JPH10120602A - 含水素フッ素化アルカンの製造方法 - Google Patents
含水素フッ素化アルカンの製造方法Info
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Abstract
耐食性に優れた反応器を用いることにより、工業的スケ
ールで長期にわたり高収率に含水素フッ素化アルカンを
得る。 【解決手段】アルミニウムを10重量%以上含む耐食金
属材料が存在する反応系内において、ハロゲン化炭化水
素をフッ素化触媒の存在下、フッ化水素によりフッ素化
する含水素フッ素化アルカンの製造方法。
Description
する反応系内において、含水素フッ素化アルカンを製造
する方法に関する。
トリクロロフルオロメタン(CFC−11)、ジクロロ
ジフルオロメタン(CFC−12)またはトリクロロト
リフルオロエタン(CFC−113)、は発泡剤、洗浄
剤、冷凍、空調などの冷媒などに用いられてきた。しか
し、これら水素不含の塩素化アルカンはオゾン層を破壊
する化合物として規制対象となり、オゾン層に対する影
響のより小さい、または全く影響のない含水素フッ素化
アルカンの開発が進められてきた。
トリフルオロエタン(HCFC−123)は、ターボ冷
凍機用冷媒として、または2−クロロ−1,1,1,2
−テトラフルオロエタン(HCFC−124)、ペンタ
フルオロエタン(HFC−125)の中間原料として有
用な化合物である。また、1,1,1,3,3−ペンタ
フルオロプロパン(HFC−245fa)は、発泡剤な
どとして有用なオゾン層を破壊しない含水素フッ素化ア
ルカンである。
る耐食性反応器としては、(1)金、白金、パラジウ
ム、モリブデン、レニウムおよびタングステンから選ば
れる1種以上の金属を含むもの(特表平8−50155
1)、(2)樹脂をライニングした反応器(特開平6−
244195)、が知られている。
113などの製造法として、塩素化アルカンまたは塩素
化アルケンをフッ素化触媒の存在下、フッ化水素により
フッ素化する反応が知られている。この反応を含水素フ
ッ素化アルカンを得る反応に適用すると、装置の腐食性
が高く従来の慣用的な装置材料、例えば汎用のステンレ
ス系材料、では腐食による装置の消耗が激しく、設備劣
化により工業的使用に耐えない。
97にも反応器材料として推奨されているハステロイ
(商品名)、インコネル(商品名)、モネル(商品名)
などのニッケル系合金も、ステンレス系の材料に比べる
と腐食性は低減されるが腐食が激しく、工業的使用に耐
える耐食レベルに達していない。上記ステンレス系材料
はアルミニウムを含まず、上記ニッケル系材料のアルミ
ニウム含有率は最大で4重量%程度であることが知られ
ている。
金属塩は触媒毒として触媒活性を阻害し、または装置材
料が腐食される際に触媒が還元され活性を失うなどによ
り触媒活性にも悪影響を及ぼす。
わめて高価であり工業規模の大型の反応装置の材料とし
ては不向きである。(2)の反応器材料は反応器の内側
に樹脂がライニングされているが、樹脂ライニングは金
属に比べて熱伝導率が低く反応の温度制御が困難であ
る。
れる欠点を克服した、比較的安価で工業的に入手可能な
材料からなる耐食性に優れた反応器を用いた含水素フッ
素化アルカンの改良された製造方法に関する。
含む耐食金属材料が存在する反応系内において、塩素化
エチレンおよび含水素塩素化アルカンから選ばれる1種
以上のハロゲン化炭化水素をフッ素化触媒の存在下、フ
ッ化水素によりフッ素化することを特徴とする含水素フ
ッ素化アルカンの製造方法である。
料、代表的には反応器内面の材料として、より耐食性の
優れたアルミニウムを10重量%以上含む耐食金属材料
を用いる。耐食金属材料中のアルミニウムの好ましい割
合は、20重量%以上、特には30重量%以上、であ
る。
属材料が実質的にアルミニウムのみからなる金属となる
割合である。耐食金属材料が実質的にアルミニウムから
なるとは、製造上混入するアルミニウム以外の微量の金
属不純物を含んでもよいことを意味する。
反応器を用いることにより腐食による装置の劣化を低減
し、触媒活性を損なうことなく、長期に亘って好成績で
反応を継続できる。
として、または耐食金属材料の1つ以上を表面材(以
下、クラッド材という)とし、それ以外の材料の1種以
上を耐食金属材料の下地となる基材(以下、コア材とい
う)とする複合材料としても使用できる。
求される諸特性、例えば強度、溶接性、熱伝導性などを
満足するものであれば特に限定されず、通常炭素鋼、ス
テンレス鋼、ニッケル系合金、アルミニウムなどが用い
られる。コア材と耐食金属材料の接着性などを改善する
ため、コア材を2層以上にしてもよい。複合材料の製作
方法としては、耐食金属材料をコア材へメッキ、溶射、
爆着などの方法で複合化する方法が挙げられる。
ア材を腐食性の環境から保護するためにクラックのない
緻密な層を形成しているのが好ましく、その厚さは製作
方法および選ぶ耐食金属材料にもより、特に限定されな
いが、材料の耐久性、機械的強度を考慮するとある程度
の厚さを有すること、すなわち、好ましくは10μm〜
30mm、さらに好ましくは30μm〜10mm、特に
好ましくは100μm〜10mmが適当である。
物に覆われ、不動態が形成されている。本フッ素化反応
においては、耐食金属材料の表面の少なくとも一部が金
属フッ化物を含む保護皮膜により覆われていることが望
ましい。特にアルミニウムなどの比較的標準酸化電位の
低い金属成分を含む耐食金属材料においては、より望ま
しい。金属フッ化物を含む保護皮膜に覆われることによ
り、より安定な不動態が形成され本フッ素化反応系のよ
うな超強酸の環境下においても優れた耐食性が発現す
る。
形成させることが望ましいが、反応中に保護皮膜を形成
させることもできる。反応前に少なくとも金属フッ化物
を含む保護皮膜を形成させるためには、内表面が耐食金
属材料に覆われた反応器を適当なフッ素化剤で処理すれ
ばよい。
素ガス、フッ化水素、五フッ化アンチモンなどが用いら
れる。処理温度は使用する耐食金属材料にもよるがフッ
素ガスの場合は好ましくは0℃〜300℃、特に好まし
くは室温〜200℃であり、フッ素ガスは通常不活性ガ
ス、例えば窒素、でフッ素ガス濃度を20〜100体積
%に調整して用いる。
0℃、特に好ましくは室温〜300℃であり無水のフッ
化水素を液状またはガス状にて用いる。五フッ化アンチ
モンの場合は好ましくは0℃〜200℃、特に好ましく
は室温〜120℃である。これらフッ素化剤は単独で用
いてもよく、2種以上を同時または段階的に用いてもよ
い。
属材料において、本フッ素化反応環境下における耐食成
分は、本質的には耐食金属材料の極表面に存在するアル
ミニウムを含むフッ化物であるので、耐食金属材料表面
にこれらフッ化物の保護皮膜を形成するために必要なア
ルミニウムの成分量は少なくてもよく、耐食金属材料中
に金属成分として10重量%程度の含有量でも充分効果
を発揮できる。
成分としては汎用の金属材料に用いられる金属成分が使
用でき、特に鉄、銅、マンガン、コバルトおよびクロム
から選ばれる1種以上の成分が好ましい。これらのアル
ミニウム以外の他の成分は、アルミニウムと合金を形成
していることがより好ましい。好ましい合金には、Al
−Cu−Mn系合金、Al−Cu−Mn−Mg系合金、
Al−Mg−Cr系合金、Al−Mg−Mn系合金、F
e−Cr−Al系合金、Fe−Cr−Al−Co系合
金、Cu−Al系合金などが挙げられる。
属材料としては工業用純アルミニウムでもよく、アルミ
ニウムを10重量%以上含み、かつ鉄、銅、マンガン、
マグネシウム、コバルトおよびクロムから選ばれる1種
以上を副成分として含む材料でもよく、特に後者は工業
用純アルミニウムに比べて強度などの特性が改良され、
反応器のクラッド材のみならずコア材としても使用でき
る。
ンから選ばれる1種以上のハロゲン化炭化水素をフッ化
水素によりフッ素化し目的物の含水素フッ素化アルカン
を得る反応は、フッ素化触媒の存在下、気相または液相
で行いうる。オレフィンの副生を抑え、高収率で目的物
である含水素フッ素化アルカンを得るためにはフッ素化
触媒の存在下、液相で反応を行うことが好ましい。
(1)C2 Ha Fb Clc (式中、a、b、cはa+b
+c=4、a≧0、b≧0およびc≧1を満足する整
数)で表される。
は、飽和炭化水素の水素原子の一部が塩素原子で置換さ
れた化合物を意味し、炭素数1〜6の化合物が好まし
い。飽和炭化水素の水素原子の一部は、塩素原子ととも
にフッ素原子で置換されていてもよい。
(2)CHd Fe Clf (式中、d、e、fはd+e+
f=4、d≧1、e≧0およびf≧1を満足する整数)
で表される含水素塩素化メタン、一般式(3)C2 Hg
Fh Cli (式中、g、h、iはg+h+i=6、g≧
1、h≧0およびi≧1を満足する整数)で表される含
水素塩素化エタンおよび一般式(4)C3 Hm Fn Cl
p (式中、m、n、pはm+n+p=8、m≧1、n≧
0およびp≧1を満足する整数)で表される含水素塩素
化プロパンである。
ッ素原子の位置は生成物においても変化しない。原料に
おける塩素原子の位置は生成物においても変化しない
か、その位置が変わることなくフッ素原子に置換され
る。ただし、場合によっては不均化反応が生じて反応の
前後で各原子の位置が変化することも起りうる。
原料のハロゲン化炭化水素中の塩素原子の一部または全
部がフッ素原子に置換された化合物である。
般式(1)で表される塩素化エチレンの場合、目的物の
好ましい含水素フッ素化アルカンは、一般式(5)C2
Ha+1 Fb+1+w Clc-w (式中、a、b、c、wはa+
b+c=4、a≧0、b≧0、c≧1および0≦w≦c
を満足する整数)で表される含水素フッ素化エタンであ
る。
い例は、a、b、cがa+b+c=4、0≦a≦3、0
≦b≦2および1≦c≦4を満足する整数となる場合で
あり、一般式(5)におけるa、b、c、wの好ましい
例は、a、b、c、wがa+b+c=4、0≦a≦3、
0≦b≦2、1≦c≦4および1≦w≦4を満足する整
数となる場合である。
般式(2)で表される含水素塩素化メタンの場合、目的
物の好ましい含水素フッ素化アルカンは、一般式(6)
CHd Fe+x Clf-x (式中、d、e、f、xはd+e
+f=4、d≧1、e≧0、f≧1および1≦x≦fを
満足する整数)で表される含水素フッ素化メタンであ
る。
い例は、d、e、fがd+e+f=4、1≦d≦3、0
≦e≦1および1≦f≦3を満足する整数となる場合で
あり、一般式(6)におけるd、e、f、xの好ましい
例は、d、e、f、xがd+e+f=4、1≦d≦3、
0≦e≦1、1≦f≦3および1≦x≦3を満足する整
数となる場合である。
般式(3)で表される含水素塩素化エタンの場合、目的
物の好ましい含水素フッ素化アルカンは、一般式(7)
C2Hg Fh+y Cli-y (式中、g、h、i、yはg+
h+i=6、g≧1、h≧0、i≧1および1≦y≦i
を満足する整数)で表される含水素フッ素化エタンであ
る。一般式(3)におけるg、h、iの好ましい例は、
g、h、iがg+h+i=6、1≦g≦4、0≦h≦3
および1≦i≦4を満足する整数となる場合であり、一
般式(7)におけるg、h、i、yの好ましい例は、
g、h、i、yがg+h+i=6、1≦g≦4、0≦h
≦3、1≦i≦4および1≦y≦4を満足する整数とな
る場合である。
合わせには、「テトラクロロエチレン/1,1−ジクロ
ロ−2,2,2−トリフルオロエタン」、「トリクロロ
エチレン/1−クロロ−2,2,2−トリフルオロエタ
ン」、「塩化ビニリデン/1,1,1−トリフルオロエ
タン」、「塩化ビニル/1,1−ジフルオロエタン」、
「1,1,1−トリクロロエタン/1,1,1−トリフ
ルオロエタン」などがある。
般式(4)で表される含水素塩素化プロパンの場合、目
的物の好ましい含水素フッ素化アルカンは、一般式
(8)C3 Hm Fn+z Clp-z (式中、m、n、p、z
はm+n+p=8、m≧1、n≧0、p≧1および1≦
z≦pを満足する整数)で表される含水素フッ素化プロ
パンである。
い例は、m、n、pがm+n+p=8、1≦m≦4、0
≦n≦5および1≦p≦6を満足する整数となる場合で
あり、一般式(8)におけるm、n、p、zの好ましい
例は、m、n、p、zがm+n+p=8、1≦m≦4、
0≦n≦5、1≦p≦6および1≦z≦6を満足する整
数となる場合である。
合わせには、「1,1,1,3,3−ペンタクロロプロ
パンの部分フッ素化物および1,1,1,3,3−ペン
タクロロプロパンから選ばれる1種以上/1,1,1,
3,3−ペンタフルオロプロパン」がある。
ンの部分フッ素化物とは、1,1,1,3,3−ペンタ
クロロプロパン中の塩素原子の一部がフッ素原子に置換
されたものをいう。例えば1,1,3,3−テトラクロ
ロ−1−フルオロプロパン、1,3,3−トリクロロ−
1,1−ジフルオロプロパン、3,3−ジクロロ−1,
1,1−トリフルオロプロパン、3−クロロ−1,1,
1,3−テトラフルオロプロパンなどが挙げられる。
ンの部分フッ素化物は、目的物の1,1,1,3,3−
ペンタフルオロプロパンとともに副生するフッ素化中間
体であり、目的物と分離精製後、独立にまたは1,1,
1,3,3−ペンタクロロプロパンとともに出発原料と
して使用できる。1,1,1,3,3−ペンタクロロプ
ロパンは、汎用のモノマーである塩化ビニルと四塩化炭
素のラジカル的な付加反応によって、容易に合成でき
る。
ア、アルミナ、マグネシアなどのフッ素化触媒が、液相
ではアンチモン、ニオブおよびタンタルから選ばれる1
種以上の元素のハロゲン化物を含むフッ素化触媒が通常
用いられる。
物または塩素化フッ素化物が好ましく、具体的には、S
bF5 、SbCl5 、SbCl2 F3 、NbCl5 、N
bClF4 、NbF5 、TaF5 、TaCl5 、TaC
lF4 などが好ましい。これらのハロゲン化物は、上記
元素の種類やハロゲンの種類の異なる2種以上の混合物
を用いてもよい。また、上記元素のハロゲン化物にT
i、Snなどの元素のハロゲン化物をさらに含んだ触媒
を用いてもよい。上記フッ素化触媒の存在量は特に限定
されない。
う。反応温度は、0℃〜175℃が好ましく、20〜1
20℃が特に好ましい。反応は、通常、反応原料や生成
物を反応溶媒とするが、その他の反応溶媒を用いてもよ
い。その他の反応溶媒としては、原料を溶かし込み、さ
らに溶媒自身が原料よりフッ素化されにくいものであれ
ば特に限定されない。このような溶媒としては、ペルフ
ルオロポリエーテル類、ペルフルオロオクタンなどのペ
ルフルオロカーボン類、反応生成物以外のヒドロフルオ
ロカーボン類などが挙げられる。
メタン、含水素塩素化エタンおよび含水素塩素化プロパ
ンから選ばれる1種以上のハロゲン化炭化水素に対する
フッ化水素の供給モル比は化学量論量以上であれば特に
限定されない。反応容器効率やフッ化水素の回収による
ロスなどを考えると、化学量論量に対し1〜10倍モ
ル、特には1〜5倍モルの範囲が好ましい。
おいてもよく、また反応時に液相へ吹き込む方法でもよ
い。反応圧は通常0〜20kg/cm2 Gであるが、反
応原料や生成物以外の反応溶媒を用いる場合は溶媒の種
類などによっても異なる。
する2リットルのオートクレーブ内を120℃で減圧脱
気後、そのオートクレーブ内へ、50℃にて、「窒素ガ
ス:フッ素ガス=20:80(モル比)の希釈フッ素ガ
ス」(以下、希釈フッ素ガス1という)を導入した。常
圧でパージしながら4時間前記の希釈フッ素ガス1の供
給を続けた後、「窒素ガス:フッ素ガス=50:50
(モル比)の希釈フッ素ガス」(以下、希釈フッ素ガス
2という)をオートクレーブ内に封じ込め、200℃に
昇温した後2時間保持した。室温まで冷却した後窒素ガ
スにて残存フッ素ガスをパージし、SbF5 800gと
フッ化水素400gを仕込んだ。
後、撹拌しながらテトラクロロエチレンを80g/時
(0. 48モル/時)、フッ化水素を60g/時(3モ
ル/時)の平均供給速度でそれぞれ供給し反応を開始し
た。反応圧を11〜12kg/cm2 Gに制御し、90
℃に保温した冷却管より反応で副生する塩化水素、未反
応のフッ化水素とともに生成物を連続的に留出させた。
24時間後の留出ガス中の有機成分を表1(単位:モル
%)に示す。72時間後に反応を停止し、実質的にアル
ミニウムのみからなる内表面を観察したところ、腐食は
認められなかった。
る内表面を有する2リットルのオートクレーブ内を12
0℃で減圧脱気後、そのオートクレーブ内へ、室温に
て、フッ化水素を100g仕込んだ。120℃に昇温し
て1時間保持した後オートクレーブ内のフッ化水素をパ
ージし、さらに窒素ガスを通じた。室温まで冷却後、S
bF5 800gとフッ化水素400gを仕込んだ。
後、撹拌しながら塩化メチレン100g/時、フッ化水
素を55g/時の平均供給速度でそれぞれ供給し反応を
開始した。反応圧を10kg/cm2 Gに制御し、80
℃に保温した冷却管より反応で副生する塩化水素、未反
応のフッ化水素とともに生成物を連続的に留出させた。
24時間後の留出ガス中の有機成分を表1に示す。72
時間後に反応を停止し、実質的にアルミニウムのみから
なる内表面を観察したところ、腐食は認められなかっ
た。
試験用テストピース金属にて評価することにより、テス
トピースの金属種が本発明の反応系に使用する反応器内
面の金属材料として使用できるかを評価した。その結
果、アルミニウムを10重量%以上含むテストピース金
属の腐食速度はきわめて小さく、上記例1および2の結
果と同様、本発明の反応系に使用する反応器内面の金属
材料として適していることがわかった。
トクレーブ内に、約40mm×10mm×3mmの腐食
試験用テストピースを取り付け、120℃で減圧脱気
後、50℃にて、希釈フッ素ガス1を導入した。常圧で
パージしながら4時間希釈フッ素ガス1の供給を続けた
後、希釈フッ素ガス2をオートクレーブ内に封じ込め、
200℃に昇温した後2時間保持した。室温まで冷却し
た後窒素ガスにて残存フッ素ガスをパージし、SbF5
800gとフッ化水素400gを仕込んだ。
後、撹拌しながらテトラクロロエチレンを80g/時
(0. 48モル/時)、フッ化水素を60g/時(3モ
ル/時)の平均供給速度でそれぞれ供給し反応を開始し
た。反応圧を11〜12kg/cm2 Gに制御し、90
℃に保温した冷却管より反応で副生する塩化水素、未反
応のフッ化水素とともに生成物を連続的に留出させた。
24時間後の留出ガス中の有機成分を表1(単位:モル
%)に示す。72時間後に反応を停止し、テストピース
を回収した。テストピースの腐食速度(単位:mm/
年)を測定した結果を表2に示す。
トクレーブ内に、約40mm×10mm×3mmの腐食
試験用テストピースを取り付け、120℃で減圧脱気
後、室温にてフッ化水素を100g仕込んだ。120℃
に昇温して1時間保持した後オートクレーブ内のフッ化
水素をパージし、さらに窒素ガスを通じた。室温まで冷
却後、SbF5 800gとフッ化水素400gを仕込ん
だ。
後、撹拌しながら例3と同じ条件でテトラクロロエチレ
ンをフッ化水素でフッ素化したところ、24時間後の留
出ガス中の有機成分は例3とほぼ同様であった。72時
間後に反応を停止し、テストピースを回収した。テスト
ピースの腐食速度を測定した結果を表3に示す。表3に
おいてテストピース材質欄の数値の単位は重量%である
(表4〜7も同じ)。
トクレーブ内に、約40mm×10mm×3mmの腐食
試験用テストピースを取り付け、SbF5 を800g、
フッ化水素を400g仕込んだ。オートクレーブを10
0℃に昇温し、1時間撹拌した後、例3と同じ条件でテ
トラクロロエチレンをフッ化水素でフッ素化したとこ
ろ、24時間後の留出ガス中の有機成分は例3とほぼ同
様であった。72時間後に反応を停止し、テストピース
を回収した。テストピースの腐食速度を測定した結果を
表4に示す。
更し、テトラクロロエチレンおよびフッ化水素の平均供
給速度を各々60g/時、45g/時とする以外は例5
と同様に反応を行った。24時間後の留出ガス中の有機
成分を表1に、72時間後に回収したテストピースの腐
食速度を表5に示す。
フッ化水素の平均供給速度を60g/時に変更する以外
は例6と同様に反応を行った。24時間後の留出ガス中
の有機成分を表1に、72時間後に回収したテストピー
スの腐食速度を表6に示す。
の代わりに塩化メチレン100g/時に、フッ化水素を
55g/時の平均供給速度で加え、反応温度を80℃
に、および反応圧を10kg/cm2 Gにする以外は例
4と同様にして反応を行った。24時間後の留出ガス中
の有機成分を表1に、72時間後に回収したテストピー
スの腐食速度を表7に示す。
トクレーブ内に、約40mm×10mm×3mmの腐食
試験用テストピースを取り付け、120℃で減圧脱気
後、室温にてフッ化水素を100g仕込んだ。120℃
にに昇温して1時間保持した後、オートクレーブ内のフ
ッ化水素をパージし、さらに窒素ガスを通じた。室温ま
で冷却後、SbF5 800gとフッ化水素400gを仕
込んだ。
撹拌しながら1,1,1−トリクロロエタンを64g/
時(0. 48モル/時)、フッ化水素を60g/時(3
モル/時)の平均供給速度でそれぞれ供給し反応を開始
した。反応圧を8〜9kg/cm2 Gに制御し、50℃
に保温した冷却管より反応で副生する塩化水素、未反応
のフッ化水素とともに生成物を連続的に留出させた。2
4時間後の留出ガス中の有機成分を表1に、72時間後
に回収したテストピースの腐食速度を表8に示す。
を64g/時の代わりに1,1−ジクロロエタンを48
g/時に、フッ化水素を40g/時の平均供給速度で加
える以外は例9と同様に反応を行った。24時間後の留
出ガス中の有機成分を表1に、72時間後に回収したテ
ストピースの腐食速度を表9に示す。
てHC、SUS、IおよびMonelはそれぞれハステ
ロイC(ニッケル系合金の商品名)、ステンレス、イン
コネル(ニッケル系合金の商品名)およびモネル(ニッ
ケル系合金の商品名)を表す。
ートクレーブ内に、約40mm×10mm×3mmの腐
食試験用テストピースを取り付け、120℃で減圧脱気
後、50℃にて希釈フッ素ガス1を導入した。常圧でパ
ージしながら4時間前記の希釈したフッ素ガスの供給を
続けた後、希釈フッ素ガス2をオートクレーブ内に封じ
込め、200℃に昇温した後2時間保持した。室温まで
冷却した後窒素ガスにて残存フッ素ガスをパージし、S
bF5 800gとフッ化水素400gとを仕込んだ。
撹拌しながら1,1,1,3,3−ペンタクロロプロパ
ンを80g/hr(0. 37mol/hr)、フッ化水
素を60g/hr(3mol/hr)の平均供給速度で
それぞれ供給し反応を開始した。反応圧を7. 5〜8.
5kg/cm2 Gに制御し、70℃に保温した冷却管よ
り反応で副生するHCl、未反応のHFとともに生成物
を連続的に留出させた。24時間後の留出ガス中の有機
成分を表10(単位:モル%)に示す。72時間後に反
応を停止し、テストピースを回収した。テストピースの
腐食速度(単位:mm/年)を測定した結果を表11に
示す。
ートクレーブ内に、約40mm×10mm×3mmの腐
食試験用テストピースを取り付け、120℃で減圧脱気
後、室温にてフッ化水素を100g仕込んだ。120℃
に昇温して1時間保持した後オートクレーブ内のフッ化
水素をパージし、さらに窒素ガスを通じた。室温まで冷
却後、SbF5 800gとフッ化水素400gとを仕込
んだ。
撹拌しながら例11と同じ条件で1,1,1,3,3−
ペンタクロロプロパンをフッ化水素でフッ素化したとこ
ろ、24時間後の留出ガス中の有機成分は例11とほぼ
同様であった。72時間後に反応を停止し、テストピー
スを回収した。テストピースの腐食速度を測定した結果
を表12に示す。
C製オートクレーブ内に、約40mm×10mm×3m
mの腐食試験用テストピースを取り付け、SbF5 80
0gとフッ化水素400gとを仕込んだ。オートクレー
ブを80℃まで加熱した後、1時間撹拌した後、例11
と同じ条件で1,1,1,3,3−ペンタクロロプロパ
ンをフッ化水素でフッ素化したところ、24時間後の留
出ガス中の有機成分は例11とほぼ同様であった。72
時間後に反応を停止し、テストピースを回収した。テス
トピースの腐食速度を測定した結果を表12〜14に示
す。表13〜14においてテストピース材質欄の数値の
単位は重量%である。
変更し、1,1,1,3,3−ペンタクロロプロパンお
よびフッ化水素の供給速度を各々60g/hr、45g
/hrとする以外は例13と同様に反応を行った。24
時間後の留出ガス中の有機成分を表10に、72時間後
に回収したテストピースの腐食速度を表15に示す。
変更する以外は例16と同様に反応を行った。24時間
後の留出ガス中の有機成分を表10に、72時間後に回
収したテストピース4種の腐食速度を表15に示す。
入手可能な材料からなる耐食性に優れた反応器を用いる
ことにより、工業的スケールで長期にわたり高収率に含
水素フッ素化アルカンを製造しうる。
Claims (7)
- 【請求項1】アルミニウムを10重量%以上含む耐食金
属材料が存在する反応系内において、塩素化エチレンお
よび含水素塩素化アルカンから選ばれる1種以上のハロ
ゲン化炭化水素をフッ素化触媒の存在下、フッ化水素に
よりフッ素化することを特徴とする含水素フッ素化アル
カンの製造方法。 - 【請求項2】耐食金属材料が鉄、銅、マンガン、マグネ
シウム、コバルトおよびクロムから選ばれる1種以上の
金属およびアルミニウムからなる合金、または実質的に
アルミニウムのみからなる金属である請求項1に記載の
製造方法。 - 【請求項3】耐食金属材料が反応器の内表面を構成する
ものである請求項1または2に記載の製造方法。 - 【請求項4】ハロゲン化炭化水素が一般式(1)C2 H
a Fb Clc (式中、a、b、cはa+b+c=4、a
≧0、b≧0およびc≧1を満足する整数)で表される
塩素化エチレンであり、含水素フッ素化アルカンが一般
式(5)C2 Ha+1 Fb+1+wClc-w (式中、a、b、
c、wはa+b+c=4、a≧0、b≧0、c≧1およ
び0≦w≦cを満足する整数)で表される含水素フッ素
化エタンである請求項1、2または3に記載の製造方
法。 - 【請求項5】ハロゲン化炭化水素が一般式(2)CHd
Fe Clf (式中、d、e、fはd+e+f=4、d≧
1、e≧0およびf≧1を満足する整数)で表される含
水素塩素化メタンであり、含水素フッ素化アルカンが一
般式(6)CHd Fe+x Clf-x (式中、d、e、f、
xはd+e+f=4、d≧1、e≧0、f≧1および1
≦x≦fを満足する整数)で表される含水素フッ素化メ
タンである請求項1、2または3に記載の製造方法。 - 【請求項6】ハロゲン化炭化水素が、一般式(3)C2
Hg Fh Cli (式中、g、h、iはg+h+i=6、
g≧1、h≧0およびi≧1を満足する整数)で表され
る含水素塩素化エタンであり、含水素フッ素化アルカン
が一般式(7)C2 Hg Fh+y Cli-y (式中、g、
h、i、yはg+h+i=6、g≧1、h≧0、i≧1
および1≦y≦iを満足する整数)で表される含水素フ
ッ素化エタンである請求項1、2または3に記載の製造
方法。 - 【請求項7】ハロゲン化炭化水素が一般式(4)C3 H
m Fn Clp (式中、m、n、pはm+n+p=8、m
≧1、n≧0およびp≧1を満足する整数)で表される
含水素塩素化プロパンであり、含水素フッ素化アルカン
が一般式(8)C3 Hm Fn+z Clp-z (式中、m、
n、p、zはm+n+p=8、m≧1、n≧0、p≧1
および1≦z≦pを満足する整数)で表される含水素フ
ッ素化プロパンである請求項1、2または3に記載の製
造方法。
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Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6329560B2 (en) | 2000-01-12 | 2001-12-11 | Daikin Industries, Ltd. | Method for producing hydrogen-containing fluorinated hydrocarbon |
WO2001056961A1 (fr) | 2000-02-02 | 2001-08-09 | Daikin Industries, Ltd. | Procede de production d'hydrofluorocarbones |
US7094934B2 (en) | 2000-02-02 | 2006-08-22 | Daikin Industries, Ltd. | Production process of hydrofluorocarbons |
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