JPH09245654A - Ac type plasma display - Google Patents
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- JPH09245654A JPH09245654A JP8051982A JP5198296A JPH09245654A JP H09245654 A JPH09245654 A JP H09245654A JP 8051982 A JP8051982 A JP 8051982A JP 5198296 A JP5198296 A JP 5198296A JP H09245654 A JPH09245654 A JP H09245654A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、ａｃ形プラズマデ
ィスプレイに係り、特に、誘電体層及び／又は蛍光体の
表面に保護層が形成されたａｃ形プラズマディスプレイ
に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an ac type plasma display, and more particularly to an ac type plasma display having a protective layer formed on the surface of a dielectric layer and / or a phosphor.
【０００２】[0002]
【従来の技術】放電に伴う発光現象を利用して画像表示
を行うディスプレイ、いわゆるプラズマディスプレイ
は、電極の構造から、放電空間に金属電極が露出してい
るｄｃ形と、金属電極が誘電体層で覆われているａｃ形
とに大別される。これらのうち、薄型かつ大画面のカラ
ーテレビには、メモリ機能を有し、大型化に対応可能な
ａｃ形プラズマディスプレイが好適である。このａｃ形
プラズマディスプレイは、電極の配置構造の相違から、
面放電方式と対向電極方式とに分けられるが、いずれの
方式においても、誘電体層の表面には保護層（主として
ＭｇＯ層）が形成されている。2. Description of the Related Art A display for displaying an image by utilizing a light emission phenomenon caused by discharge, a so-called plasma display, has a dc type in which a metal electrode is exposed in a discharge space and a metal layer is a dielectric layer because of a structure of electrodes. It is roughly divided into ac type covered with. Among these, an ac plasma display having a memory function and capable of coping with an increase in size is suitable for a thin and large-screen color television. In this ac type plasma display, due to the difference in the arrangement structure of the electrodes,
There are a surface discharge method and a counter electrode method. In either method, a protective layer (mainly MgO layer) is formed on the surface of the dielectric layer.
【０００３】この保護層の形成方法としては、ＥＢ蒸着
法、スパッタ法、ＣＶＤ法等の薄膜法があり、また、こ
れらの他に考えられる方法として、スクリーン印刷法等
がある。As a method of forming this protective layer, there are thin film methods such as an EB vapor deposition method, a sputtering method and a CVD method, and as other possible methods, there are a screen printing method and the like.
【０００４】[0004]
【発明が解決しようとする課題】放電によるスパッタリ
ングは、誘電体層に限らず、蛍光体にも同様に生じ、そ
れによって蛍光体が損傷し、寿命が低下するという問題
がある。即ち、例えば対角１７インチ程度のカラープラ
ズマディスプレイを実現する場合、単位となる１放電セ
ルが小さいので、蛍光体を塗布する面積を大きくしない
と、輝度の低下を招いてしまう。しかし、蛍光体を塗布
する面積の割合を増やすと、放電によるスパッタリング
により蛍光体が損傷を受けて、寿命を著しく低下させて
しまう。The sputtering due to discharge occurs not only in the dielectric layer but also in the phosphor, which causes damage to the phosphor and shortens its life. That is, for example, in the case of realizing a color plasma display having a diagonal of about 17 inches, one discharge cell as a unit is small, so unless the area where the phosphor is applied is increased, the brightness is lowered. However, if the ratio of the area coated with the phosphor is increased, the phosphor is damaged by the sputtering due to the discharge, and the life is remarkably reduced.
【０００５】このようなことから、蛍光体の表面にも同
様にＭｇＯ層を形成し、蛍光体の損傷を軽減してディス
プレイとしての寿命を延長する試みがなされている。し
かし、ＭｇＯは、放電で発生する１４７ｎｍ前後の真空
紫外線を吸収する性質があるため、ＭｇＯの膜厚を厚く
すると輝度の低下をまねき、薄くすると寿命を著しく短
くするといった問題を生じ、輝度と寿命を両立させるこ
とは出来なかった。更に、ＭｇＯ薄膜の形成も決して簡
単に出来るものではなかった。Under these circumstances, attempts have been made to form a MgO layer on the surface of the phosphor in the same manner to reduce damage to the phosphor and extend the life of the display. However, since MgO has a property of absorbing vacuum ultraviolet rays of about 147 nm generated by electric discharge, increasing the film thickness of MgO causes a decrease in brightness, and decreasing the thickness of MgO causes a problem of significantly shortening the life. It was not possible to achieve both. Furthermore, the formation of the MgO thin film has never been easy.
【０００６】このような問題点を解決するため、鋭意検
討がなされてきたが、未だ問題の解決には至っていな
い。本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであっ
て、放電開始電圧や駆動電圧（消費電力）を少なくとも
現状の程度に保ちながら高輝度、長寿命が図られ、しか
も低コストでの製造を可能とするａｃ形プラズマディス
プレイを提供することを目的とする。[0006] In order to solve such a problem, earnest studies have been made, but the problem has not been solved yet. The present invention has been made in view of the above circumstances, and is capable of achieving high brightness and long life while maintaining the discharge start voltage and the drive voltage (power consumption) at least in the current level, and at a low cost. It is an object of the present invention to provide an ac-type plasma display that enables it.
【０００７】[0007]
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明（請求項１）は、ガス放電空間を挟んで対向
配置された背面基板と、前面基板とを具備し、前記背面
基板及び前面基板の少なくとも一方には、誘電体膜で覆
われた対電極及び蛍光体が形成され、前記対電極を覆う
誘電体膜及び蛍光体の少なくとも一方の上にはＭｇＯ層
と真空紫外線領域の光を透過する物質の薄膜との複合層
からなる保護層が形成されていることを特徴とするａｃ
形プラズマディスプレイを提供する。In order to solve the above problems, the present invention (Claim 1) comprises a rear substrate and a front substrate which are opposed to each other with a gas discharge space interposed therebetween. A counter electrode and a phosphor covered with a dielectric film are formed on at least one of the front substrates, and a MgO layer and a light in a vacuum ultraviolet region are provided on at least one of the dielectric film and the phosphor covering the counter electrode. Ac which is characterized in that a protective layer formed of a composite layer of a thin film of a substance that permeates
Type plasma display is provided.
【０００８】本発明（請求項２）は、上記ａｃ形プラズ
マディスプレイ（請求項１）において、前記真空紫外線
領域の光を透過する物質は、ＭｇＦ2 であることを特徴
とするａｃ形プラズマディスプレイを提供する。The present invention (Claim 2) provides the ac plasma display (Claim 1), wherein the substance transmitting the light in the vacuum ultraviolet region is MgF 2. provide.
【０００９】本発明（請求項３）は、ガス放電空間を挟
んで対向配置された背面基板と、前面基板とを具備し、
前記背面基板及び前面基板の少なくとも一方には、誘電
体膜で覆われた対電極が形成され、前記誘電体膜上には
ＭｇＯ層とＭｇＦ2 層との複合層からなる保護層が形成
されていることを特徴とするａｃ形プラズマディスプレ
イを提供する。The present invention (Claim 3) comprises a rear substrate and a front substrate which are opposed to each other with a gas discharge space interposed therebetween,
A counter electrode covered with a dielectric film is formed on at least one of the back substrate and the front substrate, and a protective layer composed of a composite layer of an MgO layer and a MgF 2 layer is formed on the dielectric film. There is provided an ac type plasma display characterized in that
【００１０】本発明（請求項４）は、上記ａｃ形プラズ
マディスプレイ（請求項１〜３）において、前記ＭｇＯ
層の厚さは、２００〜５００オングストロ−ムであるこ
とを特徴とするａｃ形プラズマディスプレイを提供す
る。The present invention (Claim 4) provides the above-mentioned ac type plasma display (Claims 1 to 3) with the MgO.
An ac-type plasma display is provided which is characterized in that the layer thickness is 200 to 500 angstroms.
【００１１】本発明（請求項５）は、上記ａｃ形プラズ
マディスプレイ（請求項４）において、前記ＭｇＯ層の
厚さは、約４００オングストロ−ムであることを特徴と
するａｃ形プラズマディスプレイを提供する。The present invention (Claim 5) provides the ac-type plasma display (Claim 4), wherein the MgO layer has a thickness of about 400 angstroms. To do.
【００１２】以下、本発明のａｃ形プラズマディスプレ
イについて、より詳細に説明する。本発明のａｃ形プラ
ズマディスプレイの特徴は、誘電体膜で覆われた対電極
及び／又は蛍光体のための保護層として、ＭｇＯ層と真
空紫外線領域の光を透過する物質の薄膜との複合層を用
いることにある。この場合、真空紫外線領域の光とは、
特に波長１４７ｎｍの光であり、かかる光を透過する物
質としては、ＭｇＦ2 を用いることが出来る。Hereinafter, the ac type plasma display of the present invention will be described in more detail. The ac-type plasma display of the present invention is characterized by a composite layer of a MgO layer and a thin film of a substance that transmits light in the vacuum ultraviolet region as a protective layer for a counter electrode and / or a phosphor covered with a dielectric film. Is to use. In this case, the light in the vacuum ultraviolet region is
In particular, light having a wavelength of 147 nm, and MgF 2 can be used as a substance that transmits such light.
【００１３】ＭｇＯ層と真空紫外線領域の光を透過する
物質、例えばＭｇＦ2 層との複合層は、ＭｇＯ及びＭｇ
Ｆ2 の単結晶又は多結晶を、電子ビーム蒸着法、スパッ
タリング蒸着法、ＣＶＤ、真空蒸着法などの薄膜形成法
により成膜することにより形成することが出来る。この
場合、ＭｇＯ層とＭｇＦ2 層は、いずれを先に成膜して
もよい。A composite layer of a MgO layer and a substance that transmits light in the vacuum ultraviolet region, for example, a MgF 2 layer, is composed of MgO and Mg.
It can be formed by forming a single crystal or a polycrystal of F 2 by a thin film forming method such as an electron beam vapor deposition method, a sputtering vapor deposition method, a CVD or a vacuum vapor deposition method. In this case, either the MgO layer or the MgF 2 layer may be formed first.
【００１４】ａｃ形プラズマディスプレイにおける保護
層は、一般に、絶縁層に対する希ガスイオンの衝撃から
の保護と、２次電子放出利得係数を高めるという２つの
役割を有している。従って、ＭｇＯ薄膜の厚さが薄い
と、真空紫外線が透過する割合が高くなり、蛍光体を強
く励起発光させる結果、輝度を高くすることが出来るも
のの、保護層としての作用の面からは、放電によるスパ
ッタリングによる損傷を防止することが困難となる。こ
れらを考慮すると複合層の膜厚は、以下のように設定さ
れる。In general, the protective layer in the ac type plasma display has two roles of protecting the insulating layer from the impact of rare gas ions and increasing the secondary electron emission gain coefficient. Therefore, when the thickness of the MgO thin film is thin, the rate of transmission of vacuum ultraviolet rays becomes high, and as a result of strong excitation and emission of the phosphor, the brightness can be increased, but from the aspect of the function as a protective layer, discharge It is difficult to prevent damage due to sputtering due to sputtering. Considering these, the film thickness of the composite layer is set as follows.
【００１５】まず、複合層全体の膜厚は、ＭｇＯ層及び
ＭｇＦ2 の個々の膜厚により変化するため、特に限定さ
れない。複合層のうち、ＭｇＯ層の膜厚は、上述のよう
に、好ましくは２００〜５００オングストロ−ム、より
好ましくは約４００オングストロ−ムである。ＭｇＯ層
の膜厚が２００オングストロ−ム未満では、放電による
スパッタリングによって誘電体及び／又は蛍光体が損傷
し易くなり、５００オングストロ−ムを越えると、輝度
の低下を招いてしまう。ＭｇＦ2 の厚さは、特に限定さ
れないが、薄過ぎると、放電による誘電体及び／又は蛍
光体が損傷を防止するため、ＭｇＯ層の膜厚を厚くしな
ければならず、その結果、輝度の低下を招いてしまう。
一方、厚過ぎると、放電維持電圧が変動してしまう。First, the thickness of the composite layer as a whole varies depending on the thickness of each of the MgO layer and MgF 2 , and is not particularly limited. The thickness of the MgO layer in the composite layer is preferably 200 to 500 angstroms, more preferably about 400 angstroms, as described above. If the thickness of the MgO layer is less than 200 angstroms, the dielectric and / or phosphor is likely to be damaged by sputtering due to discharge, and if it exceeds 500 angstroms, the brightness is lowered. The thickness of MgF 2 is not particularly limited, but if it is too thin, the thickness of the MgO layer must be increased in order to prevent damage to the dielectric and / or phosphor due to discharge, and as a result, the brightness of Will lead to a decline.
On the other hand, if it is too thick, the discharge sustaining voltage fluctuates.
【００１６】本発明のａｃ形プラズマディスプレイによ
れば、誘電体及び／蛍光体を覆う保護層が、ＭｇＯとＭ
ｇＦ2 などの複合層で構成したことにより、放電開始電
圧や駆動電圧の低下が促進され、消費電力が大幅に低下
し、かつディスプレイ自体の厚さの薄膜化を実現するこ
とができる。According to the ac type plasma display of the present invention, the protective layer covering the dielectric and / or the phosphor is MgO and M.
By using a composite layer such as gF 2 , the discharge start voltage and the drive voltage are promoted to be reduced, the power consumption is significantly reduced, and the thickness of the display itself can be reduced.
【００１７】これに加えて、複合層のＭｇＯ層の膜厚
を、好ましくは２００〜５００オングストロ−ム、より
好ましくは約４００オングストロ−ム程度とすること
で、上述の保護層の薄膜化や消費電力の低下をさらに促
進することが可能である。なお、ＭｇＦ2 層の膜厚は、
ＭｇＯ層と異なり、厚くなっても真空紫外線を吸収しな
いので、ガラス基板に塗布した蛍光体を完全に覆い、表
面がなめらかになる程度まで任意の厚さに形成すること
ができる。その結果、例えばその上に形成するＭｇＯ層
の膜厚が４００オングストローム程度でも、切れ目無く
蛍光体を被覆することが可能となり、放電電圧を低電圧
に保ち、放電によるスパッタリングによる損傷を長期間
に渡り最小限にすることで、プラズマディスプレイの長
寿命化を図ることが可能となる。In addition to this, the thickness of the MgO layer of the composite layer is preferably 200 to 500 angstroms, more preferably about 400 angstroms, so that the protective layer can be thinned and consumed. It is possible to further promote the reduction of power. The thickness of the MgF 2 layer is
Unlike the MgO layer, it does not absorb vacuum ultraviolet rays even if it becomes thick, so that it can be formed to have an arbitrary thickness so that the phosphor coated on the glass substrate is completely covered and the surface becomes smooth. As a result, for example, even if the thickness of the MgO layer formed thereon is about 400 angstroms, it is possible to coat the phosphor without breaks, the discharge voltage can be maintained at a low voltage, and damage due to sputtering due to discharge can be maintained for a long period of time. By minimizing it, it becomes possible to extend the life of the plasma display.
【００１８】また、本発明のａｃ形プラズマディスプレ
イでは、ＭｇＦ2 層とＭｇＯ層の複合層からなる保護層
を、誘電体層の表面に真空蒸着法などを用いて形成する
ものであり、例えば真空蒸着法は、大画面に対し低コス
トで成膜が可能であることから、例えば大画面（たとえ
ば対角４０インチ程度）のカラーテレビのディスプレイ
を低コストで製造する上で極めて好適である。Further, in the ac type plasma display of the present invention, a protective layer composed of a composite layer of MgF 2 layer and MgO layer is formed on the surface of the dielectric layer by a vacuum vapor deposition method or the like. Since the vapor deposition method can form a film on a large screen at low cost, it is extremely suitable for manufacturing a large-screen (for example, a diagonal of about 40 inches) color television display at low cost.
【００１９】[0019]
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の一
実施例について説明する。図１は、カラーテレビのディ
スプレイ（パネル）に適用される、本発明の一実施例に
係る面放電方式のａｃ形プラズマディスプレイの概略構
造を示す断面図である。図１において、参照符号１，２
は、それぞれガス放電空間３を挟んで互いに平行に対向
配置された背面基板及び前面基板である。これら基板
１，２は、所定の厚さのガラスから構成されている。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a cross-sectional view showing a schematic structure of a surface discharge type ac plasma display applied to a display (panel) of a color television according to an embodiment of the present invention. In FIG. 1, reference numerals 1 and 2
Is a back substrate and a front substrate which are arranged in parallel to each other with the gas discharge space 3 interposed therebetween. These substrates 1 and 2 are made of glass having a predetermined thickness.
【００２０】背面基板１の前面基板２に面する対向面に
は、Ｘ電極４ａおよびＹ電極４ｂからなる対電極４およ
びアドレス電極５が形成されている。アドレス電極５
は、前面基板２に形成される場合もある。これら対電極
４およびアドレス電極５は、ガラス製の誘電体層６で被
覆されており、更にこの誘電体層６の上には、ＭｇＦ2
層７1 とＭｇＯ層７2 の複合層からなる保護層７ａが設
けられている。On the opposite surface of the rear substrate 1 facing the front substrate 2, a counter electrode 4 composed of an X electrode 4a and a Y electrode 4b and an address electrode 5 are formed. Address electrode 5
May be formed on the front substrate 2. The counter electrode 4 and the address electrode 5 are covered with a dielectric layer 6 made of glass, and MgF 2 is deposited on the dielectric layer 6.
A protective layer 7a composed of a composite layer of the layer 7 1 and the MgO layer 7 2 is provided.
【００２１】一方の前面基板２の背面基板１に面する対
向面には、蛍光体８が形成されている。この蛍光体８
は、ＭｇＦ2 層７1 とＭｇＯ層７2 の複合層からなる保
護層７ｂで被覆されている。A phosphor 8 is formed on the surface of one of the front substrates 2 facing the rear substrate 1. This phosphor 8
Is covered with a protective layer 7b composed of a composite layer of the MgF 2 layer 7 1 and the MgO layer 7 2 .
【００２２】図２は、カラーテレビのディスプレイ（パ
ネル）に適用される、本発明の他の実施例に係る対向電
極方式のａｃ形プラズマディスプレイの構造を概略的に
示す断面図である。このプラズマディスプレイは、ガス
放電空間３を挟んで対向配置されたガラス製の背面基板
１と前面基板２とにより構成される。各基板１，２の互
いの対向面には、それぞれガラス製の誘電体層６ａ，６
ｂで覆われたＸ電極４ａおよびＹ電極４ｂが形成されて
いるとともに、各誘電体層６ａ，６ｂの表面には蛍光体
８ａ，８ｂが形成されている。FIG. 2 is a sectional view schematically showing the structure of a counter electrode type ac plasma display applied to a display (panel) of a color television according to another embodiment of the present invention. This plasma display is composed of a glass rear substrate 1 and a front substrate 2 which are opposed to each other with a gas discharge space 3 interposed therebetween. The dielectric layers 6a and 6 made of glass are respectively provided on the surfaces of the substrates 1 and 2 which face each other.
An X electrode 4a and a Y electrode 4b covered with b are formed, and phosphors 8a and 8b are formed on the surfaces of the dielectric layers 6a and 6b.
【００２３】これら蛍光体８ａ、８ｂ上には、ＭｇＦ2
層７1 とＭｇＯ層７2 の複合層からなる保護層７ａ，７
ｂが被覆されている。なお、この場合、上下いずれにも
蛍光体８ａ，８ｂが形成されているが、場合によっては
図１に示す構造のように、蛍光体は上下いずれか一方に
のみ形成してもよい。MgF 2 is deposited on the phosphors 8a and 8b.
Protective layers 7a, 7 composed of a composite layer of the layer 7 1 and the MgO layer 7 2.
b is covered. In this case, the phosphors 8a and 8b are formed on both upper and lower sides, but in some cases, the phosphors may be formed on only one of the upper and lower sides as in the structure shown in FIG.
【００２４】以上説明した各ａｃ形プラズマディスプレ
イにおける保護層７ａ，７ｂは、以下のようにして形成
することが出来る。ＭｇＦ2 層とＭｇＯ層７2 の複合層
は、電子ビーム蒸着法、スパッタリング蒸着法、ＣＶＤ
などの薄膜形成法により形成される。即ち、まず誘電体
層６又は蛍光体の表面にこれら薄膜形成法によりＭｇＦ
2 層７1 を所定の厚さに形成した後、ＭｇＯ層７2 を４
００オングストローム程度の厚さに形成する。次いで、
水分を最終的に水蒸気として気化させ、更に処理として
所定の加熱温度でベーキングを施すことにより、複合層
を得ることが出来る。The protective layers 7a and 7b in each ac type plasma display described above can be formed as follows. MgF 2 layer and MgO layer 7 2 of the composite layer, electron beam evaporation, sputtering deposition method, CVD
It is formed by a thin film forming method such as. That is, first of all, MgF is formed on the surface of the dielectric layer 6 or the phosphor by the thin film forming method.
After forming the 2 layer 7 1 to a predetermined thickness, the MgO layer 7 2 is formed into 4 layers.
It is formed to a thickness of about 00 angstrom. Then
The composite layer can be obtained by finally vaporizing the water vapor as water vapor and baking as a treatment at a predetermined heating temperature.
【００２５】上記実施例のごとく形成したＭｇＯとＭｇ
Ｆ2 などの複合層の保護層７ａ，７ｂは、真空蒸着法な
どにより大面積に均一に薄膜で形成することが可能であ
る。このように保護層７の層厚を薄くできることは、駆
動電圧の低下を促進するので、コスト低下を実現するこ
とが出来る。MgO and Mg formed as in the above embodiment
The protective layers 7a and 7b of the composite layer such as F 2 can be formed as a thin film uniformly over a large area by a vacuum deposition method or the like. The reduction in the thickness of the protective layer 7 thus promotes the reduction of the driving voltage, so that the cost reduction can be realized.
【００２６】実験例 図３は、上記実施例に示した方法によって形成したＭｇ
Ｏ層とＭｇＦ2 層からなる複合層を用いた面放電型ａｃ
形プラズマディスプレイの輝度を、ＭｇＯ層単独からな
る保護層で作製した面放電型ａｃ形プラズマディスプレ
イの輝度と比較して示す特性図である。また、図４は、
同様に、発光効率を比較して示す特性図である。なお、
プラズマディスプレイの操作条件は、放電雰囲気がＨｅ
とＸｅ（１％）の混合ガスであり、圧力５００Ｔｏｒ
ｒ、周波数３０ｋＨｚである。Experimental Example FIG. 3 shows Mg formed by the method shown in the above-mentioned example.
Surface discharge type ac using a composite layer consisting of O layer and MgF 2 layer
FIG. 6 is a characteristic diagram showing the brightness of the flat-type plasma display in comparison with the brightness of a surface-discharge-type ac-type plasma display manufactured with a protective layer composed of a single MgO layer. Also, FIG.
Similarly, it is a characteristic diagram showing a comparison of luminous efficiency. In addition,
The operating conditions of the plasma display are that the discharge atmosphere is He.
And mixed gas of Xe (1%), pressure 500 Tor
r and frequency is 30 kHz.
【００２７】図３及び図４から、保護層としてＭｇＯ層
とＭｇＦ2 層からなる複合層を用いた場合のほうが、Ｍ
ｇＯ層単独からなる保護層を用いた場合よりも、優れた
輝度及び発光効率を示すことがわかる。From FIGS. 3 and 4, when the composite layer composed of the MgO layer and the MgF 2 layer is used as the protective layer, M
It can be seen that the luminance and the luminous efficiency are more excellent than in the case of using the protective layer composed of only the gO layer.
【００２８】次に、図５は、保護層として複合層（Ｍｇ
Ｏ層の厚さ：２００オングストローム及び４００オング
ストローム）を用いた実施例に係る面放電型ａｃ形プラ
ズマディスプレイと、ＭｇＯ層（厚さ：５０００オング
ストローム）のみからなる保護層を用いた比較例に係る
面放電型ａｃ形プラズマディスプレイの、経時変化にと
もなう放電開始電圧Ｖf と維持電圧Ｖsmの変化を比較し
て示す特性図である。図５から、保護層としてＭｇＯ層
のみを用いた比較例と保護層として複合層を用いた実施
例とは、ほとんど同様の特性を示しており、差がないこ
とが分かる。Next, FIG. 5 shows a composite layer (Mg
Surfaces of ac discharge type ac plasma displays according to examples using O layer thickness: 200 angstroms and 400 angstroms) and a surface according to a comparative example using a protective layer consisting of only MgO layer (thickness: 5000 angstroms). FIG. 6 is a characteristic diagram showing a comparison of changes in a discharge start voltage V f and a sustain voltage V sm with a lapse of time in a discharge-type ac plasma display. It can be seen from FIG. 5 that the comparative example using only the MgO layer as the protective layer and the example using the composite layer as the protective layer show almost the same characteristics and there is no difference.
【００２９】図６は、複合層を構成するＭｇＦ2 層の膜
厚を５０００オングストロームとし、ＭｇＯ層の膜厚を
変化させた場合の維持電圧と輝度の関係を示す特性図で
ある。図６から、ＭｇＯ層の膜厚は少ないほうが、輝度
を向上させることが出来ることがわかる。FIG. 6 is a characteristic diagram showing the relationship between the sustain voltage and the luminance when the thickness of the MgF 2 layer constituting the composite layer is 5000 Å and the thickness of the MgO layer is changed. From FIG. 6, it is understood that the smaller the thickness of the MgO layer, the higher the brightness can be improved.
【００３０】なお、以上の実施例では、ＭｇＦ2 層とＭ
ｇＯ層は積層状の複合層としたが、ＭｇＦ2 およびＭｇ
Ｏを前記薄膜形成法にて混合した複合層としても、本発
明の効果と同様の効果が得られる。In the above embodiments, the MgF 2 layer and M
Although the gO layer was a laminated composite layer, MgF 2 and Mg
The same effect as the effect of the present invention can be obtained even when a composite layer in which O is mixed by the thin film forming method is used.
【００３１】[0031]
【発明の効果】以上説明したように、本発明のａｃ形プ
ラズマディスプレイによれば、誘電体層及び／又は蛍光
体を覆う保護層を、ＭｇＯ層とＭｇＦ2 層等などの複合
層で構成しているので、輝度及び発光効率を向上させる
とともに、併せて、誘電体層及び／又は蛍光体の損傷を
防止することが出来、その結果、高輝度・高発光効率を
有するとともに長寿命のプラズマディスプレイを得るこ
とが可能である。As described above, according to the ac type plasma display of the present invention, the protective layer covering the dielectric layer and / or the phosphor is formed of a composite layer such as MgO layer and MgF 2 layer. Therefore, it is possible to improve the brightness and the luminous efficiency, and at the same time, prevent the dielectric layer and / or the phosphor from being damaged. As a result, the plasma display has high luminance and high luminous efficiency and has a long life. It is possible to obtain
【図１】本発明の一実施例に係る面放電形方式のａｃ形
プラズマディスプレイの概略を示す断面図。FIG. 1 is a sectional view showing an outline of a surface discharge type ac type plasma display according to an embodiment of the present invention.
【図２】本発明の他の実施例に係る対向電極方式のａｃ
形プラズマディスプレイの概略を示す断面図。FIG. 2 is a counter electrode type ac according to another embodiment of the present invention.
Sectional drawing which shows the outline of a plasma display.
【図３】面放電型ａｃ形プラズマディスプレイの輝度を
実施例と比較例とで比較して示す特性図。FIG. 3 is a characteristic diagram showing the brightness of a surface discharge ac type plasma display in comparison between an example and a comparative example.
【図４】面放電型ａｃ形プラズマディスプレイの発光効
率を実施例と比較例とで比較して示す特性図。FIG. 4 is a characteristic diagram showing the luminous efficiency of a surface discharge ac type plasma display in comparison between an example and a comparative example.
【図５】経時変化にともなう放電開始電圧Ｖf 及び維持
電圧Ｖsmの変化を実施例と比較例とで比較して示す特性
図。FIG. 5 is a characteristic diagram showing changes in the discharge start voltage V f and the sustain voltage V sm with the lapse of time in comparison between the example and the comparative example.
【図６】ＭｇＯ層の膜厚を変化させた場合の維持電圧と
輝度の関係を示す特性図。FIG. 6 is a characteristic diagram showing the relationship between the sustain voltage and the brightness when the thickness of the MgO layer is changed.
１…背面基板 ２…前面基板 ３…放電空間 ４…対電極 ５…アドレス電極 ６，６ａ，６ｂ…誘電体層 ７，７ａ，７ｂ…保護層 ７1 …ＭｇＦ2 層 ７2 …ＭｇＯ層 ８，８ａ，８ｂ…蛍光体。DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Rear substrate 2 ... Front substrate 3 ... Discharge space 4 ... Counter electrode 5 ... Address electrode 6, 6a, 6b ... Dielectric layer 7, 7a, 7b ... Protective layer 7 1 ... MgF 2 layer 7 2 ... MgO layer 8, 8a, 8b ... Phosphor.
Claims (5)
面基板と、前面基板とを具備し、前記背面基板及び前面
基板の少なくとも一方には、誘電体膜で覆われた対電極
及び蛍光体が形成され、前記対電極を覆う誘電体膜及び
蛍光体の少なくとも一方の上にはＭｇＯ層と真空紫外線
領域の光を透過する物質の薄膜との複合層からなる保護
層が形成されていることを特徴とするａｃ形プラズマデ
ィスプレイ。1. A counter substrate and a front substrate, which are opposed to each other with a gas discharge space interposed therebetween, and at least one of the back substrate and the front substrate is covered with a dielectric film, and a counter electrode and a phosphor are provided. And a protective layer formed of a composite layer of a MgO layer and a thin film of a substance that transmits light in the vacuum ultraviolet region is formed on at least one of the dielectric film and the phosphor that covers the counter electrode. Ac type plasma display characterized by:
は、ＭｇＦ2 であることを特徴とする請求項１に記載の
ａｃ形プラズマディスプレイ。2. The ac-type plasma display according to claim 1, wherein the substance that transmits light in the vacuum ultraviolet region is MgF 2 .
面基板と、前面基板とを具備し、前記背面基板及び前面
基板の少なくとも一方には、誘電体膜で覆われた対電極
が形成され、前記誘電体膜上にはＭｇＯ層とＭｇＦ2 層
との複合層からなる保護層が形成されていることを特徴
とするａｃ形プラズマディスプレイ。3. A back substrate and a front substrate which face each other across a gas discharge space, and a counter electrode covered with a dielectric film is formed on at least one of the back substrate and the front substrate. An ac type plasma display characterized in that a protective layer composed of a composite layer of a MgO layer and a MgF 2 layer is formed on the dielectric film.
オングストロ−ムであることを特徴とする請求項１〜３
のうちの１項に記載のａｃ形プラズマディスプレイ。4. The thickness of the MgO layer is 200 to 500.
4. An angstrom, which is characterized in that
The ac-type plasma display according to item 1.
ストロ−ムであることを特徴とする請求項４に記載のａ
ｃ形プラズマディスプレイ。5. The a of claim 4, wherein the MgO layer has a thickness of about 400 angstroms.
c-type plasma display.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8051982A JPH09245654A (en) | 1996-03-08 | 1996-03-08 | Ac type plasma display |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8051982A JPH09245654A (en) | 1996-03-08 | 1996-03-08 | Ac type plasma display |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09245654A true JPH09245654A (en) | 1997-09-19 |
Family
ID=12902074
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8051982A Pending JPH09245654A (en) | 1996-03-08 | 1996-03-08 | Ac type plasma display |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09245654A (en) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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-
1996
- 1996-03-08 JP JP8051982A patent/JPH09245654A/en active Pending
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