JPH0964276A - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置

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Publication number
JPH0964276A
JPH0964276A JP21575195A JP21575195A JPH0964276A JP H0964276 A JPH0964276 A JP H0964276A JP 21575195 A JP21575195 A JP 21575195A JP 21575195 A JP21575195 A JP 21575195A JP H0964276 A JPH0964276 A JP H0964276A
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JP
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circuit
resistor
semiconductor
digital circuit
analog circuit
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JP21575195A
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Yasuhide Katagase
康英 片ヶ瀬
Chikara Tsuchiya
主税 土屋
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Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 半導体装置に関し、既存の接合容量を使用し
てフィルタ回路を構成し、デジタル回路からアナログ回
路へノイズが伝搬しないようにする。 【構成】 p型のSi基板14上で素子分離層16によ
って絶縁された複数のn型のウエル層15A〜15Cと、n
型のウエル層15Aに形成されたアナログ回路11と、n
型のウエル層15Bに形成された負荷抵抗12と、n型の
ウエル層15Cに形成されたデジタル回路13と、一端を
デジタル回路13の電源線VSSに接続し、かつ、他端を
アナログ回路11の電源線VCC及びn型のウエル層15
A,15Bに接続した抵抗18と、この抵抗18に接続し
たn型のウエル層15A,15B…と該ウエル層15A,15B
…の素子分離層16との間に生じる容量Cとを備えてい
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、携帯電子機器に実装さ
れるようなデジタル回路とアナログ回路とを混在した半
導体装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】近年、ノートブックパソコンやビデオレ
コーダ等の携帯電子機器が多く使用されている。携帯電
子機器はバッテリーで駆動するため、消費電流の少ない
ICが要求されている。電力の低消費化のためには、電
源端子から内部回路を見た電源入力インピーダンスを高
くする必要がある。
【0003】しかし、デジタル回路とアナログ回路とを
混在した半導体装置では電源入力インピーダンスをあま
り高くすると、デジタル回路で発生したノイズがアナロ
グ回路に伝搬して動作が不安定になることがある。図4
は従来例に係るアナログ−デジタル回路混在ICの構成
図である。図4において、1はアナログ信号処理用のコ
ンパレータやオペアンプ等のアナログ回路である。アナ
ログ回路1は、例えば、p型Si基板4上のn型ウエル
層(島)5Aに形成されている。また、n型ウエル層5
Aは素子を絶縁するために回路の最高電位たる電源線V
CCに接続されるか、又は、動作上適切な電位にバイアス
されている。
【0004】2はアナログ回路の出力信号を取り出すた
めの負荷抵抗である。負荷抵抗2は、例えば、p型の拡
散層から成り、同一のSi基板4上のn型ウエル層5B
に形成されている。ここでも、n型ウエル層5Bは素子
を絶縁するために電源線VCCに接続されている。3はデ
ジタル信号を取り扱うインバータや論理回路等のデジタ
ル回路である。デジタル回路3は、同一のSi基板4上
のn型ウエル層5Cに形成されている。ここでも、n型
ウエル層5Cは素子を絶縁するために電源線VCCに接続
されている。
【0005】なお、各n型ウエル層5A〜5Cはp型の
素子分離層6によって絶縁されており、電源線VCCは電
源パッドを少なくするために、デジタル回路3からアナ
ログ回路1へ連続して配線されている。ところで、従来
例の電源入力インピーダンスの低いアナログ−デジタル
回路混在ICでは電流を多く消費していた。このような
ICをバッテリーで駆動する携帯電子機器に使用する
と、電子機器の使用継続時間が短くなるため好ましくな
い。そこで、電力の低消費化を図るために、電源端子か
ら内部回路を見た電源入力インピーダンスを高くしてい
る。これによって、ICの消費電流が数10μAから数
μAに絞り込まれている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、電源入
力インピーダンスをあまり高くすると、デジタル回路2
からアナログ回路1へノイズが伝搬するという問題があ
る。図5(A)において、7はアナログ−デジタル回路
混在ICと外部端子を接続するボンディングワイヤであ
り、8は電源線VCCに接続された外付け用の容量(パス
コン)である。ノイズはデジタル回路2の電源線VCCか
らアナログ回路1の電源線VCCへ伝搬するリンギング
(振動性過渡現象)によって発生する。
【0007】このリンギングは素子定数にもよるが周波
数が数100 MHzにも達し、図5(B)に示すようなボ
ンディングワイヤ7によるインダクタンス(コイル成
分)Lと、パスコン8の容量Cpと、デジタル回路2の
トランジスタのオン抵抗Rtによって、(1)式のよう
な周波数fを与えるものである。 f=1/(2π√L/Cp)…(1) このリンギングは、デジタル回路2の出力遷移時に、パ
スコン8に貫通電流が流れることにより、アナログ回路
1の電源線VCCを変動させるので、アナログ回路1のn
型ウエル層5Aや負荷抵抗2のn型ウエル層5Bの電位
を変動させてしまい、コンパレータやオペアンプ等のア
ナログ回路1の出力を変動させるものとなる。特に、コ
ンパレータに基準電圧を供給するリファレンス回路が、
この電源線VCCに接続されていると、このリンギングが
波及することで、基準電圧が変動し、コンパレータの出
力を大きく変化させてしまう。このようなことがアナロ
グ回路1の誤動作や特性劣化の原因となる。
【0008】なお、特開昭61−224348の半導体
集積回路装置には、コンデンサの電極の一方にパッドを
利用したものが記載されているが、大きな容量を得るこ
とができない。特開昭61−199653の増幅器に
は、外付けのコンデンサと、島(ウエル層)に形成した
抵抗からフィルタを構成するものが記載されているが、
容量を外付けとしなくてはならい。特開平3−1310
61の入力回路には、外来入力ノイズを除去するフィル
タが記載されているが、デジタル回路で発生したノイズ
を除去するものではない。
【0009】本発明は、かかる従来例の問題点に鑑み創
作されたものであり、既存の接合容量を巧く使用してフ
ィルタ回路を構成し、デジタル回路からアナログ回路へ
ノイズが伝搬しないようにすることが可能となる半導体
装置の提供を目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明の第1の半導体装
置は、その実施例を図1に示すように、一導電型の半導
体基板上で素子分離層によって絶縁された複数の半導体
層と、前記半導体層でアナログ回路を形成したアナログ
回路と、前記半導体層でデジタル回路を形成したデジタ
ル回路と、一端を前記デジタル回路の電源線に接続し、
かつ、他端を前記アナログ回路の電源線及び1以上の前
記半導体層に接続した抵抗と、前記抵抗に接続した半導
体層と該半導体層の素子分離層との間に生じる容量とを
備えていることを特徴とする。
【0011】本発明の第2の半導体装置は、その実施例
を図3(A)に示すように一導電型の半導体基板上で素
子分離層によって絶縁された複数の半導体層と、前記半
導体層に設けられたアナログ回路と、前記半導体層に設
けられたデジタル回路と、コレクタを前記デジタル回路
の電源線に接続し、かつ、エミッタを前記アナログ回路
の電源線に接続したバイポーラトランジスタと、一端を
前記バイポーラトランジスタのベースと、1以上の前記
半導体層とに接続し、かつ、他端を前記デジタル回路の
電源線に接続した抵抗と、前記抵抗に接続した半導体層
と該半導体層の素子分離層との間に生じる容量とを備え
ていることを特徴とする。
【0012】本発明の第3の半導体装置は、その実施例
を図3(B)に示すように一導電型の半導体基板上で素
子分離層によって絶縁された複数の半導体層と、前記半
導体層に設けられたアナログ回路と、前記半導体層に設
けられたデジタル回路と、ドレインを前記デジタル回路
の電源線に接続し、かつ、ソースを前記アナログ回路の
電源線に接続した電界効果トランジスタと、一端を前記
電界効果トランジスタのゲートと1以上の前記半導体層
とに接続し、かつ、他端を前記デジタル回路の電源線に
接続した抵抗と、前記抵抗に接続した半導体層と該半導
体層の素子分離層との間に生じる容量とを備えているこ
とを特徴とする。
【0013】本発明の第4の半導体装置は第2及び第3
の半導体装置において、前記バイポーラトランジスタ又
は電界効果トランジスタをダーリントン接続することを
特徴とする(図3(C)参照)。本発明の第1〜第4の
半導体装置において、前記容量は電源配線下の半導体層
に使用することを特徴とし、上記目的を達成する。
【0014】
【作 用】本発明の第1の半導体装置では、アナログ回
路の電源線とデジタル回路の電源線との間に接続した抵
抗と、この抵抗に接続した他の半導体層と素子分離層と
の間に寄生する容量からフィルタ回路が構成できるの
で、デジタル回路からアナログ回路へ電源線を介して伝
搬しようとするノイズがこのフィルタ回路によって阻止
できる。
【0015】このときのノイズカット周波数fcは、容
量をC、抵抗をRとすると、 fc=1/(2πR・C)…(2) である。従って、携帯電子機器等において、消費電流の
低減ためにデジタル回路やアナログ回路等の電源入力イ
ンピーダンスを高くした場合であっても、既存の寄生容
量を使用してノイズフィルタ回路を構成することができ
るので、デジタル回路で発生したノイズがこのフィルタ
回路によって十分に減衰でき、アナログ回路にはフィル
タ回路を通した極めて変動の少ない電圧が供給できる。
【0016】本発明の第2の半導体装置では、アナログ
回路の電源線とデジタル回路の電源線との間に接続され
たバイポーラトランジスタと、このトランジスタのベー
スに接続された抵抗と、この抵抗に接続された他の半導
体層と素子分離層との間に生じる容量からフィルタ回路
が構成できる。また、バイポーラトランジスタの電流増
幅率β(hfe)によって、ベース電流を増幅できるの
で、既存の寄生容量が小さな場合であっても、大きな時
定数が得られるノイズフィルタ回路を構成することがで
きるので、このフィルタ回路によって、デジタル回路か
らアナログ回路に電源線を介して伝搬しようとするノイ
ズが十分に減衰でき、安定した電圧がアナログ回路に供
給できる。
【0017】本発明の第3の半導体装置では電界効果ト
ランジスタよって、第2の半導体装置と同様に時定数を
大きくできるので、既存の寄生容量が小さな場合であっ
ても、ノイズが十分に減衰でき、安定した電圧がアナロ
グ回路に供給できる。本発明の第4の半導体装置では、
本発明の第2及び第3の半導体装置において、トランジ
スタをダーリントン接続することで、小さい容量でノイ
ズフィルタが構成できるし、ノイズカット周波数が高く
設定できる。
【0018】また、本発明の第1〜第4の半導体装置に
おいて、通常、受動素子や能動素子が設けられたいない
電源配線下の半導体層と素子分離層との間の容量を使用
すれば、更に半導体チップを無駄なく利用できる。
【0019】
【実施例】次に、図を参照しながら本発明の実施例につ
いて説明をする。図1〜3は、本発明の実施例に係る半
導体装置の説明図である。 (1)第1の実施例の説明 図1は、本発明の第1の実施例に係るアナログ−デジタ
ル回路混在ICの構成図を示している。図1において、
11はn型ウエル層(島)15Aに形成されたアナログ回
路である。アナログ回路11はバイポーラトランジスタ
から成り、アナログ信号を取り扱うコンパレータやオペ
アンプ等であり、コンパレータに基準電圧を供給するリ
ファレンス回路も対象となる。n型ウエル層15Aはp型
Si基板(一導電型の半導体基板)14上でp型の素子
分離層16によって絶縁されている。
【0020】なお、バイポーラトランジスタの場合に
は、n型ウエル層15AをSi(シリコン)のエピタキシ
ャル成長によって形成する。n型ウエル層15Aは素子を
絶縁するためにアナログ回路11の最高電位となる電源
線VCCに接続されている。n型ウエル層15Aとp型Si
基板14との間には接合破壊を防止するために、n+
の埋め込み層17Aが設けられている。MOS(電界効
果)トランジスタの場合には、Si基板に不純物を拡散
して形成する。埋め込み層は形成されない。
【0021】12は同一のSi基板14上のn型ウエル
層15Bに形成された抵抗であり、アナログ回路11の負
荷として出力信号を取り出したり、その他のバイアス素
子として使用されている。負荷抵抗12は、例えば、p
型の拡散層から成る。n型ウエル層15Bは素子を絶縁す
るために電源線VCCに接続されている。n型ウエル層15
Aとp型Si基板14との間には接合破壊を防止するた
めに、n+ 型の埋め込み層17Bが設けられたいる。
【0022】13は同一のSi基板14上のn型ウエル
層15Cに形成されたデジタル回路である。デジタル回路
13はデジタル信号を取り扱うインバータや論理回路等
である。ここでも、n型ウエル層15Cは素子を絶縁する
ためにデジタル回路13の最高電位となる電源線VDDに
接続されている。n型ウエル層15Cとp型Si基板14
との間には接合破壊を防止するために、n+ 型の埋め込
み層17Cが設けられたいる。なお、各n型ウエル層15A
〜15Cはp型の素子分離層16によって絶縁されてい
る。
【0023】18は一端をデジタル回路13の電源線V
DDに接続し、他端をアナログ回路11の電源線VCC及び
n型ウエル層15A,15Bに接続した抵抗である。抵抗1
8はポリシリコン配線や拡散層から形成する。抵抗18
は後述するpn接合容量と共にノイズフィルタ回路を構
成する。また、抵抗18はアナログ回路11の動作に影
響しない範囲で、電圧降下が得られるような大きな値に
設定すると良い。
【0024】Cは抵抗18に接続したn型ウエル層15
A,15Bと、その素子分離層16との間にそれぞれ生じ
るpn接合(ダイオード)容量である。この容量Cは図
2(A)において、基板14に接合された素子分離層1
6を接地線GNDに接続し、n型ウエル層15Bを電源線V
CCに接続すると、空乏層が拡がって発生するものであ
る。この容量CにはMOSトランジスタのバックゲート
層と素子分離層、バイポーラトランジスタのコレクタ層
と素子分離層や負荷抵抗12のウエル層と素子分離層と
の間に寄生するものが利用できる。
【0025】また、本発明には、電源パッドを少なくす
るために、図2(B)に示すように、電源線VCCをデジ
タル回路13を経由してアナログ回路11へ抵抗Rを介
して連続して配線する第1の方法と、図2(C)に示す
ように電源パッドの所で、デジタル回路13への電源線
VDDとアナログ回路11への電源線VCCとに分け、アナ
ログ回路11への電源線VCCを抵抗Rを介して配線する
第2の方法とを含んでいる。ここで従来例と異なるの
は、アナログ回路11とデジタル回路13の電源線VC
C,VDDとの間に抵抗18が介在された点である。
【0026】次に、図2(B)を参照しながら本発明の
第1の実施例に係るアナログ−デジタル回路混在ICの
ノイズフィルタ回路について説明をする。図2(B)に
おいて、10は抵抗18及び容量Cから成るノイズフィ
ルタ回路である。このようなフィルタ回路10は、図1
で説明したように、デジタル回路13の電源線VDDに抵
抗18の一端を接続し、この抵抗18の他端をアナログ
回路11や負荷抵抗12のnウエル層15A,15Bと、こ
のアナログ回路11の電源線VCCとに接続することによ
り構成することができる。
【0027】このノイズフィルタ回路10は従来例で説
明したような周波数100MHz程度のリンギングが電
源線VDDに生じても、このリンギングによるノイズがカ
ットできる。このときのノイズカット周波数fcは
(2)式に示した通りであり、容量Cが数十pF程度で
あれば、抵抗18を数百Ω程度に設定すると良い。この
ようにして本発明の第1の実施例に係るアナログ−デジ
タル回路混在ICでは、アナログ回路11の電源線VCC
とデジタル回路13の電源線VDDとの間に接続した抵抗
18と、この抵抗18に接続したn型ウエル層15A,15
Bと素子分離層16との間に生じる容量Cから、図2
(B)や(C)に示したようなフィルタ回路10が構成
できるので、デジタル回路13からアナログ回路11へ
伝搬しようとするノイズをこのフィルタ回路10によっ
て除くことができる。
【0028】このため、アナログ回路11の電源線VCC
の電圧変動が抑えられるので、アナログ回路11のn型
ウエル層15Aや負荷抵抗12のn型ウエル層15Bの電位
が安定し、コンパレータやオペアンプ等のアナログ回路
11の出力変動が抑えられる。特に、リファレンス回路
からコンパレータへ安定した基準電圧が供給できるの
で、コンパレータの出力が安定する。
【0029】従って、消費電流の低減ためにアナログ回
路11やデジタル回路13等の電源入力インピーダンス
を高くし、この回路の消費電流を数十μAから数μAに
絞り込んだ場合であっても、既存の寄生容量Cを使用し
たフィルタ回路10によってリンギングによるノイズを
十分に減衰でき、図2(B)に示すようにデジタル回路
13から抵抗18を介してアナログ回路11へ安定した
電圧が供給できる。また、図2(C)に示すようにパッ
ドから抵抗18を介してアナログ回路11へ安定した電
圧が供給できる。
【0030】このようなICをバッテリーで駆動する携
帯電子機器に使用すれば、電力の低消費化が図られ、電
子機器の使用継続時間が長くできる点で非常に好まし
い。なお、容量Cにはn型のウエル層(島)15Aや15B
を使用するため、新たな拡散あるいは容量Cのための領
域を別段必要としないので安価に実現できる。 (2)第2の実施例の説明 図3(A)は、本発明の第2の実施例に係るアナログ−
デジタル回路混在ICの構成図を示している。第2の実
施例では第1の実施例と異なり、ノイズフィルタ回路に
トランジスタが設けられるものである。
【0031】図3(A)において、20はデジタル回路
11で発生したノイズを阻止するノイズフィルタ回路で
あり、バイポーラトランジスタQと、抵抗Rと、寄生容
量Cから成る。トランジスタQはコレクタがデジタル回
路13の電源線VDDに接続され、そのエミッタがアナロ
グ回路11の電源線VCCに接続され、そのベースが抵抗
Rの一端と寄生容量Cの一端に接続されている。抵抗R
の他端は電源線VDDに接続され、寄生容量Cの他端は接
地線GNDに接続されている。なお、寄生容量Cは第1の
実施例と同様に、n型ウエル層15Aや15Bと素子分離層
16との間に生じたものを使用している。アナログ回路
11及びデジタル回路13については第1の実施例と同
様であるため、その説明を省略する。
【0032】このようにして、本発明の第2の実施例に
係るアナログ−デジタル回路混在ICでは、アナログ回
路11の電源線VCCとデジタル回路13の電源線VDDと
の間に接続されたバイポーラトランジスタQと、このト
ランジスタQのベースに接続された抵抗Rと、この抵抗
Rに接続された寄生容量Cからフィルタ回路20が構成
できる。
【0033】また、ノイズフィルタ回路20はトランジ
スタQの電流増幅率によって、ベース電流を増幅できる
ので、寄生容量Cが小さな場合であっても、時定数が大
きくできる。したがって、このフィルタ回路20によっ
て、第1の実施例と同様にデジタル回路13からアナロ
グ回路11に伝搬しようとするノイズが十分に減衰で
き、安定した電圧がアナログ回路11に供給できる。
【0034】(3)第3の実施例の説明 図3(B)は、本発明の第3の実施例に係るアナログ−
デジタル回路混在ICの構成図を示している。第3の実
施例では第2の実施例と異なり、ノイズフィルタ回路に
電界効果トランジスタが設けられるものである。図3
(B)において、30はデジタル回路11で発生したノ
イズを阻止するノイズフィルタ回路であり、n型の電界
効果トランジスタTと、抵抗Rと、寄生容量Cから成
る。トランジスタTはドレインがデジタル回路13の電
源線VDDに接続され、そのソースがアナログ回路11の
電源線VCCに接続され、そのゲートが抵抗Rの一端と寄
生容量Cの一端に接続されている。p型の電界効果トラ
ンジスタTを使用する場合にはソース・ドレインの接続
が反対になる。
【0035】抵抗Rの他端は電源線VDDに接続され、寄
生容量Cの他端は接地線GNDに接続されている。なお、
寄生容量Cは第1の実施例と同様に、n型ウエル層15A
や15Bと素子分離層16との間に生じたものを使用して
いる。アナログ回路11及びデジタル回路13について
は第1の実施例と同様であるため、その説明を省略す
る。
【0036】このようにして、本発明の第3の実施例に
係るアナログ−デジタル回路混在ICでは、アナログ回
路11の電源線VCCとデジタル回路13の電源線VDDと
の間に接続された電界効果トランジスタTと、このトラ
ンジスタTのゲートに接続された抵抗Rと、この抵抗R
に接続された寄生容量Cからフィルタ回路30が構成で
きる。
【0037】また、ノイズフィルタ回路30はトランジ
スタTによって、ゲート電流を増幅できるので、寄生容
量Cが小さな場合であっても、第2の実施例と同様に時
定数が大きくできる。したがって、このフィルタ回路3
0によって、第1及び第2の実施例と同様にデジタル回
路13からアナログ回路11に伝搬しようとするノイズ
が十分に減衰でき、安定した電圧がアナログ回路11に
供給できる。
【0038】(4)第4の実施例の説明 図3(C)は、本発明の第4の実施例に係るアナログ−
デジタル回路混在ICの構成図を示している。第4の実
施例では第2の実施例と異なり、ノイズフィルタ回路の
トランジスタがダーリントン接続されるものである。図
3(C)において、40はデジタル回路11で発生した
ノイズを阻止するノイズフィルタ回路であり、バイポー
ラトランジスタQ1,Q2と、抵抗Rと、寄生容量Cか
ら成る。トランジスタQ1のコレクタはデジタル回路1
3の電源線VDDに接続され、そのエミッタがアナログ回
路11の電源線VCCに接続され、そのベースがトランジ
スタQ2のエミッタに接続されている。
【0039】トランジスタQ2のコレクタはデジタル回
路13の電源線VDDに接続され、そのベースが抵抗Rの
一端と寄生容量Cの一端に接続されている。抵抗Rの他
端は電源線VDDに接続され、寄生容量Cの他端は接地線
GNDに接続されている。なお、寄生容量Cは第1の実施
例と同様に、n型ウエル層15Aや15Bと素子分離層16
との間に生じたものを使用している。アナログ回路11
及びデジタル回路13については第1の実施例と同様で
あるため、その説明を省略する。
【0040】このようにして、本発明の第4の実施例に
係るアナログ−デジタル回路混在ICでは、アナログ回
路11の電源線VCCとデジタル回路13の電源線VDDと
の間にダーリントン接続されたバイポーラトランジスタ
Q1,Q2と、このトランジスタQ2のベースに接続さ
れた抵抗Rと、この抵抗Rに接続された寄生容量Cから
フィルタ回路40が構成できる。
【0041】また、ノイズフィルタ回路40はトランジ
スタQ1,Q2の電流増幅率によって、第2の実施例に
比べてベース電流を更に増幅できるので、寄生容量Cが
小さな場合であっても、時定数が大きくできる。先の
(2)式で、容量Cを小さくすることができ、ノイズカ
ット周波数が更に高く設定できる。したがって、このフ
ィルタ回路40によって、第1〜第3の実施例と同様に
デジタル回路13からアナログ回路11に伝搬しようと
するノイズが十分に減衰でき、安定した電圧がアナログ
回路11に供給できる。
【0042】なお、ダーリントン接続するトランジスタ
は電界効果トランジスタでも良い。また、本発明の第1
〜第4の実施例において、トランジスタや抵抗が設けら
れたいない電源配線下のn型ウエル層と素子分離層との
間の容量を使用すれば、更に半導体チップが無駄なく利
用できる。
【0043】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の半導体装
置ではアナログ回路の電源線とデジタル回路の電源線と
の間に接続した抵抗と、この抵抗に接続した他の半導体
層と素子分離層との間に寄生する容量からフィルタ回路
が構成できる。また、本発明の他の半導体装置では、バ
イポーラトランジスタや電界効果トランジスタによっ
て、寄生容量が小さな場合であっても、大きな時定数が
得られるノイズフィルタ回路が構成できる。
【0044】これらのノイズフィルタ回路によって、デ
ジタル回路からアナログ回路へ伝搬しようとするノイズ
が阻止できるので、アナログ回路に安定した電圧が供給
できる。本発明の他の半導体装置では、ダーリントン接
続したトランジスタによって、小さい容量でノイズフィ
ルタが構成できる。また、ノイズカット周波数が高く設
定できる。また、電源配線下の半導体層と素子分離層と
の間の容量を使用することで、半導体チップを無駄なく
利用できる。
【0045】これにより、消費電流が少ない携帯電子機
器向けのアナログ−デジタル回路混在ICの提供に寄与
するところが大きい。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の各実施例に係るアナログ−デジタル回
路混在ICの構成図である。
【図2】本発明の第1の実施例に係るフィルタ回路の構
成図である。
【図3】本発明の他の実施例に係るフィルタ回路の構成
図である。
【図4】従来例に係るアナログ−デジタル回路混在IC
の構成図である。
【図5】従来例に係るリンギングを説明する回路図であ
る。
【符号の説明】
10〜40…ノイズフィルタ回路、1,11…アナログ
回路、2,12…負荷抵抗、3,13…デジタル回路、
4,14…p型Si基板、7…ボンディングワイヤ、8
…外付け容量、5A,5B,5C,15A,15B,15C…
n型のウエル層、6,16…素子分離層、17A,17B,
17C…n+ 埋め込み層、18,R…抵抗。

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 一導電型の半導体基板上で素子分離層に
    よって絶縁された複数の半導体層と、 前記半導体層に設けられたアナログ回路と、 前記半導体層に設けられたデジタル回路と、 一端を前記デジタル回路の電源線に接続し、かつ、他端
    を前記アナログ回路の電源線及び1以上の前記半導体層
    に接続した抵抗と、 前記抵抗に接続した半導体層と該半導体層の素子分離層
    との間に生じる容量とを備えていることを特徴とする半
    導体装置。
  2. 【請求項2】 一導電型の半導体基板上で素子分離層に
    よって絶縁された複数の半導体層と、 前記半導体層に設けられたアナログ回路と、 前記半導体層に設けられたデジタル回路と、 コレクタを前記デジタル回路の電源線に接続し、かつ、
    エミッタを前記アナログ回路の電源線に接続したバイポ
    ーラトランジスタと、 一端を前記バイポーラトランジスタのベースと、1以上
    の前記半導体層とに接続し、かつ、他端を前記デジタル
    回路の電源線に接続した抵抗と、 前記抵抗に接続した半導体層と該半導体層の素子分離層
    との間に生じる容量とを備えていることを特徴とする半
    導体装置。
  3. 【請求項3】 一導電型の半導体基板上で素子分離層に
    よって絶縁された複数の半導体層と、 前記半導体層に設けられたアナログ回路と、 前記半導体層に設けられたデジタル回路と、 ドレインを前記デジタル回路の電源線に接続し、かつ、
    ソースを前記アナログ回路の電源線に接続した電界効果
    トランジスタと、 一端を前記電界効果トランジスタのゲートと1以上の前
    記半導体層とに接続し、かつ、他端を前記デジタル回路
    の電源線に接続した抵抗と、 前記抵抗に接続した半導体層と該半導体層の素子分離層
    との間に生じる容量とを備えていることを特徴とする半
    導体装置。
  4. 【請求項4】 前記バイポーラトランジスタ又は電界効
    果トランジスタをダーリントン接続することを特徴とす
    る請求項2及び請求項3記載のいずれかの半導体装置。
  5. 【請求項5】 前記容量は電源配線下の半導体層に使用
    することを特徴とする請求項1、請求項2、請求項3及
    び請求項4記載のいずれかの半導体装置。
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