JPH0959218A - Ｌ−乳酸オリゴマー誘導体 - Google Patents
Ｌ−乳酸オリゴマー誘導体Info
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- JPH0959218A JPH0959218A JP7217345A JP21734595A JPH0959218A JP H0959218 A JPH0959218 A JP H0959218A JP 7217345 A JP7217345 A JP 7217345A JP 21734595 A JP21734595 A JP 21734595A JP H0959218 A JPH0959218 A JP H0959218A
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- compound
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- lactic acid
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- ethyl acetate
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Agricultural Chemicals And Associated Chemicals (AREA)
- Polyesters Or Polycarbonates (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 純粋な化合物として得ることのできる新規な
Ｌ−乳酸オリゴマー誘導体を提供する。 【解決手段】 Ｌ−乳酸オリゴマー誘導体は、下記一般
式(I) で示される。 【化１】 ここで、Ｒ1 は、Ｈ、アルキル基、アリール基、アシル
基またはシリル基を示し、Ｒ2 は、Ｈ、アルキル基また
はアリール基を示し、ただしＲ1 およびＲ2 が共にＨと
なることはなく、ｎは、０〜２０の整数を示す。
Ｌ−乳酸オリゴマー誘導体を提供する。 【解決手段】 Ｌ−乳酸オリゴマー誘導体は、下記一般
式(I) で示される。 【化１】 ここで、Ｒ1 は、Ｈ、アルキル基、アリール基、アシル
基またはシリル基を示し、Ｒ2 は、Ｈ、アルキル基また
はアリール基を示し、ただしＲ1 およびＲ2 が共にＨと
なることはなく、ｎは、０〜２０の整数を示す。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、新規なＬ−乳酸オ
リゴマー誘導体に関するものである。
リゴマー誘導体に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】乳酸の植物に対する成長促進効果は、人
参カルスを用いた実験で１９２４年に初めて報告された
（Blumenthal F and Meyer P (1924) Uber durch Acidu
m lacticum erzeugte Tumoren auf Mohrrubenscheiben.
Z.f.Kregsg.21:250-252. ）。また、他の植物、すなわ
ちマリーゴールド、ひまわり、さとうきびについても実
験が行なわれ、乳酸の成長促進効果が認められた（Hild
ebrandt AC, Rikker AJand Watertor JI (1954) Growth
and Inhibition of tissue cultures on mediawith di
fferent concentration of organic acids. Phytopatho
logy 44:422-428.）。そして、乳酸水溶液中には乳酸オ
リゴマーが混在していることから、その活性の本体を調
べるために活発に研究が行われ、植物成長促進作用物質
の本体は乳酸単量体ではなく、Ｌ−乳酸のオリゴマーで
あることが明らかにされた（AlanM.Kinnersley, Taylor
C.Scott III, John H.Yopp and Gerge H.Whitten(199
0)Promotion of plant growth by polymers of lactic
acid. Plant Growth Regulation 9:137-146. ）。
参カルスを用いた実験で１９２４年に初めて報告された
（Blumenthal F and Meyer P (1924) Uber durch Acidu
m lacticum erzeugte Tumoren auf Mohrrubenscheiben.
Z.f.Kregsg.21:250-252. ）。また、他の植物、すなわ
ちマリーゴールド、ひまわり、さとうきびについても実
験が行なわれ、乳酸の成長促進効果が認められた（Hild
ebrandt AC, Rikker AJand Watertor JI (1954) Growth
and Inhibition of tissue cultures on mediawith di
fferent concentration of organic acids. Phytopatho
logy 44:422-428.）。そして、乳酸水溶液中には乳酸オ
リゴマーが混在していることから、その活性の本体を調
べるために活発に研究が行われ、植物成長促進作用物質
の本体は乳酸単量体ではなく、Ｌ−乳酸のオリゴマーで
あることが明らかにされた（AlanM.Kinnersley, Taylor
C.Scott III, John H.Yopp and Gerge H.Whitten(199
0)Promotion of plant growth by polymers of lactic
acid. Plant Growth Regulation 9:137-146. ）。
【０００３】このように、Ｌ−乳酸オリゴマーは植物成
長促進作用を有する有用な物質である。
長促進作用を有する有用な物質である。
【０００４】乳酸オリゴマーを得る従来の技術は、乳酸
を加熱して得られたオリゴマーの混合物をカラムクロマ
トグラフィーにより分離精製して、各々の重合度の画分
を得るというものである。ところが、オリゴマー混合物
からゲル濾過カラムなどで分取する方法では純粋な形態
のオリゴマーが得られにくい。特に、極性の高い物質で
はなおさらである。従って、従来の分離精製法で得られ
たオリゴマーを用いて生物活性などを調べる場合、オリ
ゴマーの純度の点で一般に不十分である。また、純粋な
オリゴマーでなければ、その化学修飾を自由に行なうこ
とが困難である。
を加熱して得られたオリゴマーの混合物をカラムクロマ
トグラフィーにより分離精製して、各々の重合度の画分
を得るというものである。ところが、オリゴマー混合物
からゲル濾過カラムなどで分取する方法では純粋な形態
のオリゴマーが得られにくい。特に、極性の高い物質で
はなおさらである。従って、従来の分離精製法で得られ
たオリゴマーを用いて生物活性などを調べる場合、オリ
ゴマーの純度の点で一般に不十分である。また、純粋な
オリゴマーでなければ、その化学修飾を自由に行なうこ
とが困難である。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】そこで本発明の目的
は、純粋な化合物として得ることのできる新規なＬ−乳
酸オリゴマー誘導体を提供することにある。
は、純粋な化合物として得ることのできる新規なＬ−乳
酸オリゴマー誘導体を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明のＬ−乳酸オリゴ
マー誘導体は、下記一般式(I) で示されるものである：
マー誘導体は、下記一般式(I) で示されるものである：
【化２】 ここで、Ｒ1 は、Ｈ、アルキル基、アリール基、アシル
基またはシリル基を示し、Ｒ2 は、Ｈ、アルキル基また
はアリール基を示し、ただしＲ1 およびＲ2 が共にＨと
なることはなく、ｎは、０〜２０の整数を示す。
基またはシリル基を示し、Ｒ2 は、Ｈ、アルキル基また
はアリール基を示し、ただしＲ1 およびＲ2 が共にＨと
なることはなく、ｎは、０〜２０の整数を示す。
【０００７】以下、本発明について詳しく説明する。
【０００８】一般式(I) におけるＲ1 としてのアルキル
基としては、例えば、メチルチオメチル（ＭＴＭ）、ベ
ンジルオキシメチル（ＢＯＭ）、ｐ−メトキシベンジル
オキシメチル（ＰＭＢＭ）、（４−メトキシフェノキ
シ）メチル（ｐ−ＡＯＭ）、（４−メトキシフェニル）
メチル、ｔ−ブチルジメチルシロキシメチル、ｔ−ブチ
ルジフェニルシロキシメチル、2,2,2-トリクロロエトキ
シメチル、2,2,2-トリクロロエチル、テトラヒドロチオ
フラニル、アリル、１−エトキシメチル、１−エトキシ
エチル、ベンジル、置換ベンジル、２−（トリメチルシ
リル）エトキシメチル（ＳＥＭ）等の保護基が挙げられ
る。これらのうち、ｔ−ブチルジメチルシロキシメチ
ル、ｔ−ブチルジフェニルシロキシメチル、２−（トリ
メチルシリル）エトキシメチル基が、より温和に導入、
脱保護できる点から好ましい。
基としては、例えば、メチルチオメチル（ＭＴＭ）、ベ
ンジルオキシメチル（ＢＯＭ）、ｐ−メトキシベンジル
オキシメチル（ＰＭＢＭ）、（４−メトキシフェノキ
シ）メチル（ｐ−ＡＯＭ）、（４−メトキシフェニル）
メチル、ｔ−ブチルジメチルシロキシメチル、ｔ−ブチ
ルジフェニルシロキシメチル、2,2,2-トリクロロエトキ
シメチル、2,2,2-トリクロロエチル、テトラヒドロチオ
フラニル、アリル、１−エトキシメチル、１−エトキシ
エチル、ベンジル、置換ベンジル、２−（トリメチルシ
リル）エトキシメチル（ＳＥＭ）等の保護基が挙げられ
る。これらのうち、ｔ−ブチルジメチルシロキシメチ
ル、ｔ−ブチルジフェニルシロキシメチル、２−（トリ
メチルシリル）エトキシメチル基が、より温和に導入、
脱保護できる点から好ましい。
【０００９】Ｒ1 としてのアリール基としては、例え
ば、置換又は無置換のフェニル基の保護基が挙げられ、
この場合における置換基としては、例えばｐ−メトキシ
基等が挙げられる。
ば、置換又は無置換のフェニル基の保護基が挙げられ、
この場合における置換基としては、例えばｐ−メトキシ
基等が挙げられる。
【００１０】Ｒ1 としてのアシル基としては、例えば、
モノクロロアセチル、ジクロロアセチル、メトキシアセ
チル、フェノキシアセチル、レヴリノイル、メトキシカ
ルボニル、2,2,2-トリクロロエトキシカルボニル、２−
（トリメチルシリル）エトキシカルボニル、アリルオキ
シカルボニル等の保護基が挙げられる。これらのうち、
モノクロロアセチル、レヴリノイル基が、より温和に導
入、脱保護できる点から好ましい。
モノクロロアセチル、ジクロロアセチル、メトキシアセ
チル、フェノキシアセチル、レヴリノイル、メトキシカ
ルボニル、2,2,2-トリクロロエトキシカルボニル、２−
（トリメチルシリル）エトキシカルボニル、アリルオキ
シカルボニル等の保護基が挙げられる。これらのうち、
モノクロロアセチル、レヴリノイル基が、より温和に導
入、脱保護できる点から好ましい。
【００１１】Ｒ1 としてのシリル基としては、例えば、
ｔ−ブチルジメチルシリル（ＴＢＤＭＳ）、ｔ−ブチル
ジフェニルシリル（ＴＢＤＰＳ）、トリイソプロピルシ
リル（ＴＩＰＳ）、ジメチルテキシルシリル（ＴＤ
Ｓ）、トリフェニルシリル（ＴＰＳ）等の保護基が挙げ
られる。これらのうち、ｔ−ブチルジメチルシリル、ｔ
−ブチルジフェニルシリル基が、原料の入手し易さ、導
入、脱保護の容易さの点から好ましい。
ｔ−ブチルジメチルシリル（ＴＢＤＭＳ）、ｔ−ブチル
ジフェニルシリル（ＴＢＤＰＳ）、トリイソプロピルシ
リル（ＴＩＰＳ）、ジメチルテキシルシリル（ＴＤ
Ｓ）、トリフェニルシリル（ＴＰＳ）等の保護基が挙げ
られる。これらのうち、ｔ−ブチルジメチルシリル、ｔ
−ブチルジフェニルシリル基が、原料の入手し易さ、導
入、脱保護の容易さの点から好ましい。
【００１２】一般式(I) におけるＲ2 としてのアルキル
基としては、例えば、メチルチオメチル、２−（トリメ
チルシリル）エトキシメチル、ベンジルオキシメチル、
フェナシル、ｐ−ブロモフェナシル、Ｎ−フタルイミド
メチル、2,2,2-トリクロロエチル、アリル、ベンジル、
置換ベンジル等の保護基が挙げられる。これらのうち、
フェナシル、ｐ−ブロモフェナシル、2,2,2-トリクロロ
エチル、ベンジル、置換ベンジル基が、より温和に導
入、脱保護できる点から好ましい。
基としては、例えば、メチルチオメチル、２−（トリメ
チルシリル）エトキシメチル、ベンジルオキシメチル、
フェナシル、ｐ−ブロモフェナシル、Ｎ−フタルイミド
メチル、2,2,2-トリクロロエチル、アリル、ベンジル、
置換ベンジル等の保護基が挙げられる。これらのうち、
フェナシル、ｐ−ブロモフェナシル、2,2,2-トリクロロ
エチル、ベンジル、置換ベンジル基が、より温和に導
入、脱保護できる点から好ましい。
【００１３】Ｒ2 としてのアリール基としては、例え
ば、置換又は無置換のフェニル基の保護基が挙げられ
る。
ば、置換又は無置換のフェニル基の保護基が挙げられ
る。
【００１４】本発明において、Ｒ1 およびＲ2 が共にＨ
となることはないが、Ｒ1 およびＲ2 のうちの少なくと
も一方がＨでなければ、Ｒ1 およびＲ2 は、同一であっ
ても異なっていても良い。
となることはないが、Ｒ1 およびＲ2 のうちの少なくと
も一方がＨでなければ、Ｒ1 およびＲ2 は、同一であっ
ても異なっていても良い。
【００１５】これらＲ1 およびＲ2 のうちで好ましい組
合わせは、Ｒ1 が、ｔ−ブチルジメチルシロキシメチ
ル、ｔ−ブチルジフェニルシロキシメチル、２−（トリ
メチルシリル）エトキシメチル、２−（トリメチルシリ
ル）エトキシカルボニル、ｔ−ブチルジメチルシリル、
ｔ−ブチルジフェニルシリル、トリイソプロピルシリ
ル、ジメチルテキシルシリル、トリフェニルシリル基の
うちのいずれかであって、Ｒ2 が、フェナシル、ｐ−ブ
ロモフェナシル、Ｎ−フタルイミドメチル、2,2,2-トリ
クロロエチル基のうちのいずれかであるもの、および、
Ｒ1 が、メチルチオメチル、ベンジルオキシメチル、ｐ
−メトキシベンジルオキシメチル、（４−メトキシフェ
ニル）メチル、2,2,2-トリクロロエトキシメチル、１−
エトキシエチル、ベンジル、置換ベンジル、2,2,2-トリ
クロロエチル、モノクロロアセチル、ジクロロアセチ
ル、レヴリノイル、2,2,2-トリクロロエトキシカルボニ
ル、アリルオキシカルボニル基のうちのいずれかであっ
て、Ｒ2 が、２−（トリメチルシリル）エトキシメチル
であるもの、等である。
合わせは、Ｒ1 が、ｔ−ブチルジメチルシロキシメチ
ル、ｔ−ブチルジフェニルシロキシメチル、２−（トリ
メチルシリル）エトキシメチル、２−（トリメチルシリ
ル）エトキシカルボニル、ｔ−ブチルジメチルシリル、
ｔ−ブチルジフェニルシリル、トリイソプロピルシリ
ル、ジメチルテキシルシリル、トリフェニルシリル基の
うちのいずれかであって、Ｒ2 が、フェナシル、ｐ−ブ
ロモフェナシル、Ｎ−フタルイミドメチル、2,2,2-トリ
クロロエチル基のうちのいずれかであるもの、および、
Ｒ1 が、メチルチオメチル、ベンジルオキシメチル、ｐ
−メトキシベンジルオキシメチル、（４−メトキシフェ
ニル）メチル、2,2,2-トリクロロエトキシメチル、１−
エトキシエチル、ベンジル、置換ベンジル、2,2,2-トリ
クロロエチル、モノクロロアセチル、ジクロロアセチ
ル、レヴリノイル、2,2,2-トリクロロエトキシカルボニ
ル、アリルオキシカルボニル基のうちのいずれかであっ
て、Ｒ2 が、２−（トリメチルシリル）エトキシメチル
であるもの、等である。
【００１６】次に、一般式(I) の乳酸オリゴマーの合成
法について説明する。一般的に本発明のＬ−乳酸オリゴ
マーは、カルボキシル基がＲ2 基で保護されたＬ−乳酸
単量体またはオリゴマーの水酸基と、水酸基がＲ1 基で
保護されたＬ−乳酸単量体またはオリゴマーのカルボン
酸または酸ハライド誘導体とを縮合させることにより得
られ、Ｒ1 基またはＲ2 基がＨのものは、カルボキシル
基または水酸基を脱保護することにより得られる。
法について説明する。一般的に本発明のＬ−乳酸オリゴ
マーは、カルボキシル基がＲ2 基で保護されたＬ−乳酸
単量体またはオリゴマーの水酸基と、水酸基がＲ1 基で
保護されたＬ−乳酸単量体またはオリゴマーのカルボン
酸または酸ハライド誘導体とを縮合させることにより得
られ、Ｒ1 基またはＲ2 基がＨのものは、カルボキシル
基または水酸基を脱保護することにより得られる。
【００１７】すなわち、以下に合成スキームを参照し
て、一般式(I) の乳酸オリゴマーの合成法について説明
する。なお、このスキームは合成法の一例を示すもので
あって本発明の範囲を何ら制限するものではない。
て、一般式(I) の乳酸オリゴマーの合成法について説明
する。なお、このスキームは合成法の一例を示すもので
あって本発明の範囲を何ら制限するものではない。
【００１８】スキーム中の略語は、以下の試薬を表す： ＴＢＤＭＳＣｌ＝ｔ−ブチルジメチルシリルクロリド ＤＭＦ＝Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド ＤＩＣ＝ジイソプロピルカルボジイミド ＤＭＡＰ＝４−ジメチルアミノピリジン ＴＢＡＦ＝テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムフルオリド ＨＯＡｃ＝酢酸
【００１９】
【化３】
【化４】
【００２０】まずＬ−乳酸(1) をｐ−ブロモフェナシル
ブロミドと反応させ、カルボキシル基が保護された化合
物(2) を得る。次に、化合物(2) の水酸基をｔ−ブチル
ジメチルシリルクロリドを用いて保護し、化合物(3) を
得る。
ブロミドと反応させ、カルボキシル基が保護された化合
物(2) を得る。次に、化合物(2) の水酸基をｔ−ブチル
ジメチルシリルクロリドを用いて保護し、化合物(3) を
得る。
【００２１】一方、Ｌ−乳酸(1) から３工程で、すなわ
ちｔ−ブチルジメチルシリルクロリドで水酸基、カルボ
キシル基の両方を保護した後、塩化オキサリル、ＤＭＦ
で処理して水酸基が保護されたＬ−乳酸の酸クロリド誘
導体とし、この酸クロリドを化合物(2) と反応させて、
Ｌ−乳酸２量体(4) を得る。
ちｔ−ブチルジメチルシリルクロリドで水酸基、カルボ
キシル基の両方を保護した後、塩化オキサリル、ＤＭＦ
で処理して水酸基が保護されたＬ−乳酸の酸クロリド誘
導体とし、この酸クロリドを化合物(2) と反応させて、
Ｌ−乳酸２量体(4) を得る。
【００２２】次に、２量体(4) のｐ−ブロモフェナシル
基を酢酸中、亜鉛で処理してカルボン酸(5) へ変換す
る。また一方、２量体(4) のｔ−ブチルジメチルシリル
基を酢酸中、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムフルオリ
ドを用いて、アルコール(6) へと導く。こうして得られ
た両化合物、すなわち２量体カルボン酸(5) と２量体ア
ルコール(6) とをジイソプロピルカルボジイミドを用い
て縮合し、Ｌ−乳酸４量体(7) を得る。
基を酢酸中、亜鉛で処理してカルボン酸(5) へ変換す
る。また一方、２量体(4) のｔ−ブチルジメチルシリル
基を酢酸中、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムフルオリ
ドを用いて、アルコール(6) へと導く。こうして得られ
た両化合物、すなわち２量体カルボン酸(5) と２量体ア
ルコール(6) とをジイソプロピルカルボジイミドを用い
て縮合し、Ｌ−乳酸４量体(7) を得る。
【００２３】この４量体(7) のｔ−ブチルジメチルシリ
ル基を酢酸中、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムフルオ
リドで脱保護して４量体アルコール(8) へと導き、２量
体のカルボン酸(5) と縮合（ジイソプロピルカルボジイ
ミド／塩化メチレン）させてＬ−乳酸６量体(9) を得
る。
ル基を酢酸中、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムフルオ
リドで脱保護して４量体アルコール(8) へと導き、２量
体のカルボン酸(5) と縮合（ジイソプロピルカルボジイ
ミド／塩化メチレン）させてＬ−乳酸６量体(9) を得
る。
【００２４】同様にして、得られた６量体(9) をアルコ
ール(10)に導き（テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムフル
オリド／酢酸）、２量体カルボン酸(5) と縮合させ（ジ
イソプロピルカルボジイミド／塩化メチレン）、Ｌ−乳
酸８量体(11)を得る。
ール(10)に導き（テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムフル
オリド／酢酸）、２量体カルボン酸(5) と縮合させ（ジ
イソプロピルカルボジイミド／塩化メチレン）、Ｌ−乳
酸８量体(11)を得る。
【００２５】また、カルボキシル基が保護されたアルコ
ール(2) と水酸基が保護された２量体カルボン酸(5) と
を縮合させ（ジイソプロピルカルボジイミド／塩化メチ
レン）、Ｌ−乳酸３量体を得る。
ール(2) と水酸基が保護された２量体カルボン酸(5) と
を縮合させ（ジイソプロピルカルボジイミド／塩化メチ
レン）、Ｌ−乳酸３量体を得る。
【００２６】また、４量体(7) のｐ−ブロモフェナシル
基を酢酸中、亜鉛で処理して水酸基ールが保護された４
量体カルボン酸へ変換し、この４量体カルボン酸とアル
コール(2) とを縮合させ（ジイソプロピルカルボジイミ
ド／塩化メチレン）、Ｌ−乳酸５量体を得る。
基を酢酸中、亜鉛で処理して水酸基ールが保護された４
量体カルボン酸へ変換し、この４量体カルボン酸とアル
コール(2) とを縮合させ（ジイソプロピルカルボジイミ
ド／塩化メチレン）、Ｌ−乳酸５量体を得る。
【００２７】同様にして、６量体(9) のｐ−ブロモフェ
ナシル基を酢酸中、亜鉛で処理して水酸基が保護された
６量体カルボン酸へ変換し、この６量体カルボン酸とア
ルコール(2) とを縮合させ（ジイソプロピルカルボジイ
ミド／塩化メチレン）、Ｌ−乳酸７量体を得る。
ナシル基を酢酸中、亜鉛で処理して水酸基が保護された
６量体カルボン酸へ変換し、この６量体カルボン酸とア
ルコール(2) とを縮合させ（ジイソプロピルカルボジイ
ミド／塩化メチレン）、Ｌ−乳酸７量体を得る。
【００２８】このようにして、Ｌ−乳酸の２〜８量体
（ｎ＝０〜６）を純粋な化合物として得ることができ
る。以下、同様の反応を繰り返すことによって、Ｌ−乳
酸の９〜２２量体（ｎ＝７〜２０）を純粋な化合物とし
て得ることができる。
（ｎ＝０〜６）を純粋な化合物として得ることができ
る。以下、同様の反応を繰り返すことによって、Ｌ−乳
酸の９〜２２量体（ｎ＝７〜２０）を純粋な化合物とし
て得ることができる。
【００２９】この合成法において、水酸基の保護基とし
てのＲ1 基を導入するには、一般に、Ｒ1 Ｘ（ここで、
Ｒ1 はアルキル基、アリール基、アシル基またはシリル
基であり、Ｘはハロゲン（Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）である）を
用いることができる。
てのＲ1 基を導入するには、一般に、Ｒ1 Ｘ（ここで、
Ｒ1 はアルキル基、アリール基、アシル基またはシリル
基であり、Ｘはハロゲン（Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）である）を
用いることができる。
【００３０】また、これらＲ1 基の脱保護は、Ｌ−乳酸
誘導体をＲ1 の種類に応じて適切な脱保護条件、すなわ
ち、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムフルオリド、チオ
尿素、ヒドラジン酢酸塩、亜鉛−酢酸、接触水素化、塩
化第二水銀等を用いる他の官能基に影響を及ぼさない条
件で処理することで遂行できる。
誘導体をＲ1 の種類に応じて適切な脱保護条件、すなわ
ち、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムフルオリド、チオ
尿素、ヒドラジン酢酸塩、亜鉛−酢酸、接触水素化、塩
化第二水銀等を用いる他の官能基に影響を及ぼさない条
件で処理することで遂行できる。
【００３１】一方、カルボキシル基の保護基としてのＲ
2 基を導入するには、一般に、Ｒ2Ｘ（ここで、Ｒ2 は
アルキル基またはアリール基であり、Ｘはハロゲン（Ｃ
ｌ、Ｂｒ、Ｉ）である）を用いることができる。
2 基を導入するには、一般に、Ｒ2Ｘ（ここで、Ｒ2 は
アルキル基またはアリール基であり、Ｘはハロゲン（Ｃ
ｌ、Ｂｒ、Ｉ）である）を用いることができる。
【００３２】また、これらＲ2 基の脱保護は、Ｌ−乳酸
誘導体をＲ2 の種類に応じて適切な脱保護条件、すなわ
ち、亜鉛−酢酸、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムフル
オリド等を用いる他の官能基に影響を及ぼさない条件で
処理することで遂行できる。
誘導体をＲ2 の種類に応じて適切な脱保護条件、すなわ
ち、亜鉛−酢酸、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムフル
オリド等を用いる他の官能基に影響を及ぼさない条件で
処理することで遂行できる。
【００３３】また、カルボキシル基がＲ2 基で保護され
たＬ−乳酸単量体またはオリゴマーの水酸基と、水酸基
がＲ1 基で保護されたＬ−乳酸単量体またはオリゴマー
のカルボン酸とを縮合させるにあたり、縮合剤は特に限
定されるものではないが、一般的に、ジイソプロピルカ
ルボジイミド、ジシクロヘキシルカルボジイミドなどの
カルボジイミド系の縮合剤を用いることができる。ま
た、この場合において、４−ジメチルアミノピリジン等
を触媒として用いることも好ましい。
たＬ−乳酸単量体またはオリゴマーの水酸基と、水酸基
がＲ1 基で保護されたＬ−乳酸単量体またはオリゴマー
のカルボン酸とを縮合させるにあたり、縮合剤は特に限
定されるものではないが、一般的に、ジイソプロピルカ
ルボジイミド、ジシクロヘキシルカルボジイミドなどの
カルボジイミド系の縮合剤を用いることができる。ま
た、この場合において、４−ジメチルアミノピリジン等
を触媒として用いることも好ましい。
【００３４】また、カルボキシル基がＲ2 基で保護され
たＬ−乳酸単量体またはオリゴマーの水酸基と、水酸基
がＲ1 基で保護されたＬ−乳酸単量体またはオリゴマー
の酸ハライド誘導体とを縮合させるにあたり、縮合剤は
特に限定されるものではないが、通常は、トリエチルア
ミン、ピリジン等の脱酸剤を用いることが好ましい。
たＬ−乳酸単量体またはオリゴマーの水酸基と、水酸基
がＲ1 基で保護されたＬ−乳酸単量体またはオリゴマー
の酸ハライド誘導体とを縮合させるにあたり、縮合剤は
特に限定されるものではないが、通常は、トリエチルア
ミン、ピリジン等の脱酸剤を用いることが好ましい。
【００３５】
【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
るが、本発明の範囲は以下の実施例に限定されるもので
はない。
るが、本発明の範囲は以下の実施例に限定されるもので
はない。
【００３６】（合成例１）
【化５】 ２０００ｍｌ容のフラスコに、Ｌ−乳酸９．７３ｇ（１
０８．０ｍｍｏｌ）、炭酸水素カリウム１０．８１ｇ
（１０８．０ｍｍｏｌ）およびｐ−ブロモフェナシルブ
ロマイド３０．０２ｇ（１０８．０ｍｍｏｌ）を入れ、
乾燥したアセトン１６００ｍｌを加えて、窒素ガス下
に、室温で２４時間攪拌した。反応液を減圧濃縮し、酢
酸エチルに懸濁し、水、飽和食塩水で洗浄した。有機層
を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧濃縮して粗生成物
を得た。得られた粗生成物を、酢酸エチル−ヘキサンよ
り再結晶して目的物(2) ２５．２４ｇ（収率８１％）を
得た。 (2) Ｒｆ＝０．４９ （酢酸エチル：ヘキサン＝１：１） ｍｐ：１０３−１０４℃ ［α］20 D −０．９５°（Ｃ＝１．２，ＣＨ3 ＯＨ） ＭＳ（CI，isobutane)２８９［Ｍ（81Ｂｒ）＋１］＋．
２８７［Ｍ（79Ｂｒ）＋１］＋ 1 Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）δ：７．６
３０〜７．８００（４Ｈ，ｍ， aromatic protons ：Ａ
Ａ' ＢＢ' ），５．５７９（１Ｈ，ｄ，１６．８Ｈｚ，
ＡＢ型のＡ部），５．３４０（１Ｈ，ｄ，１６．８Ｈ
ｚ，ＡＢ型のＢ部），４．５００（１Ｈ，ｑ，７．０Ｈ
ｚ），２．７９９（１Ｈ，ｂｒ．ｓ，ＯＨ），１．５６
４（３Ｈ，ｄ，７．０Ｈｚ）
０８．０ｍｍｏｌ）、炭酸水素カリウム１０．８１ｇ
（１０８．０ｍｍｏｌ）およびｐ−ブロモフェナシルブ
ロマイド３０．０２ｇ（１０８．０ｍｍｏｌ）を入れ、
乾燥したアセトン１６００ｍｌを加えて、窒素ガス下
に、室温で２４時間攪拌した。反応液を減圧濃縮し、酢
酸エチルに懸濁し、水、飽和食塩水で洗浄した。有機層
を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧濃縮して粗生成物
を得た。得られた粗生成物を、酢酸エチル−ヘキサンよ
り再結晶して目的物(2) ２５．２４ｇ（収率８１％）を
得た。 (2) Ｒｆ＝０．４９ （酢酸エチル：ヘキサン＝１：１） ｍｐ：１０３−１０４℃ ［α］20 D −０．９５°（Ｃ＝１．２，ＣＨ3 ＯＨ） ＭＳ（CI，isobutane)２８９［Ｍ（81Ｂｒ）＋１］＋．
２８７［Ｍ（79Ｂｒ）＋１］＋ 1 Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）δ：７．６
３０〜７．８００（４Ｈ，ｍ， aromatic protons ：Ａ
Ａ' ＢＢ' ），５．５７９（１Ｈ，ｄ，１６．８Ｈｚ，
ＡＢ型のＡ部），５．３４０（１Ｈ，ｄ，１６．８Ｈ
ｚ，ＡＢ型のＢ部），４．５００（１Ｈ，ｑ，７．０Ｈ
ｚ），２．７９９（１Ｈ，ｂｒ．ｓ，ＯＨ），１．５６
４（３Ｈ，ｄ，７．０Ｈｚ）
【００３７】（合成例２）
【化６】 ５０ｍｌ容のフラスコ中で、合成例１で得た化合物(2)
９７０ｍｇ（３．３８ｍｍｏｌ）に、室温下ｔ−ブチル
ジメチルシリルクロリド６１２ｍｇ（４．０６ｍｍｏ
ｌ）、イミダゾール５０８ｍｇ（７．４６ｍｍｏｌ）を
加え、乾燥したＤＭＦ１．３ｍｌに溶解した。これを窒
素ガス下に室温で１時間攪拌した。この混合物をヘキサ
ンに懸濁し、水、飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水
硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧濃縮した。得られた粗生
成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（Wako-gel
C-300. ７５ｇ．酢酸エチル：ヘキサン＝１：９）で精
製し、目的物(3) １．３２ｇ（収率９７％）を得た。 (3) Ｒｆ＝０．５２ （酢酸エチル：ヘキサン＝３：１７） ｍｐ：３９−４１℃ ［α］20 D −１５．１°（Ｃ＝０．７０，ＣＨ3 ＯＨ） ＭＳ（CI，isobutane)４０３［Ｍ（79Ｂｒ）＋１］＋ 1 Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）δ：７．６
０６〜７．７９３（４Ｈ，ｍ，aromatic protons：Ａ
Ａ' ＢＢ' ），５．３６０（１Ｈ，ｄ，１６．２Ｈｚ，
ＡＢ型のＡ部），５．２８６（１Ｈ，ｄ，１６．２Ｈ
ｚ、ＡＢ型のＢ部），４．５１８（１Ｈ，ｑ，７．０Ｈ
ｚ），１．５１５（３Ｈ，ｄ，７．０Ｈｚ），０．９０
７（９Ｈ，ｓ，ＴＢＤＭＳ），０．１２８（３Ｈ，ｓ，
ＴＢＤＭＳ），０．１２０（３Ｈ，ｓ，ＴＢＤＭＳ）
９７０ｍｇ（３．３８ｍｍｏｌ）に、室温下ｔ−ブチル
ジメチルシリルクロリド６１２ｍｇ（４．０６ｍｍｏ
ｌ）、イミダゾール５０８ｍｇ（７．４６ｍｍｏｌ）を
加え、乾燥したＤＭＦ１．３ｍｌに溶解した。これを窒
素ガス下に室温で１時間攪拌した。この混合物をヘキサ
ンに懸濁し、水、飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水
硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧濃縮した。得られた粗生
成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（Wako-gel
C-300. ７５ｇ．酢酸エチル：ヘキサン＝１：９）で精
製し、目的物(3) １．３２ｇ（収率９７％）を得た。 (3) Ｒｆ＝０．５２ （酢酸エチル：ヘキサン＝３：１７） ｍｐ：３９−４１℃ ［α］20 D −１５．１°（Ｃ＝０．７０，ＣＨ3 ＯＨ） ＭＳ（CI，isobutane)４０３［Ｍ（79Ｂｒ）＋１］＋ 1 Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）δ：７．６
０６〜７．７９３（４Ｈ，ｍ，aromatic protons：Ａ
Ａ' ＢＢ' ），５．３６０（１Ｈ，ｄ，１６．２Ｈｚ，
ＡＢ型のＡ部），５．２８６（１Ｈ，ｄ，１６．２Ｈ
ｚ、ＡＢ型のＢ部），４．５１８（１Ｈ，ｑ，７．０Ｈ
ｚ），１．５１５（３Ｈ，ｄ，７．０Ｈｚ），０．９０
７（９Ｈ，ｓ，ＴＢＤＭＳ），０．１２８（３Ｈ，ｓ，
ＴＢＤＭＳ），０．１２０（３Ｈ，ｓ，ＴＢＤＭＳ）
【００３８】（合成例３）
【化７】 ２００ｍｌ容のフラスコに、Ｌ−乳酸５．４３ｇ（６
０．２８ｍｍｏｌ）、ｔ−ブチルジメチルシリルクロリ
ド２１．８１ｇ（１４４．７０ｍｏｌ）、イミダゾール
１８．１１ｇ（２６６．０１ｍｍｏｌ）を入れ、乾燥し
たＤＭＦ２０ｍｌに溶解した。これを窒素ガス下に室温
で１８時間攪拌した。この混合物を飽和炭酸水素ナトリ
ウム水溶液にあけ、ヘキサンで抽出した。有機層を飽和
食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧濃
縮してジシリル化した粗生成物を得た。得られた粗生成
物を塩化メチレン６０ｍｌに溶解し、系を０℃とした
後、塩化オキサリル１０．７２ｇ（８４．４６ｍｍｏ
ｌ）を加え、次いでＤＭＦ６滴を滴下した。０℃で１時
間攪拌した後、室温で２時間攪拌し、減圧濃縮して、酸
クロリドの粗生成物を得た。得られた粗生成物をジエチ
ルエーテル８７ｍｌに溶解し、系を０℃とした後、ピリ
ジン３４ｍｌと、合成例１で得られた化合物(2) １６．
４５ｇ（５７．３０ｍｍｏｌ）を順次加えた。０℃で１
時間攪拌した後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液中にあ
け、酢酸エチルで抽出した。有機層を１０％クエン酸水
溶液で洗浄し、飽和食塩水で洗浄した。次いで有機層を
無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧濃縮した。得られた
粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（Wako
-gel C-300. ６００ｇ．酢酸エチル：ヘキサン＝１：
９）で精製し、目的物(4) ２４．３５ｇ（収率８５％；
Ｌ−乳酸より３工程）を得た。 (4) Ｒｆ＝０．４２ （酢酸エチル：ヘキサン＝３：１７） ［α］20 D −５１．９°（Ｃ＝１．３，ＣＨ3 ＯＨ） ＭＳ（CI，isobutane)４７５［Ｍ（79Ｂｒ）＋１］＋ 1 Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）δ：７．６
０８〜７．７７８（４Ｈ，ｍ，aromatic protons：Ａ
Ａ' ＢＢ' ）、５．４４９（１Ｈ，ｄ，１５．９Ｈｚ，
ＡＢ型のＡ部），５．２４５（１Ｈ，ｑ，７．２Ｈｚ）
５．２２１（１Ｈ，ｄ，１５．９Ｈｚ，ＡＢ型のＢ
部），４．４１６（１Ｈ，ｑ，６．５Ｈｚ），１．６６
４（３Ｈ，ｄ，７．２Ｈｚ），１．４５３（３Ｈ，ｄ，
６．５Ｈｚ），０．９１９（９Ｈ，ｓ，ＴＢＤＭＳ），
０．１１７（３Ｈ，ｓ，ＴＢＤＭＳ），０．０９０（３
Ｈ，ｓ，ＴＢＤＭＳ）
０．２８ｍｍｏｌ）、ｔ−ブチルジメチルシリルクロリ
ド２１．８１ｇ（１４４．７０ｍｏｌ）、イミダゾール
１８．１１ｇ（２６６．０１ｍｍｏｌ）を入れ、乾燥し
たＤＭＦ２０ｍｌに溶解した。これを窒素ガス下に室温
で１８時間攪拌した。この混合物を飽和炭酸水素ナトリ
ウム水溶液にあけ、ヘキサンで抽出した。有機層を飽和
食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧濃
縮してジシリル化した粗生成物を得た。得られた粗生成
物を塩化メチレン６０ｍｌに溶解し、系を０℃とした
後、塩化オキサリル１０．７２ｇ（８４．４６ｍｍｏ
ｌ）を加え、次いでＤＭＦ６滴を滴下した。０℃で１時
間攪拌した後、室温で２時間攪拌し、減圧濃縮して、酸
クロリドの粗生成物を得た。得られた粗生成物をジエチ
ルエーテル８７ｍｌに溶解し、系を０℃とした後、ピリ
ジン３４ｍｌと、合成例１で得られた化合物(2) １６．
４５ｇ（５７．３０ｍｍｏｌ）を順次加えた。０℃で１
時間攪拌した後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液中にあ
け、酢酸エチルで抽出した。有機層を１０％クエン酸水
溶液で洗浄し、飽和食塩水で洗浄した。次いで有機層を
無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧濃縮した。得られた
粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（Wako
-gel C-300. ６００ｇ．酢酸エチル：ヘキサン＝１：
９）で精製し、目的物(4) ２４．３５ｇ（収率８５％；
Ｌ−乳酸より３工程）を得た。 (4) Ｒｆ＝０．４２ （酢酸エチル：ヘキサン＝３：１７） ［α］20 D −５１．９°（Ｃ＝１．３，ＣＨ3 ＯＨ） ＭＳ（CI，isobutane)４７５［Ｍ（79Ｂｒ）＋１］＋ 1 Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）δ：７．６
０８〜７．７７８（４Ｈ，ｍ，aromatic protons：Ａ
Ａ' ＢＢ' ）、５．４４９（１Ｈ，ｄ，１５．９Ｈｚ，
ＡＢ型のＡ部），５．２４５（１Ｈ，ｑ，７．２Ｈｚ）
５．２２１（１Ｈ，ｄ，１５．９Ｈｚ，ＡＢ型のＢ
部），４．４１６（１Ｈ，ｑ，６．５Ｈｚ），１．６６
４（３Ｈ，ｄ，７．２Ｈｚ），１．４５３（３Ｈ，ｄ，
６．５Ｈｚ），０．９１９（９Ｈ，ｓ，ＴＢＤＭＳ），
０．１１７（３Ｈ，ｓ，ＴＢＤＭＳ），０．０９０（３
Ｈ，ｓ，ＴＢＤＭＳ）
【００３９】（合成例４）
【化８】 １０００ｍｌ容のフラスコ中で、合成例３で得た化合物
(4) ５．４３ｇ（１１．４７ｍｍｏｌ）をジエチルエー
テル３７０ｍｌに溶解し、室温下に酢酸１９．７０ｍｌ
（３４４．１３ｍｏｏｌ）を加えた。これを攪拌下に亜
鉛末２２．４９ｇ（３４４．０４ｍｍｏｌ）を加え、室
温で２時間攪拌した。この混合物をグラスフィルターで
濾過し、残渣を酢酸エチルで洗浄し、濾液を得た。濾液
を飽和炭酸水素ナトリウムで抽出し、水層にクエン酸を
加えてｐＨ４−５にし、酢酸エチルで抽出した。再び、
有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で抽出し、クエ
ン酸を加えてｐＨ４−５にし、酢酸エチルで抽出した。
有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾
燥した。減圧濃縮して目的物(5) ２．４７ｇ（収率７８
％）を得た。 (5) Ｒｆ＝０．２６ （酢酸エチル：ヘキサン＝３：７） ［α］20 D −４５．６°（Ｃ＝０．６７，ＣＨ3 ＯＨ） ＭＳ（FAB+、ｍ−ＮＢＡ）２７７（Ｍ＋１）＋、２９９
（Ｍ＋Ｎａ）＋ 1 Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）δ：８．６
７０（１Ｈ、ｂｒ．ｓ．ＣＯＯＨ），５．１３１（１
Ｈ，ｑ，７．０Ｈｚ），４．４０３（１Ｈ，ｑ，７．０
Ｈｚ），１．５４６（３Ｈ，ｄ，７．０Ｈｚ），１．４
４９（３Ｈ，ｄ，７．０Ｈｚ），０．９０７（９Ｈ，
ｓ，ＴＢＤＭＳ），０．１１１（３Ｈ，ｓ，ＴＢＤＭ
Ｓ），０．０８７（３Ｈ，ｓ，ＴＢＤＭＳ）
(4) ５．４３ｇ（１１．４７ｍｍｏｌ）をジエチルエー
テル３７０ｍｌに溶解し、室温下に酢酸１９．７０ｍｌ
（３４４．１３ｍｏｏｌ）を加えた。これを攪拌下に亜
鉛末２２．４９ｇ（３４４．０４ｍｍｏｌ）を加え、室
温で２時間攪拌した。この混合物をグラスフィルターで
濾過し、残渣を酢酸エチルで洗浄し、濾液を得た。濾液
を飽和炭酸水素ナトリウムで抽出し、水層にクエン酸を
加えてｐＨ４−５にし、酢酸エチルで抽出した。再び、
有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で抽出し、クエ
ン酸を加えてｐＨ４−５にし、酢酸エチルで抽出した。
有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾
燥した。減圧濃縮して目的物(5) ２．４７ｇ（収率７８
％）を得た。 (5) Ｒｆ＝０．２６ （酢酸エチル：ヘキサン＝３：７） ［α］20 D −４５．６°（Ｃ＝０．６７，ＣＨ3 ＯＨ） ＭＳ（FAB+、ｍ−ＮＢＡ）２７７（Ｍ＋１）＋、２９９
（Ｍ＋Ｎａ）＋ 1 Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）δ：８．６
７０（１Ｈ、ｂｒ．ｓ．ＣＯＯＨ），５．１３１（１
Ｈ，ｑ，７．０Ｈｚ），４．４０３（１Ｈ，ｑ，７．０
Ｈｚ），１．５４６（３Ｈ，ｄ，７．０Ｈｚ），１．４
４９（３Ｈ，ｄ，７．０Ｈｚ），０．９０７（９Ｈ，
ｓ，ＴＢＤＭＳ），０．１１１（３Ｈ，ｓ，ＴＢＤＭ
Ｓ），０．０８７（３Ｈ，ｓ，ＴＢＤＭＳ）
【００４０】（合成例５）
【化９】 １００ｍｌ容のフラスコ中で、合成例３で得られた化合
物(4) ３．５０ｇ（７．３９ｍｍｏｌ）を室温下、テト
ラヒドロフラン１４．８ｍｌに溶解し、酢酸５．０８ｍ
ｌ（８８．７４ｍｍｏｌ）、１Ｍ濃度のテトラ−ｎ−ブ
チルアンモニウムフルオリドのテトラヒドロフラン溶液
１４．８０ｍｌ（１４８０ｍｍｏｌ）を順次加えた。室
温で２４時間攪拌後、酢酸エチルで希釈し、飽和炭酸水
素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄した。有機層を
無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧濃縮して得られた粗
生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（Wako-g
elC-300. ８０ｇ、酢酸エチル：ヘキサン＝２：８）で
精製し、目的物(6) ２．１３ｇ（収率８０％）を得た。 (6) Ｒｆ＝０．４９ （酢酸エチル：ヘキサン＝１：１） ｍｐ：７０−７２℃ ［α］20 D −５１．２°（Ｃ＝０．７１，ＣＨ3 ＯＨ） ＭＳ（FAB+、ｍ−ＮＢＡ）３５９（Ｍ（79Ｂｒ）＋１］
＋ 1 Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）δ：７．６
１８〜７．７８９（４Ｈ，ｍ，aromatic protons：Ａ
Ａ' ＢＢ' ），５．４６３（１Ｈ，ｄ，１６．４Ｈｚ，
ＡＢ型のＡ部），５．３３６（１Ｈ，ｑ，６．８Ｈ
ｚ），５．２５６（１Ｈ，ｄ，１６．４Ｈｚ，ＡＢ型の
Ｂ部），４．３８２（１Ｈ，ｑ、７．０Ｈｚ），１．６
９２（３Ｈ，ｄ，６．８Ｈｚ），１．４９４（３Ｈｄ，
７．０Ｈｚ）
物(4) ３．５０ｇ（７．３９ｍｍｏｌ）を室温下、テト
ラヒドロフラン１４．８ｍｌに溶解し、酢酸５．０８ｍ
ｌ（８８．７４ｍｍｏｌ）、１Ｍ濃度のテトラ−ｎ−ブ
チルアンモニウムフルオリドのテトラヒドロフラン溶液
１４．８０ｍｌ（１４８０ｍｍｏｌ）を順次加えた。室
温で２４時間攪拌後、酢酸エチルで希釈し、飽和炭酸水
素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄した。有機層を
無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧濃縮して得られた粗
生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（Wako-g
elC-300. ８０ｇ、酢酸エチル：ヘキサン＝２：８）で
精製し、目的物(6) ２．１３ｇ（収率８０％）を得た。 (6) Ｒｆ＝０．４９ （酢酸エチル：ヘキサン＝１：１） ｍｐ：７０−７２℃ ［α］20 D −５１．２°（Ｃ＝０．７１，ＣＨ3 ＯＨ） ＭＳ（FAB+、ｍ−ＮＢＡ）３５９（Ｍ（79Ｂｒ）＋１］
＋ 1 Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）δ：７．６
１８〜７．７８９（４Ｈ，ｍ，aromatic protons：Ａ
Ａ' ＢＢ' ），５．４６３（１Ｈ，ｄ，１６．４Ｈｚ，
ＡＢ型のＡ部），５．３３６（１Ｈ，ｑ，６．８Ｈ
ｚ），５．２５６（１Ｈ，ｄ，１６．４Ｈｚ，ＡＢ型の
Ｂ部），４．３８２（１Ｈ，ｑ、７．０Ｈｚ），１．６
９２（３Ｈ，ｄ，６．８Ｈｚ），１．４９４（３Ｈｄ，
７．０Ｈｚ）
【００４１】（合成例６）
【化１０】 １００ｍｌ容のフラスコ中で、合成例４で得られた化合
物(5) １．６１ｇ（５．８２ｍｍｏｌ）を塩化メチレン
５．８ｍｌに溶解し、系を０℃とした。ここにジイソプ
ロピルカルボジイミド５００ｍｇ（３．９６ｍｍｏｌ）
を加え、０℃で１０分間攪拌した。０℃の下、合成例５
で得た化合物(6) ９５２ｍｇ（２．６５ｍｍｏｌ）を塩
化メチレン５．８ｍｌに溶解して加え、次いで４−ジメ
チルアミノビリジン２２７ｍｇ（１．８６ｍｍｏｌ）を
加えた。０℃で３０分間攪拌した後、減圧濃縮した。こ
の混合物を酢酸エチルに懸濁し、１０％クエン酸水溶
液、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄
した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧濃縮
した。この混合物をヘキサンに懸濁し、濾過し、沈殿を
除き濾液を除き濾液を得た。濾液を減圧濃縮して得られ
た粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（Wa
ko-gel C-300. １３０ｇ、酢酸エチル：ヘキサン＝２：
８）で精製し、目的物(7) １．５ｇ（収率９２％；化合
物(6) より）を得た。 (7) Ｒｆ＝０．２１ （酢酸エチル：ヘキサン＝３：１７） Ｒｆ＝０．５０ （酢酸エチル：ヘキサン＝１：３） ［α］20 D −８７．５°（Ｃ＝１．３，ＣＨ3 ＯＨ） ＭＳ（FAB+，ｍ−ＮＢＡ）６１７（Ｍ（79Ｂｒ）＋１］
＋．５６１（Ｍ−ｔＢｕ）＋ 1 Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）δ：７．６
２５〜７．７６８（４Ｈ、ｍ，aromatic protons：Ａ
Ａ' ＢＢ' ）、５．４５６（１Ｈ，ｄ，１６．４Ｈｚ，
ＡＢ型のＡ部），５．２８６（１Ｈ，ｑ，７．３Ｈ
ｚ），５．２２２（１Ｈ，ｄ，１６．４Ｈｚ，ＡＢ型の
Ｂ部），５．２００（１Ｈ，ｑ，７．３Ｈｚ），５．１
４０（１Ｈ，ｑ，７．３Ｈｚ），４．３９７（１Ｈ，
ｑ，６．５Ｈｚ），１．６６９（３Ｈ，ｄ，７．３Ｈ
ｚ），１．５８３（６Ｈ，ｄ，７．３Ｈｚ），１．４４
６（３Ｈ，ｄ，６．５Ｈｚ），０．９０２（９Ｈ，ｓ，
ＴＢＤＭＳ），０．１０８（３Ｈ，ｓ，ＴＢＤＭＳ），
０．０８４（３Ｈ，ｓ，ＴＢＤＭＳ）
物(5) １．６１ｇ（５．８２ｍｍｏｌ）を塩化メチレン
５．８ｍｌに溶解し、系を０℃とした。ここにジイソプ
ロピルカルボジイミド５００ｍｇ（３．９６ｍｍｏｌ）
を加え、０℃で１０分間攪拌した。０℃の下、合成例５
で得た化合物(6) ９５２ｍｇ（２．６５ｍｍｏｌ）を塩
化メチレン５．８ｍｌに溶解して加え、次いで４−ジメ
チルアミノビリジン２２７ｍｇ（１．８６ｍｍｏｌ）を
加えた。０℃で３０分間攪拌した後、減圧濃縮した。こ
の混合物を酢酸エチルに懸濁し、１０％クエン酸水溶
液、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄
した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧濃縮
した。この混合物をヘキサンに懸濁し、濾過し、沈殿を
除き濾液を除き濾液を得た。濾液を減圧濃縮して得られ
た粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（Wa
ko-gel C-300. １３０ｇ、酢酸エチル：ヘキサン＝２：
８）で精製し、目的物(7) １．５ｇ（収率９２％；化合
物(6) より）を得た。 (7) Ｒｆ＝０．２１ （酢酸エチル：ヘキサン＝３：１７） Ｒｆ＝０．５０ （酢酸エチル：ヘキサン＝１：３） ［α］20 D −８７．５°（Ｃ＝１．３，ＣＨ3 ＯＨ） ＭＳ（FAB+，ｍ−ＮＢＡ）６１７（Ｍ（79Ｂｒ）＋１］
＋．５６１（Ｍ−ｔＢｕ）＋ 1 Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）δ：７．６
２５〜７．７６８（４Ｈ、ｍ，aromatic protons：Ａ
Ａ' ＢＢ' ）、５．４５６（１Ｈ，ｄ，１６．４Ｈｚ，
ＡＢ型のＡ部），５．２８６（１Ｈ，ｑ，７．３Ｈ
ｚ），５．２２２（１Ｈ，ｄ，１６．４Ｈｚ，ＡＢ型の
Ｂ部），５．２００（１Ｈ，ｑ，７．３Ｈｚ），５．１
４０（１Ｈ，ｑ，７．３Ｈｚ），４．３９７（１Ｈ，
ｑ，６．５Ｈｚ），１．６６９（３Ｈ，ｄ，７．３Ｈ
ｚ），１．５８３（６Ｈ，ｄ，７．３Ｈｚ），１．４４
６（３Ｈ，ｄ，６．５Ｈｚ），０．９０２（９Ｈ，ｓ，
ＴＢＤＭＳ），０．１０８（３Ｈ，ｓ，ＴＢＤＭＳ），
０．０８４（３Ｈ，ｓ，ＴＢＤＭＳ）
【００４２】（合成例７）
【化１１】 １００ｍｌ容のフラスコ中で、合成例６で得た化合物
(7) １．７１ｇ（２．７７ｍｍｏｌ）を室温下、テトラ
ヒドロフラン５．５ｍｌに溶解し、酢酸１．９０ｍｌ
（３３．１９ｍｍｏｌ）、１Ｍ濃度のテトラ−ｎ−ブチ
ルアンモニウムフルオリドのテトラヒドロフラン溶液
５．５４ｍｌ（５．５４ｍｍｏｌ）を順次加えた。室温
で２４時間攪拌後、酢酸エチルで希釈し、飽和炭酸水素
ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄した。有機層を無
水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧濃縮して得られた粗生
成物を酢酸エチル−ヘキサンより再結晶して、目的物
(8) １．１１ｇ（収率８０％）を得た。 (8) Ｒｆ＝０．４９ （酢酸エチル：ヘキサン＝１：１） ｍｐ：８８−８９℃ ［α］20 D −９３．８°（Ｃ＝０．９３，ＣＨ3 ＯＨ） ＭＳ（FAB+、ｍ−ＮＢＡ）５０３（Ｍ（79Ｂｒ）＋１］
＋．４３１［Ｍ（79Ｂｒ）−ＣＨ3 ＯＨ（ＯＨ）ＣＯ］
＋．３６１［Ｍ（79Ｂｒ）−２ｘＣＨ3 ＣＨ（ＯＨ）Ｃ
Ｏ］＋ 1 Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）δ：７．６
１９〜７．７７９（４Ｈ、ｍ，aromatic protons：Ａ
Ａ' ＢＢ' ）、５．４６９（１Ｈ，ｄ，１６．５Ｈｚ，
ＡＢ型のＡ部），５．２９９（１Ｈ，ｑ，７．０Ｈ
ｚ），５．２２８（１Ｈ，ｄ，１６．５Ｈｚ，ＡＢ型の
Ｂ部），５．２２５（１Ｈ，ｑ，７．３Ｈｚ）、５．２
０９（１Ｈ，ｑ、７．３Ｈｚ），４．３５９（１Ｈ，ｂ
ｒ，ｑ，７．０Ｈｚ），２．７３８（１Ｈ，ｂｒ．ｓ，
−ＯＨ），１．６６７（３Ｈ，ｄ，７．０Ｈｚ），１．
６１０（３Ｈ，ｄ，７．３Ｈｚ），１．６００（３Ｈ，
７．３，Ｈｚ），１．４９３（３Ｈ，ｄ，７．０Ｈｚ）
(7) １．７１ｇ（２．７７ｍｍｏｌ）を室温下、テトラ
ヒドロフラン５．５ｍｌに溶解し、酢酸１．９０ｍｌ
（３３．１９ｍｍｏｌ）、１Ｍ濃度のテトラ−ｎ−ブチ
ルアンモニウムフルオリドのテトラヒドロフラン溶液
５．５４ｍｌ（５．５４ｍｍｏｌ）を順次加えた。室温
で２４時間攪拌後、酢酸エチルで希釈し、飽和炭酸水素
ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄した。有機層を無
水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧濃縮して得られた粗生
成物を酢酸エチル−ヘキサンより再結晶して、目的物
(8) １．１１ｇ（収率８０％）を得た。 (8) Ｒｆ＝０．４９ （酢酸エチル：ヘキサン＝１：１） ｍｐ：８８−８９℃ ［α］20 D −９３．８°（Ｃ＝０．９３，ＣＨ3 ＯＨ） ＭＳ（FAB+、ｍ−ＮＢＡ）５０３（Ｍ（79Ｂｒ）＋１］
＋．４３１［Ｍ（79Ｂｒ）−ＣＨ3 ＯＨ（ＯＨ）ＣＯ］
＋．３６１［Ｍ（79Ｂｒ）−２ｘＣＨ3 ＣＨ（ＯＨ）Ｃ
Ｏ］＋ 1 Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）δ：７．６
１９〜７．７７９（４Ｈ、ｍ，aromatic protons：Ａ
Ａ' ＢＢ' ）、５．４６９（１Ｈ，ｄ，１６．５Ｈｚ，
ＡＢ型のＡ部），５．２９９（１Ｈ，ｑ，７．０Ｈ
ｚ），５．２２８（１Ｈ，ｄ，１６．５Ｈｚ，ＡＢ型の
Ｂ部），５．２２５（１Ｈ，ｑ，７．３Ｈｚ）、５．２
０９（１Ｈ，ｑ、７．３Ｈｚ），４．３５９（１Ｈ，ｂ
ｒ，ｑ，７．０Ｈｚ），２．７３８（１Ｈ，ｂｒ．ｓ，
−ＯＨ），１．６６７（３Ｈ，ｄ，７．０Ｈｚ），１．
６１０（３Ｈ，ｄ，７．３Ｈｚ），１．６００（３Ｈ，
７．３，Ｈｚ），１．４９３（３Ｈ，ｄ，７．０Ｈｚ）
【００４３】（合成例８）
【化１２】 １００ｍｌ容のフラスコ中で、合成例４で得た化合物
(5) １．６３ｇ（５．９０ｍｍｏｌ）を塩化メチレン
５．９ｍｌに溶解し、系を０℃とした。ここにジイソプ
ロピルカルボジイミド４８５ｍｇ（３．８４ｍｍｏｌ）
を加え、０℃で１０分間攪拌した。０℃の下、合成例７
で得た化合物(8) １．２９ｇ（２．５６ｍｍｏｌ）を塩
化メチレン５．９ｍｌに溶解して加え、次いで４−ジメ
チルアミノピリジン２１９ｍｇ（１．７９ｍｍｏｌ）を
加え、０℃で３０分間攪拌した後、減圧濃縮した。この
混合物を酢酸エチルに懸濁し、１０％クエン酸水溶液、
飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄し
た。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧濃縮し
た。この混合物をヘキサンに懸濁し、濾過し、沈殿を除
き濾液を得た。濾液を減圧濃縮して得られた粗生成物を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー（Wako-gel C-30
0. １３０ｇ、酢酸エチル：ヘキサン＝２：８）で精製
し、目的物(9) １．８０ｇ（収率９２％；化合物(8) よ
り）を得た。 (9) Ｒｆ＝０．３９ （酢酸エチル：ヘキサン＝１：３） ［α］20 D −１０４．４°（Ｃ＝０．１８，ＣＨ3 Ｏ
Ｈ） ＭＳ（FAB+，ｍ−ＮＢＡ）７６１（Ｍ（79Ｂｒ）＋１］
＋．７８３［（Ｍ（79Ｂｒ）＋Ｎａ］＋ 1 Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）δ：７．６
２６〜７．７７８（４Ｈ，ｍ，aromatic protons：Ａ
Ａ' ＢＢ' ）５．４６７（１Ｈ，ｄ，１６．２Ｈｚ，Ａ
Ｂ型のＡ部），５．２９１（１Ｈ，ｑ，７．０Ｈｚ），
５．２２５（１Ｈ，ｄ，１６．２Ｈｚ，ＡＢ型のＢ
部），５．１８８（１Ｈ，ｑ，７．３Ｈｚ），５．１８
１（１Ｈ，ｑ，６．８Ｈｚ），５．１７２（１Ｈ，ｑ，
６．８Ｈｚ），５．１３２（１Ｈ，ｑ，７．３Ｈｚ），
４．３９９（１Ｈ，ｑ，７．０Ｈｚ），１．６７３（３
Ｈ，ｄ，７．０Ｈｚ），１．５９２（３Ｈ，ｄ，７．３
Ｈｚ），１．５８４（６Ｈ，ｄ，６．８Ｈｚ），１．５
７６（３Ｈ，ｄ，７．３Ｈｚ），１．５３８（３Ｈ，
ｄ，７．０Ｈｚ），０．９０４（９Ｈ，ｓ，ＴＢＤＭ
Ｓ），０．１１０（３Ｈ，ｓ，ＴＢＤＭＳ），０．０８
７（３Ｈ，ｓ，ＴＢＤＭＳ）
(5) １．６３ｇ（５．９０ｍｍｏｌ）を塩化メチレン
５．９ｍｌに溶解し、系を０℃とした。ここにジイソプ
ロピルカルボジイミド４８５ｍｇ（３．８４ｍｍｏｌ）
を加え、０℃で１０分間攪拌した。０℃の下、合成例７
で得た化合物(8) １．２９ｇ（２．５６ｍｍｏｌ）を塩
化メチレン５．９ｍｌに溶解して加え、次いで４−ジメ
チルアミノピリジン２１９ｍｇ（１．７９ｍｍｏｌ）を
加え、０℃で３０分間攪拌した後、減圧濃縮した。この
混合物を酢酸エチルに懸濁し、１０％クエン酸水溶液、
飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄し
た。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧濃縮し
た。この混合物をヘキサンに懸濁し、濾過し、沈殿を除
き濾液を得た。濾液を減圧濃縮して得られた粗生成物を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー（Wako-gel C-30
0. １３０ｇ、酢酸エチル：ヘキサン＝２：８）で精製
し、目的物(9) １．８０ｇ（収率９２％；化合物(8) よ
り）を得た。 (9) Ｒｆ＝０．３９ （酢酸エチル：ヘキサン＝１：３） ［α］20 D −１０４．４°（Ｃ＝０．１８，ＣＨ3 Ｏ
Ｈ） ＭＳ（FAB+，ｍ−ＮＢＡ）７６１（Ｍ（79Ｂｒ）＋１］
＋．７８３［（Ｍ（79Ｂｒ）＋Ｎａ］＋ 1 Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）δ：７．６
２６〜７．７７８（４Ｈ，ｍ，aromatic protons：Ａ
Ａ' ＢＢ' ）５．４６７（１Ｈ，ｄ，１６．２Ｈｚ，Ａ
Ｂ型のＡ部），５．２９１（１Ｈ，ｑ，７．０Ｈｚ），
５．２２５（１Ｈ，ｄ，１６．２Ｈｚ，ＡＢ型のＢ
部），５．１８８（１Ｈ，ｑ，７．３Ｈｚ），５．１８
１（１Ｈ，ｑ，６．８Ｈｚ），５．１７２（１Ｈ，ｑ，
６．８Ｈｚ），５．１３２（１Ｈ，ｑ，７．３Ｈｚ），
４．３９９（１Ｈ，ｑ，７．０Ｈｚ），１．６７３（３
Ｈ，ｄ，７．０Ｈｚ），１．５９２（３Ｈ，ｄ，７．３
Ｈｚ），１．５８４（６Ｈ，ｄ，６．８Ｈｚ），１．５
７６（３Ｈ，ｄ，７．３Ｈｚ），１．５３８（３Ｈ，
ｄ，７．０Ｈｚ），０．９０４（９Ｈ，ｓ，ＴＢＤＭ
Ｓ），０．１１０（３Ｈ，ｓ，ＴＢＤＭＳ），０．０８
７（３Ｈ，ｓ，ＴＢＤＭＳ）
【００４４】（合成例９）
【化１３】 ５０ｍｌ容のフラスコ中で、合成例８で得られた化合物
(9) １．３０ｇ（１．７１ｍｍｏｌ）を室温下、テトラ
ヒドロフラン３．４ｍｌに溶解し、酢酸１．１７ｍｌ
（２０．４４ｍｍｏｌ）、１Ｍ濃度のテトラ−ｎ−ブチ
ルアンモニウムフルオリドのテトラヒドロフラン溶液
３．４２ｍｌ（３．４２ｍｍｏｌ）を順次加えた。室温
で２４時間攪拌後、酢酸エチルで希釈し、飽和炭酸水素
ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄した。有機層を無
水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧濃縮して得られた粗
生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（Wako-g
el C-300. １２０ｇ、酢酸エチル：ヘキサン＝１：１）
で精製し、目的物(10)１．００ｇ（収率９２％）を得
た。 (10) Ｒｆ＝０．４９ （酢酸エチル：ヘキサン＝１：１） ［α］20 D −１１６．１°（Ｃ＝１．１，ＣＨ3 ＯＨ） ＭＳ（FAB+、ｍ−ＮＢＡ）６４７（Ｍ（79Ｂｒ）＋１］
＋ 1 Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）δ：７．６
１６〜７．７７６（４Ｈ、ｍ，aromatic protons：Ａ
Ａ' ＢＢ' ）５．４６４（１Ｈ，ｄ，１６．５Ｈｚ、Ａ
Ｂ型のＡ部），５．２９１（１Ｈ，ｑ，７．０Ｈｚ），
５．２２６（１Ｈ，ｄ，１６．５Ｈｚ、ＡＢ型のＡ
部），５．２１５（１Ｈ，ｑ，７．３Ｈｚ），５．１８
８（２Ｈ，ｑ，７．０Ｈｚ），５．１８３（１Ｈ，ｑ，
７．０Ｈｚ），４．３５６（１Ｈ，ｑ，７．０Ｈｚ），
１．６７１（３Ｈ，ｄ，７．０Ｈｚ），１．５９８（９
Ｈ，ｄ，７．０Ｈｚ），１．５８５（３Ｈ，ｄ，７．３
Ｈｚ），１．４８９（３Ｈ，ｄ，７．０Ｈｚ）
(9) １．３０ｇ（１．７１ｍｍｏｌ）を室温下、テトラ
ヒドロフラン３．４ｍｌに溶解し、酢酸１．１７ｍｌ
（２０．４４ｍｍｏｌ）、１Ｍ濃度のテトラ−ｎ−ブチ
ルアンモニウムフルオリドのテトラヒドロフラン溶液
３．４２ｍｌ（３．４２ｍｍｏｌ）を順次加えた。室温
で２４時間攪拌後、酢酸エチルで希釈し、飽和炭酸水素
ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄した。有機層を無
水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧濃縮して得られた粗
生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（Wako-g
el C-300. １２０ｇ、酢酸エチル：ヘキサン＝１：１）
で精製し、目的物(10)１．００ｇ（収率９２％）を得
た。 (10) Ｒｆ＝０．４９ （酢酸エチル：ヘキサン＝１：１） ［α］20 D −１１６．１°（Ｃ＝１．１，ＣＨ3 ＯＨ） ＭＳ（FAB+、ｍ−ＮＢＡ）６４７（Ｍ（79Ｂｒ）＋１］
＋ 1 Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）δ：７．６
１６〜７．７７６（４Ｈ、ｍ，aromatic protons：Ａ
Ａ' ＢＢ' ）５．４６４（１Ｈ，ｄ，１６．５Ｈｚ、Ａ
Ｂ型のＡ部），５．２９１（１Ｈ，ｑ，７．０Ｈｚ），
５．２２６（１Ｈ，ｄ，１６．５Ｈｚ、ＡＢ型のＡ
部），５．２１５（１Ｈ，ｑ，７．３Ｈｚ），５．１８
８（２Ｈ，ｑ，７．０Ｈｚ），５．１８３（１Ｈ，ｑ，
７．０Ｈｚ），４．３５６（１Ｈ，ｑ，７．０Ｈｚ），
１．６７１（３Ｈ，ｄ，７．０Ｈｚ），１．５９８（９
Ｈ，ｄ，７．０Ｈｚ），１．５８５（３Ｈ，ｄ，７．３
Ｈｚ），１．４８９（３Ｈ，ｄ，７．０Ｈｚ）
【００４５】（合成例１０）
【化１４】 ５０ｍｌ容のフラスコ中で、合成例４で得られた化合物
(5) ６３５ｍｇ（２．３０ｍｍｏｌ）を塩化メチレン
２．３ｍｌに溶解し、系を０℃とした。ここに、ジイソ
プロピルカルボジイミド２１８ｍｇ（１．７３ｍｍｏ
ｌ）を加え、０℃で１０分間攪拌した。０℃の下、合成
例９で得た化合物(10)７４４ｍｇ（１．１７ｍｍｏｌ）
を塩化メチレン２．３ｍｌに溶解して加え、次いで４−
ジメチルアミノピリジン９８ｍｇ（０．８０ｍｍｏｌ）
を加え、０℃で３０分間攪拌した後、減圧濃縮した。こ
の混合物を酢酸エチルに懸濁し、１０％クエン酸水溶
液、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄
した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧濃縮
した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー（Wako-gel C-300. ２００ｇ、酢酸エチル：ヘ
キサン＝２：８）で精製し、目的物(11)８１９ｍｇ（収
率７７％、化合物(10)より）を得た。 (11) Ｒｆ＝０．２８ （酢酸エチル：ヘキサン＝１：３） ［α］20 D −１２１．１°（Ｃ＝０．３６，ＣＨ3 Ｏ
Ｈ） ＭＳ（FAB+，ｍ−ＮＢＡ）９０５［Ｍ（79Ｂｒ）＋１］
＋．９２９［Ｍ（79Ｂｒ）＋Ｎａ］＋ 1 Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）δ：７．６
２４〜７．７７５（４Ｈ，ｍ，aromatic protons：Ａ
Ａ' ＢＢ' ），５．４６１（１Ｈ，ｄ，１６．５Ｈｚ，
ＡＢ型のＡ部），５．２８８（１Ｈ，ｑ，７．３Ｈ
ｚ），５．２２８（１Ｈ，ｄ，１６．５Ｈｚ，ＡＢ型の
Ｂ部），５．１３１（１Ｈ，ｑ，７．３Ｈｚ），５．１
２８〜５．２２８（５Ｈ、ｍ），４．３９８（１Ｈ，
ｑ，７．０Ｈｚ），１．６６９（３Ｈ，ｄ，７．０Ｈ
ｚ），１．５９０（３Ｈ，ｄ，７．０Ｈｚ），１．５８
１（１２Ｈ，ｄ，７．３Ｈｚ），１．５７４（３Ｈ，
ｄ，７．０Ｈｚ），１．４４６（３Ｈ，ｄ，７．０Ｈ
ｚ），０．９０２（９Ｈ，ｓ，ＴＢＤＭＳ），０．１０
９（３Ｈ，ｓ，ＴＢＤＭＳ），０．０８６（３Ｈ，ｓ，
ＴＢＤＭＳ）
(5) ６３５ｍｇ（２．３０ｍｍｏｌ）を塩化メチレン
２．３ｍｌに溶解し、系を０℃とした。ここに、ジイソ
プロピルカルボジイミド２１８ｍｇ（１．７３ｍｍｏ
ｌ）を加え、０℃で１０分間攪拌した。０℃の下、合成
例９で得た化合物(10)７４４ｍｇ（１．１７ｍｍｏｌ）
を塩化メチレン２．３ｍｌに溶解して加え、次いで４−
ジメチルアミノピリジン９８ｍｇ（０．８０ｍｍｏｌ）
を加え、０℃で３０分間攪拌した後、減圧濃縮した。こ
の混合物を酢酸エチルに懸濁し、１０％クエン酸水溶
液、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄
した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧濃縮
した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー（Wako-gel C-300. ２００ｇ、酢酸エチル：ヘ
キサン＝２：８）で精製し、目的物(11)８１９ｍｇ（収
率７７％、化合物(10)より）を得た。 (11) Ｒｆ＝０．２８ （酢酸エチル：ヘキサン＝１：３） ［α］20 D −１２１．１°（Ｃ＝０．３６，ＣＨ3 Ｏ
Ｈ） ＭＳ（FAB+，ｍ−ＮＢＡ）９０５［Ｍ（79Ｂｒ）＋１］
＋．９２９［Ｍ（79Ｂｒ）＋Ｎａ］＋ 1 Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ）δ：７．６
２４〜７．７７５（４Ｈ，ｍ，aromatic protons：Ａ
Ａ' ＢＢ' ），５．４６１（１Ｈ，ｄ，１６．５Ｈｚ，
ＡＢ型のＡ部），５．２８８（１Ｈ，ｑ，７．３Ｈ
ｚ），５．２２８（１Ｈ，ｄ，１６．５Ｈｚ，ＡＢ型の
Ｂ部），５．１３１（１Ｈ，ｑ，７．３Ｈｚ），５．１
２８〜５．２２８（５Ｈ、ｍ），４．３９８（１Ｈ，
ｑ，７．０Ｈｚ），１．６６９（３Ｈ，ｄ，７．０Ｈ
ｚ），１．５９０（３Ｈ，ｄ，７．０Ｈｚ），１．５８
１（１２Ｈ，ｄ，７．３Ｈｚ），１．５７４（３Ｈ，
ｄ，７．０Ｈｚ），１．４４６（３Ｈ，ｄ，７．０Ｈ
ｚ），０．９０２（９Ｈ，ｓ，ＴＢＤＭＳ），０．１０
９（３Ｈ，ｓ，ＴＢＤＭＳ），０．０８６（３Ｈ，ｓ，
ＴＢＤＭＳ）
【００４６】
【発明の効果】本発明のＬ−乳酸オリゴマー誘導体は、
新規な化合物であり、重合度の異なった同族体を含有し
ないすなわち一定の鎖長を有する純粋な化合物である。
これらの化合物は、植物、動物に対する生物活性検定の
為の標準物質として、また近年盛んに研究されている生
体適合性材料、ドラッグデリバリーシステムの研究分野
に非常に有効なものである。
新規な化合物であり、重合度の異なった同族体を含有し
ないすなわち一定の鎖長を有する純粋な化合物である。
これらの化合物は、植物、動物に対する生物活性検定の
為の標準物質として、また近年盛んに研究されている生
体適合性材料、ドラッグデリバリーシステムの研究分野
に非常に有効なものである。
Claims (1)
- 【請求項１】 下記一般式(I) で示されるＬ−乳酸オリ
ゴマー誘導体： 【化１】 ここで、Ｒ1 は、Ｈ、アルキル基、アリール基、アシル
基またはシリル基を示し、Ｒ2 は、Ｈ、アルキル基また
はアリール基を示し、ただしＲ1 およびＲ2 が共にＨと
なることはなく、ｎは、０〜２０の整数を示す。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7217345A JPH0959218A (ja) | 1995-08-25 | 1995-08-25 | Ｌ−乳酸オリゴマー誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7217345A JPH0959218A (ja) | 1995-08-25 | 1995-08-25 | Ｌ−乳酸オリゴマー誘導体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0959218A true JPH0959218A (ja) | 1997-03-04 |
Family
ID=16702727
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7217345A Pending JPH0959218A (ja) | 1995-08-25 | 1995-08-25 | Ｌ−乳酸オリゴマー誘導体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0959218A (ja) |
Cited By (9)
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| US6416742B1 (en) | 1997-02-07 | 2002-07-09 | 3M Innovative Properties Company | Medicinal aerosol solution formulation with biocompatible polymer |
| JP2002348451A (ja) * | 2001-05-24 | 2002-12-04 | Kanebo Ltd | ポリ乳酸系樹脂組成物 |
| WO2003070684A1 (fr) * | 2002-02-19 | 2003-08-28 | Amato Pharmaceutical Products, Ltd. | Procede de production d'un ester d'acide oligolactique a chaine |
| WO2003016259A3 (de) * | 2001-08-16 | 2003-09-12 | Pharmacon Forschung & Beratung Gmbh | Milchsäureelemente enthaltende verbindungen, deren herstellung sowie deren verwendung als pharmazeutische wirkstoffe |
| EP1484317A1 (en) * | 2002-02-19 | 2004-12-08 | Amato Pharmaceutical Products, Ltd. | Lactic acid derivative |
| WO2004108654A1 (ja) * | 2003-06-03 | 2004-12-16 | Tokai Education Instruments Co., Ltd. | 鎖状乳酸オリゴマー誘導体およびその製造方法 |
| WO2005077882A1 (ja) * | 2004-02-18 | 2005-08-25 | Tokai Education Instruments Co., Ltd. | 側鎖に置換基を有するオリゴ乳酸エステル |
| KR100517253B1 (ko) * | 2001-10-18 | 2005-09-28 | 주식회사 삼양사 | ｐＨ 변화에 따라 고분자 미셀을 형성하는 생분해성폴리락트산 유도체 및 이를 이용한 난용성 약물 전달체 |
| US7597897B2 (en) | 2003-12-30 | 2009-10-06 | 3M Innovative Properties Company | Medicinal compositions and method for the preparation thereof |
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| JPH0665359A (ja) * | 1992-08-19 | 1994-03-08 | Takasago Internatl Corp | 生分解性光学活性ポリエステルおよびその製造方法 |
| JPH06228287A (ja) * | 1993-02-04 | 1994-08-16 | Toyobo Co Ltd | 水酸基末端をエステル封鎖したポリ乳酸およびその製造法 |
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-
1995
- 1995-08-25 JP JP7217345A patent/JPH0959218A/ja active Pending
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