JPH09326338A - 製造管理装置 - Google Patents

製造管理装置

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JPH09326338A
JPH09326338A JP8141371A JP14137196A JPH09326338A JP H09326338 A JPH09326338 A JP H09326338A JP 8141371 A JP8141371 A JP 8141371A JP 14137196 A JP14137196 A JP 14137196A JP H09326338 A JPH09326338 A JP H09326338A
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JP
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manufacturing
recorded
recording
required time
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JP8141371A
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Inventor
Atsuyuki Aoki
淳行 青木
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Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
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  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 製造処理の所要時間に関する情報をユーザに
提供でき、製造工程の管理を容易にすることができる製
造管理装置を提供する。 【解決手段】 製造装置の各部を制御する比較的単機能
な下位の実行ユニットである位置合わせ制御ユニット2
1、ステージ制御ユニット22、基板搬送ユニット23
などの各ユニットをマスターコンピュータ1が統合的に
制御することにより、所定製品の自動製造工程を制御す
る。各ユニット21、22…の単数または複数の機能に
より実行され、自動製造工程の一部を成すプロセスにつ
いて、その実行に要した所要時間を内蔵クロック12に
より計時し、所定の記録形式に基づき、記憶装置15に
記録する。記録された所要時間は、生産性分析プログラ
ム13により分析され、その結果が表示装置14に表示
される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は製造管理装置に関
し、特に製造装置の各部を制御する比較的単機能な下位
の実行ユニットを主制御部が統合的に制御することによ
り、所定製品の自動製造工程が制御される製造管理装置
に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来より、半導体や液晶の製造のための
露光装置などにおいて、コンピュータを用いて製造工程
の一部ないし全てを制御する自動製造装置が知られてい
る。この種の装置では、製造装置の各部のモータなどを
制御する比較的単機能を実現する下位の実行ユニットを
主たる制御部である上位のマスタコンピュータが統合的
に制御することにより自動製造工程の全体が制御され
る。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】従来のこの種の装置で
は製品製造に要する時間を記録する機能が無く、従っ
て、製品生産の所要時間を知るためにはストツプウオツ
チなどで実測する他はなかった。また、新製品での製品
生産の所要時間を知るためには製品を実際に生産させて
時間測定を行う煩雑な作業が必要であった。
【0004】特に装置の生産性は、製品生産工程におい
て重要な要素であり、ユーザにとって、今行われている
生産プロセスがどれだけの時間を要するのかは重要な関
心事である。
【0005】また、従来装置では、過去の製造の所要時
間、あるいはこれに関する統計情報なども入手すること
ができなかったため、製造に関する種々の精度の管理が
不可能であり、また、製造工程を組み直す必要が生じた
場合などにおいては新たなプロセスがどれだけの時間を
要するか、などについては全く情報を得ることができな
かった。
【0006】すなわち、従来構成においては、製造工程
の管理に必要な製造時間に関する充分な情報を取得でき
なかったために管理作業が煩雑である、という問題があ
った。
【0007】そこで本発明の課題は、この種の製造管理
装置において、製造処理の所要時間に関する情報をユー
ザに提供でき、製造工程の管理を容易にすることができ
る製造管理装置を提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
め、本発明によれば、製造装置の各部を制御する比較的
単機能な下位の実行ユニットを主制御部が統合的に制御
することにより、所定製品の自動製造工程が制御される
製造管理装置において、前記実行ユニットの単数または
複数の機能により実行され、前記自動製造工程の一部を
成すプロセスについて、その実行に要した所要時間を計
時する計時手段と、所定の記録形式に基づき、前記計時
手段により計時された所要時間を記録する記録手段を有
する構成を採用した。
【0009】
【発明の実施の形態】以下、図を参照して本発明の実施
の形態を説明する。以下では、半導体や液晶の製造のた
めの露光装置を例示する。
【0010】図1に本発明の具体的な実施による装置の
構成図を示す。
【0011】一般に露光装置では、パーソナルコンピュ
ータや、ミニコンピュータなどから構成されたマスター
コンピュータがシステム全体の動作を制御、監視する。
【0012】図1では、ミニコンピュータから構成され
たマスターコンピュータ1が下位のスレーブプロセッサ
としての各ユニット21、22…を介して露光装置26
の各部のモータやソレノイド、光源その他の駆動部を制
御する。
【0013】ここでは、下位のスレーブプロセッサとし
て位置合わせ制御ユニット21、ステージ制御ユニット
22、基板搬送ユニット23などが示されている。各ユ
ニット21、22…は露光装置26の各部のモータやソ
レノイド、光源その他の駆動部を制御する駆動回路と、
それらの動作をモニターしたり閉ループ制御するための
センサなどから構成される。
【0014】マスターコンピュータ1は各ユニット2
1、22…と GP-IB、SCSI, RS232C,イーサネットなど
の所定のインターフェース手段を介して接続され、マス
ターコンピュータ1の装置制御プログラム11の制御に
より各ユニット21、22…に対してコマンドを送信
し、また、このコマンドに対する応答を受信することに
よって製造工程全体が制御される。
【0015】各プロセス(工程)は、各ユニット21、
22…のうち単一のユニット、またはこれらのうちの複
数のユニットの動作の組合せによって実行される。
【0016】製造工程を構成する各プロセス(工程)の
起動、および終了タイミング制御はマスターコンピュー
タ1内に設けられた内蔵クロック12が計時する絶対時
間を用いて制御される。
【0017】さらに、本実施形態では、各プロセスにお
ける製造処理に要した時間に関する情報をプロセスごと
に記憶するために、記憶装置15を設けてある。記憶装
置15は、後述のようにして得た製造処理の所要時間に
関する情報がファイルとして記憶される。記憶装置15
はコンピュータのメモリ、ディスクなどにより実装され
る。
【0018】各ユニット21、22…による制御される
各々の製造処理の開始時刻、および終了時間時刻は、た
とえば、各ユニット21、22…へのコマンド送信タイ
ミング、および各ユニット21、22…からの処理終了
を示す応答を受信したタイミングにおいて、内蔵クロッ
ク12より絶対時間を読み出すことにより検出すること
ができる。
【0019】また、コマンドを各ユニット21、22…
で実行するのに要した時間、すなわち、コマンド実行所
要時間を知るにはコマンドを送付した時刻から終了の情
報を受け取った時間までの時間を減算すればよい。
【0020】また、このような絶対時刻での計時を行な
う機構を有していないマスターコンピュータ1の場合に
は、計時装置をユニットの一つとして設けておき、他の
ユニットと同様のコマンド送受信制御によりこの計時ユ
ニットから絶対時刻を得て、記憶装置15に記憶させる
ようにしてもよい。
【0021】所要時間は、各装置の制御の種類とそれに
要した要素時間を対にして後述の方法で記録していく。
記憶装置15にデータベース化されて記録された時間デ
ータは、マスターコンピュータ1の生産性分析プログラ
ム13により分析し、CRTなどから成る表示装置14
によりその結果を表示させる。
【0022】図2に代表的な露光時の動作を示す。
【0023】図2の例では、1つのプロセスが前準備・
露光処理・後処理の3つの要素から構成されており、ま
た、露光処理は同一プロセスで処理すべき基板の露光枚
数分繰り返されている。
【0024】「動作」の欄は、プロセスの「要素」をさ
らに細分化したもので、単一のユニット、またはこれら
のうちの複数のユニットの動作の組合せによって実行さ
れる。
【0025】ここでは、プロセス1およびプロセス2が
例示されており、プロセス2の所要時間もプロセス1と
同様に上記の前準備・露光処理・後処理の3つの要素の
所要時間の合計となる。
【0026】また、図2のプロセス1とプロセス2は、
構成要素こそ同様に前準備・露光処理・後処理の3つで
定義されるが、それぞれの実際の所要時間はプロセスに
依存してもちろん変化する。
【0027】所要時間の記録には種々の態様が考えられ
るが、まず、図3に示すようにプロセスごとに時間デー
タをファイルに記録することが考えられる。
【0028】図3は、記憶装置15に記録される所要時
間ファイルの内容を示している。
【0029】図3において、所要時間ファイルには、プ
ロセス番号a、ロット処理開始時刻b、要素種別c、所
要時間dが記録されている。
【0030】すなわち、1プロセス(製品の「1ロッ
ト」などの製造単位に相当)の開始とともにこれらのデ
ータの記録が開始され、図2に示されたプロセスの要素
の各々の所要時間dが要素種別cとともに順次記録され
ていく。プロセスが変れば、プロセス番号aが順にイン
クリメントされて、同様の形式で別のファイルが割り当
てられる。
【0031】図3のフォーマットでデータを記録する場
合、プロセスの個々の要素について1レコード(図3の
表の1行に相当)が生成される。
【0032】したがって、この記録形式ではデータの生
成量が多く、システムが稼働を続ければファイルサイズ
が膨張しつづけることになる。この問題を回避するに
は、このファイル名を循環的に割り当てたり、所定期間
ごとに適宜生成されたファイルを消去して新たに記録し
直す、などの方法も考えられるが、この点に鑑みて図4
のようなファイル形式も考えられる。
【0033】すなわち前準備・露光処理・後処理の3つ
のプロセスに関して、これらを構成する要素(たとえば
図2の「露光種類設定」、「基板交換」、「露光動作」
などの各々)の所要時間をtとし、
【0034】
【数1】
【0035】を、前準備・露光処理・後処理の3つのプ
ロセスについて求め、ファイルに記録する。
【0036】図4において、ファイルはプロセス番号
a、処理回数b、要素分類c、各要素の所要時間の和
d、各要素の所要時間の自乗和e、各要素の所要時間
(「動作」)の記録回数fから成る。
【0037】なお、図4の例では、処理回数bは1つの
プロセス全体が実行された回数を示しており、前準備、
および後処理1プロセスに1回づつ行なわれるため、前
準備、および後処理の回数fはこの処理回数bに一致し
ているが、露光処理は1回の前準備、および後処理に狭
まれて10回行なわれており、処理回数bの10倍の値
になっている。
【0038】このような記録を行なうことにより、1プ
ロセスを構成する前準備・露光処理・後処理の3つの要
素について、
【0039】
【数2】
【0040】を求めることが可能となる。この標準偏差
は、これは一般的な統計計算を行う場合の常套的に用い
られる統計要素である。
【0041】図4の記録方式では、図3におけるように
プロセスの要素の実行ごとにレコードが生成されないの
で、記憶装置15の容量を圧迫することがない。
【0042】たとえば、もし該当するプロセスのレコー
ドがファイル中に存在するならばそのレコードにデータ
を加算するだけでよい。言い換えるならば、プロセスご
とのデータは存在するプロセスの数だけレコードが存在
すれば良く、システムが稼働を続けても、それ以上ファ
イルのレコードの数が増加することはない、という利点
がある。
【0043】上記の図3、図4の例では、あるプロセス
要素においてどのような処理が行なわれたかについては
考慮されていない。
【0044】そこで、さらに、上述のプロセスの要素の
所要時間をにさらに細分化し、そのそれぞれを処理内容
を示すデータとともにファイルに記録することも可能で
ある。
【0045】たとえば、「基板交換」や「露光」という
プロセスの要素は、さらに細分化すれば図5のような詳
細要素に分けることができる。
【0046】図5において、たとえば、「基板交換」要
素は「基板交換実行動作」要素と「基板位置合わせ動
作」要素に分けることができる。このうち「基板位置合
わせ」要素にかかる所要時間は基板位置合わせに使用す
る基板上のマーク数に依存する。
【0047】同様に、図5の場合、「露光動作」要素は
「ステージ移動」要素と「シヤツタ開閉」要素の連続動
作である。「ステージ動作」要素はステージの移動距離
に依存し、「シヤツタ開閉」要素は露光エネルギーに依
存している。
【0048】すなわち、ある詳細要素の実行に要する所
要時間は、その実行を制御する条件としての詳細要素決
定条件に依存する。
【0049】たとえば、「ステージ移動」要素に関して
言えば、その詳細要素決定条件である移動距離が違え
ば、その「ステージ移動」要素の所要時間は当然異なる
はずで、後ほど記録した所要時間を評価する際にこの詳
細要素決定条件として移動距離を考慮しなければ意味の
ある評価は不可能である。
【0050】そこで、図6に示すように、これら詳細要
素の所要時間と詳細要素決定条件を前述方法同様記録し
ていくことも極めて有用である。
【0051】図6では、詳細要素の動作ごとに、それに
要した所要時間aとパラメータを記録している。この
「パラメータ」は、前述の所要時間決定要素の具体的な
表現であり、実際には、図6の右側に示すように詳細要
素の種類に応じた異なる数値で表現される。
【0052】たとえば、「ステージ移動」要素について
は、移動距離(mm)が記録される。図6の場合には、図
3の場合と同様に詳細要素の動作ごとに、ファイルにレ
コードが追加されるため、ファイルサイズが増大する。
【0053】したがって、図3の時間データを図4のよ
うに集計した形式で記録するように変形したのと同様
に、図6のデータは、図7のように詳細要素ごとに集計
した上で記録することもできる。
【0054】図7では、詳細要素として、「前準備」、
「基板交換実行」、「基板位置合わせ」、「ステージ移
動」、「ステージ開閉」、「後処理」の各要素に着目し
て集計したファイルの例が示してある。
【0055】ここでは、各詳細要素の所要時間の和a、
自乗和b、回数cが記録されている。
【0056】ただし、この場合、時間データは各詳細要
素ごとにパラメータにより標準化された形で記録しなけ
ればならない。
【0057】これは、たとえば「基板の位置合わせ」要
素を行う場合、基板上の位置合わせすべきマークの個数
が多ければより所要時間も比例して大きくなるからであ
り、詳細要素としての「基板の位置合わせ」要素につい
ては、位置合わせすべきマーク1個あたりの所要時間の
和a、自乗和bを記録しなければならない。
【0058】例えば、ある「基板の位置合わせ」要素の
実行に際して、マーク2個で20秒かかったならば、標
準化データは20/2=10(秒)であり、所要時間の
和aにはこの10(秒)を加算し、所要時間の自乗和b
には、10の自乗である100(秒)を加算する。
【0059】同様に、例えば「ステージ移動」要素はス
テージ移動200 mm あたりの時間、「シヤツタ開閉」
は露光エネルギ40[mJ]の照射に要した時間を単位
として、和a、自乗和bへの加算を行なう。
【0060】なお、図6と図7の記録形式の関係につい
ていえば、前述の図3のデータと、図4のデータの関係
と同様、記憶容量が充分でない場合には図7の記録形式
のほうが望ましいのはいうまでもない。
【0061】さて以上のように、データを記録すれば、
装置の生産性に関する有用な情報を算出することが可能
となる。たとえば、上述のようなデータ記録を行なうこ
とにより、マスターコンピュータ1内に製造処理の所要
時間に関するデータベースを構築することができ、たと
えば、 1.プロセス別の生産時間(図8) 2.プロセス別の生産時間推移(図9) 3.詳細要素別所要時間(図10) 4.詳細要素別所要時間推移(図11) 5.新プロセスの生産時間予想値 などを求め、表示することにより、ユーザの生産管理に
役立てることができる。
【0062】これらの分析は、マスターコンピュータ1
内の生産性分析プログラム13で前述の各データ記録を
処理することにより行ない、その結果は、表示装置14
に表示される。
【0063】まず、プロセス別生産時間とはプロセスご
とに処理時間が現実にどれだけかかっているかを出力す
るもので、表示装置14による表示出力例を図8に示
す。
【0064】これはプロセス1、2…ごとに前準備・露
光処理・後処理の3つの要素においてどれだけの所要時
間がかかっているかを表示するものであり、ここでは、
プロセス1、2…ごとに棒グラフの形式で前準備・露光
処理・後処理の3つの要素の時間データを表示してい
る。この時間データは、前述の平均値、標準偏差などの
数値のいずれでも良いが、ここでは各プロセス別にプロ
セスの平均所要時間を出力している。
【0065】図8の表示の基になるファイルは、図3、
図4いずれのファイルでもよい。もちろん、図4のファ
イルは、ファイル内のデータそのものが所要時間の和、
および回数のデータを含んでいるから、出力処理のみに
限っていえば、図3のファイルを用いるよりも高速な処
理が可能であるのはいうまでもない。
【0066】このように複数プロセスを同時に出力すれ
ばプロセス別の生産所要時間を一目瞭然に理解すること
ができる。そして、この出力例を見れば容易に各プロセ
スにどれだけの生産時間を要するかを把握でき、ユーザ
は生産計画上重要な情報を容易に得ることができ、従来
のようなストツプウオツチなどによる実測を行なう必要
がなくなり、さらに、たとえば製造工程を組み直す必要
が生じた場合などにおいては新たなプロセスがどれだけ
の時間を要するか、などについて容易に試算を行なうこ
とができる。
【0067】また、プロセス別生産時間推移の出力例と
しては、例えば図9のような例が考えられる。図9では
あるプロセス中における複数回の「露光処理」要素の所
要時間の変化を表示出力したものである。この場合は、
あるプロセス中における複数回の「露光処理」要素の所
要時間を記録しておく必要があるので、図3や図6のフ
ァイル形式が必要なのはいうまでもない。
【0068】図9ではxの箇所で所要時間が局地的に大
きくなっているが、これは該当する露光処理において問
題が発生したことを伺わせるものであり、トラブルシユ
ートにも役立つ可能性がある。
【0069】また、要素別所要時間に関しての出力例を
図10に示す。図10の例では図6や図7の詳細要素別
のファイル形式を用いて記録したデータから作成でき
る。図10では、各詳細要素の所要平均時間を出力して
いる。ここでは、もちろん、図6や図7の場合のように
各詳細要素の所要時間決定要素に応じて定められた単位
に基づき測定した値が用いられる。
【0070】この情報は主に装置の保全のために役立て
ることができる。たとえば、予め定められた時間的な性
能と、これら要素時間別のデータすなわち実測値を比較
すれば装置の生産性性能が把握できることになる。
【0071】また、図6や図7のファイル形式を用いれ
ば、ある詳細要素の所要時間推移を図11のように出力
することができる。
【0072】図11では、「シヤツタ開閉」要素の所要
時間推移を表示しているが、図6や図7のファイル形式
の場合には、所定の露光光エネルギーを単位として標準
化された時間データを記録しているために、同じ露光条
件における「シヤツタ開閉」の所要時間の経時変化を見
てとれる。
【0073】図11では「シヤツタ開閉」の時間、すな
わち露光光を照射する時間が次第に長くなっていること
が分かる。
【0074】通常、露光光の光量は所定の光センサなど
により測定されており、この光量に応じて「シヤツタ開
閉」が制御されるのが普通であるから、同じ光量を得る
ための「シヤツタ開閉」時間が増大している、というこ
とは、露光照明用の水銀ランプなどの光源が劣化してい
るなどの装置要因が考えられることになり、これは装置
の管理上極めて有効な情報である。
【0075】また、新たなプロセスの生産時間予想値を
算出することも可能となる。たとえば、未実施の新規プ
ロセスがある場合、そのプロセス内容を入力すれば、現
在の装置のデータからプロセスの所要時間を予測できる
機能である。
【0076】一般にプロセス内容はファイル形式でマス
ターコンピュータに保持することができるため、プロセ
スがどのようなシーケンスをもつかは容易に分析可能で
ある。用いられるシーケンスが分かれば、後は各個のシ
ーケンスにどれだけの所要時間がかかるかを過去の統計
情報から求めて加算すればプロセス全体に要する生産時
間の予想値を容易に算出することができる。
【0077】例えば、装置のステージの移動と所要時間
の関係は図6や図7のファイル形式で記録した時間デー
タから得ることができる。すなわち、未実施プロセスが
とる移動距離はプロセス内容から容易に算出することが
できる。
【0078】このときのステージの移動距離を入力すれ
ば「詳細要素時間データ」のデータをもとに所要時間を
得ることができ、同様に他の要素に関しても同様に算出
すれば、プロセスを実際に実施することなく、充分な実
績に基づいた所要時間を予測することができる。
【0079】ここで、図2に基づきこれまで述べた内容
を算出する具体的な算出方法を以下に示す。算出目標の
例として、 1.プロセスの総所要時間 2.基板1枚あたりの露光所要時間 3.装置の平均マスクアライメント時間 の3つを説明する。
【0080】図2中のΔtは、各要素時間の所要時間、
t以下1桁目はプロセス番号、2桁目は要素時間種類
(動作の種別)、3桁目は同一プロセス内基板番号を示し
ている。したがって、図1内の所要時間分析プログラム
により、これらデータから、例えばプロセス1の総所要
時間T、基板1枚あたりの露光所要時間T*、およびこ
の装置の平均マスクアライメント時間Tmは、
【0081】
【数3】
【0082】と求めることができる(Nは露光枚数、M
はマスクアライメント回数を示す)。
【0083】なお、これまで述べたデータの記録および
分析を装置制御用のマスターコンピュータではなく別の
コンピュータで行ってもよい。例えば図12の様にマス
ターコンピュータ1に外部のホストコンピュータ40を
ネットワークなどを介して接続し、このホストコンピュ
ータ40によりデータを一括記録、処理可能にするよう
にすることが考えられる。
【0084】図12の場合、ホストコンピュータ40は
複数のマスターコンピュータ1と接続され、これらの統
計情報を取得し、記憶装置15に記録するようになって
いる。マスターコンピュータ1は図1と同じ構成とし、
ホストコンピュータ40と通信を行なって個々の統計情
報をホストコンピュータ40に送信する。あるいは、少
なくとも内蔵クロック12を有し個々のプロセスの要
素、あるいは詳細要素の時間情報を測定し、ホストコン
ピュータ40側で前述と同様の処理を行なう。
【0085】ホストコンピュータ40には、前述と同様
の処理を行なうための生産性分析プログラム13および
表示装置14を設けておく。このように、複数のマスタ
ーコンピュータ1を統轄するホストコンピュータ40を
用いることにより、生産管理業務上はむしろこのような
レイアウトが装置全体を展望でき、生産管理上好都合で
ある。
【0086】以上から明らかなように、上記の実施形態
によれば、自動的に生産所要時間を記録するため人的工
数が削減でき、かつ正確な記録ができる。
【0087】また、同じプロセスの所要時間を時系列的
に分析することにより、装置が正常な生産時間の性能を
維持しているかが判別できる。
【0088】さらに所要時間をより細分化された要素時
間に分けて記録するため、たとえば所要時間が劣化した
場合、具体的に何が劣化したのかを判断でき、装置の保
全業務に貢献できる。
【0089】また、生産所要時間が未知のプロセスに対
しても記録された要素時間を組み立てることで実績に裏
付けられた所要時間を予知できるため、新たなプロセス
の展開が容易になる。
【0090】なお、必要なプロセスのみ、たとえば、あ
る決った製品の製造工程を構成するプロセスのみについ
て、あるいは、所定期間中に実行されるプロセスのみに
ついて、所要時間に関するデータを測定し、記録するよ
うにしてもよい。さらに、以上では分析結果の出力手段
として表示手段を例示したが、出力方式はこれに限定さ
れるものではなく、プリンタへの出力は、他のデータ処
理装置への出力処理も、本発明の分析結果出力処理に含
まれるものであるのはいうまでもない。
【0091】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によれば、実行ユニットの単数または複数の機能により
実行され、自動製造工程の一部を成すプロセスについ
て、その実行に要した所要時間を計時する計時手段と、
所定の記録形式に基づき、計時手段により計時された所
要時間を記録する記録手段を有する構成を採用している
ので、自動的に生産の所要時間を正確に記録し、生産の
所要時間に関する情報をユーザに提供でき、製造工程の
管理を容易にすることができる優れた製造管理装置を提
供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明を採用した製造管理装置の構成を示した
ブロック図である。
【図2】図1の装置におけるプロセスの要素、所要時間
を示した説明図である。
【図3】プロセスの要素ごとに所要時間を記録するファ
イル形式を示した説明図である。
【図4】プロセスの要素ごとに所要時間を集計して記録
するファイル形式を示した説明図である。
【図5】図1の装置におけるプロセスの詳細要素、所要
時間を示した説明図である。
【図6】プロセスの詳細要素ごとに所要時間を記録する
ファイル形式を示した説明図である。
【図7】プロセスの詳細要素ごとに所要時間を集計して
記録するファイル形式を示した説明図である。
【図8】プロセスごとの所要(生産)時間の出力例を示
した説明図である。
【図9】プロセスごとの所要(生産)時間推移の出力例
を示した説明図である。
【図10】プロセスの詳細要素ごとの所要(生産)時間
の出力例を示した説明図である。
【図11】プロセスの詳細要素ごとの所要(生産)時間
推移の出力例を示した説明図である。
【図12】異なる装置構成を示したブロック図である。
【符号の説明】
1 マスターコンピュータ 12 内蔵クロック 13 生産性分析プログラム 14 表示装置 15 記憶装置 21 位置合わせ制御ユニット 22 ステージ制御ユニット 23 基板搬送ユニット 26 露光装置 40 ホストコンピュータ

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 製造装置の各部を制御する比較的単機能
    な下位の実行ユニットを主制御部が統合的に制御するこ
    とにより、所定製品の自動製造工程が制御される製造管
    理装置において、 前記実行ユニットの単数または複数の機能により実行さ
    れ、前記自動製造工程の一部を成すプロセスについて、
    その実行に要した所要時間を計時する計時手段と、 所定の記録形式に基づき、前記計時手段により計時され
    た所要時間を記録する記録手段を有することを特徴とす
    る製造管理装置。
  2. 【請求項2】 前記所要時間が、前記プロセスを構成す
    るさらに細分化された各種動作ごとに測定され、記録さ
    れることを特徴とする請求項1に記載の製造管理装置。
  3. 【請求項3】 前記記録手段に記録された所要時間を、
    所定の基準に基づいて分析する手段と、この分析手段に
    よる分析結果を出力する出力手段を有することを特徴と
    する請求項1に記載の製造管理装置。
  4. 【請求項4】 記録された実績に基づいた生産所要時間
    データよりただちに新たに作成されるプロセスに対し生
    産所要時間が予測できることを特徴とする請求項1に記
    載の製造管理装置。
  5. 【請求項5】 前記所要時間が、前記プロセスを構成す
    るさらに細分化された各種動作ごとに測定され、この測
    定結果、ないし測定結果に対して所定の統計演算により
    得られたデータが前記記録手段の対応する記録位置に加
    算的に記録されることを特徴とする請求項2に記載の製
    造管理装置。
  6. 【請求項6】 前記所要時間が、前記プロセスを構成す
    るさらに細分化された各種動作ごとに該動作の実行条件
    に基づいて標準化された単位で測定されることを特徴と
    する請求項2に記載の製造管理装置。
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