JPH0990384A - Apparatus for production of liquid crystal cell and its production - Google Patents

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain an apparatus for production of a liquid crystal cell at a high yield without the occurrence of defects, such as injection defects of liquid crystals by providing the apparatus with a disconnection detecting means for detecting the disconnection of sealing patterns and a process for producing the same. SOLUTION: The prescribed sealing patterns 14 are formed on an insulating substrate 12 by applying a sealing material 10 at its peripheral edges. The insulating substrate 12 is decided to be 'defective' and is removed from the flow of the process when the presence of the disconnection is decided in the disconnection inspection for inspecting whether there is the disconnection or not in the sealing patterns 14. The disconnection decision is executed by using a disconnection detecting means 20. The disconnection detecting means 20 is composed of a camera 22 for inspection which moves along the sealing patterns 24 above the insulating substrate 12, an annular light source 24 which is disposed to enclose the camera 22 for inspection and irradiates the sealing material 10 with light and an image processing section 26 which is connected to the camera 22 for inspection, processes the images sent therefrom and decides whether the disconnection arises in the sealing patterns 14 or not.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【０００１】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、２枚の絶縁基板間
に配されたシール材によってこれら絶縁基板間に液晶を
保持してなる液晶セルを製造する液晶セルの製造装置及
び製造方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal cell manufacturing apparatus and manufacturing method for manufacturing a liquid crystal cell in which liquid crystal is held between two insulating substrates by a sealing material disposed between the two insulating substrates.

【０００２】[0002]

【従来の技術】従来より、液晶セルを製造するに際して
は、画素電極などの電極が形成され、さらにその上に配
向膜が形成されたガラス基板などの絶縁基板に対し、そ
の配向膜が形成された面の周縁部にディスペンサ方式や
スクリーン印刷方式などによってシール材を塗布し、ま
た、配向膜が形成された他の基板上にスペーサを散布等
により配置し、これら一対の基板を重ね合せて加圧し、
さらに、加熱するなどしてシール材を接着硬化させる。
そして、このようにして組立てられたセルの中に、その
シール材で形成した注入口から液晶を注入し、注入後、
紫外線硬化型の接着剤などを用いて注入口をふさいで製
造している。2. Description of the Related Art Conventionally, when a liquid crystal cell is manufactured, electrodes such as pixel electrodes are formed, and an alignment film is formed on an insulating substrate such as a glass substrate on which an alignment film is formed. The sealing material is applied to the peripheral edge of the surface by a dispenser method or a screen printing method, and spacers are arranged by spraying on another substrate on which the alignment film is formed. Press
Further, the sealing material is adhesively cured by heating or the like.
Then, liquid crystal is injected into the cell assembled in this way from the injection port formed by the sealing material, and after injection,
It is manufactured by blocking the injection port with an ultraviolet curing adhesive.

【０００３】ここで、ディスペンサ方式によって絶縁基
板上にシール材を塗布するには、例えば、図７（ａ）に
示すように、絶縁基板(101) を、ローダなどの供給装置
によって処理ステージ(102) 上に搭載し、位置決めした
後、その厚みを測定する。そして、ディスペンサユニッ
ト(103) から一定量の吐出エアを送ることにより、その
ノズル(104) から一定量のシール材(105) を吐出して、
図７（ｂ）に示すように、絶縁基板(101) の全周縁部
に、１角部(101a)に注入口(106) を残した状態で、シー
ル材(105) によるシールパターン(107) を形成せしめて
いる。Here, in order to apply the sealing material on the insulating substrate by the dispenser method, for example, as shown in FIG. 7A, the insulating substrate (101) is treated with a supply device such as a loader to treat the processing stage (102). ) Mount on top, position and then measure its thickness. Then, by sending a fixed amount of discharge air from the dispenser unit (103), a fixed amount of sealing material (105) is discharged from the nozzle (104),
As shown in FIG. 7 (b), the sealing material (105) seals the seal pattern (107) while leaving the inlet (106) at one corner (101a) at the entire peripheral edge of the insulating substrate (101). Is formed.

【０００４】一方、スクリーン印刷方式によりシール材
を塗布するには、所定の形に打ち抜かれたスクリーンを
絶縁基板上に載置し、その上にシール材を塗布すること
により、上記と同様、図７（ｂ）に示すようなシールパ
ターン(107) を形成せしめている。On the other hand, in order to apply the sealing material by the screen printing method, a screen punched into a predetermined shape is placed on an insulating substrate, and the sealing material is applied on the screen. A seal pattern (107) as shown in FIG. 7 (b) is formed.

【０００５】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記デ
ィスペンサ方式においては、シール材(105) に気泡が混
入していた場合、塗布後のシールパターン(107) に当該
気泡による断線が生じることがある。また、スクリーン
印刷方式においては、塗布時にゴミをかむことがあり、
このゴミによってシールパターン(107) に断線が生じる
ことがある。However, in the above dispenser method, when bubbles are mixed in the seal material (105), the seal pattern (107) after coating may be broken due to the bubbles. Also, in the screen printing method, dust may be bitten during application,
This dust may break the seal pattern (107).

【０００６】このように断線が生じた場合、後工程であ
る液晶注入時にその断線部分から液晶の漏れが生じる注
入不良や、あるいはまた、その液晶セルより得られる液
晶表示装置の動作不良を招くことなどがあり、これによ
り歩留が低下してしまうという問題がある。When the disconnection occurs in this way, the injection failure may occur in which liquid crystal leaks from the disconnection portion in the subsequent step of injecting liquid crystal, or the operation of the liquid crystal display device obtained from the liquid crystal cell may be defective. Therefore, there is a problem that the yield is reduced.

【０００７】そこで、本発明は上記問題点に鑑み、シー
ルパターンの断線に起因する液晶の注入不良などの不良
発生がなく、歩留の高い液晶セルの製造装置及び製造方
法を提供することを目的とする。In view of the above problems, it is an object of the present invention to provide a manufacturing apparatus and a manufacturing method of a liquid crystal cell having a high yield without the occurrence of defects such as liquid crystal injection defects due to disconnection of a seal pattern. And

【０００８】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明の請求項１の液晶
セルの製造装置は、２枚の絶縁基板間に配されたシール
材によってこれら絶縁基板間に液晶を保持してなる液晶
セルを製造する液晶セルの製造装置において、絶縁基板
上にシール材を塗布してシールパターンを形成せしめる
シール材塗布手段と、前記シール材塗布手段によって前
記絶縁基板上に形成された前記シールパターンの断線を
検知する断線検知手段と、前記断線検知手段によって断
線の検知された絶縁基板を製造工程から抜き取る抜き取
り手段とを有するものである。A liquid crystal cell manufacturing apparatus according to claim 1 of the present invention is a liquid crystal cell in which liquid crystal is held between two insulating substrates by a sealing material disposed between the two insulating substrates. In a manufacturing apparatus of a liquid crystal cell to be manufactured, a sealing material applying means for applying a sealing material on an insulating substrate to form a sealing pattern, and a disconnection of the sealing pattern formed on the insulating substrate by the sealing material applying means. It has a disconnection detecting means for detecting and an extracting means for extracting the insulating substrate in which the disconnection is detected by the disconnection detecting means from the manufacturing process.

【０００９】請求項２の液晶セルの製造装置は、請求項
１において、前記絶縁基板上に塗布されたシール材に含
まれる溶剤を除去せしめる乾燥手段を有し、前記断線検
知手段によりシールパターンが断線しているか否かを検
査した後に、前記乾燥手段が断線の検知されなかった絶
縁基板に対して当該シール材に含まれる溶剤を除去せし
めるものである。According to a second aspect of the present invention, there is provided a liquid crystal cell manufacturing apparatus according to the first aspect, further comprising a drying means for removing a solvent contained in the sealing material applied on the insulating substrate, and the seal pattern is detected by the disconnection detecting means. After inspecting for disconnection, the drying means removes the solvent contained in the sealing material from the insulating substrate for which disconnection is not detected.

【００１０】請求項３の液晶セルの製造方法は、２枚の
絶縁基板間に配されたシール材によってこれら絶縁基板
間に液晶を保持してなる液晶セルを製造する液晶セルの
製造方法において、絶縁基板上にシール材を塗布してシ
ールパターンを形成せしめた後、そのシールパターンが
断線している否かをシールパターンの断線を検知する断
線検知手段を用いて検査し、前記断線検知手段が断線を
検知したときに、その断線した絶縁基板を製造工程から
抜き取る。According to a third aspect of the present invention, there is provided a liquid crystal cell manufacturing method for manufacturing a liquid crystal cell in which liquid crystal is held between two insulating substrates by a sealing material disposed between the two insulating substrates. After applying the sealing material on the insulating substrate to form the seal pattern, whether or not the seal pattern is broken is inspected using a disconnection detecting means for detecting disconnection of the seal pattern, and the disconnection detecting means is When a disconnection is detected, the disconnected insulating substrate is removed from the manufacturing process.

【００１１】請求項４の液晶セルの製造方法は、請求項
３において、前記断線検知手段によりシールパターンが
断線しているか否かを検査した後に、断線が検知されな
かった絶縁基板に対して当該絶縁基板上のシール材に含
まれる溶剤を乾燥させて除去せしめる。According to a fourth aspect of the present invention, in the method of manufacturing a liquid crystal cell according to the third aspect, after the disconnection detecting means inspects whether or not the seal pattern is disconnected, the disconnection is not detected for the insulating substrate. The solvent contained in the sealing material on the insulating substrate is dried and removed.

【００１２】[0012]

【作用】本発明の液晶セルの製造装置及び製造方法で
は、絶縁基板上にシールパターンを形成した後に、断線
検知手段が、シールパターンが断線しているか否かを検
査する。すなわち、断線検知手段がシールパターンの断
線を検知したときには、抜き取り手段がその絶縁基板を
製造工程から抜き取って、該絶縁基板の次工程への流入
を防ぐ。断線検知手段により断線の検知されなかった絶
縁基板は、次工程に進んで、対をなす他の絶縁基板と貼
り合され、さらに液晶が注入されて、液晶セルが製造さ
れる。In the liquid crystal cell manufacturing apparatus and manufacturing method of the present invention, after the seal pattern is formed on the insulating substrate, the disconnection detecting means inspects whether or not the seal pattern is disconnected. That is, when the disconnection detecting means detects the disconnection of the seal pattern, the extracting means extracts the insulating substrate from the manufacturing process to prevent the insulating substrate from flowing into the next process. The insulating substrate whose disconnection is not detected by the disconnection detecting means proceeds to the next step, is bonded to another insulating substrate forming a pair, and further liquid crystal is injected to manufacture a liquid crystal cell.

【００１３】以上において、断線検知手段によって断線
しているか否かを検査した後に、断線の検知されなかっ
た絶縁基板に対して当該シール材に含まれる溶剤を除
去、すなわち、シール材を塗布した後、乾燥工程などの
他の工程を経ずに直ちに断線しているか否かを検査し
て、断線しているものを製造工程から取除けば、不良品
の製造工程中における滞留を低減することができ、よっ
て、生産効率を高くすることができる。In the above, after the disconnection detecting means inspects for disconnection, the solvent contained in the sealing material is removed from the insulating substrate for which disconnection is not detected, that is, after the sealing material is applied. By inspecting whether or not the wire breaks immediately without going through other steps such as the drying step and removing the wire breaks from the manufacturing process, the retention of defective products during the manufacturing process can be reduced. Therefore, the production efficiency can be increased.

【００１４】[0014]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態の一例
を図１〜４に基づいて説明する。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION An example of an embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS.

【００１５】図１は、本発明の一例における液晶セルの
製造工程を示すブロック図である。以下、各工程ａ〜ｆ
を順に説明する。FIG. 1 is a block diagram showing a manufacturing process of a liquid crystal cell in an example of the present invention. Hereinafter, each step af
Will be described in order.

【００１６】工程ａは、例えばアレイ基板などの液晶セ
ルを構成する一方の絶縁基板(12)に対して、その周縁部
にシール材(10)を塗布して所定のシールパターン(14)を
形成せしめるシール材塗布工程である。In step a, a predetermined seal pattern (14) is formed by applying a sealing material (10) to the peripheral edge of one insulating substrate (12) which constitutes a liquid crystal cell such as an array substrate. This is the step of applying the sealing material.

【００１７】前記絶縁基板(12)には、予めその電極面に
対して配向膜が形成され、ラビング処理が施されてい
る。そして、この配向膜が形成された面にシール材(10)
が塗布される。シール材(10)の塗布は、従来技術で上述
したディスペンサ方式により行なう。すなわち、絶縁基
板(12)をローダにより供給して位置決めした後、その厚
みを測定し、絶縁基板(12)上面からノズルまでの距離を
所定の距離に保持して、ノズルからシール材(10)を吐出
する。吐出は、図２に示すように、絶縁基板(12)の１角
部(12a) からスタートして、一筆書きにより全周縁に連
続したシールパターン(14)を形成するようになされる。
ただし、当該１角部(12a) に液晶を注入するための注入
口(16)を設けておく。なお、この実施例では、シールパ
ターン(14)のシール幅(d) が３００μｍとなるよう設定
されている。An alignment film is formed on the electrode surface of the insulating substrate 12 in advance, and a rubbing process is performed. Then, a sealing material (10) is formed on the surface on which the alignment film is formed.
Is applied. The application of the sealing material (10) is performed by the dispenser method described in the prior art. That is, after the insulating substrate (12) is supplied by the loader and positioned, its thickness is measured, and the distance from the upper surface of the insulating substrate (12) to the nozzle is maintained at a predetermined distance, and the sealing material from the nozzle (10). Is discharged. As shown in FIG. 2, the discharge starts from one corner portion (12a) of the insulating substrate (12) and forms a continuous seal pattern (14) on the entire periphery by a single stroke.
However, an injection port (16) for injecting liquid crystal is provided in the one corner portion (12a). In this embodiment, the seal width (d) of the seal pattern (14) is set to 300 μm.

【００１８】シール材(10)の塗布後、絶縁基板(12)はロ
ーダによって次工程である工程ｂに送られる。After applying the sealing material (10), the insulating substrate (12) is sent by the loader to the next step b.

【００１９】工程ｂは、絶縁基板(12)に形成されたシー
ルパターン(14)に断線があるか否かを検査する断線検査
工程である。Step b is a disconnection inspection step for inspecting whether or not the seal pattern 14 formed on the insulating substrate 12 has a disconnection.

【００２０】この断線検査工程ｂで、絶縁基板(12)上に
形成されたシールパターン(14)に断線がないと判定した
場合、その絶縁基板(12)は「良」とされ、ローダによっ
て次工程である工程ｃに送られる。一方、シールパター
ン(14)に断線があると判定した場合、その絶縁基板(12)
は「不良」とされ、工程の流れから抜き取られて、不良
品収納庫ｇに収納される。なお、この断線検査工程ｂに
おけるシールパターン(14)の断線判定方法については後
述する。In the disconnection inspection step b, when it is judged that the seal pattern (14) formed on the insulating substrate (12) has no disconnection, the insulating substrate (12) is judged to be "good" and the The process is sent to the process c. On the other hand, when it is determined that the seal pattern (14) has a disconnection, the insulating substrate (12)
Is regarded as "defective", extracted from the process flow, and stored in the defective product storage g. The method for determining the disconnection of the seal pattern (14) in the disconnection inspection step b will be described later.

【００２１】工程ｃは、絶縁基板(12)上に塗布されたシ
ール材(10)に含まれる溶剤を蒸発させる乾燥工程であ
る。この乾燥工程ｃは、次工程で２枚の絶縁基板を貼り
合せたときにシールパターン(14)が流れることを防ぐと
ともに、シール材(10)中の空気を除去、即ち脱泡して、
液晶セル内に空気が入ることを防止している。なお、乾
燥条件は、例えば、９０℃、２０分である。Step c is a drying step of evaporating the solvent contained in the sealing material 10 applied on the insulating substrate 12. This drying step c prevents the seal pattern (14) from flowing when the two insulating substrates are bonded together in the next step, and removes air in the seal material (10), that is, defoams,
Air is prevented from entering the liquid crystal cell. The drying conditions are, for example, 90 ° C. and 20 minutes.

【００２２】工程ｄは、上記工程ａ〜ｃを経たシールパ
ターン(14)が形成された絶縁基板(12)と、工程ａ〜ｃを
経ておらずシール材(10)が塗布されていない他方の絶縁
基板とを貼り合せる基板貼合工程である。この基板貼合
工程ｄでは、まず、シールパターン(14)が形成されてい
ない絶縁基板上に、所望の球径を有するスペーサを散布
する。その後、この散布された基板と上述した絶縁基板
(12)とを重ね合せて加圧する。In step d, the insulating substrate (12) having the seal pattern (14) formed through the steps a to c and the other of the insulating substrate (12) not formed through the steps a to c and not coated with the seal material (10). This is a substrate bonding step of bonding an insulating substrate. In the substrate bonding step d, first, spacers having a desired spherical diameter are scattered on the insulating substrate on which the seal pattern (14) is not formed. Then, this scattered substrate and the above-mentioned insulating substrate
(12) is superposed and pressed.

【００２３】工程ｅは、この重合された２枚の絶縁基板
間のシール材(10)を硬化させるシール材硬化工程であ
る。このシール材硬化工程ｅでは、シール材(10)の硬化
特性に応じて、加熱したり、あるいは、光（例えば紫外
線）照射する。Step e is a sealing material hardening step of hardening the sealing material (10) between the two superposed insulating substrates. In the sealing material curing step e, heating or irradiation of light (for example, ultraviolet rays) is performed depending on the curing characteristics of the sealing material (10).

【００２４】工程ｆは、この２枚の絶縁基板間に液晶を
注入する液晶注入工程である。この液晶注入工程ｆで
は、公知の液晶注入装置によって、シールパターン(14)
に設けられた注入口(16)から両絶縁基板間に液晶を注入
し、注入後、紫外線硬化型の接着剤などを用いて、注入
口(16)を塞ぐ。これにより、液晶セルが得られる。な
お、通常、この液晶セルには、更に、その表面に偏光板
や位相差板が貼り付けられる。Step f is a liquid crystal injection step of injecting liquid crystal between the two insulating substrates. In this liquid crystal injection step f, a seal pattern (14) is formed by a known liquid crystal injection device.
The liquid crystal is injected between the two insulating substrates from the injection port (16) provided in, and after the injection, the injection port (16) is closed with an ultraviolet curing adhesive or the like. Thereby, a liquid crystal cell is obtained. A polarizing plate and a retardation plate are usually attached to the surface of the liquid crystal cell.

【００２５】つぎに、断線検査工程ｂにおけるシールパ
ターン(14)の断線判定方法について詳述する。Next, a method of determining the disconnection of the seal pattern (14) in the disconnection inspection step b will be described in detail.

【００２６】シールパターン(14)の断線判定には、図３
に示す断線検知手段(20)を用いて行なう。この断線検知
手段(20)は、絶縁基板(12)の上方をシールパターン(14)
に沿って移動する検査用カメラ(22)と、この検査用カメ
ラ(22)を囲むように設けられ、シール材(10)に光を照射
する環状の光源(24)と、検査用カメラ(22)に接続され、
そこから送られてくる画像を処理して、シールパターン
(14)に断線が発生しているか否かを判定する画像処理部
(26)とよりなる。To determine the disconnection of the seal pattern (14), use FIG.
The disconnection detecting means (20) shown in FIG. The disconnection detecting means (20) is provided with a seal pattern (14) above the insulating substrate (12).
An inspection camera (22) that moves along with the inspection camera (22), an annular light source (24) provided to surround the inspection camera (22) and irradiating the sealing material (10) with light, and an inspection camera (22 ) Is connected to
The image sent from there is processed and the seal pattern
Image processing unit that determines whether or not disconnection has occurred in (14)
It consists of (26).

【００２７】シール材塗布工程ａからローダで送られて
きた絶縁基板(12)は、検査用ステージ(28)上に配置され
る。そこで、検査用カメラ(22)は、光源(24)からシール
材(10)に照射された光の反射光をキャッチして画像を得
る。画像の取得は、図２に示すように、シールパターン
(14)の一方の開放端(14a) から開始して各辺に沿って１
周し、シールパターン(14)の他方の開放端(14b) で終了
する。これによりシールパターン(14)の全ての部分につ
き検査を行なう。The insulating substrate (12) sent by the loader from the sealing material applying step a is placed on the inspection stage (28). Therefore, the inspection camera (22) captures the reflected light of the light emitted from the light source (24) to the sealing material (10) to obtain an image. As shown in FIG. 2, the image is acquired by the seal pattern.
1 along each side starting from one open end (14a) of (14)
And ends at the other open end (14b) of the seal pattern (14). As a result, all parts of the seal pattern (14) are inspected.

【００２８】ここで、絶縁基板(12)に照射される光は絶
縁基板(12)を透過するため反射が小さいが、シール材(1
0)に照射される光はそこで反射されるため反射が大き
い。すなわち、シール材(10)がある領域とない領域とで
は、検査用カメラ(22)で得られる光の強度が異なる。そ
のため、この光の強度差を利用して画像処理部(26)で得
られる画像を２値化する。すなわち、画像処理部(26)で
は、図４に示すように検査用カメラ(22)で得られる画像
を７２μｍ角に区分し、各区分について、光の強度が所
定レベル以上であればシール材(10)がある領域と判断し
て「１」とし、所定レベルに満たなければシール材(10)
がない領域と判断して「０」とする。そして、本来
「１」であるはずの領域、すなわちシール領域(30)に
「０」が存在した場合（図において(31)の領域が存在す
る場合）に、シールパターン(14)が断線していると判定
し、不図示の抜き取り機構を制御して、この断線と判定
した絶縁基板(12)を工程の流れから自動的に抜き取り、
不良品収納庫ｇに収納する。Here, the light radiated to the insulating substrate (12) is small in reflection because it passes through the insulating substrate (12), but the sealing material (1
The light radiated to (0) is reflected there, so the reflection is large. That is, the intensity of light obtained by the inspection camera (22) is different between the region with the sealant (10) and the region without it. Therefore, the image obtained by the image processing unit (26) is binarized by utilizing this difference in light intensity. That is, in the image processing unit (26), the image obtained by the inspection camera (22) is divided into 72 μm squares as shown in FIG. 4, and if the light intensity is equal to or higher than a predetermined level in each division, the sealing material ( 10) Judge that it is a certain region and set it to "1", and if it does not reach the prescribed level, the sealing material (10)
It is determined that there is no area, and is set to "0". Then, when there is "0" in the area that should originally be "1", that is, the seal area (30) (when the area (31) exists in the figure), the seal pattern (14) is broken. It is determined that the disconnection mechanism (not shown) is controlled, and the insulating substrate (12) determined to have this disconnection is automatically extracted from the process flow,
Store in the defective item storage g.

【００２９】以上説明した液晶セルの製造工程では、絶
縁基板(12)上に形成されたシールパターン(14)に断線が
生じているか検査し、断線していた場合には、その絶縁
基板(12)を抜き取って、断線していない絶縁基板(12)
を、それと対をなす他の絶縁基板と貼り合せ、液晶を注
入するので、液晶の注入不良を防ぐことができる。ま
た、得られた液晶セルにはシールパターン(14)の断線が
ないため、この液晶セルより得られる液晶表示装置の動
作不良を招くことがない。よって、歩留を向上させるこ
とができる。In the manufacturing process of the liquid crystal cell described above, it is inspected whether the seal pattern (14) formed on the insulating substrate (12) is broken or not. ), Remove the insulation board (12)
Is bonded to another insulating substrate forming a pair with the liquid crystal, and the liquid crystal is injected, so that the liquid crystal injection failure can be prevented. In addition, since the obtained liquid crystal cell has no disconnection of the seal pattern (14), the liquid crystal display device obtained from this liquid crystal cell does not malfunction. Therefore, the yield can be improved.

【００３０】また、シール材塗布工程ａの直後に断線検
査をしているので、不良品の工程ライン中における滞留
を低減でき、よって、生産効率をより高くすることがで
きる。なお、乾燥工程ｃの前でも後でも、シール材(10)
の形状には大きな相違がないため、乾燥工程ｃ後に断線
検査をしてもよい。Further, since the disconnection inspection is carried out immediately after the sealing material application step a, the retention of defective products in the process line can be reduced, and therefore the production efficiency can be further enhanced. In addition, before or after the drying step c, the sealing material (10)
Since there is no great difference in the shape of the, the disconnection inspection may be performed after the drying step c.

【００３１】つぎに、図５を参照して、断線検査工程ｂ
における他の断線検知手段(40)の例について説明する。Next, referring to FIG. 5, disconnection inspection step b
Another example of the disconnection detecting means (40) in FIG.

【００３２】この例では、光源(42)が、絶縁基板(10)上
に塗布されたシール材(10)に対して斜めから照射してい
る点が、上述した断線検知手段(20)とは相違する。すな
わち、光源(42)は、絶縁基板(12)上のシール材(10)に対
してθ＝４５°の角度で斜め上方から光を照射するよう
構成されている。なお、光源(42)は上記の例と同様、検
査用カメラ(22)とともに移動するよう構成されている。In this example, the point that the light source (42) irradiates the sealing material (10) applied on the insulating substrate (10) at an angle is different from the disconnection detecting means (20) described above. Be different. That is, the light source (42) is configured to irradiate the sealing material (10) on the insulating substrate (12) with light obliquely from above at an angle of θ = 45 °. The light source (42) is configured to move together with the inspection camera (22) as in the above example.

【００３３】このように、斜めから光を照射した方が、
シールパターン(14)の断線が検知されやすいので、断線
検知手段として優れる。As described above, when the light is obliquely irradiated,
Since disconnection of the seal pattern (14) is easily detected, it is excellent as a disconnection detecting means.

【００３４】つぎに、図６を参照して、断線検知工程ｂ
におけるさらに他の断線検知手段の例について説明す
る。Next, referring to FIG. 6, disconnection detection step b
Another example of the wire breakage detecting means will be described.

【００３５】この例では、図３により上述した断線検知
手段(20)と同じく検査用カメラと光源と画像処理手段と
よりなるが、画像処理手段における断線判定方法が上記
のものとは相違する。すなわち、この例においては、図
６に示すように、シールパターン(14)を５つの直線ブロ
ック１、２、３、４、５に区分し、各ブロック１〜５を
検査用カメラで走査する。そして、１ブロックにおける
物体数、即ちシール材(10)の数をカウントし、カウント
が２以上であれば断線していると判定する。In this example, the disconnection detecting means (20) described above with reference to FIG. 3 comprises an inspection camera, a light source, and an image processing means, but the disconnection determination method in the image processing means is different from that described above. That is, in this example, as shown in FIG. 6, the seal pattern (14) is divided into five linear blocks 1, 2, 3, 4, 5 and each block 1-5 is scanned by an inspection camera. Then, the number of objects in one block, that is, the number of sealing materials (10) is counted, and if the count is 2 or more, it is determined that the wire is broken.

【００３６】この断線検知手段は、上述した他の断線検
知手段(20)(40)と比べると、シールパターン(14)が完全
に切れて分離していないと断線を検知できないため（図
６ではブロック３に断線(46)が生じている場合を例示し
ている。）、精度が低いという欠点はあるが、簡便に検
査できるという利点がある。Compared with the other disconnection detecting means (20) and (40) described above, this disconnection detecting means cannot detect the disconnection unless the seal pattern (14) is completely cut and separated (in FIG. 6, FIG. 6). The case where the disconnection (46) occurs in the block 3 is shown as an example.) Although there is a drawback that the accuracy is low, there is an advantage that inspection can be performed easily.

【００３７】[0037]

【発明の効果】本発明の液晶セルの製造装置又は製造方
法であると、断線検知手段が、シールパターンの断線の
有無を検査し、断線している場合にはその絶縁基板を抜
き取って、次工程への流入を防ぐので、シールパターン
の断線が原因とされる、液晶注入時における注入不良
や、得られた液晶表示装置の動作不良などの不良の発生
がなく、歩留が向上する。According to the liquid crystal cell manufacturing apparatus or manufacturing method of the present invention, the disconnection detecting means inspects the seal pattern for the presence of disconnection. Since the inflow into the process is prevented, there is no occurrence of defects such as defective injection at the time of liquid crystal injection or defective operation of the obtained liquid crystal display device due to disconnection of the seal pattern, and the yield is improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図１】本発明の実施の一例における液晶セルの製造工
程のブロック図である。FIG. 1 is a block diagram of a manufacturing process of a liquid crystal cell in an example of implementation of the present invention.

【図２】前記一例におけるシール材(10)が塗布された絶
縁基板(12)の平面図である。FIG. 2 is a plan view of an insulating substrate (12) coated with a sealing material (10) in the above example.

【図３】前記一例における断線検査工程ｂにおける断線
検知手段(20)の断面図である。FIG. 3 is a sectional view of a disconnection detecting means (20) in a disconnection inspection step b in the above example.

【図４】検査用カメラ(22)により得られた画像を示す図
である。FIG. 4 is a diagram showing an image obtained by an inspection camera (22).

【図５】断線検査工程ｂにおける他の断線検知手段(40)
の断面図である。FIG. 5: Other disconnection detecting means (40) in the disconnection inspection step b
FIG.

【図６】断線検査工程ｂにおける更に他の断線検知手段
を説明するための絶縁基板(12)の平面図である。FIG. 6 is a plan view of an insulating substrate (12) for explaining still another disconnection detecting means in the disconnection inspection step b.

【図７】従来の液晶セルの製造において、（ａ）は、絶
縁基板(101) 上にシール材(105) を塗布しているところ
を示す側面図であり、（ｂ）は、シール材(105) が塗布
された絶縁基板(101) の平面図である。FIG. 7 is a side view showing a state where a sealing material (105) is applied on an insulating substrate (101) in the production of a conventional liquid crystal cell, and (b) is a sealing material ( FIG. 105 is a plan view of the insulating substrate (101) coated with 105).

【符号の説明】[Explanation of symbols]

(10)…シール材 (12)…絶縁基板 (14)…シールパターン (20)(40)…断線検知手段 ａ…シール材塗布工程 ｂ…断線検査工程 ｃ…乾燥工程 ｄ…基板貼合工程 ｅ…シール材硬化工程 ｆ…液晶注入工程 ｇ…不良品収納庫 (10) ... Sealing material (12) ... Insulating substrate (14) ... Sealing pattern (20) (40) ... Disconnection detecting means a ... Sealing material applying step b ... Disconnection inspection step c ... Drying step d ... Substrate bonding step e … Sealing material curing process f… Liquid crystal injection process g… Defective product storage

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項１】 ２枚の絶縁基板間に配されたシール材に
よってこれら絶縁基板間に液晶を保持してなる液晶セル
を製造する液晶セルの製造装置において、 絶縁基板上にシール材を塗布してシールパターンを形成
せしめるシール材塗布手段と、 前記シール材塗布手段によって前記絶縁基板上に形成さ
れた前記シールパターンの断線を検知する断線検知手段
と、 前記断線検知手段によって断線の検知された絶縁基板を
製造工程から抜き取る抜き取り手段とを有することを特
徴とする液晶セルの製造装置。1. A liquid crystal cell manufacturing apparatus for manufacturing a liquid crystal cell in which a liquid crystal is held between two insulating substrates by a sealing material disposed between two insulating substrates, wherein the sealing material is applied on the insulating substrate. A sealing material applying means for forming a sealing pattern by means of a sealing means, a disconnection detecting means for detecting disconnection of the sealing pattern formed on the insulating substrate by the sealing material applying means, and an insulation detecting disconnection by the disconnection detecting means. An apparatus for manufacturing a liquid crystal cell, comprising: a means for extracting the substrate from the manufacturing process. 【請求項２】 前記絶縁基板上に塗布されたシール材に
含まれる溶剤を除去せしめる乾燥手段を有し、 前記断線検知手段によりシールパターンが断線している
か否かを検査した後に、前記乾燥手段が断線の検知され
なかった絶縁基板に対して当該シール材に含まれる溶剤
を除去せしめることを特徴とする請求項１記載の液晶セ
ルの製造装置。2. A drying means for removing a solvent contained in a sealing material applied on the insulating substrate, and the drying means after inspecting whether or not the seal pattern is broken by the disconnection detecting means. 2. The apparatus for manufacturing a liquid crystal cell according to claim 1, wherein the solvent contained in the sealing material is removed from the insulating substrate whose disconnection is not detected. 【請求項３】 ２枚の絶縁基板間に配されたシール材に
よってこれら絶縁基板間に液晶を保持してなる液晶セル
を製造する液晶セルの製造方法において、 絶縁基板上にシール材を塗布してシールパターンを形成
せしめた後、そのシールパターンが断線している否かを
シールパターンの断線を検知する断線検知手段を用いて
検査し、前記断線検知手段が断線を検知したときに、そ
の断線した絶縁基板を製造工程から抜き取ることを特徴
とする液晶セルの製造方法。3. A method of manufacturing a liquid crystal cell in which a liquid crystal is held between two insulating substrates by a sealing material arranged between the two insulating substrates, wherein a sealing material is applied on the insulating substrate. After the seal pattern has been formed, the seal pattern is inspected for disconnection using a disconnection detection means for detecting disconnection of the seal pattern, and when the disconnection detection means detects disconnection, the disconnection is detected. A method for manufacturing a liquid crystal cell, wherein the insulating substrate is removed from the manufacturing process. 【請求項４】 前記断線検知手段によりシールパターン
が断線しているか否かを検査した後に、断線が検知され
なかった絶縁基板に対して当該絶縁基板上のシール材に
含まれる溶剤を乾燥させて除去せしめることを特徴とす
る請求項３に記載の液晶セルの製造方法。4. After inspecting whether or not the seal pattern is broken by the disconnection detecting means, the solvent contained in the sealing material on the insulating substrate is dried with respect to the insulating substrate for which the disconnection is not detected. The method for producing a liquid crystal cell according to claim 3, wherein the liquid crystal cell is removed.