JPH0973993A - Static elimination and its device - Google Patents
Static elimination and its deviceInfo
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- JPH0973993A JPH0973993A JP22821295A JP22821295A JPH0973993A JP H0973993 A JPH0973993 A JP H0973993A JP 22821295 A JP22821295 A JP 22821295A JP 22821295 A JP22821295 A JP 22821295A JP H0973993 A JPH0973993 A JP H0973993A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、リフトアンドキャ
リー式の移送装置を利用して物品に帯電している静電気
を除去する方法及びその装置に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method and apparatus for removing static electricity charged on an article using a lift-and-carry type transfer device.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来、例えば液晶用ガラス基板等の物品
に帯電している静電気を除去する方法としては、イオナ
イザを用いて中和する方法が採用されている。イオナイ
ザは、針状電極(エミッタ)のコロナ放電により発生し
たイオンを室内の一様流によって搬送し、帯電体上の電
荷を逆極性のイオンで中和するものである。2. Description of the Related Art Conventionally, as a method of removing static electricity charged on an article such as a glass substrate for liquid crystal, a method of neutralizing using an ionizer has been adopted. The ionizer conveys the ions generated by the corona discharge of the needle electrode (emitter) by a uniform flow in the room, and neutralizes the charges on the charged body with the ions of the opposite polarity.
【0003】イオナイザは、例えば、特開平2−254
417号公報、特開平3−34424号公報、特開平5
−243200号公報等に開示されている。又、特開平
7−73991号公報の図5には、ローラコンベヤ上の
除電対象物にイオンを含んだ気流をスリットノズルから
高速で吹き付けるスリットノズル式イオナイザが開示さ
れている。An ionizer is disclosed in, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 2-254.
417, JP-A-3-34424, JP-A-5
No. 243200, for example. Further, FIG. 5 of Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-73991 discloses a slit nozzle type ionizer which blows an air stream containing ions to a static elimination object on a roller conveyor at high speed from a slit nozzle.
【0004】処で、このスリットノズル式イオナイザで
は、次のような不具合がある。ローラコンベヤの速度に
よっては、十分な除電ができない。高速気流により塵埃
の巻上等の気流乱れが生じる。上から吹き付けるため、
物品の形状が限定される。図34は、従来の除電装置の
概要を示す説明図である。図において、1はクリーンル
ームを表す。クリーンルーム1は、天井側にHEPAフ
ィルタ等の高性能フィルタ2を設け、床側にグレーチン
グ板等の床板3を設け、天井空間4と床下空間5とをセ
ントラル空調機6によって連絡することにより、クリー
ンエアを垂直ダウンフローによって循環供給できるよう
になっている。However, the slit nozzle type ionizer has the following problems. Depending on the speed of the roller conveyor, sufficient charge removal may not be possible. Airflow turbulence such as dust winding occurs due to the high-speed airflow. To spray from above,
The shape of the article is limited. FIG. 34 is an explanatory diagram showing an outline of a conventional static eliminator. In the figure, 1 represents a clean room. In the clean room 1, a high-performance filter 2 such as a HEPA filter is provided on the ceiling side, a floor plate 3 such as a grating plate is provided on the floor side, and the ceiling space 4 and the underfloor space 5 are connected by a central air conditioner 6 to clean the room. Air can be circulated and supplied by vertical downflow.
【0005】クリーンルーム1内には、2種類の生産装
置7、8がローラコンベヤ9を挟んで配置されている。
そして、ローラコンベヤ9の上方には、約1m程度の長
さの吊り下げ型イオナイザ10が配置されている。従っ
て、2種類の生産装置7、8間に配置されたローラコン
ベヤ9及びを吊り下げ型イオナイザ10によって除電処
理領域12が形成されている。In the clean room 1, two types of production devices 7 and 8 are arranged with a roller conveyor 9 interposed therebetween.
Then, above the roller conveyor 9, a hanging type ionizer 10 having a length of about 1 m is arranged. Therefore, the roller conveyor 9 disposed between the two types of production devices 7 and 8 and the hanging ionizer 10 form the static elimination processing region 12.
【0006】尚、ローラコンベヤ9での搬送時に、作業
者等からのゴミが除電処理領域12内に侵入しないよう
に、上部には開放フード13が設けてある。この従来例
では、図34に示すように、生産装置7で加工された液
晶用ガラス基板11が、ローラコンベヤ9にて次の生産
装置8へ搬入される過程で吊り下げ型イオナイザ10か
らコロナ放電により発生されるイオンによって静電気を
除去するものである。[0006] An open hood 13 is provided on the upper portion of the roller conveyor 9 so that dust from workers does not enter the static elimination area 12 when the roller conveyor 9 conveys it. In this conventional example, as shown in FIG. 34, the glass substrate 11 for liquid crystal processed by the production apparatus 7 is conveyed from the hanging ionizer 10 to the corona discharge in the process of being carried into the next production apparatus 8 by the roller conveyor 9. The static electricity is removed by the ions generated by.
【0007】処が、図34では、垂直ダウンフローのク
リーンルーム1内で、1台の吊り下げ型イオナイザ10
によってスポット的に除電するので、吊り下げ型イオナ
イザ10から放電されるイオンは、垂直ダウンフローに
よって床下空間5へ搬送され、図35に示すように吊り
下げ型イオナイザ10直下のみが除電される。而も、吊
り下げ型イオナイザの長さが約1m程度であるため、ロ
ーラコンベヤ9の速度が0.5m/sec程度で処理さ
れる上記従来の除電方法では、液晶用ガラス基板11が
吊り下げ型イオナイザの下を2秒で通過してしまい、除
電能力が不十分である。In FIG. 34, however, one hanging ionizer 10 is installed in the vertical downflow clean room 1.
Since the spot-type ionization is carried out by spots, the ions discharged from the hanging ionizer 10 are conveyed to the underfloor space 5 by the vertical downflow, and as shown in FIG. Moreover, since the length of the suspension type ionizer is about 1 m, in the above conventional static elimination method in which the speed of the roller conveyor 9 is about 0.5 m / sec, the glass substrate 11 for liquid crystal is suspended. It passes under the ionizer in 2 seconds, and the charge removal capability is insufficient.
【0008】又、液晶用ガラス基板11が、複数枚を積
み込むカセット式となった場合には、下側の液晶用ガラ
ス基板11は除電できにくかった。そこで、図36及び
37に示すように、複数個の吊り下げ型イオナイザ10
をローラコンベヤ9の流れ方向に配置することが考えら
れる。Further, when the liquid crystal glass substrate 11 is of a cassette type in which a plurality of liquid crystal substrates are stacked, it is difficult to remove electricity from the lower liquid crystal glass substrate 11. Therefore, as shown in FIGS. 36 and 37, a plurality of suspended ionizers 10 are provided.
May be arranged in the flow direction of the roller conveyor 9.
【0009】[0009]
【発明が解決しようとする課題】処が、図36に示すよ
うに、複数個の吊り下げ型イオナイザ10をローラコン
ベヤ9の流れ方向に配置しても、クリーンルーム1が垂
直ダウンフローであるから、液晶用ガラス基板11が、
複数枚を積み込むカセット式となった場合には、下側の
液晶用ガラス基板11は除電できにくかった。However, as shown in FIG. 36, even if a plurality of hanging ionizers 10 are arranged in the flow direction of the roller conveyor 9, the clean room 1 has a vertical downflow. The liquid crystal glass substrate 11,
In the case of a cassette type in which a plurality of sheets are loaded, it is difficult to remove the charge from the lower glass substrate 11 for liquid crystal.
【0010】一方、イオナイザは、その電極にゴミが付
着しやすく、そのゴミが落下し、被処理物に付着する虞
があるので、このゴミ落下防止のためのメンテナンスが
必要とされている。そこで、図36のように、複数個の
吊り下げ型イオナイザ10を用いる場合には、各吊り下
げ型イオナイザ10の電極に付着したゴミの落下を防止
するためのメンテナンスを、1つの吊り下げ型イオナイ
ザを用いた図34の除電装置に比し頻繁に行わなければ
ならないという問題があった。On the other hand, in the ionizer, dust is likely to adhere to the electrode, and the dust may drop and adhere to the object to be processed. Therefore, maintenance is required to prevent the dust from falling. Therefore, as shown in FIG. 36, when a plurality of hanging ionizers 10 are used, maintenance is performed to prevent the dust attached to the electrodes of each hanging ionizer 10 from falling down by one hanging ionizer. There is a problem that it must be performed more frequently than the static eliminator of FIG.
【0011】本発明は斯かる従来の問題点を解決するた
めに為されたもので、その目的は、1つのイオン発生器
によって静電気が帯電した物品を連続的に除電すること
が可能な除電方法及びその装置を提供することにある。The present invention has been made in order to solve such a conventional problem, and an object thereof is a static elimination method capable of continuously eliminating static electricity charged articles by one ion generator. And to provide the device.
【0012】[0012]
【課題を解決するための手段】請求項1の発明は、水平
方向に設けられた被処理物を載置する複数の載置ゾーン
に沿ってクリーンエアを送り、被処理物を各載置ゾーン
に間欠的にリフトアンドキャリー式の移送装置で移送
し、クリーンエアの給気側でコロナ放電により発生され
たイオンをクリーンエアで搬送しながら被処理物に帯電
している静電気を除去することを特徴とするものであ
る。According to a first aspect of the present invention, clean air is sent along a plurality of mounting zones which are provided in a horizontal direction and on which the object to be treated is placed, and the object to be treated is placed in each of the placing zones. It is possible to remove the static electricity charged on the object to be processed while transferring the ions generated by corona discharge on the air supply side of the clean air with the clean air by intermittently transferring with a lift and carry type transfer device. It is a feature.
【0013】請求項2の発明は、入出部を有するダクト
状の処理室内に被処理物を載置する複数の載置ゾーンを
水平方向に配置すると共に被処理物を各載置ゾーンに間
欠的に移送するリフトアンドキャリー式の移送装置を配
置し、処理室の上流側で供給するクリーンエアを処理室
の下流側で吸引することによって、処理室内の水平方向
にクリーンエアを流し、処理室のクリーンエア供給部で
コロナ放電によりイオンを発生し、発生されたイオンを
クリーンエアで搬送しながら被処理物に帯電している静
電気を除去することを特徴とするものである。According to a second aspect of the present invention, a plurality of placement zones for placing an object to be treated are horizontally arranged in a duct-shaped processing chamber having an inlet / outlet portion, and the object to be treated is intermittently placed in each of the placing zones. A lift-and-carry type transfer device that transfers the clean air is supplied in the upstream side of the processing chamber, and the clean air supplied in the upstream side of the processing chamber is sucked in the downstream side of the processing chamber. It is characterized in that ions are generated by corona discharge in the clean air supply unit and the generated ions are conveyed by the clean air to remove static electricity charged on the object to be processed.
【0014】請求項3の発明は、入出部を有するダクト
状の処理室内に被処理物を載置する複数の載置ゾーンを
水平方向に配置すると共に被処理物を各載置ゾーンに間
欠的に移送するリフトアンドキャリー式の移送装置を配
置し、処理室の上流側の上部側から供給するクリーンエ
アを処理室の下流側の下部側で吸引することによって、
処理室内の水平方向にクリーンエアを流し、処理室のク
リーンエア供給部でコロナ放電によりイオンを発生し、
発生されたイオンをクリーンエアで搬送しながら被処理
物に帯電している静電気を除去することを特徴とするも
のである。According to a third aspect of the present invention, a plurality of mounting zones for mounting the object to be processed are horizontally arranged in a duct-shaped processing chamber having an inlet / outlet portion, and the object to be processed is intermittently placed in each of the mounting zones. By arranging a lift-and-carry type transfer device for transferring to, the clean air supplied from the upper side on the upstream side of the processing chamber is sucked on the lower side on the downstream side of the processing chamber,
Clean air is flown horizontally in the processing chamber, and ions are generated by corona discharge in the clean air supply section of the processing chamber.
It is characterized by removing the static electricity charged on the object to be processed while conveying the generated ions with clean air.
【0015】請求項4の発明は、請求項1乃至請求項3
の何れか1項において、クリーンルーム内の清浄空気を
導入し、浄化したクリーンエアを用いるものであること
を特徴とするものである。請求項5の発明は、入出部を
有するダクト状の処理室と、この処理室内に水平方向に
設けられ被処理物を載置する複数の載置ゾーンと、被処
理物を各載置ゾーンに間欠的に移送するリフトアンドキ
ャリー式の移送装置と、処理室の上流側に設けられたク
リーンエア給気手段と、処理室の下流側に設けられたク
リーンエア排気手段と、クリーンエア給気手段に設けら
れたイオン発生器とを備えたことを特徴とするものであ
る。According to a fourth aspect of the present invention, there is provided the first to third aspects.
In any one of the above items, clean air introduced into the clean room and purified is used. According to the invention of claim 5, a duct-shaped processing chamber having an inlet / outlet portion, a plurality of mounting zones provided in the processing chamber in a horizontal direction for mounting an object to be processed, and an object to be processed in each of the mounting zones Lift-and-carry type transfer device for intermittent transfer, clean air supply means provided on the upstream side of the processing chamber, clean air exhaust means provided on the downstream side of the processing chamber, and clean air supply means And an ion generator provided in the.
【0016】請求項6の発明は、請求項5において、ク
リーンエア給気手段が処理室の天井部に設けられ、クリ
ーンエア排気手段が処理室の床部に設けられていること
を特徴とするものである。請求項7の発明は、請求項5
において、クリーンエア給気手段とクリーンエア排気手
段が、処理室の天井部に設けられていることを特徴とす
るものである。According to a sixth aspect of the present invention, in the fifth aspect, the clean air supply means is provided on the ceiling portion of the processing chamber, and the clean air exhaust means is provided on the floor portion of the processing chamber. It is a thing. The invention of claim 7 is the invention of claim 5.
In the above, the clean air supply means and the clean air exhaust means are provided on the ceiling of the processing chamber.
【0017】請求項8の発明は、請求項5乃至請求項7
の何れか1項において、クリーンエア給気手段及びクリ
ーンエア排気手段が、高性能フィルタとファンとで構成
されていることを特徴とするものである。請求項9の発
明は、請求項5乃至請求項7の何れか1項において、ク
リーンエア給気手段及びクリーンエア排気手段が、循環
ファンに連絡する吹出口と吸込口とで構成されているこ
とを特徴とするものである。The invention of claim 8 relates to claim 5 to claim 7.
In any one of the above items, the clean air supply means and the clean air exhaust means are constituted by a high performance filter and a fan. According to a ninth aspect of the present invention, in any one of the fifth to seventh aspects, the clean air supply means and the clean air exhaust means are composed of a blowout port and a suction port communicating with the circulation fan. It is characterized by.
【0018】請求項10の発明は、請求項5において、
処理室の入出部には、天井側にクリーンエア流れ制御機
構が設けられていることを特徴とするものである。請求
項11の発明は、請求項5において、イオン発生器は、
クリーンエア給気手段の吹出部に設けられていることを
特徴とする除電装置。請求項12の発明は、請求項9に
おいて、イオン発生器は、吹出口に設けられていること
を特徴とするものである。The invention of claim 10 is the same as that of claim 5,
A clean air flow control mechanism is provided on the ceiling side at the entrance and exit of the processing chamber. According to the invention of claim 11, in claim 5, the ion generator is
A static eliminator provided in the blowout part of the clean air supply means. According to a twelfth aspect of the present invention, in the ninth aspect, the ion generator is provided at the air outlet.
【0019】[0019]
【作用】請求項1の発明においては、水平方向に設けら
れた被処理物を載置する複数の載置ゾーンに沿ってクリ
ーンエアを送りながら、被処理物をリフトアンドキャリ
ー式の移送装置により上流側の載置ゾーンから下流側の
載置ゾーンに向かって間欠的に移送し、クリーンエアの
給気側でコロナ放電により発生されたイオンをクリーン
エアで搬送しながら被処理物に帯電している静電気を除
去することができる。According to the first aspect of the present invention, the object to be processed is transferred by the lift-and-carry type transfer device while sending clean air along a plurality of mounting zones for horizontally mounting the object to be processed. The material is intermittently transferred from the upstream loading zone to the downstream loading zone, and the ions generated by corona discharge on the air supply side of the clean air are charged by the clean air while being transported by the clean air. The static electricity that is present can be removed.
【0020】請求項2の発明においては、処理室の上流
側で供給するクリーンエアを処理室の下流側で吸引する
ことによって、処理室内にクリーンエアを水平方向に流
し、被処理物をリフトアンドキャリー式の移送装置によ
り上流側の載置ゾーンから下流側の載置ゾーンに向かっ
て間欠的に移送し、クリーンエアの給気側でコロナ放電
により発生されたイオンをクリーンエアで搬送しながら
被処理物に帯電している静電気を除去することができ
る。According to the second aspect of the present invention, the clean air supplied in the upstream side of the processing chamber is sucked in in the downstream side of the processing chamber, so that the clean air flows horizontally in the processing chamber to lift and lift the object to be processed. A carry-type transfer device intermittently transfers from the upstream loading zone to the downstream loading zone to transfer the ions generated by corona discharge on the clean air supply side while transporting them with clean air. It is possible to remove the static electricity charged on the processed material.
【0021】請求項3の発明においては、処理室の上流
側の上部側から供給するクリーンエアを処理室の下流側
の下部側で吸引することによって、処理室内にクリーン
エアを水平方向に流し、被処理物をリフトアンドキャリ
ー式の移送装置により上流側の載置ゾーンから下流側の
載置ゾーンに向かって間欠的に移送し、クリーンエアの
給気側でコロナ放電により発生されたイオンをクリーン
エアで搬送しながら被処理物に帯電している静電気を除
去することができる。According to the third aspect of the present invention, the clean air supplied from the upper side on the upstream side of the processing chamber is sucked on the lower side on the downstream side of the processing chamber to flow the clean air in the horizontal direction into the processing chamber, The lift-and-carry transfer device intermittently transfers the object to be processed from the upstream loading zone to the downstream loading zone, and cleans the ions generated by corona discharge on the clean air supply side. It is possible to remove the static electricity charged on the object to be processed while conveying it by air.
【0022】請求項4の発明においては、クリーンルー
ム内の清浄空気が、給気側のファン等によって吸引され
た後、高性能フィルタによって所定のクリーン度に浄化
されて処理室の上流側へ吹き出される。請求項5の発明
においては、入出部を有するダクト状の処理室内に水平
方向に被処理物を載置する複数の載置ゾーンを設け、リ
フトアンドキャリー式の移送装置により被処理物を上流
側から下流側に向かって各載置ゾーンに間欠的に移送
し、処理室の上流側に設けられたクリーンエア供給手段
から供給されるクリーンエアを処理室の下流側に設けら
れたクリーンエア排気手段で吸引することによって、処
理室内に沿ってクリーンエアを流し、処理室のクリーン
エア給気手段に設けられたイオン発生器でコロナ放電に
よりイオンを発生し、発生されたイオンを被処理物に帯
電している静電気を除去することができる。In the invention of claim 4, the clean air in the clean room is sucked by a fan on the air supply side, purified by a high performance filter to a predetermined degree of cleanliness, and blown out to the upstream side of the processing chamber. It In the invention of claim 5, a plurality of loading zones for horizontally loading the object to be processed are provided in the duct-shaped processing chamber having the inlet / outlet portion, and the object to be processed is upstream by the lift-and-carry type transfer device. From the clean air supplied from the clean air supply means provided on the upstream side of the processing chamber to the respective mounting zones intermittently from the clean air exhaust means provided on the downstream side of the processing chamber. By suctioning with, clean air flows along the inside of the processing chamber, ions are generated by corona discharge with an ion generator provided in the clean air supply means of the processing chamber, and the generated ions are charged to the object to be processed. It is possible to eliminate the static electricity that is generated.
【0023】請求項6の発明においては、処理室の上流
側に設けられたクリーンエア給気手段から供給されるク
リーンエアを、処理室の床部に設けられたクリーンエア
排気手段によって吸引することができる。請求項7の発
明においては、処理室の上流側に設けられたクリーンエ
ア給気手段から供給されるクリーンエアを、処理室の天
井部に設けられたクリーンエア排気手段によって吸引す
ることができる。In the sixth aspect of the invention, the clean air supplied from the clean air supply means provided on the upstream side of the processing chamber is sucked by the clean air exhaust means provided on the floor of the processing chamber. You can In the invention of claim 7, clean air supplied from the clean air supply unit provided on the upstream side of the processing chamber can be sucked by the clean air exhaust unit provided on the ceiling of the processing chamber.
【0024】請求項8の発明においては、ファンで吸引
された空気が、高性能フィルタによって浄化されて吹き
出される。請求項9の発明においては、循環ファンによ
ってクリーンエアが吹出口から吹き出され、循環ファン
によってクリーンエアが吸込口から吸い込まれる。請求
項10の発明においては、処理室の入口側では、処理室
の上流側に設けられたクリーンエア給気手段から供給さ
れるクリーンエアが、入口側へ漏洩しないように制御す
ると共に下流側へ流れやすくし、処理室の出口側では、
処理室の下流側に設けられたクリーンエア排気手段によ
って処理室内を流れてくるクリーンエアを吸引しやすく
する。In the eighth aspect of the invention, the air sucked by the fan is purified by the high performance filter and blown out. In the invention of claim 9, clean air is blown out from the air outlet by the circulation fan, and clean air is sucked in from the suction port by the circulation fan. In the invention of claim 10, on the inlet side of the processing chamber, the clean air supplied from the clean air supply means provided on the upstream side of the processing chamber is controlled so as not to leak to the inlet side, and the downstream side is controlled. To facilitate the flow, on the outlet side of the processing chamber,
The clean air exhaust means provided on the downstream side of the processing chamber facilitates sucking the clean air flowing in the processing chamber.
【0025】請求項11に発明においては、クリーンエ
ア給気手段から吹き出されるクリーンエアにイオンを放
出することができる。請求項12の発明においては、吹
出口から吹き出されるクリーンエアにイオンを放出する
ことができる。According to the eleventh aspect of the present invention, ions can be emitted to the clean air blown out from the clean air supply means. According to the twelfth aspect of the invention, the ions can be emitted to the clean air blown out from the air outlet.
【0026】[0026]
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施例を図面に基
づいて説明する。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
【0027】図1は、本発明の第1実施例に係る除電装
置をクリーンルーム内に設置した例を示す。図におい
て、21はクリーンルームを表す。クリーンルーム21
は、天井23側にHEPAフィルタ等の高性能フィルタ
24を敷設し、床側にグレーチング板等の床板25を設
け、天井23側の空間22と床下空間26とをセントラ
ル空調機27によって連絡することにより、クリーンエ
アを垂直ダウンフローによって循環供給できるようにな
っている。FIG. 1 shows an example in which the static eliminator according to the first embodiment of the present invention is installed in a clean room. In the figure, 21 indicates a clean room. Clean room 21
Install a high-performance filter 24 such as a HEPA filter on the ceiling 23 side, provide a floor plate 25 such as a grating plate on the floor side, and connect the space 22 on the ceiling 23 side and the underfloor space 26 by a central air conditioner 27. As a result, clean air can be circulated and supplied by vertical downflow.
【0028】クリーンルーム21内には、2種類の生産
装置28、29を挟んで、除電装置30が配置されてい
る。この除電装置30は、図2乃至図12に示すよう
に、前後に入出部32、33を備えたダクト状の処理室
31と、この処理室31内に水平方向に設けられ液晶用
ガラス基板(被処理物)44を載置する3つの載置ゾー
ン34A、34B、34Cと、液晶用ガラス基板(被処
理物)44を各載置ゾーン34A、34B、34Cに間
欠的に移送するリフトアンドキャリー式の移送装置60
と、処理室31の上流側の天井31aに設けられたファ
ン36とHEPAフィルタ等の高性能フィルタ37を組
み合わせたファンフィルタユニット(クリーンエア給気
手段)35と、処理室31の下流側の床板31bに設け
られたファン39とHEPAフィルタ等の高性能フィル
タ40を組み合わせたファンフィルタユニット(クリー
ンエア排気手段)38と、ファンフィルタユニット(ク
リーンエア給気手段)35の下面に設けられたイオン発
生器(イオナイザ)41とを備えている。In the clean room 21, a static eliminator 30 is arranged with two types of production devices 28 and 29 sandwiched therebetween. As shown in FIGS. 2 to 12, the static eliminator 30 includes a duct-shaped processing chamber 31 having inlets and outlets 32 and 33 at the front and back, and a glass substrate for liquid crystal provided horizontally in the processing chamber 31 ( Three placement zones 34A, 34B, 34C on which the object to be processed 44 is placed, and a lift-and-carry for intermittently transferring the liquid crystal glass substrate (object to be processed) 44 to the respective placement zones 34A, 34B, 34C. Type transfer device 60
A fan filter unit (clean air supply means) 35 in which a fan 36 provided on the ceiling 31a on the upstream side of the processing chamber 31 and a high-performance filter 37 such as a HEPA filter are combined, and a floor plate on the downstream side of the processing chamber 31. A fan filter unit (clean air exhausting means) 38 in which a fan 39 provided in 31b and a high-performance filter 40 such as a HEPA filter are combined, and ion generation provided on the lower surface of the fan filter unit (clean air supplying means) 35 And a vessel (ionizer) 41.
【0029】ここで、処理室31は、図1及び図4に示
すように、入出口32、33以外は、閉鎖されている。
即ち、天井31a、床板31b、側板31cで囲われて
いる。又、この除電装置30の入出口32、33の天井
側には、図1及び図12に示すように、垂れ壁42、4
3が設けてある。更に、除電装置30には、図2に示す
ように、脚30aが設けてある。Here, the processing chamber 31, as shown in FIGS. 1 and 4, is closed except for the inlets and outlets 32 and 33.
That is, it is surrounded by the ceiling 31a, the floor plate 31b, and the side plate 31c. Further, as shown in FIGS. 1 and 12, hanging walls 42, 4 are provided on the ceiling side of the entrances 32, 33 of the static eliminator 30.
3 is provided. Further, the static eliminator 30 is provided with legs 30a as shown in FIG.
【0030】次に、図1乃至図11に基づいて、処理室
31内に水平方向に設けられた3つの載置ゾーン34
A、34B、34Cと、液晶用ガラス基板(被処理物)
44を各載置ゾーン34A、34B、34Cに間欠的に
移送するリフトアンドキャリー式の移送装置60につい
て説明する。3つの載置ゾーン34A、34B、34C
は、図1乃至図4に示すように、処理室31の壁面31
c、31cに8本の棒状の受座61を対向するように配
置したものである。受座61は、先端が小径となり、液
晶用ガラス基板(被処理物)44の端部を載置しやすく
してある。Next, referring to FIGS. 1 to 11, three mounting zones 34 are provided horizontally in the processing chamber 31.
A, 34B, 34C and glass substrate for liquid crystal (processing target)
A lift-and-carry type transfer device 60 for intermittently transferring 44 to the respective mounting zones 34A, 34B, 34C will be described. Three mounting zones 34A, 34B, 34C
Is a wall surface 31 of the processing chamber 31, as shown in FIGS.
Eight rod-shaped seats 61 are arranged on c and 31c so as to face each other. The end of the seat 61 has a small diameter so that the end of the glass substrate for liquid crystal (object to be processed) 44 can be easily placed.
【0031】3つの載置ゾーン34A、34B、34C
は、図3に示すように、夫々に液晶用ガラス基板(被処
理物)44が載置されたときに、各液晶用ガラス基板
(被処理物)44が干渉しないような間隔が維持できる
ように、隙間Sが設けてある。この隙間Sとしては、1
本の受座61を取り付ける間隔に相当する。次に、リフ
トアンドキャリー式の移送装置60について説明する。Three mounting zones 34A, 34B, 34C
As shown in FIG. 3, when the liquid crystal glass substrates (processed objects) 44 are respectively placed, it is possible to maintain an interval such that the liquid crystal glass substrates (processed objects) 44 do not interfere with each other. In addition, a gap S is provided. The gap S is 1
It corresponds to the interval at which the book seat 61 is attached. Next, the lift and carry type transfer device 60 will be described.
【0032】リフトアンドキャリー式の移送装置60
は、図1乃至図3に示すように、3つの載置ゾーン34
A、34B、34Cを形成する受座61、61間に処理
室31の長手方向に設置されている。リフトアンドキャ
リー式の移送装置60は、昇降ユニット70と、移送装
置90と、制御手段(シーケンサ)とで構成されてい
る。Lift and carry type transfer device 60
Is the three mounting zones 34 as shown in FIGS.
It is installed in the longitudinal direction of the processing chamber 31 between the seats 61, 61 forming A, 34B, 34C. The lift-and-carry type transfer device 60 includes an elevating unit 70, a transfer device 90, and control means (sequencer).
【0033】図4乃至図8に示すように、昇降ユニット
70は、矩形状の受座ベース71と、この受座ベース7
1の両側部に設けた棒状のガラス基板受座ベース72
と、両ガラス基板受座ベース72の両端部に設けた吸着
キャップ73と、この吸着キャップ73に連絡するチュ
ーブ74と、矩形状の受座ベース71の下面に取り付け
た受座取付ブラケット75と、この受座取付ブラケット
75に取り付けたほぼL字型の取付ブラケット76と、
この取付ブラケット76を介して受座取付ブラケット7
5を昇降させるエアシリンダ77と、このエアシリンダ
77を取り付けるほぼL字型の取付ブラケット78と、
この取付ブラケット78を取り付けるベース79と、取
付ブラケット76に取り付けられエアシリンダ77の伸
縮に伴ってこのベース79に設けた孔80を挿通するガ
イド81と、ベース79の下面に取り付けられた走行用
のガイド82と、ベース79に設けた直方体状のストラ
イカ83とを備えている。As shown in FIGS. 4 to 8, the lifting unit 70 includes a rectangular seat base 71 and the seat base 7.
1. Rod-shaped glass substrate seat bases 72 provided on both sides of 1
A suction cap 73 provided at both ends of both glass substrate receiving bases 72, a tube 74 connecting to the suction caps 73, a receiving seat mounting bracket 75 attached to the lower surface of the rectangular receiving base 71, A substantially L-shaped mounting bracket 76 attached to the seat mounting bracket 75,
Through this mounting bracket 76, the seat mounting bracket 7
5, an air cylinder 77 for moving up and down, a substantially L-shaped mounting bracket 78 for mounting the air cylinder 77,
A base 79 to which the mounting bracket 78 is attached, a guide 81 which is attached to the mounting bracket 76 and which is inserted into a hole 80 provided in the base 79 as the air cylinder 77 expands and contracts, and a bottom surface of the base 79 for traveling. It includes a guide 82 and a rectangular parallelepiped striker 83 provided on the base 79.
【0034】エアシリンダ77には、図7に示すよう
に、エアポートイン77aとエアポートアウト77bと
が設けてある。又、エアシリンダ77に連結するチュー
ブ74には、図示しない開閉弁が取り付けられており、
真空ポンプに連絡している。図1乃至図4、図5乃至図
11に示すように、移送装置90は、処理室31の床板
31bに取り付けられ昇降ユニット70の走行用のガイ
ド82を案内するレール91と、昇降ユニット70の走
行用のガイド82に押さえ金具94を介して取り付けら
れるエンドレスのタイミングベルト92と、処理室31
の床板31bに取り付けられタイミングベルト92を駆
動するタイミングプーリ93と、処理室31の床板31
bに取り付けられタイミングベルト92を回転自在に支
持するタイミングプーリ94と、処理室31の床板31
bの下面側に取り付けられ駆動側のタイミングプーリ9
3を正転・逆転させるサーボモータ95とで構成されて
いる。As shown in FIG. 7, the air cylinder 77 is provided with an air port in 77a and an air port out 77b. An open / close valve (not shown) is attached to the tube 74 connected to the air cylinder 77.
Contact the vacuum pump. As shown in FIGS. 1 to 4 and 5 to 11, the transfer device 90 includes a rail 91 that is attached to a floor plate 31 b of the processing chamber 31 and guides a guide 82 for traveling of the lifting unit 70, and the lifting unit 70. An endless timing belt 92 attached to the traveling guide 82 via a pressing metal member 94, and a processing chamber 31.
And a floor plate 31 of the processing chamber 31, which is attached to the floor plate 31b of the processing chamber 31 and drives a timing belt 92.
and a floor plate 31 of the processing chamber 31 and a timing pulley 94 that is attached to b and rotatably supports a timing belt 92.
The drive side timing pulley 9 attached to the lower surface side of b
3, and a servomotor 95 for rotating the motor 3 in the forward / reverse direction.
【0035】サーボモータ95は、エンコーダを取り付
けることによって、昇降ユニット70の進む距離をこの
エンコーダのパルス数で決定するようにしてある。例え
ば、エンコーダが1000パルスで駆動部のタイミング
プーリ93が1回転するというように、エンコーダのパ
ルス数で調整する。本実施例では、30000パルスに
設定し、水平に2.4秒で500mm移動するようにし
てある。The servomotor 95 is provided with an encoder so that the distance traveled by the elevating unit 70 is determined by the number of pulses of this encoder. For example, adjustment is made by the number of pulses of the encoder such that the encoder makes 1000 pulses and the timing pulley 93 of the drive unit makes one rotation. In this embodiment, the number of pulses is set to 30,000, and the plate is moved horizontally by 500 mm in 2.4 seconds.
【0036】タイミングベルト93は、図9乃至図11
に示すように、ベルトクランプ96、97をボルトナッ
ト99で締付することによって無端状とされている。図
3、図4、図6に示すように、制御手段(シーケンサ)
は、移送装置90のレール91の両端に設けたオーバラ
ン防止用の近接センサ101と、3つの載置ゾーン34
A、34B、34Cの夫々の中央に設けた基板感知用フ
ァイバーセンサ102と、受座71に設けた基板感知用
ファイバーセンサ103と、各基板感知用ファイバーセ
ンサ102と対向して設けた原点感知用光センサ104
とで構成されている。The timing belt 93 is shown in FIGS.
As shown in FIG. 7, the belt clamps 96, 97 are made endless by tightening them with bolts and nuts 99. As shown in FIGS. 3, 4, and 6, control means (sequencer)
Is a proximity sensor 101 provided at both ends of a rail 91 of the transfer device 90 for preventing overrun, and three mounting zones 34.
Substrate sensing fiber sensor 102 provided in the center of each of A, 34B, and 34C, substrate sensing fiber sensor 103 provided in receiving seat 71, and origin sensing provided to face each substrate sensing fiber sensor 102. Optical sensor 104
It is composed of
【0037】ここで、基本的には本装置は、後述するよ
うにサーボモータ95にエンコーダを設け、エンコーダ
に設定されたパルス数だけ移動するようにされているの
で、オーバランしないものであるが、重量物を搬送した
場合にオーバーランを起こす虞があるので、オーバラン
防止用の近接センサ101が設けてある。更に、昇降装
置70及び移送装置90は、図4に示すように、隔壁1
10によって囲われている。Here, basically, this apparatus is provided with an encoder in the servo motor 95 as will be described later, and is moved by the number of pulses set in the encoder, so that it does not overrun. A proximity sensor 101 for preventing overrun is provided because an overrun may occur when a heavy object is transported. Further, as shown in FIG. 4, the lifting device 70 and the transfer device 90 include the partition wall 1
Surrounded by 10.
【0038】昇降装置90の受座取付ブラケット75の
位置で、受座取付ブラケット75の幅より広幅の溝11
1が長手方向に形成されている。又、タイミングプーリ
93、94の近傍の床板31bには、駆動部排気口11
2が設けてある。この駆動部排気口112には排気ファ
ン113が設けてある。これによって、駆動部門130
が処理室31から分離される。At the position of the seat mounting bracket 75 of the lifting device 90, the groove 11 wider than the width of the seat mounting bracket 75.
1 is formed in the longitudinal direction. Further, the drive unit exhaust port 11 is provided on the floor plate 31b near the timing pulleys 93, 94.
2 are provided. An exhaust fan 113 is provided at the drive unit exhaust port 112. As a result, the driving department 130
Is separated from the processing chamber 31.
【0039】更に、駆動部門130の両側には、図4に
示すように、パンチング板120が取り付けられ、処理
室31内の空気をファンフィルタユニット(クリーンエ
ア排気手段)38で排気できるようにレターンシャフト
121が形成されている。次に、本実施例の作用を説明
する。このように構成された本実施例によれば、図1に
示すように、クリーンルーム21では天井23側の空間
22から供給されるクリーンエアは、床下空間26に向
かって垂直ダウンフローとして流下していく。Further, as shown in FIG. 4, punching plates 120 are attached to both sides of the driving section 130, and the return air is exhausted by the fan filter unit (clean air exhausting means) 38 in the processing chamber 31. The shaft 121 is formed. Next, the operation of this embodiment will be described. According to the present embodiment thus configured, as shown in FIG. 1, in the clean room 21, the clean air supplied from the space 22 on the ceiling 23 side flows down toward the underfloor space 26 as a vertical downflow. Go.
【0040】これによって、クリーン度をクラス10に
することができる。一方、除電装置30では、処理室3
1の上流側の天井31aに設けたファンフィルタユニッ
ト(クリーンエア給気手段)35では、クリーンルーム
21内のクリーンエアをファン36で吸引した後、高性
能フィルタ37で浄化して処理室31内に吹き出し、同
時に、処理室31の下流側の床板31bに設けたファン
フィルタユニット(クリーンエア排気手段)38におい
て、処理室31内のクリーンエアをファン39で吸引し
た後、高性能フィルタ40で浄化してクリーンルーム2
1内に吹き出している。As a result, the cleanliness can be set to class 10. On the other hand, in the static eliminator 30, the processing chamber 3
In the fan filter unit (clean air supply means) 35 provided on the ceiling 31a on the upstream side of 1, the clean air in the clean room 21 is sucked by the fan 36, and then purified by the high performance filter 37 to be introduced into the processing chamber 31. At the same time, the clean air in the processing chamber 31 is sucked by the fan 39 in the fan filter unit (clean air exhaust means) 38 provided on the floor plate 31b on the downstream side of the processing chamber 31, and then purified by the high-performance filter 40. And clean room 2
It is blowing in 1.
【0041】これによって、処理室31の上流側の天井
31aに設けたファンフィルタユニット(クリーンエア
給気手段)35から処理室31内に吹き出されたクリー
ンエアは、処理室31の下流側の床板31bに設けたフ
ァンフィルタユニット(クリーンエア排気手段)38に
よって吸引されるため、処理室31内に水平方向に配置
された3つの載置ゾーン34A、34B、34Cに沿っ
て流れる。As a result, the clean air blown into the processing chamber 31 from the fan filter unit (clean air supply means) 35 provided on the ceiling 31a on the upstream side of the processing chamber 31 is the floor plate on the downstream side of the processing chamber 31. Since it is sucked by the fan filter unit (clean air exhausting means) 38 provided in 31b, it flows along the three mounting zones 34A, 34B, and 34C horizontally arranged in the processing chamber 31.
【0042】この際、処理室31の上流側の天井31a
に設けたファンフィルタユニット(クリーンエア給気手
段)35から処理室31内に吹き出されたクリーンエア
は、図2に示すように、生産装置28方向へ、垂れ壁4
2が設けてあるため、生産装置28側への流れが低減さ
れ、処理室31の下流側へ流れるようになる。又、処理
室31の上流側の天井31aに設けたファンフィルタユ
ニット(クリーンエア給気手段)35の下面に設けたイ
オン発生器(イオナイザ)41からコロナ放電により発
生されたイオンは、上述のように処理室31内を3つの
載置ゾーン34A、34B、34Cに沿って流れるクリ
ーンエアによって搬送される。At this time, the ceiling 31a on the upstream side of the processing chamber 31
As shown in FIG. 2, the clean air blown into the processing chamber 31 from the fan filter unit (clean air supply means) 35 provided in the direction toward the production device 28, as shown in FIG.
Since 2 is provided, the flow toward the production device 28 side is reduced, and the flow toward the downstream side of the processing chamber 31 is achieved. Further, the ions generated by the corona discharge from the ion generator (ionizer) 41 provided on the lower surface of the fan filter unit (clean air supply means) 35 provided on the ceiling 31a on the upstream side of the processing chamber 31 are as described above. Further, the inside of the processing chamber 31 is conveyed by the clean air flowing along the three mounting zones 34A, 34B and 34C.
【0043】一方、処理室31における下流側において
も、処理室31内のクリーンエアの生産装置29への両
量を低減するために、図12に示すように、垂れ壁43
を設ける。この垂れ壁42、43によって、処理室31
の上流側の天井31aに設けたファンフィルタユニット
(クリーンエア給気手段)35から処理室31内に吹き
出されたクリーンエアを搬送物に沿った効果的な水平方
向の流れとすることができる。この状態において、生産
装置28で加工された液晶用ガラス基板44は、最初の
載置ゾーン34Aに載せられる。On the other hand, also in the downstream side of the processing chamber 31, in order to reduce the amount of clean air in the processing chamber 31 to the production device 29, as shown in FIG.
Is provided. By the hanging walls 42 and 43, the processing chamber 31
The clean air blown into the processing chamber 31 from the fan filter unit (clean air supply means) 35 provided on the ceiling 31a on the upstream side can be effectively flowed in the horizontal direction along the conveyed object. In this state, the liquid crystal glass substrate 44 processed by the production device 28 is placed in the first placement zone 34A.
【0044】上述したように、処理室31内では、その
上流側の天井31aに設けたファンフィルタユニット
(クリーンエア給気手段)35の下面に設けたイオン発
生器(イオナイザ)41からコロナ放電により発生され
たイオンが、処理室31内を3つの載置ゾーン34A、
34B、34Cに沿って流れるクリーンエアによって搬
送されているので、その上下面44a、44bを含む表
面がクリーンエアによって搬送されるイオンと接触し、
除電される。As described above, in the processing chamber 31, a corona discharge is generated from the ion generator (ionizer) 41 provided on the lower surface of the fan filter unit (clean air supply means) 35 provided on the ceiling 31a on the upstream side thereof. The generated ions move in the processing chamber 31 into three mounting zones 34A,
Since it is carried by the clean air flowing along 34B and 34C, the surfaces including the upper and lower surfaces 44a and 44b come into contact with the ions carried by the clean air,
The electricity is removed.
【0045】このように、生産装置28で加工された液
晶用ガラス基板44が、最初の載置ゾーン34Aに載せ
られると、制御装置(シーケンサ)の指令により、載置
ゾーン34Aの基板感知センサ102が液晶用ガラス基
板44を感知する。ここで、基板感知センサ102は、
処理室31の天井面31aに向かって感知部位が向けら
れている。As described above, when the glass substrate 44 for liquid crystal processed by the production device 28 is placed on the first placement zone 34A, the substrate detection sensor 102 of the placement zone 34A is instructed by the controller (sequencer). Senses the liquid crystal glass substrate 44. Here, the substrate detection sensor 102 is
The sensing portion is directed toward the ceiling surface 31a of the processing chamber 31.
【0046】そして、最初の載置ゾーン34Aの基板感
知センサ102が液晶用ガラス基板44を感知すると、
制御装置(シーケンサ)の指令により、サーボモータ9
5が駆動し、リフトアンドキャリー式の移送装置60の
移送装置90が、図2及び図3における右方向へ移動
し、基板感知用ファイバーセンサ102と対向して設け
た原点感知用光センサ104からの光を昇降ユニット7
0のストライカ83が遮光すると、制御装置(シーケン
サ)の指令により、サーボモータ95に停止指令が出さ
れ、最初の載置ゾーン34Aの指定位置で昇降ユニット
70が停止する。When the substrate detection sensor 102 in the first mounting zone 34A detects the liquid crystal glass substrate 44,
Servo motor 9 according to a command from the control device (sequencer)
5, the transfer device 90 of the lift-and-carry type transfer device 60 moves to the right in FIGS. 2 and 3, and from the optical sensor 104 for origin detection provided opposite to the fiber sensor 102 for substrate detection. The light of the lifting unit 7
When the 0 striker 83 shields light, a stop command is issued to the servo motor 95 by a command from the control device (sequencer), and the lifting unit 70 stops at the first designated position in the placement zone 34A.
【0047】これによって、昇降ユニット70は、最初
の載置ゾーン34Aに乗せられている液晶用ガラス基板
44の真下に位置する。次いで、昇降装置70の受座ヘ
ッド71に設けた基板感知用ファイバーセンサ103
が、液晶用ガラス基板44が昇降装置70上にあること
を感知すると、制御装置(シーケンサ)の指令により、
吸着キャップ73に連絡する開閉弁を開く。これによっ
て、吸着キャップ73からはエアが吸引される。そし
て、制御装置(シーケンサ)の指令により、昇降装置7
0のエアシリンダ77に連絡する圧縮空気弁を開き、そ
のラム77cが伸長し、受座ヘッド71を上昇させ、液
晶用ガラス基板44に吸着キャップ73を当接させ、同
時に液晶用ガラス基板44を吸着キャップ73で吸着し
て、エアシリンダ77のラム77cの長さだけ伸長さ
せ、液晶用ガラス基板44を最初の載置ゾーン34Aの
受座61より上方に持ち上げる。ここでは、ラム77C
の長さを16mmとした。As a result, the elevating unit 70 is located directly below the liquid crystal glass substrate 44 placed on the first mounting zone 34A. Next, the substrate sensing fiber sensor 103 provided on the receiving head 71 of the lifting device 70.
However, when it senses that the glass substrate 44 for liquid crystal is on the elevating device 70, by a command from the control device (sequencer),
The on-off valve that communicates with the suction cap 73 is opened. As a result, air is sucked from the suction cap 73. Then, according to a command from the control device (sequencer), the lifting device 7
Open the compressed air valve connected to the air cylinder 77 of 0, the ram 77c extends, the seating head 71 is raised, the suction cap 73 is brought into contact with the glass substrate for liquid crystal 44, and at the same time, the glass substrate for liquid crystal 44 is opened. The liquid is sucked by the suction cap 73 and extended by the length of the ram 77c of the air cylinder 77, and the liquid crystal glass substrate 44 is lifted above the receiving seat 61 of the first mounting zone 34A. Here, Ram 77C
Has a length of 16 mm.
【0048】次いで、制御装置(シーケンサ)の指令に
より、サーボモータ95のモータ95を正転させ、吸着
キャップ73で液晶用ガラス基板44を吸着した昇降装
置70を次の載置ゾーン34Bへ水平移送する。ここ
で、エンコーダからのパルス数が30000になると、
2.4秒で500mm移動するように設定してある。次
の載置ゾーン34Bでは、基板感知用ファイバーセンサ
102と対向して設けた原点感知用光センサ104から
の光を昇降ユニット70のストライカ83が遮光する
と、制御装置(シーケンサ)の指令により、サーボモー
タ95に停止指令が出され、次の載置ゾーン34Bの指
定位置で昇降ユニット70が停止する。Then, the motor 95 of the servomotor 95 is rotated in the forward direction in response to a command from the control device (sequencer), and the lifting device 70 that sucks the liquid crystal glass substrate 44 by the suction cap 73 is horizontally transferred to the next mounting zone 34B. To do. Here, when the number of pulses from the encoder reaches 30,000,
It is set to move 500 mm in 2.4 seconds. In the next placement zone 34B, when the striker 83 of the elevating unit 70 shields the light from the origin detecting optical sensor 104 provided facing the substrate detecting fiber sensor 102, the servo is instructed by the control device (sequencer). A stop command is issued to the motor 95, and the lifting unit 70 stops at the next designated position in the mounting zone 34B.
【0049】次に、制御装置(シーケンサ)の指令によ
り、吸着キャップ73に連絡する開閉弁を閉じる。そし
て、制御装置(シーケンサ)の指令により、昇降装置7
0のエアシリンダ77に連絡する圧縮空気弁を閉じ、そ
のラム77cを収縮させ、受座ヘッド71を下降させ、
液晶用ガラス基板44を次の載置ゾーン34Bの受座6
1上に載せ、昇降ユニット70は更に下方へ移動する。Next, according to a command from the control device (sequencer), the on-off valve communicating with the suction cap 73 is closed. Then, according to a command from the control device (sequencer), the lifting device 7
The compressed air valve connected to the 0 air cylinder 77 is closed, the ram 77c is contracted, and the seat head 71 is lowered.
The glass substrate 44 for liquid crystal is used as the seat 6 for the next mounting zone 34B.
1, and the lifting unit 70 moves further downward.
【0050】以下同様にして、最終の載置ゾーン34C
へ送られ、次の生産装置29へ搬出される。図13は、
以上の動作を表したものである。本実施例では、最初の
載置ゾーン34Aの中心点から次の載置ゾーン34Bの
中心点までの距離を500mm、次の載置ゾーン34B
の中心点から最後の載置ゾーン34Cの中心点までの距
離を500mmと設定し、この最初の載置ゾーン34A
の中心点から最後の載置ゾーン34Cの中心点までの距
離を搬送速度0.1m/sで搬送するようにしたもので
ある。即ち、1000mmを大凡12秒で搬送できるよ
うにした。In the same manner, the final loading zone 34C
Sent to the next production device 29. FIG.
The above operation is represented. In the present embodiment, the distance from the center point of the first placement zone 34A to the center point of the next placement zone 34B is 500 mm, and the next placement zone 34B is
The distance from the center point of the first placement zone 34A to the center point of the last placement zone 34C is set to 500 mm.
The distance from the center point of the first mounting zone 34C to the center point of the final placement zone 34C is conveyed at a conveying speed of 0.1 m / s. That is, 1000 mm can be transported in about 12 seconds.
【0051】そのため、最初の載置ゾーン34A及び次
の載置ゾーン34Bでの待ち時間を1秒、リフトアップ
時間及びリフトダウン時間を夫々1秒、リフト後のスト
ップ時間を0.3秒、500mmの移動時間を2.4
秒、移動後のストップ時間を0.3秒とした。尚、以上
の処理過程においては、各載置ゾーン34A、34B、
34Cは勿論のこと、リフトアンドキャリー式の移送装
置60による移送過程においても、液晶用ガラス基板4
4は、その上下面44a、44bを含む表面がクリーン
エアによって搬送されるイオンと接触し、除電される。Therefore, the waiting time in the first loading zone 34A and the second loading zone 34B is 1 second, the lift-up time and the lift-down time are 1 second, and the stop time after the lift is 0.3 seconds, 500 mm. Travel time of 2.4
Seconds, and the stop time after movement was 0.3 seconds. In addition, in the above process, each mounting zone 34A, 34B,
In the transfer process by the lift-and-carry type transfer device 60 as well as 34C, the glass substrate 4 for liquid crystal is used.
4, the surface including the upper and lower surfaces 44a and 44b comes into contact with the ions carried by the clean air, and the charge is removed.
【0052】その後、液晶用ガラス基板44は、次の生
産装置29へ搬送される。以上のように、本実施例によ
れば、水平方向に設けられた液晶用ガラス基板(被処理
物)44を載置する3つの載置ゾーン34A、34B、
34Cに沿ってクリーンエアを送りながら、液晶用ガラ
ス基板(被処理物)44をリフトアンドキャリー式の移
送装置60により上流側の載置ゾーン34Aから下流側
の載置ゾーン34Cに向かって間欠的に移送し、クリー
ンエアの給気側でコロナ放電により発生されたイオンを
クリーンエアで搬送しながら液晶用ガラス基板(被処理
物)44に帯電している静電気を除去することができ
る。After that, the liquid crystal glass substrate 44 is conveyed to the next production device 29. As described above, according to the present embodiment, the three mounting zones 34A, 34B for mounting the glass substrate (processing object) 44 for liquid crystal provided in the horizontal direction,
While feeding clean air along 34C, the liquid crystal glass substrate (object to be processed) 44 is intermittently moved from the loading zone 34A on the upstream side to the loading zone 34C on the downstream side by the lift and carry type transfer device 60. Then, the static electricity charged on the glass substrate for liquid crystal (object to be processed) 44 can be removed while the ions generated by the corona discharge on the air supply side of the clean air are transported by the clean air.
【0053】特に、イオン発生器(イオナイザ)41か
らコロナ放電により発生されたイオンは、従来のように
垂直ダウンフローではなく、処理室31の上流側から下
流側へほぼ水平方向に流れるクリーンエアによって搬送
されるため、3つの載置ゾーン34A、34B、34C
上及び移送中の液晶用ガラス基板(被処理物)44との
接触時間が格段に長くなり、液晶用ガラス基板44に帯
電された静電気は、確実に除去される。Particularly, the ions generated by the corona discharge from the ion generator (ionizer) 41 are not vertical downflow as in the conventional case, but are generated by the clean air flowing substantially horizontally from the upstream side to the downstream side of the processing chamber 31. Since it is transported, there are three loading zones 34A, 34B, 34C.
The contact time with the liquid crystal glass substrate (object to be processed) 44 during the transfer and the transfer is remarkably lengthened, and the static electricity charged on the liquid crystal glass substrate 44 is surely removed.
【0054】又、液晶用ガラス基板(被処理物)44
は、3つの載置ゾーン34A、34B、34C上に載置
されているときは勿論のこと、移送中においても、常時
クリーンエア及びこれによって搬送されるイオンに接触
するため、その上面44aは勿論のこと下面44b側も
除電される。Further, a glass substrate for liquid crystal (object to be processed) 44
Is in contact with the clean air and the ions carried by it, not only when it is placed on the three placement zones 34A, 34B, and 34C, but also during transfer, so that the upper surface 44a is of course contacted. That is, the lower surface 44b side is also neutralized.
【0055】図14乃至図22は、処理室31の上流側
の天井31aに設けたファンフィルタユニット(クリー
ンエア給気手段)35から処理室31内に吹き出された
クリーンエアが、生産装置28方向へ流れる量を低減
し、且つ処理室31内の水平方向の流れを速やかに形成
するため、ファンフィルタユニット(クリーンエア給気
手段)35の下面側にクリーンエア流れ制御機構を設け
た例を示す。14 to 22, the clean air blown into the processing chamber 31 from the fan filter unit (clean air supply means) 35 provided on the ceiling 31a on the upstream side of the processing chamber 31 is directed toward the production apparatus 28. An example in which a clean air flow control mechanism is provided on the lower surface side of the fan filter unit (clean air supply means) 35 in order to reduce the amount flowing to the processing chamber 31 and quickly form a horizontal flow in the processing chamber 31 is shown. .
【0056】図14では、下面側の開口率を側面側の開
口率より小さくして、下流側へ向かう流れを作れるよう
にしたパンチング板45を配した例を示す。この例で
は、垂れ壁42が設けてあった位置は、閉鎖されてあ
る。又、パンチング板45には、開口率の大きい側面側
にイオン発生器(イオナイザ)41が設けてある。FIG. 14 shows an example in which the punching plate 45 is arranged so that the opening ratio on the lower surface side is smaller than the opening ratio on the side surface side so that the flow toward the downstream side can be created. In this example, the position where the hanging wall 42 was provided is closed. Further, the punching plate 45 is provided with an ion generator (ionizer) 41 on the side surface side with a large aperture ratio.
【0057】図15は、図14におけるパンチング板4
5の側面が楕円形状にした例、図16は、図14におけ
るパンチング板45の側面が半円形状にした例を示す。
図17は、図14におけるパンチング板45に代えてほ
ぼL字状に折れ曲がる抵抗板46とした例を示す。この
抵抗板46によって、処理室31の上流側の天井31a
に設けたファンフィルタユニット(クリーンエア給気手
段)35から処理室31内に吹き出されたクリーンエア
は、下流側へ向かう流れに変えられる。FIG. 15 shows the punching plate 4 in FIG.
5 shows an example in which the side surface of No. 5 has an elliptical shape, and FIG. 16 shows an example in which the side surface of the punching plate 45 in FIG. 14 has a semicircular shape.
FIG. 17 shows an example in which the punching plate 45 in FIG. 14 is replaced with a resistance plate 46 that is bent in an approximately L shape. By this resistance plate 46, the ceiling 31a on the upstream side of the processing chamber 31
The clean air blown into the processing chamber 31 from the fan filter unit (clean air supply means) 35 provided in the above is converted into a flow toward the downstream side.
【0058】図18は、図17における抵抗板46に水
平方向に延びる板体46aを追加した例を示す。図19
は、図17における抵抗板46の傾斜部46bをパンチ
ングにした例を示す。図20は、図18における抵抗板
46に傾斜部46bと水平方向に延びる板体46aをパ
ンチングにした例を示す。FIG. 18 shows an example in which a plate body 46a extending in the horizontal direction is added to the resistance plate 46 in FIG. FIG.
Shows an example in which the inclined portion 46b of the resistance plate 46 in FIG. 17 is punched. FIG. 20 shows an example in which the resistance plate 46 in FIG. 18 is punched with the inclined portion 46b and the plate body 46a extending in the horizontal direction.
【0059】図21は、図17におけるほぼL字状に折
れ曲がる抵抗板46を円弧状にした例を示す。図22
は、図2に示す垂れ壁42と同様の効果を奏するよう
に、ファンフィルタユニット35の高性能フィルタ37
の形状を水平部37aとこれに連設する円弧状部37b
とすると共に、通気抵抗を水平部37aが大きく、円弧
状部37bが小さくなるようにした例を示す。FIG. 21 shows an example in which the resistance plate 46 which is bent into a substantially L shape in FIG. 17 is formed in an arc shape. FIG.
Is a high-performance filter 37 of the fan filter unit 35 so as to achieve the same effect as the hanging wall 42 shown in FIG.
Is shaped like a horizontal portion 37a and an arcuate portion 37b connected to the horizontal portion 37a.
In addition to the above, an example in which the horizontal portion 37a has a large ventilation resistance and the arcuate portion 37b has a small ventilation resistance is shown.
【0060】この例によれば、ファン36から送られる
空気は、水平部37aでは低速、円弧状部37bでは高
速となって給気される。図23は、処理室31における
下流側の垂れ壁43に代えて円弧状の気流案内板47を
設けた例を示す。この例によれば、処理室31内のクリ
ーンエアの流れを垂れ壁43と同様に変更させることが
できると共に、垂れ壁43に比してその変更をスムーズ
に行うことができる。According to this example, the air sent from the fan 36 is supplied at low speed in the horizontal portion 37a and at high speed in the arcuate portion 37b. FIG. 23 shows an example in which an arc-shaped airflow guide plate 47 is provided instead of the hanging wall 43 on the downstream side in the processing chamber 31. According to this example, the flow of clean air in the processing chamber 31 can be changed similarly to the hanging wall 43, and the change can be made more smoothly than the hanging wall 43.
【0061】図24は、本発明の第2実施例に係る除電
装置を示す。本実施例と図1に示す実施例との相違は、
ファンフィルタユニット(クリーンエア排気手段)38
が処理室31の下流側の天井31aに設けてある点にあ
る。本実施例においても、図1に示す実施例と同様の作
用効果を奏することができる。FIG. 24 shows a static eliminator according to the second embodiment of the present invention. The difference between this embodiment and the embodiment shown in FIG.
Fan filter unit (clean air exhaust means) 38
Is provided on the ceiling 31a on the downstream side of the processing chamber 31. Also in this embodiment, it is possible to obtain the same effects as the embodiment shown in FIG.
【0062】ファンフィルタユニット35から吹き出さ
れたクリーンエアは、処理室31の下流側に設けたファ
ンフィルタユニット(クリーンエア排気手段)38によ
って吸引されるため、処理室31内に水平方向に配置さ
れたローラコンベヤ34に沿って流れる。図25は、本
発明の第3実施例に係る除電装置を示す。The clean air blown out from the fan filter unit 35 is sucked by the fan filter unit (clean air exhaust means) 38 provided on the downstream side of the processing chamber 31, so that it is arranged in the processing chamber 31 in the horizontal direction. Flow along the roller conveyor 34. FIG. 25 shows a static eliminator according to the third embodiment of the present invention.
【0063】本実施例と図1に示す実施例との相違は、
処理室31の上流側の天井31aに設けたファンフィル
タユニット(クリーンエア給気手段)35と処理室31
の下流側の床板31bに設けたファンフィルタユニット
(クリーンエア排気手段)38とが、吹出口151と吸
込口152に置き換わると共に、吹出口151と吸込口
152をダクト153を介して循環ファン150により
連結し、循環ファン150でクリーンエアを循環させる
ようにしたものである。The difference between this embodiment and the embodiment shown in FIG. 1 is that
A fan filter unit (clean air supply unit) 35 provided on the ceiling 31a on the upstream side of the processing chamber 31 and the processing chamber 31.
The fan filter unit (clean air exhaust means) 38 provided on the floor plate 31b on the downstream side of the air outlet 151 and the suction port 152 are replaced by the fan 151 and the suction port 152 by the circulation fan 150 via the duct 153. The air is connected and the circulation fan 150 circulates clean air.
【0064】図26は、本発明の第4実施例に係る除電
装置を示す。図25に示す実施例における吸込口152
を処理室31の下流側の天井31aに設けたものであ
る。本実施例においても、図25に示す実施例と同様の
作用効果を奏することができる。FIG. 26 shows a static eliminator according to the fourth embodiment of the present invention. Suction port 152 in the embodiment shown in FIG.
Is provided on the ceiling 31a on the downstream side of the processing chamber 31. Also in this embodiment, it is possible to obtain the same effects as the embodiment shown in FIG.
【0065】図27乃至図33は、本発明の第5実施例
に係る除電装置を示す。本実施例では、図31乃至図3
3に示すキャリアケース160にて複数の液晶用ガラス
基板44を複数枚収容し、除電するものである。処理室
31では、キャリアケース160を載置するために、受
座61の先端にレール85を取り付け、矩形状の受座ベ
ース71の両側部に設けた棒状のガラス基板受座ベース
72及び吸着キャップ73を廃止し、受座ベース71の
両端に立上がり部71aを設け、この立上がり部71a
でキャリアケース160を受け止めるようにしたもので
ある。27 to 33 show a static eliminator according to the fifth embodiment of the present invention. In this embodiment, FIG. 31 to FIG.
A plurality of liquid crystal glass substrates 44 are housed in a carrier case 160 shown in FIG. In the processing chamber 31, in order to mount the carrier case 160, a rail 85 is attached to the tip of the seat 61, and a rod-shaped glass substrate seat base 72 and a suction cap provided on both sides of the rectangular seat base 71. 73 is abolished and rising portions 71a are provided at both ends of the seat base 71.
Therefore, the carrier case 160 is received.
【0066】このキャリアケース160は公知であり、
枠161に液晶用ガラス基板44を1枚ずつ収容する段
部161が形成されており、上下左右からクリーンエア
が流通できる隙間があり、一側部側から液晶用ガラス基
板44を段部161に沿って移動させながら収容するよ
うになっている。その他の構成は、図1に示す実施例と
同様である。This carrier case 160 is well known,
A step portion 161 for accommodating the liquid crystal glass substrates 44 one by one is formed in the frame 161, and there is a gap through which clean air can flow from the upper, lower, left, and right, and the liquid crystal glass substrate 44 is provided on the step portion 161 from one side. It is designed to be housed while moving along. Other configurations are the same as those of the embodiment shown in FIG.
【0067】本実施例でも図1に示す実施例と同様の効
果を奏することができる。次に、本実施例による作用を
説明する。図28において、キャリアケース160は、
高さが約300mmで、枠161に液晶用ガラス基板4
4を1枚ずつ収容する段部161が16個形成されてお
り、上下左右からクリーンエアが流通できる隙間があ
り、一側部側から液晶用ガラス基板44を段部162に
沿って移動させながら収容するようになっている。In this embodiment, the same effect as that of the embodiment shown in FIG. 1 can be obtained. Next, the operation of this embodiment will be described. In FIG. 28, the carrier case 160 is
The glass substrate 4 for liquid crystal has a height of about 300 mm and is frame 161.
16 step portions 161 for accommodating 4 sheets one by one are formed, and there is a gap through which clean air can flow from the upper, lower, left and right, while moving the glass substrate for liquid crystal 44 along the step portion 162 from one side. It is supposed to be housed.
【0068】このキャリアケース160の最上位(枠1
61の上面から約50mm下の位置)と中間(最上位か
ら約100mm下の位置)と最下位(中間から約100
mmした後で、枠161の下面から約50mmの位置)
に液晶用ガラス基板44を1枚ずつ収容した後、処理室
31内の流速を0.5m/sec、温度23℃、湿度5
5%の条件で、最上位、中間及び最下位の液晶用ガラス
基板44の除電特性を帯電プレートモニタにより測定し
た。試験した液晶用ガラス基板44の静電気の帯電量は
−1800Vであった。The top of this carrier case 160 (frame 1
61 at a position approximately 50 mm below the upper surface), middle (a position approximately 100 mm below the uppermost position), and lowermost (a position approximately 100 mm from the middle).
(a position of about 50 mm from the lower surface of the frame 161 after mm)
After accommodating the liquid crystal glass substrates 44 one by one, the flow velocity in the processing chamber 31 is 0.5 m / sec, the temperature is 23 ° C., and the humidity is 5
Under the condition of 5%, the static elimination characteristics of the uppermost, middle and lowermost liquid crystal glass substrates 44 were measured by a charged plate monitor. The amount of static charge of the liquid crystal glass substrate 44 tested was −1800V.
【0069】その結果は、次の通りである。最上位の液
晶用ガラス基板44は、25秒後に静電気の帯電量が−
100Vとなった。中間の液晶用ガラス基板44は、5
2秒後に静電気の帯電量が−100Vとなった。The results are as follows. The highest level glass substrate 44 for liquid crystal has a static charge amount of − after 25 seconds.
It became 100V. The intermediate liquid crystal glass substrate 44 is 5
After 2 seconds, the electrostatic charge amount became −100V.
【0070】最下位の液晶用ガラス基板44は、60秒
後に静電気の帯電量が−100Vとなった。比較のため
に、垂直ダウンフローのクリーンルーム内で、上記と同
様に最上位、中間及び最下位の液晶用ガラス基板44の
除電特性を帯電プレートモニタにより測定した。試験し
た液晶用ガラス基板44の静電気の帯電量は−1800
Vあった。尚、垂直ダウンフローの流速は0.5m/
s、温度23℃、湿度55%であった。The liquid crystal glass substrate 44 of the lowest rank had an electrostatic charge amount of -100 V after 60 seconds. For comparison, in a vertical downflow clean room, the charge removal characteristics of the uppermost, middle and lowermost liquid crystal glass substrates 44 were measured by a charged plate monitor in the same manner as above. The amount of electrostatic charge of the tested glass substrate 44 for liquid crystal is -1800.
There was V. The vertical downflow velocity is 0.5 m /
The temperature was 23 ° C and the humidity was 55%.
【0071】最上位の液晶用ガラス基板44は、50秒
後に静電気の帯電量が−100Vとなった。中間の液晶
用ガラス基板44は、260秒後に静電気の帯電量が−
100Vとなった。The uppermost glass substrate for liquid crystal 44 had an electrostatic charge of -100 V after 50 seconds. The intermediate liquid crystal glass substrate 44 has a static charge amount of −260 seconds later.
It became 100V.
【0072】最下位の液晶用ガラス基板44は、160
秒後に静電気の帯電量が−100Vとなった。本実施例
では、液晶用ガラス基板44の上下面から除電するの
で、従来例のように液晶用ガラス基板44の上面からの
除電に比して短時間に除電できたものと思われる。The lowest glass substrate 44 for liquid crystal is 160
After a second, the electrostatic charge amount became −100V. In this embodiment, since the charge is removed from the upper and lower surfaces of the liquid crystal glass substrate 44, it is considered that the charge can be removed in a shorter time than the charge removal from the upper surface of the liquid crystal glass substrate 44 as in the conventional example.
【0073】尚、上記実施例では、3つの載置ゾーン3
4A、34B、34Cを設けた場合について説明した
が、被処理物及び処理規模によって増減することは任意
である。又、被処理物として液晶用ガラス基板について
説明したが、本発明はこれに限らず、例えば、半導体で
あっても良い。更に、天井全面に高性能フィルタを用い
たクリーンルームに適用した場合について説明したが、
コンベンショナルタイプのクリーンルームとしたものと
しても良い。In the above embodiment, the three mounting zones 3 are used.
Although the case where 4A, 34B, and 34C are provided has been described, it is arbitrary to increase or decrease depending on the object to be processed and the processing scale. Although the glass substrate for liquid crystal has been described as the object to be processed, the present invention is not limited to this, and may be, for example, a semiconductor. Furthermore, the case where it was applied to a clean room using a high-performance filter on the entire ceiling was explained.
It may be a conventional type clean room.
【0074】[0074]
【発明の効果】以上のように、本発明によれば、水平方
向に設けられた被処理物を載置する複数の載置ゾーンに
沿ってクリーンエアを送りながら、被処理物をリフトア
ンドキャリー式の移送装置により上流側の載置ゾーンか
ら下流側の載置ゾーンに向かって間欠的に移送し、クリ
ーンエアの給気側でコロナ放電により発生されたイオン
をクリーンエアで搬送しながら被処理物に帯電している
静電気を除去するので、被処理物に対し長時間に亘って
イオンを接触させることが可能となり、静電気を確実に
除去することができる。As described above, according to the present invention, the object to be processed is lifted and carried while the clean air is sent along the plurality of mounting zones for mounting the object to be processed which are provided in the horizontal direction. Type transfer device intermittently transfers from the upstream loading zone to the downstream loading zone, and the ions generated by corona discharge on the clean air supply side are transferred while being transported by the clean air. Since the static electricity charged on the object is removed, the ions can be brought into contact with the object to be processed for a long time, and the static electricity can be reliably removed.
【0075】又、水平方向に設置した複数の載置ゾーン
に沿ってクリーンエアを送ることができるので、上流側
に1つのイオン発生器を設置するだけで、連続的に被処
理物に帯電する静電気を確実に除去することができるの
で、複数のイオナイザを必要とせず、メンテナンスが容
易である。更に、水平方向に設置した複数の載置ゾーン
に沿って流れるクリーンエアでイオンを搬送するので、
被処理物に対し上下面にイオンを接触させることが可能
となり、ガラス基板等を複数枚積み込むカセット式であ
っても、被処理物の上下面に帯電する静電気を確実に除
去することができる。Further, since clean air can be sent along a plurality of horizontally placed mounting zones, it is only necessary to install one ion generator on the upstream side to continuously charge the object to be treated. Since static electricity can be reliably removed, multiple ionizers are not required and maintenance is easy. Furthermore, since the clean air flowing along the multiple mounting zones installed in the horizontal direction conveys the ions,
Ions can be brought into contact with the upper and lower surfaces of the object to be processed, and even with a cassette type in which a plurality of glass substrates and the like are stacked, static electricity charged on the upper and lower surfaces of the object can be reliably removed.
【図1】本発明の第1実施例に係る除電装置をクリーン
ルーム内に設置した例を示す説明図である。FIG. 1 is an explanatory diagram showing an example in which a static eliminator according to a first embodiment of the present invention is installed in a clean room.
【図2】図1の除電装置の正面図である。FIG. 2 is a front view of the static eliminator of FIG.
【図3】図1の除電装置の平面図である。FIG. 3 is a plan view of the static eliminator of FIG.
【図4】図1の除電装置の断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view of the static eliminator of FIG.
【図5】図1の昇降ユニットの受座の平面図である。5 is a plan view of a seat of the lifting unit of FIG. 1. FIG.
【図6】図1の昇降ユニットの一部切欠き側面図であ
る。6 is a partially cutaway side view of the lifting unit of FIG. 1. FIG.
【図7】図1の昇降ユニットの要部を示す側面図であ
る。7 is a side view showing a main part of the lifting unit of FIG. 1. FIG.
【図8】図1の昇降ユニットと移送装置との関係を示す
側面図である。8 is a side view showing the relationship between the lifting unit and the transfer device of FIG. 1. FIG.
【図9】図1の移送装置のタイミングベルトの平面図で
ある。9 is a plan view of the timing belt of the transfer device of FIG. 1. FIG.
【図10】図9の移送装置のタイミングベルトの結合部
の詳細を示す平面図である。10 is a plan view showing details of a coupling portion of the timing belt of the transfer device of FIG.
【図11】図10の移送装置のタイミングベルトの結合
部の詳細を示す側面図である。11 is a side view showing details of a connecting portion of the timing belt of the transfer device of FIG.
【図12】図1の除電装置のクリーンエアの排気部にお
けるクリーンエアの流れを示す説明図である。FIG. 12 is an explanatory diagram showing a flow of clean air in an exhaust portion of the clean air of the static eliminator of FIG.
【図13】図1の除電装置の実施例における処理工程を
示す説明図である。FIG. 13 is an explanatory diagram showing a treatment process in the embodiment of the static eliminator of FIG. 1.
【図14】図1の除電装置のクリーンエアの供給部に設
けたリーンエア流れ制御機構を示す説明図である。14 is an explanatory diagram showing a lean air flow control mechanism provided in a clean air supply unit of the static eliminator of FIG.
【図15】図1の除電装置のクリーンエアの供給部に設
けたリーンエア流れ制御機構を示す説明図である。15 is an explanatory diagram showing a lean air flow control mechanism provided in a clean air supply unit of the static eliminator of FIG.
【図16】図1の除電装置のクリーンエアの供給部に設
けたリーンエア流れ制御機構を示す説明図である。16 is an explanatory diagram showing a lean air flow control mechanism provided in a clean air supply unit of the static eliminator of FIG.
【図17】図1の除電装置のクリーンエアの供給部に設
けたリーンエア流れ制御機構を示す説明図である。17 is an explanatory diagram showing a lean air flow control mechanism provided in a clean air supply unit of the static eliminator of FIG. 1. FIG.
【図18】図1の除電装置のクリーンエアの供給部に設
けたリーンエア流れ制御機構を示す説明図である。18 is an explanatory diagram showing a lean air flow control mechanism provided in a clean air supply unit of the static eliminator of FIG.
【図19】図1の除電装置のクリーンエアの供給部に設
けたリーンエア流れ制御機構を示す説明図である。FIG. 19 is an explanatory diagram showing a lean air flow control mechanism provided in a clean air supply unit of the static eliminator of FIG. 1.
【図20】図1の除電装置のクリーンエアの供給部に設
けたリーンエア流れ制御機構を示す説明図である。20 is an explanatory view showing a lean air flow control mechanism provided in a clean air supply unit of the static eliminator of FIG. 1. FIG.
【図21】図1の除電装置のクリーンエアの供給部に設
けたリーンエア流れ制御機構を示す説明図である。21 is an explanatory diagram showing a lean air flow control mechanism provided in a clean air supply unit of the static eliminator of FIG. 1. FIG.
【図22】図1の除電装置のクリーンエアの供給部に設
けたリーンエア流れ制御機構を示す説明図である。22 is an explanatory diagram showing a lean air flow control mechanism provided in a clean air supply unit of the static eliminator of FIG. 1. FIG.
【図23】図1の除電装置における下流側の垂れ壁に代
えて円弧状の気流案内板を設けた例を示す説明図であ
る。23 is an explanatory diagram showing an example in which an arc-shaped airflow guide plate is provided in place of the hanging wall on the downstream side in the static eliminator of FIG.
【図24】本発明の第2実施例に係る除電装置を示す説
明図である。FIG. 24 is an explanatory diagram showing a static eliminator according to a second embodiment of the present invention.
【図25】本発明の第3実施例に係る除電装置を示す説
明図である。FIG. 25 is an explanatory diagram showing a static eliminator according to a third embodiment of the present invention.
【図26】本発明の第4実施例に係る除電装置を示す説
明図である。FIG. 26 is an explanatory view showing a static eliminator according to a fourth embodiment of the present invention.
【図27】本発明の第5実施例に係る除電装置を示す平
面図である。FIG. 27 is a plan view showing a static eliminator according to a fifth embodiment of the present invention.
【図28】図27の除電装置の断面図である。28 is a cross-sectional view of the static eliminator of FIG. 27.
【図29】図27の除電装置の昇降ユニットの平面図で
ある。29 is a plan view of an elevating unit of the static eliminator of FIG. 27.
【図30】図27の除電装置の昇降ユニットの側面図で
ある。30 is a side view of the lifting unit of the static eliminator of FIG. 27.
【図31】図27の除電方法に用いられる液晶用ガラス
基板を複数枚収容し、搬送するキャリアケースの正面図
である。FIG. 31 is a front view of a carrier case that accommodates and conveys a plurality of liquid crystal glass substrates used in the charge eliminating method of FIG. 27.
【図32】図31に示すキャリアケースの側面図であ
る。32 is a side view of the carrier case shown in FIG. 31. FIG.
【図33】図31に示すキャリアケースの背面図であ
る。FIG. 33 is a rear view of the carrier case shown in FIG. 31.
【図34】従来の除電装置の概要を示す説明図である。FIG. 34 is an explanatory diagram showing an outline of a conventional static eliminator.
【図35】図34における従来の除電装置のイオナイザ
とローラコンベヤ上の被処理物との関係を示す説明図で
ある。35 is an explanatory diagram showing the relationship between the ionizer of the conventional static eliminator shown in FIG. 34 and the object to be treated on the roller conveyor.
【図36】従来の除電装置の概要を示す説明図である。FIG. 36 is an explanatory diagram showing an outline of a conventional static eliminator.
【図37】図36における従来の除電装置のイオナイザ
とローラコンベヤ上の被処理物との関係を示す説明図で
ある。FIG. 37 is an explanatory diagram showing the relationship between the ionizer of the conventional static eliminator shown in FIG. 36 and the object to be treated on the roller conveyor.
21 クリーンルーム 22 ファンフィルタユニット 28、29 生産装置 30 除電装置 31 処理室 32、33 入出口 34 ローラコンベヤ 34A,34B,34C 載置ゾーン 35 ファンフィルタユニット(クリーンエア給気手
段) 38 ファンフィルタユニット(クリーンエア排気手
段) 41 イオン発生器(イオナイザ) 42、43 垂れ壁 44 液晶用ガラス基板 60 リフトアンドキャリー式の移送装置 61 受座 70 昇降ユニット 73 吸着キャップ 77 エアシリンダ 83 ストライカ 90 移送装置 91 レール 92 タイミングベルト 93、94 タイミングプーリ 95 サーボモータ 102 基板感知用ファイバーセンサ 103 基板感知用ファイバーセンサ 104 原点感知用光センサ 110 隔壁 111 溝21 clean room 22 fan filter unit 28, 29 production device 30 static eliminator 31 processing chamber 32, 33 inlet / outlet 34 roller conveyor 34A, 34B, 34C mounting zone 35 fan filter unit (clean air supply means) 38 fan filter unit (clean) 41) Ion generator (ionizer) 42, 43 Drop wall 44 Glass substrate for liquid crystal 60 Lift and carry type transfer device 61 Seat 70 Elevating unit 73 Adsorption cap 77 Air cylinder 83 Striker 90 Transfer device 91 Rail 92 Timing Belts 93, 94 Timing pulley 95 Servo motor 102 Substrate detection fiber sensor 103 Substrate detection fiber sensor 104 Origin detection optical sensor 110 Partition wall 111 Groove
Claims (12)
る複数の載置ゾーンに沿ってクリーンエアを送り、被処
理物を各載置ゾーンに間欠的にリフトアンドキャリー式
の移送装置で移送し、クリーンエアの給気側でコロナ放
電により発生されたイオンをクリーンエアで搬送しなが
ら被処理物に帯電している静電気を除去することを特徴
とする除電方法。1. A lift-and-carry-type transfer device that feeds clean air to a plurality of mounting zones for horizontally placing the object to be processed and intermittently transfers the object to each of the mounting zones. The static elimination method is characterized in that the static electricity charged on the object to be treated is transferred while the ions generated by corona discharge on the air supply side of the clean air are conveyed by the clean air.
処理物を載置する複数の載置ゾーンを水平方向に配置す
ると共に被処理物を各載置ゾーンに間欠的に移送するリ
フトアンドキャリー式の移送装置を配置し、処理室の上
流側で供給するクリーンエアを処理室の下流側で吸引す
ることによって、処理室内の水平方向にクリーンエアを
流し、処理室のクリーンエア供給部でコロナ放電により
イオンを発生し、発生されたイオンをクリーンエアで搬
送しながら被処理物に帯電している静電気を除去するこ
とを特徴とする除電方法。2. A lift-and-place for horizontally arranging a plurality of placement zones for placing an object to be treated in a duct-shaped processing chamber having an inlet / outlet portion and for intermittently transferring the object to be placed to each placing zone. A carry-type transfer device is installed, and the clean air supplied in the upstream side of the processing chamber is sucked in in the downstream side of the processing chamber so that the clean air flows horizontally in the processing chamber and the clean air supply section of the processing chamber A static elimination method characterized in that ions are generated by corona discharge, and the static electricity charged on the object to be processed is removed while the generated ions are conveyed by clean air.
処理物を載置する複数の載置ゾーンを水平方向に配置す
ると共に被処理物を各載置ゾーンに間欠的に移送するリ
フトアンドキャリー式の移送装置を配置し、処理室の上
流側の上部側から供給するクリーンエアを処理室の下流
側の下部側で吸引することによって、処理室内の水平方
向にクリーンエアを流し、処理室のクリーンエア供給部
でコロナ放電によりイオンを発生し、発生されたイオン
をクリーンエアで搬送しながら被処理物に帯電している
静電気を除去することを特徴とする除電方法。3. A lift-and-place system in which a plurality of placement zones for placing an object to be treated are horizontally arranged in a duct-shaped processing chamber having an inlet / outlet portion and at the same time an object to be treated is intermittently transferred to each placing zone. A carry-type transfer device is installed, and clean air supplied from the upper part of the processing chamber on the upstream side is sucked on the lower part of the processing chamber on the downstream side, so that the clean air flows in the horizontal direction in the processing chamber. A method for removing static electricity, characterized in that ions are generated by corona discharge in the clean air supply part of the above, and the static electricity charged on the object to be processed is removed while the generated ions are conveyed by the clean air.
いて、クリーンルーム内の清浄空気を導入し、浄化した
クリーンエアを用いることを特徴とする除電方法。4. The static elimination method according to claim 1, wherein clean air in the clean room is introduced and purified clean air is used.
の処理室内に水平方向に設けられ被処理物を載置する複
数の載置ゾーンと、被処理物を各載置ゾーンに間欠的に
移送するリフトアンドキャリー式の移送装置と、処理室
の上流側に設けられたクリーンエア給気手段と、処理室
の下流側に設けられたクリーンエア排気手段と、クリー
ンエア給気手段に設けられたイオン発生器とを備えたこ
とを特徴とする除電装置。5. A duct-shaped processing chamber having an inlet / outlet portion, a plurality of mounting zones provided in the processing chamber in a horizontal direction for mounting an object to be processed, and the object to be processed is intermittently placed in each of the mounting zones. Lift and carry type transfer device, a clean air supply means provided on the upstream side of the processing chamber, a clean air discharge means provided on the downstream side of the processing chamber, and a clean air supply means And a static elimination device.
段が処理室の天井部に設けられ、クリーンエア排気手段
が処理室の床部に設けられていることを特徴とする除電
装置。6. The static eliminator according to claim 5, wherein the clean air supply means is provided on a ceiling portion of the processing chamber, and the clean air exhaust means is provided on a floor portion of the processing chamber.
段とクリーンエア排気手段が、処理室の天井部に設けら
れていることを特徴とする除電装置。7. The static eliminator according to claim 5, wherein the clean air supply means and the clean air exhaust means are provided on the ceiling of the processing chamber.
いて、クリーンエア給気手段及びクリーンエア排気手段
が、高性能フィルタとファンとで構成されていることを
特徴とする除電装置。8. A static eliminator according to claim 5, wherein the clean air supply means and the clean air exhaust means are composed of a high-performance filter and a fan.
いて、クリーンエア給気手段及びクリーンエア排気手段
が、循環ファンに連絡する吹出口と吸込口とで構成され
ていることを特徴とする除電装置。9. The clean air supply means and the clean air exhaust means according to claim 5, wherein the clean air supply means and the clean air exhaust means are composed of a blower outlet and a suction inlet communicating with the circulation fan. Static eliminator.
は、天井側にクリーンエア流れ制御機構が設けられてい
ることを特徴とする除電装置。10. The static eliminator according to claim 5, wherein a clean air flow control mechanism is provided on the ceiling side at the entrance and exit of the processing chamber.
クリーンエア給気手段の吹出部に設けられていることを
特徴とする除電装置。11. The ion generator according to claim 5,
A static eliminator provided in the blowout part of the clean air supply means.
吹出口に設けられていることを特徴とする除電装置。12. The ion generator according to claim 9,
A static eliminator provided at the air outlet.
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Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006294981A (en) * | 2005-04-13 | 2006-10-26 | Yamaha Motor Co Ltd | Substrate supporting device and substrate supporting method |
JP2007305403A (en) * | 2006-05-11 | 2007-11-22 | Omron Corp | Corona discharge ionizer, fan unit, and clean room system |
JP2015078818A (en) * | 2013-10-18 | 2015-04-23 | 大日本印刷株式会社 | Air flow straightening member |
CN108745818A (en) * | 2018-06-28 | 2018-11-06 | 江阴名鸿车顶***有限公司 | Electrostatic precipitation system |
CN113543432A (en) * | 2020-04-16 | 2021-10-22 | 杰宜斯科技有限公司 | Energizing device for substrate |
CN115413100A (en) * | 2022-10-27 | 2022-11-29 | 江油星联电子科技有限公司 | Circuit board static-removing device |
-
1995
- 1995-09-05 JP JP22821295A patent/JP3720422B2/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006294981A (en) * | 2005-04-13 | 2006-10-26 | Yamaha Motor Co Ltd | Substrate supporting device and substrate supporting method |
JP2007305403A (en) * | 2006-05-11 | 2007-11-22 | Omron Corp | Corona discharge ionizer, fan unit, and clean room system |
JP2015078818A (en) * | 2013-10-18 | 2015-04-23 | 大日本印刷株式会社 | Air flow straightening member |
CN108745818A (en) * | 2018-06-28 | 2018-11-06 | 江阴名鸿车顶***有限公司 | Electrostatic precipitation system |
CN113543432A (en) * | 2020-04-16 | 2021-10-22 | 杰宜斯科技有限公司 | Energizing device for substrate |
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