JPH0996589A - レンズ性能測定方法及びそれを用いたレンズ性能測定装置 - Google Patents
レンズ性能測定方法及びそれを用いたレンズ性能測定装置Info
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- JPH0996589A JPH0996589A JP27643695A JP27643695A JPH0996589A JP H0996589 A JPH0996589 A JP H0996589A JP 27643695 A JP27643695 A JP 27643695A JP 27643695 A JP27643695 A JP 27643695A JP H0996589 A JPH0996589 A JP H0996589A
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- lens
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- Instruments For Measurement Of Length By Optical Means (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 容易に被検レンズのディストーション及び像
面湾曲の値が得られるレンズ性能測定方法及びそれを用
いたレンズ性能測定装置を得ること。 【解決手段】 干渉計からの光束を集光レンズを介して
被検レンズの像面上の１点に集光し、該被検レンズを透
過して共役点に集光した後、球面ミラーで反射させ、該
被検レンズ及び該集光レンズを透過して測定光束として
該干渉計へ入射させ、該干渉計の光源からの光束を参照
面で反射させて形成する参照光束と該測定光束とを干渉
させて得られる該測定光束の波面情報より該被検レンズ
の収差を測定する際、集光レンズ計測手段が計測する該
集光レンズの集光点の位置情報と、球面ミラー計測手段
が計測する該曲率中心の位置情報と、該波面情報より求
める波面の傾き成分とデフォーカス成分より収差を求め
る。
面湾曲の値が得られるレンズ性能測定方法及びそれを用
いたレンズ性能測定装置を得ること。 【解決手段】 干渉計からの光束を集光レンズを介して
被検レンズの像面上の１点に集光し、該被検レンズを透
過して共役点に集光した後、球面ミラーで反射させ、該
被検レンズ及び該集光レンズを透過して測定光束として
該干渉計へ入射させ、該干渉計の光源からの光束を参照
面で反射させて形成する参照光束と該測定光束とを干渉
させて得られる該測定光束の波面情報より該被検レンズ
の収差を測定する際、集光レンズ計測手段が計測する該
集光レンズの集光点の位置情報と、球面ミラー計測手段
が計測する該曲率中心の位置情報と、該波面情報より求
める波面の傾き成分とデフォーカス成分より収差を求め
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はレンズ性能測定方法
及びそれを用いたレンズ性能測定装置に関し、特に被検
レンズのディストーション収差及び像面湾曲収差の測定
に好適なものである。
及びそれを用いたレンズ性能測定装置に関し、特に被検
レンズのディストーション収差及び像面湾曲収差の測定
に好適なものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、高精度な被検レンズのディストー
ション及び像面湾曲収差は、次のようにして測定されて
いた。図６において、5 は被検レンズ（被検レンズ）で
ある。62はレチクルであり、被検レンズ5 の光軸(Z軸)
に垂直な面内に配置されている。61は複数の基準パター
ンであり、レチクル62の面上で規則的に配列されてい
る。63は感光体であり、被検レンズ5 の光軸(Z軸) に対
して垂直な面内に配置している。64は３軸ステージであ
り、感光体63を XYZ方向へ移動する。
ション及び像面湾曲収差は、次のようにして測定されて
いた。図６において、5 は被検レンズ（被検レンズ）で
ある。62はレチクルであり、被検レンズ5 の光軸(Z軸)
に垂直な面内に配置されている。61は複数の基準パター
ンであり、レチクル62の面上で規則的に配列されてい
る。63は感光体であり、被検レンズ5 の光軸(Z軸) に対
して垂直な面内に配置している。64は３軸ステージであ
り、感光体63を XYZ方向へ移動する。
【０００３】図７はディストーションの測定のフローチ
ャートである。これについて説明する。
ャートである。これについて説明する。
【０００４】ステップ71：レチクル62上の複数個の基準
パターン61を被検レンズ5 により感光体63上に投影し、
複数の基準パターン61の像を感光体63上に露光する。
パターン61を被検レンズ5 により感光体63上に投影し、
複数の基準パターン61の像を感光体63上に露光する。
【０００５】ステップ72：感光体63を現像処理すること
により、転写された基準パターンを感光体63上に浮び上
がらせる。
により、転写された基準パターンを感光体63上に浮び上
がらせる。
【０００６】ステップ73：感光体63上の各基準パターン
61の像の絶対位置座標(Xi,Yi) (iはパターン番号) を計
測する。絶対位置座標の計測方法としては、例えば、顕
微鏡による観察が有効である。
61の像の絶対位置座標(Xi,Yi) (iはパターン番号) を計
測する。絶対位置座標の計測方法としては、例えば、顕
微鏡による観察が有効である。
【０００７】ステップ74：ステップ73で得られた各パタ
ーンの計測位置座標(Xi,Yi) と各パターンの理想像位置
座標(X0i,Y0i) から次式により結像位置誤差 (DXi,D
Yi)、即ち、ディストーション収差の値を求める。
ーンの計測位置座標(Xi,Yi) と各パターンの理想像位置
座標(X0i,Y0i) から次式により結像位置誤差 (DXi,D
Yi)、即ち、ディストーション収差の値を求める。
【０００８】DXi = Xi-X0i ・・・・・(1) DYi = Yi-Y0i ・・・・・(2) 従来は、以上のようにしてディストーション収差の測定
を行っていた。
を行っていた。
【０００９】次に、従来の像面湾曲の測定方法について
説明する。図８は従来の像面湾曲の測定のフローチャー
トである。
説明する。図８は従来の像面湾曲の測定のフローチャー
トである。
【００１０】ステップ81：ディストーション測定の場合
と同様に、感光体63上に複数の基準パターン61の像を転
写する。
と同様に、感光体63上に複数の基準パターン61の像を転
写する。
【００１１】ステップ82：所定のデフォーカス量の焼き
付けが終わったか否かを判定し、終わっていなければス
テップ83へ進み、終わっておればステップ85へ進む。
付けが終わったか否かを判定し、終わっていなければス
テップ83へ進み、終わっておればステップ85へ進む。
【００１２】ステップ83：３軸ステージ64をXY方向（光
軸直交方向）に移動して感光体63を移動させる。この時
の移動量は、基準パターン61の像のサイズより大きくか
つ基準パターン61像の間隔よりも小さくする必要があ
る。
軸直交方向）に移動して感光体63を移動させる。この時
の移動量は、基準パターン61の像のサイズより大きくか
つ基準パターン61像の間隔よりも小さくする必要があ
る。
【００１３】ステップ84：このステージ位置(X,Y）で今
度は、ステージ64を Z軸方向（光軸方向）に所定量移動
して感光体63を先程の像面から所定量デフォーカスさ
せ、ステップ81へ進み、再度基準パターン61を感光体63
上に転写する。
度は、ステージ64を Z軸方向（光軸方向）に所定量移動
して感光体63を先程の像面から所定量デフォーカスさ
せ、ステップ81へ進み、再度基準パターン61を感光体63
上に転写する。
【００１４】このステップ81〜83の処理を必要なデフォ
ーカス量だけ繰り返す。
ーカス量だけ繰り返す。
【００１５】ステップ85：最後のデフォーカス条件での
焼き付けが終了したら、感光体63を現像し、基準パター
ン61の転写像を作成する。
焼き付けが終了したら、感光体63を現像し、基準パター
ン61の転写像を作成する。
【００１６】ステップ86：１枚の感光体63上に転写され
た異なるデフォーカス条件での基準パターン61の各像を
比較し、像面弯曲の値を得る。即ち、各像高の位置にお
いて最もシャープな像の得られるデフォーカス位置を決
定し、そのデフォーカス位置をこの像高の像面位置とす
る。基準パターン61の像の比較は、例えば、顕微鏡等に
よる観察などが有効である。
た異なるデフォーカス条件での基準パターン61の各像を
比較し、像面弯曲の値を得る。即ち、各像高の位置にお
いて最もシャープな像の得られるデフォーカス位置を決
定し、そのデフォーカス位置をこの像高の像面位置とす
る。基準パターン61の像の比較は、例えば、顕微鏡等に
よる観察などが有効である。
【００１７】以上のようにして、被検レンズ5 の画角内
における像面湾曲収差の値を得ることができる。
における像面湾曲収差の値を得ることができる。
【００１８】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来例では、焼き付け工程、現像工程、顕微鏡等による計
測工程というような複数の工程を経る必要があり、しか
も、個々の工程における処理も複雑であるために、ディ
ストーションの測定のために多大な労力と時間を要す
る。
来例では、焼き付け工程、現像工程、顕微鏡等による計
測工程というような複数の工程を経る必要があり、しか
も、個々の工程における処理も複雑であるために、ディ
ストーションの測定のために多大な労力と時間を要す
る。
【００１９】また、像面湾曲の測定においても、複数の
デフォーカス条件における焼き付け像の観察から像面湾
曲の値を求めるので、さらに、多大の時間を要するとい
う問題があった。
デフォーカス条件における焼き付け像の観察から像面湾
曲の値を求めるので、さらに、多大の時間を要するとい
う問題があった。
【００２０】本発明は、被検レンズの透過波面及び透過
波面測定時の物点及び像点の位置に相当するTSレンズ及
び反射球面ミラーの位置座標を計測することにより、従
来のような複雑な複数回の処理を必要とせず、容易に、
被検レンズのディストーション収差及び像面湾曲収差の
値を得ることができるレンズ性能測定方法及びそれを用
いたレンズ性能測定装置の提供を目的とする。
波面測定時の物点及び像点の位置に相当するTSレンズ及
び反射球面ミラーの位置座標を計測することにより、従
来のような複雑な複数回の処理を必要とせず、容易に、
被検レンズのディストーション収差及び像面湾曲収差の
値を得ることができるレンズ性能測定方法及びそれを用
いたレンズ性能測定装置の提供を目的とする。
【００２１】
【課題を解決するための手段】本発明のレンズ性能測定
方法は、 （１−１） 干渉計より射出する単色光の平行光束を集
光レンズ設定手段によりその位置を設定した集光レンズ
を介して被検レンズの像面上の１点に集光し、該被検レ
ンズを透過して共役点に集光した後、球面ミラー設定手
段により該共役点に曲率中心を設定した球面ミラーで反
射させ、該被検レンズ及び該集光レンズを透過して測定
光束として該干渉計へ入射させ、該干渉計の光源より射
出する光束を該干渉計若しくは該集光レンズの一部に設
けた参照面で反射させて形成する参照光束と該測定光束
とを干渉させて得られる該測定光束の波面情報より該被
検レンズの収差を測定する際、集光レンズ計測手段が計
測する該集光レンズの集光点の位置情報と、球面ミラー
計測手段が計測する該球面ミラーの曲率中心の位置情報
と、該波面情報より求める波面の傾き成分とデフォーカ
ス成分より該被検レンズの収差を求めること等を特徴と
している。
方法は、 （１−１） 干渉計より射出する単色光の平行光束を集
光レンズ設定手段によりその位置を設定した集光レンズ
を介して被検レンズの像面上の１点に集光し、該被検レ
ンズを透過して共役点に集光した後、球面ミラー設定手
段により該共役点に曲率中心を設定した球面ミラーで反
射させ、該被検レンズ及び該集光レンズを透過して測定
光束として該干渉計へ入射させ、該干渉計の光源より射
出する光束を該干渉計若しくは該集光レンズの一部に設
けた参照面で反射させて形成する参照光束と該測定光束
とを干渉させて得られる該測定光束の波面情報より該被
検レンズの収差を測定する際、集光レンズ計測手段が計
測する該集光レンズの集光点の位置情報と、球面ミラー
計測手段が計測する該球面ミラーの曲率中心の位置情報
と、該波面情報より求める波面の傾き成分とデフォーカ
ス成分より該被検レンズの収差を求めること等を特徴と
している。
【００２２】特に、 （１−１−１） 前記集光点の位置情報と、前記球面ミ
ラーの曲率中心の位置情報と、前記波面の傾き成分とデ
フォーカス成分より求める前記被検レンズの収差はディ
ストーション収差と像面弯曲収差である。 （１−１−２） 前記干渉計より射出する単色光の平行
光束を前記集光レンズを介して前記被検レンズの像面上
の１点に集光する際、該集光する光束の主光線の方向を
主光線合致手段により該集光点の位置に応じて調整す
る。 （１−１−３） 前記波面の傾き成分は前記波面情報よ
り得られる zernike係数より求める。 （１−１−４） 前記波面のデフォーカス成分は前記波
面情報より得られる zernike係数より求める。 （１−１−５） 前記被検レンズを前記集光レンズに対
して第１の状態に設定して波面情報を入手し、次いで該
被検レンズをその光軸を回転軸として回転して該集光レ
ンズに対して該第１の状態と異なる相対位置の第２の状
態に設定して波面情報を入手し、該第１の状態の波面情
報より得る zernike係数と該第２の状態の波面情報より
得る zernike係数とから得られるレンズ成分の zernike
係数を用いて前記波面のデフォーカス成分を求める。 （１−１−６） 最初にシステムエラー測定レンズを第
１の状態に設定し、前記集光レンズの集光点を該システ
ムエラー測定レンズの像面上の複数の測定点に設定して
波面情報を入手し、次いで該システムエラー測定レンズ
をその光軸を回転軸として回転して該第１の状態と異な
る相対位置の第２の状態に設定し、該集光レンズの集光
点を該第１の状態で測定した複数の測定点に設定して波
面情報を入手し、該第１の状態の波面情報より得る zer
nike係数と該第２の状態の波面情報より得る zernike係
数とから各測定点の設定手段の傾きエラーを求めて記憶
しておき、前記被検レンズの測定の際は、該集光レンズ
の集光点を該システムエラー測定レンズの測定点と同じ
測定点に設定して得た波面情報より得る各測定点の zer
nike係数から各測定点の設定手段の傾きエラーを減算し
て得るレンズ成分の zernike係数を用いて前記波面のデ
フォーカス成分を求める。 （１−１−７） 前記被検レンズを前記集光レンズに対
して第１の状態に設定して波面情報を入手し、次いで該
被検レンズをその光軸を回転軸として１８０度回転して
第２の状態に設定して波面情報を入手し、該第１の状態
の波面情報より得る zernike係数と該第２の状態の波面
情報より得る zernike係数の平均値として得られるレン
ズ成分の zernike係数を用いて前記波面のデフォーカス
成分を求める。 （１−１−８） 最初にシステムエラー測定レンズを第
１の状態に設定し、前記集光レンズの集光点を該システ
ムエラー測定レンズの像面上の複数の測定点に設定して
波面情報を入手し、次いで該システムエラー測定レンズ
をその光軸を回転軸として１８０度回転して第２の状態
に設定し、該集光レンズの集光点を該第１の状態で測定
した複数の測定点に設定して波面情報を入手し、該第１
の状態の波面情報より得る zernike係数と該第２の状態
の波面情報より得る zernike係数の差の半値を各測定点
の設定手段の傾きエラーとして記憶しておき、前記被検
レンズ測定の際は、該集光レンズの集光点を該システム
エラー測定レンズの測定点と同じ測定点に設定して得た
波面情報より得る各測定点の zernike係数から各測定点
の設定手段の傾きエラーを減算して得るレンズ成分の z
ernike係数を用いて前記波面のデフォーカス成分を求め
る。こと等を特徴としている。
ラーの曲率中心の位置情報と、前記波面の傾き成分とデ
フォーカス成分より求める前記被検レンズの収差はディ
ストーション収差と像面弯曲収差である。 （１−１−２） 前記干渉計より射出する単色光の平行
光束を前記集光レンズを介して前記被検レンズの像面上
の１点に集光する際、該集光する光束の主光線の方向を
主光線合致手段により該集光点の位置に応じて調整す
る。 （１−１−３） 前記波面の傾き成分は前記波面情報よ
り得られる zernike係数より求める。 （１−１−４） 前記波面のデフォーカス成分は前記波
面情報より得られる zernike係数より求める。 （１−１−５） 前記被検レンズを前記集光レンズに対
して第１の状態に設定して波面情報を入手し、次いで該
被検レンズをその光軸を回転軸として回転して該集光レ
ンズに対して該第１の状態と異なる相対位置の第２の状
態に設定して波面情報を入手し、該第１の状態の波面情
報より得る zernike係数と該第２の状態の波面情報より
得る zernike係数とから得られるレンズ成分の zernike
係数を用いて前記波面のデフォーカス成分を求める。 （１−１−６） 最初にシステムエラー測定レンズを第
１の状態に設定し、前記集光レンズの集光点を該システ
ムエラー測定レンズの像面上の複数の測定点に設定して
波面情報を入手し、次いで該システムエラー測定レンズ
をその光軸を回転軸として回転して該第１の状態と異な
る相対位置の第２の状態に設定し、該集光レンズの集光
点を該第１の状態で測定した複数の測定点に設定して波
面情報を入手し、該第１の状態の波面情報より得る zer
nike係数と該第２の状態の波面情報より得る zernike係
数とから各測定点の設定手段の傾きエラーを求めて記憶
しておき、前記被検レンズの測定の際は、該集光レンズ
の集光点を該システムエラー測定レンズの測定点と同じ
測定点に設定して得た波面情報より得る各測定点の zer
nike係数から各測定点の設定手段の傾きエラーを減算し
て得るレンズ成分の zernike係数を用いて前記波面のデ
フォーカス成分を求める。 （１−１−７） 前記被検レンズを前記集光レンズに対
して第１の状態に設定して波面情報を入手し、次いで該
被検レンズをその光軸を回転軸として１８０度回転して
第２の状態に設定して波面情報を入手し、該第１の状態
の波面情報より得る zernike係数と該第２の状態の波面
情報より得る zernike係数の平均値として得られるレン
ズ成分の zernike係数を用いて前記波面のデフォーカス
成分を求める。 （１−１−８） 最初にシステムエラー測定レンズを第
１の状態に設定し、前記集光レンズの集光点を該システ
ムエラー測定レンズの像面上の複数の測定点に設定して
波面情報を入手し、次いで該システムエラー測定レンズ
をその光軸を回転軸として１８０度回転して第２の状態
に設定し、該集光レンズの集光点を該第１の状態で測定
した複数の測定点に設定して波面情報を入手し、該第１
の状態の波面情報より得る zernike係数と該第２の状態
の波面情報より得る zernike係数の差の半値を各測定点
の設定手段の傾きエラーとして記憶しておき、前記被検
レンズ測定の際は、該集光レンズの集光点を該システム
エラー測定レンズの測定点と同じ測定点に設定して得た
波面情報より得る各測定点の zernike係数から各測定点
の設定手段の傾きエラーを減算して得るレンズ成分の z
ernike係数を用いて前記波面のデフォーカス成分を求め
る。こと等を特徴としている。
【００２３】又、本発明のレンズ性能測定装置は、 （１−２） 干渉計より射出する単色光の平行光束を集
光レンズ設定手段によりその位置を設定した集光レンズ
を介して被検レンズの像面上の１点に集光し、該被検レ
ンズを透過して共役点に集光した後、球面ミラー設定手
段により該共役点に曲率中心を設定した球面ミラーで反
射させ、該被検レンズ及び該集光レンズを透過して測定
光束として該干渉計へ入射させ、該干渉計の光源より射
出する光束を該干渉計若しくは該集光レンズの一部に設
けた参照面で反射させて形成する参照光束と該測定光束
とを干渉させて得られる該測定光束の波面情報より該被
検レンズの収差を測定するレンズ性能測定装置におい
て、集光レンズ計測手段が計測する該集光レンズの集光
点の位置情報と、球面ミラー計測手段が計測する該球面
ミラーの曲率中心の位置情報と、該波面情報より算出す
る該測定光束の波面の傾き成分とデフォーカス成分より
該被検レンズの収差を求めること等を特徴としている。
光レンズ設定手段によりその位置を設定した集光レンズ
を介して被検レンズの像面上の１点に集光し、該被検レ
ンズを透過して共役点に集光した後、球面ミラー設定手
段により該共役点に曲率中心を設定した球面ミラーで反
射させ、該被検レンズ及び該集光レンズを透過して測定
光束として該干渉計へ入射させ、該干渉計の光源より射
出する光束を該干渉計若しくは該集光レンズの一部に設
けた参照面で反射させて形成する参照光束と該測定光束
とを干渉させて得られる該測定光束の波面情報より該被
検レンズの収差を測定するレンズ性能測定装置におい
て、集光レンズ計測手段が計測する該集光レンズの集光
点の位置情報と、球面ミラー計測手段が計測する該球面
ミラーの曲率中心の位置情報と、該波面情報より算出す
る該測定光束の波面の傾き成分とデフォーカス成分より
該被検レンズの収差を求めること等を特徴としている。
【００２４】特に、 （１−２−１） 前記集光点の位置情報と、前記球面ミ
ラーの曲率中心の位置情報と、前記波面の傾き成分とデ
フォーカス成分より求める前記被検レンズの収差はディ
ストーション収差と像面弯曲収差である。 （１−２−２） 前記干渉計より射出する単色光の平行
光束を前記集光レンズを介して前記被検レンズの像面上
の１点に集光する際、該集光する光束の主光線の方向を
主光線合致手段により該集光点の位置に応じて調整す
る。こと等を特徴としている。
ラーの曲率中心の位置情報と、前記波面の傾き成分とデ
フォーカス成分より求める前記被検レンズの収差はディ
ストーション収差と像面弯曲収差である。 （１−２−２） 前記干渉計より射出する単色光の平行
光束を前記集光レンズを介して前記被検レンズの像面上
の１点に集光する際、該集光する光束の主光線の方向を
主光線合致手段により該集光点の位置に応じて調整す
る。こと等を特徴としている。
【００２５】
【発明の実施の形態】図１は本発明の実施形態１の要部
概略図である。図中5 は被検レンズ（結像レンズ）であ
る。28は被検レンズ5 の物体面、27は被検レンズ5 の像
面である。本実施形態は、被検レンズ5 が片テレセント
リックであるが両テレセントリックでも構わない。6 は
TSレンズ(Transmission Sphere Lens 、集光レンズ）で
あり、TSレンズ部8 内に設置している。TSレンズ6 の最
終面は参照面であり、入射光の一部を反射する。TSレン
ズ部8 はTS部駆動 Zステージ9 上に配置されており、TS
部駆動 Zステージ9 によりTSレンズ6 は Z方向に移動す
る。
概略図である。図中5 は被検レンズ（結像レンズ）であ
る。28は被検レンズ5 の物体面、27は被検レンズ5 の像
面である。本実施形態は、被検レンズ5 が片テレセント
リックであるが両テレセントリックでも構わない。6 は
TSレンズ(Transmission Sphere Lens 、集光レンズ）で
あり、TSレンズ部8 内に設置している。TSレンズ6 の最
終面は参照面であり、入射光の一部を反射する。TSレン
ズ部8 はTS部駆動 Zステージ9 上に配置されており、TS
部駆動 Zステージ9 によりTSレンズ6 は Z方向に移動す
る。
【００２６】7 はミラーであり、ミラー部29内に設置し
ている。ミラー部29及びTS部駆動 Zステージ9 はTS部駆
動 Xステージ10上に配置されており、TS部駆動 Xステー
ジ10により X方向へ移動する。
ている。ミラー部29及びTS部駆動 Zステージ9 はTS部駆
動 Xステージ10上に配置されており、TS部駆動 Xステー
ジ10により X方向へ移動する。
【００２７】30はミラーであり、ミラー30及びTS部駆動
Xステージ10はTS部駆動 Yステージ１１上に配置されて
おり、TS部駆動 Yステージ11により Y方向へ移動する。
なお、TS部駆動 Yステージ11は基盤12上に設置してい
る。なお、TS部駆動 Zステージ9 、TS部駆動 Xステージ
10、TS部駆動 Yステージ11等はTS部駆動ステージ（集光
レンズ設定手段）40の一要素を構成している。
Xステージ10はTS部駆動 Yステージ１１上に配置されて
おり、TS部駆動 Yステージ11により Y方向へ移動する。
なお、TS部駆動 Yステージ11は基盤12上に設置してい
る。なお、TS部駆動 Zステージ9 、TS部駆動 Xステージ
10、TS部駆動 Yステージ11等はTS部駆動ステージ（集光
レンズ設定手段）40の一要素を構成している。
【００２８】24，25，26は夫々TS部駆動 Yステージ11，
TS部駆動 Xステージ10，TS部駆動 Zステージの測距装置
であり、夫々集光レンズ計測手段の一要素を構成してお
り、TSレンズ6 の集光点である後側焦点FTS'の位置座標
(TSXi,TSYi,TSZi)を計測する。測距装置としては干渉測
長器、エンコーダ等が用いられる。なお、座標系TSX,TS
Y,TSZ の原点は被検レンズ5 の像面27が被検レンズ5 の
光軸と交わる点であり、TSZ 軸はこの光軸であり、TSX,
TSY 軸は像面27上に設定した直交する２直線である。
TS部駆動 Xステージ10，TS部駆動 Zステージの測距装置
であり、夫々集光レンズ計測手段の一要素を構成してお
り、TSレンズ6 の集光点である後側焦点FTS'の位置座標
(TSXi,TSYi,TSZi)を計測する。測距装置としては干渉測
長器、エンコーダ等が用いられる。なお、座標系TSX,TS
Y,TSZ の原点は被検レンズ5 の像面27が被検レンズ5 の
光軸と交わる点であり、TSZ 軸はこの光軸であり、TSX,
TSY 軸は像面27上に設定した直交する２直線である。
【００２９】4 はRSミラー(Reflectance Sphere Mirro
r、球面ミラー) であり、その凹面ミラーの曲率中心C
が被検レンズ5 の物体面28に略一致する位置に配置して
いる。RSミラー4 はRSミラー駆動 Zステージ3 上に配置
されており、RSミラー駆動 Zステージ3 により Z方向に
移動する。2 はRSミラー駆動 Xステージであり、RSミラ
ー駆動 Zステージ3 を X方向へ移動する。1 はRSミラー
駆動 Yステージであり、RSミラー駆動 Xステージ2 を Y
方向へ移動する。なお、RSミラー駆動 Zステージ3 、RS
ミラー駆動 Xステージ2 、RSミラー駆動 Yステージ1 等
はRSミラー駆動ステージ（球面ミラー設定手段）50の一
要素を構成している。RSミラー駆動ステージ50はTSレン
ズ6 の後側焦点FTS'の移動に対応してRSミラー4 を移動
する。
r、球面ミラー) であり、その凹面ミラーの曲率中心C
が被検レンズ5 の物体面28に略一致する位置に配置して
いる。RSミラー4 はRSミラー駆動 Zステージ3 上に配置
されており、RSミラー駆動 Zステージ3 により Z方向に
移動する。2 はRSミラー駆動 Xステージであり、RSミラ
ー駆動 Zステージ3 を X方向へ移動する。1 はRSミラー
駆動 Yステージであり、RSミラー駆動 Xステージ2 を Y
方向へ移動する。なお、RSミラー駆動 Zステージ3 、RS
ミラー駆動 Xステージ2 、RSミラー駆動 Yステージ1 等
はRSミラー駆動ステージ（球面ミラー設定手段）50の一
要素を構成している。RSミラー駆動ステージ50はTSレン
ズ6 の後側焦点FTS'の移動に対応してRSミラー4 を移動
する。
【００３０】21，22，23は夫々RSミラー駆動 Y,X,Zステ
ージ1,2,3 の測距装置であり、夫々球面ミラー計測手段
の一要素を構成しており、RSミラー4 の曲率中心C の位
置座標(RSXi,RSYi,RSZi)を計測する。31は固定ミラーで
あり、基盤12上に配置している。なお、座標系RSX,RSY,
RSZ の原点は被検レンズ5 の物体面28が被検レンズ5の
光軸と交わる点であり、RSZ 軸はこの光軸であり、RSX,
RSY 軸は物体面28上に設定した直交する２直線である。
なお、RSX 軸とTSX 軸、RSY 軸とTSY 軸とは夫々平行で
ある。
ージ1,2,3 の測距装置であり、夫々球面ミラー計測手段
の一要素を構成しており、RSミラー4 の曲率中心C の位
置座標(RSXi,RSYi,RSZi)を計測する。31は固定ミラーで
あり、基盤12上に配置している。なお、座標系RSX,RSY,
RSZ の原点は被検レンズ5 の物体面28が被検レンズ5の
光軸と交わる点であり、RSZ 軸はこの光軸であり、RSX,
RSY 軸は物体面28上に設定した直交する２直線である。
なお、RSX 軸とTSX 軸、RSY 軸とTSY 軸とは夫々平行で
ある。
【００３１】19は干渉計本体である。干渉計本体19中に
はレーザ光源101 、レンズ102 、コリメータレンズ103
、ビームスプリッタ104 、干渉光集光レンズ105 、カ
メラ106 等が設置されている。干渉計本体19の作用を説
明する。レーザ光源101 から射出するレーザビームはレ
ンズ102、コリメータレンズ103 によって大きいビーム径
の平行光束に変換され、ビームスプリッタ104 を透過し
て干渉計本体19から射出する。そしてこの光束はTSレン
ズ6 中の参照面及びRSミラー4 で反射して干渉光として
干渉計本体19のビームスプリッタ104 へ入射し、ハーフ
ミラー104aで反射して干渉光集光レンズ105 を介してカ
メラ106 の撮像面に干渉縞を形成する。カメラ106 は干
渉縞の画像情報をホストコンピュータ（演算手段）20へ
出力する。以上が干渉計本体19の作用である。
はレーザ光源101 、レンズ102 、コリメータレンズ103
、ビームスプリッタ104 、干渉光集光レンズ105 、カ
メラ106 等が設置されている。干渉計本体19の作用を説
明する。レーザ光源101 から射出するレーザビームはレ
ンズ102、コリメータレンズ103 によって大きいビーム径
の平行光束に変換され、ビームスプリッタ104 を透過し
て干渉計本体19から射出する。そしてこの光束はTSレン
ズ6 中の参照面及びRSミラー4 で反射して干渉光として
干渉計本体19のビームスプリッタ104 へ入射し、ハーフ
ミラー104aで反射して干渉光集光レンズ105 を介してカ
メラ106 の撮像面に干渉縞を形成する。カメラ106 は干
渉縞の画像情報をホストコンピュータ（演算手段）20へ
出力する。以上が干渉計本体19の作用である。
【００３２】この実施形態においては、干渉計本体19、
ミラー31、30、7 、TSレンズ6 等により所謂フィゾー型
干渉計を構成している。
ミラー31、30、7 、TSレンズ6 等により所謂フィゾー型
干渉計を構成している。
【００３３】本実施形態の光学的作用を説明する。干渉
計本体19から射出した単色光の平行光束は固定ミラー31
により図１の紙面奥方向へと反射される。その後、ミラ
ー30により再度反射されて紙面内左方へ進み、ミラー7
により反射されて、紙面内上方へ進み、TSレンズ6 に入
射する。TSレンズ6 を透過した光束は、TSレンズ6 の後
側焦点（集光点）FTS'に集光する。
計本体19から射出した単色光の平行光束は固定ミラー31
により図１の紙面奥方向へと反射される。その後、ミラ
ー30により再度反射されて紙面内左方へ進み、ミラー7
により反射されて、紙面内上方へ進み、TSレンズ6 に入
射する。TSレンズ6 を透過した光束は、TSレンズ6 の後
側焦点（集光点）FTS'に集光する。
【００３４】このTSレンズ6 の後側焦点FTS'はTS部駆動
ステージ40によって被検レンズ5 の像面27上の点Pi' に
ほぼ一致するように調整している。したがって、TSレン
ズ6の後側焦点FTS'（≒Pi' ）へ一旦集光した光束は被
検レンズ5 を透過して被検レンズ5 の物体面28上の共役
点Piに再度集光する。
ステージ40によって被検レンズ5 の像面27上の点Pi' に
ほぼ一致するように調整している。したがって、TSレン
ズ6の後側焦点FTS'（≒Pi' ）へ一旦集光した光束は被
検レンズ5 を透過して被検レンズ5 の物体面28上の共役
点Piに再度集光する。
【００３５】一方、RSミラー4 の曲率中心C はRSミラー
駆動ステージ50によって光束集光点Piにほぼ一致するよ
うに調整されている。そこで光束集光点Piに集光した光
束はRSミラー4 に入射し、ここで反射されて、ほぼ同一
の光路を戻り、被検レンズ5、TSレンズ6 を透過して被
検波（測定光束）として干渉計本体19へと入射する。一
方、TSレンズ6 へ入射した光束の一部はTSレンズ6 の参
照面により反射されて、ほぼ、同一の光路を戻って、参
照波（参照光束）として干渉計本体19へ入射する。
駆動ステージ50によって光束集光点Piにほぼ一致するよ
うに調整されている。そこで光束集光点Piに集光した光
束はRSミラー4 に入射し、ここで反射されて、ほぼ同一
の光路を戻り、被検レンズ5、TSレンズ6 を透過して被
検波（測定光束）として干渉計本体19へと入射する。一
方、TSレンズ6 へ入射した光束の一部はTSレンズ6 の参
照面により反射されて、ほぼ、同一の光路を戻って、参
照波（参照光束）として干渉計本体19へ入射する。
【００３６】その結果、干渉計本体19では測定光束の波
面と参照光束の波面の干渉により、被検レンズ5 の波面
収差を表わす干渉縞が発生し、カメラ106 によって干渉
縞の強度が検出される。
面と参照光束の波面の干渉により、被検レンズ5 の波面
収差を表わす干渉縞が発生し、カメラ106 によって干渉
縞の強度が検出される。
【００３７】この時、RSミラー4 はピエゾ素子等により
Z方向に微小量スキャンする。そして各スキャン位置で
の干渉縞の強度データーをカメラ106 により測光して、
ホストコンピューター20に転送し、干渉縞の各位置にお
ける位相データー（測定光束の波面情報）を演算により
求める。これによって本実施形態では、所謂フリンジス
キャン干渉法により干渉縞の位相計測を高精度に行うこ
とを可能としている。
Z方向に微小量スキャンする。そして各スキャン位置で
の干渉縞の強度データーをカメラ106 により測光して、
ホストコンピューター20に転送し、干渉縞の各位置にお
ける位相データー（測定光束の波面情報）を演算により
求める。これによって本実施形態では、所謂フリンジス
キャン干渉法により干渉縞の位相計測を高精度に行うこ
とを可能としている。
【００３８】ここで、TSレンズ部8 はTS部駆動ステージ
40により X,Y,Z方向に移動可能であるので、TSレンズ6
の後側焦点FTS'を被検レンズ5 の各画面位置及び任意の
デフォーカス位置に設定できる構成となっている。そし
てTSレンズ部8 の移動・設定と同時にRSミラー4 もRSミ
ラー駆動ステージ50により、TSレンズ6 の後側焦点位置
FTS'（≒被検レンズの像点位置Pi' ）の被検レンズ5 に
よる共役点Piの位置へその曲率中心C が一致するように
移動する。この結果、被検レンズ5 の画角内の各画面位
置及び任意のデフォーカス位置においてほぼワンカラー
に近い状態で透過波面を計測することができる。
40により X,Y,Z方向に移動可能であるので、TSレンズ6
の後側焦点FTS'を被検レンズ5 の各画面位置及び任意の
デフォーカス位置に設定できる構成となっている。そし
てTSレンズ部8 の移動・設定と同時にRSミラー4 もRSミ
ラー駆動ステージ50により、TSレンズ6 の後側焦点位置
FTS'（≒被検レンズの像点位置Pi' ）の被検レンズ5 に
よる共役点Piの位置へその曲率中心C が一致するように
移動する。この結果、被検レンズ5 の画角内の各画面位
置及び任意のデフォーカス位置においてほぼワンカラー
に近い状態で透過波面を計測することができる。
【００３９】この時、同時に測距装置24，25，26により
透過波面計測時のTSレンズの後側焦点（集光点）FTS'の
位置座標(TSXi,TSYi,TSZi)を、又測距装置21，22，23に
よりRSミラー4 の曲率中心C の位置座標(RSXi,RSYi,RSZ
i)を計測する。
透過波面計測時のTSレンズの後側焦点（集光点）FTS'の
位置座標(TSXi,TSYi,TSZi)を、又測距装置21，22，23に
よりRSミラー4 の曲率中心C の位置座標(RSXi,RSYi,RSZ
i)を計測する。
【００４０】図２は実施形態１によるディストーション
及び像面湾曲の測定のフローチャートである。これにつ
いて説明する。
及び像面湾曲の測定のフローチャートである。これにつ
いて説明する。
【００４１】ステップ201 ：第１の測定点P1,P1'へTSレ
ンズ6 及びRSミラー4 を移動する。このとき、TSレンズ
6 の後側焦点FTS'とRSミラー4 の曲率中心C はほぼ共役
関係を満たすようにTS部駆動ステージ40及びRSミラー駆
動ステージ50を駆動する。
ンズ6 及びRSミラー4 を移動する。このとき、TSレンズ
6 の後側焦点FTS'とRSミラー4 の曲率中心C はほぼ共役
関係を満たすようにTS部駆動ステージ40及びRSミラー駆
動ステージ50を駆動する。
【００４２】ステップ202 ：この測定点Piにおいて前記
のフリンジスキャン干渉法により測定光束の波面の計測
を行う。
のフリンジスキャン干渉法により測定光束の波面の計測
を行う。
【００４３】ステップ203 ：同時に、TSレンズ6 の後側
焦点FTS'とRSミラー4 の曲率中心Cの位置座標を計測す
る。この位置座標の計測方法としては、測定に先立って
適切なミラー等を利用して各Z ステージの座標測定点か
ら後側焦点FTS'若しくは曲率中心C までの距離、各Y ス
テージの座標測定点から各Z ステージの座標測定点まで
の距離、各X ステージの座標測定点から各Y ステージの
座標測定点までの距離を計測しておき、さらに、組立時
に測定された各ステージの動作誤差を補正すればよい。
動作誤差としては、例えば、各ステージのヨーイング、
ピッチング、ローリング等を事前に計測しておき各X,Y,
Z ステージの実際の計測位置とTSレンズ6 の後側焦点位
置FTS'若しくはRSミラー4 の曲率中心位置C との距離か
ら補正量を計算すればよい。また、補正量が小さかった
り、測定精度があまり厳しくない場合は、補正する必要
はない。
焦点FTS'とRSミラー4 の曲率中心Cの位置座標を計測す
る。この位置座標の計測方法としては、測定に先立って
適切なミラー等を利用して各Z ステージの座標測定点か
ら後側焦点FTS'若しくは曲率中心C までの距離、各Y ス
テージの座標測定点から各Z ステージの座標測定点まで
の距離、各X ステージの座標測定点から各Y ステージの
座標測定点までの距離を計測しておき、さらに、組立時
に測定された各ステージの動作誤差を補正すればよい。
動作誤差としては、例えば、各ステージのヨーイング、
ピッチング、ローリング等を事前に計測しておき各X,Y,
Z ステージの実際の計測位置とTSレンズ6 の後側焦点位
置FTS'若しくはRSミラー4 の曲率中心位置C との距離か
ら補正量を計算すればよい。また、補正量が小さかった
り、測定精度があまり厳しくない場合は、補正する必要
はない。
【００４４】ステップ204 ：次に、測定波面に含まれる
波面のティルト成分（波面の傾き成分）、デフォーカス
成分を計算する。ティルト、デフォーカス成分の計算方
法としては、例えば、測定波面データーを zernike関数
等で最小自乗法等によりフィッティングすることにより
求めることができる。
波面のティルト成分（波面の傾き成分）、デフォーカス
成分を計算する。ティルト、デフォーカス成分の計算方
法としては、例えば、測定波面データーを zernike関数
等で最小自乗法等によりフィッティングすることにより
求めることができる。
【００４５】ここで、波面のティルト成分はX,Y 方向に
ついて求め、夫々TiltXiは測定波面から得られた X方向
のティルト成分、TiltYiは測定波面から得られた Y方向
のティルト成分、とする。
ついて求め、夫々TiltXiは測定波面から得られた X方向
のティルト成分、TiltYiは測定波面から得られた Y方向
のティルト成分、とする。
【００４６】又、DZ0(X,Y)は点Pi' (X,Y) における測定
波面のデフォーカス成分とする。なお、測定波面からデ
フォーカス成分を求める方法としては、例えば、測定波
面にデフォーカス成分に相当する球面成分を付与し、各
デフォーカス状態における波面を用いて、物理光学的な
演算上より得られたコントラスト値から、最もコントラ
ストのよいデフォーカス位置を点(X,Y) における像点と
すればよい。
波面のデフォーカス成分とする。なお、測定波面からデ
フォーカス成分を求める方法としては、例えば、測定波
面にデフォーカス成分に相当する球面成分を付与し、各
デフォーカス状態における波面を用いて、物理光学的な
演算上より得られたコントラスト値から、最もコントラ
ストのよいデフォーカス位置を点(X,Y) における像点と
すればよい。
【００４７】ステップ205 ：測定されたTSレンズ6 の後
側焦点FTS'の位置、RSミラー4 の曲率中心C の位置及び
ステップ204 で得られた測定波面のティルト成分から次
式により理想結像位置と実際の結像位置との X方向及び
Y方向の誤差量(DXi,DYi)、即ち、ディストーションを
計算する。
側焦点FTS'の位置、RSミラー4 の曲率中心C の位置及び
ステップ204 で得られた測定波面のティルト成分から次
式により理想結像位置と実際の結像位置との X方向及び
Y方向の誤差量(DXi,DYi)、即ち、ディストーションを
計算する。
【００４８】 DXi = TSXi -β・RSXi +ΔTSXi ・・・・・(3) DYi = TSYi -β・RSYi +ΔTSYi ・・・・・(4) （但し、TSXi,TSYi は、 i番目の測定位置におけるTSレ
ンズ6 の後側焦点FTS'のX座標、Y座標の測定値、 RSXi,RSYi は、 i番目の測定位置におけるRSミラー4 の
曲率中心C のX座標、Y座標の測定値、 ΔTSXi, ΔTSYiは、ステップ204 で得られた測定波面の
X,Y方向のティルト成分から得られるTSレンズ6 の位置
座標の補正量で次式により与えられる。
ンズ6 の後側焦点FTS'のX座標、Y座標の測定値、 RSXi,RSYi は、 i番目の測定位置におけるRSミラー4 の
曲率中心C のX座標、Y座標の測定値、 ΔTSXi, ΔTSYiは、ステップ204 で得られた測定波面の
X,Y方向のティルト成分から得られるTSレンズ6 の位置
座標の補正量で次式により与えられる。
【００４９】ΔTSXi = -TiltXi・ λ/NA/2 ・・・・・(5) ΔTSYi = -TiltYi・ λ/NA/2 ・・・・・(6) ここで、λは波長、NAは被検レンズ5 の像面側（TSレン
ズ6 側）の開口数、i は測定点の位置を示す番号、βは
被検レンズ5 の理想結像倍率である。）ステップ206 ：各測定位置におけるベストフォーカス位
置を求める。TSレンズ6 の後側焦点FTS'及びRSミラー4
の曲率中心C の Z座標TSZi及びRSZiとステップ204 で得
られたこの測定位置Pi' における測定波面のデフォーカ
ス成分(DZ0i)から以下のようにして各測定点におけるベ
ストフォーカス位置（最良像面位置）DZi を計算する。
ズ6 側）の開口数、i は測定点の位置を示す番号、βは
被検レンズ5 の理想結像倍率である。）ステップ206 ：各測定位置におけるベストフォーカス位
置を求める。TSレンズ6 の後側焦点FTS'及びRSミラー4
の曲率中心C の Z座標TSZi及びRSZiとステップ204 で得
られたこの測定位置Pi' における測定波面のデフォーカ
ス成分(DZ0i)から以下のようにして各測定点におけるベ
ストフォーカス位置（最良像面位置）DZi を計算する。
【００５０】 DZi=(TSZi-TSZ0)+β2・(RSZi-RSZ0)+(DZ0i-DZ00) ・・・・・・・(7) （但し、DZ00は像側の原点(0,0) における透過波面から
得られたデフォーカス成分、TSZi, RSZiは夫々点Pi' に
おけるTSレンズ6 の後側焦点FTS'及び点PiにおけるRSミ
ラー4 の曲率中心C の位置座標の計測値、TSZ0,RSZ0 は
夫々の原点(0,0) におけるTSレンズ6 の後側焦点FTS'及
びRSミラー4 の曲率中心C の位置座標の計測値であ
る。） 以上で、i 番目の測定点における測定は終了する。
得られたデフォーカス成分、TSZi, RSZiは夫々点Pi' に
おけるTSレンズ6 の後側焦点FTS'及び点PiにおけるRSミ
ラー4 の曲率中心C の位置座標の計測値、TSZ0,RSZ0 は
夫々の原点(0,0) におけるTSレンズ6 の後側焦点FTS'及
びRSミラー4 の曲率中心C の位置座標の計測値であ
る。） 以上で、i 番目の測定点における測定は終了する。
【００５１】ステップ207 ：測定点すべての測定が終了
したか否かを判断し、終わっていなければステップ208
へ、すべて終了したならばステップ209 へ進む。
したか否かを判断し、終わっていなければステップ208
へ、すべて終了したならばステップ209 へ進む。
【００５２】ステップ208 ：次の測定位置へTSレンズ6
及びRSミラー4 を移動する。そして、再度、ステップ20
2 からステップ207 の処理を実行する。
及びRSミラー4 を移動する。そして、再度、ステップ20
2 からステップ207 の処理を実行する。
【００５３】ステップ209 ：最後の測定位置における測
定が終了すると各測定位置においてディストーション(D
Xi,DYi) が得られているので、被検レンズ5 の画角内に
おけるディストーション収差の値が得られたことにな
る。
定が終了すると各測定位置においてディストーション(D
Xi,DYi) が得られているので、被検レンズ5 の画角内に
おけるディストーション収差の値が得られたことにな
る。
【００５４】又、各測定位置においてベストフォーカス
位置を求めているので、これを例えば光軸から像点まで
の高さに対して整理すれば被検レンズ5 の画角内におけ
る像面湾曲収差の値を得ることができる。
位置を求めているので、これを例えば光軸から像点まで
の高さに対して整理すれば被検レンズ5 の画角内におけ
る像面湾曲収差の値を得ることができる。
【００５５】以上の様にして、透過波面の計測値から被
検レンズ5 の画面内におけるディストーション収差及び
像面湾曲収差が得られる。
検レンズ5 の画面内におけるディストーション収差及び
像面湾曲収差が得られる。
【００５６】なお、本実施形態では参照面が集光レンズ
の最終面であったが、参照面はここに限るものでは無
く、干渉計の光学要素の一部に設けて参照光束を得るこ
ともできる。
の最終面であったが、参照面はここに限るものでは無
く、干渉計の光学要素の一部に設けて参照光束を得るこ
ともできる。
【００５７】図３は本発明の実施形態２の要部概略図で
ある。実施形態１は、被検レンズの対象としては両テレ
セントリック或いは片テレセントリックのレンズに限定
していたが、本実施形態は、テレセントリックでない結
像レンズのディストーション収差及び像面湾曲収差の測
定を可能とするものである。
ある。実施形態１は、被検レンズの対象としては両テレ
セントリック或いは片テレセントリックのレンズに限定
していたが、本実施形態は、テレセントリックでない結
像レンズのディストーション収差及び像面湾曲収差の測
定を可能とするものである。
【００５８】本実施形態においては、TSレンズ部8 の
X,Y方向の移動に伴い、TSレンズ6 、ミラー7 及びミラ
ー30の光軸をTSレンズ回転駆動部301 、ミラー7 回転駆
動部302 及びミラー30回転駆動部303 により傾ける。な
お、TSレンズ回転駆動部301 、ミラー7 回転駆動部302
、ミラー30回転駆動部303 等は主光線合致手段の一要
素を構成している。つまり、被検レンズ5 の像点Pi'(X,
Y)の位置に応じてTSレンズ6 、ミラー7 及びミラー30を
傾けてTSレンズ6 からの集光光束の主光線である光軸O
TS の方向を調整し、これと像点Pi' (X,Y) における被
検レンズ5 の主光線35の方向を一致させる（主光線35の
方向は被検レンズ5 の構成データより算出する）。さら
に、主光線35が傾いていることを考慮して、TS部駆動ス
テージ40の位置計測値に補正を加える。
X,Y方向の移動に伴い、TSレンズ6 、ミラー7 及びミラ
ー30の光軸をTSレンズ回転駆動部301 、ミラー7 回転駆
動部302 及びミラー30回転駆動部303 により傾ける。な
お、TSレンズ回転駆動部301 、ミラー7 回転駆動部302
、ミラー30回転駆動部303 等は主光線合致手段の一要
素を構成している。つまり、被検レンズ5 の像点Pi'(X,
Y)の位置に応じてTSレンズ6 、ミラー7 及びミラー30を
傾けてTSレンズ6 からの集光光束の主光線である光軸O
TS の方向を調整し、これと像点Pi' (X,Y) における被
検レンズ5 の主光線35の方向を一致させる（主光線35の
方向は被検レンズ5 の構成データより算出する）。さら
に、主光線35が傾いていることを考慮して、TS部駆動ス
テージ40の位置計測値に補正を加える。
【００５９】以上により、被検レンズ5 がテレセントリ
ックでない場合でも画面内の任意の点における波面測定
が可能となり、その結果、ディストーション収差、像面
湾曲収差の測定が容易に行える。
ックでない場合でも画面内の任意の点における波面測定
が可能となり、その結果、ディストーション収差、像面
湾曲収差の測定が容易に行える。
【００６０】図４は実施形態３の測定フローチャートの
一部である。実施形態１においては各測定位置での像点
の決定をコントラスト計算により求めていたが、本実施
形態では像点の決定を波面フィッティングにより行う点
が異なっており、その他の構成は同じである。
一部である。実施形態１においては各測定位置での像点
の決定をコントラスト計算により求めていたが、本実施
形態では像点の決定を波面フィッティングにより行う点
が異なっており、その他の構成は同じである。
【００６１】具体的には、ステップ41 ：測定波面をまず zernike関数によりフィッ
ティングする。
ティングする。
【００６２】続いて像点の定義をベストフォーカスとす
る場合には、ステップ42へ進み、得られた zernike係数
の低次成分（例えば、2 次以下）でデフォーカス成分を
計算して像点を算出する。
る場合には、ステップ42へ進み、得られた zernike係数
の低次成分（例えば、2 次以下）でデフォーカス成分を
計算して像点を算出する。
【００６３】又、像点の定義を近軸像点とする場合には
ステップ43へ進み、得られた zernike係数の高次成分も
含めて（例えば、10次以下）デフォーカス成分を計算し
て像点を算出する。
ステップ43へ進み、得られた zernike係数の高次成分も
含めて（例えば、10次以下）デフォーカス成分を計算し
て像点を算出する。
【００６４】この方法による像点決定の良い点は、実施
形態１のコントラスト計算による方法に比べて、演算時
間の短縮が図られること及び１回の zernikeフィッティ
ングにより近軸像点又は／及び最良像点（ベストフォー
カス）を得ることができる点である。
形態１のコントラスト計算による方法に比べて、演算時
間の短縮が図られること及び１回の zernikeフィッティ
ングにより近軸像点又は／及び最良像点（ベストフォー
カス）を得ることができる点である。
【００６５】図５は本発明の実施形態４のフローチャー
トである。本実施形態は、TS部駆動ステージ40及びRSミ
ラー駆動ステージ50に組立上の誤差、特に、傾斜成分
（例えばZ 移動方向に対してXY平面が傾いている場合）
があってもその影響を受けずに像面湾曲測定を可能にす
るものである。
トである。本実施形態は、TS部駆動ステージ40及びRSミ
ラー駆動ステージ50に組立上の誤差、特に、傾斜成分
（例えばZ 移動方向に対してXY平面が傾いている場合）
があってもその影響を受けずに像面湾曲測定を可能にす
るものである。
【００６６】ステップ51：まず、図１において、被検レ
ンズ5 をTSレンズ6 に対してある設定状態（以下、これ
を第１の状態と呼び、下付字 Aを付けて区別する）で波
面測定する。
ンズ5 をTSレンズ6 に対してある設定状態（以下、これ
を第１の状態と呼び、下付字 Aを付けて区別する）で波
面測定する。
【００６７】ステップ52：この波面を zernike関数によ
りフィッティングする。このときの結果を、 W(r,θ) = CA[1]+CA[2]・r・cos θ+ ・・・・・ (8) （ここでW(r,θ) は瞳の極座標 (r,θ) における波面収
差量、CA[i] は第１の状態における i項目の zernike係
数を示す。）とする。
りフィッティングする。このときの結果を、 W(r,θ) = CA[1]+CA[2]・r・cos θ+ ・・・・・ (8) （ここでW(r,θ) は瞳の極座標 (r,θ) における波面収
差量、CA[i] は第１の状態における i項目の zernike係
数を示す。）とする。
【００６８】ステップ53：次に、被検レンズ5 をその光
軸を回転軸として、角度φだけ回転した状態で波面を測
定する。これを第２の状態と呼び、下付字 Bを付けて区
別する。
軸を回転軸として、角度φだけ回転した状態で波面を測
定する。これを第２の状態と呼び、下付字 Bを付けて区
別する。
【００６９】ステップ54：同様にして、 zernike関数に
よりフィッティングする。このときの結果を、 W(r,θ) = CB[1]+CB[2]・r・cos θ+ ・・・・・ (9) （ここでW(r,θ) は瞳の極座標 (r,θ) における波面収
差量、CB[i] は第２の状態における i項目の zernike係
数を示す。）とする。
よりフィッティングする。このときの結果を、 W(r,θ) = CB[1]+CB[2]・r・cos θ+ ・・・・・ (9) （ここでW(r,θ) は瞳の極座標 (r,θ) における波面収
差量、CB[i] は第２の状態における i項目の zernike係
数を示す。）とする。
【００７０】ステップ55：そして、以下のようにして、
ステージの傾斜成分(CSj[i]:i は zernikeの項番号，ｊ
=1又は2 はレンズのセッティング状態を示す記号）を求
める。第１の状態及び第２の状態におけるステージの傾
斜成分による zernike係数（これは”集光レンズ設定手
段と球面ミラー設定手段の傾きエラー”である。これ
を”設定手段の傾きエラー”と呼ぶこととする）はC
SA[i],CSB[i] であり、ステージの傾斜成分以外の zern
ike係数、即ちレンズ成分の zernike係数をCL[i] とす
れば、 CA[i] = CL[i]+CSA[i] ・・・・・(10) CB[i] = CL[i]+CSB[i] ・・・・・(11) したがって、(10)-(11) から CSA[i]-CSB[i] = CA[i]-CB[i] ・・・・・・(12) 一方、ステージの傾斜成分を平面式を用いて表せば次式
のようになる。
ステージの傾斜成分(CSj[i]:i は zernikeの項番号，ｊ
=1又は2 はレンズのセッティング状態を示す記号）を求
める。第１の状態及び第２の状態におけるステージの傾
斜成分による zernike係数（これは”集光レンズ設定手
段と球面ミラー設定手段の傾きエラー”である。これ
を”設定手段の傾きエラー”と呼ぶこととする）はC
SA[i],CSB[i] であり、ステージの傾斜成分以外の zern
ike係数、即ちレンズ成分の zernike係数をCL[i] とす
れば、 CA[i] = CL[i]+CSA[i] ・・・・・(10) CB[i] = CL[i]+CSB[i] ・・・・・(11) したがって、(10)-(11) から CSA[i]-CSB[i] = CA[i]-CB[i] ・・・・・・(12) 一方、ステージの傾斜成分を平面式を用いて表せば次式
のようになる。
【００７１】Z = a・X+b・Y ・・・・・・(13) ここで、第１の状態における測定位置が(XA,YA) である
とき、第２の状態におけるこれに対応する測定位置(XB,
YB) は、 XB = XA・cosφ- YA・sinφ ・・・・・・(14) YB = XA・sinφ+ YA・cosφ ・・・・・・(15) となる。従って、第１の状態における点(XA,YA) 及び第
２の状態における点(XB,YB) でのステージデフォーカス
量をZA,ZB とすれば、 ZA = a・XA+b・YA ・・・・・・(16) ZB = a・XB+b・YB ・・・・・・(17) 式(14),(15) を式(17)に代入して式(16)と辺々で割れ
ば、 ZA/ZB=(a・XA+b・YA)/ {(a・cosφ+b・sinφ)・ XA+(b・cosφ-a・sinφ)・YA} = Kとおく。 ・・・・・・(18) ここで、 zernike係数の対称成分に関しては、ZA/ZB=C
SA[i]/CSB[i] であることを利用し、式(12),(18) を用
いてCSA[i]について解けば、 CSA[i] = K/(K-1)・(CA[i]-CB[i]) ・・・・(19) となり、式(19)によってステージの傾斜成分の zernike
係数（設定手段の傾きエラー）CSA[i]が求まる。
とき、第２の状態におけるこれに対応する測定位置(XB,
YB) は、 XB = XA・cosφ- YA・sinφ ・・・・・・(14) YB = XA・sinφ+ YA・cosφ ・・・・・・(15) となる。従って、第１の状態における点(XA,YA) 及び第
２の状態における点(XB,YB) でのステージデフォーカス
量をZA,ZB とすれば、 ZA = a・XA+b・YA ・・・・・・(16) ZB = a・XB+b・YB ・・・・・・(17) 式(14),(15) を式(17)に代入して式(16)と辺々で割れ
ば、 ZA/ZB=(a・XA+b・YA)/ {(a・cosφ+b・sinφ)・ XA+(b・cosφ-a・sinφ)・YA} = Kとおく。 ・・・・・・(18) ここで、 zernike係数の対称成分に関しては、ZA/ZB=C
SA[i]/CSB[i] であることを利用し、式(12),(18) を用
いてCSA[i]について解けば、 CSA[i] = K/(K-1)・(CA[i]-CB[i]) ・・・・(19) となり、式(19)によってステージの傾斜成分の zernike
係数（設定手段の傾きエラー）CSA[i]が求まる。
【００７２】ステップ56：さらに、(19)式を(10)式に代
入すればレンズ成分の zernike係数CL[i] が次式により
求まる。
入すればレンズ成分の zernike係数CL[i] が次式により
求まる。
【００７３】 CL[i] = CA[i]-K/(K-1)・(CA[i]-CB[i]) ・・・・・・(20)ステップ57 ： 得られたレンズ成分の zernike係数CL
[i] を用いて実施形態３で説明した方法によりデフォー
カス成分を求めて像点を算出する。
[i] を用いて実施形態３で説明した方法によりデフォー
カス成分を求めて像点を算出する。
【００７４】以上により１つの測定が終了する。
【００７５】なお、本実施形態において第２の状態を設
定する際の回転角φを 180°とすれば、K=-1となり、以
下の様な簡単な式でレンズ成分の zernike係数CL[i] 及
びステージの傾斜成分の zernike係数CSA[i]を求めるこ
とができる。
定する際の回転角φを 180°とすれば、K=-1となり、以
下の様な簡単な式でレンズ成分の zernike係数CL[i] 及
びステージの傾斜成分の zernike係数CSA[i]を求めるこ
とができる。
【００７６】 (20) → CL[i] = (CA[i]+CB[i])/2 ・・・・・・(21) (19) → CSA[i] = (CA[i]-CB[i])/2 ・・・・・・(22) 本実施形態では以上のようにして、ステージの傾斜成分
の誤差を排除してレンズ成分のみの zernike係数CL[i]
を得ることができ、この結果を用いて Z方向の像点位置
を求めることができ、被検レンズの像面湾曲収差を求め
ることができる。
の誤差を排除してレンズ成分のみの zernike係数CL[i]
を得ることができ、この結果を用いて Z方向の像点位置
を求めることができ、被検レンズの像面湾曲収差を求め
ることができる。
【００７７】更に、本実施形態では以下の手順にすれば
測定工数を減少することができる。
測定工数を減少することができる。
【００７８】先ずシステムエラー測定レンズを用いてシ
ステムエラーである設定手段の傾きエラーCSA[i]を求め
る。任意のレンズをシステムエラー測定レンズに選び、
これを該集光レンズに対して第１の状態に設定し、集光
レンズをこのレンズの像面上の各測定点に移動し、夫々
の測定点における波面情報を入手し、次いでシステムエ
ラー測定レンズをその光軸を回転軸として回転して第２
の状態に設定して同様に各測定点における波面情報を入
手し、該第１の状態の波面情報より得る各測定点の zer
nike係数と該第２の状態の波面情報より得る各測定点の
zernike係数より各測定点のステージの傾斜成分の zer
nike係数（設定手段の傾きエラー）CSA[i]を求め、記憶
しておく。
ステムエラーである設定手段の傾きエラーCSA[i]を求め
る。任意のレンズをシステムエラー測定レンズに選び、
これを該集光レンズに対して第１の状態に設定し、集光
レンズをこのレンズの像面上の各測定点に移動し、夫々
の測定点における波面情報を入手し、次いでシステムエ
ラー測定レンズをその光軸を回転軸として回転して第２
の状態に設定して同様に各測定点における波面情報を入
手し、該第１の状態の波面情報より得る各測定点の zer
nike係数と該第２の状態の波面情報より得る各測定点の
zernike係数より各測定点のステージの傾斜成分の zer
nike係数（設定手段の傾きエラー）CSA[i]を求め、記憶
しておく。
【００７９】次いで被検レンズ5 の測定の際は、集光レ
ンズの集光点をシステムエラー測定レンズの測定点と同
じ点に設定して得た波面情報より得る各測定点の zerni
ke係数から各測定点のステージの傾斜成分の zernike係
数CSA[i]を減算すれば直ちに各測定点のレンズ成分の z
ernike係数CL[i] が得られることになり、測定は１つの
状態のみで済み、２つの状態の測定は不必要となる。
ンズの集光点をシステムエラー測定レンズの測定点と同
じ点に設定して得た波面情報より得る各測定点の zerni
ke係数から各測定点のステージの傾斜成分の zernike係
数CSA[i]を減算すれば直ちに各測定点のレンズ成分の z
ernike係数CL[i] が得られることになり、測定は１つの
状態のみで済み、２つの状態の測定は不必要となる。
【００８０】例えば、最初の測定で得られたステージの
傾斜成分の zernike係数CSA[i]を記憶させておき、被検
レンズ5 の測定においては第１の状態での zernike係数
（ステップ52の結果）CA[i] から (10) → CL[i] =CA[i]-CSA[i] と減算することにより、第２の状態の測定を行わなくて
もステージの傾斜成分の誤差を排除した被検レンズ5 の
レンズ成分の zernike係数CL[i] が得られ、これを用い
て各測定点のデフォーカス成分を算出し、像点を算出す
ることができる。
傾斜成分の zernike係数CSA[i]を記憶させておき、被検
レンズ5 の測定においては第１の状態での zernike係数
（ステップ52の結果）CA[i] から (10) → CL[i] =CA[i]-CSA[i] と減算することにより、第２の状態の測定を行わなくて
もステージの傾斜成分の誤差を排除した被検レンズ5 の
レンズ成分の zernike係数CL[i] が得られ、これを用い
て各測定点のデフォーカス成分を算出し、像点を算出す
ることができる。
【００８１】また、本実施形態では、測定波面をフィッ
ティングした結果である zernike係数を用いてステージ
の傾斜成分の除去を行ったが、 zernike係数を用いない
で測定波面自体で行ってもかまわない。
ティングした結果である zernike係数を用いてステージ
の傾斜成分の除去を行ったが、 zernike係数を用いない
で測定波面自体で行ってもかまわない。
【００８２】
【発明の効果】本発明は以上の構成により、被検レンズ
の透過波面及び透過波面測定時の物点及び像点の位置に
相当するTSレンズ及び反射球面ミラーの位置座標を計測
することにより、従来のような複雑な複数回の処理を必
要とせず、容易に、被検レンズのディストーション収差
及び像面湾曲収差の値を得ることができるレンズ性能測
定方法及びそれを用いたレンズ性能測定装置を達成す
る。
の透過波面及び透過波面測定時の物点及び像点の位置に
相当するTSレンズ及び反射球面ミラーの位置座標を計測
することにより、従来のような複雑な複数回の処理を必
要とせず、容易に、被検レンズのディストーション収差
及び像面湾曲収差の値を得ることができるレンズ性能測
定方法及びそれを用いたレンズ性能測定装置を達成す
る。
【図１】 本発明の実施形態１の要部概略図
【図２】 本発明の実施形態１の測定フローチャート
【図３】 本発明の実施形態２の要部概略図
【図４】 本発明の実施形態３の測定フローチャートの
一部
一部
【図５】 本発明の実施形態４の測定フローチャートの
一部
一部
【図６】 従来の像面湾曲及び収差測定の説明図
【図７】 従来のディストーション測定のフローチャー
ト
ト
【図８】 従来の像面湾曲測定のフローチャート
１ RSミラー駆動 Yステージ ２ RSミラー駆動 Xステージ ３ RSミラー駆動 Zステージ ４ RSミラー ５ 被検レンズ ６ TSレンズ ７ ミラー ８ TSレンズ部 ９ TSレンズ部駆動 Yステージ １０ TSレンズ部駆動 Xステージ １１ TSレンズ部駆動 Zステージ １２ 基盤 １３ TS・Yステージ制御ライン １４ TS・Xステージ制御ライン １５ TS・Zステージ制御ライン １６ RS・Yステージ制御ライン １７ RS・Xステージ制御ライン １８ RS・Zステージ制御ライン １９ 干渉計本体 ２０ ホストコンピューター ２１ RSミラー駆動 Yステージの測距装置 ２２ RSミラー駆動 Xステージの測距装置 ２３ RSミラー駆動 Zステージの測距装置 ２４ TS部駆動 Yステージの測距装置 ２５ TS部駆動 Xステージの測距装置 ２６ TS部駆動 Zステージの測距装置 ２７ 被検レンズ5 の像面 ２８ 被検レンズ5 の物体面 ２９ ミラー部 ３０ ミラー ３１ 固定ミラー ３５ 主光線 ４０ TS部駆動ステージ ５０ RSミラー駆動ステージ １０１ レーザ光源 １０２ 集光レンズ １０３ コリメータレンズ １０４ ビームスプリッタ １０５ 干渉光集光レンズ １０６ カメラ ３０１ ミラー7 回転駆動部 ３０２ ミラー30回転駆動部 ３０３ TSレンズ回転駆動部 ６１ 基準パターン ６２ レチクル ６３ 感光体 ６４ ３軸ステージ
Claims (12)
- 【請求項１】 干渉計より射出する単色光の平行光束を
集光レンズ設定手段によりその位置を設定した集光レン
ズを介して被検レンズの像面上の１点に集光し、該被検
レンズを透過して共役点に集光した後、球面ミラー設定
手段により該共役点に曲率中心を設定した球面ミラーで
反射させ、該被検レンズ及び該集光レンズを透過して測
定光束として該干渉計へ入射させ、該干渉計の光源より
射出する光束を該干渉計若しくは該集光レンズの一部に
設けた参照面で反射させて形成する参照光束と該測定光
束とを干渉させて得られる該測定光束の波面情報より該
被検レンズの収差を測定する際、 集光レンズ計測手段が計測する該集光レンズの集光点の
位置情報と、球面ミラー計測手段が計測する該球面ミラ
ーの曲率中心の位置情報と、該波面情報より求める波面
の傾き成分とデフォーカス成分より該被検レンズの収差
を求めることを特徴とするレンズ性能測定方法。 - 【請求項２】 前記集光点の位置情報と、前記球面ミラ
ーの曲率中心の位置情報と、前記波面の傾き成分とデフ
ォーカス成分より求める前記被検レンズの収差はディス
トーション収差と像面弯曲収差であることを特徴とする
請求項１のレンズ性能測定方法。 - 【請求項３】 前記干渉計より射出する単色光の平行光
束を前記集光レンズを介して前記被検レンズの像面上の
１点に集光する際、 該集光する光束の主光線の方向を主光線合致手段により
該集光点の位置に応じて調整することを特徴とする請求
項１又は２のレンズ性能測定方法。 - 【請求項４】 前記波面の傾き成分は前記波面情報より
得られる zernike係数より求めることを特徴とする請求
項１、２又は３のレンズ性能測定方法。 - 【請求項５】 前記波面のデフォーカス成分は前記波面
情報より得られる zernike係数より求めることを特徴と
する請求項１〜４のいずれか１項に記載のレンズ性能測
定方法。 - 【請求項６】 前記被検レンズを前記集光レンズに対し
て第１の状態に設定して波面情報を入手し、次いで該被
検レンズをその光軸を回転軸として回転して該集光レン
ズに対して該第１の状態と異なる相対位置の第２の状態
に設定して波面情報を入手し、 該第１の状態の波面情報より得る zernike係数と該第２
の状態の波面情報より得る zernike係数とから得られる
レンズ成分の zernike係数を用いて前記波面のデフォー
カス成分を求めることを特徴とする請求項１〜４のいず
れか１項に記載のレンズ性能測定方法。 - 【請求項７】 最初にシステムエラー測定レンズを第１
の状態に設定し、前記集光レンズの集光点を該システム
エラー測定レンズの像面上の複数の測定点に設定して波
面情報を入手し、次いで該システムエラー測定レンズを
その光軸を回転軸として回転して該第１の状態と異なる
相対位置の第２の状態に設定し、 該集光レンズの集光点を該第１の状態で測定した複数の
測定点に設定して波面情報を入手し、該第１の状態の波
面情報より得る zernike係数と該第２の状態の波面情報
より得る zernike係数とから各測定点の設定手段の傾き
エラーを求めて記憶しておき、 前記被検レンズの測定の際は、該集光レンズの集光点を
該システムエラー測定レンズの測定点と同じ測定点に設
定して得た波面情報より得る各測定点の zernike係数か
ら各測定点の設定手段の傾きエラーを減算して得るレン
ズ成分の zernike係数を用いて前記波面のデフォーカス
成分を求めることを特徴とする請求項１〜４のいずれか
１項に記載のレンズ性能測定方法。 - 【請求項８】 前記被検レンズを前記集光レンズに対し
て第１の状態に設定して波面情報を入手し、次いで該被
検レンズをその光軸を回転軸として１８０度回転して第
２の状態に設定して波面情報を入手し、該第１の状態の
波面情報より得る zernike係数と該第２の状態の波面情
報より得る zernike係数の平均値として得られるレンズ
成分の zernike係数を用いて前記波面のデフォーカス成
分を求めることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１
項に記載のレンズ性能測定方法。 - 【請求項９】 最初にシステムエラー測定レンズを第１
の状態に設定し、前記集光レンズの集光点を該システム
エラー測定レンズの像面上の複数の測定点に設定して波
面情報を入手し、次いで該システムエラー測定レンズを
その光軸を回転軸として１８０度回転して第２の状態に
設定し、該集光レンズの集光点を該第１の状態で測定し
た複数の測定点に設定して波面情報を入手し、該第１の
状態の波面情報より得る zernike係数と該第２の状態の
波面情報より得る zernike係数の差の半値を各測定点の
設定手段の傾きエラーとして記憶しておき、 前記被検レンズ測定の際は、該集光レンズの集光点を該
システムエラー測定レンズの測定点と同じ測定点に設定
して得た波面情報より得る各測定点の zernike係数から
各測定点の設定手段の傾きエラーを減算して得るレンズ
成分の zernike係数を用いて前記波面のデフォーカス成
分を求めることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１
項に記載のレンズ性能測定方法。 - 【請求項１０】 干渉計より射出する単色光の平行光束
を集光レンズ設定手段によりその位置を設定した集光レ
ンズを介して被検レンズの像面上の１点に集光し、該被
検レンズを透過して共役点に集光した後、球面ミラー設
定手段により該共役点に曲率中心を設定した球面ミラー
で反射させ、該被検レンズ及び該集光レンズを透過して
測定光束として該干渉計へ入射させ、該干渉計の光源よ
り射出する光束を該干渉計若しくは該集光レンズの一部
に設けた参照面で反射させて形成する参照光束と該測定
光束とを干渉させて得られる該測定光束の波面情報より
該被検レンズの収差を測定するレンズ性能測定装置にお
いて、 集光レンズ計測手段が計測する該集光レンズの集光点の
位置情報と、球面ミラー計測手段が計測する該球面ミラ
ーの曲率中心の位置情報と、該波面情報より算出する該
測定光束の波面の傾き成分とデフォーカス成分より該被
検レンズの収差を求めることを特徴とするレンズ性能測
定装置。 - 【請求項１１】 前記集光点の位置情報と、前記球面ミ
ラーの曲率中心の位置情報と、前記波面の傾き成分とデ
フォーカス成分より求める前記被検レンズの収差はディ
ストーション収差と像面弯曲収差であることを特徴とす
る請求項１０のレンズ性能測定装置。 - 【請求項１２】 前記干渉計より射出する単色光の平行
光束を前記集光レンズを介して前記被検レンズの像面上
の１点に集光する際、 該集光する光束の主光線の方向を主光線合致手段により
該集光点の位置に応じて調整することを特徴とする請求
項１０又は１１のレンズ性能測定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27643695A JP3352298B2 (ja) | 1995-09-29 | 1995-09-29 | レンズ性能測定方法及びそれを用いたレンズ性能測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27643695A JP3352298B2 (ja) | 1995-09-29 | 1995-09-29 | レンズ性能測定方法及びそれを用いたレンズ性能測定装置 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0996589A true JPH0996589A (ja) | 1997-04-08 |
| JP3352298B2 JP3352298B2 (ja) | 2002-12-03 |
Family
ID=17569403
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27643695A Expired - Fee Related JP3352298B2 (ja) | 1995-09-29 | 1995-09-29 | レンズ性能測定方法及びそれを用いたレンズ性能測定装置 |
Country Status (1)
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|---|---|
| JP (1) | JP3352298B2 (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007171004A (ja) * | 2005-12-22 | 2007-07-05 | Olympus Corp | 波面収差測定装置 |
| KR100820220B1 (ko) * | 2005-09-15 | 2008-04-07 | 후지논 가부시키가이샤 | 광파 간섭장치 |
| JP2008268122A (ja) * | 2007-04-24 | 2008-11-06 | Mitaka Koki Co Ltd | 非接触形状測定装置 |
| JP2011196954A (ja) * | 2010-03-23 | 2011-10-06 | Fujifilm Corp | 非球面体測定方法および装置 |
| WO2012132930A1 (ja) * | 2011-03-31 | 2012-10-04 | 富士フイルム株式会社 | レンズ測定装置 |
| JP2014126514A (ja) * | 2012-12-27 | 2014-07-07 | Kiyohara Optics Inc | レンズの光学的性能調整装置及びレンズの光学的性能調整方法 |
| CN111044260A (zh) * | 2019-12-27 | 2020-04-21 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 显微物镜畸变测试装置及测试方法 |
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|---|---|---|---|---|
| CN1294403C (zh) * | 2003-09-22 | 2007-01-10 | 富士能株式会社 | 干涉计装置 |
| JP2009267064A (ja) | 2008-04-24 | 2009-11-12 | Canon Inc | 測定方法および露光装置 |
-
1995
- 1995-09-29 JP JP27643695A patent/JP3352298B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100820220B1 (ko) * | 2005-09-15 | 2008-04-07 | 후지논 가부시키가이샤 | 광파 간섭장치 |
| JP2007171004A (ja) * | 2005-12-22 | 2007-07-05 | Olympus Corp | 波面収差測定装置 |
| JP2008268122A (ja) * | 2007-04-24 | 2008-11-06 | Mitaka Koki Co Ltd | 非接触形状測定装置 |
| JP2011196954A (ja) * | 2010-03-23 | 2011-10-06 | Fujifilm Corp | 非球面体測定方法および装置 |
| WO2012132930A1 (ja) * | 2011-03-31 | 2012-10-04 | 富士フイルム株式会社 | レンズ測定装置 |
| JP2014126514A (ja) * | 2012-12-27 | 2014-07-07 | Kiyohara Optics Inc | レンズの光学的性能調整装置及びレンズの光学的性能調整方法 |
| CN111044260A (zh) * | 2019-12-27 | 2020-04-21 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 显微物镜畸变测试装置及测试方法 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3352298B2 (ja) | 2002-12-03 |
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