JPH0954311A - 液晶デバイスの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 注入時に付着した調光層形成材料部分を容易
に除去可能な液晶デバイスの製造方法を提供する。 【解決手段】 電極層を有する少なくとも一方が透明な
２枚の基板と該基板の周縁部が注入口部分を除いてシー
ル剤で封止されているセルに、（１）液晶材料、（２）
重合性組成物及び（３）重合開始剤を含有する調光層形
成材料を注入した後、活性光線を照射することにより前
記光重合性組成物を重合させて、２枚の基板間に液晶材
料及び透明性固体物質を含有する調光層を形成する液晶
デバイスの製造方法において、調光層形成材料が接触付
着するセルの周縁部分を、予め剥離可能な材料又は溶解
除去可能な材料で被覆した後、調光層形成材料を注入す
る液晶デバイスの製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、大面積になし得る
液晶デバイスの製造方法に関し、更に詳しくは、視野の
遮断、開放及び明かりもしくは照明光の透過制限、遮
断、透過を電気的に操作し得るものであって、建物の窓
やショーウインドウなどで視野遮断のスクリーンや、採
光コントロールのカーテンに利用されると共に、文字や
図形を表示し、高速応答性を以って電気的に表示を切り
換えることによって、ＯＡ機器のディスプレイやプロジ
ェクション用デバイス等のハイインフォーメーション表
示体や広告板、案内板、装飾表示板等として利用される
液晶デバイスの製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】偏光板及び配向処理を要さず、明るく、
コントラストが高く、大型で廉価な液晶デバイスとし
て、特表昭５８−５０１６３１号公報、ＵＳＰ４，４３
５，０４７号明細書、特表昭６１−５０１３４５号公
報、特開昭６２−４８７８９号公報等には、液晶のカプ
セル化により、ポリマー中に液晶滴を分散させ、そのポ
リマーをフィルム化して成る調光層を有する液晶デバイ
スが知られている。

【０００３】上記の明細書中で開示された技術において
は、ポリビニルアルコールによってカプセル化された液
晶分子は、それが薄層中で正の誘電率異方性を有するも
のであれば、電界の存在下で液晶分子は電界の方向に配
列し、液晶の常光屈折率ｎ_oとポリマーの屈折率ｎ_p が
等しいときには、透明性を発現する。電界が除かれる
と、液晶分子はランダム配列に戻り、液晶滴の屈折率が
ｎ_o よりずれるため、液晶滴はその境界面で光を散乱
し、光の透過を遮断するので、薄層体は白濁する。

【０００４】このように、カプセル化された液晶を分散
包蔵したポリマーを薄膜としている技術は上記のもの以
外にもいくつか知られており、例えば、特表昭６１−５
０２１２８号公報には、液晶がエポキシ樹脂中に分散し
たもの、特願昭６１−３０５５２８号公報及び特開昭６
２−２２３１号公報には、光硬化性樹脂と液晶の混合液
に紫外線を照射することによって、液晶と光硬化性樹脂
とを相分離させて、液晶が樹脂中に分散した調光層を形
成する方法がそれぞれ報告されている。

【０００５】このような調光層を有する液晶デバイスに
おける駆動電圧は約２０Ｖ以上も必要であり、多くの場
合４０Ｖ以上の高電圧を必要とするものであった。

【０００６】更に、液晶デバイスに必要な光散乱性能、
光透過性能を得るためには、液晶材料と樹脂成分の屈折
率の一致、不一致を最適化しなければならず、液晶材料
と樹脂材料の組合せを選択する上で制限があった。

【０００７】このような問題点から、前述の如き液晶デ
バイスの実用化に要求される重要な特性である低電圧駆
動特性、高コントラスト及び時分割駆動を可能としたも
のとして、特開平１−１９８７２５号公報及び特開平２
−８５８２２号公報には、液晶材料が連続層を形成し、
この連続層中に、三次元網目状の高分子物質を形成して
成る調光層を有する液晶デバイスが開示されている。

【０００８】このような液晶デバイスは、電極層を有す
る透明な２枚の基板間に、液晶材料、光重合性組成物及
び光重合開始剤を含有する調光層形成材料を介在させ、
調光層形成材料の等方性液体状態において活性光線を照
射して前記光重合性組成物を重合させることによって、
前述のような液晶材料と透明性高分子物質から成る調光
層を有する高性能な液晶デバイスを製造することができ
るものである。

【０００９】この液晶デバイスの製造方法において、予
め２枚の電極付き基板を、注入口を設け周縁部をシール
剤で固め貼り合わせた空セルに、調光層形成材料を注入
し、電極付き基板間に調光層形成材料を介在させ、更に
光硬化性封口剤を注入口部分に塗布した後に紫外線等の
活性光線を照射する方法が採られている。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】この方法においては、
注入時に、重合性組成物を含んだ調光層形成材料が注入
口部分の外側周縁部に付着し、紫外線照射によって重合
性化合物が硬化してしまい、その部分の付着物を除去す
ることが困難であった。特に、この現象は、大面積の空
セルにおいて顕著である。すなわち、比較的小面積の空
セルにおいては、注入される必要量のみを、注入口部分
の外側周縁部に付着させることなく注入可能であるが、
比較的大面積の空セルの場合、注入される必要量が多
く、注入口外側周縁部に付着させることなく注入するに
は、ディスペンサー等を使用することによって可能であ
るが、注入装置の価格あるいは歩留まりの面から、通常
使用されることはない。

【００１１】本発明が解決しようとする課題は、注入時
に付着した調光層形成材料部分を容易に除去可能な液晶
デバイスの製造方法を提供することにある。

【００１２】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決するために鋭意検討した結果、本発明を完成する
に至った。

【００１３】即ち、本発明は上記課題を解決するため
に、電極層を有する少なくとも一方が透明な２枚の基板
と該基板の周縁部が注入口部分を除いてシール剤で封止
されているセルに、（１）液晶材料、（２）重合性組成
物及び（３）重合開始剤を含有する調光層形成材料を注
入した後、活性光線を照射することにより前記光重合性
組成物を重合させて、２枚の基板間に液晶材料及び透明
性固体物質を含有する調光層を形成する液晶デバイスの
製造方法において、調光層形成材料が接触付着するセル
の周縁部分を、予め剥離可能な材料又は溶解除去可能な
材料で被覆した後、調光層形成材料を注入することを特
徴とする液晶デバイスの製造方法を提供する。

【００１４】調光層形成材料が接触付着するセルの周縁
部分を予め剥離可能な材料で被覆した後、調光層形成材
料を注入することにより、調光層形成材料がセル端部外
周部に直接付着することを防止するとともに、注入終了
後、剥離可能な材料を剥離することによって、ふき取り
や溶剤洗浄、その他の洗浄に依らず、容易に付着物を除
去できる。また、調光層形成材料が接触付着するセルの
周縁部分を予め溶解除去可能な材料で被覆した後、調光
層形成材料を注入することにより、活性光線を照射した
後、溶媒で洗浄し、溶解除去可能な材料と付着物とを同
時に容易に除去できる。

【００１５】本発明で使用する基板は、堅固な材料、例
えば、ガラス、金属等であってもよく、柔軟性を有する
材料、例えば、プラスチックフィルムの如きものであっ
ても良い。そして、基板は２枚が対向して適当な間隔を
隔て得るものであり、その少なくとも一方は透明性を有
し、その２枚の間に挟持される調光層を外界から視覚さ
せるものでなければならない。但し、完全な透明性を必
須とするものではない。もし、この液晶デバイスが、デ
バイスの一方の側から他方の側へ通過する光に対して作
用させるために使用される場合には、２枚の基板は共に
適宜な透明性が与えられる。この基板には、目的に応じ
て透明、不透明の適宜な電極が、その全面又は部分的に
配置されても良い。

【００１６】なお、２枚の基板間には、液晶材料及び透
明性固体物質から成る調光層が介在されるが、この２枚
の基板間には、通常、周知の液晶デバイスと同様、間隔
保持用のスペーサーを介在させることもできる。

【００１７】スペーサーとしては、例えば、マイラー、
アルミナ、ポリマービ−ズ等種々の液晶セル用のものを
用いることができる。

【００１８】本発明で使用する液晶材料は、単一の液晶
化合物であることを要しないのは勿論であり、２種以上
の液晶化合物や液晶化合物以外の物質を含んだ混合物で
あってもよく、通常この技術分野で液晶材料として認識
されるものであればよく、そのうちの正の誘電率異方性
を有するものが好ましい。用いる液晶としては、ネマチ
ック液晶、スメクチック液晶、コレステリック液晶が好
ましく、ネマチック液晶が特に好ましい。その性能を改
善するために、コレステリック液晶、キラルネマチック
液晶、キラルスメクチック液晶やキラル化合物や２色性
色素等が適宜含まれていてもよい。

【００１９】本発明で使用する液晶材料は、以下に示し
た化合物群から選ばれる１種以上の化合物から成る配合
組成物が好ましく、液晶材料の特性、即ち、等方性液体
と液晶の相転移温度、融点、粘度、屈折率異方性（Δ
ｎ）、誘電率異方性（Δε）、及び重合性組成物との溶
解性等を考慮して、適宜選択、配合して用いることがで
きる。

【００２０】そのような液晶材料としては、安息香酸エ
ステル系、シクロヘキシルカルボン酸エステル系、ビフ
ェニル系、ターフェニル系、フェニルシクロヘキサン
系、ビフェニルシクロヘキサン系、ピリミジン系、ピリ
ジン系、ジオキサン系、シクロヘキサンシクロヘキサン
エステル系、シクロヘキシルエタン系、トラン系、アル
ケニル系等の各種液晶化合物が使用される。

【００２１】本発明で使用する液晶材料としては、例え
ば、４−置換安息香酸４’−置換フェニルエステル、４
−置換シクロヘキサンカルボン酸４′−置換フェニルエ
ステル、４−置換シクロヘキサンカルボン酸４′−置換
ビフェニルエステル、４−（４−置換シクロヘキサンカ
ルボニルオキシ）安息香酸４′−置換フェニルエステ
ル、４−（４−置換シクロヘキシル）安息香酸４′−置
換フェニルエステル、４−（４−置換シクロヘキシル）
安息香酸４′−置換シクロヘキシルエステル、４−置換
４′−置換ビフェニル、４−置換フェニル４′−置換シ
クロヘキサン、４−置換４″−置換ターフェニル、４−
置換ビフェニル４′−置換シクロヘキサン、２−（４−
置換フェニル）−５−置換ピリミジンなどを挙げること
ができる。

【００２２】調光層形成材料中の液晶材料及び重合性組
成物の含有量は、重量比で６０：４０〜９５：５の範囲
が好ましく、７５：２５〜８５：１５の範囲が特に好ま
しい。液晶材料がこの範囲よりも多すぎたり少なすぎる
場合、液晶材料と透明性固体物質の分散状態が均一にな
らないので、光散乱による調光機能が発現しなくなる傾
向にあり、好ましくない。

【００２３】調光層中に形成される透明性固体物質は、
ポリマー中に液晶材料が液滴状となって分散するもので
もよいが、三次元網目状構造を有するものがより好まし
い。

【００２４】液晶材料の連続層中で透明性固体物質が三
次元網目状に形成されていることが好ましく、液晶材料
の無秩序な配向状態を形成することにより、光学的境界
面を形成し、光の強い散乱を発現させることができる。

【００２５】透明性固体物質としては、合成樹脂が好適
である。三次元網目状構造を与えるものとしては、高分
子形成性モノマー若しくはオリゴマー又はそれらの配合
物から成る重合性組成物を重合させて得られる光硬化型
樹脂が好適である。

【００２６】液晶材料の連続層中に三次元網目状構造を
有する透明性固体物質を形成させる方法としては、パネ
ル中に封入された調光層形成材料を等方性液体状態に保
持しながら活性光線を照射し、重合性組成物を重合させ
る方法が挙げられる。

【００２７】高分子形成性モノマ−としては、例えば、
スチレン、クロロスチレン、α−メチルスチレン、ジビ
ニルベンゼン：置換基としては、メチル、エチル、プロ
ピル、ブチル、アミル、２−エチルヘキシル、オクチ
ル、ノニル、ドデシル、ヘキサデシル、オクタデシル、
シクロヘキシル、ベンジル、メトキシエチル、ブトキシ
エチル、フェノキシエチル、アルリル、メタリル、グリ
シジル、２−ヒドロキシエチル、２−ヒドロキシプロピ
ル、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル、ジメチルア
ミノエチル、ジエチルアミノエチル等のごとき基を有す
るアクリレート、メタクリレート又はフマレート；エチ
レングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレン
グリコール、ポリプロピレングリコール、１，３−ブチ
レングリコール、テトラメチレングリコール、ヘキサメ
チレングリコール、ネオペンチルグリコール、トリメチ
ロールプロパン、グリセリン及びペンタエリスリトール
等のモノ（メタ）アクリレート又はポリ（メタ）アクリ
レート；酢酸ビニル、酪酸ビニル又は安息香酸ビニル、
アクリロニトリル、セチルビニルエーテル、リモネン、
シクロヘキセン、ジアリルフタレート、ジアリルイソフ
タレート、２−、３−又は４−ビニルピリジン、アクリ
ル酸、メタクリル酸、アクリルアミド、メタクリルアミ
ド、Ｎ−ヒドロキシメチルアクリルアミド又はＮ−ヒド
ロキシエチルメタクリルアミド及びそれらのアルキルエ
ーテル化合物、トリメチロールプロパン、１モルに３モ
ル以上のエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサ
イドを付加して得たトリオールのジ又はトリ（メタ）ア
クリレート、ネオペンチルグリコール１モルに２モル以
上のエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイド
を付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、２
−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート１モルとフェ
ニルイソシアネート若しくはｎ−ブチルイソシアネート
１モルとの反応生成物、ジペンタエリスリトールのポリ
（メタ）アクリレート、トリス−（ヒドロキシエチル）
−イソシアヌル酸のポリ（メタ）アクリレート、トリス
−（ヒドロキシエチル）−リン酸のポリ（メタ）アクリ
レート、ジ−（ヒドロキシエチル）−ジシクロペンタジ
エンのモノ（メタ）アクリレート又はジ（メタ）アクリ
レート、ピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）
アクリレート、カプロラクトン変性ヒドロキシピバリン
酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、直
鎖脂肪族ジ（メタ）アクリレート、ポリオレフィン変性
ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等を挙
げることができる。

【００２８】高分子形成性オリゴマーとしては、例え
ば、エポキシ（メタ）アクリレート、ポリエステル（メ
タ）アクリレート、ポリウレタン（メタ）アクリレー
ト、ポリエーテル（メタ）アクリレート等を用いること
ができる。

【００２９】重合開始剤としては、例えば、２−ヒドロ
キシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン
（メルク社製「ダロキュア１１７３」）、１−ヒドロキ
シシクロヘキシルフェニルケトン（チバ・ガイギー社製
「イルガキュア１８４」）、１−（４−イソプロピルフ
ェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−
オン（メルク社製「ダロキュア１１１６」）、ベンジル
ジメチルケタール（チバ・ガイギー社製「イルガキュア
６５１」）、２−メチル−１−〔４−（メチルチオ）フ
ェニル〕−２−モルホリノプロパノン−１（チバ・ガイ
ギー社製「イルガキュア９０７」）、２，４−ジエチル
チオキサントン（日本化薬社製「カヤキュアＤＥＴ
Ｘ」）とｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル（日本化薬
社製「カヤキュア−ＥＰＡ」）との混合物、イソプロピ
ルチオキサントン（ワードプレキンソップ社製「カンタ
キュアＩＴＸ」）とｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル
との混合物等が挙げられる。

【００３０】活性光線としては、紫外線、ＥＢ（エレク
トロンビーム）、可視光線等が挙げられるが、操作性、
硬化性の面から紫外線を使用することが好ましい。

【００３１】本発明の製造方法で得られる液晶デバイス
の調光層の厚みは、５〜１００μｍの範囲が好ましく、
８〜５０μｍの範囲が特に好ましい。

【００３２】調光層形成材料を２枚の基板間に介在させ
るには、注入孔部分を除いた周辺部をシール材で固めた
２枚の基板より成る空セルにこの調光層形成材料を注入
して行う。

【００３３】調光層形成材料が接触付着するセルの周縁
部分を予め被覆する際に使用する剥離可能な材料は、調
光層形成材料が剥離可能な材料とセル表面との間隙に入
り込まない程度以上にセル表面と密着性を有すると共
に、セルから容易に剥離可能で、かつ調光層形成材料の
特性に対して、悪影響を与えない材料であれば何でも良
く、そのような材料としては、市販の「セロハンテー
プ」（ニチバン社製のセロファン粘着テープ）、ビニー
ルテープ等の接着性層を有するフィルム状の材料や塗膜
形成性を有する材料が上げられる。また、剥離しにくい
材料であっても、セル表面に離形剤を予め塗布すること
により、剥離性を容易にすれば使用できる。

【００３４】剥離性の塗膜を形成する方法としては、塗
膜形成性の重合性モノマー、オリゴマー又はそれらの配
合組成物を必要に応じ重合開始剤を添加し、希釈剤で希
釈した上で、セル端部外周縁部に塗布し、その後、加熱
又は光等の重合用エネルギーを供給し、重合硬化するこ
とによる方法、あるいは溶媒可溶性で塗膜形成能のある
樹脂を溶媒に溶かした溶液を、同様に塗布、乾燥させた
後、硬化させてなる溶媒キャスティング法等が挙げられ
る。

【００３５】これらの方法に用いられる重合硬化物や樹
脂類は、基板との密着性がよく、また剥離性が良好であ
ることが好ましく、そのような特性として引っ張り強度
が１００ｋｇ／ｃｍ² 以上で、かつ伸び率が３０％以下
である材料が好ましく、引っ張り強度が３００ｋｇ／ｃ
ｍ² 以上で、伸び率が１０％以下である材料が特に好ま
しい。

【００３６】そのような光硬化性のモノマー又はオリゴ
マーは、非極性のものが好ましく、また液晶への溶解性
を小さくするためには架橋構造をとっていることが好ま
しく、そのためには多官能モノマー、オリゴマーが配合
されていることが望ましい。そのようなモノマー、オリ
ゴマー又はそれらの配合組成物としては、例えば、日本
化薬社製の「カヤラッド（KAYARAD） ＨＸ−２２０」、
「カヤラッド Ｒ−５２６」、「カヤラッド Ｒ−５５
１」、「カヤラッド Ｒ−７１２」、「カヤラッド Ｔ
ＰＡ−３２０」、「カヤラッド ＴＰＡ−３３０」、
「カヤラッド ＨＢＡ−０２４Ｅ」、「カヤラッド Ｄ
ＰＣＡ−２０」、「カヤラッド ＤＰＣＡ−３０」、
「カヤラッド Ｄ−３１０」、「カヤラッド Ｄ−３３
０」、東亞合成社製の「Ｍ−３１５」、「Ｍ−３１
０」、「Ｍ−６５００」、「Ｍ−６１００」、「Ｍ−６
２００」、「Ｍ−６２５０」、新中村化学社製の「ＮＫ
エステルＡＰＧ−２００」、「ＮＫエステル ＡＰＧ−
４００」、「ＮＫエステル ＡＰＧ−７００」、「ＮＫ
エステル Ａ−ＢＰＥ−４」、「ＮＫエステル ＢＰＥ
−１００」、「ＮＫエステル ＢＰＥ−２００」、「Ｎ
Ｋエステル ＢＰＥ−５００」、共栄化学社製の「ＢＰ
−４ＰＡ」、「ＢＰ−４ＥＡ」、「ＢＰ−２ＰＡ」、
「ＢＡ−１３４」、「ライトエステル ＢＬＰ−２Ｅ
Ｍ」、「ライトエステル１・１０ＤＣ」、サンノプコ社
製の「フォトマー４０２８」、「フォトマー４０７
２」、「フォトマー４０９４」、「フォトマー４１２
６」、「フォトマー４１２７」、「フォトマー４１４
９」、スリーボンド社製の「３０５１」、「３０４
２」、「３０６２Ｄ」、「３０２６」、「３０５４」、
積水ファインケミカル社製の「フォトレックＡ−７０
４」、「フォトレックＡ−７１４」などが挙げられる。

【００３７】溶媒キャスティング法より成る塗膜に用い
られる樹脂は汎用のアクリル樹脂、スチレン樹脂、ポリ
カーボネート等が用いられる。

【００３８】熱重合法を用いる場合は、空セル作製にお
ける熱硬化性シール材の硬化条件と一致する塗膜形成材
料を用い、空セル作製と同時に塗膜形成が可能になるこ
とも有用である。

【００３９】作業性の面では、紫外線硬化性の材料が好
ましい。紫外線硬化法を用いる場合は、空気の影響で表
面硬化性が損なわれ、未硬化部分が残ることが多々ある
が、その場合は窒素等のイナートガス雰囲気下で硬化さ
せれば良い。

【００４０】一般的なフィルムや塗料用塗膜で実用上問
題となる耐久性等は問題とならず１回使いきりでよく、
それだけ使用範囲の高分子種は拡大できる。

【００４１】調光層形成材料が接触付着するセルの周縁
部分を予め被覆する際に使用する溶解除去可能な材料
は、一般的に用いられるレジスト手法に用いられる材料
が有効であり、塗布し硬化した後、目的の使用後に特定
の溶剤・水等で洗い流すことができる材料で有れば良
い。

【００４２】例えば、調光層形成材料が接触付着するセ
ルの周縁部分に塗布、乾燥させたポリビニルアルコール
は、調光層形成材料を注入し、注入口に封口材を塗布し
た後、活性光線照射により調光層を形成し、注入口を封
止した後、水等の洗浄液で洗うことによって、注入口周
縁部に付着した調光層形成材料の重合硬化物と共に溶解
除去することができる。

【００４３】

【実施例】以下、実施例を用いて本発明を更に具体的に
説明する。しかしながら、本発明はこれらの実施例に限
定されるものではない。

【００４４】以下の実施例において「部」及び「％」は
各々『重量部』及び『重量％』を表わす。また、評価特
性の各々は以下の記号及び内容を意味する。

【００４５】（１）Ｔ₀：白濁度；印加電圧０の時の光
透過率（％） （２）Ｔ₁₀₀：透明度；印加電圧を増加さていき光透過
率がほとんど増加しなくなった時の光透過率（％） （３）Ｖ₉₀：飽和電圧；同上光透過率が９０％となる印
加電圧（Ｖ_rms） また、紫外線の照度は、ウシオ電機社製の受光器ＵＶＤ
−３６５ＰＤ付きユニメータ（ＵＩＴ−１０１）を用い
て測定した。

【００４６】（実施例１）ＩＴＯ電極を形成した厚み
１．１ｍｍの２枚の透明ガラス基板の一方の基板上に１
２ミクロンのポリマービーズ（積水ファインケミカル社
製ミクロパールＳＰ２１０）から成るスペーサーを散布
し、他方の基板の周縁部に、シール剤「ＤＳＡ−００
１」（ロディック社製）を、短辺方向の端部中央部に約
５ｍｍの大きさの注入口部分を除いて塗布し、２枚の基
板を貼り合わせた後、焼成硬化させて、２０ｃｍ×３０
ｃｍ角、セル厚１２μｍの空セルを作製した。

【００４７】次に、空セルのうち注入時に調光層形成材
料に漬ける側であって、その端部から約１０ｍｍまでの
間のセル表面の周囲に、紫外線硬化型樹脂組成物「フォ
トレックＡ−７０４−１８０」（積水ファインケミカル
社製）を塗布した後、紫外線照射することによって硬化
させて剥離可能な被膜を形成した。

【００４８】液晶組成物として「ＰＮ−００１」（ロデ
ィック社製）７９％、光重合性組成物として「カヤラッ
ドＨＸ−６２０」（日本化薬社製カプロラクトン変性ヒ
ドロキシピバリン酸エステルネオペンチルグリコールジ
アクリレート）１０．２％、ラウリルアクリレート（東
京化成社製）１０．０％及び光重合開始剤として「イル
ガキュア６５１」（チバガイギー社製ベンジルジメチル
ケタ−ル）０．８％から成る調光層形成材料を調製し、
真空チャンバー内の液晶皿に入れ、予め真空引き済みの
空セルの温度を４０℃に保ちながら該空セルを液晶槽に
漬けた後、真空をリークして徐々に常圧に戻し、空セル
内に調光層形成材料を注入した。

【００４９】このようにして調光層形成材料を注入した
セルを取り出した後、「フォトレックＡ−７０４−１８
０」（積水ファインケミカル社製）から成る剥離可能な
被膜を剥離した後、注入口に光硬化性封口剤「スリーボ
ンド３０５１」（スリーボンド社製）を塗布し、３６℃
に保ちながら、基板の照射面の照度を４０ｍＷ／ｃｍ ²
となる紫外線を３０秒間照射して、調光層形成材料中の
光重合性組成物及び光硬化性封口剤を硬化させて、白濁
不透明な調光層を有する液晶デバイスを得た。

【００５０】このようにして得た液晶デバイスの印加電
圧と光透過率の関係を測定した結果、Ｔ₀＝２．９％、
Ｔ₁₀₀＝８７．５％、Ｖ₉₀＝８．８Ｖ_rmsであった。

【００５１】この液晶デバイスには、注入口端面以外に
調光層形成材料の付着する部分はなかった。

【００５２】（実施例２）実施例１で使用したものと同
様の空セルにを使用し、空セルのうち注入時に調光層形
成材料に漬ける側に、その端部より約１０ｍｍまで、ポ
リメタクリル酸メチル（三菱レーヨン社製ダイアナール
ＢＲレジン ＢＲ−５５）とクロロホルムとを重量比で
１：１０で混合した溶液を塗布し、クロロホルムがほぼ
完全に揮発するまで乾燥固化させて剥離可能な被膜を形
成した。

【００５３】実施例１と同様にして調光層形成材料を注
入した後、注入口に光硬化性封口剤「スリーボンド３０
５１」を塗布し、３６℃に保ちながら、基板の照射面の
照度を４０ｍＷ／ｃｍ² となる紫外線を３０秒間照射し
て、調光層形成材料中の光重合性組成物及び光硬化性封
口剤を硬化させて、白濁不透明な調光層を有する液晶デ
バイスを得た。その後、クロロホルムに用いて、固化し
たポリメタクリル酸メチルを洗い流したところ、セル外
面に調光層形成材料の硬化物が付着する部分はなかっ
た。

【００５４】（比較例１）実施例１において、「フォト
レックＡ−７０４−１８０」（積水ファインケミカル社
製）から成る剥離可能な被膜を形成せずに、調光層形成
材料を注入したところ、注入口端面から５ｍｍの部分ま
で、調光層形成材料が付着した。セル周縁部に付着した
調光層形成材料を拭き取らないまま、注入口部分に光硬
化性封口剤「スリーボンド３０５１」を塗布し、紫外線
を照射したところ、セル外面に硬化物が付着し、この部
分をエタノールを用いて洗浄したが、かなりの硬化物が
除去されずに残った。

【００５５】

【発明の効果】本発明の製造方法によれば、注入時に基
板周縁部に付着する調光層形成材料を容易に除去できる
ので、液晶デバイスの製造工程が効率的となり生産性が
大幅に向上する。従って、本発明は、液晶デバイスの製
造方法として有用である。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 電極層を有する少なくとも一方が透明な
   ２枚の基板と該基板の周縁部が注入口部分を除いてシー
   ル剤で封止されているセルに、（１）液晶材料、（２）
   重合性組成物及び（３）重合開始剤を含有する調光層形
   成材料を注入した後、活性光線を照射することにより前
   記光重合性組成物を重合させて、２枚の基板間に液晶材
   料及び透明性固体物質を含有する調光層を形成する液晶
   デバイスの製造方法において、調光層形成材料が接触付
   着するセルの周縁部分を、予め剥離可能な材料又は溶解
   除去可能な材料で被覆した後、調光層形成材料を注入す
   ることを特徴とする液晶デバイスの製造方法。
2. 【請求項２】 前記活性光線が紫外線である請求項１の
   液晶デバイスの製造方法。
3. 【請求項３】 前記調光層形成材料が等方性液体状態に
   おいて活性光線を照射する請求項１又は２記載の液晶デ
   バイスの製造方法。