JPH09283575A - Probe card and testing method - Google Patents

Probe card and testing method

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JPH09283575A
JPH09283575A JP11117996A JP11117996A JPH09283575A JP H09283575 A JPH09283575 A JP H09283575A JP 11117996 A JP11117996 A JP 11117996A JP 11117996 A JP11117996 A JP 11117996A JP H09283575 A JPH09283575 A JP H09283575A
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probe unit
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To enable a probe card to contact all chips on a wafer at a small number of contact times in the case the chips' electrodes are disposed in directions X and Y. SOLUTION: A base 28 has rectangular openings 30 at the center and mounting frame 32 fixed to the periphery thereof. First and second supports 34 and 36 extending in directions X and Y like a grid are fixed to the frame 32. Electrodes are formed on the marginal areas of chips of a wafer. Probe pins of the first and second supports 34 and 36 respectively contact the electrodes extending in the directions X and Y on the chips. A first simultaneous contact enables the simultaneous test of all the chips belonging to odd rows and then the chip is moved by one-chip-width, relative a probe card to enable the simultaneous test of all the chips belonging to even rows. Thus, the twice simultaneous contact completes the test of all the chips.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明はウェーハ上の多数
の集積回路チップを検査するためのプローブカードに関
し、また、これを用いた検査方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a probe card for inspecting a large number of integrated circuit chips on a wafer and an inspection method using the probe card.

【0002】[0002]

【従来の技術】DRAMやSRAMなどのICメモリの
分野では高集積化がどんどん進み、それに伴って、これ
らのメモリを検査する時間も長くなる傾向にある。IC
メモリは、一般に、Siウェーハ上に同一のチップの形
で多数形成される。そして、ウェーハの状態で検査され
てから、ダイシングにより個別のチップに分離される。
ウェーハ上の多数のチップを検査するにはプローブカー
ドとテスタとが用いられる。すなわち、プローブカード
のプローブ針でチップの電極に接触し、テスト回路を有
するテスタによって各チップの検査が実行される。
2. Description of the Related Art In the field of IC memories such as DRAMs and SRAMs, the degree of integration has been steadily increasing, and the time required for testing these memories has tended to increase. IC
Generally, a large number of memories are formed on a Si wafer in the form of the same chip. Then, after being inspected in the state of the wafer, it is separated into individual chips by dicing.
A probe card and a tester are used to inspect a large number of chips on a wafer. That is, the probe needle of the probe card comes into contact with the electrode of the chip, and the test of each chip is performed by a tester having a test circuit.

【0003】プローブカードのプローブ針は、検査すべ
きチップの電極配置に対応するように配列されていて、
ひとつのチップのすべての被接触電極に同時にプローブ
針が接触するようになっている。
The probe needles of the probe card are arranged so as to correspond to the electrode arrangement of the chip to be inspected,
The probe needle comes into contact with all the contacted electrodes of one chip at the same time.

【0004】ウェーハ上の多数のチップを検査するには
次のようにする。まず、検査すべき最初のチップの電極
に対面するようにプローブカードとウェーハとの相対位
置関係を位置決めする。そして、プローブカードのプロ
ーブ針を被検査チップの電極に押し付けて検査を実行す
る。次に、別のチップに対してプローブカードを位置決
めして同様の検査を実行する。このようにして、順次チ
ップを検査していく。
In order to inspect a large number of chips on a wafer, the following is performed. First, the relative positional relationship between the probe card and the wafer is determined so as to face the electrode of the first chip to be inspected. Then, the inspection is executed by pressing the probe needle of the probe card against the electrode of the chip to be inspected. Next, the same inspection is performed by positioning the probe card with respect to another chip. In this way, the chips are sequentially inspected.

【0005】しかし、このようにひとつずつチップを検
査していくと、ウェーハ上のすべてのチップを検査する
には非常に時間がかかる。しかも、メモリの高集積化が
進むにつれて、ひとつのチップを検査する時間が長くな
っているので、ウェーハ上のすべてのチップを検査する
のに要する時間は非常に長くなる傾向にある。
However, when the chips are inspected one by one as described above, it takes a very long time to inspect all the chips on the wafer. In addition, as memory integration increases, the time required to inspect one chip increases, and the time required to inspect all chips on a wafer tends to be very long.

【0006】ところで、ウェーハ1枚当りの検査時間が
長くなる場合に、複数のテスタを用いて複数のウェーハ
を同時に検査すれば、全体として検査時間の短縮にな
る。しかし、テスタは高価であり、設備費用の負担が大
きくなる。
By the way, when the inspection time per wafer is long, if a plurality of wafers are inspected at the same time using a plurality of testers, the inspection time can be shortened as a whole. However, the tester is expensive, and the burden of equipment cost becomes large.

【0007】そこで、ウェーハ1枚当りの検査時間を短
縮できるように、数個のチップに同時に接触できるよう
にしたプローブカードが開発されてきた。図11(A)
は数個のチップに同時に接触できるようにした従来のプ
ローブカードの平面図であり、(B)はその正面断面図
である。この従来例では、一列に並んだ8個のチップ1
0を同時に検査できるように、多数のプローブ針12が
2列に長く並んでいる。そして、現在では、最大16個
のチップに同時に接触できるようなプローブカードが知
られている。もし、ひとつのチップに40個の被接触電
極があると仮定すると、16個のチップに同時に接触可
能なプローブカードには、40×16=640本のプロ
ーブ針が設けられていることになる。このようなプロー
ブカードを用いる場合は、テスタ側にも、16個のチッ
プに対して同時に信号を出力し、かつ、16個のチップ
から同時に信号を受けて、並列に検査処理を実行できる
ような機能を設けることが必要である。このようにして
複数個のチップを同時に検査することにより、検査時間
は格段に短縮される。
[0007] Therefore, probe cards have been developed which can simultaneously contact several chips so as to shorten the inspection time per wafer. FIG. 11 (A)
[FIG. 6] is a plan view of a conventional probe card that can simultaneously contact several chips, and FIG. In this conventional example, eight chips 1 arranged in a line
A large number of probe needles 12 are arranged in two long lines so that 0s can be inspected at the same time. At present, there is known a probe card capable of simultaneously contacting up to 16 chips. Assuming that one chip has 40 contacted electrodes, a probe card capable of simultaneously contacting 16 chips is provided with 40 × 16 = 640 probe needles. When such a probe card is used, the tester can simultaneously output signals to 16 chips, receive signals from 16 chips at the same time, and perform inspection processing in parallel. It is necessary to provide a function. By inspecting a plurality of chips simultaneously in this way, the inspection time is significantly shortened.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】しかし、上述のように
複数チップの同時検査を実行しても、まだ不十分であ
る。例えば、8インチのSiウェーハに250個のチッ
プが形成されていると仮定すると、16個のチップを同
時に検査しても、ウェーハ上のすべてのチップを検査す
るには、少なくとも16回の検査が必要となる。この場
合に、1回の検査時間が20分だとすると、ウェーハ上
のすべてのチップを検査するには、少なくとも320分
かかることになる。さらに、16回の検査のそれぞれの
間には、ウェーハとプローブカードとの位置決め作業が
必要となり、所要時間はもっと増加する。また、高温測
定時にプローブカード全体が撓んで針先の水平位置や高
さ位置がずれたりするという問題もある。
However, the simultaneous inspection of a plurality of chips as described above is still insufficient. For example, assuming that 250 chips are formed on an 8-inch Si wafer, even if 16 chips are inspected at the same time, at least 16 inspections are required to inspect all the chips on the wafer. Will be needed. In this case, if one inspection time is 20 minutes, it takes at least 320 minutes to inspect all the chips on the wafer. Further, during each of the 16 inspections, a positioning operation between the wafer and the probe card is required, and the required time is further increased. In addition, there is a problem that the entire probe card is bent during high temperature measurement and the horizontal position or height position of the needle tip is displaced.

【0009】そこで、ウェーハ上のすべてのチップの電
極を1回または2回程度の少ない回数で同時に接触可能
で、かつ、比較的剛性の高いプローブカードが開発され
てきた。図12はそのような従来のプローブカードの主
要部の正面断面図と、それに対応するウェーハの斜視図
である。このプローブカードは特開平7−201935
号公報に開示されている。このプローブカードは、例え
ば、11個のプローブユニット14を備えている。検査
すべきウェーハ16には5行×11列のチップ18が形
成されている。そして、この11列のチップに対応して
11個のプローブユニット14が設けられている。各チ
ップ18には、その中央に1列の電極が配置されてい
て、プローブユニット14のプローブ針20は、その一
列の電極に接触するようになっている。
Therefore, a probe card has been developed which is capable of simultaneously contacting the electrodes of all the chips on the wafer once or twice, and having a relatively high rigidity. FIG. 12 is a front sectional view of a main part of such a conventional probe card and a perspective view of a wafer corresponding thereto. This probe card is disclosed in JP-A-7-201935.
No. 6,086,045. This probe card includes, for example, 11 probe units 14. Chips 18 of 5 rows × 11 columns are formed on the wafer 16 to be inspected. Then, 11 probe units 14 are provided corresponding to the 11 rows of chips. One row of electrodes is arranged in the center of each chip 18, and the probe needles 20 of the probe unit 14 come into contact with the one row of electrodes.

【0010】図13は複数のプローブユニットを備える
プローブカードの別の従来例である。この従来例では、
検査すべきウェーハ16a上の各チップ18aは、その
両側に2列の電極を備えている。この電極配置に対応し
て、プローブユニット14aは2列のプローブ針20a
を備えている。すなわち、ひとつのプローブユニット1
4aに属するプローブ針20aの先端は、平行な2本の
直線上に配列されている。また、6個のプローブユニッ
ト14aが、ひとつおきのチップ列に対応するように配
置されている。したがって、このプローブカードを用い
てウェーハ16a上のチップを検査するには、2回の同
時検査が必要となる。すなわち、最初の検査で、第1
列、第3列、第5列、第7列、第9列、第11列のチッ
プをすべて同時に検査する。次に、ウェーハ16aをチ
ップ幅分だけ矢印22の方向に移動して、第2列、第4
列、第6列、第8列、第10列のチップを同時に検査す
る。
FIG. 13 shows another conventional example of a probe card having a plurality of probe units. In this conventional example,
Each chip 18a on the wafer 16a to be inspected has two rows of electrodes on each side. Corresponding to this electrode arrangement, the probe unit 14a has two rows of probe needles 20a.
It has. That is, one probe unit 1
The tips of the probe needles 20a belonging to 4a are arranged on two parallel straight lines. Further, six probe units 14a are arranged so as to correspond to every other chip row. Therefore, in order to inspect the chip on the wafer 16a using this probe card, two simultaneous inspections are required. That is, the first inspection, the first
The chips in the rows, the third row, the fifth row, the seventh row, the ninth row, and the eleventh row are all inspected at the same time. Next, the wafer 16a is moved by the width of the chip in the direction of the arrow 22, and the second row and the fourth row are moved.
Chips in row 6, row 6, row 8 and row 10 are inspected simultaneously.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】図12と図13に示し
た従来例は、チップ上の電極が特定の一方向にだけ配列
されている場合には非常に有効であるが、チップ上の電
極が2方向に配列されている場合にはうまく対応できな
い。この点を以下に説明する。
The conventional example shown in FIGS. 12 and 13 is very effective when the electrodes on the chip are arranged only in one specific direction. Cannot be handled well when is arranged in two directions. This will be described below.

【0012】図14(A)は、各チップ24の中央に電
極26が一列に配置されているようなウェーハの一部を
拡大した平面図である。この場合には、図12の従来例
で対応できる。
FIG. 14A is an enlarged plan view of a part of the wafer in which the electrodes 26 are arranged in a line in the center of each chip 24. This case can be dealt with by the conventional example of FIG.

【0013】図14(B)は、各チップ24aの両側に
電極26aがニ列に配置されている場合である。この場
合には、図13の従来例で対応できる。
FIG. 14B shows a case where the electrodes 26a are arranged in two rows on both sides of each chip 24a. This case can be dealt with by the conventional example of FIG.

【0014】図15(A)は、各チップ24bの四辺に
沿って電極26bが配置されている場合である。接触す
べき電極26bはX方向とY方向とに配列されている。
この場合には、図12や図13の従来例では対応できな
い。もし、X方向に延びるような複数のプローブユニッ
トだけを用いるとすると、X方向に配置された電極に接
触するプローブ針に加えて、Y方向に配置された電極に
接触するプローブ針も、同じプローブユニットに針立て
する必要がある。しかし、このような針立てはきわめて
困難である。
FIG. 15A shows a case where electrodes 26b are arranged along the four sides of each chip 24b. The electrodes 26b to be contacted are arranged in the X direction and the Y direction.
This case cannot be dealt with by the conventional examples shown in FIGS. If only a plurality of probe units extending in the X direction are used, in addition to the probe needles contacting the electrodes arranged in the X direction, the probe needles contacting the electrodes arranged in the Y direction are also the same probe. Need to stand on the unit. However, such a needle stand is extremely difficult.

【0015】図15(B)は、各チップ24cに十字状
に電極26cが配置されている場合である。この場合
も、X方向とY方向とに電極26cが配置されているの
で、やはり、図12や図13の従来例では対応できな
い。
FIG. 15B shows a case where the electrodes 26c are arranged in a cross shape on each chip 24c. Also in this case, since the electrodes 26c are arranged in the X direction and the Y direction, the conventional examples shown in FIGS.

【0016】この発明は上述の問題点を解消するために
なされたものであり、その目的は、ウェーハ上の各チッ
プの電極がX方向とY方向とに配置されている場合に、
少数回の接触でウェーハ上のすべてのチップに接触可能
なプローブカードを提供することにある。この発明の別
の目的は、複数のプローブユニットを組み合わせること
によって、製造が容易で、かつ、多数のチップに同時に
接触可能なプローブカードを提供することにある。この
発明のさらに別の目的は、ウェーハ上の多数のメモリチ
ップを短時間で検査する検査方法を提供することにあ
る。
The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and an object of the present invention is to provide an electrode of each chip on a wafer in the X and Y directions.
It is to provide a probe card that can contact all chips on a wafer with a few contacts. Another object of the present invention is to provide a probe card which is easy to manufacture by combining a plurality of probe units and can simultaneously contact a large number of chips. Still another object of the present invention is to provide an inspection method for inspecting a large number of memory chips on a wafer in a short time.

【0017】[0017]

【課題を解決するための手段】この発明のプローブカー
ドは、ウェーハ上の多数の集積回路チップを検査するも
のであって、X方向に延びる複数の第1プローブユニッ
トと、Y方向に延びる複数の第2プローブユニットと
が、格子状に配置されている。第1プローブユニットの
プローブ針は、複数の集積回路チップの電極のうちX方
向に配列された複数の電極に同時に接触できる。第2プ
ローブユニットのプローブ針は、複数の集積回路チップ
の電極のうちY方向に配列された複数の電極に同時に接
触できる。第1プローブユニットと第2プローブユニッ
トの配線板は、ウェーハの表面に対して垂直方向に延び
ており、これらの配線板は、格子状に配置されたプロー
ブユニットの間隙を立ち上がっている。
A probe card according to the present invention is for inspecting a large number of integrated circuit chips on a wafer and comprises a plurality of first probe units extending in the X direction and a plurality of first probe units extending in the Y direction. The second probe units are arranged in a grid pattern. The probe needle of the first probe unit can simultaneously contact a plurality of electrodes arranged in the X direction among the electrodes of the plurality of integrated circuit chips. The probe needle of the second probe unit can simultaneously contact a plurality of electrodes arranged in the Y direction among the electrodes of the plurality of integrated circuit chips. The wiring boards of the first probe unit and the second probe unit extend in a direction perpendicular to the surface of the wafer, and these wiring boards stand up in the gaps between the probe units arranged in a grid pattern.

【0018】このプローブカードを用いると、チップの
電極がX方向とY方向の両方向に配列されている場合で
も、ウェーハ上の全てのチップを少数回の同時接触で検
査できる。そして、複数のプローブユニットを組み合わ
せてひとつのプローブカードを構成したことにより、極
めて多数のプローブ針を有するプローブカードを従来と
同様の技術で製造できる。すなわち、各プローブユニッ
トを別個に製造することができ、プローブ針の位置出し
作業が従来と同様の技術で可能となる。また、プローブ
ユニット自体の大きさがあまり大きくならず、プローブ
針を2次元平面の広い範囲内で多数配列させる必要がな
くなる。例えば、プローブユニットに設けるプローブ針
の先端は、1列か2列に並ぶようにすることができ、プ
ローブ針の配列固定も比較的容易である。
With this probe card, all the chips on the wafer can be inspected by a small number of simultaneous contacts even when the electrodes of the chips are arranged in both the X and Y directions. By combining a plurality of probe units into one probe card, a probe card having an extremely large number of probe needles can be manufactured by the same technique as the conventional technique. That is, each probe unit can be manufactured separately, and the positioning operation of the probe needle can be performed by the same technology as that of the related art. Further, the size of the probe unit itself does not become so large, and it becomes unnecessary to arrange a large number of probe needles in a wide range of the two-dimensional plane. For example, the tips of the probe needles provided in the probe unit can be arranged in one or two rows, and the array needles can be fixed relatively easily.

【0019】いずれかのプローブユニットが故障した場
合には、そのプローブユニットを交換するだけで足り
る。また、プローブユニットのいくつかは互いに同一の
構成とすることができ、その場合は、互換性もある。
When any of the probe units fails, it is sufficient to replace the probe unit. Some of the probe units can have the same configuration, and in that case, they are interchangeable.

【0020】プローブユニットの配線板はウェーハの表
面に対して垂直方向に延びているので、プローブユニッ
トを密に並べて配置することが可能になる。ウェーハ上
の隣り合うチップを同時に検査するためには、隣り合う
プローブユニットの間隔は、チップの寸法程度にする必
要がある。したがって、プローブユニットの配線板をウ
ェーハの表面に平行に配置することはほとんど不可能に
なり、この発明のようにウェーハの表面に対して垂直に
配置することが必要となる。
Since the wiring board of the probe unit extends in the direction perpendicular to the surface of the wafer, it becomes possible to arrange the probe units densely. In order to inspect adjacent chips on a wafer at the same time, the interval between adjacent probe units needs to be about the size of the chips. Therefore, it is almost impossible to arrange the wiring board of the probe unit parallel to the surface of the wafer, and it is necessary to arrange the wiring board perpendicular to the surface of the wafer as in the present invention.

【0021】このプローブカードで検査する対象はウェ
ーハ上の多数の集積回路チップであり、その集積回路の
種類に特に制限はないが、DRAMやSRAMなどのメ
モリチップに対しては特に有効である。
The object to be inspected by this probe card is a large number of integrated circuit chips on a wafer, and the type of the integrated circuit is not particularly limited, but it is particularly effective for memory chips such as DRAM and SRAM.

【0022】この発明では、ひとつのプローブユニット
に属するすべてのプローブ針の先端を、1本の直線上
か、あるいは、平行な2本の直線上に配列することがで
きる。特に、検査すべきチップの四辺に沿って電極が配
列されている場合には、隣り合う二つのチップの電極
を、共通のプローブユニットに属するプローブ針で接触
できるように、プローブ針の先端を平行な2本の直線上
に配列できる。
In the present invention, the tips of all the probe needles belonging to one probe unit can be arranged on one straight line or on two parallel straight lines. Especially when the electrodes are arranged along the four sides of the chip to be inspected, the tips of the probe needles should be parallel so that the electrodes of two adjacent chips can be contacted by the probe needles belonging to the common probe unit. It can be arranged on two straight lines.

【0023】この発明において、プローブカードの基台
は円形に形成することができ、この基台の中央の開口に
第1プローブユニットと第2プローブユニットを格子状
に差し渡すことができる。開口の形状は、ウェーハに合
わせて円形にしてもよいし、プローブユニットの取り付
け易さを考慮して矩形にしてもよい。
In the present invention, the base of the probe card can be formed in a circular shape, and the first probe unit and the second probe unit can be arranged in a grid pattern in the central opening of the base. The shape of the opening may be circular according to the wafer, or may be rectangular considering the ease of attaching the probe unit.

【0024】第1プローブユニットと第2プローブユニ
ットを格子状に配置する関係で、これらのプローブユニ
ットが干渉しないように、例えば第1プローブユニット
に凹所を形成して、この凹所の内部に第2プローブユニ
ットを貫通させるようにしてもよい。
Since the first probe unit and the second probe unit are arranged in a grid pattern, for example, a recess is formed in the first probe unit so that these probe units do not interfere with each other. You may make it penetrate the 2nd probe unit.

【0025】また、この発明の検査方法は、上述のプロ
ーブカードを用いて、ウェーハ上に形成した多数の同一
のメモリチップを2回の同時検査によってすべて検査す
るようにしたものである。
Further, the inspection method of the present invention uses the above-mentioned probe card to inspect a large number of identical memory chips formed on a wafer by two simultaneous inspections.

【0026】[0026]

【発明の実施の形態】図1は、この発明のプローブカー
ドの一実施形態の平面図である。プローブカードの基台
28は円形であり、その中央には矩形の開口30が形成
されている。この開口30の周囲には矩形の取り付け枠
32が固定されている。この取り付け枠32に、X方向
に延びる複数の第1支持体34の両端と、Y方向に延び
る複数の第2支持体36の両端とがネジで固定されてい
る。第1支持体34と第2支持体36は開口30を覆う
ように格子状に配置されている。基台28の上には配線
板が固定され、この配線板の上面には、内側電極38と
外側電極40が配置されている。これらの電極38、4
0の間は所定の対応関係になるように多層の電気配線で
接続されている。内側電極38は図面ではコネクタの形
状として描かれており、この内側電極38はプローブユ
ニットの配線板と接続される。外側電極38は外部端子
の役割があり、外部のテスタと接続される。なお、基台
28とその上の配線板は一体の構造にしてもよい。
1 is a plan view of an embodiment of a probe card of the present invention. The base 28 of the probe card is circular, and a rectangular opening 30 is formed in the center thereof. A rectangular mounting frame 32 is fixed around the opening 30. Both ends of a plurality of first supports 34 extending in the X direction and both ends of a plurality of second supports 36 extending in the Y direction are fixed to the mounting frame 32 with screws. The first support 34 and the second support 36 are arranged in a grid pattern so as to cover the openings 30. A wiring board is fixed on the base 28, and an inner electrode 38 and an outer electrode 40 are arranged on the upper surface of the wiring board. These electrodes 38, 4
0s are connected by multilayer electric wiring so as to have a predetermined correspondence. The inner electrode 38 is depicted as a connector shape in the drawing, and the inner electrode 38 is connected to the wiring board of the probe unit. The outer electrode 38 serves as an external terminal and is connected to an external tester. The base 28 and the wiring board on the base 28 may have an integrated structure.

【0027】複数の第1支持体34は、X方向に延びる
ように開口30に差し渡されていて、互いに平行に配置
されている。また、複数の第2支持体36は、Y方向に
延びるように開口30に差し渡されていて、互いに平行
に配置されている。これらの支持体34、36には、後
述するように多数のプローブ針が固定されている。
The plurality of first supports 34 are arranged in parallel with each other across the opening 30 so as to extend in the X direction. In addition, the plurality of second supports 36 are arranged in the opening 30 so as to extend in the Y direction, and are arranged in parallel with each other. A large number of probe needles are fixed to these supports 34 and 36 as described later.

【0028】図2はウェーハ42に形成された多数のチ
ップ44とプローブカードの第1支持体34及び第2支
持体36との配置関係を示す平面図である。このウェー
ハ42にはチップ44が8行×12列で形成されてい
る。なお、図面において、上から下に向かって1行、2
行、…と数え、左から右に向かって1列、2列、…と数
えるものとする。ウェーハ42は円形なので、8行×1
2列のチップ(全部で96個)のうち、四隅に相当する
領域にはチップが形成されていない。したがって、図面
の場合では68個のチップが形成されている。そして、
8行のチップに対応して9本の第1支持体34があり、
12列のチップに対応して12本の第2支持体36があ
る。この実施形態では、図面を見易くするために、8行
×12列のチップの配置例を示したが、実際のウェーハ
ではもっと多数のチップが形成されているのが普通であ
り、その場合には、支持体34、36の本数はもっと多
数になる。
FIG. 2 is a plan view showing an arrangement relationship between a large number of chips 44 formed on the wafer 42 and the first support 34 and the second support 36 of the probe card. Chips 44 are formed on this wafer 42 in 8 rows and 12 columns. It should be noted that, in the drawings, one line from top to bottom, 2
Count rows, ..., From left to right, count one column, two columns, .... Wafer 42 is circular, so 8 rows x 1
Of the two rows of chips (96 chips in total), no chips are formed in the regions corresponding to the four corners. Therefore, in the case of the drawing, 68 chips are formed. And
There are nine first supports 34 corresponding to eight rows of chips,
There are 12 second supports 36 corresponding to 12 rows of chips. In this embodiment, an example of arranging chips in 8 rows × 12 columns is shown to make the drawing easier to see, but it is usual that a larger number of chips are formed in an actual wafer. The number of the supports 34, 36 becomes larger.

【0029】図3はチップ44と第1支持体34及び第
2支持体36との配置関係を拡大して示した平面図であ
る。各チップ44には、その四辺に沿って電極46が形
成されている。図面では、中央の列の3個のチップだけ
に電極46を描いてあるが、その他のチップにも同様に
電極が形成されている。図面の真ん中のチップに着目す
ると、このチップの電極のうち、右辺の電極46aに
は、それよりも右側に位置する第2支持体36aのプロ
ーブ針が接触する。左辺の電極46bには、それよりも
左側に位置する第2支持体36bのプローブ針が接触す
る。上辺の電極46cには、それよりも上側に位置する
第1支持体34cのプローブ針が接触する。なお、第1
支持体34cには、後述する図5に示すように、プロー
ブ針が2列に形成されており、そのうちの長い方のプロ
ーブ針が電極46cに接触する。下辺の電極46dに
は、それよりも上側に位置する第1支持体34dのプロ
ーブ針が接触する。なお、この第1支持体34dにもプ
ローブ針が2列に形成されており、そのうちの短い方の
プローブ針が電極46dに接触する。このように、各チ
ップの電極のうち、X方向に配列された電極46c、4
6dには、X方向に延びる第1支持体34c、34dの
プローブ針が接触し、Y方向に配列された電極46a、
46bには、Y方向に延びる第2支持体36a、36b
のプローブ針が接触する。
FIG. 3 is an enlarged plan view showing the positional relationship between the chip 44 and the first support 34 and the second support 36. Electrodes 46 are formed on each chip 44 along the four sides thereof. In the drawing, the electrodes 46 are drawn only on the three chips in the central row, but electrodes are formed on the other chips as well. Focusing on the chip in the center of the drawing, the probe needle of the second support 36a located on the right side of the electrode 46a on the right side of the electrodes of this chip contacts. The probe needle of the second support member 36b located on the left side of the electrode 46b on the left side contacts with the electrode 46b on the left side. The probe needle of the first support 34c located above the electrode 46c on the upper side is in contact with the electrode 46c. The first
As shown in FIG. 5, which will be described later, probe needles are formed in two rows on the support 34c, and one of the longer probe needles contacts the electrode 46c. The probe needle of the first support 34d positioned above the lower electrode 46d contacts the electrode 46d. It should be noted that the probe needles are also formed in two rows on the first support 34d, and the shorter one of the probe needles contacts the electrode 46d. Thus, among the electrodes of each chip, the electrodes 46c, 4 arranged in the X direction are arranged.
6d is in contact with the probe needles of the first support members 34c and 34d extending in the X direction, and the electrodes 46a arranged in the Y direction,
46b includes second supports 36a, 36b extending in the Y direction.
Probe needle comes into contact.

【0030】図3において、チップ44と支持体34、
36との配置関係をそのままにした状態で、真ん中のチ
ップよりも上方のチップや下方のチップも、同時に検査
できる。すなわち、同じ列に含まれるすべてのチップを
同時に検査できる。これに対して、真ん中のチップの左
右のチップは、同じ配置関係では検査できない。その理
由は、検査すべきチップの右側に位置するチップのとこ
ろには2本の第2支持体36a、36eがあり、左側に
位置するチップのところには2本の第2支持体36b、
36fがあるからである。すなわち、同じ行に含まれる
チップについては、ひとつおきに同時に検査できる。そ
こで、図2に戻って説明すると、この配置関係では、第
2列、第4列、…のような偶数列に属する全てのチップ
を同時に検査できる。その後、プローブカードに対し
て、ウェーハ42を矢印48の方向にチップ幅分だけ移
動させると、第1列、第3列、…のような奇数列に属す
る全てのチップを同時に検査できる。
In FIG. 3, the tip 44 and the support 34,
The chip above and below the middle chip can be inspected at the same time with the arrangement relationship with the chip 36 unchanged. That is, all the chips included in the same row can be inspected at the same time. On the other hand, the chips on the left and right of the middle chip cannot be inspected in the same arrangement relationship. The reason is that there are two second supports 36a and 36e at the chip located on the right side of the chip to be inspected and two second supports 36b at the chip located on the left side.
This is because there is 36f. That is, every other chips included in the same row can be inspected at the same time. Therefore, referring back to FIG. 2, in this arrangement, all chips belonging to even-numbered columns such as the second column, the fourth column, ... Can be simultaneously inspected. After that, when the wafer 42 is moved in the direction of arrow 48 by the chip width with respect to the probe card, all the chips belonging to the odd rows such as the first row, the third row, ... Can be inspected at the same time.

【0031】図4は図3のA−A線で切断した断面図で
ある。X方向に延びる第1支持体34cには、ウェーハ
表面側に開口する凹所50が形成されている。一つの凹
所50には、2本の第2支持体36a、36eが貫通し
ている。チップ44(平面図で示している。)の右側に
位置する第2支持体36aの下端には、チップ44の右
辺の電極46aに接触するプローブ針52aが接着され
ている。このプローブ針52aはクランク形状をしてお
り、針の先端部と基端部はウェーハ面に対してほぼ垂直
になっている。第2支持体36aには、ウェーハに垂直
な側面37に沿って、配線板(この実施形態ではフレキ
シブル配線板)54が設けられている。そして、第2支
持体36aの側面37は、配線板54を沿わせて容易に
固定できるように、所定の高さHが確保されている。配
線板54の下端にはプローブ針52aの基端が接着さ
れ、配線板54の他端にはコネクタ56が接着されてい
る。このコネクタ56は図1の内部電極38に接続され
る。第2支持体36aとプローブ針52aと配線板54
とによって第2プローブユニットが構成されている。同
じ凹所50を貫通しているもう一方の第2支持体36e
も、同様にプローブ針と配線板とが設けられていて、基
本的に第2支持体36aと同じ構造になっており、第2
支持体36aと左右対称になるように配置されている。
FIG. 4 is a sectional view taken along the line AA of FIG. The first support 34c extending in the X direction is provided with a recess 50 that opens to the front surface side of the wafer. Two recesses 50 are penetrated by two second supports 36a and 36e. A probe needle 52a that is in contact with the electrode 46a on the right side of the chip 44 is attached to the lower end of the second support 36a located on the right side of the chip 44 (shown in a plan view). The probe needle 52a has a crank shape, and the tip end portion and the base end portion of the needle are substantially perpendicular to the wafer surface. A wiring board (a flexible wiring board in this embodiment) 54 is provided on the second support 36a along a side surface 37 perpendicular to the wafer. The side surface 37 of the second support 36a has a predetermined height H so that it can be easily fixed along the wiring board 54. The base end of the probe needle 52a is bonded to the lower end of the wiring board 54, and the connector 56 is bonded to the other end of the wiring board 54. This connector 56 is connected to the internal electrode 38 of FIG. Second support 36a, probe needle 52a, wiring board 54
A second probe unit is constituted by and. The other second support 36e penetrating the same recess 50
Similarly, a probe needle and a wiring board are similarly provided, and the structure is basically the same as that of the second support 36a.
It is arranged so as to be bilaterally symmetrical to the support 36a.

【0032】図5は図3のB−B線で切断した断面図で
ある。第1支持体34cの下端には長いプローブ針58
と短いプローブ針59が接着され、それぞれ、紙面に垂
直な方向に複数本ずつ配列されている。長いプローブ針
58は、チップ44に対して、X方向に配列された電極
46cに接触する。一方、短いプローブ針59は、隣の
チップの電極46eに接触する。すなわち、一つの第1
支持体34cは、隣り合う二つのチップの電極46c、
46eに同時に接触するような2列のプローブ針を有す
ることになる。また、チップ44において、X方向に配
列された他方の電極46dは、別の第1支持体34dの
短いプローブ針59が接触することになる。
FIG. 5 is a sectional view taken along line BB in FIG. A long probe needle 58 is provided at the lower end of the first support 34c.
And short probe needles 59 are adhered, and a plurality of probe needles 59 are arranged in a direction perpendicular to the plane of the drawing. The long probe needle 58 contacts the electrode 46c arranged in the X direction with respect to the tip 44. On the other hand, the short probe needle 59 contacts the electrode 46e of the adjacent chip. That is, one first
The support member 34c includes electrodes 46c of two adjacent chips,
It will have two rows of probe needles that contact 46e simultaneously. Further, in the chip 44, the other electrode 46d arranged in the X direction comes into contact with the short probe needle 59 of the other first support 34d.

【0033】第1支持体34cには、ウェーハに垂直な
側面に沿って、配線板(この実施形態ではフレキシブル
配線板)60が設けられている。この配線板60の下端
には2種類のプローブ針58、59の基端が接着され、
配線板60の他端にはコネクタ62が接着されている。
このコネクタ62は図1の内部電極38に接続される。
そして、第1支持体34cとプローブ針58、59と配
線板60とによって第1プローブユニットが構成されて
いる。その他の第1プローブユニットも同じ構成になっ
ている。
A wiring board (a flexible wiring board in this embodiment) 60 is provided on the first support 34c along the side surface perpendicular to the wafer. The base ends of two types of probe needles 58 and 59 are bonded to the lower end of the wiring board 60,
A connector 62 is attached to the other end of the wiring board 60.
The connector 62 is connected to the internal electrode 38 shown in FIG.
The first support 34c, the probe needles 58 and 59, and the wiring board 60 constitute a first probe unit. The other first probe units have the same configuration.

【0034】この図5において、第1支持体34cより
も高さの低い第2支持体36bと、そのプローブ針52
bと配線板54とが見えている。一方、図4において
は、第1支持体34cのプローブ針58と配線板60と
が見えている。第1支持体34と第2支持体36は、そ
の下端の高さ位置(すなわちプローブ針の接着高さ位
置)はほぼ同じになっている。配線板54、60は、格
子状に配置された第1支持体34と第2支持体36の隙
間の間を立ち上がっている。
In FIG. 5, a second support 36b having a height lower than that of the first support 34c and its probe needle 52 are provided.
b and the wiring board 54 are visible. On the other hand, in FIG. 4, the probe needle 58 of the first support 34c and the wiring board 60 are visible. The first support 34 and the second support 36 have substantially the same height position at the lower end (that is, the bonding height position of the probe needle). The wiring boards 54 and 60 stand up between the gaps between the first support body 34 and the second support body 36 arranged in a grid pattern.

【0035】第1支持体34と第2支持体36は、その
幅寸法Dに比較して高さ寸法Hが大きくなっているの
で、ウェーハを高温で測定する場合に、上下方向の放熱
作用が大きい。また、これらの支持体は熱膨張率の小さ
い金属(例えば、商品名:ノビナイト)を使用してい
る。これらの構成により、高温測定時の支持体の熱変形
が抑制され、プローブ針の針先の位置ずれは小さくな
る。したがって、この発明のプローブカードは、ウェー
ハ単位のバーンイン測定にも使用できる。
Since the height dimension H of the first support body 34 and the second support body 36 is larger than the width dimension D thereof, when the wafer is measured at a high temperature, the heat radiation action in the vertical direction is generated. large. Further, these supports use a metal having a small coefficient of thermal expansion (for example, trade name: Novinite). With these configurations, the thermal deformation of the support during high temperature measurement is suppressed, and the displacement of the probe tip tip is reduced. Therefore, the probe card of the present invention can also be used for wafer-by-wafer burn-in measurement.

【0036】図6(A)は第2支持体36の下端の拡大
断面図である。この第2支持体36の下端にはプローブ
針52が一列に接着剤64で接着されている。図6
(B)は第1支持体34の下端の拡大断面図である。こ
の第1支持体34の下端には長いプローブ針58と短い
プローブ針59が上下に2段になるように配列されて接
着剤66で固定されている。
FIG. 6A is an enlarged sectional view of the lower end of the second support 36. The probe needles 52 are attached in a line to the lower end of the second support 36 with an adhesive 64. FIG.
FIG. 7B is an enlarged cross-sectional view of the lower end of the first support body 34. At the lower end of the first support 34, a long probe needle 58 and a short probe needle 59 are vertically arranged in two stages and fixed with an adhesive 66.

【0037】次に、このプローブカードの使用方法を説
明する。図2において、ウェーハ42にはDRAMまた
はSRAMからなる多数の同一のメモリチップが形成さ
れている。プローブカードの第1支持体34と第2支持
体36に対してウェーハ42を図2の配置関係になるよ
うに位置決めしてから、ウェーハ42をプローブカード
に押し付けると、偶数列に属するすべてのチップの電極
がプローブ針に接触する。そして、テスタを用いてこれ
らのチップを同時に検査する。テスタではチップの個数
分の検査を並列に実行する。次に、ウェーハ42を矢印
48の方向にチップ幅分だけ移動してからプローブカー
ドに押付ける。すると、今度は、奇数列に属するすべて
のチップの電極がプローブ針に接触する。このようにし
て、2回の同時接触で、ウェーハ上のすべてのチップの
検査が完了する。
Next, a method of using this probe card will be described. In FIG. 2, a wafer 42 is formed with a large number of identical memory chips made of DRAM or SRAM. When the wafer 42 is pressed against the probe card after the wafer 42 is positioned with respect to the first support body 34 and the second support body 36 of the probe card so as to have the arrangement relationship of FIG. Electrode contacts the probe needle. Then, these chips are simultaneously inspected using a tester. In the tester, tests for the number of chips are executed in parallel. Next, the wafer 42 is moved in the direction of arrow 48 by the width of the chip and then pressed onto the probe card. Then, the electrodes of all the chips belonging to the odd-numbered rows come into contact with the probe needles. In this way, the inspection of all the chips on the wafer is completed with two simultaneous contacts.

【0038】図7は、この発明のプローブカードの別の
実施形態について、その第1支持体及び第2支持体とウ
ェーハのチップとの配置関係を示す平面図である。ウェ
ーハ68のチップ70の配列は8行×12列であって、
図2に示す場合と同じである。ただし、各チップ70に
は十字状に電極が配列されている。このプローブカード
では、8行のチップに対応して16本の第1支持体72
があり、12列のチップに対応して12本の第2支持体
74がある。
FIG. 7 is a plan view showing the positional relationship between the first and second supports of the probe card of the present invention and the chips of the wafer. The array of chips 70 on the wafer 68 is 8 rows × 12 columns,
This is the same as the case shown in FIG. However, electrodes are arranged in a cross shape on each chip 70. In this probe card, 16 first support members 72 corresponding to 8 rows of chips are provided.
And there are 12 second supports 74 corresponding to the 12 rows of chips.

【0039】図8はチップ70と第1支持体72及び第
2支持体74との配置関係を拡大して示した平面図であ
る。各チップ70には十字状に電極76が配列されてい
る。図面の真ん中のチップに着目すると、このチップの
電極のうち、Y方向に配列された上半分の電極76aに
は、右隣のチップのところに位置する第2支持体74a
のプローブ針が接触する。Y方向に配列された下半分の
電極76bには、左隣のチップのところに位置する第2
支持体74bのプローブ針が接触する。また、X方向に
配列された左半分の電極76cには、それよりも上側に
位置する第1支持体72cのプローブ針が接触する。X
方向に配列された右半分の電極76dには、それよりも
下側に位置する第1支持体72dのプローブ針が接触す
る。このように、各チップの電極のうち、X方向に配列
された電極76c、76dには、X方向に延びる第1支
持体72c、72dのプローブ針が接触し、Y方向に配
列された電極76a、76bには、Y方向に延びる第2
支持体74a、74bのプローブ針が接触する。この実
施形態では、十字状の電極を上下左右の四つのグループ
に分けて、各グループをそれぞれ別々の支持体のプロー
ブ針で接触することによって、X方向に延びるプローブ
針とY方向に延びるプローブ針とが互いに干渉しないよ
うにしている。
FIG. 8 is an enlarged plan view showing the positional relationship between the chip 70 and the first support 72 and the second support 74. Electrodes 76 are arranged in a cross shape on each chip 70. Focusing on the chip in the middle of the drawing, among the electrodes of this chip, the upper half electrode 76a arranged in the Y direction has the second support 74a located at the chip on the right side.
Probe needle comes into contact. The lower half electrode 76b arranged in the Y direction has a second electrode located on the chip on the left side.
The probe needle of the support body 74b contacts. The left half electrode 76c arranged in the X direction is in contact with the probe needle of the first support 72c located above the left half electrode 76c. X
The probe needles of the first support 72d located below the right half electrodes 76d arranged in contact with each other come into contact with the right half electrodes 76d. As described above, among the electrodes of each chip, the electrodes 76c and 76d arranged in the X direction are brought into contact with the probe needles of the first supports 72c and 72d extending in the X direction, and the electrodes 76a arranged in the Y direction. , 76b has a second extending in the Y direction.
The probe needles of the supports 74a and 74b come into contact with each other. In this embodiment, the cross-shaped electrodes are divided into four groups, that is, upper, lower, left and right, and each group is brought into contact with a probe needle of a different support member, so that the probe needles extending in the X direction and the probe needles extending in the Y direction. And try not to interfere with each other.

【0040】図8において、チップ70と支持体72、
74との配置関係をそのままにした状態で、真ん中のチ
ップと同じ列に含まれるすべてのチップを同時に検査で
きる。これに対して、真ん中のチップの左右のチップ
は、同じ配置関係では検査できない。この点は、図3の
場合と同様である。図7に戻って説明すると、この配置
関係では、第2列、第4列、…のような偶数列に属する
全てのチップを同時に検査できる。その後、プローブカ
ードに対して、ウェーハ68を矢印78の方向にチップ
幅分だけ移動させると、第1列、第3列、…のような奇
数列に属する全てのチップを同時に検査できる。
In FIG. 8, a chip 70 and a support 72,
All the chips included in the same row as the middle chip can be inspected at the same time while keeping the arrangement relationship with 74. On the other hand, the chips on the left and right of the middle chip cannot be inspected in the same arrangement relationship. This point is the same as the case of FIG. Returning to FIG. 7, in this arrangement relationship, all chips belonging to even columns such as the second column, the fourth column, ... Can be inspected at the same time. After that, when the wafer 68 is moved by the chip width in the direction of the arrow 78 with respect to the probe card, all the chips belonging to the odd rows such as the first row, the third row, ...

【0041】図9は図8のA−A線で切断した断面図で
ある。第1支持体72cには、ウェーハ表面側に開口す
る凹所80が形成されている。一つの凹所80には、2
本の第2支持体74a、74eが貫通している。チップ
70(平面図で示している。)の右側に位置する第2支
持体74aの下端には、チップ70の上半分の電極76
aに接触するプローブ針82aが接着されている。この
第2支持体74aには、ウェーハに垂直な側面75に沿
って、配線板(この実施形態ではフレキシブル配線板)
84が設けられている。この配線板84の下端にはプロ
ーブ針82aの基端が接着され、配線板84の他端には
コネクタ85が接着されている。第2支持体74aとプ
ローブ針82aと配線板84とによって第2プローブユ
ニットが構成されている。同じ凹所80を貫通している
もう一方の第2支持体74eも、同様にプローブ針と配
線板とが設けられていて基本的に第2支持体74aと同
じ構造であり、第2支持体74aとは左右対称になるよ
うに配置されている。
FIG. 9 is a sectional view taken along the line AA of FIG. The first support 72c is provided with a recess 80 that opens to the front surface side of the wafer. 2 in one recess 80
The second support bodies 74a and 74e of the book penetrate. At the lower end of the second support 74a located on the right side of the chip 70 (shown in plan view), the electrode 76 of the upper half of the chip 70 is provided.
The probe needle 82a that contacts a is adhered. A wiring board (a flexible wiring board in this embodiment) is provided on the second support 74a along a side surface 75 perpendicular to the wafer.
84 are provided. The base end of the probe needle 82a is bonded to the lower end of the wiring board 84, and the connector 85 is bonded to the other end of the wiring board 84. The second support unit 74a, the probe needles 82a, and the wiring board 84 form a second probe unit. The other second support 74e penetrating the same recess 80 is also provided with a probe needle and a wiring board, and basically has the same structure as the second support 74a. 74a is arranged so as to be bilaterally symmetric.

【0042】図10は図8のB−B線で切断した断面図
である。第1支持体72cの下端にはプローブ針82c
が接着され、このプローブ針82cは、チップ70に対
して、X方向に配列された半分の電極76cに接触す
る。この第1支持体72cには、ウェーハに垂直な側面
に沿って、配線板(この実施形態ではフレキシブル配線
板)86が設けられている。この配線板86の下端には
プローブ針82cの基端が接着され、配線板86の他端
にはコネクタ88が接着されている。そして、第1支持
体72cとプローブ針82cと配線板86とによって第
1プローブユニットが構成されている。その他の第1プ
ローブユニットも基本的に同じ構成になっている。
FIG. 10 is a sectional view taken along the line BB of FIG. A probe needle 82c is provided at the lower end of the first support 72c.
Are bonded, and the probe needles 82c contact the half electrodes 76c arranged in the X direction with respect to the chip 70. A wiring board (a flexible wiring board in this embodiment) 86 is provided on the first support 72c along a side surface perpendicular to the wafer. The base end of the probe needle 82c is adhered to the lower end of the wiring board 86, and the connector 88 is adhered to the other end of the wiring board 86. The first support 72c, the probe needles 82c, and the wiring board 86 form a first probe unit. The other first probe units have basically the same configuration.

【0043】この図10において、第2支持体74b
と、そのプローブ針82bと配線板84とが見えてい
る。また、別の第1支持体72d(X方向のもう半分の
電極に接触するプローブ針を備えている。)も見えてい
る。一方、図9においては、第1支持体72cのプロー
ブ針82cと配線板86とが見えている。また、別の第
1支持体72e(図8の第1支持体72dと同等のも
の)の垂れ下がり部も見えている。
In FIG. 10, the second support 74b
The probe needle 82b and the wiring board 84 are visible. Further, another first support 72d (provided with a probe needle that contacts the other half electrode in the X direction) is also visible. On the other hand, in FIG. 9, the probe needle 82c of the first support 72c and the wiring board 86 are visible. Further, the hanging portion of another first support 72e (equivalent to the first support 72d in FIG. 8) is also visible.

【0044】これまで説明してきた実施形態では、2回
の同時接触でウェーハ上の全てのチップを検査できるよ
うに、プローブユニットが構成されているが、別の構成
にすることもできる。すなわち、図2において、第2支
持体36の本数を2倍にしてもっと密に配置するか、あ
るいは、第2支持体36の本数はそのままにして、第2
支持体36のプローブ針を2列に配列してプローブ針の
本数を2倍にすることにより、1回の同時接触でウェー
ハ上の全てのチップを同時に検査することも可能であ
る。また、第2支持体36の本数をもっと少なくするこ
とも可能であるが、その場合は、同時接触の回数は3回
以上になる。実際には、プローブユニットを密に配置す
る困難性と、同時接触の回数が増加することの不便性と
の兼合いから、2回の同時接触でウェーハ上の全てのチ
ップを検査できるようにするのが最適である。
In the embodiments described so far, the probe unit is configured so that all the chips on the wafer can be inspected by two simultaneous contacts, but another configuration can be used. That is, in FIG. 2, the number of the second supports 36 is doubled and arranged more densely, or the number of the second supports 36 is left unchanged and the second support 36 is
By arranging the probe needles of the support 36 in two rows and doubling the number of probe needles, it is possible to simultaneously inspect all the chips on the wafer by one simultaneous contact. Further, it is possible to further reduce the number of the second supports 36, but in that case, the number of simultaneous contacts becomes three or more. In practice, it is possible to inspect all the chips on the wafer with two simultaneous contacts due to the difficulty of densely arranging the probe units and the inconvenience of increasing the number of simultaneous contacts. Is the best.

【0045】[0045]

【発明の効果】この発明によれば、ウェーハ上の各チッ
プの電極がX方向とY方向の両方向に配列されている場
合でも、ウェーハ上の全てのチップを1回または少数回
の同時接触で検査を完了できる。また、複数のプローブ
ユニットを組み合わせたことにより、極めて多数のプロ
ーブ針を有するプローブカードを従来と同様の技術で製
造できるようになり、また、故障時にも問題のプローブ
カードだけを交換すれば済む。さらに、プローブユニッ
トの配線板をウェーハの表面に対して垂直に配置したこ
とにより、複数のプローブユニットを密に配置すること
が可能となる。
According to the present invention, even if the electrodes of each chip on the wafer are arranged in both the X and Y directions, all the chips on the wafer can be contacted once or a few times at the same time. The inspection can be completed. Further, by combining a plurality of probe units, a probe card having an extremely large number of probe needles can be manufactured by the same technique as the conventional technique, and only the probe card in question needs to be replaced even when a failure occurs. Further, by arranging the wiring board of the probe unit perpendicularly to the surface of the wafer, it becomes possible to arrange a plurality of probe units densely.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】この発明のプローブカードの一実施形態の平面
図である。
FIG. 1 is a plan view of an embodiment of a probe card of the present invention.

【図2】ウェーハとプローブカードとの配置関係を示す
平面図である。
FIG. 2 is a plan view showing an arrangement relationship between a wafer and a probe card.

【図3】ウェーハ上のチップと第1支持体及び第2支持
体との配置関係を拡大して示した平面図である。
FIG. 3 is an enlarged plan view showing a positional relationship between chips on a wafer and a first support and a second support.

【図4】図3のA−A線で切断した断面図である。4 is a cross-sectional view taken along the line AA of FIG.

【図5】図3のB−B線で切断した断面図である。5 is a cross-sectional view taken along the line BB of FIG.

【図6】第2支持体及び第1支持体の下端の拡大断面図
である。
FIG. 6 is an enlarged cross-sectional view of lower ends of a second support and a first support.

【図7】別の実施形態におけるウェーハとプローブカー
ドとの配置関係を示す平面図である。
FIG. 7 is a plan view showing an arrangement relationship between a wafer and a probe card according to another embodiment.

【図8】図7の実施形態におけるウェーハ上のチップと
第1支持体及び第2支持体との配置関係を拡大して示し
た平面図である。
8 is an enlarged plan view showing the positional relationship between the chips on the wafer and the first support and the second support in the embodiment of FIG. 7. FIG.

【図9】図8のA−A線で切断した断面図である。9 is a cross-sectional view taken along the line AA of FIG.

【図10】図8のB−B線で切断した断面図である。10 is a cross-sectional view taken along the line BB of FIG.

【図11】従来のプローブカードの平面図と正面断面図
である。
FIG. 11 is a plan view and a front sectional view of a conventional probe card.

【図12】別の従来例のプローブカードの主要部の正面
断面図と、それに対応するウェーハの斜視図である。
FIG. 12 is a front sectional view of a main part of another conventional probe card and a perspective view of a wafer corresponding thereto.

【図13】さらに別の従来例のプローブカードの主要部
の正面断面図と、それに対応するウェーハの斜視図であ
る。
FIG. 13 is a front cross-sectional view of a main part of a probe card of still another conventional example and a perspective view of a wafer corresponding thereto.

【図14】各チップにおいて電極が一方向に配列されて
いるようなウェーハの一部を拡大した平面図である。
FIG. 14 is an enlarged plan view of a part of a wafer in which electrodes are arranged in one direction in each chip.

【図15】各チップにおいて電極がX方向とY方向に配
列されているようなウェーハの一部を拡大した平面図で
ある。
FIG. 15 is an enlarged plan view of a part of a wafer in which electrodes are arranged in the X direction and the Y direction in each chip.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

28 基台 30 開口 32 取り付け枠 34 第1支持体 36 第2支持体 38 内側電極 40 外側電極(外部端子) 42 ウェーハ 44 チップ 46 電極 52 プローブ針 54 配線板 56 コネクタ 28 base 30 opening 32 mounting frame 34 first support 36 second support 38 inner electrode 40 outer electrode (external terminal) 42 wafer 44 chip 46 electrode 52 probe needle 54 wiring board 56 connector

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ウェーハ上の多数の集積回路チップを検
査するためのプローブカードにおいて、次の構成を有す
るプローブカード。 (イ)このプローブカードは、X方向に延びる第1支持
体を備える複数の第1プローブユニットと、前記X方向
に垂直なY方向に延びる第2支持体を備える複数の第2
プローブユニットと、第1プローブユニット及び第2プ
ローブユニットを支持する基台と、第1プローブユニッ
ト及び第2プローブユニットと基台上の外部端子とを接
続する配線板とを備える。 (ロ)前記第1プローブユニットと第2プローブユニッ
トは格子状に配置されている。 (ハ)前記第1プローブユニットの第1支持体に、複数
の集積回路チップの電極のうちX方向に配列された複数
の電極に同時に接触可能な多数のプローブ針と、前記ウ
ェーハの表面に対して垂直方向に延びる配線板とが取り
付けられている。 (ニ)前記第2プローブユニットの第2支持体に、複数
の集積回路チップの電極のうちY方向に配列された複数
の電極に同時に接触可能な多数のプローブ針と、前記ウ
ェーハの表面に対して垂直方向に延びる配線板とが取り
付けられている。
1. A probe card for inspecting a large number of integrated circuit chips on a wafer, the probe card having the following configuration. (A) This probe card includes a plurality of first probe units having a first support extending in the X direction and a plurality of second probe units having a second support extending in the Y direction perpendicular to the X direction.
A probe unit, a base that supports the first probe unit and the second probe unit, and a wiring board that connects the first probe unit and the second probe unit to external terminals on the base are provided. (B) The first probe unit and the second probe unit are arranged in a grid pattern. (C) A large number of probe needles capable of simultaneously contacting a plurality of electrodes of the plurality of integrated circuit chips arranged in the X direction on the first support of the first probe unit, and a surface of the wafer. And a wiring board extending vertically. (D) On the second support of the second probe unit, a large number of probe needles capable of simultaneously contacting a plurality of electrodes of the plurality of integrated circuit chips arranged in the Y direction, and the surface of the wafer. And a wiring board extending vertically.
【請求項2】 第1プローブユニットと第2プローブユ
ニットのどちらも、ひとつのプローブユニットに属する
すべてのプローブ針の先端が1本の直線上に配列されて
いることを特徴とする請求項1記載のプローブカード。
2. The first probe unit and the second probe unit are both characterized in that the tips of all probe needles belonging to one probe unit are arranged on one straight line. Probe card.
【請求項3】 第1プローブユニットと第2プローブユ
ニットのどちらか一方のプローブユニットにおいては、
ひとつのプローブユニットに属するすべてのプローブ針
の先端が1本の直線上に配列され、他方のプローブユニ
ットにおいては、ひとつのプローブユニットに属するす
べてのプローブ針の先端が平行な2本の直線上に配列さ
れていることを特徴とする請求項1記載のプローブカー
ド。
3. In either one of the first probe unit and the second probe unit,
The tips of all the probe needles belonging to one probe unit are arranged on one straight line, and in the other probe unit, the tips of all probe needles belonging to one probe unit are arranged on two parallel straight lines. The probe card according to claim 1, wherein the probe cards are arranged.
【請求項4】 前記基台を円形に形成して、この基台の
中央の開口部に、複数の前記第1支持体を互いに平行に
差し渡すとともに複数の前記第2支持体を互いに平行に
差し渡すことを特徴とする請求項1記載のプローブカー
ド。
4. The base is formed in a circular shape, and the plurality of first supports are arranged in parallel with each other in the central opening of the base and the plurality of second supports are arranged in parallel with each other. The probe card according to claim 1, wherein the probe card is handed over.
【請求項5】 前記第1支持体と第2支持体のうちの一
方の支持体には、ウェーハ表面側に開口する凹所が形成
され、この凹所の内部を他方の支持体が貫通しているこ
とを特徴とする請求項1記載のプローブカード。
5. A recess opening to the wafer surface side is formed in one of the first support and the second support, and the other support penetrates inside the recess. The probe card according to claim 1, wherein:
【請求項6】 請求項1記載のプローブカードを用い
て、ウェーハ上に形成した多数の同一のメモリチップを
2回の同時検査によってすべて検査することを特徴とす
る検査方法。
6. An inspection method using the probe card according to claim 1, wherein a large number of identical memory chips formed on a wafer are all inspected by two simultaneous inspections.
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JP2001228169A (en) * 2000-02-21 2001-08-24 Micronics Japan Co Ltd Electrical connector
JP2009503543A (en) * 2005-08-03 2009-01-29 クウォリタウ・インコーポレーテッド Vertical probe card and air-cooled probe head system

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