JPH0972587A - クリーンルームにおける気流制御構造 - Google Patents
クリーンルームにおける気流制御構造Info
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- JPH0972587A JPH0972587A JP23113795A JP23113795A JPH0972587A JP H0972587 A JPH0972587 A JP H0972587A JP 23113795 A JP23113795 A JP 23113795A JP 23113795 A JP23113795 A JP 23113795A JP H0972587 A JPH0972587 A JP H0972587A
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- equipment
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Abstract
(57)【要約】
【課題】機器自体の変更や配置換えがあったとしても、
それ自体で気流の剥離を防止する。 【解決手段】垂直一方向流型クリーンルームにおいて、
室内にある機器1の上面1Aの縁部上に、曲率半径が4
0〜150mmの機器1外方に膨らむ連続的な曲線を有す
る気流制御部材3を設け、前記上面1Aから気流制御部
材3を介して側面1Bにかけて連続化させた。
それ自体で気流の剥離を防止する。 【解決手段】垂直一方向流型クリーンルームにおいて、
室内にある機器1の上面1Aの縁部上に、曲率半径が4
0〜150mmの機器1外方に膨らむ連続的な曲線を有す
る気流制御部材3を設け、前記上面1Aから気流制御部
材3を介して側面1Bにかけて連続化させた。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、垂直一方向流型ク
リーンルームにおける気流制御構造に関する。
リーンルームにおける気流制御構造に関する。
【0002】
【従来の技術】クリーンルームにおいては、高い清浄度
を維持するために、室内で発生した塵埃を速やかに室外
へ排除する必要がある。
を維持するために、室内で発生した塵埃を速やかに室外
へ排除する必要がある。
【0003】しかし、室内に存在する機器(障害物)に
より、気流の剥離が起き、気流が乱されて循環領域や滞
留域が発生し、作業領域の清浄度に悪影響を及ぼすこと
があり、大きな問題となっている。
より、気流の剥離が起き、気流が乱されて循環領域や滞
留域が発生し、作業領域の清浄度に悪影響を及ぼすこと
があり、大きな問題となっている。
【0004】このために、従来、当該機器の回りに垂れ
壁を設けたり、機器の上部の風速を周囲の風速と比べて
小さくまたはゼロにする方法が採られている。
壁を設けたり、機器の上部の風速を周囲の風速と比べて
小さくまたはゼロにする方法が採られている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかし、これらの方法
では、機器の変更により形状が変わったり、配置の変更
の都度、垂れ壁の設置位置を変更したり、風速を調整す
る必要がある。
では、機器の変更により形状が変わったり、配置の変更
の都度、垂れ壁の設置位置を変更したり、風速を調整す
る必要がある。
【0006】さらに、風速を遅くまたはゼロにする方法
では、機器の上方において滞留域が生じ清浄度を悪化さ
せる原因となる。
では、機器の上方において滞留域が生じ清浄度を悪化さ
せる原因となる。
【0007】したがって、本発明の課題は、機器自体の
変更や配置換えがあったとしても、それ自体で気流の剥
離を生じさせない構造を得ようとすることにある。
変更や配置換えがあったとしても、それ自体で気流の剥
離を生じさせない構造を得ようとすることにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記課題は解決した請求
項1記載の発明は、垂直一方向流型クリーンルームにお
いて、室内にある機器の上面の縁部を、曲率半径が40
mm〜150mmの機器外方に膨らむ連続的な曲線をもって
形成し、前記上面から側面にかけて連続化させたことを
特徴とするクリーンルームにおける気流制御構造であ
る。
項1記載の発明は、垂直一方向流型クリーンルームにお
いて、室内にある機器の上面の縁部を、曲率半径が40
mm〜150mmの機器外方に膨らむ連続的な曲線をもって
形成し、前記上面から側面にかけて連続化させたことを
特徴とするクリーンルームにおける気流制御構造であ
る。
【0009】請求項2記載の発明は、垂直一方向流型ク
リーンルームにおいて、室内にある機器の上面の縁部上
に、曲率半径が40〜150mmの機器外方に膨らむ連続
的な曲線を有する気流制御部材を設け、前記上面から前
記気流制御部材を介して側面にかけて連続化させたこと
を特徴とするクリーンルームにおける気流制御構造であ
る。
リーンルームにおいて、室内にある機器の上面の縁部上
に、曲率半径が40〜150mmの機器外方に膨らむ連続
的な曲線を有する気流制御部材を設け、前記上面から前
記気流制御部材を介して側面にかけて連続化させたこと
を特徴とするクリーンルームにおける気流制御構造であ
る。
【0010】
【発明の実施の形態】半導体生産工場などにおける垂直
一方向流型クリーンルームでは、製造機器、特に背の高
い機器により、乱された気流が作業領域に悪影響を及ぼ
すことがある。具体的に、機器の上面の縁部から側面の
上方部分にかけて、気流の循環領域および滞留域が生じ
る。
一方向流型クリーンルームでは、製造機器、特に背の高
い機器により、乱された気流が作業領域に悪影響を及ぼ
すことがある。具体的に、機器の上面の縁部から側面の
上方部分にかけて、気流の循環領域および滞留域が生じ
る。
【0011】これを確認するために、図5に示すよう
に、クリーンルーム内に幅1200mm、長さ2200m
m、高さ1800mmの縁部が直角の機器1を設置した。
この機器1の天井2までの離間距離は900mmである。
機器1の上方において純水ミストを発生させるととも
に、機器1の側面から離れて設置したアルゴンレーザ光
照射装置10により、機器1の側面に対して直交方向に
シート状のレーザ光を照射し、この垂直断面における気
流を可視化させて、ビデオカメラ11により観察した。
に、クリーンルーム内に幅1200mm、長さ2200m
m、高さ1800mmの縁部が直角の機器1を設置した。
この機器1の天井2までの離間距離は900mmである。
機器1の上方において純水ミストを発生させるととも
に、機器1の側面から離れて設置したアルゴンレーザ光
照射装置10により、機器1の側面に対して直交方向に
シート状のレーザ光を照射し、この垂直断面における気
流を可視化させて、ビデオカメラ11により観察した。
【0012】気流の吹出風速を0.3m/秒、0.2m
/秒、0.1m/秒の3通りに変えて、気流を観察した
結果は、図6の(A)〜(C)に示すとおりであった。
ここで、吹出風速を0.3m/秒から0.2m/秒およ
び0.1m/秒に減少させるために、図5の領域12の
天井2内に風速減少用フィルターを設置した。
/秒、0.1m/秒の3通りに変えて、気流を観察した
結果は、図6の(A)〜(C)に示すとおりであった。
ここで、吹出風速を0.3m/秒から0.2m/秒およ
び0.1m/秒に減少させるために、図5の領域12の
天井2内に風速減少用フィルターを設置した。
【0013】これによると、0.3m/秒(A図)で
は、機器1の上面の縁部の側方において大きな循環流が
生じ、複雑な流れが存在する。この傾向は、若干やわら
ぐものの、0.2m/秒(B図)でも同様であった。
0.1m/秒(C図)の場合には、循環流が消滅しない
までも、後流に影響のないほぼ滞留のない流れとなっ
た。
は、機器1の上面の縁部の側方において大きな循環流が
生じ、複雑な流れが存在する。この傾向は、若干やわら
ぐものの、0.2m/秒(B図)でも同様であった。
0.1m/秒(C図)の場合には、循環流が消滅しない
までも、後流に影響のないほぼ滞留のない流れとなっ
た。
【0014】なお、各場合における気流の膨らみの最大
部分と機器1の側面との離間距離は、それぞれ約250
mm、150mm、50mmであった。
部分と機器1の側面との離間距離は、それぞれ約250
mm、150mm、50mmであった。
【0015】この結果から、天井からの吹出風速を小さ
くすることにより、滞留域を減少させることができるこ
とが明らかとなった。
くすることにより、滞留域を減少させることができるこ
とが明らかとなった。
【0016】しかし、この実験は、領域12とそれ以外
の領域において、風速が異なり、かつその境界において
機器1の側面が存在することを前提として行ったもので
ある。しかるに、次に機器1を500mmだけ図5の左方
に移動させて、機器1の側面が風速が低い状態の下に晒
した結果、吹出風速が0.1m/秒の場合であっても、
大きな循環流がみられた。
の領域において、風速が異なり、かつその境界において
機器1の側面が存在することを前提として行ったもので
ある。しかるに、次に機器1を500mmだけ図5の左方
に移動させて、機器1の側面が風速が低い状態の下に晒
した結果、吹出風速が0.1m/秒の場合であっても、
大きな循環流がみられた。
【0017】したがって、機器の設置位置がランダムで
あり、かつ配置変えを生じる実際のクリーンルームに対
して、吹出風速を遅くすることのみで対処しようとする
ことには限界があるとの結論に達した。
あり、かつ配置変えを生じる実際のクリーンルームに対
して、吹出風速を遅くすることのみで対処しようとする
ことには限界があるとの結論に達した。
【0018】そこで、図1に示すように、機器1の上面
1Aから側面1Bにかけて上部縁を45度の角度で面取
りし、全室が吹出風速0.3m/秒の条件の下で、同様
な気流の観察を行った。結果は、機器1の側面上部にお
いて循環流の生じる部分の離間距離は50mmであり、吹
出風速を0.1m/秒に減少させた場合と同様程度に循
環流の抑制ができることが判った。
1Aから側面1Bにかけて上部縁を45度の角度で面取
りし、全室が吹出風速0.3m/秒の条件の下で、同様
な気流の観察を行った。結果は、機器1の側面上部にお
いて循環流の生じる部分の離間距離は50mmであり、吹
出風速を0.1m/秒に減少させた場合と同様程度に循
環流の抑制ができることが判った。
【0019】さらに、図2に示すように、機器1の上縁
を曲率半径60mmで丸めたところ、前記の離間距離は1
0mm程度となり、かつ循環流は殆ど生じないことが判っ
た。
を曲率半径60mmで丸めたところ、前記の離間距離は1
0mm程度となり、かつ循環流は殆ど生じないことが判っ
た。
【0020】また、図3に示すように、機器1の上縁上
に半径60mmの半円柱を側面1Bと揃えた状態で設置し
たところ、前記の離間距離は8mm程度となり、かつ循環
流は実質的にないことが判った。
に半径60mmの半円柱を側面1Bと揃えた状態で設置し
たところ、前記の離間距離は8mm程度となり、かつ循環
流は実質的にないことが判った。
【0021】本発明者は、当初、図3の例においては、
当然に循環流が生じるものと考えたが、実験では予想外
の結果となった。
当然に循環流が生じるものと考えたが、実験では予想外
の結果となった。
【0022】しかるに、図2の例では、機器1の設計段
階で上縁を丸める必要があるのに対して、図3の例のよ
うに、半円柱などの気流制御部材3を設置することで気
流制御を行うことができることは、既設の機器1に対し
ても気流制御を行うことができるので、最善の方策であ
る。
階で上縁を丸める必要があるのに対して、図3の例のよ
うに、半円柱などの気流制御部材3を設置することで気
流制御を行うことができることは、既設の機器1に対し
ても気流制御を行うことができるので、最善の方策であ
る。
【0023】気流制御部材3は、機器1の上面に単純に
設置するほか、固定させることもできる。
設置するほか、固定させることもできる。
【0024】本発明において、上縁自体の曲率半径(図
2の例)または気流制御部材3の曲率半径は、それぞれ
40mm〜150mmとされる。これらの上下限をいずれも
外れると循環流・滞留を生じることが、前述と同様の実
験から明らかとなった。
2の例)または気流制御部材3の曲率半径は、それぞれ
40mm〜150mmとされる。これらの上下限をいずれも
外れると循環流・滞留を生じることが、前述と同様の実
験から明らかとなった。
【0025】本発明において、気流制御面の全体におい
て、曲率半径が同一であることは要せず、たとえば、図
4に示すように、上面1Aの縁から遠い部分の曲率半径
R2が大きく、近い部分の曲率半径R1 を小さくでき
る。しかし、気流制御面内において凹凸があると循環流
を生じさせる原因となる。
て、曲率半径が同一であることは要せず、たとえば、図
4に示すように、上面1Aの縁から遠い部分の曲率半径
R2が大きく、近い部分の曲率半径R1 を小さくでき
る。しかし、気流制御面内において凹凸があると循環流
を生じさせる原因となる。
【0026】
【発明の効果】以上のとおり、本発明によれば、機器自
体の変更や配置換えがあったとしても、それ自体で気流
の剥離を防止でき、クリーンルームの清浄度を高めるこ
とができる。
体の変更や配置換えがあったとしても、それ自体で気流
の剥離を防止でき、クリーンルームの清浄度を高めるこ
とができる。
【図1】比較例の説明図である。
【図2】本発明の第1例の説明図である。
【図3】本発明の第2例の説明図である。
【図4】本発明の第2例の変形例の説明図である。
【図5】気流実験設備の平面図である。
【図6】気流実験結果の説明図である。 1…機器、1A…上面、1B…側面、2…天井、3…気
流制御部材。
流制御部材。
Claims (2)
- 【請求項1】垂直一方向流型クリーンルームにおいて、
室内にある機器の上面の縁部を、曲率半径が40mm〜1
50mmの機器外方に膨らむ連続的な曲線をもって形成
し、前記上面から側面にかけて連続化させたことを特徴
とするクリーンルームにおける気流制御構造。 - 【請求項2】垂直一方向流型クリーンルームにおいて、
室内にある機器の上面の縁部上に、曲率半径が40〜1
50mmの機器外方に膨らむ連続的な曲線を有する気流制
御部材を設け、前記上面から前記気流制御部材を介して
側面にかけて連続化させたことを特徴とするクリーンル
ームにおける気流制御構造。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23113795A JPH0972587A (ja) | 1995-09-08 | 1995-09-08 | クリーンルームにおける気流制御構造 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23113795A JPH0972587A (ja) | 1995-09-08 | 1995-09-08 | クリーンルームにおける気流制御構造 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0972587A true JPH0972587A (ja) | 1997-03-18 |
Family
ID=16918868
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP23113795A Pending JPH0972587A (ja) | 1995-09-08 | 1995-09-08 | クリーンルームにおける気流制御構造 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0972587A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007057182A (ja) * | 2005-08-26 | 2007-03-08 | Mitsubishi Electric Corp | 空気調和機 |
JP2013104627A (ja) * | 2011-11-15 | 2013-05-30 | Takasago Thermal Eng Co Ltd | 情報処理機器室の空調システム |
JP2014031975A (ja) * | 2012-08-03 | 2014-02-20 | Takasago Thermal Eng Co Ltd | 情報処理機器室の空調システム |
JP2014043959A (ja) * | 2012-08-24 | 2014-03-13 | Takasago Thermal Eng Co Ltd | 情報処理機器室の空調システム、及び縮流軽減装置 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61168736A (ja) * | 1985-01-21 | 1986-07-30 | Hitachi Ltd | クリ−ンル−ム |
JPS62225839A (ja) * | 1986-03-26 | 1987-10-03 | Sony Corp | クリ−ンル−ム内に設置される機器 |
JPH02161240A (ja) * | 1988-12-13 | 1990-06-21 | Hitachi Plant Eng & Constr Co Ltd | クリーンルームの床下二層構造 |
JPH0262340B2 (ja) * | 1988-11-11 | 1990-12-25 | Kuriatetsuku Kk | |
JPH04369822A (ja) * | 1991-06-19 | 1992-12-22 | Ryoden Semiconductor Syst Eng Kk | 乱気流防止具付設機器 |
JPH06221634A (ja) * | 1993-01-25 | 1994-08-12 | Asahi Glass Co Ltd | クリーンルーム用の局所クリーンユニット |
-
1995
- 1995-09-08 JP JP23113795A patent/JPH0972587A/ja active Pending
Patent Citations (6)
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Cited By (5)
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 19980901 |