JPH098115A - Vacuum conveying container - Google Patents
Vacuum conveying containerInfo
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- JPH098115A JPH098115A JP15357595A JP15357595A JPH098115A JP H098115 A JPH098115 A JP H098115A JP 15357595 A JP15357595 A JP 15357595A JP 15357595 A JP15357595 A JP 15357595A JP H098115 A JPH098115 A JP H098115A
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- vacuum
- container
- lock chamber
- vacuum container
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、真空搬送容器に関し、
半導体、液晶、太陽電池などの基板の製造工程におい
て、基板を真空雰囲気に保持して搬送するための構成に
関する。BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention relates to a vacuum transfer container,
The present invention relates to a structure for holding a substrate in a vacuum atmosphere and transporting it in a manufacturing process of a substrate such as a semiconductor, a liquid crystal, and a solar cell.
【０００２】[0002]
【従来の技術】一般に、電子デバイス構造の微細化およ
び精密化に伴い、半導体、液晶、太陽電池などの製造工
程およびサンプリング（検査工程）では、清浄な環境が
要求されている。また、半導体などの基板は、大気に晒
されることにより表面に自然酸化膜が生成したり、大気
中の微粒子が付着して不良発生の原因となるため、製造
工程およびサンプリングは真空状態の処理装置内で行わ
れ、処理装置間の搬送に際しては、真空状態に保持した
容器が使用されている。従来の真空搬送容器としては、
例えば特開昭６２−１６９３４７号公報に示されるもの
がある。この従来例においては、複数枚の基板を間隔を
設けて重ねた状態で収納可能な略直方体の容器であり、
その一面が回転戸型の扉となっている。この真空搬送容
器に基板を搬入出するために、製造装置およびサンプリ
ングの各処理装置には、基板の搬入出口に真空ゲートバ
ルブを介してロードロック室が設けられている。このロ
ードロック室は、昇降機能を有する搬送ロボットが具備
され、その内容積は真空搬送容器および搬送ロボットの
搬送アーム部を収納するに充分な大きさを備えている。
また、ロードロック室には真空搬送容器の搬入出のため
の扉および真空バルブで開閉可能な排気口が設けられて
いる。2. Description of the Related Art In general, with the miniaturization and precision of electronic device structures, a clean environment is required in the manufacturing process and sampling (inspection process) of semiconductors, liquid crystals, solar cells and the like. In addition, when a substrate such as a semiconductor is exposed to the atmosphere, a natural oxide film is generated on the surface, or fine particles in the atmosphere adhere to cause defects. A container kept in a vacuum state is used during the transfer between processing devices. As a conventional vacuum transfer container,
For example, there is one disclosed in JP-A-62-169347. In this conventional example, it is a substantially rectangular parallelepiped container that can be stored in a state in which a plurality of substrates are stacked at intervals.
One side is a revolving door type door. In order to carry a substrate in and out of the vacuum transfer container, a load lock chamber is provided at a substrate loading / unloading port via a vacuum gate valve in each of the manufacturing apparatus and the sampling processing apparatus. The load lock chamber is equipped with a transfer robot having an elevating function, and its internal volume is large enough to accommodate the vacuum transfer container and the transfer arm of the transfer robot.
Further, the load lock chamber is provided with a door for loading and unloading the vacuum transfer container and an exhaust port that can be opened and closed by a vacuum valve.
【０００３】このように構成された真空搬送容器および
ロードロック室において、処理装置内の基板を真空搬送
容器に収納する場合には、先ず、処理装置とロードロッ
ク室との間の真空ゲートバルブを閉とした状態で、ロー
ドロック室の排気口の真空バルブを開とし、ロードロッ
ク室内を大気圧とする。次に、ロードロック室の扉を開
き（ロードロック室が大気圧と均圧しているので容易に
開く）、真空搬送容器を収納してその扉を開く。次に、
ロードロック室の扉を閉じ、排気口に真空吸引装置を接
続してロードロック室内の空気を排気する。ロードロッ
ク室内が所定の真空度すなわち、処理装置内の真空度と
同程度の真空度に到達したところで真空バルブを閉じて
真空吸引装置を切り離し、ロードロック室内および真空
搬送容器内を所定の真空度に保持する。次に、処理装置
の基板の搬入出口に設けられた真空ゲートバルブを開
く。次に、搬送ロボットを操作し、搬送アームを作動さ
せて処理装置内の基板を１枚ずつ搬出し、真空搬送容器
内へ搬入する。処理装置から真空搬送容器への基板の搬
送が終了すると、真空搬送容器の扉を閉じ、基板の搬入
出口に設けられた真空ゲートバルブを閉じ、排気口の真
空バルブを開く。ロードロック室内が大気圧と均圧する
とロードロック室の扉を開き、基板を真空状態で収納し
た真空搬送容器を搬出する。真空搬送容器に真空状態で
収納された基板を処理装置に搬入する場合には、先ず、
ロードロック室が前述の真空搬送容器を搬出した状態、
すなわち、真空ゲートバルブが閉、真空バルブが開、扉
が開の状態で、真空搬送容器をロードロック室内へ搬入
する。次に、ロードロック室の扉を閉じ、排気口に真空
吸引装置を接続してロードロック室内の空気を排気す
る。ロードロック室内が所定の真空度すなわち処理装置
内の真空度と同程度の真空度に到達したところで真空バ
ルブを閉じて真空吸引装置を切り離す。次に、真空搬送
容器の扉を開き、処理装置とロードロック室との間の真
空ゲートバルブを開く。次に、搬送ロボットを操作し、
搬送アームを作動させて真空搬送容器内の基板を１枚ず
つ搬出し、処理装置内へ搬入する。真空搬送容器から処
理装置への基板の搬送が終了すると、真空ゲートバルブ
を閉じて処理装置の基板の搬入出口を閉鎖する。ロード
ロック室および真空搬送容器はそのままの状態で保持
し、次回の基板の搬出に備えて待機する。In the vacuum transfer container and the load lock chamber configured as described above, when the substrate in the processing apparatus is stored in the vacuum transfer container, first, a vacuum gate valve between the processing apparatus and the load lock chamber is set. In the closed state, the vacuum valve at the exhaust port of the load lock chamber is opened to bring the pressure inside the load lock chamber to atmospheric pressure. Next, the door of the load lock chamber is opened (it is easy to open because the load lock chamber is equalized with the atmospheric pressure), the vacuum transfer container is housed, and the door is opened. next,
The door of the load lock chamber is closed and a vacuum suction device is connected to the exhaust port to exhaust the air in the load lock chamber. When the load lock chamber reaches a predetermined vacuum level, that is, a vacuum level similar to the vacuum level in the processing equipment, the vacuum valve is closed to disconnect the vacuum suction device, and the load lock chamber and the vacuum transfer container are set to a predetermined vacuum level. Hold on. Next, the vacuum gate valve provided at the substrate loading / unloading port of the processing apparatus is opened. Next, the transfer robot is operated to operate the transfer arm to carry out the substrates in the processing apparatus one by one and carry them into the vacuum transfer container. When the transfer of the substrate from the processing apparatus to the vacuum transfer container is completed, the door of the vacuum transfer container is closed, the vacuum gate valve provided at the substrate loading / unloading port is closed, and the vacuum valve of the exhaust port is opened. When the pressure inside the load lock chamber is equalized to the atmospheric pressure, the door of the load lock chamber is opened, and the vacuum transfer container containing the substrate in a vacuum state is carried out. When carrying a substrate stored in a vacuum transfer container in a vacuum state into a processing apparatus, first,
The state where the load lock chamber has carried out the aforementioned vacuum transfer container,
That is, the vacuum transfer container is loaded into the load lock chamber with the vacuum gate valve closed, the vacuum valve open, and the door open. Next, the door of the load lock chamber is closed and a vacuum suction device is connected to the exhaust port to exhaust the air in the load lock chamber. The vacuum valve is closed to disconnect the vacuum suction device when the load lock chamber reaches a predetermined vacuum level, that is, a vacuum level similar to the vacuum level in the processing apparatus. Next, the door of the vacuum transfer container is opened, and the vacuum gate valve between the processing device and the load lock chamber is opened. Next, operate the transfer robot,
The transfer arm is operated to carry out the substrates in the vacuum transfer container one by one and carry them into the processing apparatus. When the transfer of the substrate from the vacuum transfer container to the processing device is completed, the vacuum gate valve is closed to close the substrate loading / unloading port of the processing device. The load-lock chamber and the vacuum transfer container are kept as they are, and they stand by in preparation for the next substrate unloading.
【０００４】[0004]
【発明が解決しようとする課題】従来の真空搬送容器は
以上のように構成されていたため、次のような課題が存
在していた。すなわち、処理装置に基板の昇降機能が備
わっていて、ロードロック室に具備されている搬送ロボ
ットに昇降機能が備わっていない場合には、真空搬送容
器への基板の搬入搬出が不可能となる場合があった。こ
れの解決には、搬入搬出を可能にするために余分に昇降
機能を備えた搬送ロボットを具備する必要があった。ま
た、真空搬送容器に基板の搬入搬出を行うためには、真
空搬送容器をロードロック室内に収納して行う必要があ
り、内容積の大きなロードロック室が必要となる。さら
に、真空搬送容器をロードロック室に搬入し搬出する度
に、内容積の大きなロードロック室内の大気開放と真空
吸引とを繰返す必要があり、真空吸引のための消費動力
が大きく、迅速な作業ができないあるいは迅速な作業を
行うためには大形の真空吸引装置が必要であった。Since the conventional vacuum transfer container is constructed as described above, the following problems exist. That is, when the processing apparatus has a substrate lifting function and the transfer robot provided in the load lock chamber does not have a lifting function, it becomes impossible to carry the substrate in and out of the vacuum transfer container. was there. In order to solve this, it was necessary to additionally provide a transfer robot having an elevating function in order to enable the loading and unloading. Further, in order to carry in and carry out a substrate to and from the vacuum transfer container, it is necessary to store the vacuum transfer container in the load lock chamber, and a load lock chamber having a large internal volume is required. Furthermore, every time the vacuum transfer container is loaded into and unloaded from the load lock chamber, it is necessary to repeat the atmospheric release and vacuum suction in the load lock chamber with a large internal volume, which consumes a large amount of power for vacuum suction, and requires a quick operation. A large vacuum suction device was required to perform the work that could not be performed or was performed quickly.
【０００５】本発明は以上のような課題を解決するため
になされたものであり、搬送ロボットの昇降機能の有無
にかかわらず基板の搬入搬出が可能であり、ロードロッ
ク室の内容積を小さくして真空吸引の消費動力を小さく
する真空搬送容器を提供することを目的とする。The present invention has been made in order to solve the above problems, and allows substrates to be loaded and unloaded regardless of whether or not the transfer robot has an elevating function, thereby reducing the internal volume of the load lock chamber. It is an object of the present invention to provide a vacuum transfer container that consumes less power for vacuum suction.
【０００６】[0006]
【課題を解決するための手段】本発明による真空搬送容
器は、薄肉板状の被搬送物を真空状態で搬送するための
容器であり、前記被搬送物が挿入・抽出されるフランジ
形状の開口部および前記被搬送物が収納される内容積を
有する真空容器と、該真空容器に内蔵されて前記被搬送
物を保持するホルダと、前記真空容器の開口部に設けら
れた回転戸式真空ゲートバルブと、前記真空容器の外面
に設けられた昇降装置と、で構成され、該昇降装置が前
記真空容器の壁を気密状態で貫通して前記ホルダに連結
されている構成である。A vacuum transfer container according to the present invention is a container for transferring a thin plate-shaped object to be transferred in a vacuum state, and a flange-shaped opening into which the object is inserted and extracted. Container and a vacuum container having an internal volume for accommodating the transported object, a holder built in the vacuum container for holding the transported object, and a rotary door type vacuum gate provided at an opening of the vacuum container. It is composed of a valve and an elevating device provided on the outer surface of the vacuum container, and the elevating device penetrates a wall of the vacuum container in an airtight state and is connected to the holder.
【０００７】さらに詳細には、前記回転戸式真空ゲート
バルブの弁板の前記真空容器内側面に弾性体からなる押
え具が設けられている構成である。More specifically, the pressing member made of an elastic body is provided on the inner surface of the vacuum container of the valve plate of the rotary door type vacuum gate valve.
【０００８】さらに詳細には、前記真空容器内に非駆動
式真空ポンプが設けられている構成である。More specifically, a non-drive type vacuum pump is provided in the vacuum container.
【０００９】[0009]
【作用】本発明による真空搬送容器においては、真空容
器の開口部が回転戸式真空ゲートバルブの弁板を設けら
れているとともにフランジ形状に構成されていることに
より、開口部をロードロック室の開口部に気密状態で接
続することが可能となる。従って、ロードロック室は真
空搬送容器を収納する必要はなく、搬送ロボットの搬送
アーム部のみを収納する大きさで良い。また、真空容器
に内蔵されたホルダに真空容器の外面に設けられた昇降
装置が連結されていることにより、ホルダが真空容器内
で昇降することが可能となる。従って、ロードロック室
に具備される搬送ロボットには昇降機能を必要としな
い。さらに、回転戸型弁板の内面に弾性体からなる押え
具が設けられていることにより、ホルダに保持された被
搬送物は弾性的に押えつけられて移動不能となる。さら
に、真空容器内に非駆動式真空ポンプが設けられている
ことにより、密閉真空状態の真空容器内は常時真空度が
維持される。In the vacuum transfer container according to the present invention, since the opening of the vacuum container is provided with the valve plate of the rotary door type vacuum gate valve and is formed in the shape of a flange, the opening of the load lock chamber is formed. It becomes possible to connect to the opening in an airtight state. Therefore, the load lock chamber does not need to house the vacuum transfer container, and may have a size to store only the transfer arm part of the transfer robot. Further, since the lifting device provided on the outer surface of the vacuum container is connected to the holder built in the vacuum container, the holder can be moved up and down in the vacuum container. Therefore, the transfer robot provided in the load lock chamber does not need the lifting function. Further, since the presser tool made of an elastic body is provided on the inner surface of the rotary door type valve plate, the transported object held by the holder is elastically pressed and becomes immovable. Further, since the non-drive type vacuum pump is provided in the vacuum container, the degree of vacuum is always maintained in the vacuum container in the closed vacuum state.
【００１０】[0010]
【実施例】以下、図面とともに本発明による真空搬送容
器の好適な実施例について詳細に説明する。図１は、本
発明による真空搬送容器の全体構成を示す一部を破断し
た斜視図である。図１において、符号１で示されるもの
は真空搬送容器であり、該真空搬送容器１は、フランジ
形状の開口部２ａを有する真空容器２と、該真空容器２
に内蔵されたホルダ３と、前記真空容器２の開口部２ａ
に設けられた一辺を回転支点とする回転戸式弁板４と、
前記真空容器２の外面に設けられて前記ホルダ３に連結
された昇降装置５と、で構成されている。前記真空容器
２は、半導体、液晶、太陽電池などの基板を収納するた
めに必要な内容積を有する略直方体形状の気密性を有す
る容器であり、略直方体の一面に基板を挿入抽出させる
開口部２ａが形成されている。図１に示される実施例で
は、基板１枚を収納する真空容器２であり、基板を水平
状態で収納した場合に上下方向の短い略直方体であり、
一方の側面に開口部２ａが形成されている。該開口部２
ａに対向する側面はフランジ形状とされ、盲フランジ２
ｂにより閉鎖されている。該盲フランジ２ｂの内面には
非駆動式ポンプであるゲッター６が装着されている。非
駆動式ポンプとしては、ゲッターを用いるゲッターポン
プのほか、ソープションポンプ、イオンポンプを用いて
もよい。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A preferred embodiment of the vacuum transfer container according to the present invention will be described in detail below with reference to the drawings. FIG. 1 is a partially broken perspective view showing the overall structure of a vacuum transfer container according to the present invention. In FIG. 1, reference numeral 1 is a vacuum transfer container, and the vacuum transfer container 1 includes a vacuum container 2 having a flange-shaped opening 2a, and the vacuum container 2
And a holder 3 built in the opening 2a of the vacuum container 2
And a revolving door type valve plate 4 having one side as a rotation fulcrum,
An elevating device 5 provided on the outer surface of the vacuum container 2 and connected to the holder 3. The vacuum container 2 is a substantially rectangular parallelepiped airtight container having an internal volume required to accommodate a substrate such as a semiconductor, a liquid crystal, or a solar cell, and an opening for inserting and extracting the substrate into one surface of the substantially rectangular parallelepiped. 2a is formed. In the embodiment shown in FIG. 1, a vacuum container 2 for accommodating one substrate is a substantially rectangular parallelepiped whose vertical direction is short when the substrate is accommodated in a horizontal state,
An opening 2a is formed on one side surface. The opening 2
The side surface facing a is formed into a flange shape, and the blind flange 2
closed by b. A getter 6 which is a non-driving pump is mounted on the inner surface of the blind flange 2b. As the non-drive pump, a getter pump using a getter, a sorption pump, or an ion pump may be used.
【００１１】前記開口部２ａの外面には、開口部２ａを
覆うに充分な平面積を有し９０度の往復回動をする回転
戸式弁板４が、開口部２ａの両横に下辺を回転支点とし
て往復回転可能に支持されて設けられている。また、前
記真空容器２の開口部２ａに隣接する両側面には、前記
弁板４を回転させるためのリンク機構７および矢印Ａ方
向に操作される開閉レバー８が設けられ、該リンク機構
７の先端が前記弁板４の両横端部に連結され、この弁板
４、リンク機構７及び開閉レバー８により回転戸式真空
ゲートバルブ１０を構成している。さらに、前記真空容
器２の開口部２ａの外周には、前記弁板４を内包するよ
うにポート連結フランジ２ｃが形成されている。従っ
て、前記リンク機構７の先端部は、ベローズ９を装備し
て気密状態を確保した状態で前記ポート連結フランジ２
ｃを貫通し、前記弁板４に連結されている。また、前記
弁板４の前記真空容器２内面となる面には、弁板４が閉
じたときに前記ホルダ３の中間の支持部３ｂと対面する
位置に弾性体よりなる押え具１４が設けられている。な
お、図１においては、押え具１４の弾性体は板バネが使
用されているが、ゴム、プラスチックなどの弾性変形可
能な部材でもよい。On the outer surface of the opening 2a, there is a revolving door type valve plate 4 having a plane area sufficient to cover the opening 2a and capable of reciprocating rotation of 90 degrees. It is provided as a rotation fulcrum so as to be reciprocally rotatable. A link mechanism 7 for rotating the valve plate 4 and an opening / closing lever 8 operated in the direction of arrow A are provided on both side surfaces of the vacuum container 2 adjacent to the opening 2a. The front end is connected to both lateral ends of the valve plate 4, and the valve plate 4, the link mechanism 7, and the opening / closing lever 8 constitute a rotary door type vacuum gate valve 10. Further, a port connecting flange 2c is formed on the outer periphery of the opening 2a of the vacuum container 2 so as to enclose the valve plate 4. Therefore, the end portion of the link mechanism 7 is equipped with the bellows 9 to ensure the airtight state, and the port connecting flange 2
It penetrates through c and is connected to the valve plate 4. Further, a pressing member 14 made of an elastic body is provided on a surface of the valve plate 4 which is an inner surface of the vacuum container 2 at a position facing the intermediate support portion 3b of the holder 3 when the valve plate 4 is closed. ing. In FIG. 1, a leaf spring is used as the elastic body of the retainer 14, but an elastically deformable member such as rubber or plastic may be used.
【００１２】前記ホルダ３は、図２および図３に示され
るように、略半円形状の平板部３ａと、略半円形状の円
弧の両端部および中間部の３箇所において、縦断面形状
が略半円形状の中心方向へ拡大する横Ｖ字溝を形成され
た構成よりなる支持部３ｂとで構成されている。前記真
空容器２の上面の略中央部には前記昇降装置５が設けら
れている。該昇降装置５は、図４および図５に示される
ように、昇降棒１１と昇降駆動部１２とで構成されてい
る。すなわち、図４においては、前記昇降棒１１は一端
にネジ部１１ａが形成されて軸方向に移動可能であるが
回転不可能に保持され、前記ネジ部１１ａには定位置で
回転のみ可能な昇降部材１２ａが螺合され、該昇降部材
１２ａに回転ハンドル１２ｂが設けられて前記昇降駆動
部１２が構成されている。前記昇降装置５は、前記昇降
棒１１が前記真空容器２の壁を貫通し、その他端が前記
ホルダ３の平板部３ａに連結固定されている。また、前
記昇降棒１１を内包して、前記ホルダ３の平板部３ａと
前記真空容器２の壁との間にはベローズ１３が設けられ
ており、真空容器２内の気密性が確保されている。As shown in FIGS. 2 and 3, the holder 3 has a substantially semicircular flat plate portion 3a and three semicircular arcs having both ends and an intermediate portion, each having a longitudinal sectional shape. And a support portion 3b having a configuration in which a lateral V-shaped groove that expands toward the center of the substantially semicircular shape is formed. The elevating device 5 is provided at a substantially central portion of the upper surface of the vacuum container 2. As shown in FIGS. 4 and 5, the lifting device 5 includes a lifting rod 11 and a lifting drive unit 12. That is, in FIG. 4, the elevating rod 11 has a screw portion 11a formed at one end and is axially movable, but is held unrotatable, and the screw portion 11a is an elevating rod that can only rotate at a fixed position. The member 12a is screw-engaged, and the lift handle 12b is provided on the lift member 12a to form the lift drive unit 12. In the elevating device 5, the elevating rod 11 penetrates the wall of the vacuum container 2, and the other end is connected and fixed to the flat plate portion 3 a of the holder 3. A bellows 13 is provided between the flat plate portion 3 a of the holder 3 and the wall of the vacuum container 2 to enclose the elevating rod 11 and ensure airtightness in the vacuum container 2. .
【００１３】また、図５に示す昇降装置の他の実施例に
おいては、前記真空容器２の上面に直立して真空容器に
連通する密閉筒２ｄが形成され、該密閉筒２ｄ内には、
一端部に磁性体１１ｂを設けた昇降棒１１が内挿され、
該昇降棒１１の前記真空容器２内の他端が前記ホルダ３
の平板部３ａに連結固定されている。前記密閉筒２ｄに
は、その外周に沿って筒軸方向に移動および任意の位置
で停止固定可能な磁性体製の昇降駆動部１２が装備さ
れ、この磁性体はその内周面の磁性が前記昇降棒１１の
磁性体１１ｂ外周の磁性と逆であり、相互に引き合うよ
うに構成されている。In another embodiment of the elevating device shown in FIG. 5, a closed cylinder 2d which stands upright on the upper surface of the vacuum container 2 and communicates with the vacuum container is formed in the closed cylinder 2d.
An elevating rod 11 having a magnetic body 11b at one end is inserted,
The other end of the elevating rod 11 inside the vacuum container 2 is the holder 3
Is connected and fixed to the flat plate portion 3a. The airtight cylinder 2d is equipped with an elevating and lowering drive unit 12 made of a magnetic material that can move along the outer circumference in the cylinder axis direction and can be stopped and fixed at an arbitrary position. The magnetism of the outer circumference of the magnetic body 11b of the elevating rod 11 is opposite to that of the magnetic body 11b, and is configured to attract each other.
【００１４】次に、以上のように構成された真空搬送容
器１が基板２１を搬送するために、処理装置２２との間
で基板２１の授受を行う場合について図６と共に説明す
る。すなわち、図６において処理装置２２の開口部２２
ａには第１真空ゲートバルブ２３を介してロードロック
室２４の一端が接続され、該ロードロック室２４の他端
に、第２真空ゲートバルブ２５および連結ポート２６を
介して前記真空搬送容器１が接続されている。なお、図
６における真空搬送容器１は図１に示される真空搬送容
器１と異なり、弁板４が上方に９０度回動して開くよう
に構成されている。前記ロードロック室２４には搬送ロ
ボット２７が設けられ、搬送アーム２７ａがロードロッ
ク室を中心として前記処理装置２２と前記真空搬送容器
１との間を往復動する。前記連結ポート２６と前記真空
搬送容器１とは、連結ポート２６のフランジ部に真空搬
送容器１のポート連結フランジ２ｃがクランプ２８によ
り気密状態で連結されている。また、前記連結ポート２
６には、真空バルブ２９を介して真空吸引装置３０およ
びガス導入バルブ３１を介してガス源３２が接続されて
いる。以上の構成において、真空搬送容器１は常時回転
戸式真空ゲートバルブ１０を閉じられて内部を所定の真
空状態に維持されており、ロードロック室２４もまた常
時第１真空ゲートバルブ２３および第２真空ゲートバル
ブ２５を閉じられて内部を所定の真空状態に維持されて
いる。空の真空搬送容器１に処理装置２２から基板２１
を搬入するには、先ず、真空搬送容器１を連結ポート２
６にクランプ２８により気密状態に接続する。次に、ガ
ス導入バルブ３１を閉じた状態で真空バルブ２９を開い
て真空吸引装置３０を作動させ、ポート連結フランジ２
ｃおよび連結ポート２６で形成される空間を所定の真空
状態すなわち真空搬送容器１およびロードロック室２４
の真空度と同程度の真空度に吸引排気する。次に、回転
戸式真空ゲートバルブ１０、第２真空ゲートバルブ２５
および第１真空ゲートバルブ２３を開き、ロードロック
室２４を介して処理装置２２と真空搬送容器１とを真空
状態で連通する。Next, the case where the substrate 21 is transferred to and from the processing apparatus 22 in order for the vacuum transfer container 1 configured as described above to transfer the substrate 21 will be described with reference to FIG. That is, in FIG. 6, the opening 22 of the processing device 22 is shown.
One end of a load lock chamber 24 is connected to a via a first vacuum gate valve 23, and the other end of the load lock chamber 24 is connected to the vacuum transfer container 1 via a second vacuum gate valve 25 and a connection port 26. Are connected. The vacuum transfer container 1 in FIG. 6 is different from the vacuum transfer container 1 shown in FIG. 1 in that the valve plate 4 is rotated 90 degrees upward to open. A transfer robot 27 is provided in the load lock chamber 24, and a transfer arm 27a reciprocates between the processing device 22 and the vacuum transfer container 1 around the load lock chamber. The connection port 26 and the vacuum transfer container 1 are connected to the flange portion of the connection port 26 with the port connection flange 2c of the vacuum transfer container 1 by a clamp 28 in an airtight state. Also, the connection port 2
A gas source 32 is connected to 6 via a vacuum valve 29 via a vacuum suction device 30 and a gas introduction valve 31. In the above-described configuration, the vacuum transfer container 1 is always kept in the predetermined vacuum state by closing the rotary door type vacuum gate valve 10, and the load lock chamber 24 is also always in the first vacuum gate valve 23 and the second vacuum gate valve 23. The vacuum gate valve 25 is closed and the inside is maintained in a predetermined vacuum state. The substrate 21 is transferred from the processing device 22 to the empty vacuum transfer container 1.
First, the vacuum transfer container 1 is connected to the connecting port 2
6 is connected in an airtight state by a clamp 28. Next, with the gas introduction valve 31 closed, the vacuum valve 29 is opened to operate the vacuum suction device 30, and the port connecting flange 2
The space formed by c and the connection port 26 has a predetermined vacuum state, that is, the vacuum transfer container 1 and the load lock chamber 24.
Suction and exhaust to a vacuum degree similar to that of. Next, the rotary door type vacuum gate valve 10 and the second vacuum gate valve 25
Further, the first vacuum gate valve 23 is opened, and the processing device 22 and the vacuum transfer container 1 are connected in a vacuum state via the load lock chamber 24.
【００１５】次に、搬送ロボット２７が操作され、搬送
アーム２７ａが処理装置２２内の基板２１を搬送アーム
２７ａの上面の載せて真空搬送容器１内へ搬送する。そ
の際、ホルダ３は、支持部３ｂの横Ｖ字溝が搬送される
基板２１の高さに一致するように昇降装置５により位置
調節されている。搬送アーム２７ａにより基板２１が３
箇所の支持部３ｂの横Ｖ字溝に挿入されると、昇降装置
５を操作してホルダ３を上昇させ、基板２１を搬送アー
ム２７ａの上から持上げる。次に、搬送ロボット２７を
操作して搬送アーム２７ａを折りたたみロードロック室
２４内へ収納する。次に、第１真空ゲートバルブ２３、
第２真空ゲートバルブ２５および回転戸式真空ゲートバ
ルブ１０を閉じる。回転戸式真空ゲートバルブ１０の弁
板４が閉じられると、弁板４の内面に設けられた弾性体
の板バネからなる押え具１４により基板２１がホルダ３
の支持部３ｂに弾性的に押付けられて固定保持される。
次に、真空バルブ２９を閉じ、ガス導入バルブ３１を開
いてガス源３２からガスを供給し、連結ポートフランジ
２ｃ及び連結ポート２６で形成される空間を大気圧に均
圧する。以上の操作により、基板２１を収納した真空搬
送容器１は、クランプ２８を解放することにより連結ポ
ート２６から切離され、基板２１を任意の場所に搬送す
ることができる。真空搬送容器１の移動中、真空搬送容
器１内では、基板２１は押え具１４により押圧されて固
定保持されていることにより移動することが無く、移動
の際の部材間の摩擦による微粒子の発生が無い。また、
真空搬送容器１内の真空度の低下は非駆動式真空ポンプ
であるゲッター６により吸収され、清浄度および真空度
が維持される。Next, the transfer robot 27 is operated, and the transfer arm 27a transfers the substrate 21 in the processing apparatus 22 into the vacuum transfer container 1 by placing the substrate 21 on the upper surface of the transfer arm 27a. At that time, the position of the holder 3 is adjusted by the elevating device 5 so that the horizontal V-shaped groove of the supporting portion 3b matches the height of the substrate 21 to be transported. The substrate 21 is moved to 3 by the transfer arm 27a.
When it is inserted into the horizontal V-shaped groove of the support portion 3b at some position, the elevating device 5 is operated to raise the holder 3 and lift the substrate 21 from above the transfer arm 27a. Next, the transfer robot 27 is operated to store the transfer arm 27 a in the folding load lock chamber 24. Next, the first vacuum gate valve 23,
The second vacuum gate valve 25 and the rotary door type vacuum gate valve 10 are closed. When the valve plate 4 of the rotary door type vacuum gate valve 10 is closed, the substrate 21 is held by the holder 21 by the retainer 14 made of an elastic leaf spring provided on the inner surface of the valve plate 4.
It is elastically pressed against the supporting portion 3b of and is fixedly held.
Next, the vacuum valve 29 is closed and the gas introduction valve 31 is opened to supply gas from the gas source 32 to equalize the space formed by the connection port flange 2c and the connection port 26 to atmospheric pressure. By the above operation, the vacuum transfer container 1 accommodating the substrate 21 is separated from the connection port 26 by releasing the clamp 28, and the substrate 21 can be transferred to an arbitrary place. During the movement of the vacuum transfer container 1, the substrate 21 does not move in the vacuum transfer container 1 because it is pressed and fixedly held by the retainer 14, and fine particles are generated due to friction between the members during the movement. There is no. Also,
The decrease in the degree of vacuum in the vacuum transfer container 1 is absorbed by the getter 6, which is a non-drive type vacuum pump, and the degree of cleanliness and the degree of vacuum are maintained.
【００１６】基板２１を収納した真空搬送容器１から処
理装置２２へ基板２１を搬出するには、先ず、前述の搬
入の場合と同様に真空搬送容器１を連結ポート２６へ接
続する。前述の搬入の場合と同様に、ロードロック室２
４を介して真空搬送容器１と処理装置２２とが真空状態
で連通された状態で搬送ロボット２７を操作し、搬送ア
ーム２７ａを真空搬送容器１内の基板２１の下側へ伸ば
す。次に、昇降装置５を操作してホルダ３を降下させ、
基板２１を搬送アーム２７ａに載せる。次に、搬送ロボ
ット２７を操作して搬送アーム２７ａにより基板２１を
真空搬送容器１から処理装置２２へ搬送し、処理装置２
２へ渡す。次に、搬送ロボット２７を操作して搬送アー
ム２７ａを折りたたみロードロック室２４内へ収納す
る。以後前述の搬入の場合と同様に真空搬送容器１を連
結ポート２６から切離す。以上の実施例では、基板１枚
を収納する真空容器２について説明したが、本発明は複
数枚の基板を収納する真空容器についても同様に適用で
きる。In order to carry out the substrate 21 from the vacuum carrying container 1 accommodating the substrate 21 to the processing apparatus 22, first, the vacuum carrying container 1 is connected to the connection port 26 as in the case of the carrying-in described above. As in the case of the above-mentioned loading, the load lock chamber 2
The transfer robot 27 is operated in a state where the vacuum transfer container 1 and the processing device 22 are communicated in a vacuum state via the transfer arm 27, and the transfer arm 27a is extended to the lower side of the substrate 21 in the vacuum transfer container 1. Next, the elevator 3 is operated to lower the holder 3,
The substrate 21 is placed on the transfer arm 27a. Next, the transfer robot 27 is operated to transfer the substrate 21 from the vacuum transfer container 1 to the processing apparatus 22 by the transfer arm 27a, and the processing apparatus 2 is operated.
Hand over to 2. Next, the transfer robot 27 is operated to store the transfer arm 27 a in the folding load lock chamber 24. Thereafter, the vacuum transfer container 1 is separated from the connection port 26 as in the case of the above-mentioned loading. Although the vacuum container 2 which accommodates one substrate has been described in the above embodiments, the present invention can be similarly applied to a vacuum container which accommodates a plurality of substrates.
【００１７】[0017]
【発明の効果】本発明による真空搬送容器は以上のよう
に構成されているため、次のような効果を得ることがで
きる。 (1) 真空容器のフランジ形状の開口部に回転戸式真空
ゲートバルブが設けられていることにより、真空搬送容
器をロードロック室内へ収納する必要が無くなりロード
ロック室を搬送ロボットの搬送アーム部のみを収納可能
な大きさに小形化される。 (2) 真空搬送容器をロードロック室に接続する場合
は、ポート連結フランジおよび連結ポートで形成される
小さな空間を所定の真空状態に吸引排気するのみであ
り、真空吸引のための装置が小形化され、消費動力が小
さくなり、短時間で所定真空度に到達できる。 (3) 真空容器の外面に設けられた昇降装置が内蔵され
たホルダに連結されて昇降することにより、ロードロッ
ク室に具備される搬送ロボットの昇降機能の有無にかか
わらず基板の搬入搬出が可能となった。 (4) 回転戸式真空ゲートバルブの弁板の内面に設けら
れた押え具により、ホルダに保持された基板は押えつけ
られて固定され、真空搬送容器が衝撃を受けても基板が
動くことは無く、微粒子の発生および基板の損傷が起こ
らない。 (5) 真空容器内に非駆動式真空ポンプが設けられてい
ることにより、基板あるいは真空容器壁からガスが放出
される場合でも、これらのガスが速かに吸収されるため
真空度の低下が防止され、基板の表面の劣化を防止す
る。Since the vacuum transfer container according to the present invention is constructed as described above, the following effects can be obtained. (1) Since the rotary door type vacuum gate valve is installed in the flange-shaped opening of the vacuum container, it is not necessary to store the vacuum transfer container in the load lock chamber, and the load lock chamber is only the transfer arm part of the transfer robot. Is miniaturized to a size that can store. (2) When connecting the vacuum transfer container to the load lock chamber, only the small space formed by the port connection flange and connection port is sucked and exhausted to a predetermined vacuum state, and the device for vacuum suction is downsized. As a result, the power consumption is reduced and the predetermined vacuum degree can be reached in a short time. (3) Substrate can be loaded and unloaded regardless of whether the transfer robot equipped in the load lock chamber has an elevating function by connecting to a holder that has a built-in elevating device provided on the outer surface of the vacuum container and moving up and down. Became. (4) The substrate held in the holder is clamped and fixed by the retainer provided on the inner surface of the valve plate of the rotary door type vacuum gate valve, and the substrate does not move even if the vacuum transfer container receives an impact. No generation of fine particles or damage to the substrate occurs. (5) Since the non-drive type vacuum pump is installed in the vacuum container, even if gas is released from the substrate or the wall of the vacuum container, these gases are absorbed quickly and the degree of vacuum is reduced. It prevents the deterioration of the surface of the substrate.
【図１】本発明による真空搬送容器の全体構成を示す一
部断面の斜視図である。FIG. 1 is a perspective view, partly in section, showing the overall structure of a vacuum transfer container according to the present invention.
【図２】ホルダの断面図である。FIG. 2 is a sectional view of a holder.
【図３】ホルダの下面図（図２の矢印III）である。FIG. 3 is a bottom view of the holder (arrow III in FIG. 2).
【図４】昇降装置の断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view of a lifting device.
【図５】他の昇降装置の断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view of another lifting device.
【図６】真空搬送容器へ基板を搬入し、搬出する状況を
示す断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view showing a state in which a substrate is loaded into and unloaded from a vacuum transport container.
１ 真空搬送容器 ２ 真空容器 ３ ホルダ ４ 弁板 ５ 昇降装置 ６ ゲッター（非駆動式真空ポンプ） １０ 回転戸式真空ゲートバルブ １４ 押え具（弾性体） ２１ 基板 ２２ 処理装置 ２４ ロードロック室 ２７ 搬送ロボット 1 Vacuum Transfer Container 2 Vacuum Container 3 Holder 4 Valve Plate 5 Lifting Device 6 Getter (Non-Drive Vacuum Pump) 10 Rotating Door Vacuum Gate Valve 14 Holding Tool (Elastic Body) 21 Substrate 22 Processing Device 24 Load Lock Chamber 27 Transfer Robot
Claims (3)
るための容器であり、前記被搬送物が挿入・抽出される
フランジ形状の開口部(2a)および前記被搬送物が収納さ
れる内容積を有する真空容器(2)と、該真空容器(2)に内
蔵されて前記被搬送物を保持するホルダ(3)と、前記真
空容器(2)の開口部(2a)に設けられた回転戸式真空ゲー
トバルブ(10)と、前記真空容器(2)の外面に設けられた
昇降装置(5)と、で構成され、該昇降装置(5)が前記真空
容器(2)の壁を気密状態で貫通して前記ホルダ(3)に連結
されていることを特徴とする真空搬送容器。1. A container for transporting a thin plate-shaped object to be conveyed in a vacuum state, in which a flange-shaped opening (2a) into which the object to be conveyed is inserted and extracted and the object to be conveyed are stored. A vacuum container (2) having an internal volume, a holder (3) built in the vacuum container (2) for holding the transported object, and an opening (2a) of the vacuum container (2). A rotary door type vacuum gate valve (10) and an elevating device (5) provided on the outer surface of the vacuum container (2), and the elevating device (5) is a wall of the vacuum container (2). A vacuum transfer container which is connected to the holder (3) by penetrating through it in an airtight state.
板(4)の前記真空容器(2)内側面に弾性体からなる押え具
(14)が設けられていることを特徴とする請求項１記載の
真空搬送容器。2. A retainer made of an elastic material on the inner surface of the vacuum container (2) of the valve plate (4) of the rotary door type vacuum gate valve (10).
The vacuum transfer container according to claim 1, further comprising (14).
プ(6)が設けられていることを特徴とする請求項１また
は２記載の真空搬送容器。3. The vacuum transfer container according to claim 1, wherein a non-drive type vacuum pump (6) is provided in the vacuum container (2).
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15357595A JP3032701B2 (en) | 1995-06-20 | 1995-06-20 | Vacuum transfer container |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP15357595A JP3032701B2 (en) | 1995-06-20 | 1995-06-20 | Vacuum transfer container |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH098115A true JPH098115A (en) | 1997-01-10 |
| JP3032701B2 JP3032701B2 (en) | 2000-04-17 |
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| JP15357595A Expired - Fee Related JP3032701B2 (en) | 1995-06-20 | 1995-06-20 | Vacuum transfer container |
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| JP (1) | JP3032701B2 (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014075166A (en) * | 2012-10-04 | 2014-04-24 | Showa Denko Kk | Method and device for manufacturing magnetic recording medium |
| JP2014137828A (en) * | 2013-01-15 | 2014-07-28 | Showa Denko Kk | Method and apparatus for manufacturing magnetic recording medium |
-
1995
- 1995-06-20 JP JP15357595A patent/JP3032701B2/en not_active Expired - Fee Related
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3032701B2 (en) | 2000-04-17 |
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