JPH097810A - 高耐蝕性永久磁石およびその製造方法 - Google Patents

高耐蝕性永久磁石およびその製造方法

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JPH097810A
JPH097810A JP7151238A JP15123895A JPH097810A JP H097810 A JPH097810 A JP H097810A JP 7151238 A JP7151238 A JP 7151238A JP 15123895 A JP15123895 A JP 15123895A JP H097810 A JPH097810 A JP H097810A
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【目的】 粒界腐蝕を防ぐための表面処理を施した、高
耐蝕性のR−Fe −B系永久磁石を製造する。 【構成】 R−Fe −B系永久磁石(Rは、Yを含む希
土類元素の少なくとも一種)の表面に硬度の低い金属め
っき層とその上に硬度の高い金属めっき層を積層したこ
とを特徴とする高耐蝕性永久磁石。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、希土類永久磁石、特に
高耐蝕性を有するR−Fe −B系永久磁石及びその製造
方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】希土類永久磁石は優れた磁気特性により
電気・電子機器の分野で多用されており、近年益々その
高性能化が要求されている。この内、R−Fe −B系永
久磁石は、従来のR−Co 系永久磁石と比較すると、R
−Fe −B系永久磁石の主要元素であるNd がR−Co
系永久磁石の主要元素であるSm より資源的に豊富に存
在すること、供給が安定しないCo を大量に使用しない
ことから原材料費が安価であり、磁気特性もR−Co 系
永久磁石をはるかにしのぐ極めて優れた永久磁石材料で
あるため、これまでR−Co 系永久磁石が使用されてき
た小型磁気回路がこれによって代替されるだけではな
く、コスト面からハードフェライトあるいは電磁石が使
用されていた分野にも広く応用されようとしている。し
かしながら、このR−Fe −B系永久磁石は大気中の湿
度と極めて容易に反応し酸化するという欠点を有してい
る。酸化は磁石表面上に酸化物が生成するだけではな
く、表面から内部へ結晶粒界を通じて腐蝕が進行し、い
わゆる粒界腐蝕の現象を生じるが、これはR−Fe −B
系永久磁石の粒界に非常に活性なRリッチ相が存在する
ためである。粒界の腐蝕は極めて大きな磁気特性の劣化
を引き起こし、もし実用時に腐蝕が進行すれば、磁石を
組み込んだ機器の性能を低下させ、機器周辺を汚染する
等の問題が生じる。
【0003】このようなR−Fe −B系永久磁石の欠点
を克服するため各種の表面処理方法が提案されている
が、特にニッケルめっきは、樹脂塗装、Al イオンプレ
ーティング、化成処理、その他の表面処理と比べて、機
械的強度が高い、被覆層自体の吸湿性がきわめて少な
い、ピンホールが少ないといった利点を有しているた
め、一般に広く使用されている。
【0004】しかしながら、ピンホールが少ないとは言
え、ピンホールが皆無であるというわけにはいかず、さ
らなる耐蝕性の向上を目指して、各種多層めっきが提案
されている。たとえば、特開平1-268004号公報では、下
地として無光沢金属めっきを施し、その上にピンホール
の少ない被覆層を設けることで耐蝕性の向上を図ってい
る。また、特開平1-42805 号公報ではCu 層とNi-Pの
二重層を設けることで耐蝕性を改善している。さらに
は、特開平2-23603 号公報、特開平4-253306号公報のよ
うにニッケルめっき層内のイオウ濃度を変化させた層を
積層することで高耐蝕性を目指したものもある。その他
多様な組み合わせの多層めっきが提案されている。さら
には、ニッケルめっきを施した後に、耐蝕性樹脂層や耐
蝕性化成被膜を有したものも提案されている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、R−F
e −B系永久磁石の耐蝕性に対する要求は近年ますます
厳しくなり、上記手法よりもさらに耐蝕性を改善するこ
とが必要となってきている。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記課題
を解決しようと鋭意努力した結果、本発明に至った。す
なわち、本発明は下記(1)〜(7)からなり、前記問
題点を解決するものである。 (1)R−Fe −B系永久磁石(Rは、Yを含む希土類
元素の少なくとも一種)の表面に硬度の低い金属めっき
層とその上に硬度の高い金属めっき層を積層したことを
特徴とする高耐蝕性永久磁石。 (2)硬度の低い金属めっき層が無光沢ニッケルめっき
層であり、硬度の高い金属めっき層が光沢ニッケルめっ
き層であることを特徴とする上記(1)に記載の高耐蝕
性永久磁石。 (3)硬度の低い金属めっき層の膜厚と硬度の高い金属
めっき層の膜厚の比が、6:4〜8:2であることを特
徴とする上記(1)または(2)に記載の高耐蝕性永久
磁石。 (4)R−Fe −B系永久磁石(Rは、Yを含む希土類
元素の少なくとも一種)の表面に硬度の低い金属めっき
層を被覆した後、機械的な衝撃を該永久磁石に与えて硬
度の低い金属めっき層のピンホールをつぶし、次いでそ
の上に硬度の高い金属めっき層を被覆することを特徴と
する高耐蝕性永久磁石の製造方法。 (5)R−Fe −B系永久磁石(Rは、Yを含む希土類
元素の少なくとも一種)の表面に、機械的な衝撃を該永
久磁石に与えながら硬度の低い金属めっき層を被覆して
硬度の低い金属めっき層のピンホールをつぶし、次いで
その上に硬度の高い金属層を被覆することを特徴とする
高耐蝕性永久磁石の製造方法。 (6)硬度の低い金属めっき層が無光沢ニッケルめっき
層であり、硬度の高い金属めっき層が光沢ニッケルめっ
き層であることを特徴とする上記(4)または(5)に
記載の高耐蝕性永久磁石の製造方法。 (7)硬度の低い金属めっき層の膜厚と硬度の高い金属
めっき層の膜厚の比が、6:4〜8:2であることを特
徴とする上記(4)〜(6)のいずれかに記載の高耐蝕
性永久磁石の製造方法。 以下に、本発明を詳しく説明する。
【0007】本発明の高耐蝕性永久磁石は、その表面に
硬度の低い金属めっき層と硬度の高い金属めっき層から
なる2重層を有する。金属めっき被膜の硬度はビッカー
ス硬度計などで測定されるが、金属めっき被膜の硬度を
ビッカース硬度計で測定する場合には、素地の影響を避
けるようにして測定しなければならない。本発明の硬度
の低い金属めっき層はビッカース硬度(Hv )500 以
下、硬度の高い金属めっき層はビッカース硬度(Hv )
500 〜1500がよい。硬度の低い金属めっき層のビッカー
ス硬度(Hv )が500 を超えた場合には、機械的衝撃を
加えた際に金属めっき被膜が塑性変形をおこさずピンホ
ールがつぶれない上に、機械的衝撃によって金属めっき
被膜に割れなどが発生しやすくなるため、不適である。
また、硬度の高い金属めっき層のビッカース硬度(Hv
)が500 未満の時には、永久磁石表面の耐摩耗性が確
保できず、また、キズがつきやすくなるため、1500を超
えた場合は、めっきにクラックが生じやすくなるため、
好ましくない。
【0008】本発明における硬度の低い金属めっき層と
しては、無光沢ニッケルめっき層、銅めっき層、亜鉛め
っき層などがあり、硬度の高い金属めっき層としては、
光沢ニッケルめっき層、ニッケル合金めっき層、無電解
ニッケル−リンめっき層、クロムめっき層などがある。
これらの中から種々の組み合わせで永久磁石表面に二重
層を形成するが、無光沢ニッケルめっき層と光沢ニッケ
ルめっき層の組み合わせが、好ましい。
【0009】本発明では、R−Fe −B系永久磁石表面
に硬度の低い金属めっき層と硬度の高い金属めっき層と
の二重層を設けるが、その被膜を設ける際に、まず、R
−Fe −B系永久磁石表面に硬度の低い金属めっき層を
設け、次いで、機械的な衝撃を加えてその硬度の低い金
属めっき層に存在するピンホールをつぶして永久磁石表
面と大気とを遮断し、その後、硬度の高い金属被膜を被
覆する。または、機械的な衝撃を与えながら硬度の低い
金属めっき層を永久磁石表面に被覆してピンホールをつ
ぶし、ついで、硬度の高い金属被膜を被覆する。
【0010】機械的な衝撃を硬度の低い金属めっき層に
与えるには、例えば、直径1〜30mm程度の鋼球を硬度の
低い金属めっき層にぶつけるなどの方法がある。ただ
し、機械的衝撃力が大きすぎると永久磁石体を破損して
しまうため、注意が必要である。永久磁石体が破損して
しまう衝撃力は、その永久磁石体の形状や寸法などによ
って大きく異なってくるため、数値限定するのが困難で
ある。そのため、機械的衝撃力を永久磁石体に与えると
きには、事前にその衝撃力によって被処理物である永久
磁石体が破損してしまわないことを確認することが望ま
しい。また、機械的衝撃力が弱すぎる場合には、ピンホ
ールがつぶれず、本発明の効果は得られない。
【0011】本発明によるR−Fe −B系永久磁石表面
の、硬度の低い金属めっき層の膜厚と硬度の高い金属め
っき層の膜厚の比は、6:4〜8:2とするのが好まし
い。耐蝕性がこの範囲内で更に向上するためである。ま
た、二重の耐蝕性金属被膜の厚さはそれぞれ、硬度の低
い金属めっき層が1〜20μm、好ましくは5〜15μ
m、硬度の高い金属めっき層が1〜15μm、好ましく
は2〜10μmであり、これら二重の金属めっき層の合
計の厚みは5〜30μmが適当である。合計膜厚が30
μmより厚いと、めっきに要する時間及び薬剤量が多大
で費用がかかり過ぎるため実用的でない。5μm未満で
は、めっき膜が薄すぎて耐蝕性が劣化してしまう。
【0012】本発明のR−Fe −B系永久磁石は、R
(Rは、Yを含む希土類元素の少なくとも一種)、Fe
、Bを主要元素とし、その組成は、Rが5〜40重量
%、Feが50〜90重量%、Bが0.2〜8重量%で
あることが好ましい。Rの量が、5重量%未満ではα−
Fe の析出量が多くなり過ぎて高保磁力が得られず、ま
た40重量%を超えるとRを含む非磁性相が多くなり過
ぎて残留磁束密度が低下してしまう。Fe の量は50重量
%未満では残留磁束密度が低くて磁石特性が得られず、
90重量%より多いとα−Fe の析出量が多くなり過ぎ
て高保磁力が得られない。B量は0.2重量%未満では
保磁力が得られず、8重量%より多いとBリッチな非磁
性相が多くなり過ぎて残留磁束密度が低下する。また、
磁気特性改善のために、C、Al 、Si 、Ti 、V、C
r 、Mn 、Co、Ni 、Cu 、Zn 、Ga 、Zr 、Nb
、Mo 、Ag 、Sn 、Hf 、Ta 、Wなどの元素を添
加したものも本発明に含まれる。これら添加元素の添加
量は、Coが30重量%以下、好ましくは0.5〜20
重量%であり、その他の添加元素は合計で8重量%以下
とするのがよい。Co は残留磁束密度の改善のために添
加するものであるが、その量が30重量%を超えると保
磁力が低下する。その他の添加元素は、合計で8重量%
を超えると磁気特性が劣化してしまうので避けるべきで
ある。
【0013】以上のような組成になるように原料を配合
し、高周波溶解炉などを用いて溶解、鋳造してインゴッ
トを作製し、そのインゴットをジョークラッシャー、ス
タンプミルなどで粗粉砕した後、ボールミル、ジェット
ミルなどで微粉砕し、平均粒径1〜20μmの微粉末を得
る。この微粉末を磁場中で成形を行い、1000〜1250℃で
0.5 〜10時間焼結し、最後に400 〜900 ℃で熱処理し、
R−Fe −B系永久磁石を製造する。なお、R−Fe −
B系合金は非常に酸化しやすいため、上記の工程は真空
中またはアルゴンガス中などの不活性雰囲気中で行われ
る。
【0014】
【作用】本発明によれば、R−Fe −B系永久磁石表面
に第1層目として硬度の低い金属めっき層を施し、その
第1層目の金属めっき層に存在するピンホールを機械的
な衝撃を加えてつぶしてしまうため、第1層目のピンホ
ールは塞がってしまい、永久磁石表面は完全に大気と遮
断される。しかしながら、硬度が低い金属めっき層だけ
では機械的強度が十分ではないので、さらにその上に、
硬度の高い金属被膜を施すことにより永久磁石の表面被
膜の耐摩耗性を確保する。
【0015】
【実施例】以下、本発明の実施態様を実施例を挙げて具
体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるもので
はない。 実施例1〜実施例5 重量%で32Nd −59.3Fe −7Co −1.2 B−0.5 Al
組成となるように、純度99.9wt%以上の各原料金属を、
誘導加熱高周波溶解炉を用いてアルゴン雰囲気中で溶
解、鋳造し合金インゴットを作製した。この合金インゴ
ットをアルゴン雰囲気中1100℃×24時間の均質化熱処理
を行った後、アルゴン雰囲気中でジョークラッシャー、
ブラウンミルを用いて粗粉砕し、次いで、窒素ガスを用
いたジェットミルで微粉砕を行い、平均粒径5μmのR
−Fe −B系磁石粉を作製した。この磁石粉を15kOeの
磁場を印加し磁場印加方向と垂直方向に1ton/cm2 の圧
力をかけて成形を行った。この成形体をアルゴン雰囲気
中にて1060℃で90分焼結を行い、その後、さらに540 ℃
で時効熱処理を行い、永久磁石とした。得られた永久磁
石から30mm×20mm×10mmの試験片を切り出した。この試
験片に表1中、実施例1〜5に記した硬度の低い金属め
っき層をそれぞれ施した後、直径が15mmの鋼球を試験片
表面にぶつけて機械的衝撃を与え、次いで、表1に記し
た種々の硬度の高い金属めっき層を被覆した。被覆した
各試験片を60℃、95%相対湿度の試験槽中に600 時間保
持した後、外観を観察して、耐蝕性を評価した。結果を
表1に示す。
【0016】比較例1〜比較例5 切り出した試験片に機械的衝撃を与えなかった以外は実
施例1〜実施例5と同様に行った。これらの耐蝕試験の
結果も表1に記す。
【0017】
【表1】
【0018】実施例6〜10 試験片を切り出した後に、鋼球を試験片表面にぶつけて
機械的衝撃を与えながら、硬度の低い金属めっき層を試
験片表面に施した以外は実施例1〜実施例5と同様にし
て行った。これらの耐蝕試験の結果を表2に示す。
【0019】
【表2】
【0020】
【発明の効果】本発明により、高耐蝕性のR−Fe −B
系永久磁石を得ることができる。

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 R−Fe −B系永久磁石(Rは、Yを含
    む希土類元素の少なくとも一種)の表面に硬度の低い金
    属めっき層とその上に硬度の高い金属めっき層を積層し
    たことを特徴とする高耐蝕性永久磁石。
  2. 【請求項2】 硬度の低い金属めっき層が無光沢ニッケ
    ルめっき層であり、硬度の高い金属めっき層が光沢ニッ
    ケルめっき層である請求項1に記載の高耐蝕性永久磁
    石。
  3. 【請求項3】 硬度の低い金属めっき層の膜厚と硬度の
    高い金属めっき層の膜厚の比が、6:4〜8:2である
    請求項1または請求項2に記載の高耐蝕性永久磁石。
  4. 【請求項4】 R−Fe −B系永久磁石(Rは、Yを含
    む希土類元素の少なくとも一種)の表面に硬度の低い金
    属めっき層を被覆した後、機械的な衝撃を該永久磁石に
    与えて硬度の低い金属めっき層のピンホールをつぶし、
    次いでその上に硬度の高い金属めっき層を被覆すること
    を特徴とする高耐蝕性永久磁石の製造方法。
  5. 【請求項5】 R−Fe −B系永久磁石(Rは、Yを含
    む希土類元素の少なくとも一種)の表面に、機械的な衝
    撃を該永久磁石に与えながら硬度の低い金属めっき層を
    被覆して硬度の低い金属めっき層のピンホールをつぶ
    し、次いでその上に硬度の高い金属めっき層を被覆する
    ことを特徴とする高耐蝕性永久磁石の製造方法。
  6. 【請求項6】 硬度の低い金属めっき層が無光沢ニッケ
    ルめっき層であり、硬度の高い金属めっき層が光沢ニッ
    ケルめっき層である請求項4または請求項5に記載の高
    耐蝕性永久磁石の製造方法。
  7. 【請求項7】 硬度の低い金属めっき層の膜厚と硬度の
    高い金属めっき層の膜厚の比が、6:4〜8:2である
    請求項4〜6のいずれかに記載の高耐蝕性永久磁石の製
    造方法。
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