JPH09250986A - Icp発光分光分析装置の点火回路 - Google Patents

Icp発光分光分析装置の点火回路

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JPH09250986A
JPH09250986A JP8087562A JP8756296A JPH09250986A JP H09250986 A JPH09250986 A JP H09250986A JP 8087562 A JP8087562 A JP 8087562A JP 8756296 A JP8756296 A JP 8756296A JP H09250986 A JPH09250986 A JP H09250986A
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JP
Japan
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ignition
coil
induction coil
circuit
plasma
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JP8087562A
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English (en)
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Koichi Nagai
孝一 永井
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Horiba Ltd
Original Assignee
Horiba Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 構成が簡単で安価であり、しかも確実にプラ
ズマ点火を行うことができるICP発光分光分析装置の
点火回路を提供すること。 【解決手段】 プラズマトーチ1に設けられる誘導コイ
ル2の近傍に共振回路5を設け、この共振回路5に発生
する電界によってプラズマ点火を行うようにした。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、誘導結合高周波
プラズマ(inductively coupled
plasma,ICP)放電を利用する発光分光分析装
置(以下、ICP発光分光分析装置という)の点火回路
に関する。
【0002】
【従来の技術】ICP発光分光分析装置の一つに、アル
ゴンICP発光分光分析装置がある。図6は、このアル
ゴンICP発光分光分析装置の要部の構成を概略的に示
すもので、この図において、51は試料容器52内の試
料溶液(分析用試料)53を噴霧用のネブライザガス
〔通常、アルゴンガス(Ar)が用いられる〕によって
吸い上げて噴霧するネブライザ(霧化器)54を備えた
スプレーチャンバ(噴霧室)で、例えば水平に設けられ
ている。55はスプレーチャンバ51の上方に例えば垂
直に設けられるプラズマトーチで、石英製三重管よりな
り、その上端部近傍には、プラズマ炎56を持続させる
ための誘導コイル57が巻設されている。なお、58ド
レン部である。
【0003】そして、このように構成されたアルゴンI
CP発光分光分析装置においては、三重管構造のプラズ
マトーチ5の中央部、中間部、外側部に、3種類のアル
ゴンガス、すなわち、キャリアアルゴン、補助アルゴ
ン、冷却アルゴンを流しながら、誘導コイル57を通し
て高周波電力をかけて高周波誘導によってアルゴンガス
を放電させて、プラズマを点火するようにしているが、
点火開始時には通常の高周波電力のみでの自己放電が困
難であるので、従来は、図7または図8に示すようにし
てプラズマ点火を行っていた。
【0004】すなわち、図7に示す点火方式において
は、AC100V電源61にテスラコイル62を接続
し、このテスラコイル62の一次側に火花ギャップ63
を設ける一方、テスラコイル62の二次側の一端をプラ
ズマトーチ55にクリップなどを介して接続するととも
に、他端を接地し、テスラコイル62などにより強い電
界を発生し、これによってプラズマを点火させるのであ
る。なお、64は誘導コイル57に高周波電力を供給す
る高周波電源、65は高周波電源64と誘導コイル57
とにおけるインピーダンスの整合をとるためのマッチン
グボックスである。
【0005】また、図8に示した点火方式においては、
高周波電源64によって、通常使用する電力よりはるか
に大きな電力を誘導コイル57に供給して、誘導コイル
57において発生する電界を強めることによりプラズマ
を点火させるのである。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記図
7に示した点火方式では、テスラコイル62やこれに付
随する機器が必要となり、構成が大掛かりになるととも
に、高価になるといった問題がある。また、上記図8に
示した方式では、高周波電源64として大電力のものを
用意する必要があり、この場合も構成が大掛かりになる
とともに、高価になるといった問題がある。
【0007】この発明は、上述の事柄に留意してなされ
たもので、その目的は、構成が簡単で安価であり、しか
も確実にプラズマ点火を行うことができるICP発光分
光分析装置の点火回路(以下、単に点火回路という)を
提供することである。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、この発明の点火回路は、プラズマトーチに設けられ
る誘導コイルの近傍に共振回路を設け、この共振回路に
発生する電界によってプラズマ点火を行うようにしてい
る。
【0009】前記共振回路を、プラズマトーチに点火用
コイルを巻設するとともに、この点火用コイルに点火用
可変コンデンサを並列接続したものによって構成するこ
とができる。
【0010】また、前記誘導コイルに供給される高周波
電源の発振波長をλとするとき、λ/4またはその奇数
倍の長さを有する線を共振回路としてプラズマトーチに
設けてもよい。
【0011】そして、上記いずれの点火回路において
も、プラズマトーチに点火電極を設けてあってもよい。
【0012】
【発明の実施の形態】以下、この発明の好ましい実施例
を、図を参照しながら説明する。図1は、この発明の第
1実施例を示すもので、この図において、1はプラズマ
トーチで、その下方はスプレーチャンバ(図示してな
い)に接続され、これによってガスが供給される。2は
このプラズマトーチ1の上端近傍に巻設される誘導コイ
ルで、マッチングボックス3を介して高周波電源4に接
続されている。この高周波電源4は、水晶発振器を内蔵
した他励式である。ここまでの構成は、例えば、図6に
示したような従来のアルゴンICP発光分光分析装置の
プラズマトーチ部分の構成と変わるところはない。
【0013】5は誘導コイル2の近傍に設けられる共振
回路で、プラズマトーチ1の誘導コイル2よりも下方位
置に巻設される点火用コイル6と、この点火用コイル6
に対して並列的接続される点火用可変コンデンサ7とか
ら構成される。この点火用可変コンデンサ7としては、
耐電圧10kV以上である真空コンデンサを用いるのが
好ましい。8は点火用可変コンデンサ7の一方の電極を
移動させるためのモータである。
【0014】上記構成の点火回路においては、高周波電
力が高周波電源4からマッチングボックス3を経由して
誘導コイル2に供給される。このとき、点火用可変コン
デンサ7の容量を、例えば最大値から最小値に向かって
変化させる。このようにすることにより、コンデンサ電
流を小さくすることができ、それによる影響を可及的に
少なくできる。そして、前記容量変化の過程において、
点火用コイル6のインダクタンスLと点火用可変コンデ
ンサ7の容量Cとによる共振周波数が高周波電源4から
供給される高周波電力の周波数に同調し、これによっ
て、点火用コイル6の両端の電圧が上昇し、その強い電
界によってプラズマが点火されるのである。
【0015】前記プラズマ点火後は、点火用可変コンデ
ンサ7の容量を例えば減少させることにより前記同調を
外すことができ、これによって、点火用コイル6の両端
の電圧が低下する。したがって、点火用コイル6および
点火用可変コンデンサ7による誘導コイル2への影響は
実用上無視できる。
【0016】上記第1実施例によれば、高価で大掛かり
なテスラコイルを用意したり、高周波電源4として大電
力のものを用意したりする必要がないので、構成が簡単
で安価な点火回路を得ることができる。
【0017】上記第1実施例では、点火用コイル6とと
もに共振回路5を構成する可変コンデンサ7として真空
コンデンサを用いていたが、この真空コンデンサに代え
て、簡易で安価な可変コンデンサを用いるようにしても
よい。図2は、このように構成した第4実施例を示して
いる。すなわち、図2において、9は簡易な点火用可変
コンデンサで、その二つのコンデンサ電極9a,9bは
例えば5cm角程度金属板よりなる。そして、一方の電
極9bをソレノイドによって、他方の電極9aに対して
接近または離間させるようにして、容量を変化させるの
である。なお、この容量の変化は、一方の電極9bを落
下させるなどすることによっても行なえる。
【0018】この第2実施例によれば、真空コンデンサ
を用いる場合に比べてかなり安価に点火回路を構成でき
る。そして、この実施例において、10は誘導コイル2
と点火用コイル6との間においてプラズマトーチ1に設
けられる点火電極で、共振回路5と接続されている。こ
のような点火電極10を設けた場合、共振回路5によっ
て発生する強電界を有効に利用することができる。この
点火電極10は、リング状であってもなくてもよく、ま
た、リング状の場合、必ずしも閉ループ状でなくてもよ
い。
【0019】なお、前記点火電極10を第1実施例の点
火回路に設けてもよいことは言うまでもない。
【0020】図3は、この発明の第3実施例を示すもの
で、この実施例においては、誘導コイル2を共振回路5
に組入れている。すなわち、図3において、11は一端
が誘導コイル2の一端に接続され、他端が点火用可変コ
ンデンサ7の一方の電極に接続されるようにしてプラズ
マトーチ1に巻設されたコイルで、このコイル11と誘
導コイル2とによって点火用コイル12が形成されてい
る。そして、点火用可変コンデンサ7の他方の電極は、
誘導コイル2の他端に接続されている。この実施例の動
作は、第1実施例のそれと同様であるのでその詳細な説
明は省略する。なお、コイル11の巻き方向は、誘導コ
イル2のそれと同じであっても逆であってもよい。ま
た、この実施例においても、点火電極10を設けてもよ
いことはいうまでもない。
【0021】上述の第1〜第3の実施例はいずれも、共
振回路をコイルと可変コンデンサとによって構成したも
のであったが、共振回路を電線のみで構成してもよい。
図4は、このように構成した第4実施例を示している。
すなわち、図4において、13はプラズマトーチ1に誘
導コイル2よりも下方位置において巻設されるλ/4共
振線で、その一端は誘導コイル2の一端側に接続され、
他端には誘導コイル2に設けられた点火電極10に接続
されている。このλ/4共振線13は、高周波電源4の
発振波長をλとするとき、その電線長をλ/4(または
その奇数倍)としたものである。
【0022】この実施例においても、所望の共振が生
じ、所望のプラズマ点火を行うことができる。そして、
プラズマ点火後は、λ/4共振線13を除去するか、あ
るいは、λ/4共振線13の途中を短絡するなどしてそ
の線長を短くしてやれば、共振状態を解除できる。
【0023】なお、この実施例において、λ/4共振線
13はプラズマトーチ1に必ずしも巻設する必要はな
く、図5に示すように、所定長さの線を左右にジグザク
状態に複数回往復させてなるものを、プラズマトーチ1
の外面に貼り付けるようにしてもよい。
【0024】上述の実施例はいずれも、高周波電源4が
他励式のものであったが、高周波電源4が自励式のもの
であってもよい。その場合、マッチングボックス3を省
略することができる。
【0025】
【発明の効果】この発明は、以上のような形態で実施さ
れ、以下のような効果を奏する。
【0026】テスラコイルなど高価で大掛かりなものを
必要とせず、また、高周波電源として必要以上に大電力
を出力するものを用いる必要がないので、構成が簡単で
安価な点火回路を得ることができる。また、この点火回
路によれば、プラズマ点火を確実に行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の第1実施例を示す構成図である。
【図2】この発明の第2実施例を示す構成図である。
【図3】この発明の第3実施例を示す構成図である。
【図4】この発明の第4実施例を示す構成図である。
【図5】第4実施例において用いる共振回路の他の例を
示す図である。
【図6】一般的なICP発光分光分析装置の要部を示す
図である。
【図7】従来の点火回路を示す図である。
【図8】従来の点火回路を示す図である。
【符号の説明】
1…プラズマトーチ、2…誘導コイル、5…共振回路、
6,12…点火用コイル、7,9…点火用可変コンデン
サ、10…点火電極、13…λ/4共振線。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 プラズマトーチに設けられる誘導コイル
    の近傍に共振回路を設け、この共振回路に発生する電界
    によってプラズマ点火を行うようにしたことを特徴とす
    るICP発光分光分析装置の点火回路。
  2. 【請求項2】 共振回路がプラズマトーチに巻設される
    点火用コイルとこれに並列に接続される点火用可変コン
    デンサとからなる請求項1に記載のICP発光分光分析
    装置の点火回路。
  3. 【請求項3】 誘導コイルに供給される高周波電源の発
    振波長をλとするとき、λ/4またはその奇数倍の長さ
    を有するλ/4共振線を共振回路としてプラズマトーチ
    に設けてなる請求項1に記載のICP発光分光分析装置
    の点火回路。
  4. 【請求項4】 プラズマトーチに点火電極を設けてなる
    請求項1〜3のいずれかに記載のICP発光分光分析装
    置の点火回路。
JP8087562A 1996-03-16 1996-03-16 Icp発光分光分析装置の点火回路 Pending JPH09250986A (ja)

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Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007305580A (ja) * 2006-04-21 2007-11-22 New Power Plasma Co Ltd プラズマ処理システム及びその制御方法
JP2008537282A (ja) * 2005-03-11 2008-09-11 パーキンエルマー・インコーポレイテッド プラズマとその使用方法
WO2010082561A1 (ja) * 2009-01-13 2010-07-22 リバーベル株式会社 プラズマ生成装置及び方法
JP2013511812A (ja) * 2009-11-18 2013-04-04 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド プラズマ源デザイン
CN103269557A (zh) * 2013-04-28 2013-08-28 大连民族学院 一种射频离子源
CN103533735A (zh) * 2013-10-21 2014-01-22 芜湖鼎恒材料技术有限公司 一种自动点火式等离子喷枪
KR101479273B1 (ko) * 2013-07-30 2015-01-06 이플러스주식회사 분광 분석을 위한 저전력 플라즈마 발생 장치
WO2016051465A1 (ja) * 2014-09-29 2016-04-07 株式会社日立国際電気 大気圧誘導結合プラズマ装置

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008537282A (ja) * 2005-03-11 2008-09-11 パーキンエルマー・インコーポレイテッド プラズマとその使用方法
US8633416B2 (en) 2005-03-11 2014-01-21 Perkinelmer Health Sciences, Inc. Plasmas and methods of using them
JP2007305580A (ja) * 2006-04-21 2007-11-22 New Power Plasma Co Ltd プラズマ処理システム及びその制御方法
JPWO2010082561A1 (ja) * 2009-01-13 2012-07-05 リバーベル株式会社 プラズマ生成装置及び方法
WO2010082561A1 (ja) * 2009-01-13 2010-07-22 リバーベル株式会社 プラズマ生成装置及び方法
JP5891341B2 (ja) * 2009-01-13 2016-03-23 ヘルスセンシング株式会社 プラズマ生成装置及び方法
JP2013511812A (ja) * 2009-11-18 2013-04-04 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド プラズマ源デザイン
KR20170097786A (ko) * 2009-11-18 2017-08-28 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 플라즈마 소스 디자인
CN103269557A (zh) * 2013-04-28 2013-08-28 大连民族学院 一种射频离子源
KR101479273B1 (ko) * 2013-07-30 2015-01-06 이플러스주식회사 분광 분석을 위한 저전력 플라즈마 발생 장치
CN103533735A (zh) * 2013-10-21 2014-01-22 芜湖鼎恒材料技术有限公司 一种自动点火式等离子喷枪
CN103533735B (zh) * 2013-10-21 2016-01-27 芜湖鼎瀚再制造技术有限公司 一种自动点火式等离子喷枪
WO2016051465A1 (ja) * 2014-09-29 2016-04-07 株式会社日立国際電気 大気圧誘導結合プラズマ装置
JPWO2016051465A1 (ja) * 2014-09-29 2017-08-03 株式会社日立国際電気 大気圧誘導結合プラズマ装置

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