
酸化鉄等からなる溶射用のOATセラミックパウダーを
1〜55μm厚みだけコーティングしてそれらの表面を
0.1〜10Sに研磨したものが更に好ましい。
【0016】かかるロールの使用にあたっては通常2本
を一組として使用するもので、この2本は同じロールを
2本組み合わせてもよいし、異なるロールを2本組み合
わせてもよいが、金属ロール(B)どうしの組み合わせ
の時や、テフロンロール(C)どうしの組み合わせの時
や、金属ロール(B)とテフロンロール(C)の組み合
わせの時は、ラミネートロールニップ開閉時に衝撃衝突
破損防止の目的で、クリアランス(ギャップ)調整のた
めのミクロコッタ(2本のラミロールの軸受け部の左右
両側に、一方の軸受け部に移動可能式の楔型のラミロー
ル間隔の調整ブロックを設け、もう一方の軸受け部に追
突用ブロックを設けて、楔の位置によりラミロール間隔
を調整する装置。)やショックアブソーバー等の付帯装
置がラミネートロールの左右の軸受けに必要である。
尚、付帯装置が簡易な点、フィルム基材を傷つけない点
で、ゴムロール(A)とテフロンやセラミツクコートロ
ール(C)の組み合わせが好ましい。
を一組として使用するもので、この2本は同じロールを
2本組み合わせてもよいし、異なるロールを2本組み合
わせてもよいが、金属ロール(B)どうしの組み合わせ
の時や、テフロンロール(C)どうしの組み合わせの時
や、金属ロール(B)とテフロンロール(C)の組み合
わせの時は、ラミネートロールニップ開閉時に衝撃衝突
破損防止の目的で、クリアランス(ギャップ)調整のた
めのミクロコッタ(2本のラミロールの軸受け部の左右
両側に、一方の軸受け部に移動可能式の楔型のラミロー
ル間隔の調整ブロックを設け、もう一方の軸受け部に追
突用ブロックを設けて、楔の位置によりラミロール間隔
を調整する装置。)やショックアブソーバー等の付帯装
置がラミネートロールの左右の軸受けに必要である。
尚、付帯装置が簡易な点、フィルム基材を傷つけない点
で、ゴムロール(A)とテフロンやセラミツクコートロ
ール(C)の組み合わせが好ましい。
【0017】又、片側にラミネートロールを配置し、も
う片側にエアースリット又はエアーナイフを配置し、こ
の間に、セルロース系フィルム/ポリビニルアルコール
系フィルム/セルロース系フィルムを通し、ラミネート
ロールに各フィルムを添わしながらエアースリット又は
エアーナイフより出た圧縮空気により押さえこみラミネ
ートする方法を使用する(つまりはラミネートロール1
本使用の)時も、上記A〜Cのロールであれば、その効
果は変わらない。
う片側にエアースリット又はエアーナイフを配置し、こ
の間に、セルロース系フィルム/ポリビニルアルコール
系フィルム/セルロース系フィルムを通し、ラミネート
ロールに各フィルムを添わしながらエアースリット又は
エアーナイフより出た圧縮空気により押さえこみラミネ
ートする方法を使用する(つまりはラミネートロール1
本使用の)時も、上記A〜Cのロールであれば、その効
果は変わらない。
【0018】次に本発明をラミネートロールを用いた積
層時の条件について述べる。本発明の積層にあたって
は、通常接着剤が用いられ、かかる接着剤としては特に
は限定しないが、本発明の効果を顕著に得るには、水系
接着剤が好ましく、特に重合度500〜4500、ケン
化度90〜99.9モル%のポリビニルアルコールの1
〜20重量%水溶液が好適である。実際に積層するにあ
たっては上記の如き〜の積層法があり、〜の方
法は先に積層する基材に先だって水系接着剤を塗工する
必要があり、コーターが用いられ、具体的には、使用す
る基材に傷をつけずに薄く塗工でき発泡の少ないマイク
ログラビアコーター、マングルロールコーター、ダイコ
ーター、スポンジロールコーター、エクセーヌロールコ
ーター等があり使用される。の方法は、コーターとラ
ミネーターとが同一箇所でおこなわれるスクイーズコー
トアンドラミネーションと呼ばれ、フィルムに発生する
カールを抑制する点、製造効率の点と設備の簡便さの点
で、の方法が好ましく実用的である。の方法をより
具体的に説明すれば、以下の2通りの方法がある。
層時の条件について述べる。本発明の積層にあたって
は、通常接着剤が用いられ、かかる接着剤としては特に
は限定しないが、本発明の効果を顕著に得るには、水系
接着剤が好ましく、特に重合度500〜4500、ケン
化度90〜99.9モル%のポリビニルアルコールの1
〜20重量%水溶液が好適である。実際に積層するにあ
たっては上記の如き〜の積層法があり、〜の方
法は先に積層する基材に先だって水系接着剤を塗工する
必要があり、コーターが用いられ、具体的には、使用す
る基材に傷をつけずに薄く塗工でき発泡の少ないマイク
ログラビアコーター、マングルロールコーター、ダイコ
ーター、スポンジロールコーター、エクセーヌロールコ
ーター等があり使用される。の方法は、コーターとラ
ミネーターとが同一箇所でおこなわれるスクイーズコー
トアンドラミネーションと呼ばれ、フィルムに発生する
カールを抑制する点、製造効率の点と設備の簡便さの点
で、の方法が好ましく実用的である。の方法をより
具体的に説明すれば、以下の2通りの方法がある。
【0019】(I)ラミネートロールを水平に2本並べ
て、その間に、ラミネートロールの上よりセルロース系
フィルム(左)/ポリビニルアルコール系フィルム/セ
ルロース系フィルム(右)の順に走行させ挟み、ラミネ
ートされた積層板をロールの下に垂らして走行させ、接
着剤をロールの上よりセルロース系フィルム(左)/ポ
リビニルアルコール系フィルムの間とポリビニルアルコ
ール系フィルム/セルロース系フィルム(右)の間に給
液する方法。(II)ラミネートロールを垂直に2本並べ
て、その間に、ラミネートロールの片側横よりセルロー
ス系フィルム(垂直)/ポリビニルアルコール系フィル
ム(垂直に対して45度角)/セルロース系フィルム
(水平)の順に走行させ挟み、ラミネートされた積層板
をロールのもう一方の横側より走行させ、接着剤をセル
ロース系フィルム(垂直)/ポリビニルアルコール系フ
ィルム(垂直に対して45度角)の間とポリビニルアル
コール系フィルム(垂直に対して45度角)/セルロー
ス系フィルム(水平)の間に給液する方法。これらのう
ち、浮力による接着剤中の気泡の脱泡の点とカール抑制
の点から(I)の方法が実用的で好ましい。
て、その間に、ラミネートロールの上よりセルロース系
フィルム(左)/ポリビニルアルコール系フィルム/セ
ルロース系フィルム(右)の順に走行させ挟み、ラミネ
ートされた積層板をロールの下に垂らして走行させ、接
着剤をロールの上よりセルロース系フィルム(左)/ポ
リビニルアルコール系フィルムの間とポリビニルアルコ
ール系フィルム/セルロース系フィルム(右)の間に給
液する方法。(II)ラミネートロールを垂直に2本並べ
て、その間に、ラミネートロールの片側横よりセルロー
ス系フィルム(垂直)/ポリビニルアルコール系フィル
ム(垂直に対して45度角)/セルロース系フィルム
(水平)の順に走行させ挟み、ラミネートされた積層板
をロールのもう一方の横側より走行させ、接着剤をセル
ロース系フィルム(垂直)/ポリビニルアルコール系フ
ィルム(垂直に対して45度角)の間とポリビニルアル
コール系フィルム(垂直に対して45度角)/セルロー
ス系フィルム(水平)の間に給液する方法。これらのう
ち、浮力による接着剤中の気泡の脱泡の点とカール抑制
の点から(I)の方法が実用的で好ましい。
【0020】かかるラミネートは、温度15〜25℃、
湿度50〜70%RHのクリーン度10000〜100
CFTのクリーンルーム内でおこなわれ、ラミネートロ
ールは、直径(外径)が75〜300mmであることが
好ましく、かかるロールにセルロース系フィルムを角度
20〜120度添わして(抱かして)ラミネートする。
直径が75mm未満の時は、フィルムを屈曲させすぎ、
できあがる積層板の表面が凹凸欠陥となり不都合であ
り、300mmを越える時は、接着剤絞り残りによる液
だまり欠陥が増加して同じく不都合である。又、ラミネ
ート時の線圧力は特には限定されないが、工業的には、
線圧力は10〜1000kg/mが好ましく、通常、ラ
ミネートロールの両端2箇所には、直径が25〜50m
mの軸と軸受けが付帯しており、少なくとも片側のラミ
ネートロールの両端軸受け部にはエアーシリンダーによ
る加圧装置がついており、これによりラミネート時の線
圧力をコントロールすることができる。
湿度50〜70%RHのクリーン度10000〜100
CFTのクリーンルーム内でおこなわれ、ラミネートロ
ールは、直径(外径)が75〜300mmであることが
好ましく、かかるロールにセルロース系フィルムを角度
20〜120度添わして(抱かして)ラミネートする。
直径が75mm未満の時は、フィルムを屈曲させすぎ、
できあがる積層板の表面が凹凸欠陥となり不都合であ
り、300mmを越える時は、接着剤絞り残りによる液
だまり欠陥が増加して同じく不都合である。又、ラミネ
ート時の線圧力は特には限定されないが、工業的には、
線圧力は10〜1000kg/mが好ましく、通常、ラ
ミネートロールの両端2箇所には、直径が25〜50m
mの軸と軸受けが付帯しており、少なくとも片側のラミ
ネートロールの両端軸受け部にはエアーシリンダーによ
る加圧装置がついており、これによりラミネート時の線
圧力をコントロールすることができる。
【0021】更に、各フィルムの張力は特には限定され
ないが、工業的には張力1〜20kg/幅が好ましく、
ラミネートロールの前後にある基材の数(4本)の張力
検知ロールで張力を検知しながら、ラミネートロールの
前後の駆動フィードロールの速度やトルクを制御した
り、ダンサーロールの加圧力を制御したり、巻出ブレー
キを制御することでラミネート時の各フィルムの張力を
制御することができる。また、ラミネートの速度は、特
には限定されないが、1〜15m/分が好ましく。かか
る速度をきめるラミネートロールの駆動は、ラミネート
ロールを2本とも駆動する場合、1本だけで駆動する場
合、どちらも駆動しない場合があり、特には限定しない
が、張力の制御の面より、1〜2本で駆動する場合が好
ましい。どちらも駆動しない場合は、ラミネートロール
の後の駆動フィードロールにて引っ張ることでラミネー
ト速度を調整することができる。尚、ラミロールの速度
制御は、上記1〜2本で駆動する場合は、ラミロール速
度を追随速(ラミロールの前後の駆動フィードロールに
影響された制御速度)でなく基準速(一定速)として制
御することが好ましい。ラミネートロールの温度は、特
には限定されないが、温度10〜45℃が好ましく、こ
の範囲からはずれる時は、シワが発生する傾向が強く好
ましくない。かかるラミネートロールの温度をコントロ
ールするには、軸受け部にロータリージョイントやロー
タリージョイントを用いた軸受けを使用し、かかるロー
ルの内部に温度コントロール配管を有したり、誘電加熱
装置を内在するロールを用いることで対応できる。
ないが、工業的には張力1〜20kg/幅が好ましく、
ラミネートロールの前後にある基材の数(4本)の張力
検知ロールで張力を検知しながら、ラミネートロールの
前後の駆動フィードロールの速度やトルクを制御した
り、ダンサーロールの加圧力を制御したり、巻出ブレー
キを制御することでラミネート時の各フィルムの張力を
制御することができる。また、ラミネートの速度は、特
には限定されないが、1〜15m/分が好ましく。かか
る速度をきめるラミネートロールの駆動は、ラミネート
ロールを2本とも駆動する場合、1本だけで駆動する場
合、どちらも駆動しない場合があり、特には限定しない
が、張力の制御の面より、1〜2本で駆動する場合が好
ましい。どちらも駆動しない場合は、ラミネートロール
の後の駆動フィードロールにて引っ張ることでラミネー
ト速度を調整することができる。尚、ラミロールの速度
制御は、上記1〜2本で駆動する場合は、ラミロール速
度を追随速(ラミロールの前後の駆動フィードロールに
影響された制御速度)でなく基準速(一定速)として制
御することが好ましい。ラミネートロールの温度は、特
には限定されないが、温度10〜45℃が好ましく、こ
の範囲からはずれる時は、シワが発生する傾向が強く好
ましくない。かかるラミネートロールの温度をコントロ
ールするには、軸受け部にロータリージョイントやロー
タリージョイントを用いた軸受けを使用し、かかるロー
ルの内部に温度コントロール配管を有したり、誘電加熱
装置を内在するロールを用いることで対応できる。
【0022】尚、使用する各フィルムの幅により、例え
ば、幅が1mを越える時は、ラミネートロールの中央を
100〜500μm凸状のクラウン加工したクラウンロ
ールや、ラミロールの両端に拡布用のスパイラルプリコ
溝を彫刻したマスロールや、ラミネートロールの軸の平
行度を平行より角1度以内でずらしたりする拡布構造
や、ラミネートロールの前後の近傍にエキスパンダーロ
ール等の拡布装置をつけるとクニック欠陥やシワ欠陥に
対して更に有効であるし、TACフィルムの片側表面に
厚み1〜30μmの各種機能層を塗工したTACフィル
ムや100〜150μmの厚みの厚手のTACフィルム
を使用する際には、上記クリアランス(ギャップ)調整
用のミクロコッタを使用してラミネートすることも、ク
ニック欠陥やシワ欠陥の発生の抑制に更に有効である。
ば、幅が1mを越える時は、ラミネートロールの中央を
100〜500μm凸状のクラウン加工したクラウンロ
ールや、ラミロールの両端に拡布用のスパイラルプリコ
溝を彫刻したマスロールや、ラミネートロールの軸の平
行度を平行より角1度以内でずらしたりする拡布構造
や、ラミネートロールの前後の近傍にエキスパンダーロ
ール等の拡布装置をつけるとクニック欠陥やシワ欠陥に
対して更に有効であるし、TACフィルムの片側表面に
厚み1〜30μmの各種機能層を塗工したTACフィル
ムや100〜150μmの厚みの厚手のTACフィルム
を使用する際には、上記クリアランス(ギャップ)調整
用のミクロコッタを使用してラミネートすることも、ク
ニック欠陥やシワ欠陥の発生の抑制に更に有効である。
【0023】かくしてクニック欠陥やシワ欠陥のない外
観良好な光学積層体が得られるわけであるが、本発明で
はラミネートによる積層後に、10〜35℃にて25〜
85秒間、次のガイドロールやラミネートロールや駆動
フィードロールに接触せずに、空中保持することが好ま
しく、かかる処理(空中保持)をすることにより更に外
観性良好な光学積層体を得ることができ、かかる積層体
は、TFTタイプ液晶表示装置用の偏光板及び位相差板
に有用である。かかる処置をともなった積層後に、30
〜100℃、1〜10分で乾燥処理されて偏光板や位相
差板の光学積層体となる。
観良好な光学積層体が得られるわけであるが、本発明で
はラミネートによる積層後に、10〜35℃にて25〜
85秒間、次のガイドロールやラミネートロールや駆動
フィードロールに接触せずに、空中保持することが好ま
しく、かかる処理(空中保持)をすることにより更に外
観性良好な光学積層体を得ることができ、かかる積層体
は、TFTタイプ液晶表示装置用の偏光板及び位相差板
に有用である。かかる処置をともなった積層後に、30
〜100℃、1〜10分で乾燥処理されて偏光板や位相
差板の光学積層体となる。
【0024】かかる積層法は、透過率と耐久性の面でT
FTタイプ液晶表示装置に適合する改善を行っていない
タイプのTACフィルムばかりでなく、改善タイプのT
ACフィルムに対して有用であるが、これらのフィルム
の片側表面に厚み1〜10μmのクリアハードコート層
やアンチグレアハードコート層を塗工したTACフィル
ムや、更にそれらのタイプのTACフィルムの表面にI
TO層、防汚処理層、帯電防止層、低反射層等の各種機
能を付与する層を設けた積層TACフィルムに対しても
有用であり、クニック欠陥とシワ欠陥がない偏光板や位
相差板が得られ、ワープロ、テレビジョン、パソコン、
カーナビゲーション等の用途のTFTタイプ液晶表示装
置に好適である。
FTタイプ液晶表示装置に適合する改善を行っていない
タイプのTACフィルムばかりでなく、改善タイプのT
ACフィルムに対して有用であるが、これらのフィルム
の片側表面に厚み1〜10μmのクリアハードコート層
やアンチグレアハードコート層を塗工したTACフィル
ムや、更にそれらのタイプのTACフィルムの表面にI
TO層、防汚処理層、帯電防止層、低反射層等の各種機
能を付与する層を設けた積層TACフィルムに対しても
有用であり、クニック欠陥とシワ欠陥がない偏光板や位
相差板が得られ、ワープロ、テレビジョン、パソコン、
カーナビゲーション等の用途のTFTタイプ液晶表示装
置に好適である。
【0025】以上、偏光板や位相差板等の光学積層体の
積層法について詳細に説明したが、本発明はこれらの光
学積層体に限定されるものでなく、他のセルロース系フ
ィルムとポリビニルアルコール系フィルムのラミネート
フィルムについても、つまりはフイルムコンデンサー、
マンガのセル画面用プレート、防曇用フィルム、防眩フ
ィルム、スリガラス用途フィルム、着色フィルム等に用
いられるセルロース系フィルムとポリビニルアルコール
系フィルムとの積層体の製造時に有用である。本発明は
セルロース系フィルムとポリビニルアルコール系フィル
ムの構成であるが、セルロース系フィルムとセルロース
系フィルムとのラミネートの構成に対しても有効であ
る。
積層法について詳細に説明したが、本発明はこれらの光
学積層体に限定されるものでなく、他のセルロース系フ
ィルムとポリビニルアルコール系フィルムのラミネート
フィルムについても、つまりはフイルムコンデンサー、
マンガのセル画面用プレート、防曇用フィルム、防眩フ
ィルム、スリガラス用途フィルム、着色フィルム等に用
いられるセルロース系フィルムとポリビニルアルコール
系フィルムとの積層体の製造時に有用である。本発明は
セルロース系フィルムとポリビニルアルコール系フィル
ムの構成であるが、セルロース系フィルムとセルロース
系フィルムとのラミネートの構成に対しても有効であ
る。
【0026】
【実施例】次に実施例を挙げて更に詳しく説明する。
尚、実施例中、「%」とあるのは特に断りのない限り重
量基準である。 実施例1 平均重合度5000、ケン化度99.6モル%のポリビ
ニルアルコールを水に溶解し、2.5%の溶液を得た。
該溶液をポリエチレンテレフタレートフィルム上に流延
後乾燥し原反フィルム(65μm、幅1200mm)を
得た。該フィルムを、ヨウ素0.25g/l、ヨウ化カ
リウム60g/lよりなる水溶液中に20℃にて340
秒浸漬し、次いでホウ酸50g/l、ヨウ化カリウム6
0g/l、ヨウ素2ppmの組成の水溶液に浸漬すると
共に、52℃にて同時に5.7倍に一軸延伸を行いつつ
10分間にわたってホウ酸処理を行った。次に7℃の水
洗槽に4秒間浸漬した後、ヨウ素0.15g/l、ヨウ
化カリウム20g/lよりなる水溶液中に15℃にて1
5秒間浸漬し、次に55℃にて2分間乾燥し、厚み20
μm、幅640mmでフィルムの幅方向中央の透過率が
44.7%、偏光度が99.95%の偏光フィルムを得
た。クリーン度100CFT、25℃60%RHのクリ
ーンルームにて、得られた偏光フィルムの両面に、厚み
80μmの三酢酸セルロースフィルム(接着面をアルカ
リケン化した670mm幅のフィルム)を、偏光フィル
ムが三酢酸セルロースフィルムの幅方向の中央に入るよ
うに配置しながら、直径150mm(ゴム厚み15m
m、芯金直径120mm、ロール面長950mm、芯金
材質SS410)で硬度(ショアーA)85(度)のN
BRゴムロールを3000番のサンドペーパーにより回
転研磨により動摩擦係数0.30としたゴムロール2本
1組を使用して、各張力が10kg/1m幅、ラミネー
トスピード5.0m/分、加圧の線圧力が300kg/
1m幅、クリアランス無し(ラミロール間にフィルムを
挟まない状態においてラミロール間が0μmまで近ずけ
ることができる状況。)で、ポリビニルアルコール系接
着剤、重合度2600、ケン化度99.9モル%のポリ
ビニルアルコール4%水溶液を給液しながら、三層(T
ACフィルム/接着剤/偏光フィルム/接着剤/TAC
フィルム)を同時ラミネートした後、25℃で75秒空
中保持し、その後90℃にて3分乾燥して偏光板を得
た。
尚、実施例中、「%」とあるのは特に断りのない限り重
量基準である。 実施例1 平均重合度5000、ケン化度99.6モル%のポリビ
ニルアルコールを水に溶解し、2.5%の溶液を得た。
該溶液をポリエチレンテレフタレートフィルム上に流延
後乾燥し原反フィルム(65μm、幅1200mm)を
得た。該フィルムを、ヨウ素0.25g/l、ヨウ化カ
リウム60g/lよりなる水溶液中に20℃にて340
秒浸漬し、次いでホウ酸50g/l、ヨウ化カリウム6
0g/l、ヨウ素2ppmの組成の水溶液に浸漬すると
共に、52℃にて同時に5.7倍に一軸延伸を行いつつ
10分間にわたってホウ酸処理を行った。次に7℃の水
洗槽に4秒間浸漬した後、ヨウ素0.15g/l、ヨウ
化カリウム20g/lよりなる水溶液中に15℃にて1
5秒間浸漬し、次に55℃にて2分間乾燥し、厚み20
μm、幅640mmでフィルムの幅方向中央の透過率が
44.7%、偏光度が99.95%の偏光フィルムを得
た。クリーン度100CFT、25℃60%RHのクリ
ーンルームにて、得られた偏光フィルムの両面に、厚み
80μmの三酢酸セルロースフィルム(接着面をアルカ
リケン化した670mm幅のフィルム)を、偏光フィル
ムが三酢酸セルロースフィルムの幅方向の中央に入るよ
うに配置しながら、直径150mm(ゴム厚み15m
m、芯金直径120mm、ロール面長950mm、芯金
材質SS410)で硬度(ショアーA)85(度)のN
BRゴムロールを3000番のサンドペーパーにより回
転研磨により動摩擦係数0.30としたゴムロール2本
1組を使用して、各張力が10kg/1m幅、ラミネー
トスピード5.0m/分、加圧の線圧力が300kg/
1m幅、クリアランス無し(ラミロール間にフィルムを
挟まない状態においてラミロール間が0μmまで近ずけ
ることができる状況。)で、ポリビニルアルコール系接
着剤、重合度2600、ケン化度99.9モル%のポリ
ビニルアルコール4%水溶液を給液しながら、三層(T
ACフィルム/接着剤/偏光フィルム/接着剤/TAC
フィルム)を同時ラミネートした後、25℃で75秒空
中保持し、その後90℃にて3分乾燥して偏光板を得
た。
【0027】得られた偏光板を幅方向全長、長手方向長
1000mmに切り取り評価用の偏光板サンプルを得
た。得られた偏光板の評価を以下のように行った。 ・(クニック欠陥)偏光板サンプルの偏光フィルム耳端
より13mmを除いた面積部分のクニック欠陥を、目視
検査にて場所を確認後、顕微鏡にて大きさを確認しなが
ら個数を数えた。 ・(シワ欠陥)偏光板サンプルの偏光フィルム耳端より
13mmを除いた面積部分のシワ欠陥を、目視検査に
て、偏光板に対して、垂直方向と垂直より角度45度傾
いた方向より観察して、場所を確認後、顕微鏡にて太さ
を確認しながら本数を数えた。クニック欠陥について
は、60μm以上の大きさで、0.1個/m2以下の分
布を○、それを越えるものを×とし、シワ欠陥について
は、50μm以上の太さで無いものを○、有るものを×
とし評価した。
1000mmに切り取り評価用の偏光板サンプルを得
た。得られた偏光板の評価を以下のように行った。 ・(クニック欠陥)偏光板サンプルの偏光フィルム耳端
より13mmを除いた面積部分のクニック欠陥を、目視
検査にて場所を確認後、顕微鏡にて大きさを確認しなが
ら個数を数えた。 ・(シワ欠陥)偏光板サンプルの偏光フィルム耳端より
13mmを除いた面積部分のシワ欠陥を、目視検査に
て、偏光板に対して、垂直方向と垂直より角度45度傾
いた方向より観察して、場所を確認後、顕微鏡にて太さ
を確認しながら本数を数えた。クニック欠陥について
は、60μm以上の大きさで、0.1個/m2以下の分
布を○、それを越えるものを×とし、シワ欠陥について
は、50μm以上の太さで無いものを○、有るものを×
とし評価した。
【0028】実施例2 実施例1で使用したラミロールを直径150mm、ロー
ル面長950mmで厚み30μmハードクロムメッキの
上にテフロンを30μmコートした表面粗度5Sで動摩
擦係数0.12のロール2本1組にかえた以外は実施例
1と同様にして偏光板を得た。尚、ロール間のクリアラ
ンスは、175μmに設定(ラミロール間にフィルムを
挟まない状態においてラミロール間が175μmまで近
ずけることができる状況、尚、175μm未満には近ず
けれない。)してラミネートした。切り取り評価用の偏
光板サンプルを得て、実施例1と同様に評価した。
ル面長950mmで厚み30μmハードクロムメッキの
上にテフロンを30μmコートした表面粗度5Sで動摩
擦係数0.12のロール2本1組にかえた以外は実施例
1と同様にして偏光板を得た。尚、ロール間のクリアラ
ンスは、175μmに設定(ラミロール間にフィルムを
挟まない状態においてラミロール間が175μmまで近
ずけることができる状況、尚、175μm未満には近ず
けれない。)してラミネートした。切り取り評価用の偏
光板サンプルを得て、実施例1と同様に評価した。
【0029】実施例3 実施例1で使用したラミロールの1本を、直径150m
m、ロール面長950mmで30μmハードクロムメッ
キした表面粗度1.5Sで動摩擦係数0.25の金属ロ
ールにかえて使用した以外は実施例1と同様にして偏光
板を得た。切り取り評価用の偏光板サンプルを得て、実
施例1と同様に評価した。
m、ロール面長950mmで30μmハードクロムメッ
キした表面粗度1.5Sで動摩擦係数0.25の金属ロ
ールにかえて使用した以外は実施例1と同様にして偏光
板を得た。切り取り評価用の偏光板サンプルを得て、実
施例1と同様に評価した。
【0030】実施例4 実施例1で使用したラミロールの内1本を、直径150
mm、ロール面長950mmでハードクロムメッキの上
にテフロンを30μmコートした表面粗度10Sで動摩
擦係数0.22のテフロンコートロールにかえて使用し
た以外は実施例1と同様にして偏光板を得た。切り取り
評価用の偏光板サンプルを得て、実施例1と同様に評価
した。
mm、ロール面長950mmでハードクロムメッキの上
にテフロンを30μmコートした表面粗度10Sで動摩
擦係数0.22のテフロンコートロールにかえて使用し
た以外は実施例1と同様にして偏光板を得た。切り取り
評価用の偏光板サンプルを得て、実施例1と同様に評価
した。
【0031】実施例5 実施例4で使用した三酢酸セルロースフィルムの片側
を、メチルメタアクリレート樹脂で8μmコート(コー
ト面は接着面でなく、ラミロールに接する面である。)
したTACフィルムをアルカリケン化した670mm幅
のフィルムにかえた以外は実施例4と同様にして偏光板
を得た。切り取り評価用の偏光板サンプルを得て、実施
例1と同様に評価した。
を、メチルメタアクリレート樹脂で8μmコート(コー
ト面は接着面でなく、ラミロールに接する面である。)
したTACフィルムをアルカリケン化した670mm幅
のフィルムにかえた以外は実施例4と同様にして偏光板
を得た。切り取り評価用の偏光板サンプルを得て、実施
例1と同様に評価した。
【0032】比較例1 実施例1のラミロールにかえて、直径150mm(ゴム
厚み15mm、芯金直径120mm、ロール面長950
mm、芯金材質SS410)、動摩擦係数1.1、硬度
70のシリコンゴムロール2本1組を使用した以外は実
施例1と同様にして偏光板を得た。切り取り評価用の偏
光板サンプルを得て、実施例1と同様に評価した。
厚み15mm、芯金直径120mm、ロール面長950
mm、芯金材質SS410)、動摩擦係数1.1、硬度
70のシリコンゴムロール2本1組を使用した以外は実
施例1と同様にして偏光板を得た。切り取り評価用の偏
光板サンプルを得て、実施例1と同様に評価した。
【0033】実施例と比較例のクニックとシワの評価結
果を表1に示した。
果を表1に示した。
【表1】
【0034】
【発明の効果】本発明はセルロース系フィルムとポリビ
ニルアルコール系フィルムと積層するにあたり、ロール
の表面の動摩擦係数が0.60(JIS K 712
5)以下(0を含まない)のラミネートロールを用いロ
ールラミネートするため、クニック欠陥とシワ欠陥がな
く、外観性能良好な積層体が得られ、特にポリビニルア
ルコール系フィルムが偏光フィルムや位相差フィルム等
の光学積層体の時は、ワープロ、テレビジョン、パソコ
ン、カーナビゲーション等の用途のTFTタイプ液晶表
示装置に有用である。
ニルアルコール系フィルムと積層するにあたり、ロール
の表面の動摩擦係数が0.60(JIS K 712
5)以下(0を含まない)のラミネートロールを用いロ
ールラミネートするため、クニック欠陥とシワ欠陥がな
く、外観性能良好な積層体が得られ、特にポリビニルア
ルコール系フィルムが偏光フィルムや位相差フィルム等
の光学積層体の時は、ワープロ、テレビジョン、パソコ
ン、カーナビゲーション等の用途のTFTタイプ液晶表
示装置に有用である。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成10年2月12日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0007
【補正方法】変更
【補正内容】
【0007】尚、ここで述べるロールの表面の動摩擦係
数とは、各ロール素材とセルロース系フィルムとの間の
動摩擦係数であり、具体的測定法について、JIS K
7125−1987において、「の試験片」部分に
は、三酢酸セルロース樹脂を80μmの厚みのフィルム
に製膜した時の乾燥エアー面を使用し、「の相手材
料」部分として、各種ロール表面をもってきて測定する
(尚、クニック欠陥及びシワ欠陥は、セルロース系フィ
ルム特有の欠陥であり、ポリビニルアルコール系フィル
ムとは関係なし、故に、ラミロール表面とポリビニルア
ルコール系フィルム表面との動摩擦係数は関係な
し。)。「の相手材料」部分について、ゴムロールの
時は、かかるゴムロール表面を3mm厚みに剥いで装着
し、その他の金属ロール、各種コートロールは、金属平
板の表面に、これらのロール表面と同一の表面処理をお
こない代用し装着し測定する。該測定前に、かかる製膜
三酢酸セルロースフィルムや、各種ロール表面サンプル
は23℃50%RHにて10日間放置された後に測定さ
れる。
数とは、各ロール素材とセルロース系フィルムとの間の
動摩擦係数であり、具体的測定法について、JIS K
7125−1987において、「の試験片」部分に
は、三酢酸セルロース樹脂を80μmの厚みのフィルム
に製膜した時の乾燥エアー面を使用し、「の相手材
料」部分として、各種ロール表面をもってきて測定する
(尚、クニック欠陥及びシワ欠陥は、セルロース系フィ
ルム特有の欠陥であり、ポリビニルアルコール系フィル
ムとは関係なし、故に、ラミロール表面とポリビニルア
ルコール系フィルム表面との動摩擦係数は関係な
し。)。「の相手材料」部分について、ゴムロールの
時は、かかるゴムロール表面を3mm厚みに剥いで装着
し、その他の金属ロール、各種コートロールは、金属平
板の表面に、これらのロール表面と同一の表面処理をお
こない代用し装着し測定する。該測定前に、かかる製膜
三酢酸セルロースフィルムや、各種ロール表面サンプル
は23℃50%RHにて10日間放置された後に測定さ
れる。
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0009
【補正方法】変更
【補正内容】
【0009】
【発明の実施の形態】以下、本発明について具体的に説
明する。本発明の積層法で使用される基材について述べ
る。本発明で使用されるセルロース系フィルムの原料と
なるセルロースエステルとしては、セルロースと酸のエ
ステルであれば特には限定しないが、好ましくは、セル
ロースと脂肪酸のエステルで、セルローストリアセテー
ト、セルロースジアセテート、セルローストリプロピオ
ネート、セルロースジプロピオネート等が使用される。
かかるセルロース系フィルムの原料の光学積層体用途の
ものとしては、低複屈折の面と高透過率の面よりセルロ
ーストリアセテート(三酢酸セルロース)が好適であ
り、該三酢酸セルロースフィルム(TACフィルム)の
市販品としては具体的に、富士写真フィルム製「UV−
50」、「SH−50」、「UV−80」、「SH−8
0」、「TD−80U」や、コニカ製の「三酢酸セルロ
ース80μmシリーズ」、ロンザジャパン製「三酢酸セ
ルロース80μmシリーズ」等を挙げることができる。
該セルロース系フィルムの厚みは特には限定されない
が、20〜150μmが好ましく、更には50〜85μ
mが好ましい。尚、これらのセルロース系フィルムは、
ラミネートにでの接着補強のために、通常、その接着面
をアルカリケン化やコロナ処理等の表面改質されて実用
に供される。
明する。本発明の積層法で使用される基材について述べ
る。本発明で使用されるセルロース系フィルムの原料と
なるセルロースエステルとしては、セルロースと酸のエ
ステルであれば特には限定しないが、好ましくは、セル
ロースと脂肪酸のエステルで、セルローストリアセテー
ト、セルロースジアセテート、セルローストリプロピオ
ネート、セルロースジプロピオネート等が使用される。
かかるセルロース系フィルムの原料の光学積層体用途の
ものとしては、低複屈折の面と高透過率の面よりセルロ
ーストリアセテート(三酢酸セルロース)が好適であ
り、該三酢酸セルロースフィルム(TACフィルム)の
市販品としては具体的に、富士写真フィルム製「UV−
50」、「SH−50」、「UV−80」、「SH−8
0」、「TD−80U」や、コニカ製の「三酢酸セルロ
ース80μmシリーズ」、ロンザジャパン製「三酢酸セ
ルロース80μmシリーズ」等を挙げることができる。
該セルロース系フィルムの厚みは特には限定されない
が、20〜150μmが好ましく、更には50〜85μ
mが好ましい。尚、これらのセルロース系フィルムは、
ラミネートにでの接着補強のために、通常、その接着面
をアルカリケン化やコロナ処理等の表面改質されて実用
に供される。
【手続補正3】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0026
【補正方法】変更
【補正内容】
【0026】
【実施例】次に実施例を挙げて更に詳しく説明する。
尚、実施例中、「%」とあるのは特に断りのない限り重
量基準である。 実施例1 平均重合度5000、ケン化度99.6モル%のポリビ
ニルアルコールを水に溶解し、2.5%の溶液を得た。
該溶液をポリエチレンテレフタレートフィルム上に流延
後乾燥し原反フィルム(65μm、幅1200mm)を
得た。該フィルムを、ヨウ素0.25g/l、ヨウ化カ
リウム60g/lよりなる水溶液中に20℃にて340
秒浸漬し、次いでホウ酸50g/l、ヨウ化カリウム6
0g/l、ヨウ素2ppmの組成の水溶液に浸漬すると
共に、52℃にて同時に5.7倍に一軸延伸を行いつつ
10分間にわたってホウ酸処理を行った。次に7℃の水
洗槽に4秒間浸漬した後、ヨウ素0.15g/l、ヨウ
化カリウム20g/lよりなる水溶液中に15℃にて1
5秒間浸漬し、次に55℃にて2分間乾燥し、厚み20
μm、幅640mmの偏光フィルムを得た。クリーン度
100CFT、25℃60%RHのクリーンルームに
て、得られた偏光フィルムの両面に、厚み80μmの三
酢酸セルロースフィルム(接着面をアルカリケン化した
670mm幅のフィルム)を、偏光フィルムが三酢酸セ
ルロースフィルムの幅方向の中央に入るように配置しな
がら、直径150mm(ゴム厚み15mm、芯金直径1
20mm、ロール面長950mm、芯金材質SS41
0)で硬度(ショアーA)85(度)のNBRゴムロー
ルを3000番のサンドペーパーにより回転研磨により
動摩擦係数0.30としたゴムロール2本1組を使用し
て、各張力が10kg/1m幅、ラミネートスピード
5.0m/分、加圧の線圧力が300kg/1m幅、ク
リアランス無し(ラミロール間にフィルムを挟まない状
態においてラミロール間が0μmまで近ずけることがで
きる状況。)で、ポリビニルアルコール系接着剤、重合
度2600、ケン化度99.9モル%のポリビニルアル
コール4%水溶液を給液しながら、三層(TACフィル
ム/接着剤/偏光フィルム/接着剤/TACフィルム)
を同時ラミネートした後、25℃で75秒空中保持し、
その後90℃にて3分乾燥して偏光板を得た。
尚、実施例中、「%」とあるのは特に断りのない限り重
量基準である。 実施例1 平均重合度5000、ケン化度99.6モル%のポリビ
ニルアルコールを水に溶解し、2.5%の溶液を得た。
該溶液をポリエチレンテレフタレートフィルム上に流延
後乾燥し原反フィルム(65μm、幅1200mm)を
得た。該フィルムを、ヨウ素0.25g/l、ヨウ化カ
リウム60g/lよりなる水溶液中に20℃にて340
秒浸漬し、次いでホウ酸50g/l、ヨウ化カリウム6
0g/l、ヨウ素2ppmの組成の水溶液に浸漬すると
共に、52℃にて同時に5.7倍に一軸延伸を行いつつ
10分間にわたってホウ酸処理を行った。次に7℃の水
洗槽に4秒間浸漬した後、ヨウ素0.15g/l、ヨウ
化カリウム20g/lよりなる水溶液中に15℃にて1
5秒間浸漬し、次に55℃にて2分間乾燥し、厚み20
μm、幅640mmの偏光フィルムを得た。クリーン度
100CFT、25℃60%RHのクリーンルームに
て、得られた偏光フィルムの両面に、厚み80μmの三
酢酸セルロースフィルム(接着面をアルカリケン化した
670mm幅のフィルム)を、偏光フィルムが三酢酸セ
ルロースフィルムの幅方向の中央に入るように配置しな
がら、直径150mm(ゴム厚み15mm、芯金直径1
20mm、ロール面長950mm、芯金材質SS41
0)で硬度(ショアーA)85(度)のNBRゴムロー
ルを3000番のサンドペーパーにより回転研磨により
動摩擦係数0.30としたゴムロール2本1組を使用し
て、各張力が10kg/1m幅、ラミネートスピード
5.0m/分、加圧の線圧力が300kg/1m幅、ク
リアランス無し(ラミロール間にフィルムを挟まない状
態においてラミロール間が0μmまで近ずけることがで
きる状況。)で、ポリビニルアルコール系接着剤、重合
度2600、ケン化度99.9モル%のポリビニルアル
コール4%水溶液を給液しながら、三層(TACフィル
ム/接着剤/偏光フィルム/接着剤/TACフィルム)
を同時ラミネートした後、25℃で75秒空中保持し、
その後90℃にて3分乾燥して偏光板を得た。
Claims (7)
- 【請求項1】 セルロース系フィルムとポリビニルアル
コール系フィルムとをロールラミネートするにあたり、
ラミネートロールの表面の動摩擦係数(JIS K 7
125に基づいて測定)が0.60以下のラミネートロ
ールを用いることを特徴とする積層法。 - 【請求項2】 ラミネートロールが、表面硬度(ショア
ーA)が70〜95(度)(JIS K 6301に基
づいて測定)であるゴムロールであることを特徴とする
請求項1記載の積層法。 - 【請求項3】 ラミネートロールが、金属表面の粗度が
0.5〜5.0Sである金属ロールであるか、表面がテ
フロンコート又はセラミックコートされかつそれらの表
面の粗度が0.1〜10Sである金属ロールであること
を特徴とする請求項1記載の積層法。 - 【請求項4】 ラミネートロールの直径(外径)が75
〜300mmであることを特徴とする請求項1〜3いず
れか記載の積層法。 - 【請求項5】 セルロース系フィルムが三酢酸セルロー
スフィルムであることを特徴とする請求項1〜4いずれ
か記載の積層法。 - 【請求項6】 ポリビニルアルコール系フィルムが偏光
フィルム又は位相差フィルムであることを特徴とする請
求項1〜5いずれか記載の積層法。 - 【請求項7】 セルロース系フィルムとポリビニルアル
コール系フィルムとをロールラミネートした後に、10
〜35℃にて25〜85秒間、空中保持されてなること
を特徴とする請求項1〜6いずれか記載の積層法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31304996A JP3201963B2 (ja) | 1996-11-08 | 1996-11-08 | 積層法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31304996A JP3201963B2 (ja) | 1996-11-08 | 1996-11-08 | 積層法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10138405A true JPH10138405A (ja) | 1998-05-26 |
JP3201963B2 JP3201963B2 (ja) | 2001-08-27 |
Family
ID=18036599
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP31304996A Expired - Lifetime JP3201963B2 (ja) | 1996-11-08 | 1996-11-08 | 積層法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3201963B2 (ja) |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000021387A (ja) * | 1998-07-01 | 2000-01-21 | Mitsubishi Cable Ind Ltd | シート型電池 |
JP2003094850A (ja) * | 2001-09-26 | 2003-04-03 | General Kk | 感熱孔版印刷用原紙の製造方法 |
US6649260B2 (en) | 2000-12-08 | 2003-11-18 | Toyo Boseki Kabushiki Kaisha | Optical coating film |
KR100431831B1 (ko) * | 1999-07-20 | 2004-05-20 | 주식회사 포스코 | 스트립 이송장치 |
US6897916B2 (en) | 2001-09-11 | 2005-05-24 | Nitto Denko Corporation | Polarizing plate, optical element, and liquid crystal display |
JP2008037092A (ja) * | 2006-07-12 | 2008-02-21 | Nitto Denko Corp | 多層積層フィルムの製造方法 |
US7517478B2 (en) * | 2002-09-19 | 2009-04-14 | The Nippon Synthetic Chemical Industry Co. Ltd. | Process for preparing polyvinyl alcohol film and polarizing film using the same |
JP2011138032A (ja) * | 2009-12-28 | 2011-07-14 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 偏光板の製造方法 |
JP2014177014A (ja) * | 2013-03-14 | 2014-09-25 | Nitto Denko Corp | 多層積層フィルムの製造方法 |
-
1996
- 1996-11-08 JP JP31304996A patent/JP3201963B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2000021387A (ja) * | 1998-07-01 | 2000-01-21 | Mitsubishi Cable Ind Ltd | シート型電池 |
KR100431831B1 (ko) * | 1999-07-20 | 2004-05-20 | 주식회사 포스코 | 스트립 이송장치 |
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JP2003094850A (ja) * | 2001-09-26 | 2003-04-03 | General Kk | 感熱孔版印刷用原紙の製造方法 |
US7517478B2 (en) * | 2002-09-19 | 2009-04-14 | The Nippon Synthetic Chemical Industry Co. Ltd. | Process for preparing polyvinyl alcohol film and polarizing film using the same |
JP2008037092A (ja) * | 2006-07-12 | 2008-02-21 | Nitto Denko Corp | 多層積層フィルムの製造方法 |
US20100206478A1 (en) * | 2006-07-12 | 2010-08-19 | Nitto Denko Corporation | Method for producing multilayer laminated film |
JP2011138032A (ja) * | 2009-12-28 | 2011-07-14 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 偏光板の製造方法 |
JP2014177014A (ja) * | 2013-03-14 | 2014-09-25 | Nitto Denko Corp | 多層積層フィルムの製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3201963B2 (ja) | 2001-08-27 |
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---|---|---|---|
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