JPH10112495A - Substrate holder - Google Patents
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- JPH10112495A JPH10112495A JP28601996A JP28601996A JPH10112495A JP H10112495 A JPH10112495 A JP H10112495A JP 28601996 A JP28601996 A JP 28601996A JP 28601996 A JP28601996 A JP 28601996A JP H10112495 A JPH10112495 A JP H10112495A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】この発明は、半導体ウェハや
液晶表示基板などの基板を処理する基板処理装置におい
て、基板を水平保持して回転させながら、基板表面に薬
液を供給して処理するための基板保持体に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a substrate processing apparatus for processing a substrate such as a semiconductor wafer or a liquid crystal display substrate. The present invention relates to a substrate holder.
【０００２】[0002]
【従来の技術】回転式基板処理装置では、回転可能に支
持された基板の上面中央部にフォトレジスト液等の薬液
を吐出した後、基板を高速に回転させ、基板の回転に伴
う遠心力を利用して薬液を基板上面に均一に塗布してい
る。このとき、基板は、いわゆるスピンチャック（基板
保持体）の上面に水平姿勢で真空吸着保持され、高速回
転によって動かないように固定される。従来のスピンチ
ャックは、基板台上面の中央部（チャックセンタ）に１
箇所の吸着口を有していた。2. Description of the Related Art In a rotary type substrate processing apparatus, a chemical solution such as a photoresist solution is discharged to a central portion of an upper surface of a rotatably supported substrate, and then the substrate is rotated at a high speed to reduce a centrifugal force accompanying the rotation of the substrate. A chemical solution is uniformly applied to the upper surface of the substrate by utilizing the same. At this time, the substrate is vacuum-adsorbed and held in a horizontal posture on the upper surface of a so-called spin chuck (substrate holder), and is fixed so as not to move by high-speed rotation. The conventional spin chuck has a central part (chuck center) on the upper surface of the substrate table.
It had a suction port at each location.
【０００３】[0003]
【発明が解決しようとする課題】基板の径が大きくなる
と、スピンチャックの基板載置面の径（チャック径）も
大きくなる傾向にある。このような場合、チャックセン
タ１箇所に設けられた吸着口により吸着を行うには、十
分な吸着保持を実現するために吸着口での真空度を高め
て吸着力を強くする必要がある。このようにして吸着力
を高めると、吸着口へのエアーの流れが基板面に温度変
化を与え、この結果、膜を均一に形成できなかったり、
あるいは、現像を行うような場合には、現像液の温度に
も影響を与えて均一な現像が行えないという不都合が生
じる場合がある。また、処理液の種類によっては基板裏
面の吸着口付近にパーティクルが集まり、基板の裏面に
くっついてしまう場合もある。また、吸着力が基板中心
に集中するため、基板中心が変形してしまい、基板中心
部の膜厚が変化する場合もあった。As the diameter of the substrate increases, the diameter of the substrate mounting surface of the spin chuck (chuck diameter) also tends to increase. In such a case, in order to perform suction using the suction port provided at one location of the chuck center, it is necessary to increase the degree of vacuum at the suction port to increase the suction force in order to realize sufficient suction holding. When the suction force is increased in this way, the flow of air to the suction port changes the temperature of the substrate surface, and as a result, a film cannot be formed uniformly,
Alternatively, in the case where development is performed, there may be a problem that the temperature of the developer is affected and uniform development cannot be performed. Also, depending on the type of the processing liquid, particles may collect near the suction port on the back surface of the substrate and stick to the back surface of the substrate. Further, since the suction force is concentrated at the center of the substrate, the center of the substrate is deformed, and the film thickness at the center of the substrate may change.
【０００４】この発明は、従来技術における上述の課題
を解決するためになされたものであり、大径の基板に対
する吸着保持性能の向上を図った基板保持体を提供する
ことを目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned problems in the prior art, and has as its object to provide a substrate holder having improved suction holding performance for a large-diameter substrate.
【０００５】[0005]
【課題を解決するための手段およびその作用・効果】上
述の課題の少なくとも一部を解決するため、第１の発明
は、基板を吸着保持して回転させるための基板保持体で
あって、基板を載置するための載置面と、前記基板を吸
着するために、前記載置面に設けられた複数の吸着口
と、前記基板保持体の略中央の下部に設けられ、外部の
吸気手段に連通される吸気口と、前記基板保持体の内部
に設けられ、前記吸気口と前記複数の吸着口とを接続す
る連通孔と、を備えることを特徴とする。In order to solve at least a part of the above-mentioned problems, a first aspect of the present invention is a substrate holder for holding and rotating a substrate by suction. A mounting surface for mounting the substrate, a plurality of suction ports provided on the mounting surface for sucking the substrate, and an air suction means provided at a lower portion substantially at the center of the substrate holder; And a communication hole provided inside the substrate holder and connecting the suction port and the plurality of suction ports.
【０００６】第１の発明の構成によれば、従来技術のよ
うな基板保持体中心に設けられた１箇所の吸着口による
基板の吸着力に対して、吸着口１箇所当りの吸着力を弱
くすることが可能である。従って、吸着口１箇所当りの
空気の流れの強度を小さくすることができ、空気の流れ
に起因したパーティクル跡（パーティクルが吸着口付近
に集まって、基板の裏面に付着してしまった部分）や、
レジスト膜厚変化、現像むら等の基板への影響を防止す
ることができ、大径の基板に対する吸着保持性能の向上
を図った基板保持体を提供することが可能である。According to the structure of the first aspect of the present invention, the suction force per one suction port is weaker than the suction force of a single suction port provided at the center of the substrate holder as in the prior art. It is possible to Therefore, the intensity of the air flow per suction port can be reduced, and the particle traces (parts where the particles gather near the suction port and adhere to the back surface of the substrate) due to the air flow can be reduced. ,
It is possible to provide a substrate holder that can prevent a change in resist film thickness, uneven development, and the like, from affecting the substrate, and improve the adsorption holding performance for a large-diameter substrate.
【０００７】上記第１の発明において、前記複数の吸着
口は、前記基板保持体の回転中心を中心として略対称な
位置に設けられていることが好ましい。[0007] In the first aspect of the present invention, it is preferable that the plurality of suction ports are provided at positions substantially symmetric about a rotation center of the substrate holder.
【０００８】上記構成によれば、基板中心に対して略対
称位置から均等に基板を吸着できるため、安定な基板の
吸着保持が可能である。According to the above configuration, the substrate can be sucked evenly from a substantially symmetrical position with respect to the center of the substrate, so that stable suction holding of the substrate is possible.
【０００９】また、上記第１の発明において、前記連通
孔は、前記基板保持体の回転中心において、前記吸気口
に接続するように前記吸気口の上方側に設けられた垂直
孔と、前記垂直孔から放射状に、少なくとも前記複数の
吸着口の下方位置までそれぞれ伸びる複数の水平孔と、
前記複数の吸着口と前記複数の水平孔とをそれぞれ接続
する複数の接続孔と、を備えることが好ましい。In the first aspect, the communication hole may include a vertical hole provided above the intake port so as to be connected to the intake port at a center of rotation of the substrate holder, A plurality of horizontal holes extending radially from the holes to at least a position below the plurality of suction ports,
It is preferable that a plurality of connection holes for connecting the plurality of suction ports and the plurality of horizontal holes are provided.
【００１０】上記構成によれば、吸着口や連通孔をドリ
ル等で穴あけすることにより簡単に形成でき、回転台上
面の任意の位置に吸着口を設けることができる。According to the above configuration, the suction port and the communication hole can be easily formed by drilling with a drill or the like, and the suction port can be provided at an arbitrary position on the upper surface of the turntable.
【００１１】上記第１の発明において、あるいは、前記
連通孔は、前記基板保持体の回転中心において、前記吸
気口に接続するように前記吸気口の上方側に設けられた
垂直孔と、前記複数の吸着口から前記垂直孔に向けてそ
れぞれ斜めに設けられた複数の斜め孔と、を備えるよう
にしてもよい。In the first aspect of the present invention, the communication hole may be a vertical hole provided above the intake port so as to be connected to the intake port at the center of rotation of the substrate holder. And a plurality of oblique holes provided obliquely from the suction port toward the vertical hole.
【００１２】上記構成によっても、吸着口や連通孔をド
リル等で穴あけすることにより簡単に形成でき、回転台
上面の任意の位置に吸着口を設けることができる。According to the above configuration, the suction port and the communication hole can be easily formed by drilling with a drill or the like, and the suction port can be provided at an arbitrary position on the upper surface of the turntable.
【００１３】[0013]
【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態を実施
例に基づき説明する。図１は、この本発明の実施例を適
用する回転式基板処理装置の要部を示す斜視図である。Next, embodiments of the present invention will be described based on examples. FIG. 1 is a perspective view showing a main part of a rotary substrate processing apparatus to which an embodiment of the present invention is applied.
【００１４】この回転式基板処理装置は、図示しない電
動モータの駆動によって鉛直方向の軸心まわりで回転す
る回転軸２の上端に、接続ピン４によって一体回転可能
に取り付けられたスピンチャック（基板保持体）１を備
える。また、スピンチャック１の中心上方には、フォト
レジスト等の薬液を基板の表面に供給する薬液供給ノズ
ル６を備えている。This rotary type substrate processing apparatus is provided with a spin chuck (substrate holding) which is attached to the upper end of a rotary shaft 2 which is rotated about a vertical axis by driving an electric motor (not shown) so as to be integrally rotatable by a connecting pin 4. Body) 1. Above the center of the spin chuck 1, a chemical supply nozzle 6 for supplying a chemical such as a photoresist to the surface of the substrate is provided.
【００１５】スピンチャック１の上面（載置面）には、
回転軸２内に設けられた吸気口８に接続された吸着口１
０ａ〜１０ｄが設けられている。吸気口８は、図示しな
い外部の吸気手段（例えば工場備え付けのユーティリテ
ィ）に連通される。吸気手段を動作させると、吸着口１
０ａ〜１０ｄと吸気口８とを結ぶ吸気経路（連通孔）が
吸気（排気）されて、基板がスピンチャック１の上面に
吸着保持される。これにより、基板は、回転によっても
ずれることがないように、スピンチャック１に固定され
る。On the upper surface (mounting surface) of the spin chuck 1,
Suction port 1 connected to intake port 8 provided in rotating shaft 2
0a to 10d are provided. The intake port 8 is communicated with an external intake means (not shown) (for example, a utility provided in a factory). When the suction means is operated, the suction port 1
The suction path (communication hole) connecting the suction ports 8a to 10d is suctioned (exhausted), and the substrate is suction-held on the upper surface of the spin chuck 1. Thereby, the substrate is fixed to the spin chuck 1 so as not to be displaced by rotation.
【００１６】図２は、本発明の第１実施例によるスピン
チャック１を示す説明図である。スピンチャック１は、
一体形成された回転台部１ａと支持部１ｂ（図２
（Ｂ））を有している。回転台部１ａは、その上面に基
板を載置して吸着保持する機能を有し、支持部１ｂは、
回転台部１ａを支えるとともに、回転軸２（図１）と機
械的に連結する機能を有する。図２（Ａ）は、回転台部
１ａの上面（載置面）を示す平面図である。回転台部１
ａは円形の形状を有し、同心円状に複数本の溝２０（２
０ａ〜２０ｇ）が所定の深さと間隔で設けられている。
また、最外周の溝２０ａから最内周の溝２０ｇまでを貫
通するように、同心円上の溝２０と同じ深さで略十字状
に溝２１（２１ａ〜２１ｄ）が設けられている。これら
の溝は、例えば、丸いエンドミル等で表面を削ることに
より形成される（但し、形成方法はこれに限定する必要
はない）。また、吸着口１０ａ〜１０ｄは、略十字状の
溝２１と同心円状の溝２０ｇとが交差する位置に設けら
れている。FIG. 2 is an explanatory view showing a spin chuck 1 according to a first embodiment of the present invention. Spin chuck 1
The turntable 1a and the support 1b (FIG. 2) are integrally formed.
(B)). The turntable unit 1a has a function of placing a substrate on its upper surface and sucking and holding the substrate.
It has the function of supporting the turntable 1a and mechanically connecting it to the rotating shaft 2 (FIG. 1). FIG. 2A is a plan view showing the upper surface (mounting surface) of the turntable 1a. Turntable 1
a has a circular shape and a plurality of grooves 20 (2
0a to 20g) are provided at predetermined depths and intervals.
Grooves 21 (21a to 21d) are provided substantially in a cross shape at the same depth as the concentric grooves 20 so as to penetrate from the outermost groove 20a to the innermost groove 20g. These grooves are formed, for example, by shaving the surface with a round end mill or the like (however, the forming method need not be limited to this). The suction ports 10a to 10d are provided at positions where the substantially cross-shaped groove 21 and the concentric groove 20g intersect.
【００１７】図２（Ｂ）は、図２（Ａ）のスピンチャッ
ク１のＢ−Ｂ’断面図である。また、図２（Ｃ）は、支
持部１ｂの底面図である。支持部１ｂの中心には、支持
部１ｂに下面から鉛直上方に形成された回転軸挿入部１
７が形成されている。この回転軸挿入部１７には、回転
軸２が挿入される。回転軸２は中空であり、この中空部
が吸気口８（図１）として機能する。回転軸挿入部１７
のさらに上には、径の小さな吸着孔（垂直孔）１２が形
成されている。支持部１ｂの側面には、スピンチャック
１と回転軸２を接続する２本の接続ピン４（図１）を外
側から挿入するために、逆Ｕ字状の切り込み形状をした
接続ピン挿入部１８（１８ａ，１８ｂ）が形成されてい
る。各接続ピン４は、先端の小径部がネジ切りされてお
り、回転軸２に設けられたネジ穴に固定される。接続ピ
ン挿入部１８の幅は、接続ピン４の外径の幅にほぼ一致
している。従って、回転軸挿入部１７に回転軸２が挿入
されて、回転軸２とスピンチャック１が接続ピン４によ
り固定されれば、スピンチャック１は、回転方向に対し
て回転軸２に固定される。但し、接続ピン挿入部１８
は、逆Ｕ字状に切り込まれているので、スピンチャック
１を上方に持ち上げて取り外すことが可能である。FIG. 2B is a sectional view of the spin chuck 1 taken along the line BB 'of FIG. 2A. FIG. 2C is a bottom view of the support portion 1b. In the center of the support portion 1b, a rotating shaft insertion portion 1 formed vertically above the support portion 1b from the lower surface.
7 are formed. The rotating shaft 2 is inserted into the rotating shaft insertion portion 17. The rotating shaft 2 is hollow, and this hollow portion functions as an intake port 8 (FIG. 1). Rotary shaft insertion part 17
Above is formed a suction hole (vertical hole) 12 having a small diameter. In order to insert two connection pins 4 (FIG. 1) for connecting the spin chuck 1 and the rotary shaft 2 from the outside to the side surface of the support portion 1b, a connection pin insertion portion 18 having an inverted U-shaped cut shape is provided. (18a, 18b) are formed. Each connection pin 4 has a small-diameter portion at the end threaded, and is fixed to a screw hole provided in the rotating shaft 2. The width of the connection pin insertion portion 18 substantially matches the width of the outer diameter of the connection pin 4. Therefore, if the rotating shaft 2 is inserted into the rotating shaft insertion portion 17 and the rotating shaft 2 and the spin chuck 1 are fixed by the connection pin 4, the spin chuck 1 is fixed to the rotating shaft 2 in the rotating direction. . However, the connection pin insertion portion 18
Are cut in an inverted U-shape, so that the spin chuck 1 can be lifted upward and removed.
【００１８】回転台部１ａの内部には、回転中心から側
面の方向に放射状に形成された４つの吸着孔（水平孔）
１４ａ〜１４ｄが十字形に設けられている。これらの吸
着孔１４ａ〜１４ｄの端部は、空気が漏れないように止
め栓１６ａ〜１６ｄにより栓がされている。また、各吸
着孔１４ａ〜１４ｄは、支持部１ｂの中心に鉛直方向に
設けられた吸着孔１２に接続されている。吸着口１０ａ
〜１０ｄは、各吸着口から鉛直下方にあけられた接続孔
によって各吸着孔１４ａから１４ｄに接続されている。
これらの各孔や各口は、例えばドリルで穴を開けること
により形成される。Four suction holes (horizontal holes) radially formed in the direction of the side from the center of rotation are provided inside the turntable 1a.
14a to 14d are provided in a cross shape. Ends of these suction holes 14a to 14d are plugged with stopper plugs 16a to 16d so that air does not leak. Further, each of the suction holes 14a to 14d is connected to a suction hole 12 provided in the center of the support portion 1b in a vertical direction. Suction port 10a
Reference numerals 10 to 10d are connected to the suction holes 14a to 14d by connection holes formed vertically downward from the suction holes.
These holes and ports are formed by, for example, drilling holes with a drill.
【００１９】回転台部１ａの上面に基板を載置した状態
で、回転軸２の吸気口８から吸気すると、回転台部１ａ
の上面の溝２０，２１の空気が４つの吸着口１０ａ〜１
０ｄから吸気されるので、各溝２０、２１が略真空状態
となる。この実施例では、吸着口１０ａ〜１０ｄと、溝
２０と、溝２１とが、回転台部１ａの中心に対して略対
称の構造を有しているため、溝の空気が各吸着口１０ａ
〜１０ｄから均等に吸気される。従って、基板をバラン
スよく吸着することが可能である。吸着口や溝は、回転
台部１ａの回転中心に対して必ずしも略対称の構造とす
る必要はないが、バランスよく基板を吸着するために
は、略対称の構造とした方がよい。When the substrate is placed on the upper surface of the turntable 1a and the air is sucked from the intake port 8 of the rotary shaft 2, the turntable 1a
Air in the grooves 20 and 21 on the upper surface of each of the four suction ports 10a-1
Since the air is suctioned from 0d, each groove 20, 21 is in a substantially vacuum state. In this embodiment, the suction ports 10a to 10d, the groove 20, and the groove 21 have a substantially symmetric structure with respect to the center of the turntable 1a.
Air is evenly sucked from 10 to 10d. Therefore, it is possible to adsorb the substrate in a well-balanced manner. The suction port and the groove need not necessarily have a substantially symmetrical structure with respect to the rotation center of the turntable 1a, but it is better to have a substantially symmetrical structure in order to suction the substrate in a well-balanced manner.
【００２０】図３は、本発明の第２実施例によるスピン
チャック３０を示す説明図である。スピンチャック３０
は、第１実施例と同様に、一体形成された回転台部３０
ａと支持部３０ｂを有している。図３（Ａ）は、スピン
チャック３０の回転台部３０ａの上面（載置面）を示す
平面図である。回転台部３０ａは円形の形状を有し、回
転台部３０ａの上面の最外周には、同心円状の基板接触
リング３２が設けられている。この基板接触リング３２
の内側には、周方向に伸びる多数の基板接触突起３４が
ほぼ均一に形成されている。回転台部３０ａの中心付近
には、扇状の６つの基板接触部３６が設けられている。
基板接触リング３２や、基板接触突起３４、基板接触部
３６は、例えば、丸いエンドミル等で表面を削ることに
より形成される（但し、形成方法はこれに限定する必要
はない）。基板接触リング３２や基板接触突起３４、基
板接触部３６は、基板との接触面ができるだけ少なく、
しかも基板全体で支持されるようにすることが好まし
く、通常は、回転台部３０ａの上面全体の面積に対し
て、これらの面積が８％程度となるように、回転台部３
０ａ全面に一様に配置している。４つの吸着口４０ａ〜
４０ｄは、基板接触突起３４および基板接触部３６を回
避する位置であって、回転台部３０ａの中心近くの溝の
位置に、略十字に配置されている。FIG. 3 is an explanatory view showing a spin chuck 30 according to a second embodiment of the present invention. Spin chuck 30
As in the first embodiment, the integrally formed turntable 30
a and the support portion 30b. FIG. 3A is a plan view showing the upper surface (mounting surface) of the turntable 30 a of the spin chuck 30. The turntable 30a has a circular shape, and a concentric substrate contact ring 32 is provided on the outermost periphery of the upper surface of the turntable 30a. This substrate contact ring 32
A large number of substrate contact protrusions 34 extending in the circumferential direction are formed substantially uniformly inside. Near the center of the turntable 30a, six fan-shaped substrate contact portions 36 are provided.
The substrate contact ring 32, the substrate contact protrusion 34, and the substrate contact portion 36 are formed by, for example, shaving the surface with a round end mill or the like (however, the formation method is not limited to this). The substrate contact ring 32, the substrate contact protrusion 34, and the substrate contact portion 36 have as few contact surfaces as possible with the substrate.
In addition, it is preferable that the entire surface of the turntable 30a is supported by the entire turntable 30a.
0a are uniformly arranged on the entire surface. Four suction ports 40a-
Reference numeral 40d denotes a position avoiding the substrate contact protrusion 34 and the substrate contact portion 36, and is disposed substantially in a cross at a position of a groove near the center of the turntable 30a.
【００２１】図３（Ｂ）は、図３（Ａ）のスピンチャッ
ク３０のＢ−Ｂ’断面図である。また、図３（Ｃ）は、
支持部３０ｂの底面図である。支持部３０ｂの中心に
は、支持部３０ｂに下面から鉛直上方に形成された回転
軸挿入部５０が形成されている。支持部３０ｂの側面に
は、スピンチャック３０と回転軸２を接続する１本の接
続ピン４（図１）のために、逆Ｕ字状の切り込み形状の
接続ピン挿入部５２が形成されている。接続ピン挿入部
５２の内径は、接続ピン４が挿入できるぎりぎりの大き
さである。従って、回転軸挿入部５０に回転軸２が挿入
されて、回転軸２とスピンチャック３０が接続ピン４に
より固定されれば、スピンチャック３０は、回転方向に
対して回転軸２に固定される。但し、接続ピン挿入部５
２は第１実施例の場合と同様に逆Ｕ字状に切り込まれて
いるので、スピンチャック３０を上方に持ち上げて容易
に取り外すことが可能である。FIG. 3B is a sectional view of the spin chuck 30 taken along the line BB 'of FIG. 3A. FIG. 3 (C)
It is a bottom view of support part 30b. At the center of the support portion 30b, a rotary shaft insertion portion 50 formed vertically above the lower surface of the support portion 30b is formed. On the side surface of the support portion 30b, an inverted U-shaped cut-shaped connection pin insertion portion 52 is formed for one connection pin 4 (FIG. 1) for connecting the spin chuck 30 and the rotating shaft 2. . The inner diameter of the connection pin insertion portion 52 is just as large as the connection pin 4 can be inserted. Therefore, when the rotating shaft 2 is inserted into the rotating shaft insertion portion 50 and the rotating shaft 2 and the spin chuck 30 are fixed by the connection pin 4, the spin chuck 30 is fixed to the rotating shaft 2 in the rotation direction. . However, the connection pin insertion part 5
2 is cut in an inverted U-shape as in the first embodiment, so that the spin chuck 30 can be lifted upward and easily removed.
【００２２】回転軸挿入部５０の上方には、支持部３０
ｂの中心で鉛直方向に伸びる吸着孔（垂直孔）４２が形
成されている。さらに、この吸着孔４２と、回転台部３
０ａの上面の４つの吸着口４０ａ〜４０ｄとをそれぞれ
接続するために、斜め方向に吸着孔（斜め孔）４４ａ〜
４４ｄがそれぞれ形成されている。この斜めの方向は、
各吸着口４０ａ〜４０ｄの配置位置によって変化する。
この実施例では、鉛直方向に対して５１°の方向として
いるが、これに限定する必要はない。Above the rotary shaft insertion part 50, a support part 30 is provided.
At the center of b, a suction hole (vertical hole) 42 extending in the vertical direction is formed. Further, the suction hole 42 and the turntable 3
In order to connect the four suction ports 40a to 40d on the upper surface of Oa respectively, suction holes (oblique holes) 44a to
44d are respectively formed. This diagonal direction is
It changes depending on the arrangement position of each of the suction ports 40a to 40d.
In this embodiment, the direction is 51 ° with respect to the vertical direction. However, the direction is not limited to this.
【００２３】上記の第２実施例においても、回転台部３
０ａの上面に基板を載置した状態で、回転軸２の吸気口
８から吸気すると、回転台部３０ａの上面の溝の空気が
４つの吸着口４０ａ〜４０ｄから吸気されるので、溝が
略真空状態となる。この実施例では、各吸着口４０ａ〜
４０ｄや、多数の基板接触突起３４および６つの基板接
触部３６が、回転台部３０ａの中心に対して略対称の構
造を有しているため、溝の空気が各吸着口４０ａ〜４０
ｄから均等に吸気される。従って、バランスよく吸着が
可能である。吸着口や、基板接触突起および基板接触部
は、回転台部３０ａの回転中心に対して必ずしも略対称
の構造とする必要はないが、バランスよく基板を吸着す
るためには、略対称の構造とした方がよい。In the second embodiment, the turntable 3
When the substrate is placed on the upper surface of the rotary shaft 0a and the air is suctioned from the air inlet 8 of the rotating shaft 2, the air in the groove on the upper surface of the rotary base 30a is sucked from the four suction holes 40a to 40d, so that the groove is substantially It becomes a vacuum state. In this embodiment, each of the suction ports 40a-
40d, the large number of substrate contact protrusions 34 and the six substrate contact portions 36 have a substantially symmetrical structure with respect to the center of the turntable 30a.
The air is evenly suctioned from d. Therefore, adsorption can be performed in a well-balanced manner. The suction port, the substrate contact protrusion, and the substrate contact portion are not necessarily required to have a substantially symmetric structure with respect to the rotation center of the turntable 30a. It is better to do.
【００２４】上記の第１実施例，第２実施例において
は、吸着口が回転台の中心に位置しないので、薬液供給
ノズルから吸着口への薬液の侵入可能性が低減される。In the first and second embodiments, since the suction port is not located at the center of the turntable, the possibility that the chemical solution enters the suction port from the chemical solution supply nozzle is reduced.
【００２５】なお、この発明は上記の実施例や実施形態
に限られるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲に
おいて種々の態様において実施することが可能である。 （１）溝の形状は、上記実施例に限定するものではな
く、各吸気口へバランスよく空気が流れる形状であれば
よい。例えば、各溝が碁盤の目状に整列して交差するよ
うに、多数の基板接触突起を配置するようにしてもよ
い。 （２）実施例は４個の吸着口を略十字状に配置している
が、この吸着口の数と配置に限定する必要はなく、回転
台中心に対して略対称に配置されていればよい。 （３）複数の吸着口のうち一つを回転台中心に設けても
よい。回転台中心に吸着口を設ける場合は、吸気がこの
中心に設けられた吸着口に集中しないように、他の吸着
口と穴の径を変えることにより、各吸着口から均等に吸
気されるようにすることが好ましい。例えば、回転中心
の吸着口を小さくし、他の吸着口を大きくすることが好
ましい。一般に、回転中心のより近くに存在する吸着口
を比較的小さくし、より遠くに存在する吸着口を比較的
大きくすることが好ましい。The present invention is not limited to the above-described examples and embodiments, but can be implemented in various modes without departing from the scope of the invention. (1) The shape of the groove is not limited to the above embodiment, but may be any shape as long as air flows to each intake port in a well-balanced manner. For example, a large number of substrate contact protrusions may be arranged such that the grooves intersect in a grid pattern. (2) In the embodiment, four suction ports are arranged in a substantially cross shape. However, it is not necessary to limit the number and arrangement of the suction ports, as long as they are arranged substantially symmetrically with respect to the center of the turntable. Good. (3) One of the plurality of suction ports may be provided at the center of the turntable. When the suction ports are provided at the center of the turntable, the diameter of the other suction ports and the holes is changed so that the intake air is not concentrated on the suction ports provided at the center, so that the suction is uniformly performed from each suction port. Is preferable. For example, it is preferable to reduce the suction port at the center of rotation and increase the other suction ports. In general, it is preferable to make the suction port located closer to the center of rotation relatively small, and make the suction port located farther away relatively large.
【図１】この発明の実施例を適用する回転式基板処理装
置の要部を示す斜視図。FIG. 1 is a perspective view showing a main part of a rotary substrate processing apparatus to which an embodiment of the present invention is applied.
【図２】本発明の第１実施例によるスピンチャックを示
す説明図。FIG. 2 is an explanatory view showing a spin chuck according to the first embodiment of the present invention.
【図３】本発明の第２実施例によるスピンチャックを示
す説明図。FIG. 3 is an explanatory view showing a spin chuck according to a second embodiment of the present invention.
１…スピンチャック １ａ…回転台部 １ｂ…支持部 ２…回転軸 ４…接続ピン ６…薬液供給ノズル ８…吸気口 １０ａ〜１０ｄ…吸着口 １２…吸着孔（垂直孔） １４ａ〜１４ｄ…吸着孔（水平孔） １６ａ〜１６ｄ…栓 １７…回転軸挿入部 １８…接続ピン挿入部 ２０…溝 ２０ａ〜２０ｇ…溝 ２１…溝 ２１ａ〜２１ｄ…溝 ３０…スピンチャック ３０ａ…回転台部 ３０ｂ…支持部 ３２…基板接触リング ３４…基板接触突起 ３６…基板接触部 ４０ａ〜４０ｄ…吸着口 ４２…吸着孔（垂直孔） ４４ａ〜４４ｄ…吸着孔（斜め孔） ５０…回転軸挿入部 ５２…接続ピン挿入部 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Spin chuck 1a ... Rotating base part 1b ... Support part 2 ... Rotating shaft 4 ... Connection pin 6 ... Chemical liquid supply nozzle 8 ... Suction port 10a-10d ... Suction port 12 ... Suction hole (vertical hole) 14a-14d ... Suction hole (Horizontal holes) 16a to 16d: plug 17: rotary shaft insertion portion 18: connection pin insertion portion 20: groove 20a to 20g: groove 21: groove 21a to 21d: groove 30: spin chuck 30a: rotary table portion 30b: support portion Reference numeral 32: substrate contact ring 34: substrate contact protrusion 36: substrate contact portion 40a to 40d: suction port 42: suction hole (vertical hole) 44a to 44d: suction hole (oblique hole) 50: rotary shaft insertion part 52: connection pin insertion Department
Claims (4)
板保持体であって、 基板を載置するための載置面と、 前記基板を吸着するために、前記載置面に設けられた複
数の吸着口と、 前記基板保持体の略中央の下部に設けられ、外部の吸気
手段に連通される吸気口と、 前記基板保持体の内部に設けられ、前記吸気口と前記複
数の吸着口とを接続する連通孔と、を備えることを特徴
とする基板保持体。1. A substrate holder for holding and rotating a substrate by suction, wherein the mounting surface is provided on a mounting surface for mounting the substrate, and the mounting surface is provided on the mounting surface for sucking the substrate. A plurality of suction ports, a suction port provided substantially below the center of the substrate holder and communicated with an external suction unit, and the suction port and the plurality of suction ports provided inside the substrate holder. And a communication hole for connecting the substrate holder to the substrate holder.
として略対称な位置に設けられている、基板保持体。2. The substrate holder according to claim 1, wherein the plurality of suction ports are provided at positions substantially symmetric about a rotation center of the substrate holder.
って、 前記連通孔は、 前記基板保持体の回転中心において、前記吸気口に接続
するように前記吸気口の上方側に設けられた垂直孔と、 前記垂直孔から放射状に、少なくとも前記複数の吸着口
の下方位置までそれぞれ伸びる複数の水平孔と、 前記複数の吸着口と前記複数の水平孔とをそれぞれ接続
する複数の接続孔と、を備える基板保持体。3. The substrate holder according to claim 1, wherein the communication hole is provided at a rotation center of the substrate holder above the air inlet so as to be connected to the air inlet. A vertical hole, a plurality of horizontal holes radially extending from the vertical hole to at least a position below the plurality of suction ports, and a plurality of connection holes respectively connecting the plurality of suction ports and the plurality of horizontal holes. And a substrate holder comprising:
って、 前記連通孔は、 前記基板保持体の回転中心において、前記吸気口に接続
するように前記吸気口の上方側に設けられた垂直孔と、 前記複数の吸着口から前記垂直孔に向けてそれぞれ斜め
に設けられた複数の斜め孔と、を備える基板保持体。4. The substrate holder according to claim 1, wherein the communication hole is provided above the air inlet so as to be connected to the air inlet at a rotation center of the substrate holder. And a plurality of oblique holes provided obliquely from the plurality of suction ports toward the vertical holes.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28601996A JPH10112495A (en) | 1996-10-07 | 1996-10-07 | Substrate holder |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28601996A JPH10112495A (en) | 1996-10-07 | 1996-10-07 | Substrate holder |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10112495A true JPH10112495A (en) | 1998-04-28 |
Family
ID=17698936
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28601996A Abandoned JPH10112495A (en) | 1996-10-07 | 1996-10-07 | Substrate holder |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10112495A (en) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006075356A1 (en) * | 2005-01-11 | 2006-07-20 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Semiconductor manufacturing apparatus |
| KR100791975B1 (en) * | 2001-10-22 | 2008-01-04 | 주식회사 케이씨텍 | Apparatus for holding substrate |
| KR100880937B1 (en) * | 2001-12-29 | 2009-02-04 | 엘지디스플레이 주식회사 | Spin Developing Device |
| KR101332340B1 (en) * | 2005-12-14 | 2013-11-22 | 주성엔지니어링(주) | Thin film manufacturing apparatus |
| JP2020031150A (en) * | 2018-08-23 | 2020-02-27 | 日本特殊陶業株式会社 | Vacuum chuck and manufacturing method thereof |
-
1996
- 1996-10-07 JP JP28601996A patent/JPH10112495A/en not_active Abandoned
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|---|---|---|---|
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20041001 |
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| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20041102 |
|
| A762 | Written abandonment of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A762 Effective date: 20041227 |