JPH09502661A - 冷間圧延金属薄板またはストリップを製造するための方法と装置および得られた金属薄板またはストリップ - Google Patents
冷間圧延金属薄板またはストリップを製造するための方法と装置および得られた金属薄板またはストリップInfo
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Abstract
Description
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1.少なくとも一対のワークロールで金属薄板またはストリップを冷間圧延し て金属薄板またはストリップを製造する方法であって、そのワークロールの少な くとも一つがテキスチャー化されたワークロールの表面模様を前記薄板またはス トリップの表面に転写するためのテキスチャー化されたワークロールである前記 方法において、テキスチャー化されたワークロールの前記模様がスポットの二次 元の確定的模様で構成され、その各スポットはそれを取り巻く制御可能な縁を持 つ凹孔の形を持つことを特徴とする方法。 2.スポットが電子ビームのような高エネルギービームによって得られること を特徴とする請求項1に記載の方法。 3.冷間圧延機のテキスチャー化されたワークロールの粗さが0.4−8.0 μmの範囲、より好ましくは1.0−3.5μmの範囲にあることを特徴とする 請求項1または2に記載の方法。 4.縁の高さに対する幅の比が少なくとも2、より好ましくは少なくとも3で あることを特徴とする請求項1−3のいずれか一に記載の方法。 5.凹孔の深さに対する凹孔の直径の比が4より大きいことを特徴とする請求 項4に記載の方法。 6.隣り合う二つの凹孔間の距離が50と550μmの間、より好ましくは1 30と320μmの間に含まれ、深さが5と50μmの間、より好ましくは8と 30μmの間 に含まれることを特徴とする請求項1−5のいずれか一に記載の方法。 7.凹孔の内側直径が20と250μmの間、より好ましくは50と180μ mの間に含まれるが、縁の幅が4−100μmの範囲、より好ましくは10−7 5μmの範囲であり、縁の高さが2−50μmの範囲、より好ましくは5−35 μmの範囲であることを特徴とする請求項1−6のいずれか一に記載の方法。 8.冷間圧延後の金属薄板またはストリップが少なくとも一対のワークロール で調質圧延され、そのワークロールの少なくとも一つが調質圧延機のテキスチャ ー化されたワークロールの表面模様を前記薄板またはストリップの表面に転写す るためのテキスチャー化されたワークロールであり、調質圧延機のワークロール の前記模様がスポットの二次元の確定的模様で構成され、その各スポットはそれ を取り巻く縁を持つ凹孔の形を持つことを特徴とする請求項1−7のいずれか一 に記載の方法。 9.調質圧延機のテキスチャー化されたワークロールの粗さが0.4−8.0 μmの範囲、より好ましくは1.6−6.0μmの範囲にあることを特徴とする 請求項8に記載の方法。 10.冷間圧延機および/または調質圧延機のワークロールの対の両ロールがス ポットの二次元の確定的模様である表面模様のテキスチャー化を受けていること を特徴とする請求項1−9のいずれか一に記載の方法。 11.冷間圧延機および/または調質圧延機のテキスチャ ー化されたワークロールの模様配列はスポットからなる好ましくは正有心六角形 の如き単位セルを形成していることを特徴とする請求項1−10のいずれか一に 記載の方法。 12.少なくとも一対のワークロールを持つ少なくとも冷間圧延機を含む金属薄 板またはストリップを製造するための装置であって、冷間圧延機の対のワークロ ールの少なくとも一つのロールがスポットの二次元の確定的模様で構成される表 面模様のテキスチャーを持ち、その各スポットはそれを取り巻く縁を持つ凹孔の 形を持つことを特徴とする装置。 13.冷間圧延機が圧延操作の数工程を実行する唯一のワークロールスタンドを 備える可逆圧延機であり、その際圧延操作の最終工程の前にワークロールがスポ ットの二次元の確定的模様で構成される表面模様のテキスチャーを少なくとも一 つ持つテキスチャー化されたワークロールに交換されることを特徴とする請求項 12に記載の装置。 14.冷間圧延機が数個のスタンドを備えるタンデム圧延機であって、その際最 終スタンドのみがスポットの二次元の確定的模様で構成される表面模様のテキス チャーを持つ少なくとも一つの粗面化されたワークロールを含み、圧延操作が一 連続で実行されることを特徴とする請求項12に記載の装置。 15.少なくとも一対のワークロールを持つ調質圧延機をも含み、その際調質圧 延機の対のワークロールの少なくとも一つのロールがスポットの規則的な二次元 の確定的模様で構成される表面模様のテキスチャーを持ち、その各スポ ットはそれを取り巻く縁を持つ凹孔の形を持つことを特徴とする請求項12−1 4のいずれか一に記載の装置。 16.冷間圧延機および/または調質圧延機のワークロールの対の両ロールがス ポットの二次元の確定的模様で構成される表面模様のテキスチャー化を受けてい ることを特徴とする請求項12−15のいずれか一に記載の装置。 17.スポットの規則的な二次元の確定的模様で構成される表面模様のテキスチ ャーを持ち、各スポットが***またはピークを取り巻くへこみの形を持ち、その 際パワースペクトルには高波長は実質的に存在しないことを特徴とする金属薄板 またはストリップ。 18.伸びが10%(Euronorm EN10002-1試験)より小さいことを特徴とする 請求項17に記載の金属薄板またはストリップ。 19.硬さが少なくとも80(Rockwell B)であることを特徴とする請求項1 7または18に記載の金属薄板またはストリップ。 20.金属薄板またはストリップの粗さが0.3と2.5μmの間、好ましくは 0.5と2.0μmの間に含まれることを特徴とする請求項17−19のいずれ か一に記載の金属薄板またはストリップ。 21.薄板またはストリップ上のへこみの深さに対する幅の比が少なくとも2、 より好ましくは少なくとも3であることを特徴とする請求項17−20のいずれ か一に記載の金属薄板またはストリップ。 22.***高さに対する***直径の比が3より大きく、好 ましくは4より大きいことを特徴とする請求項21に記載の金属薄板またはスト リップ。 23.二つの隣り合う***またはピーク間の距離が50と550μmの間、好ま しくは130と320μmの間に含まれ、***の高さが0μmと30μmの間に 含まれることを特徴とする請求項17−22のいずれか一に記載の金属薄板また はストリップ。 24.へこみの内側直径が20μmと250μmとの間、好ましくは50μmと 180μmとの間に含まれるが、へこみの幅は4−100μmの範囲、好ましく は10−75μmの範囲であり、へこみの深さは0−50μmの範囲、好ましく は5−30μmの範囲にあることを特徴とする請求項17−23のいずれか一に 記載の金属薄板またはストリップ。 25.表面に内部張力を持たないことを特徴とする請求項17−24のいずれか 一に記載の金属薄板またはストリップ。 26.推計的粗さがスポットの二次元の確定的模様を部分的に覆っていることを 特徴とする請求項17−24のいずれか一に記載の金属薄板またはストリップ。 27.単一の確定的粗さがスポットの二次元の確定的模様を部分的に覆っている ことを特徴とする請求項17−24のいずれか一に記載の金属薄板またはストリ ップ。 28.スポットの二次元の確定的模様で構成される表面模様を持つテキスチャー の二つの母集団の混合された最終テキスチャーを持つことを特徴とする請求項1 7−24のい ずれか一に記載の金属薄板またはストリップ。 29.鋼、ステンレス鋼、アルミニウムまたはアルミニウム合金から作られた薄 板またはストリップをテキスチャー化するために、請求項1−11のいずれか一 に記載の方法または請求項12−16のいずれか一に記載の装置を用いること。 30.金属または有機物層で被覆される薄板またはストリップをテキスチャー化 するために、請求項1−11のいずれか一に記載の方法または請求項12−16 のいずれか一に記載の装置を用いること。
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