JPH0977509A - ゾル−ゲル法による独立ゲル膜の形成方法 - Google Patents
ゾル−ゲル法による独立ゲル膜の形成方法Info
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- JPH0977509A JPH0977509A JP25943295A JP25943295A JPH0977509A JP H0977509 A JPH0977509 A JP H0977509A JP 25943295 A JP25943295 A JP 25943295A JP 25943295 A JP25943295 A JP 25943295A JP H0977509 A JPH0977509 A JP H0977509A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 ゾル−ゲル法を用いて、三次元網目構造のオ
ルガノポリシロキサンを主成分とする平滑かつち密で均
一な厚みの独立ゲル膜を形成する方法を提供する。 【構成】 オルガノアルコキシシランを含有する出発原
料を加水分解・重縮合させて得られたゾルをそのゾルが
不溶の支持水溶液上に展開させ、ゲル化させる。出発原
料として、オルガノトリアルコキシシラン単独か、それ
にテトラアルコキシシランおよび/またはジオルガノジ
アルコキシシランを併用し、三次元網目構造のネットワ
ーク構成単位が、式 Rn SiO(4-n)/2 (ただし、Rはメチル基、エチル基、n−プロピル基、
イソプロピル基、フェニル基、ビニル基から選ばれる有
機基、nは0<n≦1.7である。)であるオルガノポ
リシロキサンを主成分とする独立ゲル膜を得る。
ルガノポリシロキサンを主成分とする平滑かつち密で均
一な厚みの独立ゲル膜を形成する方法を提供する。 【構成】 オルガノアルコキシシランを含有する出発原
料を加水分解・重縮合させて得られたゾルをそのゾルが
不溶の支持水溶液上に展開させ、ゲル化させる。出発原
料として、オルガノトリアルコキシシラン単独か、それ
にテトラアルコキシシランおよび/またはジオルガノジ
アルコキシシランを併用し、三次元網目構造のネットワ
ーク構成単位が、式 Rn SiO(4-n)/2 (ただし、Rはメチル基、エチル基、n−プロピル基、
イソプロピル基、フェニル基、ビニル基から選ばれる有
機基、nは0<n≦1.7である。)であるオルガノポ
リシロキサンを主成分とする独立ゲル膜を得る。
Description
【0001】産業上の利用分野 本発明はゾル−ゲル法を用いた独立膜の形成方法に関
し、特に基板に直接薄膜を形成することが困難な、また
は表面の平滑性が要求される独立膜の形成方法に関す
る。
し、特に基板に直接薄膜を形成することが困難な、また
は表面の平滑性が要求される独立膜の形成方法に関す
る。
【0002】従来の技術及びその課題 ゾル−ゲル法を用いる膜の形成方法として、ディップコ
ート法とスピンコート法がよく使われる。ガラス、セラ
ミックのコート薄膜は膜厚の限界が1.5μm程度であ
る。それ以上の膜厚を実現しようとすると、クラック、
剥離等の問題が生じる事が知られている。そこで、膜厚
を上げるにはコーティングと焼成を繰り返す方法が使用
されている。その他、基板に膜を形成させ、薄膜を基板
から剥がして、膜を形成する方法が公開されている(特
開昭63−171670号公報、特開平1−22206
1号公報)。また、シリコンアルコキシド含有有機溶液
と塩基性の水溶媒との界面で、シリカのゲル厚膜を製造
する方法が公開されている(特開平4−362033号
公報)。更に、比重が大きい水銀上やトリステアリン、
ジブロモエタン等の有機物の液体上に金属アルコキシド
から得たゾルを展開し、ゲル厚膜を作製し、ガラス板と
する方法(特開昭61−236620号公報、特開昭6
2−70237号公報)、同様のゾルを水溶液上に展開
し、ゲル薄膜を得、ガラス薄膜とする方法(特開昭51
−34219号公報)も公開されている。しかし、この
ような膜は多孔質で、無孔化するためには1000℃以
上の高温で熱処理する必要があり、収縮による反りや割
れの問題があった。加えて、水銀やジブロモエタン支持
液は有害であるため、また、トリステアリン等は常温で
液体でないため、操作上の問題があり、水溶液上に展開
するにしても金属アルコキシドから得たゾルは支持水溶
液と接触すると速やかにゲル化するため、厚さ10μm
程度までの薄膜しか作製できないという問題があった。
そこで、本発明では、有機基含有ポリシロキサンのゾル
が不溶の支持水溶液の自由表面に加水分解・重縮合反応
により得たゾルを展開し、ゲル化させることにより、高
温熱処理を必要としない、平滑かつ均一でち密な厚膜の
形成方法を提供することを目的とする。
ート法とスピンコート法がよく使われる。ガラス、セラ
ミックのコート薄膜は膜厚の限界が1.5μm程度であ
る。それ以上の膜厚を実現しようとすると、クラック、
剥離等の問題が生じる事が知られている。そこで、膜厚
を上げるにはコーティングと焼成を繰り返す方法が使用
されている。その他、基板に膜を形成させ、薄膜を基板
から剥がして、膜を形成する方法が公開されている(特
開昭63−171670号公報、特開平1−22206
1号公報)。また、シリコンアルコキシド含有有機溶液
と塩基性の水溶媒との界面で、シリカのゲル厚膜を製造
する方法が公開されている(特開平4−362033号
公報)。更に、比重が大きい水銀上やトリステアリン、
ジブロモエタン等の有機物の液体上に金属アルコキシド
から得たゾルを展開し、ゲル厚膜を作製し、ガラス板と
する方法(特開昭61−236620号公報、特開昭6
2−70237号公報)、同様のゾルを水溶液上に展開
し、ゲル薄膜を得、ガラス薄膜とする方法(特開昭51
−34219号公報)も公開されている。しかし、この
ような膜は多孔質で、無孔化するためには1000℃以
上の高温で熱処理する必要があり、収縮による反りや割
れの問題があった。加えて、水銀やジブロモエタン支持
液は有害であるため、また、トリステアリン等は常温で
液体でないため、操作上の問題があり、水溶液上に展開
するにしても金属アルコキシドから得たゾルは支持水溶
液と接触すると速やかにゲル化するため、厚さ10μm
程度までの薄膜しか作製できないという問題があった。
そこで、本発明では、有機基含有ポリシロキサンのゾル
が不溶の支持水溶液の自由表面に加水分解・重縮合反応
により得たゾルを展開し、ゲル化させることにより、高
温熱処理を必要としない、平滑かつ均一でち密な厚膜の
形成方法を提供することを目的とする。
【0003】本発明の概要 本発明は、オルガノアルコキシシランを含有する出発原
料を加水分解・重縮合させて得られたゾルをそのゾルが
不溶の支持水溶液上に展開することを特徴とする独立ゲ
ル膜の形成方法に関する。特に、式:Rn SiO
(4-n)/2 (0<n≦1.7)(Rはメチル基、エチル
基、n−プロピル基、イソプロピル基、フェニル基、ビ
ニル基から選ばれる有機基)で示されるネットワーク構
成単位が三次元網目構造を形成するように反復結合して
いるポリシロキサンより主としてなる独立膜の形成方法
に関し、式:Rn Si(OR’)4-n (n=0,1,
2)(R’はメチル基、エチル基、プロピル基等の低級
アルキル基)のアルコキシシランまたはオルガノアルコ
キシシランが主な出発原料として使用される。
料を加水分解・重縮合させて得られたゾルをそのゾルが
不溶の支持水溶液上に展開することを特徴とする独立ゲ
ル膜の形成方法に関する。特に、式:Rn SiO
(4-n)/2 (0<n≦1.7)(Rはメチル基、エチル
基、n−プロピル基、イソプロピル基、フェニル基、ビ
ニル基から選ばれる有機基)で示されるネットワーク構
成単位が三次元網目構造を形成するように反復結合して
いるポリシロキサンより主としてなる独立膜の形成方法
に関し、式:Rn Si(OR’)4-n (n=0,1,
2)(R’はメチル基、エチル基、プロピル基等の低級
アルキル基)のアルコキシシランまたはオルガノアルコ
キシシランが主な出発原料として使用される。
【0004】本発明によれば、前記アルコキシシランや
オルガノアルコキシシランの加水分解及び脱水、脱アル
コール縮合によってシロキサン結合を形成させ、ゾル溶
液を得るが、ゾルの支持水溶液に対する不溶性を上げる
ため、ゾルの反応状態と有機基(R)の含有量のコント
ロールが重要である。また、重合が進むと、ゾルと支持
水溶液との親和性が減少するので、アルコール、アミ
ン、界面活性剤などを添加した支持水溶液上にゾルを展
開させることが好ましい。また、支持水溶液上に均一な
膜を形成させるために支持水溶液の密度を調整する。上
記方法によって、ゾルを支持水溶液上に均一に展開さ
せ、更にゲル化させることにより、透明かつ平滑でち密
な独立厚膜が得られる。
オルガノアルコキシシランの加水分解及び脱水、脱アル
コール縮合によってシロキサン結合を形成させ、ゾル溶
液を得るが、ゾルの支持水溶液に対する不溶性を上げる
ため、ゾルの反応状態と有機基(R)の含有量のコント
ロールが重要である。また、重合が進むと、ゾルと支持
水溶液との親和性が減少するので、アルコール、アミ
ン、界面活性剤などを添加した支持水溶液上にゾルを展
開させることが好ましい。また、支持水溶液上に均一な
膜を形成させるために支持水溶液の密度を調整する。上
記方法によって、ゾルを支持水溶液上に均一に展開さ
せ、更にゲル化させることにより、透明かつ平滑でち密
な独立厚膜が得られる。
【0005】好ましい実施態様 前記の式:Rn SiO(4-n)/2 (0<n≦1.7)で示
されるポリシロキサンの独立ゲル膜の形成方法におい
て、原料として、テトラエトキシシラン(TEOS)、
テトラメトキシシラン(TMOS)などのテトラアルコ
キシシラン、メチルトリメトキシシラン(MTMS)、
メチルトリエトキシシラン(MTES)、エチルトリメ
トキシシラン(ETMS)、フェニルトリエトキシシラ
ン(PhTES)などのトリアルコキシシラン、ジメチ
ルジエトキシシラン(DMDE)、ジフェニルジメトキ
シシラン(DPhDM)等のジアルコキシシランの混合
物を用いることができる。また、トリアルコキシシラン
を単独で用いても良い。式:Rn SiO(4-n)/2 (0<
n≦1.7)において、n≦1.7としたのは、nが
1.7を越えると、三次元網目構造が形成し難くなり、
均一なゲル膜が得られ難いからである。また、0.2≦
n≦1.6であることが更に好ましい。n≧0.2とす
ると、ゾルが支持水溶液と一層混合し難くなり、かつよ
り透明度の高い膜が得られる。n≦1.6とすること
で、より高強度の膜が得られる。
されるポリシロキサンの独立ゲル膜の形成方法におい
て、原料として、テトラエトキシシラン(TEOS)、
テトラメトキシシラン(TMOS)などのテトラアルコ
キシシラン、メチルトリメトキシシラン(MTMS)、
メチルトリエトキシシラン(MTES)、エチルトリメ
トキシシラン(ETMS)、フェニルトリエトキシシラ
ン(PhTES)などのトリアルコキシシラン、ジメチ
ルジエトキシシラン(DMDE)、ジフェニルジメトキ
シシラン(DPhDM)等のジアルコキシシランの混合
物を用いることができる。また、トリアルコキシシラン
を単独で用いても良い。式:Rn SiO(4-n)/2 (0<
n≦1.7)において、n≦1.7としたのは、nが
1.7を越えると、三次元網目構造が形成し難くなり、
均一なゲル膜が得られ難いからである。また、0.2≦
n≦1.6であることが更に好ましい。n≧0.2とす
ると、ゾルが支持水溶液と一層混合し難くなり、かつよ
り透明度の高い膜が得られる。n≦1.6とすること
で、より高強度の膜が得られる。
【0006】上記原料に1.4≦H2 O/Si≦4.0
(モル比)となるように水を添加し、加水分解・重縮合
反応を行うことが望ましい。H2 O/Si<1.4(モ
ル比)では、未反応のアルコキシ基が残り、独立膜の強
度が劣化し易い。逆に、H2O/Si>4.0(モル
比)では、オルガノアルコキシシランが多量に含まれる
場合は分相が起こり易く、光学的に均一なゲル膜が得ら
れ難くなる。テトラアルコキシシランが多量に含まれる
場合には、支持液層にゾルが移行し易く、膜が得られ難
くなる。水の添加量は1.4≦H2 O/Si≦2.5
(モル比)とするのが更に好ましい。
(モル比)となるように水を添加し、加水分解・重縮合
反応を行うことが望ましい。H2 O/Si<1.4(モ
ル比)では、未反応のアルコキシ基が残り、独立膜の強
度が劣化し易い。逆に、H2O/Si>4.0(モル
比)では、オルガノアルコキシシランが多量に含まれる
場合は分相が起こり易く、光学的に均一なゲル膜が得ら
れ難くなる。テトラアルコキシシランが多量に含まれる
場合には、支持液層にゾルが移行し易く、膜が得られ難
くなる。水の添加量は1.4≦H2 O/Si≦2.5
(モル比)とするのが更に好ましい。
【0007】反応溶液のpHは反応溶液調製直後の初期
値で7.0以下が好ましい。pH>7.0の条件では、
所望の反応が進行し難い。反応の進行を速めるため酸触
媒を添加し反応溶液の初期pHを5.0以下とするのが
更に好ましい。使用する酸触媒は特に限定されず、硝
酸、塩酸等の無機酸触媒、酢酸などの有機酸触媒が常法
に従って使用される。
値で7.0以下が好ましい。pH>7.0の条件では、
所望の反応が進行し難い。反応の進行を速めるため酸触
媒を添加し反応溶液の初期pHを5.0以下とするのが
更に好ましい。使用する酸触媒は特に限定されず、硝
酸、塩酸等の無機酸触媒、酢酸などの有機酸触媒が常法
に従って使用される。
【0008】また、原料に多量のメチルトリアルコキシ
シランを用いる場合には、結晶の析出を抑制するため、
特願平6−332515に記載したように、この原料に
可溶の金属キレート化合物を添加することが好ましい。
金属キレート化合物を用いない場合には、特願平6−8
7497に記載したように、水の添加を二段階に分ける
等の複雑な操作が必要となる。
シランを用いる場合には、結晶の析出を抑制するため、
特願平6−332515に記載したように、この原料に
可溶の金属キレート化合物を添加することが好ましい。
金属キレート化合物を用いない場合には、特願平6−8
7497に記載したように、水の添加を二段階に分ける
等の複雑な操作が必要となる。
【0009】上記条件を満たすキレート化合物として
は、β−ジケトン類(1,3−ジオキソプロピレン類を
有する化合物)の金属キレート、大環状ポリエーテル化
合物金属キレート、o,o’−ジヒドロキシ芳香族アゾ
化合物金属キレート、o−サリチリデンアミノフェノー
ルおよびその誘導体の金属キレート等が挙げられる。金
属イオンの種類は特に限定されないが、配位子との錯体
生成定数の大きいものを選ぶ必要がある。具体的に例と
して、トリス(アセチルアセトナト)アルミニウム(I
II)、トリス(エチルアセトアセタト)アルミニウム
(III)、トリス(ジエチルマロナト)アルミニウム
(III)、ビス(アセチルアセトナト)銅(II)、
テトラキス(アセチルアセトナト)ジルコニウム(I
V)、トリス(アセチルアセトナト)クロム(II
I)、トリス(アセチルアセトナト)コバルト(II
I)、および酸化チタン(II)アセチルアセトネート
((CH3 COCHCOCH3 )2 TiO)等のβ−ジ
ケトン類金属キレート、希土類金属のβ−ジケトン類金
属キレート、18−クラウン−6−カリウムキレート化
合物塩、12−クラウン−4−リチウムキレート化合物
塩、15−クラウン−5−ナトリウムキレート化合物塩
等の大環状ポリエーテル化合物金属キレート、o,o’
−ジヒドロキシアゾベンゼンのアルミニウム、コバル
ト、銅、チタン等の金属キレート、o−サリチリデンア
ミノフェノラト銅(II)、o−サリチリデンアミノフ
ェノラトアルミニウム(III)等の金属キレート等が
挙げることができる。これらの金属キレート化合物がシ
ラノールと相互作用し、重合反応をコントロールする働
きをすると考えられる。添加量に関しては、その効果に
応じてメチルトリアルコキシシランに対して0.001
〜5モル%の範囲で添加するのが好ましい。0.001
モル%より少ないと、結晶析出抑制効果が得られ難い。
逆に5モル%より多く添加すると、キレート化合物が析
出したり、ゲルの性質に影響を及ぼすおそれがある。金
属キレート化合物は反応系へ配位子成分と金属成分を別
々に添加し、その場でキレート化してもよい。金属キレ
ート化合物の添加量はメチルトリアルコキシシランに対
して0.01〜1モル%とするのが更に好ましい。
は、β−ジケトン類(1,3−ジオキソプロピレン類を
有する化合物)の金属キレート、大環状ポリエーテル化
合物金属キレート、o,o’−ジヒドロキシ芳香族アゾ
化合物金属キレート、o−サリチリデンアミノフェノー
ルおよびその誘導体の金属キレート等が挙げられる。金
属イオンの種類は特に限定されないが、配位子との錯体
生成定数の大きいものを選ぶ必要がある。具体的に例と
して、トリス(アセチルアセトナト)アルミニウム(I
II)、トリス(エチルアセトアセタト)アルミニウム
(III)、トリス(ジエチルマロナト)アルミニウム
(III)、ビス(アセチルアセトナト)銅(II)、
テトラキス(アセチルアセトナト)ジルコニウム(I
V)、トリス(アセチルアセトナト)クロム(II
I)、トリス(アセチルアセトナト)コバルト(II
I)、および酸化チタン(II)アセチルアセトネート
((CH3 COCHCOCH3 )2 TiO)等のβ−ジ
ケトン類金属キレート、希土類金属のβ−ジケトン類金
属キレート、18−クラウン−6−カリウムキレート化
合物塩、12−クラウン−4−リチウムキレート化合物
塩、15−クラウン−5−ナトリウムキレート化合物塩
等の大環状ポリエーテル化合物金属キレート、o,o’
−ジヒドロキシアゾベンゼンのアルミニウム、コバル
ト、銅、チタン等の金属キレート、o−サリチリデンア
ミノフェノラト銅(II)、o−サリチリデンアミノフ
ェノラトアルミニウム(III)等の金属キレート等が
挙げることができる。これらの金属キレート化合物がシ
ラノールと相互作用し、重合反応をコントロールする働
きをすると考えられる。添加量に関しては、その効果に
応じてメチルトリアルコキシシランに対して0.001
〜5モル%の範囲で添加するのが好ましい。0.001
モル%より少ないと、結晶析出抑制効果が得られ難い。
逆に5モル%より多く添加すると、キレート化合物が析
出したり、ゲルの性質に影響を及ぼすおそれがある。金
属キレート化合物は反応系へ配位子成分と金属成分を別
々に添加し、その場でキレート化してもよい。金属キレ
ート化合物の添加量はメチルトリアルコキシシランに対
して0.01〜1モル%とするのが更に好ましい。
【0010】一方、原料に多量のテトラアルコキシシラ
ンを用いる場合には、均一なゾルを得るため、アルコー
ルを添加する方が好ましい。
ンを用いる場合には、均一なゾルを得るため、アルコー
ルを添加する方が好ましい。
【0011】上記の方法で作製したゾルを支持水溶液上
に展開させるが、ゲル膜が十分固化するまで液面に留ま
るように水溶性無機金属塩類を水に溶かし、支持水溶液
の密度を調整する。支持水溶液の密度は1.05g/c
m3 以上とするのが好ましい。このような水溶液を支持
液として用いることにより、ゲル膜中の未反応アルコキ
シ基の加水分解・重縮合を進行させ、より強固なネット
ワークを持ったゲル膜とすることができると共に、生成
したアルコールを効率よくゲル膜から除去することも可
能である。また、ゾルとの親和性や表面張力を調整する
ため、支持液中にアルコール、アミン等極性を持つ有機
溶媒や界面活性剤を添加しても良い。
に展開させるが、ゲル膜が十分固化するまで液面に留ま
るように水溶性無機金属塩類を水に溶かし、支持水溶液
の密度を調整する。支持水溶液の密度は1.05g/c
m3 以上とするのが好ましい。このような水溶液を支持
液として用いることにより、ゲル膜中の未反応アルコキ
シ基の加水分解・重縮合を進行させ、より強固なネット
ワークを持ったゲル膜とすることができると共に、生成
したアルコールを効率よくゲル膜から除去することも可
能である。また、ゾルとの親和性や表面張力を調整する
ため、支持液中にアルコール、アミン等極性を持つ有機
溶媒や界面活性剤を添加しても良い。
【0012】ゾル液に関しては、初期の出発原料は極性
が低く、反応が進むにつれて水が消費され、オリゴマー
のシラノール基が増えると共にアルコールが生成するた
め溶媒の極性がオリゴマーを溶解するのに都合良い値に
なる。重合が更に進むと、オリゴマーの極性が減少す
る。従って、支持水溶液上に展開させるゾルはオリゴマ
ーが支持水溶液層に移行しないよう、オリゴマーの水に
対する溶解度の調整が重要となる。即ち、有機基の含有
量とアルコールの濃度の調整および重合度のコントロー
ルが必要である。粘度が5×10-3Pas以上でゲル化
するまでのゾルを用いるのが好ましい。粘度がこれより
低いと、シラノールを多く含んだ低分子が多く、支持水
溶液に溶けやすくなる。一方、支持水溶液に関しては、
オルガノアルコキシシランを多量に含む原料から出発し
たゾルでは、重合が進行すると、支持水溶液との親和性
が小さくなり、展開し難くなるため、支持水溶液にアル
コール等の水溶性有機溶媒を添加して親和性を調整す
る。有機基が多い場合、支持水溶液中のアルコールなど
の水溶性有機溶媒は30vol%以下であることが好ま
しい。これより多い場合、ゾルが支持液層に溶け込み、
膜が形成し難くなる。テトラアルコキシシランを多量に
含む原料から出発したゾルの場合には、ゾルが支持液層
に溶け込まないよう、水溶性有機溶媒は10vol%以
下であることが好ましい。具体的には、一定の反応時間
経過後、支持水溶液中の有機溶媒濃度を変えて、ゾルが
展開し易い支持水溶液組成を選べばよい。
が低く、反応が進むにつれて水が消費され、オリゴマー
のシラノール基が増えると共にアルコールが生成するた
め溶媒の極性がオリゴマーを溶解するのに都合良い値に
なる。重合が更に進むと、オリゴマーの極性が減少す
る。従って、支持水溶液上に展開させるゾルはオリゴマ
ーが支持水溶液層に移行しないよう、オリゴマーの水に
対する溶解度の調整が重要となる。即ち、有機基の含有
量とアルコールの濃度の調整および重合度のコントロー
ルが必要である。粘度が5×10-3Pas以上でゲル化
するまでのゾルを用いるのが好ましい。粘度がこれより
低いと、シラノールを多く含んだ低分子が多く、支持水
溶液に溶けやすくなる。一方、支持水溶液に関しては、
オルガノアルコキシシランを多量に含む原料から出発し
たゾルでは、重合が進行すると、支持水溶液との親和性
が小さくなり、展開し難くなるため、支持水溶液にアル
コール等の水溶性有機溶媒を添加して親和性を調整す
る。有機基が多い場合、支持水溶液中のアルコールなど
の水溶性有機溶媒は30vol%以下であることが好ま
しい。これより多い場合、ゾルが支持液層に溶け込み、
膜が形成し難くなる。テトラアルコキシシランを多量に
含む原料から出発したゾルの場合には、ゾルが支持液層
に溶け込まないよう、水溶性有機溶媒は10vol%以
下であることが好ましい。具体的には、一定の反応時間
経過後、支持水溶液中の有機溶媒濃度を変えて、ゾルが
展開し易い支持水溶液組成を選べばよい。
【0013】本発明の方法で得られた膜は液面という自
由表面上で形成されるため、表面平滑性の高い透明な独
立膜を作製することができる。また、容器サイズおよび
広がらせるゾルの量を変えることで、独立ゲル膜の膜厚
を容易にコントロールすることができる。
由表面上で形成されるため、表面平滑性の高い透明な独
立膜を作製することができる。また、容器サイズおよび
広がらせるゾルの量を変えることで、独立ゲル膜の膜厚
を容易にコントロールすることができる。
【0014】また、出発原料にAl、Zr、Ti、G
e、B等のアルコキシドを添加することにより、多成分
系の独立ゲル膜を形成することができる。膜の上に、更
に異なった組成の重合可能なゾルを加え、組成分布をも
たらすことも可能で、独立の複合膜を得ることもでき
る。
e、B等のアルコキシドを添加することにより、多成分
系の独立ゲル膜を形成することができる。膜の上に、更
に異なった組成の重合可能なゾルを加え、組成分布をも
たらすことも可能で、独立の複合膜を得ることもでき
る。
【0015】実施例1 メチルトリエトキシシラン(信越化学工業、LS−18
90、以下MTES)に、蒸留水とMTESのモル比が
1.25:1になるように蒸留水を添加した。蒸留水中
の10wt%の水は触媒として0.1Nの硝酸を用い
た。最初は2相の状態であるが、室温で攪拌を続ける
と、加水分解・重縮合反応が進むにつれて均一になり、
10分間以内に透明になった。密閉の状態で室温で2日
間静置した後、反応によって生成したアルコールを理論
値の70%エバポレーターで蒸発させ、オリゴマーを得
た。更にMTESに対し0.1モル%のトリス(アセチ
ルアセトナト)アルミニウム(III)(以下Al(A
cAc)3 )を添加し、50℃で30分間保持した後、
MTES1モル当たり0.5モルの蒸留水を追加した。
密閉状態で攪拌を続け、均一な溶液になってから、40
℃で15時間静置した。得られたゾルの密度は1.01
g/cm3 であり、粘度は13×10-3Pasであっ
た。このゾルを密度が1.125g/cm3 のNaCl
支持水溶液500mlが入ったトレー(20×30c
m)に3ml滴下し、均一に展開させた。室温で3日間
静置して、厚さ約50μmの透明なゲル膜を得た。
90、以下MTES)に、蒸留水とMTESのモル比が
1.25:1になるように蒸留水を添加した。蒸留水中
の10wt%の水は触媒として0.1Nの硝酸を用い
た。最初は2相の状態であるが、室温で攪拌を続ける
と、加水分解・重縮合反応が進むにつれて均一になり、
10分間以内に透明になった。密閉の状態で室温で2日
間静置した後、反応によって生成したアルコールを理論
値の70%エバポレーターで蒸発させ、オリゴマーを得
た。更にMTESに対し0.1モル%のトリス(アセチ
ルアセトナト)アルミニウム(III)(以下Al(A
cAc)3 )を添加し、50℃で30分間保持した後、
MTES1モル当たり0.5モルの蒸留水を追加した。
密閉状態で攪拌を続け、均一な溶液になってから、40
℃で15時間静置した。得られたゾルの密度は1.01
g/cm3 であり、粘度は13×10-3Pasであっ
た。このゾルを密度が1.125g/cm3 のNaCl
支持水溶液500mlが入ったトレー(20×30c
m)に3ml滴下し、均一に展開させた。室温で3日間
静置して、厚さ約50μmの透明なゲル膜を得た。
【0016】実施例2 実施例1のゾルを密度が1.125g/cm3 のNaC
l水溶液450mlとエタノール50mlの混合液(密
度:1.11g/cm3 )が入ったトレー(20×30
cm)に3ml滴下した。室温で3日間静置して、厚さ
約50μmの透明なゲル膜を得た。
l水溶液450mlとエタノール50mlの混合液(密
度:1.11g/cm3 )が入ったトレー(20×30
cm)に3ml滴下した。室温で3日間静置して、厚さ
約50μmの透明なゲル膜を得た。
【0017】比較例1 実施例1のゾルを500mlのイオン交換水の入ったト
レー(20×30cm)に3ml滴下した。支持液の密
度が小さいため、底に滴の状態で沈澱し、粒状のゲルに
なった。
レー(20×30cm)に3ml滴下した。支持液の密
度が小さいため、底に滴の状態で沈澱し、粒状のゲルに
なった。
【0018】比較例2 実施例1のゾルを密度が1.125g/cm3 のNaC
l水溶液330mlとエタノール170mlの混合液が
入ったトレー(20×30cm)に3ml滴下した。ゾ
ルが支持液に溶け込み、膜が得られなかった。
l水溶液330mlとエタノール170mlの混合液が
入ったトレー(20×30cm)に3ml滴下した。ゾ
ルが支持液に溶け込み、膜が得られなかった。
【0019】実施例3 MTESに蒸留水とMTESのモル比が1.25:1に
なるように蒸留水を添加した。蒸留水中の10wt%の
水は触媒として0.1Nの硝酸を用いた。均一になって
から密閉の状態で室温で2日間静置した後、反応によっ
て生成したアルコールを理論値の80%エバポレーター
で蒸発させた。次に、MTESに対し0.1モル%のA
l(AcAc)3 とMTES1モル当たり0.5モルの
水を添加し、50℃で密閉状態で30分間攪拌し、溶液
Aを得た。次に、テトラエトキシシラン(以下TEO
S)とエタノールと水を1:2:1.5の比率(モル
比)で混合した。蒸留水中の10wt%の水は触媒とし
て0.1Nの硝酸を用いた。室温で密閉状態で2日間反
応させた後、その溶液からTEOS1モルに対して3モ
ルのエタノールをエバポレーターで蒸発させ、溶液Bを
得た。得られた溶液Aと溶液BをMTES:TEOS=
1:1になるように混合した。密閉状態で30分間反応
させた後、混合溶液中のTEOS1モル当たり1モルの
水を添加し、その液を40℃で密閉状態で20時間保持
した。得られたゾルの密度は1.02g/cm3 であ
り、粘度は13×10-3Pasであった。このゾルを密
度が1.125g/cm3 のNaCl支持水溶液500
mlが入ったトレー(20×30cm)に3ml滴下
し、均一に展開させた。直ちにゲル化が起こり、透明な
膜厚約60μmのゲル膜を得た。
なるように蒸留水を添加した。蒸留水中の10wt%の
水は触媒として0.1Nの硝酸を用いた。均一になって
から密閉の状態で室温で2日間静置した後、反応によっ
て生成したアルコールを理論値の80%エバポレーター
で蒸発させた。次に、MTESに対し0.1モル%のA
l(AcAc)3 とMTES1モル当たり0.5モルの
水を添加し、50℃で密閉状態で30分間攪拌し、溶液
Aを得た。次に、テトラエトキシシラン(以下TEO
S)とエタノールと水を1:2:1.5の比率(モル
比)で混合した。蒸留水中の10wt%の水は触媒とし
て0.1Nの硝酸を用いた。室温で密閉状態で2日間反
応させた後、その溶液からTEOS1モルに対して3モ
ルのエタノールをエバポレーターで蒸発させ、溶液Bを
得た。得られた溶液Aと溶液BをMTES:TEOS=
1:1になるように混合した。密閉状態で30分間反応
させた後、混合溶液中のTEOS1モル当たり1モルの
水を添加し、その液を40℃で密閉状態で20時間保持
した。得られたゾルの密度は1.02g/cm3 であ
り、粘度は13×10-3Pasであった。このゾルを密
度が1.125g/cm3 のNaCl支持水溶液500
mlが入ったトレー(20×30cm)に3ml滴下
し、均一に展開させた。直ちにゲル化が起こり、透明な
膜厚約60μmのゲル膜を得た。
【0020】実施例4 MTESに蒸留水とMTESのモル比が1.25:1に
なるように蒸留水を添加した。蒸留水中の10wt%の
水は触媒として0.1Nの硝酸を用いた。均一になって
から密閉の状態で室温で2日間静置した後、反応によっ
て生成したアルコールを理論値の80%エバポレーター
で蒸発させた。次に、ジメチルジエトキシシラン(以下
DMDE)とAl(AcAc)3 と水を、MTES:D
MDE:Al(AcAc)3 :H2 O=1:1:0.0
01:2.5(モル比)になるように添加した。密閉状
態で50℃で約10分間攪拌してから、40℃で45時
間保持した。得られたゾルの密度は0.96g/cm3
であり、粘度は8×10-3Pasであった。このゾルを
密度が1.125g/cm3 のNaCl支持水溶液50
0mlが入ったトレー(20×30cm)に3ml滴下
し、均一に展開させた。1週間でゲル化が起こり、透明
な膜厚約50μmのゲル膜を得た。
なるように蒸留水を添加した。蒸留水中の10wt%の
水は触媒として0.1Nの硝酸を用いた。均一になって
から密閉の状態で室温で2日間静置した後、反応によっ
て生成したアルコールを理論値の80%エバポレーター
で蒸発させた。次に、ジメチルジエトキシシラン(以下
DMDE)とAl(AcAc)3 と水を、MTES:D
MDE:Al(AcAc)3 :H2 O=1:1:0.0
01:2.5(モル比)になるように添加した。密閉状
態で50℃で約10分間攪拌してから、40℃で45時
間保持した。得られたゾルの密度は0.96g/cm3
であり、粘度は8×10-3Pasであった。このゾルを
密度が1.125g/cm3 のNaCl支持水溶液50
0mlが入ったトレー(20×30cm)に3ml滴下
し、均一に展開させた。1週間でゲル化が起こり、透明
な膜厚約50μmのゲル膜を得た。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C23C 24/08 C23C 24/08 C
Claims (5)
- 【請求項1】オルガノアルコキシシランを含有する出発
原料を加水分解・重縮合させて得られたゾルをそのゾル
が不溶の支持水溶液上に展開し、ゲル化させることを特
徴とする独立ゲル膜の形成方法。 - 【請求項2】ゾルが不溶の支持水溶液は密度が1.05
g/cm3 以上の水溶液であることを特徴とする請求項
1に記載の独立ゲル膜の形成方法。 - 【請求項3】粘度が室温で5×10-3Pas以上で、ゲ
ル化するまでのゾルを用いることを特徴とする請求項1
または2に記載の独立ゲル膜の形成方法。 - 【請求項4】支持水溶液中に含まれる水溶性有機溶媒の
体積分率は30%以下であることを特徴とする請求項1
乃至3のいずれかに記載の独立ゲル膜の形成方法。 - 【請求項5】式:Rn SiO(4-n)/2 (0<n≦1.
7)(Rはメチル基、エチル基、n−プロピル基、イソ
プロピル基、フェニル基、ビニル基から選ばれる有機
基)で示されるネットワーク構成単位が三次元網目構造
を形成するように反復結合しているポリシロキサンが主
成分であることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか
に記載の独立ゲル膜の形成方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25943295A JPH0977509A (ja) | 1995-09-12 | 1995-09-12 | ゾル−ゲル法による独立ゲル膜の形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25943295A JPH0977509A (ja) | 1995-09-12 | 1995-09-12 | ゾル−ゲル法による独立ゲル膜の形成方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0977509A true JPH0977509A (ja) | 1997-03-25 |
Family
ID=17334014
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP25943295A Pending JPH0977509A (ja) | 1995-09-12 | 1995-09-12 | ゾル−ゲル法による独立ゲル膜の形成方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0977509A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2001003901A1 (fr) * | 1999-07-07 | 2001-01-18 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Article a surface irreguliere et son procede de production |
WO2004085145A1 (ja) * | 2003-03-27 | 2004-10-07 | Nippon Steel Corporation | 無機有機ハイブリッド膜被覆ステンレス箔 |
JP2014098110A (ja) * | 2012-11-15 | 2014-05-29 | Osaka Gas Chem Kk | ローラー及び/又は金型の最表面用組成物 |
-
1995
- 1995-09-12 JP JP25943295A patent/JPH0977509A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2001003901A1 (fr) * | 1999-07-07 | 2001-01-18 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Article a surface irreguliere et son procede de production |
US6555236B1 (en) | 1999-07-07 | 2003-04-29 | Nippon Sheet Glass Company, Ltd. | Articles having an uneven surface and production process therefor |
WO2004085145A1 (ja) * | 2003-03-27 | 2004-10-07 | Nippon Steel Corporation | 無機有機ハイブリッド膜被覆ステンレス箔 |
US8586190B2 (en) | 2003-03-27 | 2013-11-19 | Nippon Steel & Sumikin Materials Co., Ltd. | Inorganic—organic hybrid-film-coated stainless-steel foil |
JP2014098110A (ja) * | 2012-11-15 | 2014-05-29 | Osaka Gas Chem Kk | ローラー及び/又は金型の最表面用組成物 |
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Date | Code | Title | Description |
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20050201 |
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050322 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20050802 |