JPH09236392A - 熱処理装置 - Google Patents
熱処理装置Info
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- JPH09236392A JPH09236392A JP8041170A JP4117096A JPH09236392A JP H09236392 A JPH09236392 A JP H09236392A JP 8041170 A JP8041170 A JP 8041170A JP 4117096 A JP4117096 A JP 4117096A JP H09236392 A JPH09236392 A JP H09236392A
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- G05D—SYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
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- G05D23/19—Control of temperature characterised by the use of electric means
- G05D23/1902—Control of temperature characterised by the use of electric means characterised by the use of a variable reference value
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- G05D23/19—Control of temperature characterised by the use of electric means
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Abstract
向上、さらにはコストダウンを図ること。 【解決手段】CPU10がヒータ6による加熱状態とマ
スフローコントローラ9による雰囲気ガス供給状態とを
互いに関連付けて制御する。このような制御をCPU1
0は、熱電対7が測定した熱処理室5内の温度およびC
PU10が有する時間計測手段が計測した熱処理時間を
基にして行う。
Description
雰囲気ガスを供給しながら熱処理を行う熱処理装置に関
する。
図4に示すものがある。この熱処理装置50は、加熱系
51とガス供給系52と、熱処理室内の温度およびガス
供給量を記憶する記録計53とを備えている。加熱系5
1は、熱処理室54を加熱するヒータ55と、熱処理室
54の温度を測定する熱電対56と、熱電対56が測定
した熱処理室54内の温度に応じてヒータ55の加熱具
合をサイリスタ58を介して調節する温度調節計57と
を備えている。ガス供給系52は、図示しない雰囲気ガ
ス供給部から熱処理室54に供給される雰囲気ガスの供
給量をマスフローコントローラ59を介して制御するガ
ス流量調節計60を備えている。
具合と、ガス供給具合を制御している。すなわち、熱電
対56から送られる温度情報に基づいて温度調節計57
が加熱状態を時系列に沿って制御する一方、ガス流量調
整計60から送られる信号に基づいてマスフローコント
ローラ59がガス供給量を時系列に沿って制御してい
る。
になる。すなわち、熱処理室54内が所定の温度に達し
たことを熱電対56からの温度情報によって検知した温
度調節計57やガス流量調節計60はその温度状態に適
するようにあらかじめ設定したプロファイルに沿った加
熱とガス供給とを行う。その際、これらプロファイルに
おけるプロファイル変動点(プロファイルの勾配等が変
動する時間点)の計測は、調節計57,60自身が有し
ている時間計測手段(図示省略)によって計測し、その
時間計測結果により、それぞれのプロファイルに沿った
加熱制御およびガス供給制御を行うようになっている。
従来の熱処理装置50は、次のような課題を有してい
る。すなわち、上述したように加熱系51とガス供給系
52とは、各調節計57,60がそれぞれ備えている時
間計測手段に基づいて加熱具合およびガス供給具合をプ
ロファイルどおりに制御している。しかしながら、加熱
系51とガス供給系52とは、別々の時間計測手段が計
測した時間計測に基づいてプロファイル制御しているた
め、加熱プロファイル上のプロファイル変動点のタイミ
ングと、ガス供給プロファイル上のプロファイル変動点
のタイミングとを合致させることが難しく、特に、プロ
ファイル上のプロファイル変動点の時間間隔が長い場合
には、そのタイミングを一致させることが困難であっ
た。そのため、互いに関連付けて制御すべき加熱系51
とガス供給系52とを精度よく関連付けて制御すること
ができず、その分、精度の高い熱処理が行えなかった。
また、加熱プロファイルとガス供給プロファイルと
は、熱処理物に応じて温度調節計57やガス流量調節計
60にそれぞれインプットされるようになっている。そ
の際、プロファイル変動点を一致させるといったよう
に、互いのプロファイルを関連付けてインプットする必
要がある。しかしながら、これらのプロファイルは別々
の調節計57,60に対してインプットする必要があ
り、そのプロファイルを関連付けてインプットするのが
非常に面倒なものであった。特に、最近では、熱処理室
54内を複数の区域に分けて加熱制御するとともに、複
数の雰囲気ガスを供給する(図4では、3区域に加熱制
御するとともに、3種類の雰囲気ガスを供給する)よう
になってきており、このような加熱・ガス供給制御用の
プロファイルを互いに関連付けてインプットするのは非
常に複雑で面倒なものであって手間がかかるうえ、イン
プットミスも生じやすかった。
るほど、調節計57,60の数が増加して、その分、装
置のコストアップを招いていた。
い制御を行え、プロファイルがインプットしやすく、し
かもコストダウンも図れる熱処理装置を提供することを
目的としている。
るために、本発明においては、次のような構成を有して
いる 請求項1の構成 熱処理室内を加熱する加熱手段と、前記熱処理室内に雰
囲気ガスを供給するガス供給手段と、前記熱処理室内の
温度を測定する温度測定手段と、熱処理時間を計測する
時間計測手段と、前記温度測定手段が測定した熱処理室
内の温度および前記時間計測手段が計測した熱処理時間
を基にして前記加熱手段による加熱状態と前記ガス供給
手段による雰囲気ガス供給状態とを互いに関連付けて制
御する制御手段とを備えていることに特徴を有してい
る。
イルとガス供給プロファイルとを互いに関連付けて表示
するプロファイル表示手段を備えていることに特徴を有
している。
手段は、一軸を時間軸に、他軸を熱処理室内の温度また
はガス供給量にしたグラフ形態にして、前記加熱プロフ
ァイルまたは前記ガス供給プロファイルを表示するもの
であることに特徴を有している。
面を参照して詳細に説明する。
理装置1の構成を示すブロック図である。この熱処理装
置1は、加熱系2とガス供給系3と、マルチコントロー
ラ4とを備えている。
の、この例では3つのヒータ6と、各ヒータ6により加
熱される熱処理室5内の区域W1,W2,W3の温度を
それぞれ個別に測定する複数の、この例では3つの熱電
対7と、マルチコントローラ4からの指令信号によりそ
れぞれ対応する各ヒータ6の加熱具合を調節する複数
の、この例では3つのサイリスタ8とを備えている。
ら個別に入力される指令信号により図示しない雰囲気ガ
ス供給部から熱処理室5に供給される複数の、この例で
は3種類の雰囲気ガスG1,G2,G3の供給量をそれ
ぞれ調節する複数の、この例では3つのマスフローコン
トローラ9を備えている。
0aを有して各種制御動作を行うCPU10と、各熱電
対7からそれぞれ入力される温度信号をA/D変換して
CPU10に供給するA/D変換部11と、CPU10
が出力する指令信号をD/A変換して各サイリスタ8や
各マスフローコントローラ9に供給するD/A変換部1
2と、加熱プロファイルやガス供給プロファイル、さら
には実際の熱処理室5の温度変化等を表示する表示部1
3と、加熱プロファイルおよびガス供給プロファイルの
インプット操作を行う入力部14と、入力部14からイ
ンプットされた加熱プロファイルとガス供給プロファイ
ルとを記憶するとともに実際の熱処理室5の加熱状態と
ガス供給状態のデータとを記憶する記憶部15とを備え
ている。
ルチコントローラ4によって加熱系2とガス供給系3と
を同時に制御しているので、その分、制御系の部品点数
が削減されている。
次のようになる。まず、入力部14により加熱プロファ
イルとガス供給プロファイルとがインプットされると、
CPU10はこれらプロファイルを記憶部15に記憶さ
せておく。そして、この状態で、CPU10は記憶部1
5に記憶させている加熱プロファイルとガス供給プロフ
ァイルとに基づいて熱処理制御動作を開始する。すなわ
ち、CPU10は加熱プロファイルに沿った指令信号を
サイリスタ8に与える。各サイリスタ8は対応する各ヒ
ータ6の通電具合をこの指令信号に応答して制御する。
これによって、熱処理室5の各加熱区域W1,W2,W
3の加熱具合はそれぞれ時系列に沿って制御される。一
方、CPU10は、ガス供給プロファイルに沿った指令
信号を各マスフローコントローラ9に与える。各マスフ
ローコントローラ9は、熱処理室5に供給される雰囲気
ガスG1,G2,G3の供給具合をこの指令信号に応答
して時系列に沿って制御する。
aから与えられる熱処理時間データおよび各熱電対7か
ら与えられる熱処理室4内の温度データに基づいて加熱
プロファイルにおけるプロファイル変動点Nnに達した
ことを検知すると、サイリスタ8に対して次のような指
令信号を出力する。すなわち、CPU10は、次の制御
具合、具体的にはプロファイル変動点Nn以前とは加熱
勾配の異なる加熱具合となる指令信号を各サイリスタ8
に個別に出力する。指令信号を受けた各サイリスタ8
は、その指令信号に対応して各ヒータ6の通電を個別に
制御して、各加熱区域W1,W2,W3の加熱具合を加
熱プロファイルに沿って制御する。
したCPU10はガス供給プロファイル変動点N'nに達
したことを検知すると、各マスフローコントローラ9に
対して次のような指令信号を出力する。すなわち、CP
U10は、次の制御具合、具体的にはプロファイル変動
点Nn'以前とは異なる雰囲気ガスの供給状態となる指令
信号を各マスフローコントローラ9に個別に出力する。
指令信号を受けた各マスフローコントローラ9は、その
指令信号に対応してそれぞれの雰囲気ガスG1,G2,
G3の供給状態を制御する。
ファイル変動点Nnとガス供給プロファイルのプロファ
イル変動点N'nとは互いに関連しているため、加熱プロ
ファイル変動点Nnとガス供給プロファイル変動点N'n
とを関連付けて制御する必要がある。そこで、この熱処
理処理装置1では、CPU10が内装する単一の時間計
測手段10aが計測する時間経過に基づいて加熱プロフ
ァイル変動点Nnとガス供給プロファイル変動点N'nと
のタイミングを一致させている。そのため、これら両プ
ロファイル変動点Nn,N'nを互いに精度高く関連付け
制御することができる。
ファイルおよびガス供給プロファイルの入力操作を図2
に基づいて説明する。図2は、表示部13の平面図であ
る。表示部13は、プロファイル入力表示モード、熱処
理表示モード等、種々の表示モードを有しているが、図
2では、プロファイル入力表示モードの表示状態を示し
ている。また、入力部14は、図示はしないが、タッチ
キーやキーボード等の数値入力手段を備えている。
表示部13は、グラフ表示部13aと、数値表示部13
bとを備えている。グラフ表示部13aは、横軸に時間
を、縦軸に温度をとったグラフ表示となっている。数値
表示部13bは、プロファイルの各ステップ毎に区分さ
れており、各ステップにおける加熱区域W1,W2,W
3それぞれの最終温度を表示する最終温度表示域20a
1、20a2,20a3と、各ステップにおける各加熱区
域W1,W2,W3の温度勾配(例えば毎分につき何度
温度が上昇するか)を表示する温度勾配表示域20
b1,20b2,20b3と、各加熱区域W1,W2,W
3における各ステップの所要時間を表示する所要時間表
示域20cと、各ステップにおける各雰囲気ガスG1,
G2,G3の供給流量を示すガス供給流量表示域20d
1,20d2,20d3とを有している。なお、各ステッ
プの境界が、上述したプロファイル変動点Nnに相当す
るのはいうまでもない。
14とによる加熱プロファイルおよびガス供給プロファ
イルのインプット操作は次のようになされる。すなわ
ち、まず、各ステップそれぞれの最終温度および、各ス
テップの所要時間(各ステップの最終温度に達するのに
要する時間)を入力部14にインプットする。すると、
その値は最終温度表示域20a1,20a2,20a3お
よび所要時間表示域20cに表示される。また、インプ
ットされた各ステップの最終温度および所要時間から、
CPU10が温度勾配を自動計算して、温度勾配表示域
20b1,20b2,20b3に表示する。さらには、イ
ンプットされた各ステップの最終温度および所要時間か
ら、グラフ表示部13aに加熱プロファイルのグラフが
表示される。なお、各加熱区域W1,W2,W3の加熱
プロファイルのグラフは、例えば、表示色や線種(実
線、点線、一点鎖線、2点鎖線等)により区分される
が、図2では、各加熱区域W1,W2,W3の加熱プロ
ファイルを同一と見なすことで、グラフ表示部13aに
は、実線で表示される単一のグラフデータのみ表示して
いる。
ト操作は終了するが、このような加熱プロファイルのイ
ンプット操作に引き続いて、もしくは同時にガス供給プ
ロファイルを入力部14にインプットする。ガス供給プ
ロファイルのインプットは、既にインプットされてグラ
フ表示部13aや数値表示部13bに表示されている加
熱プロファイルを見ながら行えばよい。そのため、両プ
ロファイルを正確に関連付けてインプットすることがで
き、効率的にインプットでき、しかもインプットミスが
なくなる。
図2のごとく数値表示部13bだけに表示してもよい
し、グラフ表示部13a上に加熱プロファイルと重ね合
わせて表示してもよい。この場合、グラフ表示部13a
の縦軸がガス供給流量となる。さらには、表示部13の
表示モードを、グラフ表示部13aにガス供給プロファ
イルを表示する表示モードに切り替えたうえで、ガス供
給プロファイルをグラフ表示部13aに表示してもよ
い。
同時にグラフ表示部13aに表示するようにしている
が、グラフ表示部13aをスクロール表示するようにし
て、さらに多くのステップを有するプロファイルをイン
プットできるのはいうまでもない。
ロファイルに基づいた熱処理を行う場合、熱処理中にお
ける実際の熱処理室5内の温度は次のようにして表示さ
れる。すなわち、まず、熱処理開始に伴って表示部13
の表示モードをトレンドデータ表示モードに変更すると
ともに、データ表示を希望する加熱領域W1,W2,W
3を選択する。表示モードの変更および加熱領域W1,
W2,W3の選択は入力部14を操作することで行う。
すると、図3に示すように、グラフ表示部13aには選
択した加熱領域W1,W2,W3における実際の温度変
化がグラフとして表示される。そして、表示された熱処
理室4内の温度変化がインプットしている加熱プロファ
イルどおりになっているがどうかを確認する。なお。図
3では、選択した加熱領域W1,W2,W3の温度変化
のみを表示しているが、インプットしている加熱プロフ
ァイルを重ね合わせて表示してもよい。さらには、この
ときの各雰囲気ガスの供給状態を重ね合わせて表示して
もよい。そうすれば、さらに、熱処理がプロファイルど
おりに進行しているかどうかの判断がしやすくなる。
熱領域W1,W2,W3を有するとともに、3種類の雰
囲気ガスG1,G2,G3の供給を行うことで熱処理を
行う熱処理装置1において本発明を実施しているが、こ
のような構成を備えた熱処理装置だけではなく、加熱区
域数や供給する雰囲気ガスの数が異なる他の構成におい
ても本発明を実施できるのはいうまでもない。
効果が得られる。
ス供給状態とを互いに関連付けて時系列順に制御してい
るので、精度の高い熱処理が可能となった。また、単一
の制御手段により、ガス供給手段とガス供給手段とを制
御するために、その分、これらを制御する構成が簡単に
なって、コストダウンが図れる。
給プロファイルとを互いに関連付けて表示することで、
互いに関連付けて入力されるこれらプロファイルの入力
操作を精度高くかつ操作性高く行えるこようになる。
態にして表示することで、入力したプロファイルの視認
性が高まり、さらに入力精度を高めることができる。
を示すブロック図である。
平面図である。
る。
Claims (3)
- 【請求項1】 熱処理室内を加熱する加熱手段と、前記
熱処理室内に雰囲気ガスを供給するガス供給手段と、前
記熱処理室内の温度を測定する温度測定手段と、熱処理
時間を計測する時間計測手段と、前記温度測定手段が測
定した熱処理室内の温度および前記時間計測手段が計測
した熱処理時間を基にして前記加熱手段による加熱状態
と前記ガス供給手段による雰囲気ガス供給状態とを互い
に関連付けて制御する制御手段とを備えていることを特
徴とする熱処理装置。 - 【請求項2】 加熱プロファイルとガス供給プロファイ
ルとを互いに関連付けて表示するプロファイル表示手段
を備えていることを特徴とする請求項1記載の熱処理装
置。 - 【請求項3】 前記プロファイル表示手段は、一軸を時
間軸に、他軸を熱処理室内の温度またはガス供給量にし
たグラフ形態にして、前記加熱プロファイルまたは前記
ガス供給プロファイルを表示するものであることを特徴
とする請求項2記載の熱処理装置。
Priority Applications (3)
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Publications (2)
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1997
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Also Published As
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SG67374A1 (en) | 1999-09-21 |
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