JPH0967391A - 新規修飾ヌクレオシドおよびその製造法 さらにはそれを用いたオリゴヌクレオチ ド類の製造法 - Google Patents
新規修飾ヌクレオシドおよびその製造法 さらにはそれを用いたオリゴヌクレオチ ド類の製造法Info
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- JPH0967391A JPH0967391A JP7247031A JP24703195A JPH0967391A JP H0967391 A JPH0967391 A JP H0967391A JP 7247031 A JP7247031 A JP 7247031A JP 24703195 A JP24703195 A JP 24703195A JP H0967391 A JPH0967391 A JP H0967391A
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
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- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】 現在、最も一般的に行われているオリゴリボ
ヌクレオチドの合成法は、自動合成装置による５′−Ｏ
−（４，４′−ジメトキシトリチル）−２′−Ｏ−ｔ−
ブチルジメチルシリルリボヌクレオシド ３′−ホスホ
ロアミダイト誘導体を用いた固相法（ホスホロアミダイ
ト法）であるが、２′位水酸基の保護基に用いられてい
るｔ−ブチルジメチルシリル基が、２′位水酸基へ高選
択的に導入できないこと、その嵩高さがオリゴマー鎖伸
張反応の縮合率に影響を与えること、さらに合成オリゴ
マーの鎖長が長くなるにつれて除去し難くなるという問
題点を解決する。 【解決手段】 オリゴヌクレオチド類の製造の際、ヌク
レオシドの保護基として式（１）の新規な２−（レブリ
ニルオキシメチル）安息香酸およびそれが導入された修
飾ヌクレオシド類を用いる方法。
ヌクレオチドの合成法は、自動合成装置による５′−Ｏ
−（４，４′−ジメトキシトリチル）−２′−Ｏ−ｔ−
ブチルジメチルシリルリボヌクレオシド ３′−ホスホ
ロアミダイト誘導体を用いた固相法（ホスホロアミダイ
ト法）であるが、２′位水酸基の保護基に用いられてい
るｔ−ブチルジメチルシリル基が、２′位水酸基へ高選
択的に導入できないこと、その嵩高さがオリゴマー鎖伸
張反応の縮合率に影響を与えること、さらに合成オリゴ
マーの鎖長が長くなるにつれて除去し難くなるという問
題点を解決する。 【解決手段】 オリゴヌクレオチド類の製造の際、ヌク
レオシドの保護基として式（１）の新規な２−（レブリ
ニルオキシメチル）安息香酸およびそれが導入された修
飾ヌクレオシド類を用いる方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、医薬または農薬等
のライフサイエンス分野において、広くその利用がなさ
れているＤＮＡおよびＲＮＡオリゴマーの合成の際、新
規修飾ヌクレオシドおよびそれを用いたオリゴヌクレオ
チド類の合成法に関する。
のライフサイエンス分野において、広くその利用がなさ
れているＤＮＡおよびＲＮＡオリゴマーの合成の際、新
規修飾ヌクレオシドおよびそれを用いたオリゴヌクレオ
チド類の合成法に関する。
【０００２】
【従来技術及び課題】ＤＮＡオリゴマーは、５′−Ｏ−
ジメトキシトリチル−２′−デオキシリボヌクレオシド
３′−ホスホロアミダイトユニットを用いる固相法お
よび自動合成機の開発により、容易に合成できるように
なり遺伝子工学、分子生物学および医学等多くの分野に
大きく貢献している。さらに、このＤＮＡ合成法をＲＮ
Ａオリゴマー合成に応用する検討がなされ、５′−Ｏ−
ジメトキシトリチル−２′−Ｏ−ｔ−ブチルジメチルシ
リルリボヌクレオシド ３′−ホスホロアミダイトユニ
ットを用いる方法（以下、ホスホロアミダイト法と呼
ぶ）が開発されており、現在ではこの方法を用いるＲＮ
Ａオリゴマー合成が最も一般的に行われている。
ジメトキシトリチル−２′−デオキシリボヌクレオシド
３′−ホスホロアミダイトユニットを用いる固相法お
よび自動合成機の開発により、容易に合成できるように
なり遺伝子工学、分子生物学および医学等多くの分野に
大きく貢献している。さらに、このＤＮＡ合成法をＲＮ
Ａオリゴマー合成に応用する検討がなされ、５′−Ｏ−
ジメトキシトリチル−２′−Ｏ−ｔ−ブチルジメチルシ
リルリボヌクレオシド ３′−ホスホロアミダイトユニ
ットを用いる方法（以下、ホスホロアミダイト法と呼
ぶ）が開発されており、現在ではこの方法を用いるＲＮ
Ａオリゴマー合成が最も一般的に行われている。
【０００３】しかしながら、この合成法は、２′位水酸
基の保護基にｔ−ブチルジメチルシリル基を使用してい
ることから、ｔ−ブチルジメチルシリル基のかさ高さに
よる立体障害のために、オリゴマー伸長反応の縮合率が
満足するものでないことや合成目的とするオリゴマーの
鎖長が長くなるに従い合成の最終段階での脱保護基の際
に、除去が困難になるという問題点がある。この問題の
解決には、２′位水酸基の保護基として、テトラヒドロ
ピラン−２−イル（以下Ｔｈｐと略記）基、４−メトキ
シテトラヒドロピラン−４−イル（以下Ｍｔｈｐと略
記）基などのアセタール型の保護基が開発されている。
これらの保護基はいずれもその導入が容易で除去もＲＮ
Ａオリゴマーを損なうことなく緩和な酸性条件下で行え
ることからその有用性は高いものである。しかし、これ
らの保護基は酸性条件下除去する４，４′−ジメトキシ
トリチル（以下ＤＭＴｒと呼ぶ）基を５′保護基として
用いる固相合成法においてその除去の際に、一部脱落し
てしまうという大きな問題点がある。
基の保護基にｔ−ブチルジメチルシリル基を使用してい
ることから、ｔ−ブチルジメチルシリル基のかさ高さに
よる立体障害のために、オリゴマー伸長反応の縮合率が
満足するものでないことや合成目的とするオリゴマーの
鎖長が長くなるに従い合成の最終段階での脱保護基の際
に、除去が困難になるという問題点がある。この問題の
解決には、２′位水酸基の保護基として、テトラヒドロ
ピラン−２−イル（以下Ｔｈｐと略記）基、４−メトキ
シテトラヒドロピラン−４−イル（以下Ｍｔｈｐと略
記）基などのアセタール型の保護基が開発されている。
これらの保護基はいずれもその導入が容易で除去もＲＮ
Ａオリゴマーを損なうことなく緩和な酸性条件下で行え
ることからその有用性は高いものである。しかし、これ
らの保護基は酸性条件下除去する４，４′−ジメトキシ
トリチル（以下ＤＭＴｒと呼ぶ）基を５′保護基として
用いる固相合成法においてその除去の際に、一部脱落し
てしまうという大きな問題点がある。
【０００４】この問題の解決のためには、２′保護基と
して酸性条件で脱離するＴｈｐ基やＭｔｈｐ基を用いる
場合、緩和な塩基性条件下で除去可能な５′位の保護基
を開発することが必須であり、この観点から、従来、い
くつかの検討がなされていた。すなわち、ｖａｎ Ｂｏ
ｏｍ （Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔ．４８７
５、４８７８（１９７６）、ｉｂｉｄ，１９９９、２０
０７（１９７８））や大塚等（Ｎｕｃｌｅｉｃ Ａｃｉ
ｄ Ｒｅｓ．１６、９４４３（１９８８）、Ｔｅｔｒａ
ｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔ．６６７３（１９９０））は、
５′保護基としてレブリニル基を報告している。このレ
ブリニル基は、０．５Ｍヒドラジン−水和物／ピリジン
・酢酸で処理することで迅速かつ高選択的に除去出来る
長所を有しているものの、立体的大きさがなく５′位へ
の導入効率が悪い、ＵＶ等での検出定量ができない、試
薬を大過剰に用いる必要があり反応の再現性が悪い等の
大きな問題点を有しており、オリゴリボヌクレオチド合
成には満足できる保護基ではない。
して酸性条件で脱離するＴｈｐ基やＭｔｈｐ基を用いる
場合、緩和な塩基性条件下で除去可能な５′位の保護基
を開発することが必須であり、この観点から、従来、い
くつかの検討がなされていた。すなわち、ｖａｎ Ｂｏ
ｏｍ （Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔ．４８７
５、４８７８（１９７６）、ｉｂｉｄ，１９９９、２０
０７（１９７８））や大塚等（Ｎｕｃｌｅｉｃ Ａｃｉ
ｄ Ｒｅｓ．１６、９４４３（１９８８）、Ｔｅｔｒａ
ｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔ．６６７３（１９９０））は、
５′保護基としてレブリニル基を報告している。このレ
ブリニル基は、０．５Ｍヒドラジン−水和物／ピリジン
・酢酸で処理することで迅速かつ高選択的に除去出来る
長所を有しているものの、立体的大きさがなく５′位へ
の導入効率が悪い、ＵＶ等での検出定量ができない、試
薬を大過剰に用いる必要があり反応の再現性が悪い等の
大きな問題点を有しており、オリゴリボヌクレオチド合
成には満足できる保護基ではない。
【０００５】以上の背景から、塩基性条件下で除去可能
で、導入容易かつ反応の再現性に優れた新しいヌクレオ
シド５′位保護基が求められており、それを用いた有用
な新しいオリゴリボヌクレオチド類の合成方法の開発が
切望されていた。また、ＤＮＡオリゴマーの化学合成に
おいては、デプリネーション、すなわち、ＤＭＴｒ基を
除去する際の酸性条件下アデニル酸ユニットからの複素
環部の脱落が問題点として指摘されており、緩和な塩基
性条件下で除去可能な５′位の保護基を用いることによ
り、この問題点を解決することができる。
で、導入容易かつ反応の再現性に優れた新しいヌクレオ
シド５′位保護基が求められており、それを用いた有用
な新しいオリゴリボヌクレオチド類の合成方法の開発が
切望されていた。また、ＤＮＡオリゴマーの化学合成に
おいては、デプリネーション、すなわち、ＤＭＴｒ基を
除去する際の酸性条件下アデニル酸ユニットからの複素
環部の脱落が問題点として指摘されており、緩和な塩基
性条件下で除去可能な５′位の保護基を用いることによ
り、この問題点を解決することができる。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決するために鋭意検討を重ね、製造が容易で５′位
への導入効率がよく、目的どおり緩和な条件で除去で
き、ＵＶ等での検出定量が可能で、かつオリゴヌクレオ
チド合成が容易な新しい保護基として２−（レブリニル
オキシメチル）ベンゾイル基を見い出し、本発明を完成
させた。
を解決するために鋭意検討を重ね、製造が容易で５′位
への導入効率がよく、目的どおり緩和な条件で除去で
き、ＵＶ等での検出定量が可能で、かつオリゴヌクレオ
チド合成が容易な新しい保護基として２−（レブリニル
オキシメチル）ベンゾイル基を見い出し、本発明を完成
させた。
【０００７】すなわち、本発明は、次の基本的技術思想
を包含するものである。
を包含するものである。
【０００８】下記化５に示される式（１）を有する２−
（レブリニルオキシメチル）安息香酸またはその塩。
（レブリニルオキシメチル）安息香酸またはその塩。
【０００９】
【化５】
【００１０】下記化６に示される一般式（２）を有する
５′−Ｏ−｛２−（レブリニルオキシメチル）ベンゾイ
ル｝ヌクレオシド誘導体。（式中、Ｂは核酸塩基または
保護基が導入された核酸塩基を表わし、Ｒは水素原子ま
たは保護基が導入された水酸基を表わす。）
５′−Ｏ−｛２−（レブリニルオキシメチル）ベンゾイ
ル｝ヌクレオシド誘導体。（式中、Ｂは核酸塩基または
保護基が導入された核酸塩基を表わし、Ｒは水素原子ま
たは保護基が導入された水酸基を表わす。）
【００１１】
【化６】
【００１２】脱水縮合剤の存在下、式（１）で表される
２−（レブリニルオキシメチル）安息香酸と下記化７に
示される一般式（３）を有するヌクレオシド誘導体（式
中、ＢおよびＲは、先に定義したものと同義）と反応さ
せることを特徴とする一般式（２）で表される５′−Ｏ
−｛２−（レブリニルオキシメチル）ベンゾイル｝ヌク
レオシド誘導体の製造方法。
２−（レブリニルオキシメチル）安息香酸と下記化７に
示される一般式（３）を有するヌクレオシド誘導体（式
中、ＢおよびＲは、先に定義したものと同義）と反応さ
せることを特徴とする一般式（２）で表される５′−Ｏ
−｛２−（レブリニルオキシメチル）ベンゾイル｝ヌク
レオシド誘導体の製造方法。
【００１３】
【化７】
【００１４】下記化８に示される一般式（４）を有する
５′−Ｏ−｛２−（レブリニルオキシメチル）ベンゾイ
ル｝ヌクレオシド ３′−（２−シアノエチル）−Ｎ，
Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミダイト誘導体。（式
中、ＢおよびＲは、先に定義したものと同義）
５′−Ｏ−｛２−（レブリニルオキシメチル）ベンゾイ
ル｝ヌクレオシド ３′−（２−シアノエチル）−Ｎ，
Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミダイト誘導体。（式
中、ＢおよびＲは、先に定義したものと同義）
【００１５】
【化８】
【００１６】固相ホスホロアミダイト法を用いたヌクレ
オチドオリゴマー合成の際、アミダイトユニットとし
て、一般式（４）で表されるホスホロアミダイト誘導体
を用いることを特徴とするオリゴヌクレオチドの製造方
法。
オチドオリゴマー合成の際、アミダイトユニットとし
て、一般式（４）で表されるホスホロアミダイト誘導体
を用いることを特徴とするオリゴヌクレオチドの製造方
法。
【００１７】
【発明の実施の形態】ここで、一般式中Ｂの核酸塩基ま
たは保護基の導入された核酸塩基とは、プリン塩基とし
てアデニン、グアニン、ピリミジン塩基としてシトシ
ン、チミン、ウラシル等を表し、その保護基としては本
分野で通常よく用いられる保護基全般を表すが、特にベ
ンゾイル基、メトキシベンゾイル基、イソブチリル基等
のアシル保護基が示される。また、Ｒにおける保護基の
導入された水酸基とは、本分野で通常よく用いられる保
護基全般を表すが、特にテトラヒドロピラン−２−イル
基や４−メトキシテトラヒドロピラン−４−イル基等の
アセタール保護基で保護された水酸基を表す。
たは保護基の導入された核酸塩基とは、プリン塩基とし
てアデニン、グアニン、ピリミジン塩基としてシトシ
ン、チミン、ウラシル等を表し、その保護基としては本
分野で通常よく用いられる保護基全般を表すが、特にベ
ンゾイル基、メトキシベンゾイル基、イソブチリル基等
のアシル保護基が示される。また、Ｒにおける保護基の
導入された水酸基とは、本分野で通常よく用いられる保
護基全般を表すが、特にテトラヒドロピラン−２−イル
基や４−メトキシテトラヒドロピラン−４−イル基等の
アセタール保護基で保護された水酸基を表す。
【００１８】次に式（１）で表される２−（レブリニル
オキシメチル）安息香酸の製造法であるが、入手容易な
フタリドをアルカリで加水分解した後に酸で中和し、２
−（ヒドロキシメチル）安息香酸に誘導し、１−メチル
イミダゾール、イミダゾール、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ
ピリジン、Ｎ−ヒドロキシベンゾトリアゾール等の塩基
存在下無水レブリン酸を作用させることにより容易にか
つ高収率で製造することができる。この際、アルカリと
してはＮａＯＨ、ＫＯＨ等の無機塩基が、酸としては硫
酸、塩酸等の無機酸が使用できる。反応溶媒としては、
特に限定されないが、水、またはメタノール、エタノー
ル、クロロホルム、塩化メチレン、テトラヒドロフラン
等の有機溶媒が単独または混合して使用できる。反応温
度としては、０度から用いる溶媒の沸点まで使用できる
が、望ましくは０度から室温である。また、場合によっ
てはレブリン酸と２−（ヒドロキシメチル）安息香酸を
１−メチルイミダゾール、イミダゾール、Ｎ，Ｎ−ジメ
チルアミノピリジン、Ｎ−ヒドロキシベンズトリアゾー
ル等の塩基存在下ジシクロヘキシルカルボジイミド等の
脱水縮合剤を共存させることにより収率を向上させるこ
とができる。反応における各物質の使用量は、基本的に
は当量で充分であるが、場合によっては何れかを過剰に
用いても何等問題はない。ここで得られた２−（レブリ
ニルオキシメチル）安息香酸は新規化合物であり、以下
に示すように核酸誘導体の保護基として有用である。
オキシメチル）安息香酸の製造法であるが、入手容易な
フタリドをアルカリで加水分解した後に酸で中和し、２
−（ヒドロキシメチル）安息香酸に誘導し、１−メチル
イミダゾール、イミダゾール、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ
ピリジン、Ｎ−ヒドロキシベンゾトリアゾール等の塩基
存在下無水レブリン酸を作用させることにより容易にか
つ高収率で製造することができる。この際、アルカリと
してはＮａＯＨ、ＫＯＨ等の無機塩基が、酸としては硫
酸、塩酸等の無機酸が使用できる。反応溶媒としては、
特に限定されないが、水、またはメタノール、エタノー
ル、クロロホルム、塩化メチレン、テトラヒドロフラン
等の有機溶媒が単独または混合して使用できる。反応温
度としては、０度から用いる溶媒の沸点まで使用できる
が、望ましくは０度から室温である。また、場合によっ
てはレブリン酸と２−（ヒドロキシメチル）安息香酸を
１−メチルイミダゾール、イミダゾール、Ｎ，Ｎ−ジメ
チルアミノピリジン、Ｎ−ヒドロキシベンズトリアゾー
ル等の塩基存在下ジシクロヘキシルカルボジイミド等の
脱水縮合剤を共存させることにより収率を向上させるこ
とができる。反応における各物質の使用量は、基本的に
は当量で充分であるが、場合によっては何れかを過剰に
用いても何等問題はない。ここで得られた２−（レブリ
ニルオキシメチル）安息香酸は新規化合物であり、以下
に示すように核酸誘導体の保護基として有用である。
【００１９】次に、本発明は、脱水縮合剤の存在下、式
（１）で表される２−（レブリニルオキシメチル）安息
香酸と一般式（３）で表されるヌクレオシド誘導体とを
反応させること、を特徴とする一般式（２）で表される
５′−Ｏ−｛２−（レブリニルオキシメチル）ベンゾイ
ル｝ヌクレオシド誘導体の製造方法も包有するものであ
って、その反応式は下記化９に示される。
（１）で表される２−（レブリニルオキシメチル）安息
香酸と一般式（３）で表されるヌクレオシド誘導体とを
反応させること、を特徴とする一般式（２）で表される
５′−Ｏ−｛２−（レブリニルオキシメチル）ベンゾイ
ル｝ヌクレオシド誘導体の製造方法も包有するものであ
って、その反応式は下記化９に示される。
【００２０】
【化９】
【００２１】上記した本発明に係る、一般式（２）に示
した５′−Ｏ−｛２−（レブリニルオキシメチル）ベン
ゾイル｝ヌクレオシドの製造方法において、脱水縮合剤
としては、塩化２，４，６−トリイソプロピルベンゼン
スルフォニル、ジシクロヘキシルカルボジイミド等が用
いられるが、この際１−ヒドロキシベンズトリアゾー
ル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン等を共存させるこ
ともできる。さらに、塩基を触媒または溶媒として使用
する場合もあるが、塩基とは、ピリジン、ピコリン、ト
リエチルアミン、ピペラジン、ピペリジン等の有機塩基
を表す。溶媒としては、先に示した塩基が用いられる
が、テトラヒドロフラン、クロロホルム、塩化メチレ
ン、トルエン、エーテル、ジオキサン、ジメチルホルム
アミド等の非プロトン性の有機溶媒が使用される。反応
温度としては、０度から使用する溶媒の沸点まで使用可
能であるが、好ましくは、室温である。反応における各
物質の使用量は、基本的には当量で充分であるが、場合
によっては何れかを過剰に使用しても何等問題はない。
した５′−Ｏ−｛２−（レブリニルオキシメチル）ベン
ゾイル｝ヌクレオシドの製造方法において、脱水縮合剤
としては、塩化２，４，６−トリイソプロピルベンゼン
スルフォニル、ジシクロヘキシルカルボジイミド等が用
いられるが、この際１−ヒドロキシベンズトリアゾー
ル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン等を共存させるこ
ともできる。さらに、塩基を触媒または溶媒として使用
する場合もあるが、塩基とは、ピリジン、ピコリン、ト
リエチルアミン、ピペラジン、ピペリジン等の有機塩基
を表す。溶媒としては、先に示した塩基が用いられる
が、テトラヒドロフラン、クロロホルム、塩化メチレ
ン、トルエン、エーテル、ジオキサン、ジメチルホルム
アミド等の非プロトン性の有機溶媒が使用される。反応
温度としては、０度から使用する溶媒の沸点まで使用可
能であるが、好ましくは、室温である。反応における各
物質の使用量は、基本的には当量で充分であるが、場合
によっては何れかを過剰に使用しても何等問題はない。
【００２２】さらに、一般式（４）で表される５′−Ｏ
−｛２−（レブリニルオキシメチル）ベンゾイル｝ヌク
レオシド ３′−（２−シアノエチル）−Ｎ，Ｎ−ジイ
ソプロピルホスホロアミダイド誘導体の製造法は、一般
式（２）で表されるヌクレオシド誘導体からＣａｒｕｔ
ｈｅｒｓ等の方法（Ｔｅｔｒａｈｅｄｏｒｏｎ Ｌｅｔ
ｔ．２４′８３）により製造される。すなわち、塩基存
在下一般式（２）のヌクレオシド誘導体に２−シアノエ
チルＮ，Ｎ−ジイソプロピルクロロホスホロアミダイト
を反応させることにより得られる。この際、塩基として
は、ピリジン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチ
ルアミン等の有機塩基が使用され、溶媒としては、クロ
ロホルム、塩化メチレン、トルエン、エーテル、テトラ
ヒドロフラン等の非プロトン性の有機溶媒が適してい
る。反応温度としては、０度から使用する溶媒の沸点ま
で使用可能であるが、好ましくは室温である。反応にお
ける各物質の使用量は、基本的には当量で充分である
が、場合によっては何れかを過剰に使用しても何等問題
はない。
−｛２−（レブリニルオキシメチル）ベンゾイル｝ヌク
レオシド ３′−（２−シアノエチル）−Ｎ，Ｎ−ジイ
ソプロピルホスホロアミダイド誘導体の製造法は、一般
式（２）で表されるヌクレオシド誘導体からＣａｒｕｔ
ｈｅｒｓ等の方法（Ｔｅｔｒａｈｅｄｏｒｏｎ Ｌｅｔ
ｔ．２４′８３）により製造される。すなわち、塩基存
在下一般式（２）のヌクレオシド誘導体に２−シアノエ
チルＮ，Ｎ−ジイソプロピルクロロホスホロアミダイト
を反応させることにより得られる。この際、塩基として
は、ピリジン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチ
ルアミン等の有機塩基が使用され、溶媒としては、クロ
ロホルム、塩化メチレン、トルエン、エーテル、テトラ
ヒドロフラン等の非プロトン性の有機溶媒が適してい
る。反応温度としては、０度から使用する溶媒の沸点ま
で使用可能であるが、好ましくは室温である。反応にお
ける各物質の使用量は、基本的には当量で充分である
が、場合によっては何れかを過剰に使用しても何等問題
はない。
【００２３】次に、ここで得られたホスホロアミダイト
誘導体を用いてのＤＮＡ型オリゴマーおよびＲＮＡ型オ
リゴマーの製造方法であるが、本分野で通常行われてい
る固相合成法にて問題なく製造される。すなわち、固相
担体としてＣＰＧ（Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ−Ｐｏｒｅ−
Ｇｌａｓｓ）をスペーサーとして（３−カルボキシ）プ
ロピオニル基を用い、実施例で詳しく述べるが、一般式
（２）で表されるヌクレオシド誘導体をＣＰＧに担持さ
せ、順次５′位の２−（レブリニルオキシメチル）ベン
ゾイル基を０．５Ｍヒドラジン−水和物／ピリジン・酢
酸処理、続いて０．５Ｍイミダゾール／アセトニトリル
処理という温和な塩基性条件下で除去し、一般式（４）
で表されるホスホロアミダイト誘導体を作用させ順次鎖
伸張反応を行い、オリゴマーの合成がなされる。目的の
オリゴマーを合成した後、濃アンモニア水とエタノール
の混合溶媒を用い、担体よりオリゴマーを遊離させ、必
要な場合はＨＰＬＣ等で精製することにより目的のいか
なるオリゴマーも製造することが可能である。本方法
は、近年盛んに行われているＤＮＡおよびＲＮＡの自動
合成装置にも容易に適用でき、本発明の価値を更に高め
ている。
誘導体を用いてのＤＮＡ型オリゴマーおよびＲＮＡ型オ
リゴマーの製造方法であるが、本分野で通常行われてい
る固相合成法にて問題なく製造される。すなわち、固相
担体としてＣＰＧ（Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ−Ｐｏｒｅ−
Ｇｌａｓｓ）をスペーサーとして（３−カルボキシ）プ
ロピオニル基を用い、実施例で詳しく述べるが、一般式
（２）で表されるヌクレオシド誘導体をＣＰＧに担持さ
せ、順次５′位の２−（レブリニルオキシメチル）ベン
ゾイル基を０．５Ｍヒドラジン−水和物／ピリジン・酢
酸処理、続いて０．５Ｍイミダゾール／アセトニトリル
処理という温和な塩基性条件下で除去し、一般式（４）
で表されるホスホロアミダイト誘導体を作用させ順次鎖
伸張反応を行い、オリゴマーの合成がなされる。目的の
オリゴマーを合成した後、濃アンモニア水とエタノール
の混合溶媒を用い、担体よりオリゴマーを遊離させ、必
要な場合はＨＰＬＣ等で精製することにより目的のいか
なるオリゴマーも製造することが可能である。本方法
は、近年盛んに行われているＤＮＡおよびＲＮＡの自動
合成装置にも容易に適用でき、本発明の価値を更に高め
ている。
【００２４】以下、実施例にて更に詳しく本発明を説明
するが、本発明はこれに限定されるものではない。
するが、本発明はこれに限定されるものではない。
【００２５】
【００２６】実施例１ ２−（レブリニルオキシメチ
ル）安息香酸 フタリド（５．３５６ｇ，４０ｍｍｏｌ）を８５％メタ
ノール水溶液（２０ｍｌ）に溶かし、さらに水酸化カリ
ウム（２．４６８ｇ，４４ｍｍｏｌ）を加え２時間還流
した。反応溶液を減圧下濃縮し、残留物を水（１００ｍ
ｌ）に溶かしジエチルエーテル（５０ｍｌ×３）で洗浄
した。水溶液に濃塩酸を加え中和し、生成した白色結晶
を濾別分取した後、水（２０ｍｌ）で洗浄し２−（ヒド
ロキシメチル）安息香酸を９１％（５．５１３ｇ）得
た。分析値を下記表１に示す。
ル）安息香酸 フタリド（５．３５６ｇ，４０ｍｍｏｌ）を８５％メタ
ノール水溶液（２０ｍｌ）に溶かし、さらに水酸化カリ
ウム（２．４６８ｇ，４４ｍｍｏｌ）を加え２時間還流
した。反応溶液を減圧下濃縮し、残留物を水（１００ｍ
ｌ）に溶かしジエチルエーテル（５０ｍｌ×３）で洗浄
した。水溶液に濃塩酸を加え中和し、生成した白色結晶
を濾別分取した後、水（２０ｍｌ）で洗浄し２−（ヒド
ロキシメチル）安息香酸を９１％（５．５１３ｇ）得
た。分析値を下記表１に示す。
【００２７】
【表１】
【００２８】レブリン酸（４．２３ｍｌ，４１．５ｍｍ
ｏｌ）を塩化メチレン（４１．５ｍｌ）に溶かし、さら
にジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）（４．２
８０ｇ，２０．７５ｍｍｏｌ）を加え室温で５時間攪拌
した。生成したジシクロヘキシル尿素の結晶を濾別除去
し、濾液を上記で得た２−（ヒドロキシメチル）安息香
酸（２．１０４ｇ，１３．８ｍｍｏｌ）に加えた後、１
−メチルイミダゾール（１．６６ｍｌ，２０．７ｍｍｏ
ｌ）を加え室温で１時間攪拌した。反応溶液を減圧下濃
縮し、残留物を５％炭酸ナトリウム水溶液（１００ｍ
ｌ）に溶かしジエチルエーテル（５０ｍｌ×３）で洗浄
した。水溶液に濃塩酸を加え、中和し、生成した白色結
晶を濾別分取した後、水（２０ｍｌ）で洗浄し２−（レ
ブリニルオキシメチル）安息香酸を５９％（２．０４９
ｇ）得た。分析値を下記表２に示す。
ｏｌ）を塩化メチレン（４１．５ｍｌ）に溶かし、さら
にジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）（４．２
８０ｇ，２０．７５ｍｍｏｌ）を加え室温で５時間攪拌
した。生成したジシクロヘキシル尿素の結晶を濾別除去
し、濾液を上記で得た２−（ヒドロキシメチル）安息香
酸（２．１０４ｇ，１３．８ｍｍｏｌ）に加えた後、１
−メチルイミダゾール（１．６６ｍｌ，２０．７ｍｍｏ
ｌ）を加え室温で１時間攪拌した。反応溶液を減圧下濃
縮し、残留物を５％炭酸ナトリウム水溶液（１００ｍ
ｌ）に溶かしジエチルエーテル（５０ｍｌ×３）で洗浄
した。水溶液に濃塩酸を加え、中和し、生成した白色結
晶を濾別分取した後、水（２０ｍｌ）で洗浄し２−（レ
ブリニルオキシメチル）安息香酸を５９％（２．０４９
ｇ）得た。分析値を下記表２に示す。
【００２９】
【表２】
【００３０】実施例２ ５′−Ｏ−［２−（レブリニル
オキシメチル）ベンゾイル］チミジン （方法１）２−（レブリニルオキシメチル）安息香酸
（０．１３８ｇ，０．５５ｍｍｏｌ）および１−ヒドロ
キシベンズトリアゾール（０．０９５ｇ，０．７ｍｍｏ
ｌ）をピリジン（２ｍｌ×３）で共沸脱水した後、ジオ
キサン（２．５ｍｌ）に溶かし、ジシクロヘキシカルボ
ジイミド（ＤＣＣ）（０．１４４ｇ，０．７ｍｍｏｌ）
を加え１時間室温で攪拌した。生成したジシクロヘキシ
ル尿素の結晶を濾別除去し、濾液にジオキサン（５ｍ
ｌ）を加えた後、あらかじめピリジン（２ｍｌ×３）で
共沸脱水したチミジン（０．１２１ｇ，０．５ｍｍｏ
ｌ）のＤＭＦ（２．５ｍｌ）溶液に１−メチルイミダゾ
ール（０．１２ｍｌ，１．５ｍｍｏｌ）の存在で氷浴冷
却下３０分かけて滴下した。滴下後室温で２日間攪拌し
た後、反応溶液に水（５ｍｌ）を加え反応を停止した
後、クロロホルム（５０ｍｌ×２）で抽出し、さらに５
％炭酸水素ナトリウム水溶液（２５ｍｌ×２）および水
（２５ｍｌ）で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥後、硫酸マグネシウムを濾別除去し、減圧下濃
縮した。残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
（メタノール−クロロホルム）で精製して５′−Ｏ−
［２−（レブリニルオキシメチル）ベンゾイル］チミジ
ンを５０％（０．１１８ｇ）得た。
オキシメチル）ベンゾイル］チミジン （方法１）２−（レブリニルオキシメチル）安息香酸
（０．１３８ｇ，０．５５ｍｍｏｌ）および１−ヒドロ
キシベンズトリアゾール（０．０９５ｇ，０．７ｍｍｏ
ｌ）をピリジン（２ｍｌ×３）で共沸脱水した後、ジオ
キサン（２．５ｍｌ）に溶かし、ジシクロヘキシカルボ
ジイミド（ＤＣＣ）（０．１４４ｇ，０．７ｍｍｏｌ）
を加え１時間室温で攪拌した。生成したジシクロヘキシ
ル尿素の結晶を濾別除去し、濾液にジオキサン（５ｍ
ｌ）を加えた後、あらかじめピリジン（２ｍｌ×３）で
共沸脱水したチミジン（０．１２１ｇ，０．５ｍｍｏ
ｌ）のＤＭＦ（２．５ｍｌ）溶液に１−メチルイミダゾ
ール（０．１２ｍｌ，１．５ｍｍｏｌ）の存在で氷浴冷
却下３０分かけて滴下した。滴下後室温で２日間攪拌し
た後、反応溶液に水（５ｍｌ）を加え反応を停止した
後、クロロホルム（５０ｍｌ×２）で抽出し、さらに５
％炭酸水素ナトリウム水溶液（２５ｍｌ×２）および水
（２５ｍｌ）で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥後、硫酸マグネシウムを濾別除去し、減圧下濃
縮した。残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
（メタノール−クロロホルム）で精製して５′−Ｏ−
［２−（レブリニルオキシメチル）ベンゾイル］チミジ
ンを５０％（０．１１８ｇ）得た。
【００３１】（方法２）チミジン（０．３６３ｇ，１．
５ｍｍｏｌ）および２−（レブリニルオキシメチル）安
息香酸（０．４１３ｇ，１．６５ｍｍｏｌ）をピリジン
（４ｍｌ×３）で共沸脱水した後、ピリジン（１５ｍ
ｌ）に溶かし、塩化２，４，６−トリイソプロピルベン
ゼンスルホニル（１，０００ｇ，３．３ｍｍｏｌ）を加
え室温で１日間攪拌した。反応溶液に水（５ｍｌ）を加
え反応を停止した後、クロロホルム（１００ｍｌ×２）
で抽出し、さらに５％炭酸水素ナトリウム水溶液（５０
ｍｌ×２）および水（５０ｍｌ）で洗浄した。有機層を
無水硫酸マグネシウムで乾燥後、硫酸マグネシウムを濾
別除去し、減圧下濃縮した。残留物をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー（メタノール−クロロホルム）で精
製して５′−Ｏ−［２−（レブリニルオキシメチル）ベ
ンゾイル］チミジンを６７％（０．４７８ｇ）得た。分
析値を下記表３に示す。
５ｍｍｏｌ）および２−（レブリニルオキシメチル）安
息香酸（０．４１３ｇ，１．６５ｍｍｏｌ）をピリジン
（４ｍｌ×３）で共沸脱水した後、ピリジン（１５ｍ
ｌ）に溶かし、塩化２，４，６−トリイソプロピルベン
ゼンスルホニル（１，０００ｇ，３．３ｍｍｏｌ）を加
え室温で１日間攪拌した。反応溶液に水（５ｍｌ）を加
え反応を停止した後、クロロホルム（１００ｍｌ×２）
で抽出し、さらに５％炭酸水素ナトリウム水溶液（５０
ｍｌ×２）および水（５０ｍｌ）で洗浄した。有機層を
無水硫酸マグネシウムで乾燥後、硫酸マグネシウムを濾
別除去し、減圧下濃縮した。残留物をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー（メタノール−クロロホルム）で精
製して５′−Ｏ−［２−（レブリニルオキシメチル）ベ
ンゾイル］チミジンを６７％（０．４７８ｇ）得た。分
析値を下記表３に示す。
【００３２】
【表３】
【００３３】実施例３ ５′−Ｏ−［２−（レブリニル
オキシメチル）ベンゾイル］−２′−Ｏ−（テトラヒド
ロピラン−２−イル）ウリジン 実施例２の方法２と同様に２′−Ｏ−（テトラヒドロピ
ラン−２−イル）ウリジン（０．６２７ｇ，１．９１ｍ
ｍｏｌ；ｍｏｒｅ ｐｏｌａｒ ｄｉａｓｔｅｒｅｏｉ
ｓｏｍｅｒ）および２−（レブリニルオキシメチル）安
息香酸（０．５２６ｇ，２．１ｍｍｏｌ）をピリジン
（１９．１ｍｌ）に溶かし、塩化２，４，６−トリイソ
プロピルベンゼンスルホニル（１．２７２ｇ，４．２ｍ
ｍｏｌ）を加え室温で１日間攪拌した。反応溶液を処理
しシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して５′
−Ｏ−［２−（レブリニルオキシメチル）ベンゾイル］
−２′−Ｏ−（テトラヒドロピラン−２−イル）ウリジ
ンを６０％（０．６４０ｇ）得た。分析値を下記表４に
示す。
オキシメチル）ベンゾイル］−２′−Ｏ−（テトラヒド
ロピラン−２−イル）ウリジン 実施例２の方法２と同様に２′−Ｏ−（テトラヒドロピ
ラン−２−イル）ウリジン（０．６２７ｇ，１．９１ｍ
ｍｏｌ；ｍｏｒｅ ｐｏｌａｒ ｄｉａｓｔｅｒｅｏｉ
ｓｏｍｅｒ）および２−（レブリニルオキシメチル）安
息香酸（０．５２６ｇ，２．１ｍｍｏｌ）をピリジン
（１９．１ｍｌ）に溶かし、塩化２，４，６−トリイソ
プロピルベンゼンスルホニル（１．２７２ｇ，４．２ｍ
ｍｏｌ）を加え室温で１日間攪拌した。反応溶液を処理
しシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して５′
−Ｏ−［２−（レブリニルオキシメチル）ベンゾイル］
−２′−Ｏ−（テトラヒドロピラン−２−イル）ウリジ
ンを６０％（０．６４０ｇ）得た。分析値を下記表４に
示す。
【００３４】
【表４】
【００３５】実施例４ Ｎ4−アニソイル−５′−Ｏ−
［２−（レブリニルオキシメチル）ベンゾイル］−２′
−Ｏ−（テトラヒドロピラン−２−イル）シチジン 実施例２の方法２と同様にＮ4−アニソイル−２′−Ｏ
−（テトラヒドロピラン−２−イル）シチジン（０．３
６９ｇ，０．８ｍｍｏｌ；ｍｏｒｅ ｐｏｌａｒ ｄｉ
ａｓｔｅｒｅｏｉｓｏｍｅｒ）および２−（レブリニル
オキシメチル）安息香酸（０．２７５ｇ，１．１ｍｍｏ
ｌ）をピリジン（８ｍｌ）に溶かし、塩化２，４，６−
トリイソプロピルベンゼンスルホニル（０．５３３ｇ，
１．７６ｍｍｏｌ）を加え室温で１．５日間攪拌した。
反応溶液を処理しシリカゲルカラムクロマトグラフィー
で精製してＮ4−アニソイル−５′−Ｏ−［２−（レブ
リニルオキシメチル）ベンゾイル］−２′−Ｏ−（テト
ラヒドロピラン−２−イル）シチジンを６１％（０．３
３８ｇ）得た。分析値を下記表５に示す。
［２−（レブリニルオキシメチル）ベンゾイル］−２′
−Ｏ−（テトラヒドロピラン−２−イル）シチジン 実施例２の方法２と同様にＮ4−アニソイル−２′−Ｏ
−（テトラヒドロピラン−２−イル）シチジン（０．３
６９ｇ，０．８ｍｍｏｌ；ｍｏｒｅ ｐｏｌａｒ ｄｉ
ａｓｔｅｒｅｏｉｓｏｍｅｒ）および２−（レブリニル
オキシメチル）安息香酸（０．２７５ｇ，１．１ｍｍｏ
ｌ）をピリジン（８ｍｌ）に溶かし、塩化２，４，６−
トリイソプロピルベンゼンスルホニル（０．５３３ｇ，
１．７６ｍｍｏｌ）を加え室温で１．５日間攪拌した。
反応溶液を処理しシリカゲルカラムクロマトグラフィー
で精製してＮ4−アニソイル−５′−Ｏ−［２−（レブ
リニルオキシメチル）ベンゾイル］−２′−Ｏ−（テト
ラヒドロピラン−２−イル）シチジンを６１％（０．３
３８ｇ）得た。分析値を下記表５に示す。
【００３６】
【表５】
【００３７】実施例５ Ｎ6−ベンゾイル−５′−Ｏ−
［２−（レブリニルオキシメチル）ベンゾイル］−２′
−Ｏ−（テトラヒドロピラン−２−イル）アデノシン 実施例２の方法２と同様にＮ6−ベンゾイル−２′−Ｏ
−（テトラヒドロピラン−２−イル）アデノシン（０．
４５６ｇ，１．０ｍｍｏｌ；ｍｏｒｅ ｐｏｌａｒ ｄ
ｉａｓｔｅｒｅｏｉｓｏｍｅｒ）および２−（レブリニ
ルオキシメチル）安息香酸（０．２７５ｇ，１．１ｍｍ
ｏｌ）をピリジン（１０ｍｌ）に溶かし、塩化２，４，
６−トリイソプロピルベンゼンスルホニル（０．６６６
ｇ，２．２ｍｍｏｌ）を加え室温で１日間攪拌した。反
応溶液を処理しシリカゲルカラムクロマトグラフィーで
精製してＮ6−ベンゾイル−５′−Ｏ−［２−（レブリ
ニルオキシメチル）ベンゾイル］−２′−Ｏ−（テトラ
ヒドロピラン−２−イル）アデノシンを６１％（０．４
２０ｇ）得た。分析値を下記表６に示す。
［２−（レブリニルオキシメチル）ベンゾイル］−２′
−Ｏ−（テトラヒドロピラン−２−イル）アデノシン 実施例２の方法２と同様にＮ6−ベンゾイル−２′−Ｏ
−（テトラヒドロピラン−２−イル）アデノシン（０．
４５６ｇ，１．０ｍｍｏｌ；ｍｏｒｅ ｐｏｌａｒ ｄ
ｉａｓｔｅｒｅｏｉｓｏｍｅｒ）および２−（レブリニ
ルオキシメチル）安息香酸（０．２７５ｇ，１．１ｍｍ
ｏｌ）をピリジン（１０ｍｌ）に溶かし、塩化２，４，
６−トリイソプロピルベンゼンスルホニル（０．６６６
ｇ，２．２ｍｍｏｌ）を加え室温で１日間攪拌した。反
応溶液を処理しシリカゲルカラムクロマトグラフィーで
精製してＮ6−ベンゾイル−５′−Ｏ−［２−（レブリ
ニルオキシメチル）ベンゾイル］−２′−Ｏ−（テトラ
ヒドロピラン−２−イル）アデノシンを６１％（０．４
２０ｇ）得た。分析値を下記表６に示す。
【００３８】
【表６】
【００３９】実施例６ Ｎ2−イソブチリル−５′−Ｏ
−［２−（レブリニルオキシメチル）ベンゾイル］−
２′−Ｏ−（テトラヒドロピラン−２−イル）グアノシ
ン 実施例２の方法２と同様にＮ2−イソブチリル−２′−
Ｏ−（テトラヒドロピラン−２−イル）グアノシン
（０．４３８ｇ，１．０ｍｍｏｌ；ｍｏｒｅ ｐｏｌａ
ｒ ｄｉａｓｔｅｒｅｏｉｓｏｍｅｒ）および２−（レ
ブリニルオキシメチル）安息香酸（０．２７５ｇ，１．
１ｍｍｏｌ）をピリジン（１０ｍｌ）に溶かし、塩化
２，４，６−トリイソプロピルベンゼンスルホニル
（０．６６６ｇ，２．２ｍｍｏｌ）を加え、室温で１日
間攪拌した。反応溶液を処理し、シリカゲルカラムクロ
マトグラフィーで精製してＮ2−イソブチリル−５′−
Ｏ−［２−（レブリニルオキシメチル）ベンゾイル］−
２′−Ｏ−（テトラヒドロピラン−２−イル）グアノシ
ンを６４％（０．４３０ｇ）得た。分析値を下記表７に
示す。
−［２−（レブリニルオキシメチル）ベンゾイル］−
２′−Ｏ−（テトラヒドロピラン−２−イル）グアノシ
ン 実施例２の方法２と同様にＮ2−イソブチリル−２′−
Ｏ−（テトラヒドロピラン−２−イル）グアノシン
（０．４３８ｇ，１．０ｍｍｏｌ；ｍｏｒｅ ｐｏｌａ
ｒ ｄｉａｓｔｅｒｅｏｉｓｏｍｅｒ）および２−（レ
ブリニルオキシメチル）安息香酸（０．２７５ｇ，１．
１ｍｍｏｌ）をピリジン（１０ｍｌ）に溶かし、塩化
２，４，６−トリイソプロピルベンゼンスルホニル
（０．６６６ｇ，２．２ｍｍｏｌ）を加え、室温で１日
間攪拌した。反応溶液を処理し、シリカゲルカラムクロ
マトグラフィーで精製してＮ2−イソブチリル−５′−
Ｏ−［２−（レブリニルオキシメチル）ベンゾイル］−
２′−Ｏ−（テトラヒドロピラン−２−イル）グアノシ
ンを６４％（０．４３０ｇ）得た。分析値を下記表７に
示す。
【００４０】
【表７】
【００４１】実施例７ ３′−Ｏ−［３−（カルボキ
シ）プロピオニル］−５′−Ｏ−［２−（レブリニルオ
キシメチル）ベンゾイル］チミジン ５′−Ｏ−［２−（レブリニルオキシメチル）ベンゾイ
ル］チミジン（０．１４２ｇ，０．３ｍｍｏｌ）をピリ
ジン（１ｍｌ×３）で共沸脱水した後、ピリジン（１ｍ
ｌ）に溶かし、ＤＭＡＰ（０．０１８ｇ、０．１５ｍｍ
ｏｌ）および無水コハク酸（０．０４５ｇ，０．４５ｍ
ｍｏｌ）を加え、室温で６時間攪拌した。反応溶液に水
（０．５ｍｌ）を加え反応を停止した後、減圧下濃縮し
た。残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（メ
タノール−クロロホルム）で精製して３′−Ｏ−［３−
（カルボキシ）プロピオニル］−５′−Ｏ−［２−（レ
ブリニルオキシメチル）ベンゾイル］チミジンを９３％
（０．１６０ｇ）得た。分析値を下記表８に示す。
シ）プロピオニル］−５′−Ｏ−［２−（レブリニルオ
キシメチル）ベンゾイル］チミジン ５′−Ｏ−［２−（レブリニルオキシメチル）ベンゾイ
ル］チミジン（０．１４２ｇ，０．３ｍｍｏｌ）をピリ
ジン（１ｍｌ×３）で共沸脱水した後、ピリジン（１ｍ
ｌ）に溶かし、ＤＭＡＰ（０．０１８ｇ、０．１５ｍｍ
ｏｌ）および無水コハク酸（０．０４５ｇ，０．４５ｍ
ｍｏｌ）を加え、室温で６時間攪拌した。反応溶液に水
（０．５ｍｌ）を加え反応を停止した後、減圧下濃縮し
た。残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（メ
タノール−クロロホルム）で精製して３′−Ｏ−［３−
（カルボキシ）プロピオニル］−５′−Ｏ−［２−（レ
ブリニルオキシメチル）ベンゾイル］チミジンを９３％
（０．１６０ｇ）得た。分析値を下記表８に示す。
【００４２】
【表８】
【００４３】実施例８ ３′−Ｏ−［３−（カルボキ
シ）プロピオニル］−５′−Ｏ−［２−（レブリニルオ
キシメチル）ベンゾイル］−２′−Ｏ−（テトラヒドロ
ピラン−２−イル）ウリジン 実施例７と同様に−５′−Ｏ−［２−（レブリニルオキ
シメチル）ベンゾイル］−２′−Ｏ−（テトラヒドロピ
ラン−２−イル）ウリジン（０．１６８ｇ，０．３ｍｍ
ｏｌ）をピリジン（１ｍｌ）に溶かし、ＤＭＡＰ（０．
０１８ｇ、０．１５ｍｍｏｌ）および無水コハク酸
（０．０４５ｇ，０．４５ｍｍｏｌ）を加え、室温で１
２時間攪拌した。反応溶液を処理し、シリカゲルカラム
クロマトグラフィーで精製して３′−Ｏ−［３−（カル
ボキシ）プロピオニル］−５′−Ｏ−［２−（レブリニ
ルオキシメチル）ベンゾイル］−２′−Ｏ−（テトラヒ
ドロピラン−２−イル）ウリジンを９６％（０．１９０
ｇ）得た。分析値を下記表９に示す。
シ）プロピオニル］−５′−Ｏ−［２−（レブリニルオ
キシメチル）ベンゾイル］−２′−Ｏ−（テトラヒドロ
ピラン−２−イル）ウリジン 実施例７と同様に−５′−Ｏ−［２−（レブリニルオキ
シメチル）ベンゾイル］−２′−Ｏ−（テトラヒドロピ
ラン−２−イル）ウリジン（０．１６８ｇ，０．３ｍｍ
ｏｌ）をピリジン（１ｍｌ）に溶かし、ＤＭＡＰ（０．
０１８ｇ、０．１５ｍｍｏｌ）および無水コハク酸
（０．０４５ｇ，０．４５ｍｍｏｌ）を加え、室温で１
２時間攪拌した。反応溶液を処理し、シリカゲルカラム
クロマトグラフィーで精製して３′−Ｏ−［３−（カル
ボキシ）プロピオニル］−５′−Ｏ−［２−（レブリニ
ルオキシメチル）ベンゾイル］−２′−Ｏ−（テトラヒ
ドロピラン−２−イル）ウリジンを９６％（０．１９０
ｇ）得た。分析値を下記表９に示す。
【００４４】
【表９】
【００４５】実施例９ ３′−Ｏ−［３−（カルボキ
シ）プロピオニル］−Ｎ2−イソブチリル−５′−Ｏ−
［２−（レブリニルオキシメチル）ベンゾイル］−２′
−Ｏ−（テトラヒドロピラン−２−イル）グアノシン 実施例７と同様にＮ2−イソブチリル−５′−Ｏ−［２
−（レブリニルオキシメチル）ベンゾイル］−２′−Ｏ
−（テトラヒドロピラン−２−イル）グアノシン（０．
２０５ｇ，０．３ｍｍｏｌ）をピリジン（１ｍｌ）に溶
かし、ＤＭＡＰ（０．０１８ｇ、０．１５ｍｍｏｌ）お
よび無水コハク酸（０．０４５ｇ，０．４５ｍｍｏｌ）
を加え、室温で１２時間攪拌した。反応溶液を処理し、
シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して３′−
Ｏ−［３−（カルボキシ）プロピオニル］−Ｎ2−イソ
ブチリル−５′−Ｏ−［２−（レブリニルオキシメチ
ル）ベンゾイル］−２′−Ｏ−（テトラヒドロピラン−
２−イル）グアノシンを定量的（０．２３４ｇ）に得
た。分析値を下記表１０に示す。
シ）プロピオニル］−Ｎ2−イソブチリル−５′−Ｏ−
［２−（レブリニルオキシメチル）ベンゾイル］−２′
−Ｏ−（テトラヒドロピラン−２−イル）グアノシン 実施例７と同様にＮ2−イソブチリル−５′−Ｏ−［２
−（レブリニルオキシメチル）ベンゾイル］−２′−Ｏ
−（テトラヒドロピラン−２−イル）グアノシン（０．
２０５ｇ，０．３ｍｍｏｌ）をピリジン（１ｍｌ）に溶
かし、ＤＭＡＰ（０．０１８ｇ、０．１５ｍｍｏｌ）お
よび無水コハク酸（０．０４５ｇ，０．４５ｍｍｏｌ）
を加え、室温で１２時間攪拌した。反応溶液を処理し、
シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して３′−
Ｏ−［３−（カルボキシ）プロピオニル］−Ｎ2−イソ
ブチリル−５′−Ｏ−［２−（レブリニルオキシメチ
ル）ベンゾイル］−２′−Ｏ−（テトラヒドロピラン−
２−イル）グアノシンを定量的（０．２３４ｇ）に得
た。分析値を下記表１０に示す。
【００４６】
【表１０】
【００４７】実施例１０ ５′−Ｏ−［２−（レブリニ
ルオキシメチル）ベンゾイル］チミジン ３′−（２−
シアノエチル）−Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミ
ダイト ５′−Ｏ−［２−（レブリニルオキシメチル）ベンゾイ
ル］チミジン（０．２８５ｇ，０．６ｍｍｏｌ）をピリ
ジン（２ｍｌ×３）で共沸脱水した後、塩化メチレン
（６ｍｌ）に溶かし、ジイソプロピルエチルアミン
（０．１５６ｍｌ，０．９ｍｍｏｌ）および２−シアノ
エチル Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルクロロホスホロアミダ
イト（０．２０２ｍｌ，０．９ｍｍｏｌ）を加え、室温
で３０分間攪拌した。反応溶液に水（１０ｍｌ）を加え
反応を停止した後、塩化メチレン（５０ｍｌ）で抽出
し、さらに５％炭酸水素ナトリウム水溶液（２５ｍｌ×
２）および水（２５ｍｌ）で洗浄した。有機層を無水硫
酸マグネシウムで乾燥後、硫酸マグネシウムを濾別除去
し、減圧下濃縮した。残留物をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（酢酸エチル−ｎ−ヘキサン）で精製して
５′−Ｏ−［２−（レブリニルオキシメチル）ベンゾイ
ル］チミジン ３′−（２−シアノエチル）−Ｎ，Ｎ−
ジイソプロピルホスホロアミダイトを６６％（０．２３
４ｇ）得た。分析値を下記に示す。
ルオキシメチル）ベンゾイル］チミジン ３′−（２−
シアノエチル）−Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミ
ダイト ５′−Ｏ−［２−（レブリニルオキシメチル）ベンゾイ
ル］チミジン（０．２８５ｇ，０．６ｍｍｏｌ）をピリ
ジン（２ｍｌ×３）で共沸脱水した後、塩化メチレン
（６ｍｌ）に溶かし、ジイソプロピルエチルアミン
（０．１５６ｍｌ，０．９ｍｍｏｌ）および２−シアノ
エチル Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルクロロホスホロアミダ
イト（０．２０２ｍｌ，０．９ｍｍｏｌ）を加え、室温
で３０分間攪拌した。反応溶液に水（１０ｍｌ）を加え
反応を停止した後、塩化メチレン（５０ｍｌ）で抽出
し、さらに５％炭酸水素ナトリウム水溶液（２５ｍｌ×
２）および水（２５ｍｌ）で洗浄した。有機層を無水硫
酸マグネシウムで乾燥後、硫酸マグネシウムを濾別除去
し、減圧下濃縮した。残留物をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（酢酸エチル−ｎ−ヘキサン）で精製して
５′−Ｏ−［２−（レブリニルオキシメチル）ベンゾイ
ル］チミジン ３′−（２−シアノエチル）−Ｎ，Ｎ−
ジイソプロピルホスホロアミダイトを６６％（０．２３
４ｇ）得た。分析値を下記に示す。
【００４８】31Ｐ核磁気共鳴スペクトル（ＣＤＣｌ3） δ：１４９．００及び１４９．１６
【００４９】実施例１１ ５′−Ｏ−［２−（レブリニ
ルオキシメチル）ベンゾイル］−２′−Ｏ−（テトラヒ
ドロピラン−２−イル）ウリジン ３′−（２−シアノ
エチル）−Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミダイト 実施例１０と同様に５′−Ｏ−［２−（レブリニルオキ
シメチル）ベンゾイル］−２′−Ｏ−（テトラヒドロピ
ラン−２−イル）ウリジン（０．３３６ｇ，０．６ｍｍ
ｏｌ）を塩化メチレン（６ｍｌ）に溶かし、ジイソプロ
ピルエチルアミン（０．１５６ｍｌ，０．９ｍｍｏｌ）
および２−シアノエチル Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルクロ
ロホスホロアミダイト（０．２０２ｍｌ，０．９ｍｍｏ
ｌ）を加え、室温で１時間攪拌した。反応溶液を処理
し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して
５′−Ｏ−［２−（レブリニルオキシメチル）ベンゾイ
ル］−２′−Ｏ−（テトラヒドロピラン−２−イル）ウ
リジン ３′−（２−シアノエチル）−Ｎ，Ｎ−ジイソ
プロピルホスホロアミダイトを８４％（０．３８３ｇ）
得た。分析値を下記に示す。
ルオキシメチル）ベンゾイル］−２′−Ｏ−（テトラヒ
ドロピラン−２−イル）ウリジン ３′−（２−シアノ
エチル）−Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミダイト 実施例１０と同様に５′−Ｏ−［２−（レブリニルオキ
シメチル）ベンゾイル］−２′−Ｏ−（テトラヒドロピ
ラン−２−イル）ウリジン（０．３３６ｇ，０．６ｍｍ
ｏｌ）を塩化メチレン（６ｍｌ）に溶かし、ジイソプロ
ピルエチルアミン（０．１５６ｍｌ，０．９ｍｍｏｌ）
および２−シアノエチル Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルクロ
ロホスホロアミダイト（０．２０２ｍｌ，０．９ｍｍｏ
ｌ）を加え、室温で１時間攪拌した。反応溶液を処理
し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して
５′−Ｏ−［２−（レブリニルオキシメチル）ベンゾイ
ル］−２′−Ｏ−（テトラヒドロピラン−２−イル）ウ
リジン ３′−（２−シアノエチル）−Ｎ，Ｎ−ジイソ
プロピルホスホロアミダイトを８４％（０．３８３ｇ）
得た。分析値を下記に示す。
【００５０】31Ｐ核磁気共鳴スペクトル（ＣＤＣｌ3） δ：１４９．８８及び１５０．４２
【００５１】実施例１２ Ｎ4−アニソイル−５′−Ｏ
−［２−（レブリニルオキシメチル）ベンゾイル］−
２′−Ｏ−（テトラヒドロピラン−２−イル）シチジン
３′−（２−シアノエチル）−Ｎ，Ｎ−ジイソプロピ
ルホスホロアミダイト 実施例１０と同様にＮ4−アニソイル−５′−Ｏ−［２
−（レブリニルオキシメチル）ベンゾイル］−２′−Ｏ
−（テトラヒドロピラン−２−イル）シチジン（０．３
３１ｇ，０．５ｍｍｏｌ）を塩化メチレン（５ｍｌ）に
溶かし、ジイソプロピルエチルアミン（０．１３ｍｌ，
０．７５ｍｍｏｌ）および２−シアノエチル Ｎ，Ｎジ
イソプロピルクロロホスホロアミダイト（０．１６８ｍ
ｌ，０．７５ｍｍｏｌ）を加え、室温で１時間攪拌し
た。反応溶液を処理し、シリカゲルカラムクロマトグラ
フィーで精製してＮ4−アニソイル−５′−Ｏ−［２−
（レブリニルオキシメチル）ベンゾイル］−２′−Ｏ−
（テトラヒドロピラン−２−イル）シチジン ３′−
（２−シアノエチル）−Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホスホ
ロアミダイトを７６％（０．３２７ｇ）得た。分析値を
下記に示す。
−［２−（レブリニルオキシメチル）ベンゾイル］−
２′−Ｏ−（テトラヒドロピラン−２−イル）シチジン
３′−（２−シアノエチル）−Ｎ，Ｎ−ジイソプロピ
ルホスホロアミダイト 実施例１０と同様にＮ4−アニソイル−５′−Ｏ−［２
−（レブリニルオキシメチル）ベンゾイル］−２′−Ｏ
−（テトラヒドロピラン−２−イル）シチジン（０．３
３１ｇ，０．５ｍｍｏｌ）を塩化メチレン（５ｍｌ）に
溶かし、ジイソプロピルエチルアミン（０．１３ｍｌ，
０．７５ｍｍｏｌ）および２−シアノエチル Ｎ，Ｎジ
イソプロピルクロロホスホロアミダイト（０．１６８ｍ
ｌ，０．７５ｍｍｏｌ）を加え、室温で１時間攪拌し
た。反応溶液を処理し、シリカゲルカラムクロマトグラ
フィーで精製してＮ4−アニソイル−５′−Ｏ−［２−
（レブリニルオキシメチル）ベンゾイル］−２′−Ｏ−
（テトラヒドロピラン−２−イル）シチジン ３′−
（２−シアノエチル）−Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホスホ
ロアミダイトを７６％（０．３２７ｇ）得た。分析値を
下記に示す。
【００５２】31Ｐ核磁気共鳴スペクトル（ＣＤＣｌ3） δ：１４９．７５及び１５０．５７
【００５３】実施例１３ Ｎ6−ベンゾイル−５′−Ｏ
−［２−（レブリニルオキシメチル）ベンゾイル］−
２′−Ｏ−（テトラヒドロピラン−２−イル）アデノシ
ン ３′−（２−シアノエチル）−Ｎ，Ｎ−ジイソプロ
ピルホスホロアミダイト 実施例１０と同様にＮ6−ベンゾイル−５′−Ｏ−［２
−（レブリニルオキシメチル）ベンゾイル］−２′−Ｏ
−（テトラヒドロピラン−２−イル）アデノシン（０．
３４４ｇ，０．５ｍｍｏｌ）を塩化メチレン（５ｍｌ）
に溶かし、ジイソプロピルエチルアミン（０．１３ｍ
ｌ，０．７５ｍｍｏｌ）および２−シアノエチル Ｎ，
Ｎジイソプロピルクロロホスホロアミダイト（０．１６
８ｍｌ，０．７５ｍｍｏｌ）を加え、室温で１時間攪拌
した。反応溶液を処理し、シリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーで精製してＮ6−ベンゾイル−５′−Ｏ−［２
−（レブリニルオキシメチル）ベンゾイル］−２′−Ｏ
−（テトラヒドロピラン−２−イル）アデノシン ３′
−（２−シアノエチル）−Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホス
ホロアミダイトを９１％（０．４０３ｇ）得た。分析値
を下記に示す。
−［２−（レブリニルオキシメチル）ベンゾイル］−
２′−Ｏ−（テトラヒドロピラン−２−イル）アデノシ
ン ３′−（２−シアノエチル）−Ｎ，Ｎ−ジイソプロ
ピルホスホロアミダイト 実施例１０と同様にＮ6−ベンゾイル−５′−Ｏ−［２
−（レブリニルオキシメチル）ベンゾイル］−２′−Ｏ
−（テトラヒドロピラン−２−イル）アデノシン（０．
３４４ｇ，０．５ｍｍｏｌ）を塩化メチレン（５ｍｌ）
に溶かし、ジイソプロピルエチルアミン（０．１３ｍ
ｌ，０．７５ｍｍｏｌ）および２−シアノエチル Ｎ，
Ｎジイソプロピルクロロホスホロアミダイト（０．１６
８ｍｌ，０．７５ｍｍｏｌ）を加え、室温で１時間攪拌
した。反応溶液を処理し、シリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーで精製してＮ6−ベンゾイル−５′−Ｏ−［２
−（レブリニルオキシメチル）ベンゾイル］−２′−Ｏ
−（テトラヒドロピラン−２−イル）アデノシン ３′
−（２−シアノエチル）−Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホス
ホロアミダイトを９１％（０．４０３ｇ）得た。分析値
を下記に示す。
【００５４】31Ｐ核磁気共鳴スペクトル（ＣＤＣｌ3） δ：１４９．６７及び１５０．２２
【００５５】実施例１４ Ｎ2−イソブチリル−５′−
Ｏ−［２−（レブリニルオキシメチル）ベンゾイル］−
２′−Ｏ−（テトラヒドロピラン−２−イル）グアノシ
ン ３′−（２−シアノエチル）−Ｎ，Ｎ−ジイソプロ
ピルホスホロアミダイト 実施例１０と同様にＮ2−イソブチリル−５′−Ｏ−
［２−（レブリニルオキシメチル）ベンゾイル］−２′
−Ｏ−（テトラヒドロピラン−２−イル）グアノシン
（０．３７５ｇ，０．５５ｍｍｏｌ）を塩化メチレン
（５．５ｍｌ）に溶かし、ジイソプロピルエチルアミン
（０．１４３ｍｌ，０．８２５ｍｍｏｌ）および２−シ
アノエチル Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルクロロホスホロア
ミダイト（０．１８５ｍｌ，０．８２５ｍｍｏｌ）を加
え、室温で１時間攪拌した。反応溶液を処理し、シリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーで精製してＮ2−イソブ
チリル−５′−Ｏ−［２−（レブリニルオキシメチル）
ベンゾイル］−２′−Ｏ−（テトラヒドロピラン−２−
イル）グアノシン ３′−（２−シアノエチル）−Ｎ，
Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミダイトを７５％（０．
３６６ｇ）得た。分析値を下記に示す。
Ｏ−［２−（レブリニルオキシメチル）ベンゾイル］−
２′−Ｏ−（テトラヒドロピラン−２−イル）グアノシ
ン ３′−（２−シアノエチル）−Ｎ，Ｎ−ジイソプロ
ピルホスホロアミダイト 実施例１０と同様にＮ2−イソブチリル−５′−Ｏ−
［２−（レブリニルオキシメチル）ベンゾイル］−２′
−Ｏ−（テトラヒドロピラン−２−イル）グアノシン
（０．３７５ｇ，０．５５ｍｍｏｌ）を塩化メチレン
（５．５ｍｌ）に溶かし、ジイソプロピルエチルアミン
（０．１４３ｍｌ，０．８２５ｍｍｏｌ）および２−シ
アノエチル Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルクロロホスホロア
ミダイト（０．１８５ｍｌ，０．８２５ｍｍｏｌ）を加
え、室温で１時間攪拌した。反応溶液を処理し、シリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーで精製してＮ2−イソブ
チリル−５′−Ｏ−［２−（レブリニルオキシメチル）
ベンゾイル］−２′−Ｏ−（テトラヒドロピラン−２−
イル）グアノシン ３′−（２−シアノエチル）−Ｎ，
Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミダイトを７５％（０．
３６６ｇ）得た。分析値を下記に示す。
【００５６】31Ｐ核磁気共鳴スペクトル δ：１４９．１０及び１４９．６５
【００５７】実施例１５ ＬｅｖＢｚＴ−−−ＣＰＧ ３′−Ｏ−［３−（カルボキシ）プロピオニル］−５′
−Ｏ−［２−（レブリニルオキシメチル）ベンゾイル］
チミジン（０．１６０ｇ，０．２７８ｍｍｏｌ）および
１−ヒドロキシベンズトリアゾール（０．０５６ｇ，
０．４１７ｍｍｏｌ）をピリジン（２ｍｌ×３）で共沸
脱水した後、ジオキサン（３ｍｌ）に溶かし、ジシクロ
ヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）（０．０８６ｇ，
０．４１６ｍｍｏｌ）を加え室温で２時間攪拌した。生
成したジシクロヘキシル尿素の結晶を濾別除去し、濾液
をあらかじめピリジン（２ｍｌ×３）で共沸脱水したＣ
ＰＧ（ｌｏｎｇ ｃｈａｉｎ ａｌｋｙｌ ａｍｉｎｏ
ＣＰＧ ５００Ａ ８０／１２０メッシュ フナコシ
社製）（０．５５６ｇ）に加えた後、１−メチルイミダ
ゾール（０．１１ｍｌ，１．３９ｍｍｏｌ）を加え、室
温で１２時間放置した。ＣＰＧを濾別分取した後、ジオ
キサン、アセトニトリル、メタノールおよび塩化メチレ
ンで順次洗浄し、５′−Ｏ−［２−（レブリニルオキシ
メチル）ベンゾイル］チミジンが担持されたＣＰＧ
（０．５６８ｇ）を得た。さらに、このＣＰＧ（０．４
８８ｇ）に１：１：８無水酢酸−２，６−ルチジン−Ｔ
ＨＦ溶液（１．５ｍｌ）および１：９ １−メチルイミ
ダゾール−ＴＨＦ溶液（１．５ｍｌ）加え、室温で３０
分間放置した。ＣＰＧを濾別分取した後、ジオキサン、
アセトニトリル、メタノールおよび塩化メチレンで順次
洗浄し、目的とする５′−Ｏ−［２−（レブリニルオキ
シメチル）ベンゾイル］チミジンが担持されたＣＰＧ
（０．４８５ｇ）を得た。
−Ｏ−［２−（レブリニルオキシメチル）ベンゾイル］
チミジン（０．１６０ｇ，０．２７８ｍｍｏｌ）および
１−ヒドロキシベンズトリアゾール（０．０５６ｇ，
０．４１７ｍｍｏｌ）をピリジン（２ｍｌ×３）で共沸
脱水した後、ジオキサン（３ｍｌ）に溶かし、ジシクロ
ヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）（０．０８６ｇ，
０．４１６ｍｍｏｌ）を加え室温で２時間攪拌した。生
成したジシクロヘキシル尿素の結晶を濾別除去し、濾液
をあらかじめピリジン（２ｍｌ×３）で共沸脱水したＣ
ＰＧ（ｌｏｎｇ ｃｈａｉｎ ａｌｋｙｌ ａｍｉｎｏ
ＣＰＧ ５００Ａ ８０／１２０メッシュ フナコシ
社製）（０．５５６ｇ）に加えた後、１−メチルイミダ
ゾール（０．１１ｍｌ，１．３９ｍｍｏｌ）を加え、室
温で１２時間放置した。ＣＰＧを濾別分取した後、ジオ
キサン、アセトニトリル、メタノールおよび塩化メチレ
ンで順次洗浄し、５′−Ｏ−［２−（レブリニルオキシ
メチル）ベンゾイル］チミジンが担持されたＣＰＧ
（０．５６８ｇ）を得た。さらに、このＣＰＧ（０．４
８８ｇ）に１：１：８無水酢酸−２，６−ルチジン−Ｔ
ＨＦ溶液（１．５ｍｌ）および１：９ １−メチルイミ
ダゾール−ＴＨＦ溶液（１．５ｍｌ）加え、室温で３０
分間放置した。ＣＰＧを濾別分取した後、ジオキサン、
アセトニトリル、メタノールおよび塩化メチレンで順次
洗浄し、目的とする５′−Ｏ−［２−（レブリニルオキ
シメチル）ベンゾイル］チミジンが担持されたＣＰＧ
（０．４８５ｇ）を得た。
【００５８】５′−Ｏ−［２−（レブリニルオキシメチ
ル）ベンゾイル］チミジンの担持量の測定 ５′−Ｏ−［２−（レブリニルオキシメチル）ベンゾイ
ル］チミジンが担持されたＣＰＧ（４０ｍｇ）をＡＢＩ
社製反応カラム（Ｆｉｇ．１１）に充填し、シリンジを
用い０．５Ｍヒドラジン−水和物−３：２ピリジン−酢
酸溶液（２ｍｌ）を注入し１０分間放置した。アセトニ
トリル（２ｍｌ×３）で順次洗浄した後、０．５Ｍイミ
ダゾールのアセトニトリル、（１ｍｌ）で５分間放置
し、つづいてアセトニトリル（２ｍｌ×３）で洗浄し
た。濃アンモニア（１ｍｌ）を加え１５分間処理した
後、同様にさらに５回繰り返した。処理液を合わせ減圧
濃縮した後、残留物を水に溶かしＵＶ定量（吸光度０．
３２３／７５ｍｌ）し、担持量（６２．７６μｍｏｌ／
ｇ；チミジン λｍａｘ２６７ｎｍ，ε＝９６５０）を
算定した。
ル）ベンゾイル］チミジンの担持量の測定 ５′−Ｏ−［２−（レブリニルオキシメチル）ベンゾイ
ル］チミジンが担持されたＣＰＧ（４０ｍｇ）をＡＢＩ
社製反応カラム（Ｆｉｇ．１１）に充填し、シリンジを
用い０．５Ｍヒドラジン−水和物−３：２ピリジン−酢
酸溶液（２ｍｌ）を注入し１０分間放置した。アセトニ
トリル（２ｍｌ×３）で順次洗浄した後、０．５Ｍイミ
ダゾールのアセトニトリル、（１ｍｌ）で５分間放置
し、つづいてアセトニトリル（２ｍｌ×３）で洗浄し
た。濃アンモニア（１ｍｌ）を加え１５分間処理した
後、同様にさらに５回繰り返した。処理液を合わせ減圧
濃縮した後、残留物を水に溶かしＵＶ定量（吸光度０．
３２３／７５ｍｌ）し、担持量（６２．７６μｍｏｌ／
ｇ；チミジン λｍａｘ２６７ｎｍ，ε＝９６５０）を
算定した。
【００５９】実施例１６ ＬｅｖＢｚＵ−−−ＣＰＧ 実施例１５と同様に３′−Ｏ−［３−（カルボキシ）プ
ロピオニル］−５′−Ｏ−［２−（レブリニルオキシメ
チル）ベンゾイル］−２′−Ｏ−（テトラヒドロピラン
−２−イル）ウリジン（０．１９５ｇ，０．２９５ｍｍ
ｏｌ）および１−ヒドロキシベンズトリアゾール（０．
０６１ｇ，０．４５ｍｍｏｌ）をジオキサン（３ｍｌ）
に溶かし、ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）
（０．０９３ｇ，０．４５ｍｍｏｌ）を加え室温で２時
間攪拌した。生成したジシクロヘキシル尿素の結晶を濾
別除去し、ＣＰＧ（０．６００ｇ）に加えた後、１−メ
チルイミダゾール（０．１２ｍｌ，１．５ｍｍｏｌ）を
加え、室温で３０分間放置した。ＣＰＧを濾別分取した
後、洗浄し、５′−Ｏ−［２−（レブリニルオキシメチ
ル）ベンゾイル］−２′−Ｏ−（テトラヒドロピラン−
２−イル）ウリジンが担持されたＣＰＧを得た。さら
に、このＣＰＧに１：１：８無水酢酸−２，６−ルチジ
ン−ＴＨＦ溶液（１．５ｍｌ）および１：９ １−メチ
ルイミダゾール−ＴＨＦ溶液（１．５ｍｌ）加え、室温
で３０分間放置した。ＣＰＧを濾別分取した後、洗浄
し、目的とする５′−Ｏ−［２−（レブリニルオキシメ
チル）ベンゾイル］−２′−Ｏ−（テトラヒドロピラン
−２−イル）ウリジンが担持されたＣＰＧ（０．５２６
ｇ）を得た。
ロピオニル］−５′−Ｏ−［２−（レブリニルオキシメ
チル）ベンゾイル］−２′−Ｏ−（テトラヒドロピラン
−２−イル）ウリジン（０．１９５ｇ，０．２９５ｍｍ
ｏｌ）および１−ヒドロキシベンズトリアゾール（０．
０６１ｇ，０．４５ｍｍｏｌ）をジオキサン（３ｍｌ）
に溶かし、ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）
（０．０９３ｇ，０．４５ｍｍｏｌ）を加え室温で２時
間攪拌した。生成したジシクロヘキシル尿素の結晶を濾
別除去し、ＣＰＧ（０．６００ｇ）に加えた後、１−メ
チルイミダゾール（０．１２ｍｌ，１．５ｍｍｏｌ）を
加え、室温で３０分間放置した。ＣＰＧを濾別分取した
後、洗浄し、５′−Ｏ−［２−（レブリニルオキシメチ
ル）ベンゾイル］−２′−Ｏ−（テトラヒドロピラン−
２−イル）ウリジンが担持されたＣＰＧを得た。さら
に、このＣＰＧに１：１：８無水酢酸−２，６−ルチジ
ン−ＴＨＦ溶液（１．５ｍｌ）および１：９ １−メチ
ルイミダゾール−ＴＨＦ溶液（１．５ｍｌ）加え、室温
で３０分間放置した。ＣＰＧを濾別分取した後、洗浄
し、目的とする５′−Ｏ−［２−（レブリニルオキシメ
チル）ベンゾイル］−２′−Ｏ−（テトラヒドロピラン
−２−イル）ウリジンが担持されたＣＰＧ（０．５２６
ｇ）を得た。
【００６０】５′−Ｏ−［２−（レブリニルオキシメチ
ル）ベンゾイル］−２′−Ｏ−（テトラヒドロピラン−
２−イル）ウリジンが担持量の測定 ５′−Ｏ−［２−（レブリニルオキシメチル）ベンゾイ
ル］−２′−Ｏ−（テトラヒドロピラン−２−イル）ウ
リジンが担持されたＣＰＧ（２０ｍｇ）を０．５Ｍヒド
ラジン−水和物−４：１ピリジン−酢酸溶液（１ｍｌ）
を注入し１５分間放置した。アセトニトリル（２ｍｌ×
３）で洗浄した後、０．５Ｍイミダゾールのアセトニト
リル（１ｍｌ）で５分間処理し、つづいてアセトニトリ
ル（２ｍｌ×３）で洗浄した。ＣＰＧをサンプル管に移
した後、濃アンモニア（３ｍｌ）を加え密栓し１２時間
放置した。処理液を減圧濃縮した後、残留物を水に溶か
し、ＵＶ定量（吸光度０．３０９／２０ｍｌ）し、担持
量（３２．３６μｍｏｌ／ｇ；２′−Ｏ−（テトラヒド
ロピラン−２−イル）ウリジン（ｍｏｒｅ ｐｏｌａｒ
ｄｉａｓｔｅｒｏｉｓｏｍｅｒ）λｍａｘ２６２ｎ
ｍ，ε＝９５５０）を算定した。
ル）ベンゾイル］−２′−Ｏ−（テトラヒドロピラン−
２−イル）ウリジンが担持量の測定 ５′−Ｏ−［２−（レブリニルオキシメチル）ベンゾイ
ル］−２′−Ｏ−（テトラヒドロピラン−２−イル）ウ
リジンが担持されたＣＰＧ（２０ｍｇ）を０．５Ｍヒド
ラジン−水和物−４：１ピリジン−酢酸溶液（１ｍｌ）
を注入し１５分間放置した。アセトニトリル（２ｍｌ×
３）で洗浄した後、０．５Ｍイミダゾールのアセトニト
リル（１ｍｌ）で５分間処理し、つづいてアセトニトリ
ル（２ｍｌ×３）で洗浄した。ＣＰＧをサンプル管に移
した後、濃アンモニア（３ｍｌ）を加え密栓し１２時間
放置した。処理液を減圧濃縮した後、残留物を水に溶か
し、ＵＶ定量（吸光度０．３０９／２０ｍｌ）し、担持
量（３２．３６μｍｏｌ／ｇ；２′−Ｏ−（テトラヒド
ロピラン−２−イル）ウリジン（ｍｏｒｅ ｐｏｌａｒ
ｄｉａｓｔｅｒｏｉｓｏｍｅｒ）λｍａｘ２６２ｎ
ｍ，ε＝９５５０）を算定した。
【００６１】実施例１７ ＬｅｖＢｚＧ−−−ＣＰＧ 実施例１５と同様に３′−Ｏ−［３−（カルボキシ）プ
ロピオニル］−Ｎ2−イソブチリル−５′−Ｏ−［２−
（レブリニルオキシメチル）ベンゾイル］−２′−Ｏ−
（テトラヒドロピラン−２−イル）グアノシン（０．１
５６ｇ，０．２ｍｍｏｌ）および１−ヒドロキシベンズ
トリアゾール（０．０４１ｇ，０．３ｍｍｏｌ）をジオ
キサン（２ｍｌ）に溶かし、ジシクロヘキシルカルボジ
イミド（ＤＣＣ）（０．０６２ｇ，０．３ｍｍｏｌ）を
加え室温で２時間攪拌した。生成したジシクロヘキシル
尿素の結晶を濾別除去し、ＣＰＧ（０．６００ｇ）に加
えた後、１−メチルイミダゾール（０．０８ｍｌ，１．
０ｍｍｏｌ）を加え、室温で３０分間放置した。ＣＰＧ
を濾別分取した後、洗浄し５′−Ｏ−［２−（レブリニ
ルオキシメチル）ベンゾイル］−２′−Ｏ−（テトラヒ
ドロピラン−２−イル）グアノシンが担持されたＣＰＧ
を得た。さらに、このＣＰＧに１：１：８無水酢酸−
２，６−ルチジン−ＴＨＦ溶液（１ｍｌ）および１：９
１−メチルイミダゾール−ＴＨＦ溶液（１ｍｌ）加
え、室温で３０分間放置した。ＣＰＧを濾別分取した
後、洗浄し、目的とする５′−Ｏ−［２−（レブリニル
オキシメチル）ベンゾイル］−２′−Ｏ−（テトラヒド
ロピラン−２−イル）グアノシンが担持されたＣＰＧ
（０．２５５ｇ）を得た。
ロピオニル］−Ｎ2−イソブチリル−５′−Ｏ−［２−
（レブリニルオキシメチル）ベンゾイル］−２′−Ｏ−
（テトラヒドロピラン−２−イル）グアノシン（０．１
５６ｇ，０．２ｍｍｏｌ）および１−ヒドロキシベンズ
トリアゾール（０．０４１ｇ，０．３ｍｍｏｌ）をジオ
キサン（２ｍｌ）に溶かし、ジシクロヘキシルカルボジ
イミド（ＤＣＣ）（０．０６２ｇ，０．３ｍｍｏｌ）を
加え室温で２時間攪拌した。生成したジシクロヘキシル
尿素の結晶を濾別除去し、ＣＰＧ（０．６００ｇ）に加
えた後、１−メチルイミダゾール（０．０８ｍｌ，１．
０ｍｍｏｌ）を加え、室温で３０分間放置した。ＣＰＧ
を濾別分取した後、洗浄し５′−Ｏ−［２−（レブリニ
ルオキシメチル）ベンゾイル］−２′−Ｏ−（テトラヒ
ドロピラン−２−イル）グアノシンが担持されたＣＰＧ
を得た。さらに、このＣＰＧに１：１：８無水酢酸−
２，６−ルチジン−ＴＨＦ溶液（１ｍｌ）および１：９
１−メチルイミダゾール−ＴＨＦ溶液（１ｍｌ）加
え、室温で３０分間放置した。ＣＰＧを濾別分取した
後、洗浄し、目的とする５′−Ｏ−［２−（レブリニル
オキシメチル）ベンゾイル］−２′−Ｏ−（テトラヒド
ロピラン−２−イル）グアノシンが担持されたＣＰＧ
（０．２５５ｇ）を得た。
【００６２】Ｎ2−イソブチリル−５′−Ｏ−［２−
（レブリニルオキシメチル）ベンゾイル］−２′−Ｏ−
（テトラヒドロピラン−２−イル）グアノシンの担持量
の測定 Ｎ2−イソブチリル−５′−Ｏ−［２−（レブリニルオ
キシメチル）ベンゾイル］−２′−Ｏ−（テトラヒドロ
ピラン−２−イル）グアノシンが担持されたＣＰＧ
（９．８ｍｇ）を０．５Ｍヒドラジン−水和物−４：１
ピリジン−酢酸溶液（１ｍｌ）を１５分間放置した。ア
セトニトリル（２ｍｌ×３）で洗浄した後、０．５Ｍイ
ミダゾールのアセトニトリル（１ｍｌ）で５分間処理
し、つづいてアセトニトリル（２ｍｌ×３）で洗浄し
た。ＣＰＧをサンプル管に移した後、濃アンモニア（３
ｍｌ）を加え密栓し１日間放置した。フィルターにてＣ
ＰＧを濾別除去し、さらに５５℃、６時間処理した。処
理液を減圧濃縮、続いて凍結乾燥した後、残留物をｐＨ
２塩酸（５ｍｌ）で室温下１日間放置した。０．２Ｍア
ンモニア水にて中和した後、酢酸エチル（５ｍｌ×３）
で洗浄した。水層を減圧濃縮、続いて凍結乾燥した後、
残留物を水に溶かし、ＵＶ定量（吸光度０．４８７／１
０ｍｌ）し、担持量（３６．５μｍｏｌ／ｇ；グアノシ
ン λｍａｘ２５３ｎｍ，ε＝１３６００）を算定し
た。
（レブリニルオキシメチル）ベンゾイル］−２′−Ｏ−
（テトラヒドロピラン−２−イル）グアノシンの担持量
の測定 Ｎ2−イソブチリル−５′−Ｏ−［２−（レブリニルオ
キシメチル）ベンゾイル］−２′−Ｏ−（テトラヒドロ
ピラン−２−イル）グアノシンが担持されたＣＰＧ
（９．８ｍｇ）を０．５Ｍヒドラジン−水和物−４：１
ピリジン−酢酸溶液（１ｍｌ）を１５分間放置した。ア
セトニトリル（２ｍｌ×３）で洗浄した後、０．５Ｍイ
ミダゾールのアセトニトリル（１ｍｌ）で５分間処理
し、つづいてアセトニトリル（２ｍｌ×３）で洗浄し
た。ＣＰＧをサンプル管に移した後、濃アンモニア（３
ｍｌ）を加え密栓し１日間放置した。フィルターにてＣ
ＰＧを濾別除去し、さらに５５℃、６時間処理した。処
理液を減圧濃縮、続いて凍結乾燥した後、残留物をｐＨ
２塩酸（５ｍｌ）で室温下１日間放置した。０．２Ｍア
ンモニア水にて中和した後、酢酸エチル（５ｍｌ×３）
で洗浄した。水層を減圧濃縮、続いて凍結乾燥した後、
残留物を水に溶かし、ＵＶ定量（吸光度０．４８７／１
０ｍｌ）し、担持量（３６．５μｍｏｌ／ｇ；グアノシ
ン λｍａｘ２５３ｎｍ，ε＝１３６００）を算定し
た。
【００６３】実施例１８ オリゴマーの合成（チミジル
酸２量体、３量体、４量体及びウリジル酸２量体、４量
体） ５′−Ｏ−［２−（レブリニルオキシメチル）ベンゾイ
ル］チミジンが担持されたＣＰＧ（４０ｍｇ）をＡＢＩ
社製反応カラムに充填し、シリンジを用い０．５Ｍヒド
ラジン−水和物−３：２ピリジン−酢酸溶液（２ｍｌ）
を注入し１０分間放置した。アセトニトリル（２ｍｌ×
３）で順次洗浄した後、０．５Ｍイミダゾールのアセト
ニトリル（１ｍｌ）で５分間放置し、つづいてアセトニ
トリル（２ｍｌ×３）で洗浄した。シリンジを用い０．
１Ｍ Ｎｕｃｌｅｏｔｉｄｅ−アセトニトリル（０．４
ｍｌ）を０．５Ｍテトラゾール−アセトニトリル（０．
４ｍｌ）を縮合剤として共に１０分間かけて処理をし、
鎖伸長反応を行った後アセトニトリル（２ｍｌ×３）で
洗浄を行い、シリンジを用い０．１ＭＩ2−３％Ｈ2Ｏ−
１９％ピリジン−ＴＨＦで処理をし、３価のリンを５価
のトリエステルに酸化し、次いでアセトニトリル（２ｍ
ｌ×３）で洗浄を行った後、１０％無水酢酸−１０％
２，６−ｌｕｔｉｄｉｎｅ−ＴＨＦ（０．５ｍｌ）、１
０％１−メチルイミダゾール−ＴＨＦ（０．５ｍｌ）を
用いて処理を行い、未反応の５′位水酸基をアセチル化
により保護を行うことをＯｎｅ Ｃｙｃｌｅとし、以下
この操作を繰り返し、チミジル酸２量体、３量体、４量
体及びウリジル酸２量体、４量体の合成を行った。
酸２量体、３量体、４量体及びウリジル酸２量体、４量
体） ５′−Ｏ−［２−（レブリニルオキシメチル）ベンゾイ
ル］チミジンが担持されたＣＰＧ（４０ｍｇ）をＡＢＩ
社製反応カラムに充填し、シリンジを用い０．５Ｍヒド
ラジン−水和物−３：２ピリジン−酢酸溶液（２ｍｌ）
を注入し１０分間放置した。アセトニトリル（２ｍｌ×
３）で順次洗浄した後、０．５Ｍイミダゾールのアセト
ニトリル（１ｍｌ）で５分間放置し、つづいてアセトニ
トリル（２ｍｌ×３）で洗浄した。シリンジを用い０．
１Ｍ Ｎｕｃｌｅｏｔｉｄｅ−アセトニトリル（０．４
ｍｌ）を０．５Ｍテトラゾール−アセトニトリル（０．
４ｍｌ）を縮合剤として共に１０分間かけて処理をし、
鎖伸長反応を行った後アセトニトリル（２ｍｌ×３）で
洗浄を行い、シリンジを用い０．１ＭＩ2−３％Ｈ2Ｏ−
１９％ピリジン−ＴＨＦで処理をし、３価のリンを５価
のトリエステルに酸化し、次いでアセトニトリル（２ｍ
ｌ×３）で洗浄を行った後、１０％無水酢酸−１０％
２，６−ｌｕｔｉｄｉｎｅ−ＴＨＦ（０．５ｍｌ）、１
０％１−メチルイミダゾール−ＴＨＦ（０．５ｍｌ）を
用いて処理を行い、未反応の５′位水酸基をアセチル化
により保護を行うことをＯｎｅ Ｃｙｃｌｅとし、以下
この操作を繰り返し、チミジル酸２量体、３量体、４量
体及びウリジル酸２量体、４量体の合成を行った。
【００６４】実施例１９ ８量体オリゴマー（５′−Ｕ
ｐＣｐＡｐＧｐＵｐＵｐＧｐＧ−３′）の合成 Ｎ2−イソブチリル−５′−Ｏ−［２−（レブリニルオ
キシメチル）ベンゾイル］−２′−Ｏ−（テトラヒドロ
ピラン−２−イル）グアノシンが担持されたＣＰＧ（４
０ｍｇ）をＡＢＩ社製反応カラムに充填し、シリンジを
用い０．５Ｍヒドラジン一水和物−３：２ピリジン−酢
酸溶液（２ｍｌ）を注入し１０分間放置した。アセトニ
トリル（２ｍｌ×３）で順次洗浄した後、０．５Ｍイミ
ダゾールのアセトニトリル（１ｍｌ）で５分間放置し、
つづいてアセトニトリル（２ｍｌ×３）で洗浄した。シ
リンジを用い０．１Ｍ Ｎｕｃｌｅｏｔｉｄｅ−アセト
ニトリル（０．４ｍｌ）を０．５Ｍテトラゾール−アセ
トニトリル（０．４ｍｌ）を縮合剤として共に１０分間
かけて処理をし、鎖伸長反応を行った後アセトニトリル
（２ｍｌ×３）で洗浄を行い、１０％無水酢酸−１０％
２，６−ｌｕｔｉｄｉｎｅ−ＴＨＦ（０．５ｍｌ）、
１０％１−メチルイミダゾール−ＴＨＦ（０．５ｍｌ）
を用いて処理を行い、シリンジを用い０．１ＭＩ2−３
％Ｈ2Ｏ−１９％ピリジン−ＴＨＦで処理をし、３価の
リンを５価のトリエステルに酸化し、次いでアセトニト
リル（２ｍｌ×３）で洗浄を行った。未反応の５′位水
酸基をアセチル化により保護を行うことをＯｎｅ Ｃｙ
ｃｌｅとし、以下この操作を繰り返し、目的とする配列
のオリゴマーの合成を行った。
ｐＣｐＡｐＧｐＵｐＵｐＧｐＧ−３′）の合成 Ｎ2−イソブチリル−５′−Ｏ−［２−（レブリニルオ
キシメチル）ベンゾイル］−２′−Ｏ−（テトラヒドロ
ピラン−２−イル）グアノシンが担持されたＣＰＧ（４
０ｍｇ）をＡＢＩ社製反応カラムに充填し、シリンジを
用い０．５Ｍヒドラジン一水和物−３：２ピリジン−酢
酸溶液（２ｍｌ）を注入し１０分間放置した。アセトニ
トリル（２ｍｌ×３）で順次洗浄した後、０．５Ｍイミ
ダゾールのアセトニトリル（１ｍｌ）で５分間放置し、
つづいてアセトニトリル（２ｍｌ×３）で洗浄した。シ
リンジを用い０．１Ｍ Ｎｕｃｌｅｏｔｉｄｅ−アセト
ニトリル（０．４ｍｌ）を０．５Ｍテトラゾール−アセ
トニトリル（０．４ｍｌ）を縮合剤として共に１０分間
かけて処理をし、鎖伸長反応を行った後アセトニトリル
（２ｍｌ×３）で洗浄を行い、１０％無水酢酸−１０％
２，６−ｌｕｔｉｄｉｎｅ−ＴＨＦ（０．５ｍｌ）、
１０％１−メチルイミダゾール−ＴＨＦ（０．５ｍｌ）
を用いて処理を行い、シリンジを用い０．１ＭＩ2−３
％Ｈ2Ｏ−１９％ピリジン−ＴＨＦで処理をし、３価の
リンを５価のトリエステルに酸化し、次いでアセトニト
リル（２ｍｌ×３）で洗浄を行った。未反応の５′位水
酸基をアセチル化により保護を行うことをＯｎｅ Ｃｙ
ｃｌｅとし、以下この操作を繰り返し、目的とする配列
のオリゴマーの合成を行った。
【００６５】実施例２０ 担体からの遊離 上記の操作により得られたチミジル酸２量体、３量体、
４量体、ウリジル酸２量体、４量体及び８量体オリゴマ
ー（５′−ＵｐＣｐＡｐＧｐＵｐＵｐＧｐＧ−３′）を
濃アンモニア水：エタノール＝１：１中室温６時間放置
を行い、オリゴマーを担体から遊離させた後Ｃ１８ＥＮ
ＶＩＲＯＮ−ＭＥＮＴＡＬ ＣＡＲＴＲＩＥＳ（Ｗａｔ
ｅｒｓ社製）を用いてＣＰＧの残渣を取り除き濃縮後乾
燥を施してから滅菌水に溶解させＣ−１８逆相ＨＰＬＣ
により精製を行いそれぞれ目的とするオリゴマーを得
た。
４量体、ウリジル酸２量体、４量体及び８量体オリゴマ
ー（５′−ＵｐＣｐＡｐＧｐＵｐＵｐＧｐＧ−３′）を
濃アンモニア水：エタノール＝１：１中室温６時間放置
を行い、オリゴマーを担体から遊離させた後Ｃ１８ＥＮ
ＶＩＲＯＮ−ＭＥＮＴＡＬ ＣＡＲＴＲＩＥＳ（Ｗａｔ
ｅｒｓ社製）を用いてＣＰＧの残渣を取り除き濃縮後乾
燥を施してから滅菌水に溶解させＣ−１８逆相ＨＰＬＣ
により精製を行いそれぞれ目的とするオリゴマーを得
た。
【００６６】実施例２１ 糖部水酸基保護基の除去（ウ
リジル酸２量体、４量体及び８量体オリゴマー（５′−
ＵｐＣｐＡｐＧｐＵｐＵｐＧｐＧ−３′） 上記の操作により得られたウリジル酸２量体、４量体及
び８量体オリゴマー（５′−ＵｐＣｐＡｐＧｐＵｐＵｐ
ＧｐＧ−３′）には２′位水酸基に保護基が導入されて
いるためその除去を行った。ｐＨ＝２塩酸中室温下２４
時間放置し、５′位末端のウリジンのＤＭＴｒ基及び、
全ての２′位水酸基のＴｈｐ基の除去を行った後、０．
２Ｍアンモニア水で中和をし、濃縮、凍結乾燥後滅菌水
に溶解し、Ｃ−１８逆相ＨＰＬＣにより精製を行い全て
の保護基が除去されたウリジル酸２量体、４量体及び８
量体を得ることができた。
リジル酸２量体、４量体及び８量体オリゴマー（５′−
ＵｐＣｐＡｐＧｐＵｐＵｐＧｐＧ−３′） 上記の操作により得られたウリジル酸２量体、４量体及
び８量体オリゴマー（５′−ＵｐＣｐＡｐＧｐＵｐＵｐ
ＧｐＧ−３′）には２′位水酸基に保護基が導入されて
いるためその除去を行った。ｐＨ＝２塩酸中室温下２４
時間放置し、５′位末端のウリジンのＤＭＴｒ基及び、
全ての２′位水酸基のＴｈｐ基の除去を行った後、０．
２Ｍアンモニア水で中和をし、濃縮、凍結乾燥後滅菌水
に溶解し、Ｃ−１８逆相ＨＰＬＣにより精製を行い全て
の保護基が除去されたウリジル酸２量体、４量体及び８
量体を得ることができた。
【００６７】実施例２２ 電気泳動 ２０％ポリアクリルアミド−７Ｍ尿素ゲルを用いて、上
記の操作により得られた８量体オリゴマー（５′−Ｕｐ
ＣｐＡｐＧｐＵｐＵｐＧｐＧ−３′）の電気泳動をブロ
ムフェノールブルー（ＢＰＢ）及びキシレンシアノール
ＦＦ（ＸＣ）をマーカーとして行った。この電気泳動に
より明確なバンドが得られている。また、これらは既知
のオリゴマーと完全に一致した。
記の操作により得られた８量体オリゴマー（５′−Ｕｐ
ＣｐＡｐＧｐＵｐＵｐＧｐＧ−３′）の電気泳動をブロ
ムフェノールブルー（ＢＰＢ）及びキシレンシアノール
ＦＦ（ＸＣ）をマーカーとして行った。この電気泳動に
より明確なバンドが得られている。また、これらは既知
のオリゴマーと完全に一致した。
【００６８】
【発明の効果】現在、最も一般的に行われているオリゴ
リボヌクレオチドの合成法は、自動合成装置による５′
−Ｏ−（４，４′−ジメトキシトリチル）−２′−Ｏ−
ｔ−ブチルジメチルシリルリボヌクレオシド ３′−ホ
スホロアミダイト誘導体を用いた固相法（ホスホロアミ
ダイト法）であるが、２′位水酸基の保護基に用いられ
ているｔ−ブチルジメチルシリル基が、２′位水酸基へ
高選択的に導入できないこと、その嵩高さがオリゴマー
鎖伸張反応の縮合率に影響を与えること、さらに合成オ
リゴマーの鎖長が長くなるにつれて除去し難くなるとい
う問題点を有している。
リボヌクレオチドの合成法は、自動合成装置による５′
−Ｏ−（４，４′−ジメトキシトリチル）−２′−Ｏ−
ｔ−ブチルジメチルシリルリボヌクレオシド ３′−ホ
スホロアミダイト誘導体を用いた固相法（ホスホロアミ
ダイト法）であるが、２′位水酸基の保護基に用いられ
ているｔ−ブチルジメチルシリル基が、２′位水酸基へ
高選択的に導入できないこと、その嵩高さがオリゴマー
鎖伸張反応の縮合率に影響を与えること、さらに合成オ
リゴマーの鎖長が長くなるにつれて除去し難くなるとい
う問題点を有している。
【００６９】本発明で開示した２−（レブリニルオキシ
メチル）ベンゾイル基は、上記説明してきたように、こ
れらの問題を全て解決し、この保護基の導入されたヌク
レオシド誘導体も含め、オリゴリボヌクレオチド類の合
成に際し、有用な方法を提供するものである。更に、Ｄ
ＮＡ型オリゴマーの化学合成において、デプリネーショ
ン、すなわちＤＭＴｒ基を除去する際の酸性条件下アデ
ニル酸ユニットからの複素環部の脱落が問題として指摘
されているが、この問題も一挙に解決されたものと考え
られる。これらの結果、実施例で具体的に詳しく説明し
たように、従来法に比べ、容易にかつ効率的にオリゴヌ
クレオチド類の製造が可能となった。
メチル）ベンゾイル基は、上記説明してきたように、こ
れらの問題を全て解決し、この保護基の導入されたヌク
レオシド誘導体も含め、オリゴリボヌクレオチド類の合
成に際し、有用な方法を提供するものである。更に、Ｄ
ＮＡ型オリゴマーの化学合成において、デプリネーショ
ン、すなわちＤＭＴｒ基を除去する際の酸性条件下アデ
ニル酸ユニットからの複素環部の脱落が問題として指摘
されているが、この問題も一挙に解決されたものと考え
られる。これらの結果、実施例で具体的に詳しく説明し
たように、従来法に比べ、容易にかつ効率的にオリゴヌ
クレオチド類の製造が可能となった。
Claims (5)
- 【請求項１】 下記化１に示される式（１）を有する２
−（レブリニルオキシメチル）安息香酸およびその塩。 【化１】 - 【請求項２】 下記化２に示される一般式（２）を有す
る５′−Ｏ−｛２−（レブリニルオキシメチル）ベンゾ
イル｝ヌクレオシド誘導体。（式中、Ｂは核酸塩基また
は保護基が導入された核酸塩基を表わし、Ｒは水素原子
または保護基が導入された水酸基を表わす。） 【化２】 - 【請求項３】 脱水縮合剤の存在下、式（１）で表され
る２−（レブリニルオキシメチル）安息香酸と下記化３
に示される一般式（３）を有するヌクレオシド誘導体
（式中、ＢおよびＲは、先に定義したものと同義）とを
反応させることを特徴とする一般式（２）で表される
５′−Ｏ−｛２−（レブリニルオキシメチル）ベンゾイ
ル｝ヌクレオシド誘導体の製造方法。 【化３】 - 【請求項４】 下記化４に示される一般式（４）を有す
る５′−Ｏ−｛２−（レブリニルオキシメチル）ベンゾ
イル｝ヌクレオシド ３′−（２−シアノエチル）−
Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミダイト誘導体。
（式中、ＢおよびＲは、先に定義したものと同義） 【化４】 - 【請求項５】 固相ホスホロアミダイト法を用いたヌク
レオチドオリゴマー合成の際、アミダイトユニットとし
て、一般式（４）で表されるホスホロアミダイト誘導体
を用いることを特徴とするオリゴヌクレオチドの製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7247031A JPH0967391A (ja) | 1995-09-01 | 1995-09-01 | 新規修飾ヌクレオシドおよびその製造法 さらにはそれを用いたオリゴヌクレオチ ド類の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7247031A JPH0967391A (ja) | 1995-09-01 | 1995-09-01 | 新規修飾ヌクレオシドおよびその製造法 さらにはそれを用いたオリゴヌクレオチ ド類の製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0967391A true JPH0967391A (ja) | 1997-03-11 |
Family
ID=17157386
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7247031A Pending JPH0967391A (ja) | 1995-09-01 | 1995-09-01 | 新規修飾ヌクレオシドおよびその製造法 さらにはそれを用いたオリゴヌクレオチ ド類の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0967391A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006027862A1 (ja) * | 2004-09-07 | 2006-03-16 | Gifu University | ヌクレオシド類似体、およびそれを含むオリゴヌクレオチド類似体 |
-
1995
- 1995-09-01 JP JP7247031A patent/JPH0967391A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006027862A1 (ja) * | 2004-09-07 | 2006-03-16 | Gifu University | ヌクレオシド類似体、およびそれを含むオリゴヌクレオチド類似体 |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060606 |
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| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20061031 |