JPH10105948A - Magnetic recording medium and its production - Google Patents
Magnetic recording medium and its productionInfo
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- JPH10105948A JPH10105948A JP8255894A JP25589496A JPH10105948A JP H10105948 A JPH10105948 A JP H10105948A JP 8255894 A JP8255894 A JP 8255894A JP 25589496 A JP25589496 A JP 25589496A JP H10105948 A JPH10105948 A JP H10105948A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、磁気ディスク装置
に使用される磁気記録媒体及びその製造方法に関する。The present invention relates to a magnetic recording medium used in a magnetic disk drive and a method for manufacturing the same.
【０００２】[0002]
【従来の技術】ハードディスク等の磁気記録媒体に対す
る高記録密度記録化の要請は近年ますます厳しいものに
なっている。2. Description of the Related Art In recent years, demands for high recording density recording on magnetic recording media such as hard disks have become increasingly severe in recent years.
【０００３】ここで、一般に、ハードディスク等の磁気
記録媒体は、非磁性基板に下地層、磁性層及び保護層を
順次形成したもので、この上で磁気ヘッドが搭載された
ヘッドスライダーを浮上走行させながら記録及び再生を
行なう。したがって、この磁気記録媒体の高密度記録化
を実現するためには、磁性層の高保磁力化に加えて、ヘ
ッドスライダーの低浮上走行化及びＣＳＳ（contact st
art and stop）に対する高い耐久性等を実現することが
重要である。すなわち、ヘッドスライダーを低浮上走行
させることによって、記録・再生の際の磁気ヘッドと磁
性層との距離を小さくして高密度の記録・再生を可能に
する必要がある。また、この低浮上走行をさせると、ヘ
ッドスライダーの走行開始及び停止時における摺動走行
と浮上走行との切替の繰り返し動作（ＣＳＳ）の際に、
磁気ヘッド及び磁気記録媒体に加わる物理的・機械的負
担が急激に増すので、このＣＳＳにおける磁気ヘッド及
び磁気記録媒体の耐久性向上（ＣＳＳ耐久性の向上）も
必要になる。さらには、高密度記録化にともなって再生
時のノイズ低減化もより厳しく要求される。In general, a magnetic recording medium such as a hard disk has a base layer, a magnetic layer, and a protective layer formed sequentially on a non-magnetic substrate, on which a head slider on which a magnetic head is mounted is levitated. While recording and reproducing. Therefore, in order to realize high-density recording of this magnetic recording medium, in addition to increasing the coercive force of the magnetic layer, the flying height of the head slider is reduced and CSS (contact staging) is performed.
It is important to realize high durability against art and stop). That is, it is necessary to reduce the distance between the magnetic head and the magnetic layer at the time of recording / reproducing by allowing the head slider to travel with low flying height, thereby enabling high-density recording / reproducing. In addition, when this low levitation traveling is performed, in the repetitive operation (CSS) of switching between sliding traveling and levitation traveling when the head slider starts traveling and stops,
Since the physical and mechanical loads applied to the magnetic head and the magnetic recording medium increase rapidly, it is necessary to improve the durability of the magnetic head and the magnetic recording medium in the CSS (improvement of CSS durability). Further, with the increase in the recording density, it is also required to reduce the noise during reproduction.
【０００４】これらの問題に対して密接な関係を有する
重要な因子として、ヘッドスライダーに接するハードデ
イスク表面の粗さがある。この表面の粗さの状態（表面
の凹凸の大きさや密度等）が上記ＣＳＳ耐久性等に大き
な影響を与える場合が少なくない。それゆえ、従来か
ら、この表面の粗さの状態を適切に制御することが試み
られている。[0004] An important factor closely related to these problems is the roughness of the hard disk surface in contact with the head slider. In many cases, the state of the surface roughness (the size and density of the surface irregularities) has a great influence on the CSS durability and the like. Therefore, conventionally, attempts have been made to appropriately control the state of the surface roughness.
【０００５】この表面の粗さの状態を制御する方法とし
ては、ハードディスクの最外層である保護層自体に適
度な微細凹凸を形成する方法、非磁性基板と最外層と
の間に形成される下地層や磁性層等の層の表面に微細凹
凸を形成させる方法、非磁性基板の表面に微細凹凸を
形成する方法等がある。As a method of controlling the state of the surface roughness, there are a method of forming moderate fine irregularities on the protective layer itself, which is the outermost layer of the hard disk, and a method of forming the lower layer formed between the nonmagnetic substrate and the outermost layer. There are a method of forming fine irregularities on the surface of a layer such as a ground layer and a magnetic layer, and a method of forming fine irregularities on the surface of a non-magnetic substrate.
【０００６】上記，の方法は、最外層自体に直接凹
凸を形成するのではなく、非磁性基板の表面や最外層の
下の層に凹凸を形成し、その上に磁性層等を積層させて
上記凹凸が最外層に現れるようにしたものである。[0006] In the above method, the irregularities are not formed directly on the outermost layer itself, but are formed on the surface of the non-magnetic substrate or a layer below the outermost layer, and a magnetic layer or the like is laminated thereon. The irregularities appear on the outermost layer.
【０００７】また、凹凸の形成方法としては、メカニカ
ルテクスチャーや化学研磨を用いる方法、あるいは、保
護層形成の塗布液中に適度の粒径の微粒子を混入させる
方法、あるいは、スパッタテクスチャー等が試みられて
いる。As a method of forming the irregularities, a method using mechanical texture or chemical polishing, a method of mixing fine particles having an appropriate particle diameter into a coating solution for forming a protective layer, a sputter texture, and the like have been tried. ing.
【０００８】[0008]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
従来から試みられている方法は、近年の厳しい要請を必
ずしも十分に満たすものでない。特に、ヘッドスライダ
ーをより低浮上走行させて高密度の記録・再生をしよう
とする場合には、凹凸の高さや大きさあるいは密度をよ
り適切なものにする必要があるが、従来のものは、凹凸
の高さや大きさあるいは密度をより適切なものにするに
は限界があった。However, the above-mentioned conventional methods do not always sufficiently satisfy the severe requirements in recent years. In particular, when trying to perform high-density recording / reproduction by moving the head slider to a lower flying height, it is necessary to make the height, size, or density of the irregularities more appropriate. There is a limit to making the height, size or density of the irregularities more appropriate.
【０００９】本発明は、上述の背景のもとでなされたも
のであり、ヘッドスライダーの低浮上走行化及びＣＳＳ
に対する高い耐久性等を実現して高密度の記録・再生を
可能にする磁気記録媒体及びその製造方法を提供するこ
とを目的としている。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made under the above-mentioned background, and has been made to reduce the flying height of a head slider and to achieve a CSS.
It is an object of the present invention to provide a magnetic recording medium that realizes high durability and the like and enables high-density recording and reproduction, and a method for manufacturing the same.
【００１０】[0010]
【課題を解決するための手段】上述の課題を解決するた
めに本発明にかかる磁気記録媒体は、（構成１） 非磁
性基板上に少なくとも磁性層を含む層を有する磁気記録
媒体において、前記非磁性基板の表面に、薄膜形成技術
によって多数の島状の膜又は凹凸を有する連続した膜の
いずれか一方もしくは双方を含む層を形成することによ
って形成される凹凸を備えたテクスチャーを形成し、前
記テクスチャーの凹凸がその上に形成される層を通じて
磁気記録媒体の表面に表れるようにし、前記テクスチャ
ーの凹凸の凸部の存在密度を７０個／μｍ2 以下にする
ことを特徴とする構成とし、この構成１の態様として、
（構成２） 前記テクスチャーの凹凸の凸部の存在密度
を２０個／μｍ2 以下にすることを特徴とする構成と
し、また、本発明にかかる磁気記録媒体は、（構成３）
非磁性基板上に少なくとも磁性層を含む層を有する磁
気記録媒体において、前記非磁性基板の表面に、薄膜形
成技術によって多数の島状の膜又は凹凸を有する連続し
た膜のいずれか一方もしくは双方を含む層を形成するこ
とによって形成される凹凸を備えたテクスチャーを形成
し、前記テクスチャーの凹凸がその上に形成される層を
通じて磁気記録媒体の表面に表れるようにし、前記磁気
記録媒体の表面のヘッドスライダーに対する動摩擦係数
が１以下になるようにしたことを特徴とする構成とし、
構成３の態様として、（構成４） 前記磁気記録媒体の
表面のヘッドスライダーに対する動摩擦係数が０．５以
下になるようにしたしたことを特徴とする構成とし、さ
らに、本願発明の磁気記録媒体は、（構成５） 非磁性
基板上に少なくとも磁性層を含む層を有する磁気記録媒
体において、前記非磁性基板の表面に、薄膜形成技術に
よって多数の島状の膜又は凹凸を有する連続した膜のい
ずれか一方もしくは双方を含む層を形成することによっ
て形成される凹凸からなるテクスチャーを形成し、前記
テクスチャーの凹凸がその上に形成される層を通じて磁
気記録媒体の表面に表れるようにし、前記テクスチャー
の凹凸の凸部の存在密度を７０個／μｍ2 以下にすると
ともに、前記磁気記録媒体の表面のヘッドスライダーに
対する動摩擦係数が１以下になるようにしたことを特徴
とする構成とし、また、構成１ないし５のいずれかの磁
気記録媒体の態様として、（構成６） 前記非磁性基板
が結晶化ガラスからなるものであることを特徴とする構
成とし、さらに、構成１ないし６の態様として、（構成
７） 前記結晶化ガラスの表面粗さがＲａで２．０ｎｍ
以下であることを特徴とする構成とし、構成１ないし７
の態様として、（構成８） 前記薄膜形成技術がスパッ
タ法であることを特徴とする構成とし、さらに、構成１
ないし８の態様として、（構成９） 前記テクスチャー
の表面粗さがＲａで２．０〜１５ｎｍであることを特徴
とする構成とし、構成１ないし９の態様として、（構成
１０） 前記テクスチャーを構成する膜がＡｌＮ（窒化
アルミニウム）からなることを特徴とする構成としたも
のである。According to the present invention, there is provided a magnetic recording medium comprising: a magnetic recording medium having a layer including at least a magnetic layer on a non-magnetic substrate; On the surface of the magnetic substrate, a texture having irregularities formed by forming a layer containing one or both of a large number of island-like films or a continuous film having irregularities by a thin film forming technique, The structure is characterized in that the unevenness of the texture is made to appear on the surface of the magnetic recording medium through a layer formed thereon, and the density of the convexities of the unevenness of the texture is set to 70 / μm 2 or less. As an aspect of Configuration 1,
(Structure 2) The magnetic recording medium according to the present invention is characterized in that the density of protrusions of the texture unevenness is set to 20 / μm 2 or less.
In a magnetic recording medium having a layer including at least a magnetic layer on a non-magnetic substrate, on the surface of the non-magnetic substrate, one or both of a large number of island-shaped films or a continuous film having irregularities by a thin film forming technique. Forming a texture having irregularities formed by forming a layer including the magnetic recording medium, so that the irregularities of the texture appear on the surface of the magnetic recording medium through a layer formed thereon; The dynamic friction coefficient with respect to the slider is set to 1 or less,
According to a third aspect of the present invention, there is provided (a fourth aspect) a configuration in which a dynamic friction coefficient of a surface of the magnetic recording medium with respect to a head slider is 0.5 or less. (Structure 5) In a magnetic recording medium having a layer including at least a magnetic layer on a nonmagnetic substrate, any one of a large number of island-like films or a continuous film having irregularities is formed on the surface of the nonmagnetic substrate by a thin film forming technique. Forming a texture comprising irregularities formed by forming a layer containing one or both of them, so that the irregularities of the texture appear on the surface of the magnetic recording medium through a layer formed thereon, the presence density of the convex portion as well as the 70 / [mu] m 2 or less of dynamic friction coefficient for the head slider of the surface of the magnetic recording medium 1 The magnetic recording medium according to any one of the constitutions 1 to 5, wherein the nonmagnetic substrate is made of crystallized glass. As a feature of the present invention, and as an aspect of the first to sixth aspects, (structure 7) the crystallized glass has a surface roughness Ra of 2.0 nm.
Configurations 1 to 7 are characterized by the following.
As a mode of (Configuration 8), the thin film forming technique is a sputtering method.
As an aspect of (1) to (8), the surface roughness of the texture is 2.0 to 15 nm in Ra. (Configuration 9) As an aspect of Configurations 1 to 9, (Configuration 10) The film to be formed is made of AlN (aluminum nitride).
【００１１】また、本発明にかかる磁気記録媒体の製造
方法は、（構成１１） 非磁性基板上に磁性層を形成す
る磁性層形成工程を少なくとも有する磁気記録媒体の製
造方法において、前記磁性層形成工程より前の工程とし
て、前記非磁性基板の表面に、薄膜形成技術によって多
数の島状の膜又は凹凸を有する連続した膜のいずれか一
方もしくは双方を含む層を形成することによって形成さ
れる凹凸からなるテクスチャーを形成するテクスチャー
形成工程を有し、このテクスチャー形成工程における基
板温度を制御することによって前記凹凸の凸部の存在密
度を制御するようにしたことを特徴とする構成とし、構
成１１の態様として、（構成１２） 前記テクスチャー
形成工程における基板温度を２００〜１０００℃の範囲
におけるいずれかに設定して前記凹凸の凸部の存在密度
を７０個／μｍ2 以下にするとともに、その温度に対応
して前記テクスチャーを構成する層の平均膜厚を選定す
ることにより、前記凸部の高さを制御することを特徴と
する構成とし、構成１１又は１２の態様として、（構成
１３） 前記非磁性基板が結晶化ガラスからなるもので
あることを特徴とする構成とし、構成１１ないし１３の
いずれかの態様として、（構成１４） 前記薄膜形成技
術がスパッタ法であることを特徴とする構成とし、構成
１１ないし１４のいずれかの態様として、（構成１５）
前記テクスチャーを構成する層がＡｌＮ（窒化アルミ
ニウム）からなることを特徴とする構成としたものであ
る。The method for manufacturing a magnetic recording medium according to the present invention is characterized in that (Structure 11) the method for manufacturing a magnetic recording medium, comprising at least a magnetic layer forming step of forming a magnetic layer on a nonmagnetic substrate. As a step prior to the step, the irregularities formed by forming a layer containing one or both of a large number of island-shaped films or a continuous film having irregularities on the surface of the non-magnetic substrate by a thin film forming technique. A texture forming step of forming a texture consisting of: controlling the substrate temperature in the texture forming step to control the density of the projections of the irregularities, wherein As an embodiment, (Structure 12) the substrate temperature in the texture forming step is set in a range of 200 to 1000 ° C. 70 pieces of the density of the convex portion of the concavo-convex with constant / [mu] m 2 while below, by selecting the average thickness of the layer constituting the texture corresponding to the temperature, the height of the convex portion (Configuration 13) The configuration according to Configuration 11 or 12, wherein the non-magnetic substrate is made of crystallized glass. (Structure 14) As a structure in which the thin film forming technique is a sputtering method, as any of Structures 11 to 14, (Structure 15)
The layer constituting the texture is made of AlN (aluminum nitride).
【００１２】[0012]
（実施例１）図１は本発明の実施例１にかかる磁気記録
媒体の構成を示す模式的断面図である。以下、図１を用
いて実施例１にかかる磁気記録媒体及びその製造方法を
説明する。(Embodiment 1) FIG. 1 is a schematic sectional view showing the structure of a magnetic recording medium according to Embodiment 1 of the present invention. Hereinafter, a magnetic recording medium according to the first embodiment and a method of manufacturing the same will be described with reference to FIG.
【００１３】図１に示されるように、この実施例の磁気
記録媒体は、非磁性基板１の上に多数の微細な島状の膜
２，…，２を形成することによって形成される凹凸から
なるテクスチャーが形成され、その上に、順次、非磁性
金属下地層３、磁性層４、保護層５及び潤滑層６が積層
された磁気ディスクである。As shown in FIG. 1, the magnetic recording medium of this embodiment is formed by forming a large number of fine island-shaped films 2,... This is a magnetic disk on which a non-magnetic metal underlayer 3, a magnetic layer 4, a protective layer 5, and a lubricating layer 6 are sequentially stacked on which a texture is formed.
【００１４】非磁性基板１は、結晶化ガラスからなり、
外径６５ｍｍφ、中心部の穴径２０ｍｍφ、厚さ０．６
３５ｍｍのディスク状に形成し、その両主表面を表面粗
さＲａ＝２．０ｎｍ以下程度になるように精密研磨され
たものである。The non-magnetic substrate 1 is made of crystallized glass.
Outer diameter 65mmφ, center hole diameter 20mmφ, thickness 0.6
It is formed in a disk shape of 35 mm, and both main surfaces are precisely polished so that the surface roughness Ra is about 2.0 nm or less.
【００１５】ここで、非磁性基板１を構成する結晶化ガ
ラスとしては、以下の組成を有するものを用いた。Here, as the crystallized glass constituting the non-magnetic substrate 1, a glass having the following composition was used.
【００１６】 ＳｉＯ2 ……７５．５％（重量％、以下同じ） Ａｌ2 Ｏ3 …３．８％ Ｐ2 Ｏ5 ……１．９％ Ｌｉ2 Ｏ……１０．３％ Ｋ2 Ｏ………３．９％ ＭｇＯ………２．５％ ＺｎＯ………０．５％ Ａｓ2 Ｏ3 …０．５％ 主結晶………リチウムジシリケートとαークリストバラ
イト この結晶化ガラスは、例えば、次のようにして得たもの
である。すなわち、所定のバッチを白金坩堝等で数時間
溶融し、十分に均質化した後板状に成形した。この板状
のガラスを５５０〜７５０℃で０．５〜４時間保持し
て、ガラス内に結晶の元となる結晶核を生成させて核形
成を行う（一次結晶化処理）。さらに７５０℃〜１２０
０℃で０．５〜５時間保持し、ガラスの結晶化を行う
（二次結晶化処理）。その後、徐冷して結晶化ガラスを
得る。SiO2: 75.5% (% by weight, the same applies hereinafter) Al2O3: 3.8% P2O5: 1.9% Li2O: 10.3% K2O: 3.9% MgO 2.5% ZnO 0.5% As2 O3 0.5% Main crystal Lithium disilicate and α-cristobalite This crystallized glass is obtained, for example, as follows. It is. That is, a predetermined batch was melted in a platinum crucible or the like for several hours, sufficiently homogenized, and then formed into a plate shape. The plate-shaped glass is held at 550 to 750 ° C. for 0.5 to 4 hours to generate a crystal nucleus serving as a crystal in the glass to form a nucleus (primary crystallization treatment). 750 ° C to 120
The glass is kept at 0 ° C. for 0.5 to 5 hours to crystallize the glass (secondary crystallization treatment). Thereafter, the glass is gradually cooled to obtain a crystallized glass.
【００１７】上記結晶化ガラスが属するタイプの結晶化
ガラスとしては、以下の組成範囲を有するものがある。As a type of crystallized glass to which the above-mentioned crystallized glass belongs, there is a glass having the following composition range.
【００１８】 ＳｉＯ2 ………６０〜８７％（重量％、以下同じ） Ａｌ2 Ｏ3 ……０〜１０％ Ｐ2 Ｏ5 ………０．５〜８％ Ｌｉ2 Ｏ………５〜２０％ Ｎａ2 Ｏ………０〜５％ Ｋ2 Ｏ…………０〜１０％ Ｎａ2 Ｏ＋Ｋ2 Ｏ……０．５〜１０％ ＭｇＯ…………０．５〜７．５％ ＣａＯ…………０〜９．５％ ＳｒＯ…………０〜１５％ ＢａＯ…………０〜１３％ ＺｎＯ…………０〜１３％ Ｂ2 Ｏ3 ………０〜１０％ ＴｉＯ2 ………０〜５％ ＺｒＯ2 ………０〜３％ ＳｎＯ2 ………０〜３％ Ａｓ2 Ｏ3＋Ｓｂ2 Ｏ3 …０〜２％ 上記金属酸化物の１種以上の金属元素のフッ化物をＦの
合計量………０〜５ 着色成分として、Ｖ2 Ｏ5 、ＣｕＯ、ＭｎＯ2 、Ｃｒ2
Ｏ3 、ＣｏＯ、ＭｏＯ3 、ＮｉＯ、Ｆｅ2 Ｏ3 、ＴｅＯ
2 、ＣｅＯ2 、Ｐｒ2 Ｏ3 、Ｎｄ2 Ｏ3 、Ｅｒ2 Ｏ3 の
群より選ばれた少なくとも１種……０〜５％ 主結晶………リチウムジシリケート（場合により、αー
クリストバライト、αークォーツ、リチウムモノシリケ
ート、βースポジウメン等を含む） 結晶粒の大きさ…３．０μｍ以下 また、他のタイプの結晶化ガラスの例としては、例え
ば、以下の組成のものがある。SiO2: 60 to 87% (% by weight, the same applies hereinafter) Al2 O3: 0 to 10% P2 O5: 0.5 to 8% Li2O: 5 to 20% Na2O: ... 0 to 5% K2O ... 0 to 10% Na2O + K2O ... 0.5 to 10% MgO ... 0.5 to 7.5% CaO ... 0 to 9.5% SrO: 0 to 15% BaO: 0 to 13% ZnO: 0 to 13% B2O3: 0 to 10% TiO2: 0 to 5% ZrO2: 0 3% SnO2 ... 0 to 3% As2O3 + Sb2O3 ... 0 to 2% Fluoride of one or more metal elements of the above metal oxides in total amount of F ... 0 to 5 As coloring components, V2O5, CuO, MnO2, Cr2
O3, CoO, MoO3, NiO, Fe2 O3, TeO
2, at least one selected from the group consisting of CeO2, Pr2O3, Nd2O3, and Er2O3... 0 to 5% main crystal... Lithium disilicate (in some cases, α cristobalite, α quartz, lithium monosilicate, Crystal grain size: 3.0 μm or less Examples of other types of crystallized glass include, for example, those having the following composition.
【００１９】 ＳｉＯ2 ……６２．９％（重量％、以下同じ） Ａｌ2 Ｏ3 …２．０％ Ｎａ2 Ｏ……７．６％ Ｋ2 Ｏ………８．４％ ＭｇＯ………０．１％ ＣａＯ………１８．３％ Ｆ……………５．２％ 主結晶………カナサイト さらに、同じタイプの結晶化ガラスの例としては以下の
組成のものがある。SiO 2 62.9% (% by weight, the same applies hereinafter) Al 2 O 3 2.0% Na 2 O 7.6% K 2 O 8.4% MgO 0.1% CaO ... 18.3% F... 5.2% Main crystal ... canasite Further, examples of the same type of crystallized glass include those having the following composition.
【００２０】 ＳｉＯ2 ……５６．５％（重量％、以下同じ） Ｎａ2 Ｏ……５．４％ Ｋ2 Ｏ………８．７％ ＭｇＯ………１１．８％ ＣａＯ………１４．１％ Ｆ……………５．５％ 主結晶………カリウム・フルオロ・リヒテライトとカナ
サイト 上記結晶化ガラスが属するタイプの結晶化ガラスとして
は、以下の組成範囲を有するものがある。SiO 2 56.5% (% by weight, the same applies hereinafter) Na 2 O 5.4% K 2 O 8.7% MgO 11.8% CaO 14.1% F: 5.5% Main crystal: potassium-fluoro-richterite and canasite As the crystallized glass of the type to which the above-mentioned crystallized glass belongs, there is a crystallized glass having the following composition range.
【００２１】 ＳｉＯ2 ………４５〜７５％（重量％、以下同じ） ＣａＯ…………４〜３０％ Ｎａ2 Ｏ………２〜１５％ Ｋ2 Ｏ…………０〜２０％ Ａｌ2 Ｏ3 ……０〜７％ ＭｇＯ…………０〜２％ ＺｎＯ…………０〜２％ ＳｎＯ2 ………０〜２％ Ｓｂ2 Ｏ3 ……０〜１％ Ｂ2 Ｏ3 ………０〜６％ ＺｒＯ2 ………０〜１２％ Ｌｉ2 Ｏ………０〜３％ 上記金属酸化物の１種以上の金属元素のフッ化物をＦの
合計量で………３〜１２％ 着色成分………場合により、Ｃｒ2 Ｏ3 、Ｃｏ3 Ｏ4 等
を含む 主結晶………カナサイト又はカリウム・フルオロ・リヒ
テライトを含む さらに、他のタイプの結晶化ガラスの例としては、例え
ば、以下の組成のものがある。SiO2: 45 to 75% (% by weight, the same applies hereinafter) CaO: 4 to 30% Na2O: 2 to 15% K2O: 0 to 20% Al2O3 0-7% MgO 0-2% ZnO 0-2% SnO2 0-2% Sb2 O3 0-1% B2 O3 0-6% ZrO2 ... 0 to 12% Li2 O ... 0 to 3% Fluoride of one or more metal elements of the above metal oxide in total amount of F ... 3 to 12% Coloring component ... Main crystal containing O3, Co3 O4, etc. Including canasite or potassium fluororichterite Further, examples of other types of crystallized glass include those having the following composition.
【００２２】 ＳｉＯ2 ………４１．９％（重量％、以下同じ） Ａｌ2 Ｏ3 ……２８．７％ Ｋ2 Ｏ…………２．２％ ＺｎＯ…………２２．５％ ＴｉＯ2 ………４．７％ Ｆ………………５．５％ 主結晶………スピネル 上記結晶化ガラスが属するタイプの結晶化ガラスとして
は、以下の組成範囲を有するものがある。SiO 2 41.9% (% by weight, the same applies hereinafter) Al 2 O 3 28.7% K 2 O 2.2% ZnO 22.5% TiO 2 4 ... 5.5% Main crystal... Spinel As a type of crystallized glass to which the above-mentioned crystallized glass belongs, there is a crystallized glass having the following composition range.
【００２３】 ＳｉＯ2 ………３５〜６０％（重量％、以下同じ） Ａｌ2 Ｏ3 ……２０〜３５％ ＭｇＯ…………７〜２５％ ＺｎＯ…………０〜２５％ ＭｇＯ＋ＺｎＯ………１０％以上 ＴｉＯ2 ………０〜２０％ ＺｒＯ2 ………０〜１０％ Ｌｉ2 Ｏ………０〜２％ ＮｉＯ…………０〜８％ ＢａＯ、ＣａＯ、ＰｂＯ、ＳｒＯ、Ｐ2 Ｏ5 、Ｂ2 Ｏ3
、Ｇａ2 Ｏ3より選ばれた少なくとも１種……０〜５％ Ｎａ2 Ｏ、Ｋ2 Ｏ、Ｒｂ2 Ｏ、Ｃａ2 Ｏの群から選ばれ
た少なくとも１種……０〜５％ 遷移金属酸化物……０〜８％ 主結晶………スピネル 結晶粒径……０．１μｍ以下 さらに、他のタイプの結晶化ガラスの例としては、例え
ば、以下の組成のものがある。SiO 2 35 to 60% (% by weight, the same applies hereinafter) Al 2 O 3 20 to 35% MgO 7 to 25% ZnO 0 to 25% MgO + ZnO 10% TiO2 ... 0 to 20% ZrO2 ... 0 to 10% Li2O ... 0 to 2% NiO ... 0 to 8% BaO, CaO, PbO, SrO, P2O5, B2O3
0-5% at least one selected from the group consisting of Na2O, K2O, Rb2O and Ca2O Transition metal oxide ... 0--5% 8% Main crystal Spinel Crystal grain diameter 0.1 μm or less Further, examples of other types of crystallized glass include those having the following composition.
【００２４】 ＳｉＯ2 ………６１．０％（重量％、以下同じ） Ａｌ2 Ｏ3 ……１０．１％ Ｌｉ2 Ｏ………２．０％ Ｎａ2 Ｏ………１８．３％ Ｋ2 Ｏ…………５．０％ ＣａＯ…………２．０％ ＢａＯ…………０．５％ ＺｒＯ2 ………１．１％ 主結晶………硫酸カルシウム、硫酸バリウム 上記結晶化ガラスが属するタイプの結晶化ガラスとして
は、以下の組成範囲を有するものがある。SiO2 61.0% (% by weight, the same applies hereinafter) Al2 O3 10.1% Li2 O 2.0% Na2 O 18.3% K2 O 5.0% CaO ... 2.0% BaO ... 0.5% ZrO2 ... 1.1% Main crystal ... calcium sulfate, barium sulfate Crystallization of the type to which the above crystallized glass belongs Some glass has the following composition range.
【００２５】 ＳｉＯ2 ………５８〜８５％（重量％、以下同じ） Ｒ2 Ｏ…………２〜２５％（但しＲはアルカリ金属） ＢａＯ…………０．２〜２０％ ＣａＯ…………０．２〜２０％ Ａｌ2 Ｏ3 ……０．５〜１５％ ＺｒＯ2 ………０．１〜６％ ＳＯ3 …………０．１〜３％ ハロゲンイオン……０．１〜６％ 主結晶………硫酸カルシウム、硫酸バリウム さらに、他のタイプの結晶化ガラスの例としては、例え
ば、以下の組成のものがある。SiO2: 58 to 85% (% by weight, the same applies hereinafter) R2 O: 2 to 25% (where R is an alkali metal) BaO: 0.2 to 20% CaO 0.2-20% Al2 O3 0.5-15% ZrO2 0.1-6% SO3 0.1-3% Halogen ion 0.1-6% Main crystal ... Calcium sulfate, barium sulfate Further, examples of other types of crystallized glass include those having the following compositions.
【００２６】 ＳｉＯ2 ………４０．０％（重量％、以下同じ） Ａｌ2 Ｏ3 ……１６．９％ ＭｇＯ…………１３．０％ ＣａＯ…………５．８％ ＢａＯ…………０．７％ ＺｎＯ…………１６．１％ Ａｓ2 Ｏ3 ……０．５％ ＴｉＯ2 ………７．０％ 主結晶…………ガーナイト 結晶粒径………７〜５５ｎｍ 上記結晶化ガラスが属するタイプの結晶化ガラスとして
は、以下の組成範囲を有するものがある。SiO2: 40.0% (% by weight, the same applies hereinafter) Al2 O3: 16.9% MgO: 13.0% CaO: 5.8% BaO: 0 .7% ZnO ... 16.1% As2O3 ... 0.5% TiO2 ... 7.0% Main crystal ... Garnite Grain size ... 7-55 nm The above crystallized glass belongs to Some types of crystallized glass have the following composition range.
【００２７】 ＳｉＯ2 ………４０〜６０％（重量％、以下同じ） Ａｌ2 Ｏ3 ……７〜２７％ ＺｎＯ…………５〜２５％ ＭｇＯ…………１〜１５％ ＣａＯ…………０〜１５％ ＳｒＯ＋ＢａＯ……０〜５％ ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ…１〜１５％ ＴｉＯ2 ………１〜１０％ Ｂ2 Ｏ3 ………０〜５％ Ｐ2 Ｏ5 ………０〜５％ ＺｒＯ2 ………０〜２％ ＳｎＯ2 ………０〜２％ ＬｉＯ2 ＋Ｎａ2 Ｏ＋Ｋ2 Ｏ…０〜２％ Ａｓ2 Ｏ3 ＋Ｓｂ2 Ｏ3…０〜３％ 上記金属酸化物の１種以上の金属元素のフッ化物をＦの
合計量で………３〜１２％ 主結晶………ガーナイト 結晶粒径……５〜１００ｎｍ 島状の膜２は、ＡｌＮ（窒化アルミニウム）からなり、
その組成はＡｌが７０原子％、Ｎが３０原子％である。
この、島状の膜の平均膜厚は３０ｎｍである。また、こ
の島状の膜の存在によって磁気記録媒体の表面に表れる
突起の粒径は平均で約０．２２５μｍ、形成密度は約
６．２個／μｍである。なお、ここでは、突起の粒径は
突起の底面部の直径で表している。また、突起の形成密
度は、１μｍ2 あたりに平均線を基準としてＲｍｓ値を
越える高さを持った突起の数で表している。すなわち、
図２の曲線は凹凸を有する面の断面の輪郭に対応するも
のであるが、いま、この曲線の凸部を仮に島状の膜と仮
定すると、図中の斜線部分が突起に対応する。また、こ
こでは凹凸からなるテクスチャーを島状の膜で構成する
場合を例にして説明したが、テクスチャーとしては、多
数の島状の膜又は凹凸を有する連続した膜のいずれか一
方又は双方を含む層で構成してもよい。SiO2: 40 to 60% (% by weight, the same applies hereinafter) Al2 O3: 7 to 27% ZnO: 5 to 25% MgO: 1 to 15% CaO: 0 ... 15% SrO + BaO ... 0-5% CaO + SrO + BaO ... 1-15% TiO2 ... 1-10% B2 O3 ... 0-5% P2 O5 ... 0-5% ZrO2 ... 0-2% SnO2 ... 0 to 2% LiO2 + Na2 O + K2 O ... 0 to 2% As2O3 + Sb2 O3 ... 0 to 3% Fluoride of one or more metal elements of the above metal oxides in the total amount of F ... 3 １２12% main crystal ガ ー garnet crystal grain size… 5 to 100 nm The island-shaped film 2 is made of AlN (aluminum nitride).
The composition is 70 atomic% of Al and 30 atomic% of N.
The average film thickness of the island-shaped film is 30 nm. Further, the average particle diameter of the protrusions appearing on the surface of the magnetic recording medium due to the presence of the island-shaped film is about 0.225 μm, and the formation density is about 6.2 / μm. Here, the particle size of the protrusion is represented by the diameter of the bottom surface of the protrusion. The formation density of the protrusions is represented by the number of protrusions having a height exceeding the Rms value per 1 μm 2 based on the average line. That is,
The curve in FIG. 2 corresponds to the contour of the cross section of the surface having irregularities. If the convex portion of this curve is assumed to be an island-shaped film, the hatched portion in the figure corresponds to the projection. In addition, here, the case where the texture having the irregularities is configured by the island-shaped film has been described as an example, but the texture includes one or both of a large number of island-shaped films or a continuous film having the irregularities. It may be composed of layers.
【００２８】非磁性金属層３は、膜厚が８０ｎｍのＣｒ
膜である。The nonmagnetic metal layer 3 is made of Cr having a thickness of 80 nm.
It is a membrane.
【００２９】磁性層４は、膜厚が２０ｎｍのＣｏＰｔＣ
ｒ合金磁性膜である。その組成は、Ｃｏが７５原子％、
Ｐｔが１２原子％、Ｃｒが１３原子％である。The magnetic layer 4 is made of CoPtC having a thickness of 20 nm.
An r alloy magnetic film. Its composition is 75 atomic% Co,
Pt is 12 atomic% and Cr is 13 atomic%.
【００３０】保護層５は、水素を含有させたＣ薄膜から
なり、水素含有率は３０原子％であり、膜厚は１３ｎｍ
である。The protective layer 5 is made of a C thin film containing hydrogen, has a hydrogen content of 30 atomic%, and has a thickness of 13 nm.
It is.
【００３１】潤滑層６は、パーフルオロポリエーテルか
らなる潤滑剤（例えば、モンテジソン社製ＡＭ２００１
がある）を浸漬法により、保護膜層５上に塗布して膜厚
約１．３ｎｍに形成したものである。The lubricating layer 6 is made of a lubricant made of perfluoropolyether (for example, AM2001 manufactured by Montezison).
Is coated on the protective film layer 5 by an immersion method to form a film having a thickness of about 1.3 nm.
【００３２】次に、上述の実施例の磁気記録媒体を、ロ
ードロック型４元スパッタリング装置（ターゲットが４
基のスパッタ装置）を用いて製造する例を説明する。Next, the magnetic recording medium of the above embodiment was loaded on a load lock type quaternary sputtering device
An example of manufacturing using a (base sputtering apparatus) will be described.
【００３３】まず、結晶化ガラスを、外径６５ｍｍφ、
中心部の穴径２０ｍｍφ、厚さ０．６３５ｍｍのディス
ク状に形成し、その両主表面を表面粗さがＲｍａｘで１
０ｎｍ以下になるように精密研磨して基板１を得る。First, the crystallized glass was made to have an outer diameter of 65 mmφ,
It is formed into a disk with a hole diameter of 20 mm in the center and a thickness of 0.635 mm, and both main surfaces have a surface roughness of Rmax of 1
The substrate 1 is obtained by precision polishing to a thickness of 0 nm or less.
【００３４】この結晶化ガラスの基板１を基板ホルダに
装着し、成膜準備室の中に導入した後、成膜準備室内を
大気状態から成膜室の真空度５×１０-8Torrと同等にな
るまで真空排気する。その後、成膜準備室と成膜室との
間のバルブを開け、基板ホルダーを成膜室内に導入し、
Ａｌターゲットに対向する位置に、基板ホルダーを移動
する。この位置で基板ホルダーに装備した基板１をラン
プヒーターによって３０分間加熱し、以下に示すスパッ
タリング条件で島状の膜２，…，２を形成させる。な
お、島状の膜２，…，２の平均膜厚の制御は成膜時間を
制御することによって行う。After mounting the crystallized glass substrate 1 on the substrate holder and introducing it into the film formation preparation chamber, the inside of the film formation preparation chamber is changed from the atmospheric state to a vacuum degree of 5 × 10 −8 Torr in the film formation chamber. Evacuate until it becomes. Then, open the valve between the film formation preparation room and the film formation room, introduce the substrate holder into the film formation room,
The substrate holder is moved to a position facing the Al target. At this position, the substrate 1 mounted on the substrate holder is heated by a lamp heater for 30 minutes to form island-like films 2,..., 2 under the following sputtering conditions. The average film thickness of the island-shaped films 2,..., 2 is controlled by controlling the film forming time.
【００３５】 ターゲット ：Ａｌ（４インチφ） ガス ：Ａｒ，Ｎ2 ガス圧力 ：ＰAr＋ＰN2＝１５ｍTorr 投入電力 ：２００Ｗ 基板温度 ：７００℃ ターゲット ー基板間距離：７０ｍｍ 平均膜厚 ：１０ｎｍ 次に、基板ホルダーを、Ｃｒターゲットに対向する位置
へ移動し、基板をＣｒターゲット上のランプヒーターに
よって加熱する。加熱条件は、３００℃１５分間であ
る。なお、このときに、以後に積層する磁性層、保護層
形成用のターゲット上のランプヒーターも３００℃に設
定しておく。１５分間加熱後、以下に示すスパッタリン
グ条件で非磁性金属下地膜３を作製する。Target: Al (4 inch φ) Gas: Ar, N 2 Gas pressure: PAr + PN 2 = 15 mTorr Input power: 200 W Substrate temperature: 700 ° C. Target-substrate distance: 70 mm Average film thickness: 10 nm The substrate is moved to a position facing the Cr target, and the substrate is heated by a lamp heater on the Cr target. The heating condition is 300 ° C. for 15 minutes. At this time, the lamp heater on the target for forming the magnetic layer and the protective layer to be subsequently laminated is also set to 300 ° C. After heating for 15 minutes, the nonmagnetic metal base film 3 is formed under the following sputtering conditions.
【００３６】 ターゲット ：Ｃｒ（４インチφ） ガス ：Ａｒ ガス圧力 ：５ｍTorr 投入電力 ：２００Ｗ 基板温度 ：３００℃ ターゲット ー基板間距離：７０ｍｍ 平均膜厚 ：８０ｎｍ 次に基板ホルダーをＣｏＰｔＣｒターゲットに対向する
位置へ移動し、以下に示すスパッタリング条件で磁性層
４を作製する。Target: Cr (4 inch φ) Gas: Ar Gas pressure: 5 mTorr Input power: 200 W Substrate temperature: 300 ° C. Distance between target and substrate: 70 mm Average film thickness: 80 nm Next, the position where the substrate holder faces the CoPtCr target To produce the magnetic layer 4 under the following sputtering conditions.
【００３７】 ターゲット ：Ｃｏ75Ｐｔ12Ｃｒ13（４インチφ） ガス ：Ａｒ ガス圧力 ：２０ｍTorr 投入電力 ：１００Ｗ 基板温度 ：３００℃ ターゲット ー基板間距離：７０ｍｍ 平均膜厚 ：２０ｎｍ 次に、基板ホルダーをＣターゲットに対向する位置へ移
動し、以下に示すスパッタリング条件で保護層５を形成
する。Target: Co75 Pt12 Cr13 (4 inch φ) Gas: Ar Gas pressure: 20 mTorr Input power: 100 W Substrate temperature: 300 ° C. Distance between target and substrate: 70 mm Average film thickness: 20 nm Next, the substrate holder is opposed to the C target. Then, the protective layer 5 is formed under the following sputtering conditions.
【００３８】 ターゲット ：Ｃ（４インチφ） ガス ：Ａｒ，Ｈ2 ガス圧力 ：ＰAr＋ＰH2＝１０ｍTorr（ＰH2／ＰAr＋ＰH2＝0.06） 投入電力 ：１００Ｗ 基板温度 ：３００℃ ターゲット ー基板間距離：７０ｍｍ 平均膜厚 ：１３ｎｍ 以上のスパッタリングによる成膜後、基板１をスパッタ
リング装置から取り出し、保護層５の上にパーフロロポ
リエーテルからなる潤滑剤をディップ処理して潤滑層６
を形成し、磁気記録媒体を得る。Target: C (4 inch φ) Gas: Ar, H2 Gas pressure: PAr + PH2 = 10 mTorr (PH2 / PAr + PH2 = 0.06) Input power: 100 W Substrate temperature: 300 ° C. Distance between target and substrate: 70 mm Average film thickness: 13 nm After the film formation by the above sputtering, the substrate 1 is taken out of the sputtering apparatus, and the protective layer 5 is dipped with a lubricant made of perfluoropolyether to form a lubricating layer 6.
Is formed to obtain a magnetic recording medium.
【００３９】このようにして得た磁気記録媒体の表面形
状を、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）で解析した結果は、表
面に表れる凹凸の突起の粒径は平均で約０．２２５μ
ｍ、突起の存在密度は約６．２個／μｍ、表面粗さはＲ
ａ（中心線平均粗さ）で５．７０５ｎｍ、Ｒｍｓ（二乗
平均平方根粗さ）で７．０１８ｎｍ、Ｒｍａｘ（最大高
さ）で４５．６２３ｎｍであった。The surface shape of the magnetic recording medium obtained in this manner was analyzed by an atomic force microscope (AFM). The results showed that the average particle size of the uneven protrusions on the surface was about 0.225 μm.
m, the density of protrusions is about 6.2 / μm, and the surface roughness is R
a (center line average roughness) was 5.705 nm, Rms (root mean square roughness) was 7.018 nm, and Rmax (maximum height) was 45.623 nm.
【００４０】また、この磁気記録媒体の動摩擦係数を、
Ａｌ2 Ｏ3 ーＴｉスライダーの薄膜磁気ヘッド及び歪み
ゲージを用いたＣＳＳ試験装置により測定したところ、
０．２７であり、十分に小さな値であった。Further, the dynamic friction coefficient of this magnetic recording medium is
When measured with a CSS tester using a thin-film magnetic head of Al2O3-Ti slider and a strain gauge,
0.27, which is a sufficiently small value.
【００４１】（実施例２〜８、比較例１）上述の実施例
１において島状の膜２，…，２をスパッタ形成する際の
基板加熱温度及び島状膜の平均膜厚を以下の通りに変え
たほかは実施例１の製造条件と同一の条件で製造したも
のを実施例２〜８及び比較例１とした。なお、平均膜厚
は主としてスパッタリングの成膜時間を制御することに
よって制御した。(Examples 2 to 8 and Comparative Example 1) The substrate heating temperature and the average film thickness of the island-like films 2,... Examples 2 to 8 and Comparative Example 1 were manufactured under the same conditions as those of Example 1 except that the above conditions were changed. The average film thickness was controlled mainly by controlling the film forming time of sputtering.
【００４２】 基板加熱温度（℃） 島状膜の平均膜厚（ｎｍ） 実施例２ ６００ １５ 実施例３ ６００ １０ 実施例４ ６００ ５ 実施例５ ５００ ２０ 実施例６ ４００ ２０ 実施例７ ３００ ３０ 実施例８ ２００ ３０ 比較例１ ２５ ３０ このようにして得た磁気記録媒体の表面形状を、実施例
１の場合と同様にして、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）で解
析し、突起の粒径、突起の形成密度、表面粗さ（Ｒａ、
Ｒｍｓ、Ｒｍａｘ）を求めた。また、同様にしてこれら
の磁気記録媒体の動摩擦係数をＣＳＳ試験装置により測
定した。これらの結果を実施例１の結果を含めてまとめ
て図３に表にして示した。Substrate heating temperature (° C.) Average film thickness of island-shaped film (nm) Example 2 600 15 Example 3 600 10 Example 4 600 5 Example 5 500 20 Example 6 400 20 Example 7 300 30 Example 8 200 30 Comparative Example 1 25 30 The surface shape of the magnetic recording medium thus obtained was analyzed by an atomic force microscope (AFM) in the same manner as in Example 1, and the particle size of the protrusions and the protrusions were determined. Density, surface roughness (Ra,
Rms, Rmax). Similarly, the dynamic friction coefficients of these magnetic recording media were measured by a CSS tester. These results, including the results of Example 1, are summarized and shown in a table in FIG.
【００４３】ここで、ＣＳＳ耐久試験によれば、動摩擦
係数が０．５を越えると、実用レベルのＣＳＳ回数を確
保することが急激に困難になる。すなわち、ヘッドクラ
ッシュを起こすおそれが急激に高くなる。それゆえ、動
摩擦係数は少なくとも０．５以下であることが必要であ
る。Here, according to the CSS durability test, when the coefficient of kinetic friction exceeds 0.5, it becomes rapidly difficult to secure a practical number of CSS times. That is, the risk of a head crash increases rapidly. Therefore, the dynamic friction coefficient needs to be at least 0.5 or less.
【００４４】上述の各実施例及び比較例は、島状の膜
２，…，２をスパッタ形成する際の基板加熱温度を制御
することによって磁気記録媒体の動摩擦係数を制御でき
ることを示している。The above examples and comparative examples show that the dynamic friction coefficient of the magnetic recording medium can be controlled by controlling the substrate heating temperature when the island-like films 2,..., 2 are formed by sputtering.
【００４５】すなわち、図４は図３の表に示された各実
施例及び比較例の基板加熱温度と突起の存在密度との関
係をグラフにして示したものであり、図５は基板加熱温
度と突起粒径との関係をグラフにして示したものであ
る。これらのグラフから基板加熱温度を高くすると突起
の存在密度が小さくなり、突起粒径が大きくなることが
わかる。FIG. 4 is a graph showing the relationship between the substrate heating temperature and the density of protrusions in each of the examples and comparative examples shown in the table of FIG. 3, and FIG. 5 shows the substrate heating temperature. FIG. 4 is a graph showing the relationship between the diameter of the protrusion and the particle diameter. From these graphs, it can be seen that when the substrate heating temperature is increased, the density of the protrusions is reduced and the particle size of the protrusions is increased.
【００４６】一方、図６は突起の存在密度と動摩擦係数
との関係をグラフにして示したものである。このグラフ
によれば、動摩擦係数は突起の存在密度に比例すること
がわかる。FIG. 6 is a graph showing the relationship between the density of protrusions and the coefficient of dynamic friction. According to this graph, the dynamic friction coefficient is proportional to the density of the protrusions.
【００４７】以上の結果から、基板加熱温度を高くする
と動摩擦係数を小さくすることができることがわかる。From the above results, it can be seen that the dynamic friction coefficient can be reduced by increasing the substrate heating temperature.
【００４８】ただし、基板温度を高くすると突起粒径も
大きくなり、必然的にＲmax も大きくなるので、この観
点からのヘッドクラッシュのおそれが増大するのではな
いかとの懸念が生ずる。しかしながら、この懸念は、島
状膜の膜厚を薄くすることによって解消できる。すなわ
ち、図７はＲmax と平均膜厚との関係を示したグラフで
ある。このグラフからＲmax と平均膜厚とは比例関係に
あり、平均膜厚を薄くすることによってＲmax を小さく
できることがわかる。しかも、図８は突起の存在密度と
Ｒmax との関係をグラフにして示したものであるが、こ
のグラフによれば、平均膜厚を変えてＲmax を変えても
突起の存在密度はほとんど変化しないことがわかる。However, when the substrate temperature is increased, the diameter of the protrusions increases, and Rmax necessarily increases. Therefore, there is a concern that the possibility of head crash from this viewpoint may increase. However, this concern can be solved by reducing the thickness of the island-shaped film. That is, FIG. 7 is a graph showing the relationship between Rmax and the average film thickness. From this graph, it can be seen that Rmax and the average film thickness are in a proportional relationship, and that Rmax can be reduced by reducing the average film thickness. FIG. 8 is a graph showing the relationship between the density of protrusions and Rmax. According to this graph, even if the average film thickness is changed and Rmax is changed, the density of protrusions hardly changes. You can see that.
【００４９】したがって、基板温度を高くし、同時に、
成膜時間を制御して島状膜の膜厚を薄くすれば、Ｒmax
を大きくすることなく、突起の存在密度を小さくして動
摩擦係数を十分に小さくすることができることがわか
る。Therefore, the substrate temperature is increased and at the same time,
If the film thickness is controlled to reduce the thickness of the island-like film, Rmax
It can be seen that the dynamic friction coefficient can be sufficiently reduced by reducing the density of the protrusions without increasing the value of.
【００５０】以上実施例により本発明を説明してきた
が、本発明は以下の変形例及び応用例を含むものであ
る。While the present invention has been described with reference to the embodiment, the present invention includes the following modifications and application examples.
【００５１】上述の実施例では、基板として、結晶化ガ
ラスを用いているが、その表面粗さはＲａ＝２．０ｎｍ
以下が好ましく、１．０以下であればなお好ましい。結
晶化ガラス以外では、カーボン基板、シリコン基板、石
英基板等の５００℃以上の耐熱性のあるものが望まし
い。In the above embodiment, crystallized glass is used as the substrate, but the surface roughness is Ra = 2.0 nm.
The following is preferable, and 1.0 or less is more preferable. In addition to crystallized glass, those having heat resistance of 500 ° C. or more, such as a carbon substrate, a silicon substrate, and a quartz substrate, are desirable.
【００５２】また、テクスチャーを形成する材料として
実施例ではＡＩＮを用いているが、他の材料であっても
よく、例えば、Ａｌ、Ｓｎ、Ｉｎ、Ｚｎ、Ｔｉ等の金
属、あるいは、これらのうちの一つを含んだ合金又はこ
れらの酸化物、窒化物を用いてもよい。また、このテク
スチャーの表面粗さＲａは２．０〜１５ｎｍが好まし
く、２．０〜１０ｎｍであればなお好ましい。In the embodiment, AIN is used as a material for forming the texture. However, other materials may be used, for example, metals such as Al, Sn, In, Zn, and Ti, or a metal among these. Alternatively, an alloy containing one of these, or an oxide or nitride thereof may be used. The surface roughness Ra of the texture is preferably 2.0 to 15 nm, more preferably 2.0 to 10 nm.
【００５３】さらに、実施例では、非磁性金属下地層と
してＣｒである場合を掲げたが、これは、ＴｉＷ、Ｍ
ｏ、Ｔｉ、Ｔａ、Ｗ、Ｚｒ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｉｎ、Ｓｎ等
の非磁性材料を用いることができる。なお、この下地層
は２層以上で構成したものでもよい。Further, in the embodiment, the case where Cr is used as the non-magnetic metal underlayer is cited.
Non-magnetic materials such as o, Ti, Ta, W, Zr, Cu, Zn, In, and Sn can be used. The underlayer may be composed of two or more layers.
【００５４】磁性層としては、実施例で掲げた例のほか
にＣｏＮｉＣｒＴａ、ＣｏＮｉＰｔ、ＣｏＮｉＺｒ、Ｃ
ｏＣｒＰｔＴａ、ＣｏＰｔ、ＣｏＣｒＰｔＢ、ＣｏＰ等
の他のＣｏ系合金やＦｅ2 Ｏ3 等の磁性材料により磁性
層を構成してもよい。As the magnetic layer, in addition to the examples given in the embodiments, CoNiCrTa, CoNiPt, CoNiZr, C
The magnetic layer may be made of another Co-based alloy such as oCrPtTa, CoPt, CoCrPtB, and CoP, or a magnetic material such as Fe 2 O 3 .
【００５５】なお、下地層、磁性層、保護層等の形成
は、ロードロック型４元スパッタリング装置でなくても
他のスパッタ装置を用いて形成できることは勿論であ
る。It is needless to say that the underlayer, the magnetic layer, the protective layer and the like can be formed by using another sputtering apparatus without using a load lock type quaternary sputtering apparatus.
【００５６】また、保護層としては、実施例では水素化
カーボンを用いたが、これは例えば、ＳｉＯ2 、ＺｒＯ
2 、ＳｉＮ、ＳｉＣ膜でもよく、あるいは、シリコン化
合物等の膜材にシリカ微粒子等の硬質微粒子を分散させ
たものでもよい。Further, as the protective layer, hydrogenated carbon was used in the embodiment, for example, SiO2, ZrO, etc.
2. A SiN or SiC film may be used, or a hard material such as silica fine particles dispersed in a film material such as a silicon compound may be used.
【００５７】さらに、実施例では潤滑層の材料としてパ
ーフルオロポリエーテルを用いたが、フルオロカーボン
系の液体潤滑剤やスルホン酸のアルカリ金属塩からなる
潤滑剤を用いることもできる。その膜厚は５〜３０オン
グストロームであることが好ましく、その理由は５オン
グストローム未満であると耐摩耗性の向上を計ることが
充分でなく、また３０オングストロームを越えると耐摩
耗性の向上がみられず、しかも磁気ヘッドの吸着の問題
が生ずるからである。Further, in the embodiment, perfluoropolyether is used as the material of the lubricating layer. However, a fluorocarbon liquid lubricant or a lubricant composed of an alkali metal salt of sulfonic acid can be used. The film thickness is preferably 5 to 30 angstroms. The reason for this is that if it is less than 5 angstroms, it is not sufficient to improve the abrasion resistance, and if it exceeds 30 angstroms, the abrasion resistance is improved. In addition, the problem of magnetic head suction occurs.
【００５８】[0058]
【発明の効果】以上詳述したように、本発明は、非磁性
基板上に少なくとも磁性層を含む層を有する磁気記録媒
体において、前記非磁性基板の表面に、薄膜形成技術に
よって多数の微細な島状の膜又は凹凸を有する連続した
膜のいずれか一方もしくは双方を含む層を形成すること
によって形成される凹凸からなるテクスチャーを形成
し、前記テクスチャーの凹凸がその上に形成される層を
通じて磁気記録媒体の表面に表れるようにして、前記凹
凸を形成する島状膜の存在密度を７０個／μｍ2 以下に
するか、又は、磁気記録媒体の表面のヘッドスライダー
に対する動摩擦係数が１以下になるようにしたもので、
これにより、ヘッドスライダーの低浮上走行化及びＣＳ
Ｓに対する高い耐久性等を実現して高密度の記録・再生
を可能にする磁気記録媒体及びその製造方法を得ている
ものである。As described in detail above, the present invention relates to a magnetic recording medium having a layer including at least a magnetic layer on a non-magnetic substrate. Forming a texture consisting of irregularities formed by forming a layer including one or both of an island-like film or a continuous film having irregularities, and forming the texture comprising the irregularities of the texture through a layer formed thereon. The density of the island-like films forming the irregularities is reduced to 70 or less / μm 2 or less, or the dynamic friction coefficient of the surface of the magnetic recording medium with respect to the head slider is reduced to 1 or less so as to appear on the surface of the recording medium. Like this,
This makes it possible to reduce the flying height of the head slider and reduce CS
A magnetic recording medium realizing high durability against S and the like and enabling high-density recording and reproduction, and a method for manufacturing the same have been obtained.
【図１】本発明の実施例１にかかる磁気記録媒体の構成
を示す模式的断面図である。FIG. 1 is a schematic sectional view illustrating a configuration of a magnetic recording medium according to a first embodiment of the present invention.
【図２】平均膜厚の説明図である。FIG. 2 is an explanatory diagram of an average film thickness.
【図３】実施例１〜７及び比較例１〜２の磁気記録媒体
の特性を測定した結果を表にして示した図である。FIG. 3 is a table showing the results of measuring the characteristics of the magnetic recording media of Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 and 2.
【図４】実施例及び比較例の磁気記録媒体製造過程にお
ける島状膜形成の際の基板加熱温度と、島状膜の存在に
よって磁気記録媒体表面に表れる突起の存在密度との関
係をグラフにして示す図である。FIG. 4 is a graph showing the relationship between the substrate heating temperature when forming an island-like film in the process of manufacturing the magnetic recording medium of the example and the comparative example, and the density of protrusions that appear on the surface of the magnetic recording medium due to the presence of the island-like film. FIG.
【図５】実施例及び比較例の磁気記録媒体製造過程にお
ける島状膜形成の際の基板加熱温度と、島状膜の存在に
よって磁気記録媒体表面に表れる突起の粒径との関係を
グラフにして示す図である。FIG. 5 is a graph showing the relationship between the substrate heating temperature when forming an island-like film in the process of manufacturing the magnetic recording medium of the example and the comparative example, and the particle diameter of a protrusion appearing on the surface of the magnetic recording medium due to the presence of the island-like film. FIG.
【図６】実施例及び比較例の磁気記録媒体表面に表れる
突起の存在密度と動摩擦係数との関係をグラフにして示
す図である。FIG. 6 is a graph showing the relationship between the density of protrusions appearing on the surface of the magnetic recording medium and the dynamic friction coefficient in Examples and Comparative Examples.
【図７】実施例及び比較例の島状膜の平均膜厚と磁気記
録媒体表面のＲmax との関係をグラフにして示す図であ
る。FIG. 7 is a graph showing the relationship between the average film thickness of the island-shaped films and the Rmax of the surface of the magnetic recording medium in Examples and Comparative Examples.
【図８】実施例の磁気記録媒体表面のＲmax と突起の存
在密度との関係をグラフにして示す図である。FIG. 8 is a graph showing a relationship between Rmax and the density of protrusions on the surface of the magnetic recording medium of the example.
１…基板、２…島状膜、３…非磁性下地層、４…磁性
層、５…保護層、６…潤滑槽。DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Substrate, 2 ... Island film, 3 ... Non-magnetic underlayer, 4 ... Magnetic layer, 5 ... Protective layer, 6 ... Lubrication tank.
Claims (15)
層を有する磁気記録媒体において、 前記非磁性基板の表面に、薄膜形成技術によって多数の
島状の膜又は凹凸を有する連続した膜のいずれか一方も
しくは双方を含む層を形成することによって形成される
凹凸からなるテクスチャーを形成し、 前記テクスチャーの凹凸がその上に形成される層を通じ
て磁気記録媒体の表面に表れるようにし、 前記テクスチャーの凹凸の凸部の存在密度を７０個／μ
ｍ2 以下にすることを特徴とする磁気記録媒体。1. A magnetic recording medium having a layer including at least a magnetic layer on a non-magnetic substrate, comprising: a plurality of island-shaped films or a continuous film having irregularities formed on a surface of the non-magnetic substrate by a thin film forming technique. Forming a texture comprising irregularities formed by forming a layer containing one or both of them, so that the irregularities of the texture appear on the surface of the magnetic recording medium through a layer formed thereon, and the irregularities of the texture Density of protrusions of 70 / μ
m 2 or less.
度を２０個／μｍ2以下にすることを特徴とする請求項
１に記載の磁気記録媒体。2. The magnetic recording medium according to claim 1, wherein the density of the protrusions of the texture is 20 or less / μm 2 .
層を有する磁気記録媒体において、 前記非磁性基板の表面に、薄膜形成技術によって多数の
島状の膜又は凹凸を有する連続した膜のいずれか一方も
しくは双方を含む層を形成することによって形成される
凹凸を備えたテクスチャーを形成し、 前記テクスチャーの凹凸がその上に形成される層を通じ
て磁気記録媒体の表面に表れるようにし、 前記磁気記録媒体の表面のヘッドスライダーに対する動
摩擦係数が１以下になるようにしたことを特徴とする磁
気記録媒体。3. A magnetic recording medium having a layer containing at least a magnetic layer on a non-magnetic substrate, wherein the surface of the non-magnetic substrate is formed of any of a number of island-shaped films or a continuous film having irregularities by a thin film forming technique. Forming a texture having irregularities formed by forming a layer including one or both of them, so that the irregularities of the texture appear on the surface of the magnetic recording medium through a layer formed thereon; A magnetic recording medium, wherein a coefficient of dynamic friction of a surface of the medium with respect to a head slider is 1 or less.
ダーに対する動摩擦係数が０．５以下になるようにした
したことを特徴とする請求項３に記載の磁気記録媒体。4. The magnetic recording medium according to claim 3, wherein a dynamic friction coefficient of a surface of the magnetic recording medium with respect to a head slider is 0.5 or less.
層を有する磁気記録媒体において、 前記非磁性基板の表面に、薄膜形成技術によって多数の
島状の膜又は凹凸を有する連続した膜のいずれか一方も
しくは双方を含む層を形成することによって形成される
凹凸を備えたテクスチャーを形成し、 前記テクスチャーの凹凸がその上に形成される層を通じ
て磁気記録媒体の表面に表れるようにし、 前記テクスチャーの凹凸の凸部の存在密度を７０個／μ
ｍ2 以下にするとともに、前記磁気記録媒体の表面のヘ
ッドスライダーに対する動摩擦係数が１以下になるよう
にしたことを特徴とする磁気記録媒体。5. A magnetic recording medium having a layer including at least a magnetic layer on a non-magnetic substrate, comprising: a plurality of island-shaped films or a continuous film having irregularities formed on the surface of the non-magnetic substrate by a thin film forming technique. Forming a texture with irregularities formed by forming a layer containing one or both of them, so that the irregularities of the texture appear on the surface of the magnetic recording medium through a layer formed thereon, Existence density of projections of irregularities is 70 / μ
while the m 2 or less, the magnetic recording medium, wherein the dynamic friction coefficient against a head slider of a surface of the magnetic recording medium was made up to 1 or less.
ものであることを特徴とする請求項１ないし５のいずれ
かに記載の磁気記録媒体。6. The magnetic recording medium according to claim 1, wherein the non-magnetic substrate is made of crystallized glass.
２．０ｎｍ以下であることを特徴とする請求項６に記載
の磁気記録媒体。7. The magnetic recording medium according to claim 6, wherein the surface roughness of the crystallized glass is 2.0 nm or less in Ra.
とを特徴とする請求項１ないし６のいずれかに記載の磁
気記録媒体。8. The magnetic recording medium according to claim 1, wherein said thin film forming technique is a sputtering method.
２．０〜１５ｎｍであることを特徴とする請求項１ない
し８のいずれかに記載の磁気記録媒体。9. The magnetic recording medium according to claim 1, wherein the texture has a surface roughness Ra of 2.0 to 15 nm.
Ｎ（窒化アルミニウム）からなることを特徴とする請求
項１ないし９のいずれかに記載の磁気記録媒体。10. The film constituting the texture is made of Al
10. The magnetic recording medium according to claim 1, comprising N (aluminum nitride).
層形成工程を少なくとも有する磁気記録媒体の製造方法
において、 前記磁性層形成工程より前の工程として、前記非磁性基
板の表面に、薄膜形成技術によって多数の島状の膜又は
凹凸を有する連続した膜のいずれか一方もしくは双方を
含む層を形成することによって形成される凹凸を備えた
テクスチャーを形成するテクスチャー形成工程を有し、
このテクスチャー形成工程における基板温度を制御する
ことによって前記凹凸の凸部の存在密度を制御するよう
にしたことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。11. A method for manufacturing a magnetic recording medium having at least a magnetic layer forming step of forming a magnetic layer on a nonmagnetic substrate, wherein a thin film is formed on the surface of the nonmagnetic substrate as a step prior to the magnetic layer forming step. A texture forming step of forming a texture having irregularities formed by forming a layer including one or both of a plurality of island-shaped films or a continuous film having irregularities by a forming technique,
A method for manufacturing a magnetic recording medium, characterized in that the density of the projections of the irregularities is controlled by controlling the substrate temperature in the texture forming step.
板温度を２００〜１０００℃の範囲におけるいずれかに
設定して前記凹凸の凸部の存在密度を７０個／μｍ2 以
下にするとともに、その温度に対応して前記テクスチャ
ーを構成する層の平均膜厚を選定することにより、前記
凸部の高さを制御することを特徴とする請求項１１に記
載の磁気記録媒体の製造方法。12. The substrate temperature in the texture forming step is set to any value in the range of 200 to 1000 ° C. to reduce the density of the projections of the irregularities to 70 or less / μm 2 and to correspond to the temperature. 12. The method according to claim 11, wherein the height of the protrusion is controlled by selecting an average film thickness of a layer constituting the texture.
るものであることを特徴とする請求項１１又は１２に記
載の磁気記録媒体の製造方法。13. The method according to claim 11, wherein the nonmagnetic substrate is made of crystallized glass.
ことを特徴とする請求項１１ないし１３のいずれかに記
載の磁気記録媒体の製造方法。14. The method for manufacturing a magnetic recording medium according to claim 11, wherein the thin film forming technique is a sputtering method.
Ｎ（窒化アルミニウム）からなることを特徴とする請求
項１１ないし１４のいずれかに記載の磁気記録媒体の製
造方法。15. The layer constituting the texture is made of Al
15. The method according to claim 11, wherein the magnetic recording medium is made of N (aluminum nitride).
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8255894A JPH10105948A (en) | 1996-09-27 | 1996-09-27 | Magnetic recording medium and its production |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8255894A JPH10105948A (en) | 1996-09-27 | 1996-09-27 | Magnetic recording medium and its production |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10105948A true JPH10105948A (en) | 1998-04-24 |
Family
ID=17285054
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8255894A Pending JPH10105948A (en) | 1996-09-27 | 1996-09-27 | Magnetic recording medium and its production |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10105948A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000074042A1 (en) * | 1999-05-28 | 2000-12-07 | Migaku Takahashi | Magnetic recording medium and production method therefor and magnetic recording device |
-
1996
- 1996-09-27 JP JP8255894A patent/JPH10105948A/en active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000074042A1 (en) * | 1999-05-28 | 2000-12-07 | Migaku Takahashi | Magnetic recording medium and production method therefor and magnetic recording device |
| US6709775B1 (en) | 1999-05-28 | 2004-03-23 | Migaku Takahashi | Magnetic recording medium and production method thereof and magnetic recording device |
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