JPH1011813A - 露光方法及び露光装置 - Google Patents
露光方法及び露光装置Info
- Publication number
- JPH1011813A JPH1011813A JP8166278A JP16627896A JPH1011813A JP H1011813 A JPH1011813 A JP H1011813A JP 8166278 A JP8166278 A JP 8166278A JP 16627896 A JP16627896 A JP 16627896A JP H1011813 A JPH1011813 A JP H1011813A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- power
- exposure
- beam power
- driving voltage
- exposure beam
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】所望の露光ビームパワーと実際の露光時の露光
ビームパワーとの間に誤差が生じることがなく、製造さ
れる光ディスク原盤のパターンの均一性を良好にする露
光方法及び露光装置を提供する。 【解決手段】所望の露光ビームパワーの範囲で、駆動電
圧ｂと露光ビームｃの露光ビームパワーとの関係が線形
になるように、駆動電圧設定値とパワー効率を算出し、
その算出された駆動電圧設定値に基づき、パワー変調器
２に駆動電圧ｂを印可し、算出されたパワー効率に基づ
き、パワー変調器２から出射された露光ビームｃの露光
ビームパワーをビームパワー調整手段４により調整し、
調整された露光ビームｅにより光ディスク原盤等を露光
する。
ビームパワーとの間に誤差が生じることがなく、製造さ
れる光ディスク原盤のパターンの均一性を良好にする露
光方法及び露光装置を提供する。 【解決手段】所望の露光ビームパワーの範囲で、駆動電
圧ｂと露光ビームｃの露光ビームパワーとの関係が線形
になるように、駆動電圧設定値とパワー効率を算出し、
その算出された駆動電圧設定値に基づき、パワー変調器
２に駆動電圧ｂを印可し、算出されたパワー効率に基づ
き、パワー変調器２から出射された露光ビームｃの露光
ビームパワーをビームパワー調整手段４により調整し、
調整された露光ビームｅにより光ディスク原盤等を露光
する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、露光方法及び露光
装置に関し、特に、光ディスク原盤を露光して製造する
際に、露光ビームを所望の露光ビームパワーに調整して
露光する露光方法及び露光装置に関する。
装置に関し、特に、光ディスク原盤を露光して製造する
際に、露光ビームを所望の露光ビームパワーに調整して
露光する露光方法及び露光装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般に、光ディスク原盤は、ガラス基板
上に塗布されたフォトレジストを露光ビームで露光して
製造される。そして、基板を回転させながら内周から外
周にわたって露光を行う場合、基板の内周と外周とでは
線速度が異なるので、露光ビームの露光ビームパワーを
変化させる必要がある。
上に塗布されたフォトレジストを露光ビームで露光して
製造される。そして、基板を回転させながら内周から外
周にわたって露光を行う場合、基板の内周と外周とでは
線速度が異なるので、露光ビームの露光ビームパワーを
変化させる必要がある。
【０００３】例えば、ＩＳＯ（International Standard
Organization）標準フォーマットの露光パターンは、
露光半径３０ｍｍ〜６０ｍｍの間に形成される。そし
て、基板がセットされたスピンドルを角速度が一定にな
るように回転させると、光ディスク原盤の内周（半径３
０ｍｍ）の線速度に対し、外周（半径６０ｍｍ）の線速
度は２倍になるため、それに応じて露光ビームパワーも
２倍にして、各半径での単位面積当たりの露光ビームパ
ワーを等しくする必要がある。
Organization）標準フォーマットの露光パターンは、
露光半径３０ｍｍ〜６０ｍｍの間に形成される。そし
て、基板がセットされたスピンドルを角速度が一定にな
るように回転させると、光ディスク原盤の内周（半径３
０ｍｍ）の線速度に対し、外周（半径６０ｍｍ）の線速
度は２倍になるため、それに応じて露光ビームパワーも
２倍にして、各半径での単位面積当たりの露光ビームパ
ワーを等しくする必要がある。
【０００４】そこで、基板の各地点での露光量を一定に
保持するために、露光ビームを所望の露光ビームパワー
に制御して露光する露光方法及び露光装置が従来からい
くつか提案されている。
保持するために、露光ビームを所望の露光ビームパワー
に制御して露光する露光方法及び露光装置が従来からい
くつか提案されている。
【０００５】例えば、特開昭６０ー１８２５３３号公報
では、露光領域の半径と、露光パワーとの関係を線形と
みなし、所望の露光パワーを露光領域の中心の露光パワ
ーと露光半径の１次関数として設定し、パワー変調器の
駆動電圧として印可し、パワー制御する方法が開示され
ている。
では、露光領域の半径と、露光パワーとの関係を線形と
みなし、所望の露光パワーを露光領域の中心の露光パワ
ーと露光半径の１次関数として設定し、パワー変調器の
駆動電圧として印可し、パワー制御する方法が開示され
ている。
【０００６】また、特開平２ー１５６４４２号公報で
は、露光ビームパワーを光学系上で検出する露光量検出
部（光センサ部）を設け、あらかじめ設定された露光量
設定信号と露光検出部の露光量検出信号とが一致するよ
うに光変調器の駆動電圧を制御する露光装置が開示され
ている。
は、露光ビームパワーを光学系上で検出する露光量検出
部（光センサ部）を設け、あらかじめ設定された露光量
設定信号と露光検出部の露光量検出信号とが一致するよ
うに光変調器の駆動電圧を制御する露光装置が開示され
ている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】図３は、従来の露光方
法を説明するための駆動電圧と露光ビームパワーとの関
係を示すグラフである。図３中、内周（３０ｍｍ）にお
ける露光ビームパワーをＰ0、外周（６０ｍｍ）におけ
る露光ビームパワーをＰ1（Ｐ1＝２×Ｐ0）とする。
法を説明するための駆動電圧と露光ビームパワーとの関
係を示すグラフである。図３中、内周（３０ｍｍ）にお
ける露光ビームパワーをＰ0、外周（６０ｍｍ）におけ
る露光ビームパワーをＰ1（Ｐ1＝２×Ｐ0）とする。
【０００８】駆動電圧を印可して露光ビームを出射する
パワー変調器としては、例えば、音響光学効果を用いた
音響光学変調器（Acousto Optic Modulater 以下、Ａ
／０変調器という）が用いられる。ここで、音響光学効
果とは、ガラスや結晶等の超音波媒体に駆動電圧を与え
ることにより超音波を発生させ、位相型の回折格子を形
成させ、入射したレーザビームを回折させるものであ
る。この回折光の強度は駆動電圧を変えることにより変
化させることができる。そして、露光ビームとして例え
ば、回折一次光を使用すると、駆動電圧と露光ビームパ
ワーとの関係は、図３のＬ1となり、非線形領域を含む
ことになる。
パワー変調器としては、例えば、音響光学効果を用いた
音響光学変調器（Acousto Optic Modulater 以下、Ａ
／０変調器という）が用いられる。ここで、音響光学効
果とは、ガラスや結晶等の超音波媒体に駆動電圧を与え
ることにより超音波を発生させ、位相型の回折格子を形
成させ、入射したレーザビームを回折させるものであ
る。この回折光の強度は駆動電圧を変えることにより変
化させることができる。そして、露光ビームとして例え
ば、回折一次光を使用すると、駆動電圧と露光ビームパ
ワーとの関係は、図３のＬ1となり、非線形領域を含む
ことになる。
【０００９】しかし、従来の露光方法では、駆動電圧Ｖ
0〜Ｖ1の範囲で、駆動電圧と露光ビームパワーとの関係
を図３の一点鎖線Ｌ0のように線形とみなして処理して
いた。その結果、光ディスク原盤の最外周部、最内周部
以外では、所望の露光ビームパワ−と異なるパワ−で露
光がなされることとなる。
0〜Ｖ1の範囲で、駆動電圧と露光ビームパワーとの関係
を図３の一点鎖線Ｌ0のように線形とみなして処理して
いた。その結果、光ディスク原盤の最外周部、最内周部
以外では、所望の露光ビームパワ−と異なるパワ−で露
光がなされることとなる。
【００１０】また、特開平２ー１５６４４２号公報で開
示された露光装置では、非線形領域の露光ビームパワー
に対する駆動電圧の設定に時間がかかり、さらに、レー
ザビームのドリフトやノイズのため露光量設定信号と露
光量検出信号とが一致することが難しく収束できない。
そのため、露光量設定信号と露光量検出信号との間に誤
差範囲を設けることにより、所望の露光パワーと±ΔＰ
の誤差があっても等しいとみなしていた。
示された露光装置では、非線形領域の露光ビームパワー
に対する駆動電圧の設定に時間がかかり、さらに、レー
ザビームのドリフトやノイズのため露光量設定信号と露
光量検出信号とが一致することが難しく収束できない。
そのため、露光量設定信号と露光量検出信号との間に誤
差範囲を設けることにより、所望の露光パワーと±ΔＰ
の誤差があっても等しいとみなしていた。
【００１１】このように、従来の露光方法及び露光装置
では、所望の露光ビームパワーと実際の露光時の露光ビ
ームパワーとの間に誤差が生じることになるので、露光
ビームパワーが設定されたパワーよりも高かったり、低
かったりする場合があり、製造された光ディスク原盤の
溝パターンの均一性が悪くなるという問題点があった。
では、所望の露光ビームパワーと実際の露光時の露光ビ
ームパワーとの間に誤差が生じることになるので、露光
ビームパワーが設定されたパワーよりも高かったり、低
かったりする場合があり、製造された光ディスク原盤の
溝パターンの均一性が悪くなるという問題点があった。
【００１２】本発明は、上記問題点に鑑みてなされたも
のであり、所望の露光ビームパワーと実際の露光時の露
光ビームパワーとの間に誤差が生じることがなく、製造
される光ディスク原盤の溝パターンの均一性を良好にす
る露光方法及び露光装置を提供することを目的とする。
のであり、所望の露光ビームパワーと実際の露光時の露
光ビームパワーとの間に誤差が生じることがなく、製造
される光ディスク原盤の溝パターンの均一性を良好にす
る露光方法及び露光装置を提供することを目的とする。
【００１３】
【課題を解決するための手段】本発明の露光方法は、上
記課題を解決するために、所望の露光ビームパワーの範
囲で、駆動電圧と露光ビームパワーとの関係が線形にな
るように、駆動電圧設定値とパワー効率を設定し、その
設定された駆動電圧設定値に基づき、パワー変調器に駆
動電圧を印可し、設定されたパワー効率に基づき、パワ
ー変調器から出射された露光ビームの露光ビームパワー
を調整する、ことを特徴とするものである。
記課題を解決するために、所望の露光ビームパワーの範
囲で、駆動電圧と露光ビームパワーとの関係が線形にな
るように、駆動電圧設定値とパワー効率を設定し、その
設定された駆動電圧設定値に基づき、パワー変調器に駆
動電圧を印可し、設定されたパワー効率に基づき、パワ
ー変調器から出射された露光ビームの露光ビームパワー
を調整する、ことを特徴とするものである。
【００１４】本発明の露光装置は、所望の露光ビームパ
ワーの範囲で、駆動電圧と露光ビームパワーとの関係が
線形となるように、駆動電圧設定値とパワー効率を設定
する設定手段と、その設定手段によって設定された駆動
電圧設定値に基づき、パワー変調器に駆動電圧を印可す
る駆動電圧印可手段と、設定手段によって設定されたパ
ワー効率に基づき、パワー変調器から出射された露光ビ
ームの露光ビームパワーを調整するビームパワー調整手
段と、を有することを特徴とするものである。
ワーの範囲で、駆動電圧と露光ビームパワーとの関係が
線形となるように、駆動電圧設定値とパワー効率を設定
する設定手段と、その設定手段によって設定された駆動
電圧設定値に基づき、パワー変調器に駆動電圧を印可す
る駆動電圧印可手段と、設定手段によって設定されたパ
ワー効率に基づき、パワー変調器から出射された露光ビ
ームの露光ビームパワーを調整するビームパワー調整手
段と、を有することを特徴とするものである。
【００１５】ビームパワー調整手段は、例えば、可変偏
向ビームスプリッタである。
向ビームスプリッタである。
【００１６】設定手段は、露光ビ−ムパワ−に対する駆
動電圧とパワ−効率を予め測定しておき、その測定結果
に基づいて所望の露光ビ−ムパワ−に対する駆動電圧と
パワ−効率を選択して設定するのが好ましい。
動電圧とパワ−効率を予め測定しておき、その測定結果
に基づいて所望の露光ビ−ムパワ−に対する駆動電圧と
パワ−効率を選択して設定するのが好ましい。
【００１７】本発明では、まず、パワ−変調器の変化が
線形となる駆動電圧の範囲を選択する。次いで、この駆
動電圧の範囲で、所望の範囲の露光ビームパワ−が得ら
れるように、パワ−変調器から出力される露光ビ−ムの
パワ−を調整し、光ディスク原盤に照射する。このよう
にして、所望の露光ビームパワーと実際の露光時の露光
ビームパワーとの間に誤差が生じることをなくす。
線形となる駆動電圧の範囲を選択する。次いで、この駆
動電圧の範囲で、所望の範囲の露光ビームパワ−が得ら
れるように、パワ−変調器から出力される露光ビ−ムの
パワ−を調整し、光ディスク原盤に照射する。このよう
にして、所望の露光ビームパワーと実際の露光時の露光
ビームパワーとの間に誤差が生じることをなくす。
【００１８】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて詳細に説明する。図１は、本発明の実施の形
態を示すブロック図である。
に基づいて詳細に説明する。図１は、本発明の実施の形
態を示すブロック図である。
【００１９】図１に示すように、本発明の露光装置は、
レーザ発振器１と、そのレーザ発振器１から出射された
レーザビームａをパワー変調するパワー変調器２と、そ
のパワー変調器２に駆動電圧ｂを印可する駆動電圧印可
部３と、パワー変調器２から出射された露光ビームｃの
露光ビームパワーを調整するビームパワー調整手段４
と、を有する。
レーザ発振器１と、そのレーザ発振器１から出射された
レーザビームａをパワー変調するパワー変調器２と、そ
のパワー変調器２に駆動電圧ｂを印可する駆動電圧印可
部３と、パワー変調器２から出射された露光ビームｃの
露光ビームパワーを調整するビームパワー調整手段４
と、を有する。
【００２０】レーザ発振器１は、光ディスク原盤の製造
によく用いられるアルゴンレーザ等を出射する。
によく用いられるアルゴンレーザ等を出射する。
【００２１】パワー変調器２は、例えば、ブラッグ回折
を利用した音響光学素子とこれを制御するドライバから
なるＡ／Ｏ変調器等で構成されている。
を利用した音響光学素子とこれを制御するドライバから
なるＡ／Ｏ変調器等で構成されている。
【００２２】駆動電圧印可部３は、設定された駆動電圧
ｂをパワー変調器２のドライバに印可するものである。
ｂをパワー変調器２のドライバに印可するものである。
【００２３】ビームパワー調整手段４は、例えば、可変
偏向ビームスプリッタ、表面が金属膜でコーティングさ
れたレンズ等の光学部品を用いて、パワー変調器２から
出射される露光ビームｃの透過パワー効率を調整する手
段であり、所望の露光ビームパワーの範囲が線形となる
ように、パワー効率を調整する。
偏向ビームスプリッタ、表面が金属膜でコーティングさ
れたレンズ等の光学部品を用いて、パワー変調器２から
出射される露光ビームｃの透過パワー効率を調整する手
段であり、所望の露光ビームパワーの範囲が線形となる
ように、パワー効率を調整する。
【００２４】本発明の露光装置は又、基板８の回転中心
軸線とヘッドレンズ７の中心軸線との距離を検出するヘ
ッド位置検出部１０と、そのヘッド位置検出部１０によ
って検出されたヘッド位置に応じて所望の露光ビームパ
ワーをビ−ムパワ−調整手段４から出力させるための駆
動電圧設定値とパワー効率を設定する設定手段１３と、
を有する。
軸線とヘッドレンズ７の中心軸線との距離を検出するヘ
ッド位置検出部１０と、そのヘッド位置検出部１０によ
って検出されたヘッド位置に応じて所望の露光ビームパ
ワーをビ−ムパワ−調整手段４から出力させるための駆
動電圧設定値とパワー効率を設定する設定手段１３と、
を有する。
【００２５】図２は、測定によって得られた駆動電圧と
露光ビームパワーとの関係を示すグラフである。図２
中、Ｌ1はビームパワー調整手段４によって調整する前
の駆動電圧に対する露光ビームパワーを示す線であり、
Ｌ2はビームパワー調整手段４によって調整した後の駆
動電圧に対する露光ビームパワーを示す線である。ま
た、Ｐ0は、内周（３０ｍｍ）における所望の露光ビー
ムパワー、Ｐ1は、外周（６０ｍｍ）における所望の露
光ビームパワーである。
露光ビームパワーとの関係を示すグラフである。図２
中、Ｌ1はビームパワー調整手段４によって調整する前
の駆動電圧に対する露光ビームパワーを示す線であり、
Ｌ2はビームパワー調整手段４によって調整した後の駆
動電圧に対する露光ビームパワーを示す線である。ま
た、Ｐ0は、内周（３０ｍｍ）における所望の露光ビー
ムパワー、Ｐ1は、外周（６０ｍｍ）における所望の露
光ビームパワーである。
【００２６】図２からわかるように、Ｌ1には、駆動電
圧Ｖ0付近で非線形領域を有するので、このままでは所
望の露光ビームパワーを得ることができない。
圧Ｖ0付近で非線形領域を有するので、このままでは所
望の露光ビームパワーを得ることができない。
【００２７】そこで、まず、所望の露光ビームパワーＰ
0〜Ｐ1の範囲で、駆動電圧と露光ビームパワーとの関係
が線形になるように、線形領域にある駆動電圧設定値Ｖ
0´〜Ｖ1´とパワー効率（例えば、８０％）を算出す
る。この算出結果は、設定手段１３内にあらかじめ格納
される。また、このパワ−効率でビ−ムパワ−調整手段
４を動作させるための制御信号値も設定手段１３内に予
め格納される。
0〜Ｐ1の範囲で、駆動電圧と露光ビームパワーとの関係
が線形になるように、線形領域にある駆動電圧設定値Ｖ
0´〜Ｖ1´とパワー効率（例えば、８０％）を算出す
る。この算出結果は、設定手段１３内にあらかじめ格納
される。また、このパワ−効率でビ−ムパワ−調整手段
４を動作させるための制御信号値も設定手段１３内に予
め格納される。
【００２８】次に、その設定された駆動電圧設定値Ｖ0
´〜Ｖ1´に基づき、駆動電圧印可部３によりパワー変
調器２に駆動電圧ｂを印可するとともに、ビームパワー
調整手段４により、駆動電圧設定値Ｖ0´〜Ｖ1´に対す
る露光ビームパワーＰ0´〜Ｐ1´を、２０％減衰させて
所望の露光ビームパワーＰ0〜Ｐ1の範囲にする。これに
よって、所望の露光ビームパワーの範囲Ｐ0〜Ｐ1を線形
領域とすることができる。
´〜Ｖ1´に基づき、駆動電圧印可部３によりパワー変
調器２に駆動電圧ｂを印可するとともに、ビームパワー
調整手段４により、駆動電圧設定値Ｖ0´〜Ｖ1´に対す
る露光ビームパワーＰ0´〜Ｐ1´を、２０％減衰させて
所望の露光ビームパワーＰ0〜Ｐ1の範囲にする。これに
よって、所望の露光ビームパワーの範囲Ｐ0〜Ｐ1を線形
領域とすることができる。
【００２９】ビームパワー調整手段４により調整された
露光ビームｅは、設定手段１３がヘッド位置検出部１０
からのヘッド位置を示す信号に対応する露光半径の駆動
電圧を設定することにより、ヘッド位置に対応する所望
の露光ビームパワーＰ0〜Ｐ1となり、ミラー６によって
反射された後、ヘッドレンズ７を通過して記録媒体であ
るガラス基板８の表面に形成されたフォトレジスト８ａ
に集光して照射される。これにより、フォトレジスト８
ａが露光され、所定の溝パターンが形成される。その
後、現像工程、メッキ工程を経て光ディスク原盤が製造
される。
露光ビームｅは、設定手段１３がヘッド位置検出部１０
からのヘッド位置を示す信号に対応する露光半径の駆動
電圧を設定することにより、ヘッド位置に対応する所望
の露光ビームパワーＰ0〜Ｐ1となり、ミラー６によって
反射された後、ヘッドレンズ７を通過して記録媒体であ
るガラス基板８の表面に形成されたフォトレジスト８ａ
に集光して照射される。これにより、フォトレジスト８
ａが露光され、所定の溝パターンが形成される。その
後、現像工程、メッキ工程を経て光ディスク原盤が製造
される。
【００３０】本発明によれば、露光ビームの所望の露光
ビームパワーの範囲で駆動電圧との関係が非線形領域を
含まず線形領域になるように、露光ビームのパワー効率
を変化させるので、所望の露光ビームパワーと実際の露
光時の露光ビームパワーとの間に誤差が生じることがな
くなる。従って、露光した光ディスク原盤の溝パターン
の均一性を良好にできる。
ビームパワーの範囲で駆動電圧との関係が非線形領域を
含まず線形領域になるように、露光ビームのパワー効率
を変化させるので、所望の露光ビームパワーと実際の露
光時の露光ビームパワーとの間に誤差が生じることがな
くなる。従って、露光した光ディスク原盤の溝パターン
の均一性を良好にできる。
【００３１】本発明は、上記実施の形態に限定されるこ
とはなく、特許請求の範囲に記載された技術的事項の範
囲において、種々の変更が可能である。
とはなく、特許請求の範囲に記載された技術的事項の範
囲において、種々の変更が可能である。
【００３２】例えば、駆動電圧の設定やパワー効率の設
定において、種々の露光ビ−ムパワ−に対する駆動電圧
とパワ−効率とを予め測定し、その結果を所望の露光ビ
−ムパワ−毎に表等で作成しておき、その表に基づいて
駆動電圧設定値とパワー効率を適宜選択するようにすれ
ば、作業効率をより向上させることができる。
定において、種々の露光ビ−ムパワ−に対する駆動電圧
とパワ−効率とを予め測定し、その結果を所望の露光ビ
−ムパワ−毎に表等で作成しておき、その表に基づいて
駆動電圧設定値とパワー効率を適宜選択するようにすれ
ば、作業効率をより向上させることができる。
【００３３】
【発明の効果】本発明によれば、露光ビームの所望の露
光ビームパワーの範囲で駆動電圧との関係が非線形領域
を含まず線形領域になるように、駆動電圧を設定し、露
光ビームのパワー効率を変化させるので、所望の露光ビ
ームパワーと実際の露光時の露光ビームパワーとの間に
誤差が生じることがなくなる。従って、露光した光ディ
スク原盤の溝パターンの均一性を良好にできる。
光ビームパワーの範囲で駆動電圧との関係が非線形領域
を含まず線形領域になるように、駆動電圧を設定し、露
光ビームのパワー効率を変化させるので、所望の露光ビ
ームパワーと実際の露光時の露光ビームパワーとの間に
誤差が生じることがなくなる。従って、露光した光ディ
スク原盤の溝パターンの均一性を良好にできる。
【図１】本発明の実施の形態を示すブロック図である。
【図２】ビームパワー調整手段の調整方法を説明するた
めの駆動電圧と露光ビームパワーとの関係を示すグラフ
である。
めの駆動電圧と露光ビームパワーとの関係を示すグラフ
である。
【図３】従来の露光方法を説明するための駆動電圧と露
光ビームパワーとの関係を示すグラフである。
光ビームパワーとの関係を示すグラフである。
１：レーザ発振器 ２：パワー変調器 ３：駆動電圧印可部 ４：ビームパワー調整手段 ６：ミラー ７：ヘッドレンズ ８：ガラス基板 ８ａ：フォトレジスト １０：ヘッド位置検出部 １３：設定手段 ａ：レーザビーム ｂ：駆動電圧 ｃ：露光ビーム ｅ：調整された露光ビーム
Claims (4)
- 【請求項１】所望の露光ビームパワーの範囲で、駆動電
圧と露光ビームパワーとの関係が線形になるように、駆
動電圧設定値とパワー効率を設定し、 その設定された駆動電圧設定値に基づき、パワー変調器
に駆動電圧を印可し、 前記設定されたパワー効率に基づき、前記パワー変調器
から出射された露光ビームの露光ビームパワーを調整す
る、ことを特徴とする露光方法。 - 【請求項２】所望の露光ビームパワーの範囲で、駆動電
圧と露光ビームパワーとの関係が線形となるように、駆
動電圧設定値とパワー効率を設定する設定手段と、 その設定手段によって設定された駆動電圧設定値に基づ
き、パワー変調器に駆動電圧を印可する駆動電圧印可手
段と、 前記設定手段によって設定されたパワー効率に基づき、
前記パワー変調器から出射された露光ビームの露光ビー
ムパワーを調整するビームパワー調整手段と、 を有することを特徴とする露光装置。 - 【請求項３】前記ビームパワー調整手段は、可変偏向ビ
ームスプリッタを有することを特徴とする請求項２に記
載の露光装置。 - 【請求項４】前記設定手段は、露光ビ−ムパワ−に対す
る駆動電圧とパワ−効率を予め測定しておき、その測定
結果に基づいて所望の露光ビ−ムパワ−に対する駆動電
圧とパワ−効率を選択して設定することを特徴とする請
求項２又は３に記載の露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8166278A JPH1011813A (ja) | 1996-06-26 | 1996-06-26 | 露光方法及び露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8166278A JPH1011813A (ja) | 1996-06-26 | 1996-06-26 | 露光方法及び露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1011813A true JPH1011813A (ja) | 1998-01-16 |
Family
ID=15828421
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8166278A Pending JPH1011813A (ja) | 1996-06-26 | 1996-06-26 | 露光方法及び露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1011813A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002506234A (ja) * | 1998-03-02 | 2002-02-26 | マイクロニック レーザー システムズ アクチボラゲット | 改良型パターン・ジェネレータ |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06202058A (ja) * | 1992-12-25 | 1994-07-22 | Ricoh Co Ltd | 光量制御装置 |
| JPH07169111A (ja) * | 1993-12-10 | 1995-07-04 | Ricoh Co Ltd | 光ディスク原盤露光装置 |
-
1996
- 1996-06-26 JP JP8166278A patent/JPH1011813A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06202058A (ja) * | 1992-12-25 | 1994-07-22 | Ricoh Co Ltd | 光量制御装置 |
| JPH07169111A (ja) * | 1993-12-10 | 1995-07-04 | Ricoh Co Ltd | 光ディスク原盤露光装置 |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002506234A (ja) * | 1998-03-02 | 2002-02-26 | マイクロニック レーザー システムズ アクチボラゲット | 改良型パターン・ジェネレータ |
| US7710634B2 (en) | 1998-03-02 | 2010-05-04 | Micronic Laser Systems Ab | Pattern generator |
| US7787174B2 (en) | 1998-03-02 | 2010-08-31 | Micronic Laser Systems Ab | Pattern generator |
| US7800815B2 (en) | 1998-03-02 | 2010-09-21 | Micronic Laser Systems Ab | Pattern generator |
| JP2010267978A (ja) * | 1998-03-02 | 2010-11-25 | Micronic Laser Syst Ab | 改良型パターン・ジェネレータ |
| US7957055B2 (en) | 1998-03-02 | 2011-06-07 | Micronic Mydata AB | Pattern generator |
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