JPH10110269A - Pachinko ball and its production - Google Patents
Pachinko ball and its productionInfo
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- JPH10110269A JPH10110269A JP26569796A JP26569796A JPH10110269A JP H10110269 A JPH10110269 A JP H10110269A JP 26569796 A JP26569796 A JP 26569796A JP 26569796 A JP26569796 A JP 26569796A JP H10110269 A JPH10110269 A JP H10110269A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】この発明は、遊技用パチンコ
台に使用するパチンコ玉およびその製造方法に関するも
のである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a pachinko ball used for a game pachinko machine and a method of manufacturing the same.
【０００２】[0002]
【従来の技術】大衆娯楽の１つにパチンコがあるが、通
常パチンコ店から帰るときに手元に残っているパチンコ
玉を、店員のいる所定の場所で玉数に応じて賞品と交換
するようになっている。このパチンコに使用する従来の
パチンコ玉は、錆防止等のためステンレス製のボール
（小球）を用いていた。2. Description of the Related Art Pachinko is one of the popular entertainments. Pachinko balls which are usually left when returning from a pachinko parlor are exchanged for prizes according to the number of balls at a predetermined place where a clerk exists. Has become. The conventional pachinko balls used for the pachinko balls use stainless steel balls (small balls) to prevent rust and the like.
【０００３】[0003]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら従来のパ
チンコ玉は、遊技中にパチンコ台の中の玉案内板との摺
接や、釘や玉同士が衝突したり、パチンコ玉を箱に入れ
て持ち運びするときにも玉同士が衝突したりして、表面
が摩耗して削れた粉が付着し汚れる。また、パチンコ玉
は人の手に接触するため表面に油脂が付着して汚れる。
このため、汚れたパチンコ玉を洗浄している。However, conventional pachinko balls are carried during game play by sliding contact with a ball guide plate in a pachinko machine, collision of nails or balls, or putting pachinko balls in a box. Also, when the balls collide with each other, the surface is worn and the shaved powder adheres and becomes dirty. Moreover, since the pachinko balls come into contact with human hands, fats and oils adhere to the surface and become dirty.
For this reason, dirty pachinko balls are washed.
【０００４】この発明の目的は、摩耗による削れた粉や
油脂の付着を低減し、汚れ具合を少なくして洗浄頻度を
低減できるパチンコ玉およびその製造方法を提供するこ
とである。An object of the present invention is to provide a pachinko ball that can reduce the adhesion of powder or oil or fat shaved due to abrasion, reduce the degree of dirt, and reduce the frequency of cleaning, and a method of manufacturing the same.
【０００５】[0005]
【課題を解決するための手段】請求項１記載のパチンコ
玉は、表面をダイヤモンド・ライク・カーボン膜（以下
「ＤＬＣ（ｄｉａｍｏｎｄ ｌｉｋｅ ｃａｒｂｏｎ）
膜」という）で被覆したことを特徴とする。このよう
に、表面をＤＬＣ膜で被覆したことにより、パチンコ台
の中の玉案内板との摺接や、釘や玉同士の衝突による表
面の摩耗を低減し、摩耗して削れた粉の付着量を低減で
き、また、手との接触による油脂の付着も低減すること
ができるため、汚れ具合が少なくなり、洗浄頻度を低減
することができる。According to a first aspect of the present invention, there is provided a pachinko ball having a diamond-like carbon film (hereinafter referred to as "DLC (diamond like carbon)".
Film "). In this way, by coating the surface with the DLC film, the sliding contact with the ball guide plate in the pachinko machine and the abrasion of the surface due to the collision of nails and balls are reduced, and the abrasion and powder shavings adhere. Since the amount can be reduced and the adhesion of fats and oils due to contact with hands can be reduced, the degree of contamination can be reduced and the frequency of cleaning can be reduced.
【０００６】請求項２記載のパチンコ玉の製造方法は、
プラズマＣＶＤ法によりＤＬＣ膜をパチンコ玉本体の表
面に被覆することを特徴とする。このように、プラズマ
ＣＶＤ法によるＤＬＣ膜は、低温での形成が可能とな
り、また、良質なＤＬＣ膜を形成することができる。請
求項３記載のパチンコ玉の製造方法は、請求項２記載の
パチンコ玉の製造方法において、パチンコ玉本体をＤＬ
Ｃ膜で被覆する前に、パチンコ玉本体をフッ素含有ガ
ス，水素ガスおよび酸素ガスのうち少なくとも１種のガ
スのプラズマに曝して清浄化処理を行うことを特徴とす
る。[0006] The method for producing a pachinko ball according to claim 2 comprises:
It is characterized in that the surface of the pachinko ball body is coated with a DLC film by a plasma CVD method. Thus, the DLC film formed by the plasma CVD method can be formed at a low temperature, and a high quality DLC film can be formed. The method for manufacturing a pachinko ball according to claim 3 is the method for manufacturing a pachinko ball according to claim 2, wherein the pachinko ball body is DL.
Before being coated with the C film, the pachinko ball body is subjected to a cleaning treatment by exposing the pachinko ball body to a plasma of at least one of a fluorine-containing gas, a hydrogen gas and an oxygen gas.
【０００７】このように、パチンコ玉本体をＤＬＣ膜で
被覆する前に、フッ素含有ガス，水素ガスおよび酸素ガ
スのうち少なくとも１種のガスのプラズマに曝して清浄
化処理を行うことにより、パチンコ玉本体に付着してい
る汚染物質等を除去し、ＤＬＣ膜の密着性を向上させる
ことができる。[0007] As described above, before the pachinko ball body is coated with the DLC film, the pachinko ball is exposed to plasma of at least one of fluorine-containing gas, hydrogen gas, and oxygen gas to perform the cleaning process, thereby achieving the pachinko ball. Contaminants and the like attached to the main body can be removed, and the adhesion of the DLC film can be improved.
【０００８】[0008]
【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の形態につ
いて説明する。図１はこの発明の実施の形態のパチンコ
玉を示す断面図である。図１において、１はパチンコ玉
本体、２はＤＬＣ膜である。この実施の形態のパチンコ
玉は、パチンコ玉本体１の表面をＤＬＣ膜２で被覆した
ことを特徴とする。このＤＬＣ膜２は、プラズマＣＶＤ
法で形成することにより、低温での形成が可能であり、
また、良質なＤＬＣ膜２を形成することができる。Embodiments of the present invention will be described below. FIG. 1 is a sectional view showing a pachinko ball according to an embodiment of the present invention. In FIG. 1, 1 is a pachinko ball main body, and 2 is a DLC film. The pachinko ball of this embodiment is characterized in that the surface of the pachinko ball main body 1 is covered with the DLC film 2. This DLC film 2 is formed by plasma CVD.
By forming by the method, formation at low temperature is possible,
Further, a high quality DLC film 2 can be formed.
【０００９】ＤＬＣ膜２の形成方法を図２を参照しなが
ら説明する。図２はＤＬＣ膜の成膜装置の構成図であ
る。ここでは成膜装置として平行平板型プラズマＣＶＤ
装置を用いている。図２において、５は真空チャンバ、
６は接地電極、７はヒータ８を内蔵した高周波電極、９
は高周波電源、１０はマッチングボックス、１１は排気
ポンプ、１２はプロセスガスボンベ、１３は圧力調整
弁、１４はマスフローコントローラである。A method for forming the DLC film 2 will be described with reference to FIG. FIG. 2 is a configuration diagram of a DLC film forming apparatus. Here, a parallel plate type plasma CVD is used as a film forming apparatus.
The device is used. In FIG. 2, 5 is a vacuum chamber,
6 is a ground electrode, 7 is a high-frequency electrode with a built-in heater 8, 9
Is a high frequency power supply, 10 is a matching box, 11 is an exhaust pump, 12 is a process gas cylinder, 13 is a pressure regulating valve, and 14 is a mass flow controller.
【００１０】この成膜装置は、真空チャンバ５内に接地
電極６と高周波電極７とを平行に設置し、接地電極６を
グラウンドに接続し、高周波電極７をマッチングボック
ス１０を介して高周波電源９に接続している。そして、
真空チャンバ５には、真空チャンバ５内のガスを排気す
る排気ポンプ１１と、真空チャンバ５内にプロセスガス
を導入するガス導入部とが接続されている。ガス導入部
には、プロセスガスボンベ１２からのプロセスガスの流
量制御が可能なようにマスフローコントローラ１４を設
けている。高周波電源９からマッチングボックス１０を
介して高周波電極７に高周波電力を供給し、真空チャン
バ５内にプロセスガスを導入することにより、プラズマ
処理が可能になる。In this film forming apparatus, a ground electrode 6 and a high-frequency electrode 7 are installed in a vacuum chamber 5 in parallel, the ground electrode 6 is connected to the ground, and the high-frequency electrode 7 is connected to a high-frequency power source 9 through a matching box 10. Connected to And
The vacuum chamber 5 is connected to an exhaust pump 11 that exhausts gas in the vacuum chamber 5 and a gas introduction unit that introduces a process gas into the vacuum chamber 5. The gas introduction unit is provided with a mass flow controller 14 so that the flow rate of the process gas from the process gas cylinder 12 can be controlled. By supplying high-frequency power from the high-frequency power supply 9 to the high-frequency electrode 7 via the matching box 10 and introducing a process gas into the vacuum chamber 5, plasma processing can be performed.
【００１１】高周波電極７上にパチンコ玉本体１を載置
する。パチンコ玉本体１としてはφ（直径）１０ｍｍの
ステンレス製ボール（ＳＵＳ３０４ボール）を用いてい
る。まず、パチンコ玉本体１に付着している汚染物質等
を除去し、密着性の良いＤＬＣ膜を形成するために、パ
チンコ玉本体１をガスプラズマに曝す前処理（清浄化処
理）を行う。この前処理の条件は、例えば処理ガスとし
てＨ2 ガスを流量５０ｓｃｃｍ、高周波電力１５０Ｗ、
自己バイアス電圧−８０Ｖ、所定周波数１３．５６ＭＨ
ｚ、接地電極６および高周波電極７のサイズはφ２８０
ｍｍ、基板温度２５℃、チャンバ内圧力０．１Ｔｏｒ
ｒ、処理時間１０分で行う。なお、処理ガスとしては、
Ｈ2 ガスの他、Ｏ2 ガスやフッ素含有ガス等を用いても
よい。また、フッ素含有ガスとしては、フッ素（Ｆ2 ）
ガス，３フッ化窒素（ＮＦ3 ）ガス，６フッ化硫黄（Ｓ
Ｆ6 ）ガス，４フッ化炭素（ＣＦ4 ）ガス，４フッ化ケ
イ素（ＳｉＦ4 ）ガス，６フッ化ケイ素（Ｓｉ2 Ｆ6 ）
ガス，３フッ化塩素（ＣｌＦ 3 ）ガス，フッ化水素（Ｈ
Ｆ）ガス等が挙げられる。また、Ｈ2 ガス，Ｏ2 ガス，
フッ素含有ガスのうち１種類に限らず、複数種類のガス
を用いてもよい。The pachinko ball body 1 is placed on the high frequency electrode 7
I do. The pachinko ball body 1 has a φ (diameter) of 10 mm.
Using stainless steel balls (SUS304 balls)
You. First, contaminants adhering to the pachinko ball body 1
In order to form a DLC film with good adhesion
Pre-treatment of exposing the dick body 1 to gas plasma (cleaning process)
Do). The conditions for this pretreatment are, for example,
HTwoGas flow rate 50 sccm, high frequency power 150 W,
Self-bias voltage -80V, predetermined frequency 13.56MH
z, the size of the ground electrode 6 and the high-frequency electrode 7 are φ280
mm, substrate temperature 25 ° C, chamber pressure 0.1 Torr
r, a processing time of 10 minutes. In addition, as processing gas,
HTwoIn addition to gas, OTwoGas or fluorine-containing gas
Good. Further, as the fluorine-containing gas, fluorine (FTwo)
Gas, nitrogen trifluoride (NFThree) Gas, sulfur hexafluoride (S
F6) Gas, carbon tetrafluoride (CFFour) Gas, tetrafluoride
I (SiFFour) Gas, silicon hexafluoride (SiTwoF6)
Gas, chlorine trifluoride (ClF Three) Gas, hydrogen fluoride (H
F) Gas and the like. Also, HTwoGas, OTwogas,
Not limited to one type of fluorine-containing gas, but multiple types of gases
May be used.
【００１２】つぎに、ＤＬＣ膜を形成するが、このとき
の条件は、成膜真空度０．１Ｔｏｒｒ、高周波電力１０
０Ｗ、ＣＨ4 ガスを流量５０ｓｃｃｍ、成膜時間３０
分、成膜速度１００Å／分で行う。ここで、パチンコ玉
本体１の全表面にＤＬＣ膜を成膜するために、１分ごと
にパチンコ玉本体１が回転して、成膜面が入れかわるよ
うに高周波電極７を左右に移動させる。移動のさせ方
は、最初に高周波電極７を大きく右から左へパチンコ玉
本体１が回転することができる速度で移動させる。この
移動速度は１０ｍｍ／分で行った。なお、高周波電極７
は、パチンコ玉本体１が落ちないように周囲に枠を設
け、左右に１ｍｍ移動できるようにしている。Next, a DLC film is formed under the following conditions: a film forming vacuum degree of 0.1 Torr;
0 W, CH 4 gas flow rate 50 sccm, film formation time 30
At a film forming rate of 100 ° / min. Here, in order to form a DLC film on the entire surface of the pachinko ball main body 1, the pachinko ball main body 1 is rotated every minute, and the high-frequency electrode 7 is moved left and right so that the film forming surfaces are switched. In order to move the pachinko ball body 1, first, the high-frequency electrode 7 is moved largely from right to left at a speed at which the pachinko ball body 1 can rotate. This moving speed was 10 mm / min. The high-frequency electrode 7
Is provided with a frame around the pachinko ball main body 1 so that the pachinko ball main body 1 does not fall, and can be moved left and right by 1 mm.
【００１３】以上のようにしてパチンコ玉本体１をＤＬ
Ｃ膜２で被覆し、このＤＬＣ膜２で被覆したパチンコ玉
と、ＤＬＣ膜で被覆していないパチンコ玉本体１からな
るパチンコ玉（以下「未処理のパチンコ玉」という）と
について、摩耗量と油分の付着量とを調べた。摩耗量に
ついては、パチンコ玉本体１と同じ材質のステンレス製
の板を用い、そのステンレス製の板について調べた摩耗
量を未処理のパチンコ玉の摩耗量とし、また、そのステ
ンレス製の板上をＤＬＣ膜で被覆したものについて調べ
た摩耗量をＤＬＣ膜で被覆したパチンコ玉の摩耗量と
し、また、そのステンレス製の板上にバッファ層を設け
さらにＤＬＣ膜で被覆したものについて調べた摩耗量を
バッファ層を設けてＤＬＣ膜で被覆したパチンコ玉の摩
耗量として、表１に示す。この表１の摩耗量は、未処理
および上記のように処理を施したステンレス製の板の上
面に、先端曲率がＲ１８ｍｍのアルミニウム棒を荷重１
００ｇで押し付け、２０ｍｍ／ｓｅｃで１時間移動させ
たときの摩耗量を調べた結果である。As described above, the pachinko ball body 1 is DL
The wear amount of the pachinko ball coated with the C film 2 and covered with the DLC film 2 and the pachinko ball composed of the pachinko ball main body 1 not covered with the DLC film (hereinafter, referred to as “untreated pachinko ball”). The amount of oil deposited was examined. Regarding the wear amount, a stainless steel plate made of the same material as the pachinko ball body 1 was used, and the wear amount examined for the stainless steel plate was taken as the wear amount of the untreated pachinko ball. The wear amount of the pachinko ball coated with the DLC film was defined as the wear amount of the pachinko ball coated with the DLC film, and the buffer layer provided on the stainless steel plate and the wear amount of the pachinko ball coated with the DLC film was further measured. Table 1 shows the wear of pachinko balls provided with a buffer layer and covered with a DLC film. The wear amount shown in Table 1 was measured by applying an aluminum rod having a tip curvature of R18 mm to the upper surface of an untreated or treated stainless steel plate as described above.
It is a result of examining the amount of wear when pressing at 00 g and moving for 1 hour at 20 mm / sec.
【００１４】[0014]
【表１】 [Table 1]
【００１５】表１に示すように、摩耗量は、未処理のパ
チンコ玉の場合に０．５６μｍであり、ＤＬＣ膜２で被
覆したパチンコ玉の場合に０．２５μｍであった。な
お、バッファ層については後述する。また、油分の付着
量については、パチンコ玉をエステル系オイルに浸し
て、付着したオイル量を測定した。その結果を表２に示
す。As shown in Table 1, the amount of wear was 0.56 μm for untreated pachinko balls and 0.25 μm for pachinko balls coated with the DLC film 2. The buffer layer will be described later. The amount of oil adhering was measured by immersing pachinko balls in ester-based oil and measuring the amount of oil adhering. Table 2 shows the results.
【００１６】[0016]
【表２】 [Table 2]
【００１７】表２に示すように、油分の付着量は、未処
理のパチンコ玉の場合に０．３５ｇであり、ＤＬＣ膜２
で被覆したパチンコ玉の場合に０．１３ｇであった。以
上のことから、パチンコ玉本体１をＤＬＣ膜２で被覆す
ることにより、摩耗量および油分の付着量を低減できた
ことがわかる。したがって、パチンコ台の中の玉案内板
との摺接や、釘や玉同士の衝突によって摩耗して削れた
粉の付着や、手との接触による油脂の付着を低減できる
ため、汚れ具合が少なくなり、洗浄頻度を低減すること
ができる。As shown in Table 2, the amount of oil deposited was 0.35 g in the case of untreated pachinko balls,
0.13 g in the case of pachinko balls coated with. From the above, it can be seen that by coating the pachinko ball body 1 with the DLC film 2, the amount of abrasion and the amount of oil attached could be reduced. Therefore, it is possible to reduce the amount of dirt due to the sliding contact with the ball guide plate in the pachinko machine, the adhesion of powder abraded by the collision of nails and balls, and the adhesion of oils and fats due to contact with hands. Thus, the frequency of cleaning can be reduced.
【００１８】また、上記実施の形態では、ＤＬＣ膜２を
被覆する前に、Ｈ2 ガスによる前処理を行ったが、その
場合と、Ｏ2 ガスによる前処理を行った場合、ＳＦ6 ガ
スによる前処理を行った場合、前処理を行わない場合の
それぞれの場合について、ＤＬＣ膜の密着性を調べた。
なお、Ｏ2 ガス，ＳＦ6 ガスによる前処理の条件は、前
述したＨ2 ガスによる前処理の条件と同じにした。密着
性は、アルミニウム棒のφ５ｍｍの先端に接着剤をつけ
てパチンコ玉に接着した後、引っ張ってＤＬＣ膜が剥離
するときの荷重を調べた。その結果を表３に示す。[0018] In the above embodiment, prior to coating the DLC film 2 has been subjected to pretreatment with H 2 gas, by its case, when performing a pretreatment with O 2 gas, SF 6 gas The adhesion of the DLC film was examined in each of the cases where the pretreatment was performed and where the pretreatment was not performed.
The conditions for the pretreatment with the O 2 gas and the SF 6 gas were the same as the conditions for the pretreatment with the H 2 gas described above. The adhesiveness was determined by applying an adhesive to a tip of φ5 mm of an aluminum rod and bonding the aluminum rod to a pachinko ball, and then pulling the DLC film to remove the load. Table 3 shows the results.
【００１９】[0019]
【表３】 [Table 3]
【００２０】表３に示すように、前処理を行わない場合
には２ｋｇ／ｍｍ2 であるのに対し、Ｈ2 ガスによる前
処理を行った場合には５ｋｇ／ｍｍ2 であり、Ｏ2 ガス
による前処理を行った場合とＳＦ6 ガスによる前処理を
行った場合はどちらも６ｋｇ／ｍｍ2 であった。したが
って、前処理を行うことにより、ＤＬＣ膜の密着性を向
上できることがわかる。As shown in Table 3, whereas in the case of no pretreatment is 2 kg / mm 2, when performing pretreatment with H 2 gas is 5kg / mm 2, O 2 gas both case of performing the pretreatment with the case and the SF 6 gas pretreated by the well was 6 kg / mm 2. Therefore, it is understood that the adhesion of the DLC film can be improved by performing the pretreatment.
【００２１】また、ＤＬＣ膜の密着性を向上させるため
に、パチンコ玉本体１とＤＬＣ膜２との間に、Ｓｉ，Ｔ
ｉ等の金属からなるバッファ層を設けてもよい。このバ
ッファ層は、真空蒸着法により、電子銃を加速電圧１０
ｋＶ，電流１００ｍＡで運転し、成膜時間２００秒、成
膜速度５Å／秒により形成する。このようにしてバッフ
ァ層を設けたものについて、前処理を行った場合と行わ
なかった場合について、上記と同様にして密着性を調べ
た。その結果を表４に示す。In order to improve the adhesion of the DLC film, Si, T
A buffer layer made of a metal such as i may be provided. This buffer layer is formed by accumulating an electron gun at an accelerating voltage of 10 by a vacuum evaporation method.
The device is operated at a kV of 100 mA and a film formation time of 200 seconds and a film formation speed of 5 ° / sec. With respect to the case where the buffer layer was provided in this way, the adhesion was examined in the same manner as described above, with and without the pretreatment. Table 4 shows the results.
【００２２】[0022]
【表４】 [Table 4]
【００２３】表４に示すように、前処理を行わない場合
には３ｋｇ／ｍｍ2 であり、Ｈ2 ガスによる前処理を行
った場合には６ｋｇ／ｍｍ2 であり、Ｏ2 ガスによる前
処理を行った場合とＳＦ6 ガスによる前処理を行った場
合はどちらも７ｋｇ／ｍｍ2であった。いずれの場合
も、表３に示すバッファ層を設けていない場合と比べて
密着性が向上していることがわかる。なお、前処理は、
バッファ層を形成する前に行うものとする。As shown in Table 4, was 3 kg / mm 2 in the case without pre-treatment, when pretreated by H 2 gas is 6 kg / mm 2, pretreatment with O 2 gas Was performed and the pretreatment with SF 6 gas was 7 kg / mm 2 in both cases. In each case, it can be seen that the adhesion is improved as compared with the case where the buffer layer shown in Table 3 is not provided. The pre-processing is
It is performed before forming the buffer layer.
【００２４】[0024]
【発明の効果】この発明のパチンコ玉は、表面をＤＬＣ
膜で被覆したことにより、パチンコ台の中の玉案内板と
の摺接や、釘や玉同士の衝突による表面の摩耗を低減
し、摩耗して削れた粉の付着量を低減できる。これは、
ＤＬＣ膜が高硬度，低摩耗，低摩擦係数の薄膜だからで
ある。また、ＤＬＣ膜の表面は高撥水性となり、水分，
油分が付着しにくくなるため、手との接触による油脂の
付着も低減することができ、汚れ具合が少なくなり、洗
浄頻度を低減することができる。According to the pachinko ball of the present invention, the surface is DLC.
By covering with a film, the sliding contact with the ball guide plate in the pachinko machine or the surface wear due to the collision of nails or balls can be reduced, and the adhesion amount of the powder shaved due to wear can be reduced. this is,
This is because the DLC film is a thin film having high hardness, low wear, and low friction coefficient. Also, the surface of the DLC film becomes highly water repellent,
Since the oil does not easily adhere, the adhesion of oils and fats due to contact with hands can be reduced, the degree of dirt can be reduced, and the frequency of cleaning can be reduced.
【００２５】この発明のパチンコ玉の製造方法は、プラ
ズマＣＶＤ法によりＤＬＣ膜をパチンコ玉本体の表面に
被覆してあり、プラズマＣＶＤ法によるＤＬＣ膜は、低
温での形成が可能となり、また、良質なＤＬＣ膜を形成
することができる。また、パチンコ玉本体をＤＬＣ膜で
被覆する前に、フッ素含有ガス，水素ガスおよび酸素ガ
スのうち少なくとも１種のガスのプラズマに曝して清浄
化処理を行うことにより、パチンコ玉本体に付着してい
る汚染物質等を除去し、ＤＬＣ膜の密着性を向上させる
ことができる。In the method of manufacturing a pachinko ball according to the present invention, the DLC film is coated on the surface of the pachinko ball body by the plasma CVD method, and the DLC film by the plasma CVD method can be formed at a low temperature. DLC film can be formed. In addition, before the pachinko ball main body is coated with the DLC film, the pachinko ball main body is subjected to a cleaning treatment by exposing the pachinko ball main body to a plasma of at least one of a fluorine-containing gas, a hydrogen gas and an oxygen gas. Contaminants and the like can be removed, and the adhesion of the DLC film can be improved.
【図１】この発明の実施の形態のパチンコ玉を示す断面
図である。FIG. 1 is a sectional view showing a pachinko ball according to an embodiment of the present invention.
【図２】この発明の実施の形態におけるＤＬＣ膜を形成
する成膜装置の構成図である。FIG. 2 is a configuration diagram of a film forming apparatus for forming a DLC film according to an embodiment of the present invention.
１ パチンコ玉本体 ２ ＤＬＣ膜 1 Pachinko ball body 2 DLC film
Claims (3)
において、表面をダイヤモンド・ライク・カーボン膜で
被覆したことを特徴とするパチンコ玉。1. A pachinko ball used for a game pachinko machine, the surface of which is coated with a diamond-like carbon film.
ライク・カーボン膜をパチンコ玉本体の表面に被覆する
ことを特徴とするパチンコ玉の製造方法。2. A diamond CVD method using a plasma CVD method.
A method for manufacturing a pachinko ball, comprising coating a surface of a pachinko ball body with a like carbon film.
・カーボン膜で被覆する前に、前記パチンコ玉本体をフ
ッ素含有ガス，水素ガスおよび酸素ガスのうち少なくと
も１種のガスのプラズマに曝して清浄化処理を行うこと
を特徴とする請求項２記載のパチンコ玉の製造方法。3. The pachinko ball body is exposed to a plasma of at least one of a fluorine-containing gas, a hydrogen gas, and an oxygen gas before the pachinko ball body is coated with a diamond-like carbon film. 3. The method for producing a pachinko ball according to claim 2, wherein
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26569796A JPH10110269A (en) | 1996-10-07 | 1996-10-07 | Pachinko ball and its production |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26569796A JPH10110269A (en) | 1996-10-07 | 1996-10-07 | Pachinko ball and its production |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10110269A true JPH10110269A (en) | 1998-04-28 |
Family
ID=17420760
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26569796A Pending JPH10110269A (en) | 1996-10-07 | 1996-10-07 | Pachinko ball and its production |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10110269A (en) |
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|---|---|---|---|---|
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