JPH10134346A - Production of magnetic recording medium - Google Patents

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a high-characteristic magnetic disk which is useful for making a capacity higher and density higher and has high coercive force and small coercive force distribution by specifying an etching rate in electrolytic etching treatment to a ratio of a specific range with respect to a conductive substrate weight. SOLUTION: The electrolyte to be used for electrolytic etching includes aq. solns. of, for example, sulfuric acid, nitric acid, hydrochloric acid, etc. Electrolysis conditions are specified to a liquid temp. 10 to 70 deg.C, average current density 0.5 to 45mA, electrolysis time 2 to 200 seconds and quantity of electricity 50 to 800mA.sec/cm<2> . The electrolyte etching rate is so regulated as to attain 0.05 to 0.025% of the conductive substrate weight. If the etching rate is below 0.015%, the higher coercive force and the improvement in coercive force distribution are insufficient. When the etching rate exceeds 0.025%, the coercive force distribution improves but on the contrary, the coercive force degrades. The electrolyte etching is preferably executed by impressing AC voltages in an acidic soln in such a manner that the currents flowing in the substrate has specific waveforms, i.e., square waves.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【０００１】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は磁気記録媒体の製造
方法に係り、特に、導電性基板の電解エッチング量の最
適化により磁気記録媒体の面内の保磁力分布を減少させ
る方法に関する。The present invention relates to a method for manufacturing a magnetic recording medium, and more particularly to a method for reducing the in-plane coercive force distribution of a magnetic recording medium by optimizing the amount of electrolytic etching of a conductive substrate.

【０００２】[0002]

【従来の技術】近年、コンピュータ等の情報処理技術の
発達に伴い、その外部記憶装置として磁気ディスク等の
磁気記録媒体が用いられている。従来、磁気記録媒体と
しては、アルミニウム合金基板にアルマイト処理やＮｉ
−Ｐメッキ等の非磁性メッキ処理を施した非磁性基板
に、Ｃｒ等の下地層を被覆し、次いで、Ｃｏ系合金の磁
性薄膜層を被覆し、更に炭素質の保護膜を被覆したもの
が使用されている。2. Description of the Related Art In recent years, with the development of information processing technology such as computers, magnetic recording media such as magnetic disks have been used as external storage devices. Conventionally, as a magnetic recording medium, an alumite treatment or Ni
A non-magnetic substrate that has been subjected to a non-magnetic plating process such as -P plating is coated with a base layer such as Cr, then coated with a magnetic thin film layer of a Co-based alloy, and further coated with a carbonaceous protective film. in use.

【０００３】上記磁気記録媒体（以下、磁気ディスクと
称す。）では、その高密度化に伴い磁気ディスクと磁気
ヘッドとの間隔、即ちヘッドの浮上量がますます小さく
なり、最近では０．１５μｍ程度以下となっている。こ
のように小さな浮上量では、磁気ディスク面に突起が存
在すると、時にヘッドクラッシュを招いてディスク表面
を傷つけるおそれがある。また、ヘッドクラッシュに至
らない微小な突起の存在であっても、情報の読み書きの
際に種々のエラーを引き起こす原因となり得る。In the above-mentioned magnetic recording medium (hereinafter referred to as a magnetic disk), the distance between the magnetic disk and the magnetic head, that is, the flying height of the head is becoming smaller and smaller with the increase in density, and recently, about 0.15 μm. It is as follows. With such a small flying height, if a protrusion exists on the surface of the magnetic disk, there is a possibility that a head crash may sometimes occur and the disk surface may be damaged. Also, the presence of minute projections that do not lead to a head crash can cause various errors when reading and writing information.

【０００４】一方、磁気ディスクは、その大容量化及び
高密度化と並行して小型化も進められており、スピンド
ル回転用の駆動モータも益々小型化されている。このた
め、駆動モータのトルクが不足する場合があり、磁気ヘ
ッドが磁気ディスク面に固着したまま浮上しないという
現象も生じやすい。On the other hand, magnetic disks are being miniaturized in parallel with their large capacity and high density, and drive motors for rotating spindles are becoming increasingly smaller. For this reason, the torque of the drive motor may be insufficient, and a phenomenon that the magnetic head does not fly while fixed to the magnetic disk surface is likely to occur.

【０００５】このような磁気ヘッドのクラッシュや固着
を防止するために、従来、磁気ディスク用基板の表面を
研磨加工（ポリッシュ加工）した後、更に表面に微細な
溝を形成する表面加工処理（以下、テクスチャ加工と称
す。）が行われている。ただし、ヘッドの浮上量の低減
により、このテクスチャ加工についても加工後の基板の
平均表面粗さＲａが低減されており（低Ｒａ化）、Ｒａ
≦２０Åとされる場合もある。Conventionally, in order to prevent such a magnetic head from crashing or sticking, a surface processing (hereinafter referred to as a polishing process) for forming a fine groove on the surface of a magnetic disk substrate after polishing (polishing) the surface of the magnetic disk substrate has been conventionally performed. , Texture processing). However, due to the reduction in the flying height of the head, the average surface roughness Ra of the processed substrate is also reduced in this texture processing (reduction of Ra).
≦ 20 ° in some cases.

【０００６】テクスチャ加工は、磁気ヘッドと磁気ディ
スク表面との接触抵抗を小さくするのに特に有効であ
り、テクスチャ加工により、磁気ディスクにおけるヘッ
ドの浮上特性が改善されるものの、最近のヘッド浮上量
の小さい磁気ディスクに要請される性能には未だ不充分
である。[0006] Texture processing is particularly effective in reducing the contact resistance between the magnetic head and the surface of the magnetic disk. Although the floating processing of the head on the magnetic disk is improved by the texturing, the recent flying height of the head has been reduced. The performance required for small magnetic disks is still insufficient.

【０００７】なお、特開平４−９５２２１号公報には、
上記要請に応えるべく、テクスチャ加工後の基板を洗浄
した後、更に電解エッチングを行って表面処理すること
が提案されている。[0007] Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-95221 discloses that
In order to meet the above demand, it has been proposed to wash the substrate after the texture processing and then perform electrolytic etching to perform surface treatment.

【０００８】[0008]

【発明が解決しようとする課題】磁気ディスクの大容量
化及び高密度化の達成のためには、磁気ディスクの保磁
力（Ｈｃ）を高めると共に、ディスク面内のＨｃ分布
（ディスク面の各点におけるＨｃの差）を最小にするこ
とが要求されるが、最近のヘッド浮上量の低減に伴うテ
クスチャ加工の低Ｒａ化により、特に、磁気ディスクの
外周のＨｃが低下することでディスク面内のＨｃ分布が
悪化するという問題が発生している。In order to increase the capacity and density of the magnetic disk, the coercive force (Hc) of the magnetic disk must be increased and the Hc distribution in the disk surface (each point on the disk surface) must be increased. The difference in Hc of the magnetic disk is required to be minimized. However, the recent reduction in the flying height of the head has led to a reduction in the Ra of the texture processing, and in particular, the Hc on the outer periphery of the magnetic disk has been reduced, so that the in-plane of the disk has been reduced. There is a problem that the Hc distribution deteriorates.

【０００９】本発明は上記従来の問題点を解決し、Ｈｃ
が高く、かつ、ディスク面内のＨｃ分布の小さい高特性
磁気ディスクを製造する方法を提供することを目的とす
る。The present invention solves the above-mentioned conventional problems and provides Hc
It is an object of the present invention to provide a method of manufacturing a high-performance magnetic disk having a high Hc distribution and a small Hc distribution in the disk surface.

【００１０】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明の磁気記録媒体の
製造方法は、導電性基板を電解エッチング処理する工程
を有する磁気記録媒体の製造方法において、該電解エッ
チング処理におけるエッチング量を該導電性基板重量に
対して０．０１５〜０．０２５％とすることを特徴とす
る。According to a method of manufacturing a magnetic recording medium of the present invention, there is provided a method of manufacturing a magnetic recording medium having a step of electrolytically etching a conductive substrate. It is characterized by being 0.015 to 0.025% with respect to the substrate weight.

【００１１】即ち、本発明者等は、上記従来の問題点を
解決するべく鋭意検討を行った結果、電解エッチング量
の最適化によりディスクのＨｃ分布が激減することを見
出し本発明を完成するに到った。That is, the present inventors have conducted intensive studies to solve the above-mentioned conventional problems, and as a result, have found that the Hc distribution of the disk is drastically reduced by optimizing the amount of electrolytic etching, and to complete the present invention. It has arrived.

【００１２】本発明に従って、電解エッチング量を導電
性基板重量の０．０１５〜０．０２５％とすることによ
り、磁気ディスクのＨｃを高く維持した上でＨｃ分布を
小さくすることができる。According to the present invention, by setting the amount of electrolytic etching to 0.015 to 0.025% of the weight of the conductive substrate, the Hc distribution can be reduced while maintaining the Hc of the magnetic disk high.

【００１３】なお、このエッチング処理工程は、研磨処
理又はテクスチャ加工の後に実施するのが好ましい。It is preferable that this etching process is performed after polishing or texturing.

【００１４】[0014]

【発明の実施の形態】以下に本発明の実施の形態につい
て説明する。Embodiments of the present invention will be described below.

【００１５】本発明における磁気ディスクの導電性基板
としては、一般にアルミニウム合金からなるディスク状
基板が用いられ、通常、該アルミニウム合金基板を所定
の厚さに加工した後に、その表面を鏡面加工してから、
非磁性金属、例えばＮｉ−Ｐ合金又はＮｉ−Ｃｕ−Ｐ合
金を無電解メッキ処理により被着し、約５〜２０μｍの
膜厚の表面層を形成する。次いで、この表面層上に表面
加工処理を行い、特定の面粗さに仕上げた表面加工層を
形成する。この表面加工処理としては、通常の場合、表
面層に研磨加工（ポリッシュ加工）を施し、次いでテク
スチャ加工を施した後に、本発明方法に従って、基板表
面を電解液中で電解エッチング処理する。なお、エッチ
ング処理は、研磨加工後に行っても良い。As the conductive substrate of the magnetic disk in the present invention, a disk-shaped substrate made of an aluminum alloy is generally used. Usually, the aluminum alloy substrate is processed to a predetermined thickness, and the surface is mirror-finished. From
A nonmagnetic metal, for example, a Ni-P alloy or a Ni-Cu-P alloy is applied by electroless plating to form a surface layer having a thickness of about 5 to 20 m. Next, a surface processing is performed on this surface layer to form a surface processed layer finished to a specific surface roughness. As the surface processing, usually, the surface layer is polished (polished) and then subjected to texturing, and then the substrate surface is subjected to electrolytic etching in an electrolytic solution according to the method of the present invention. Note that the etching treatment may be performed after the polishing.

【００１６】ポリッシュ加工は、例えば、表面に遊離砥
粒を付着させて染み込ませたポリッシュパッドの間に基
板を挟み込み、界面活性剤水溶液等の研磨液を補給しな
がら行う。通常の場合、基板表面を２〜５μｍ程度ポリ
ッシュ加工して、基板表面の平均表面粗さＲａが３０Å
以下、望ましくは２０Å以下に鏡面仕上げする。ここ
で、遊離砥粒としては、代表的には、アルミナ系スラリ
ーのＤＬ−３４７１やＤＬ−４４７９（共に（株）フジ
ミインコーポレーテッドの登録商標）、ダイヤモンド系
スラリー、ＳｉＣ系スラリー等が用いられる。ポリッシ
ュパッドとしては、代表的には、Ｓｕｒｆｉｎ０１８や
ＳｕｒｆｉｎＸＸＸ−５（共に（株）フジミインコーポ
レーテッドの登録商標）等の発泡ウレタン等が用いられ
る。The polishing is carried out, for example, by sandwiching the substrate between polishing pads having free abrasive grains attached to and impregnated on the surface thereof, and supplying a polishing solution such as an aqueous solution of a surfactant. In a normal case, the substrate surface is polished by about 2 to 5 μm, and the average surface roughness Ra of the substrate surface is 30 °.
Hereafter, it is desirably mirror-finished to 20 ° or less. Here, as the free abrasive grains, typically, alumina-based slurries DL-3471 and DL-4479 (both are registered trademarks of Fujimi Incorporated), diamond-based slurries, SiC-based slurries, and the like are used. As the polish pad, urethane foam such as Surfin018 and SurfinXXX-5 (both are registered trademarks of Fujimi Incorporated) is typically used.

【００１７】テクスチャ加工は、例えば、平均粒径０．
１〜３μｍのダイヤモンドスラリーを担持したバフテー
プを用い、上記ポリッシュ加工を施した基板面に対して
このバフテープを加工ローラで押圧して、基板の円周方
向に平均表面粗さＲａが５〜６０Å、望ましくは５〜４
０Å、更に望ましくは５〜２０Åの範囲の微細な溝若し
くは凹凸を精度良く形成するものであり、このテクスチ
ャ加工により、磁気ヘッドと磁気ディスクとの間での吸
着を防止でき、ＣＳＳ特性が改善され、更に、磁気ディ
スクの磁気異方性が良好となる。The texture processing is carried out, for example, in the case where the average particle size is 0.
Using a buff tape carrying 1 to 3 μm diamond slurry, pressing the buff tape against the polished substrate surface with a processing roller, the average surface roughness Ra in the circumferential direction of the substrate is 5 to 60 °, Preferably 5-4
Fine grooves or irregularities in the range of 0 °, more preferably in the range of 5 ° to 20 °, are formed with high precision. By this texture processing, adsorption between the magnetic head and the magnetic disk can be prevented, and the CSS characteristics can be improved. Furthermore, the magnetic anisotropy of the magnetic disk is improved.

【００１８】テクスチャ加工後は、基板表面を電解エッ
チング処理しその後、薄膜形成工程により下地層及び磁
性層を形成する。After texturing, the surface of the substrate is subjected to electrolytic etching, and then an underlayer and a magnetic layer are formed by a thin film forming process.

【００１９】本発明方法において、電解エッチングに用
いる電解液としては、例えば、硫酸、硝酸、塩酸、クロ
ム酸、リン酸、シュウ酸、酢酸等の１種又は２種以上を
組み合わせた０．５〜４０重量％、望ましくは１〜３０
重量％の範囲の濃度の水溶液が挙げられ、特にリン酸水
溶液が好適である。電解処理の条件としては、液温が１
０〜７０℃、平均電流密度が５０ｍＡ／ｃｍ² 以下、好
ましくは０．１〜５０ｍＡ／ｃｍ² 、更に好ましくは
０．５〜４５ｍＡ／ｃｍ² 、電解時間が１〜４００秒、
好ましくは２〜２００秒、電気量（平均電流密度と電解
時間の積）が１０〜１０００ｍＡ・秒／ｃｍ² 、好まし
くは５０〜８００ｍＡ・秒／ｃｍ² の範囲が選ばれ、こ
のような条件において電解エッチング量が加工直前の基
板重量の０．０１５〜０．０２５％となるように実施さ
れる。ここで、電解エッチング量が導電性基板重量の
０．０１５％未満では高Ｈｃ化及びＨｃ分布の改善が十
分でなく、０．０２５％を超えるとＨｃ分布は良好とな
る反面Ｈｃが低下する傾向がある。In the method of the present invention, the electrolytic solution used for electrolytic etching may be, for example, 0.5 to 1 or a combination of two or more of sulfuric acid, nitric acid, hydrochloric acid, chromic acid, phosphoric acid, oxalic acid and acetic acid. 40% by weight, preferably 1 to 30
An aqueous solution having a concentration in the range of% by weight is exemplified, and an aqueous phosphoric acid solution is particularly preferable. The conditions for the electrolytic treatment are as follows:
0 to 70 ° C., an average current density of 50 mA / cm ² or less, preferably 0.1~50mA / cm ^2, more preferably 0.5~45mA / cm ^2, the electrolysis time is 1 to 400 seconds,
Preferably, a range of 2 to 200 seconds and a quantity of electricity (product of average current density and electrolysis time) of 10 to 1000 mA · sec / cm ² , preferably 50 to 800 mA · sec / cm ² are selected. The etching is performed so that the electrolytic etching amount is 0.015 to 0.025% of the substrate weight immediately before processing. Here, if the amount of electrolytic etching is less than 0.015% of the weight of the conductive substrate, the increase in Hc and the improvement in Hc distribution are not sufficient, and if it exceeds 0.025%, the Hc distribution becomes good, but Hc tends to decrease. There is.

【００２０】なお、本発明において、電解エッチング
は、酸性溶液の電解液中において、基板に流れる電流が
特定の波形即ち、矩形波となるように交番電圧を印加し
て行うのが好ましい。In the present invention, the electrolytic etching is preferably performed by applying an alternating voltage in an electrolytic solution of an acidic solution so that the current flowing through the substrate has a specific waveform, that is, a rectangular wave.

【００２１】上記電解エッチング処理を施した基板表面
には、第２次下地層としてＣｒをスパッタリングにより
形成する。このＣｒ下地層の膜厚は通常１００〜１００
０Åの範囲である。このような基板のＣｒ下地層上に形
成される金属磁性薄膜層としては、Ｃｏ−Ｃｒ、Ｃｏ−
Ｎｉ、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｘ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｘ、Ｃｏ−Ｗ−Ｘ
等で表わされるＣｏ系合金の磁性層が好適である。ここ
でＸとしてはＬｉ、Ｓｉ、Ｃａ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｎ
ｉ、Ａｓ、Ｙ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ａｇ、
Ｓｂ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ａ
ｕ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、Ｓｍ及びＥｕより
なる群から選ばれる１種又は２種以上の元素が挙げられ
る。このようなＣｏ系合金からなる磁性層は、通常、ス
パッタリング等の手段によって基板のＣｒ下地層上に１
００〜１０００Åの膜厚で形成される。On the substrate surface subjected to the electrolytic etching treatment, Cr is formed as a second underlayer by sputtering. The thickness of the Cr underlayer is usually 100 to 100.
0 ° range. As the metal magnetic thin film layer formed on the Cr underlayer of such a substrate, Co—Cr, Co—
Ni, Co-Cr-X, Co-Ni-X, Co-W-X
A magnetic layer of a Co-based alloy represented by, for example, is preferable. Here, X is Li, Si, Ca, Ti, V, Cr, N
i, As, Y, Zr, Nb, Mo, Ru, Rh, Ag,
Sb, Hf, Ta, W, Re, Os, Ir, Pt, A
One, two or more elements selected from the group consisting of u, La, Ce, Pr, Nd, Pm, Sm and Eu. The magnetic layer made of such a Co-based alloy is usually formed on the Cr underlayer of the substrate by means such as sputtering.
It is formed with a thickness of 00 to 1000 °.

【００２２】上記磁性層上には、好ましくは炭素質膜か
らなる保護層が形成される。炭素質保護層は、通常、Ａ
ｒ、Ｈｅ等の希ガス雰囲気下又はこれに加えて少量の水
素の存在下で、カーボンをターゲットとして行うスパッ
タリングにより形成され、アモルファス状カーボン膜や
水素化カーボン膜等として被着形成される。この保護層
の膜厚は、通常５０〜５００Åの範囲である。On the magnetic layer, a protective layer preferably made of a carbonaceous film is formed. The carbonaceous protective layer is usually made of A
It is formed by sputtering using carbon as a target in a rare gas atmosphere such as r or He or in the presence of a small amount of hydrogen in addition thereto, and is formed as an amorphous carbon film or a hydrogenated carbon film. The thickness of this protective layer is usually in the range of 50 to 500 °.

【００２３】なお、摩擦係数を更に小さくするために、
この保護層上に更に潤滑膜を形成しても良い。In order to further reduce the coefficient of friction,
A lubricating film may be further formed on this protective layer.

【００２４】[0024]

【実施例】以下に実施例及び比較例を挙げて本発明をよ
り具体的に説明する。The present invention will be described more specifically below with reference to examples and comparative examples.

【００２５】実施例１ アルミニウム合金よりなるディスク状基板に常法に従っ
て、無電解メッキ処理により膜厚１０μｍのＮｉＰ表面
層を形成し、ポリッシュ加工を行って平均表面粗さＲａ
２０Åに加工した後、テクスチャ加工を行って平均表面
粗さＲａ１５Åに加工し、次いで、３重量％のリン酸水
溶液中にて、２３℃，平均電流密度４０ｍＡ／ｃｍ² で
電解エッチング処理を行った。この電解エッチング処理
に当って、電解時間を調節することにより、電解エッチ
ング量を１．５ｍｇ，３．０ｍｇ又は５．０ｍｇとし
た。比較のため、電解エッチングを行わないもの（電解
エッチング量０ｍｇ）も準備した。なお、電解エッチン
グ量１．５ｍｇのものは、テクスチャ加工後の基板重量
に対する電解エッチング量の割合が０．０１０％、電解
エッチング量３．０ｍｇのものは、基板重量に対する電
解エッチング量の割合が０．０２０％、電解エッチング
量５．０ｍｇのものは、基板重量に対する電解エッチン
グ量の割合が０．０３４％である。EXAMPLE 1 A 10 μm-thick NiP surface layer was formed on a disk-shaped substrate made of an aluminum alloy by electroless plating according to a conventional method, and polished to obtain an average surface roughness Ra.
After processing to 20 °, texture processing was performed to obtain an average surface roughness Ra of 15 °, and then electrolytic etching was performed in a 3% by weight phosphoric acid aqueous solution at 23 ° C. and an average current density of 40 mA / cm ² . . In this electrolytic etching treatment, the amount of electrolytic etching was adjusted to 1.5 mg, 3.0 mg, or 5.0 mg by adjusting the electrolytic time. For comparison, one without electrolytic etching (electrolytic etching amount 0 mg) was also prepared. In the case of the electrolytic etching amount of 1.5 mg, the ratio of the electrolytic etching amount to the substrate weight after texture processing is 0.010%, and in the case of the electrolytic etching amount of 3.0 mg, the ratio of the electrolytic etching amount to the substrate weight is 0. In the case of 0.020% and the amount of electrolytic etching of 5.0 mg, the ratio of the amount of electrolytic etching to the substrate weight is 0.034%.

【００２６】各々の基板について、膜厚７００ÅのＣｒ
下地層を形成した後、膜厚４４０ÅのＣｏＣｒＴａ合金
磁性層を形成し、更に、膜厚１００Åの炭素質保護層を
形成して磁気ディスクを製造し、得られた磁気ディスク
のＨｃを測定した。For each substrate, a 700 ° -thick Cr
After the formation of the underlayer, a CoCrTa alloy magnetic layer having a thickness of 440 ° was formed, and a carbonaceous protective layer having a thickness of 100 ° was further formed to manufacture a magnetic disk. The Hc of the obtained magnetic disk was measured.

【００２７】Ｈｃの測定点は中心から半径２１ｍｍ，３
３ｍｍ及び４５ｍｍの位置で９０°毎に片面１２点、表
裏表面で２４点とし、各々５枚のディスクのＨｃの平均
値（２４×５＝１２０点の平均値）を求め、結果を図１
に示した。また、Ｈｃの標準偏差σを図２に、内周の測
定点（中心から半径２１ｍｍの位置のｎ＝４０の平均
値）のＨｃ_inと外周の測定点（中心から半径４５ｍｍの
位置のｎ＝４０の平均値）のＨｃ_out との差を図３に示
した。図１より、エッチング量３ｍｇでＨｃが最大値を
示すことがわかる。The measurement point of Hc is a radius 21 mm from the center, 3
At points of 3 mm and 45 mm, 12 points on one side and 24 points on the front and back surfaces at 90 ° intervals, the average value of Hc of each of the five disks (24 × 5 = average value of 120 points) was obtained.
It was shown to. The standard deviation σ of Hc is shown in FIG. 2 as Hc in of the inner circumference measurement point (average value of n = 40 at a position of a radius of 21 mm from the center) and Hc _in of the outer circumference (n = 40 at a position of a radius of 45 mm from the center). The difference from Hc _out of (average value of 40) is shown in FIG. FIG. 1 shows that Hc shows the maximum value when the etching amount is 3 mg.

【００２８】また、図２，３より、低Ｒａにおいて、外
周のＨｃの方が内周のＨｃより低く、エッチング量の増
加に伴ないσ及びＨｃ差（Ｈｃ_in−Ｈｃ_out ）が減少す
る傾向があり、図１〜３の結果から高Ｈｃ及びＨｃ分布
の最小化のためには、本実施例の基板においてエッチン
グ量が３±０．５ｍｇであることが好ましいことがわか
る。2 and 3, at low Ra, Hc at the outer periphery is lower than Hc at the inner periphery, and the σ and Hc difference (Hc _in -Hc _out ) tend to decrease with an increase in the etching amount. From the results of FIGS. 1 to 3, it can be seen that in order to minimize the high Hc and the Hc distribution, it is preferable that the etching amount in the substrate of the present example is 3 ± 0.5 mg.

【００２９】[0029]

【発明の効果】以上詳述した通り、本発明の磁気記録媒
体の製造方法によれば、高ＨｃでしかもＨｃ分布が小さ
く、従って、磁気ディスクの高容量化及び高密度化に有
用な高特性磁気ディスクを製造することができる。As described in detail above, according to the method of manufacturing a magnetic recording medium of the present invention, the Hc is high and the Hc distribution is small, and therefore, the high characteristics which are useful for increasing the capacity and density of the magnetic disk. A magnetic disk can be manufactured.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図１】実施例１における平均Ｈｃとエッチング量との
関係を示すグラフである。FIG. 1 is a graph showing a relationship between an average Hc and an etching amount in Example 1.

【図２】実施例１におけるＨｃの標準偏差σとエッチン
グ量との関係を示すグラフである。FIG. 2 is a graph showing a relationship between a standard deviation σ of Hc and an etching amount in Example 1.

【図３】実施例１におけるＨｃ差（Ｈｃ_in−Ｈｃ_out ）
とエッチング量との関係を示すグラフである。FIG. 3 shows the difference in Hc (Hc _in −Hc _out ) _in Example 1.
4 is a graph showing the relationship between the amount of etching and the amount of etching.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項１】 導電性基板を電解エッチング処理する工
程を有する磁気記録媒体の製造方法において、 該電解エッチング処理におけるエッチング量を該導電性
基板重量に対して０．０１５〜０．０２５％とすること
を特徴とする磁気記録媒体の製造方法。1. A method for manufacturing a magnetic recording medium comprising a step of electrolytically etching a conductive substrate, wherein the amount of etching in the electrolytic etching is 0.015 to 0.025% based on the weight of the conductive substrate. A method for manufacturing a magnetic recording medium, comprising: 【請求項２】 前記エッチング処理工程が研磨処理又は
テクスチャ加工の後に行われることを特徴とする請求項
１に記載の磁気記録媒体の製造方法。2. The method according to claim 1, wherein the etching process is performed after a polishing process or a texturing process.