JPH09230390A - フォトクロミック材料を有する層、その製造方法および利用方 法 - Google Patents
フォトクロミック材料を有する層、その製造方法および利用方 法Info
- Publication number
- JPH09230390A JPH09230390A JP8354335A JP35433596A JPH09230390A JP H09230390 A JPH09230390 A JP H09230390A JP 8354335 A JP8354335 A JP 8354335A JP 35433596 A JP35433596 A JP 35433596A JP H09230390 A JPH09230390 A JP H09230390A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photochromic
- layer
- interference
- photochromic material
- structure according
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/22—Absorbing filters
- G02B5/23—Photochromic filters
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/3411—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
- C03C17/3429—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials at least one of the coatings being a non-oxide coating
- C03C17/3464—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials at least one of the coatings being a non-oxide coating comprising a chalcogenide
- C03C17/347—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials at least one of the coatings being a non-oxide coating comprising a chalcogenide comprising a sulfide or oxysulfide
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Electrochromic Elements, Electrophoresis, Or Variable Reflection Or Absorption Elements (AREA)
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
- Optical Filters (AREA)
- Holo Graphy (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
- Eyeglasses (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 電磁スペクトルの可視スペクトル領域におけ
るフオトクロミツク材料の利用性を高める。 【解決手段】 フォトクロミック材料を有する層のフォ
トクロミック材料は光学的に可逆なフォトクロミック効
果を有し、そのスイッチングしきい値は可視スペクトル
領域外またはその境界領域に設けられる。このような層
の用途を拡大するために、フォトクロミック材料は干渉
材料によって被着され、被着されたフォトクロミック材
料のスイッチングしきい値は、この結果被着されていな
いフォトクロミック材料のスイッチングしきい値に対し
てより長い波長の方向に偏移する。
るフオトクロミツク材料の利用性を高める。 【解決手段】 フォトクロミック材料を有する層のフォ
トクロミック材料は光学的に可逆なフォトクロミック効
果を有し、そのスイッチングしきい値は可視スペクトル
領域外またはその境界領域に設けられる。このような層
の用途を拡大するために、フォトクロミック材料は干渉
材料によって被着され、被着されたフォトクロミック材
料のスイッチングしきい値は、この結果被着されていな
いフォトクロミック材料のスイッチングしきい値に対し
てより長い波長の方向に偏移する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、請求項１の上位概
念に基づくフォトクロミック材料を有する層、または請
求項１１の上位概念に基づくその製造方法ならびに層の
利用方法に関する。
念に基づくフォトクロミック材料を有する層、または請
求項１１の上位概念に基づくその製造方法ならびに層の
利用方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】ドイツの教科書「レンプ化学事典」第９
巻、１９９３年ゲオルク・ティーメ出版シュトゥットガ
ルト ニューヨーク、３４０３ページには、可視光また
は紫外線光の入射の際にフォトクロミック材料が物質的
に変化するという点において優れた可逆的物性としての
フォトクロミック効果が記述されている。物質的変化に
色彩変化が伴う。もちろん、これらの物質のいくつかは
スイッチングしきい値、すなわちフォトクロミック効果
の組み込みをたいてい備え、このスイッチングしきい値
は可視スペクトル領域の紫色の高エネルギ境界に配置さ
れるかまたはその下に配置され、これによって可視スペ
クトル領域におけるこのような材料の利用性が少なくと
も著しく制限を受ける。
巻、１９９３年ゲオルク・ティーメ出版シュトゥットガ
ルト ニューヨーク、３４０３ページには、可視光また
は紫外線光の入射の際にフォトクロミック材料が物質的
に変化するという点において優れた可逆的物性としての
フォトクロミック効果が記述されている。物質的変化に
色彩変化が伴う。もちろん、これらの物質のいくつかは
スイッチングしきい値、すなわちフォトクロミック効果
の組み込みをたいてい備え、このスイッチングしきい値
は可視スペクトル領域の紫色の高エネルギ境界に配置さ
れるかまたはその下に配置され、これによって可視スペ
クトル領域におけるこのような材料の利用性が少なくと
も著しく制限を受ける。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、電磁
スペクトルの可視スペクトル領域におけるフォトクロミ
ック材料の利用性を高めることである。
スペクトルの可視スペクトル領域におけるフォトクロミ
ック材料の利用性を高めることである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明の課題は請求項１
の特徴部分、または請求項１１の特徴的な処理工程を有
するような根拠とされる方法の特徴部分によって解決さ
れる。おそらく内部光電効果の利用によって、フォトク
ロミック効果のスイッチングしきい値をより大きな波長
方向へ、したがって可視スペクトル領域に偏移させるこ
とが可能となり、これによってフォトクロミック効果の
利用に必要な光子エネルギがより小さくなる。最大強度
がほぼ波長５００ｎｍ近辺にあるというように、可視ス
ペクトル領域内の日光には強度分布があるので、本発明
に基づく層は、日光の場合にフォトクロミック効果のた
めに高い光子数を利用でき、このことは吸収率の向上、
したがって層の着色性の改善となって現れる。さらなる
利点は、スイッチングしきい値の偏移によりより多くの
レーザの使用が可能になることである。
の特徴部分、または請求項１１の特徴的な処理工程を有
するような根拠とされる方法の特徴部分によって解決さ
れる。おそらく内部光電効果の利用によって、フォトク
ロミック効果のスイッチングしきい値をより大きな波長
方向へ、したがって可視スペクトル領域に偏移させるこ
とが可能となり、これによってフォトクロミック効果の
利用に必要な光子エネルギがより小さくなる。最大強度
がほぼ波長５００ｎｍ近辺にあるというように、可視ス
ペクトル領域内の日光には強度分布があるので、本発明
に基づく層は、日光の場合にフォトクロミック効果のた
めに高い光子数を利用でき、このことは吸収率の向上、
したがって層の着色性の改善となって現れる。さらなる
利点は、スイッチングしきい値の偏移によりより多くの
レーザの使用が可能になることである。
【０００５】
【実施例】本発明の有効な形態は下位請求項から知るこ
とができる。その他の点について、図面に示した実施例
を参考にして本発明を説明する。
とができる。その他の点について、図面に示した実施例
を参考にして本発明を説明する。
【０００６】図１では、片側がフォトクロミック層３’
で蒸着されたガラス基板の断面が示されている。層３’
は、干渉材料２とフォトクロミック材料１とからなる交
互に入れ替わる２つの層を備える。本実施例の干渉材料
２はアモルファス状に蒸着した半導体の硫化カドミウム
（ＣｄＳ）であり、一方フォトクロミック材料１はアモ
ルファス状に蒸着した酸化タングステンＷＯ3 である。
干渉材料２としてのＣｄＳ半導体の代わりに、光分解に
対して安定したチタン酸塩基の半導体材料も使用するこ
とができる。
で蒸着されたガラス基板の断面が示されている。層３’
は、干渉材料２とフォトクロミック材料１とからなる交
互に入れ替わる２つの層を備える。本実施例の干渉材料
２はアモルファス状に蒸着した半導体の硫化カドミウム
（ＣｄＳ）であり、一方フォトクロミック材料１はアモ
ルファス状に蒸着した酸化タングステンＷＯ3 である。
干渉材料２としてのＣｄＳ半導体の代わりに、光分解に
対して安定したチタン酸塩基の半導体材料も使用するこ
とができる。
【０００７】ガラス基板５の上にすでに蒸着してある干
渉材料２からなる層の上にフォトクロミック材料１を蒸
着することによって、フォトクロミック材料１は干渉材
料２との電荷キャリヤを輸送可能な接点を備える。
渉材料２からなる層の上にフォトクロミック材料１を蒸
着することによって、フォトクロミック材料１は干渉材
料２との電荷キャリヤを輸送可能な接点を備える。
【０００８】図２から分かるように、干渉材料２として
選択された硫化カドミウム（ＣｄＳ）は、価電子帯（Ｅ
v ）と、Ｅg ＝２．４ｅＶの伝導帯Ｅc との間で、Ｅg
＝３．２６ｅＶのバンドギャップを有するフォトクロミ
ック材料１として使用されるＨＷＯ3 よりも小さなバン
ドギャップＥg を有する。干渉材料２とフォトクロミッ
ク材料１とからなる両方の層の間の境界面領域のバンド
は、バンドのそれぞれの伝導帯Ｅc に対し異なった距離
で配置されたフェルミ準位Ｅf の高さで近似するので、
干渉材料２の層とフォトクロミック材料１の層との間の
境界面領域における本発明に基づく層３、３’のバンド
推移は、バンド非連続性を有する。
選択された硫化カドミウム（ＣｄＳ）は、価電子帯（Ｅ
v ）と、Ｅg ＝２．４ｅＶの伝導帯Ｅc との間で、Ｅg
＝３．２６ｅＶのバンドギャップを有するフォトクロミ
ック材料１として使用されるＨＷＯ3 よりも小さなバン
ドギャップＥg を有する。干渉材料２とフォトクロミッ
ク材料１とからなる両方の層の間の境界面領域のバンド
は、バンドのそれぞれの伝導帯Ｅc に対し異なった距離
で配置されたフェルミ準位Ｅf の高さで近似するので、
干渉材料２の層とフォトクロミック材料１の層との間の
境界面領域における本発明に基づく層３、３’のバンド
推移は、バンド非連続性を有する。
【０００９】干渉材料２のキャリヤが光学スペクトル領
域内で励起できるように、干渉材料２は選択される。さ
らに、干渉材料２とフォトクロミック材料１との間のキ
ャリヤ輸送に関する少なくともある種のキャリヤについ
て、必要ならばあるかもしれないポテンシャル障壁を考
慮して、ゼロよりも大きな量子力学的移行マトリックス
成分が存在する必要がある。ポテンシャル障壁は、フォ
トクロミック材料１と干渉材料２との間のバンドギャッ
プ差の差異よりも小さくなければならない。
域内で励起できるように、干渉材料２は選択される。さ
らに、干渉材料２とフォトクロミック材料１との間のキ
ャリヤ輸送に関する少なくともある種のキャリヤについ
て、必要ならばあるかもしれないポテンシャル障壁を考
慮して、ゼロよりも大きな量子力学的移行マトリックス
成分が存在する必要がある。ポテンシャル障壁は、フォ
トクロミック材料１と干渉材料２との間のバンドギャッ
プ差の差異よりも小さくなければならない。
【００１０】上記の条件が遵守されるならば、層３、
３’のフォトクロミック効果のスイッチングしきい値Ｓ
1 は、すなわち波長の下方で層３、３’のフォトクロミ
ック効果が利用されるような波長のスイッチングしきい
値Ｓ1 は、純粋なフォトクロミック材料１のスイッチン
グしきい値Ｓ2 に較べ、より大きな波長に向かって、し
たがって照射される光または照射される電磁波のより小
さな光子エネルギに向かって偏移する。
３’のフォトクロミック効果のスイッチングしきい値Ｓ
1 は、すなわち波長の下方で層３、３’のフォトクロミ
ック効果が利用されるような波長のスイッチングしきい
値Ｓ1 は、純粋なフォトクロミック材料１のスイッチン
グしきい値Ｓ2 に較べ、より大きな波長に向かって、し
たがって照射される光または照射される電磁波のより小
さな光子エネルギに向かって偏移する。
【００１１】上記の関係は図３のグラフに示されてい
る。このグラフでは、本発明に基づくＣｄＳ／ＷＯ3 層
３、３’に関し、また純粋な被着されていないフォトク
ロミックＷＯ3 からなる層とに関し、波長依存の吸収尺
度である波長依存着色速度ηabs が波長λの関数として
示されている。強度浄化された波長依存の着色速度η
abs は、測定された着色速度ηdir と、照射光強度Ｉ
abs （λ）との関係として示される。この場合５２５ｎ
ｍしたがって約１４５ｎｍの波長では、本発明に基づく
ＣｄＳ／ＷＯ3 層３、３’のスイッチングしきい値Ｓ1
が、被着されていないＷＯ3 のスイッチングしきい値Ｓ
2 よりも高いことが明白である。
る。このグラフでは、本発明に基づくＣｄＳ／ＷＯ3 層
３、３’に関し、また純粋な被着されていないフォトク
ロミックＷＯ3 からなる層とに関し、波長依存の吸収尺
度である波長依存着色速度ηabs が波長λの関数として
示されている。強度浄化された波長依存の着色速度η
abs は、測定された着色速度ηdir と、照射光強度Ｉ
abs （λ）との関係として示される。この場合５２５ｎ
ｍしたがって約１４５ｎｍの波長では、本発明に基づく
ＣｄＳ／ＷＯ3 層３、３’のスイッチングしきい値Ｓ1
が、被着されていないＷＯ3 のスイッチングしきい値Ｓ
2 よりも高いことが明白である。
【００１２】図３と図４のグラフのために使用された本
発明に基づくＣｄＳ／ＷＯ3 層３の製造のために、ガラ
ス基板５を真空蒸着装置の容器に入れ、まずＣｄＳを蒸
着し次にＷＯ3 を蒸着した。通常の方法で清浄にされる
ガラス基板５の表面は１２ｃｍ２であり、ガラス基板５
と、蒸発装置の容器または蒸発源との間の間隔は３０ｃ
ｍから６０ｃｍであり、調整圧力は１．５・１０−５ｍ
ｂａｒであり、９９．９％の純度の１から２ｇのＣｄＳ
を１４０秒間連続蒸着することによってボートが造ら
れ、この中でＣｄＳが赤熱に加熱され続け、これによっ
てＣｄＳが部分的に蒸発されまたガラス基板５の上に７
０ｎｍの厚さのＷＯ3 層が析出された。２００ｎｍの厚
さのＷＯ3 層の蒸着は、１．５・１０-5から２．５・１
０-5ｍｂａｒの圧力で行われ、約１から２ｇのＷＯ3 が
蒸発された。
発明に基づくＣｄＳ／ＷＯ3 層３の製造のために、ガラ
ス基板５を真空蒸着装置の容器に入れ、まずＣｄＳを蒸
着し次にＷＯ3 を蒸着した。通常の方法で清浄にされる
ガラス基板５の表面は１２ｃｍ２であり、ガラス基板５
と、蒸発装置の容器または蒸発源との間の間隔は３０ｃ
ｍから６０ｃｍであり、調整圧力は１．５・１０−５ｍ
ｂａｒであり、９９．９％の純度の１から２ｇのＣｄＳ
を１４０秒間連続蒸着することによってボートが造ら
れ、この中でＣｄＳが赤熱に加熱され続け、これによっ
てＣｄＳが部分的に蒸発されまたガラス基板５の上に７
０ｎｍの厚さのＷＯ3 層が析出された。２００ｎｍの厚
さのＷＯ3 層の蒸着は、１．５・１０-5から２．５・１
０-5ｍｂａｒの圧力で行われ、約１から２ｇのＷＯ3 が
蒸発された。
【００１３】スイッチングしきい値Ｓ1 の偏移は絶対値
であり、この場合着色速度ηdir またはηabs の強度、
すなわち本発明に基づく層３、３’の吸収力を飽和にす
るような尺度は、特に時間の関数である。
であり、この場合着色速度ηdir またはηabs の強度、
すなわち本発明に基づく層３、３’の吸収力を飽和にす
るような尺度は、特に時間の関数である。
【００１４】上記の関係は図４のグラフに示されてい
る。ＣｄＳ／ＷＯ3 層３の着色速度ηdir の時間勾配を
算出するために、層３は異なった箇所、異なった時間で
波長４８０ｎｍの光で照射された。図３から分かるよう
に、この波長は、本発明に基づく層３のフォトクロミッ
ク効果のスイッチングしきい値Ｓ1 の下方に配置され、
このため層は、異なった箇所において感光時間または照
射時間に依存して異なって着色された。
る。ＣｄＳ／ＷＯ3 層３の着色速度ηdir の時間勾配を
算出するために、層３は異なった箇所、異なった時間で
波長４８０ｎｍの光で照射された。図３から分かるよう
に、この波長は、本発明に基づく層３のフォトクロミッ
ク効果のスイッチングしきい値Ｓ1 の下方に配置され、
このため層は、異なった箇所において感光時間または照
射時間に依存して異なって着色された。
【００１５】着色速度ηdir を決定するために、透過強
度、すなわちＣｄＳ／ＷＯ3 層３を通して達する光の強
度が測定され、その光の波長は６６８ｎｍであり、した
がってＣｄＳ／ＷＯ3 層３のまた被着されていないフォ
トクロミック材料１のスイッチングしきい値Ｓ1 の上方
に、ＷＯ3 が配置された。６６８ｎｍの波長を有する測
定光線が、ＣｄＳ／ＷＯ3 層３の場合に決してフォトク
ロミック効果を発生しないように、測定前に点検かつ保
証された。
度、すなわちＣｄＳ／ＷＯ3 層３を通して達する光の強
度が測定され、その光の波長は６６８ｎｍであり、した
がってＣｄＳ／ＷＯ3 層３のまた被着されていないフォ
トクロミック材料１のスイッチングしきい値Ｓ1 の上方
に、ＷＯ3 が配置された。６６８ｎｍの波長を有する測
定光線が、ＣｄＳ／ＷＯ3 層３の場合に決してフォトク
ロミック効果を発生しないように、測定前に点検かつ保
証された。
【００１６】波長λの場合の時間透過性Ｔ（ｔ）の推移
は、次式
は、次式
【数１】 に基づく指数関数によって少なくとも近似することが可
能である。この場合、Ｔ（ｔ0 ）は開始時点ｔ0 の透過
性、Ａs はＣｄＳ／ＷＯ3 層３の最大（飽和）吸収、ｔ
はｔ0 後の継続時間、またτは、Ｔ（ｔ）曲線の初期勾
配の値に対応する時間定数であり、この時間定数は実施
された試験では１０から６０秒の間にあった。
能である。この場合、Ｔ（ｔ0 ）は開始時点ｔ0 の透過
性、Ａs はＣｄＳ／ＷＯ3 層３の最大（飽和）吸収、ｔ
はｔ0 後の継続時間、またτは、Ｔ（ｔ）曲線の初期勾
配の値に対応する時間定数であり、この時間定数は実施
された試験では１０から６０秒の間にあった。
【００１７】原則として本発明に基づく層３、３’のス
イッチングしきい値Ｓ1 の、純粋なフォトクロミック材
料１のスイッチングしきい値Ｓ2 に対する移動は、干渉
材料２の唯一の層が被着されたフォトクロミック材料１
の層、すなわち複層３で行われる。
イッチングしきい値Ｓ1 の、純粋なフォトクロミック材
料１のスイッチングしきい値Ｓ2 に対する移動は、干渉
材料２の唯一の層が被着されたフォトクロミック材料１
の層、すなわち複層３で行われる。
【００１８】これについては次表の２つの例を示す。サ
ンプル１では、ガラス基板５上に７０ｎｍの厚さの層Ｃ
ｄＳが被着され、次に２００ｎｍの厚さのＷＯ3 層が被
着された複層３が対象とされる。サンプル２ではガラス
基板５上に被着された複数層が対象とされ、この場合複
数層から形成される多層３’は連続する５つの複層３を
備え、この場合複層３の各層は１０ｎｍの厚さのＣｄＳ
層と、４０ｎｍの厚さのＷＯ3 層とを備える。サンプル
１と２の蒸着条件は、個々の層の厚さが異なるという点
を除き同一であった。
ンプル１では、ガラス基板５上に７０ｎｍの厚さの層Ｃ
ｄＳが被着され、次に２００ｎｍの厚さのＷＯ3 層が被
着された複層３が対象とされる。サンプル２ではガラス
基板５上に被着された複数層が対象とされ、この場合複
数層から形成される多層３’は連続する５つの複層３を
備え、この場合複層３の各層は１０ｎｍの厚さのＣｄＳ
層と、４０ｎｍの厚さのＷＯ3 層とを備える。サンプル
１と２の蒸着条件は、個々の層の厚さが異なるという点
を除き同一であった。
【００１９】サンプル１と２は、サンプル１と２のそれ
ぞれのＣｄＳ／ＷＯ3 層３、３’のスイッチングしきい
値Ｓ1 の下方に位置する、４８０ｎｍから飽和Ａs まで
の波長のレーザによって着色された。この場合感光時間
は５分間から２日間であった。達成された着色速度η
dir は、サンプル１と２のそれぞれのＣｄＳ／ＷＯ3 層
３、３’のスイッチングしきい値Ｓ1 の上方に配置され
た６６８ｎｍの波長によって測定された。既述したよう
に、この測定光はフォトクロミック効果を発生する。
ぞれのＣｄＳ／ＷＯ3 層３、３’のスイッチングしきい
値Ｓ1 の下方に位置する、４８０ｎｍから飽和Ａs まで
の波長のレーザによって着色された。この場合感光時間
は５分間から２日間であった。達成された着色速度η
dir は、サンプル１と２のそれぞれのＣｄＳ／ＷＯ3 層
３、３’のスイッチングしきい値Ｓ1 の上方に配置され
た６６８ｎｍの波長によって測定された。既述したよう
に、この測定光はフォトクロミック効果を発生する。
【００２０】着色速度ηdir は、時間透過性Ｔ（ｔ）の
上述の関数の第１の時間導関数として規定され、すなわ
ち次の式が適用される：
上述の関数の第１の時間導関数として規定され、すなわ
ち次の式が適用される：
【数２】
【表１】
【００２１】上の図によれば、多層３’を備えるサンプ
ル２の着色速度ηdir は、複層３から形成されるサンプ
ル１の対応する着色速度ηdir はよりも２５倍大きい。
この比較からさらに証明されることは、ほぼ同一の質量
を使用した複数層によって、本発明に基づく層３’のフ
ォトクロミック効果を何倍にも高めることができる。
ル２の着色速度ηdir は、複層３から形成されるサンプ
ル１の対応する着色速度ηdir はよりも２５倍大きい。
この比較からさらに証明されることは、ほぼ同一の質量
を使用した複数層によって、本発明に基づく層３’のフ
ォトクロミック効果を何倍にも高めることができる。
【００２２】このことは、可視スペクトル領域では創意
に富んだ層３、３’のフォトクロミック効果の着色速度
ηdir が、干渉材料２とフォトクロミック材料１との間
の接触面の拡大によって高めることができるという証左
として評価することができる。接触面のこのような拡大
は、特にフォトクロミック材料１と干渉材料２の個々の
層をコロイド状のゾル・ゲル法で特にガラス基板５の上
に被着することによって実現することができる。
に富んだ層３、３’のフォトクロミック効果の着色速度
ηdir が、干渉材料２とフォトクロミック材料１との間
の接触面の拡大によって高めることができるという証左
として評価することができる。接触面のこのような拡大
は、特にフォトクロミック材料１と干渉材料２の個々の
層をコロイド状のゾル・ゲル法で特にガラス基板５の上
に被着することによって実現することができる。
【００２３】本発明に基づく層３、３’の着色速度η
dir は、干渉材料２とフォトクロミック材料１の間に反
応材料４を少なくとも領域毎に挿入することによってさ
らに高めることができる。これを示すために、上述の複
層３を有するサンプル１にほぼ対応する２つのサンプル
３と４を造った。もちろんサンプル４のＣｄＳ層は蒸着
後に水蒸気が加えられ、その後に初めてＷＯ3 層３が蒸
着された。次に、この場合もＣｄＳ／ＷＯ3 層３は波長
６６８ｎｍの赤色光線によって照射され、また赤色光線
透過率が測定された。測定の結果、本実施例では着色速
度ηdir に相関する着色度ｆｓが決定された。この結果
は次表で比較表示されている。
dir は、干渉材料２とフォトクロミック材料１の間に反
応材料４を少なくとも領域毎に挿入することによってさ
らに高めることができる。これを示すために、上述の複
層３を有するサンプル１にほぼ対応する２つのサンプル
３と４を造った。もちろんサンプル４のＣｄＳ層は蒸着
後に水蒸気が加えられ、その後に初めてＷＯ3 層３が蒸
着された。次に、この場合もＣｄＳ／ＷＯ3 層３は波長
６６８ｎｍの赤色光線によって照射され、また赤色光線
透過率が測定された。測定の結果、本実施例では着色速
度ηdir に相関する着色度ｆｓが決定された。この結果
は次表で比較表示されている。
【００２４】着色度ｆs は、上述の時間透過性Ｔ（ｔ）
の関数を根拠として次のように定義される：
の関数を根拠として次のように定義される：
【数３】 この場合着色度は着色速度と次の相関関係を有する：
【数４】
【表２】
【００２５】上記の表から分かるように、干渉材料２と
フォトクロミック材料１との間の境界面に挿入される水
もＣｄＳ／ＷＯ3 層３のフォトクロミック効果を強め
る。
フォトクロミック材料１との間の境界面に挿入される水
もＣｄＳ／ＷＯ3 層３のフォトクロミック効果を強め
る。
【００２６】ＷＯ3 フィルムの着色特性から、光の作用
を受けて水が酸基にまた２つの水素基に分解されること
が公知である。水素基は、ＷＯ3 と共にタングステンブ
ロンズＨＷＯ3 を形成する可能性があり、生じる青着色
の原因となる。
を受けて水が酸基にまた２つの水素基に分解されること
が公知である。水素基は、ＷＯ3 と共にタングステンブ
ロンズＨＷＯ3 を形成する可能性があり、生じる青着色
の原因となる。
【００２７】創意に富んだ層に移って以下に説明する。
創意に富んだＷＯ3 ／ＣｄＳ層３、３’の色中心形成の
際に、半導体のＷＯ3 内の内部光電効果に起因する電子
・正孔対が関係する。電子・正孔対の正孔と、水分子と
の間の反応の際に、酸素の陰電性の上昇により、水素へ
の正電荷の移動が可能になる。
創意に富んだＷＯ3 ／ＣｄＳ層３、３’の色中心形成の
際に、半導体のＷＯ3 内の内部光電効果に起因する電子
・正孔対が関係する。電子・正孔対の正孔と、水分子と
の間の反応の際に、酸素の陰電性の上昇により、水素へ
の正電荷の移動が可能になる。
【００２８】上記のことから、水素の供給が目的にかな
うということが推論される。この供給は、特に水素基お
よび／または水素陽子を形成するプラチナのような物質
によって行うことができる。さらに、特にポリビニルア
ルコールおよび多糖のような、極性結合されまた陽子と
して分離可能な水素を有するような層内に留まる不揮発
性の物質も推奨される。
うということが推論される。この供給は、特に水素基お
よび／または水素陽子を形成するプラチナのような物質
によって行うことができる。さらに、特にポリビニルア
ルコールおよび多糖のような、極性結合されまた陽子と
して分離可能な水素を有するような層内に留まる不揮発
性の物質も推奨される。
【００２９】干渉材料２とフォトクロミック材料１は真
空中で約５ *１０-5から１ *１０-6ｍｂａｒで蒸着され
るので、反応材料４は、層３、３’の両方の異なった層
の間に簡単に配置することができる。プラチナ添加した
水の場合には、プラチナのわずかな量を簡単に蒸発し、
次にフォトクロミック材料１の蒸着は水蒸気を含む外気
の存在のもとに行うことができる。
空中で約５ *１０-5から１ *１０-6ｍｂａｒで蒸着され
るので、反応材料４は、層３、３’の両方の異なった層
の間に簡単に配置することができる。プラチナ添加した
水の場合には、プラチナのわずかな量を簡単に蒸発し、
次にフォトクロミック材料１の蒸着は水蒸気を含む外気
の存在のもとに行うことができる。
【００３０】層３、３’のフォトクロミック材料１と干
渉材料２の異なった層の境界面領域に配置された反応材
料４によって、層３、３’のフォトクロミック効果が強
められる。これには、フォトクロミック層３、３’のタ
ングステンを６価の反応段階から５価の反応段階へより
多く還元することが貢献する。反応材料として、水以外
に、特にポリビニルアルコールおよび多糖のような、極
性結合されまた陽子として分離可能な水素を有するよう
な層内に留まる不揮発性の物質も推奨された。
渉材料２の異なった層の境界面領域に配置された反応材
料４によって、層３、３’のフォトクロミック効果が強
められる。これには、フォトクロミック層３、３’のタ
ングステンを６価の反応段階から５価の反応段階へより
多く還元することが貢献する。反応材料として、水以外
に、特にポリビニルアルコールおよび多糖のような、極
性結合されまた陽子として分離可能な水素を有するよう
な層内に留まる不揮発性の物質も推奨された。
【００３１】図５では、本発明に基づくフォトクロミッ
ク層３および３’を利用した情報技術またはコンピュー
タ技術用の光学式メモリユニットの構造が示されてい
る。メモリは概して光ファイバ７であり、この光ファイ
バの一方の端部に光を放射する送信機８が配設され、他
方の端部には光を検出する受信機９が配設されている。
グラスファイバとして形成された光ファイバ内には、送
信機８と受信機９との間に本発明に基づくフォトクロミ
ック層３、３’が配置され、この場合受信機９はより効
果的に層３、３’に直接配設されるべきであろう。
ク層３および３’を利用した情報技術またはコンピュー
タ技術用の光学式メモリユニットの構造が示されてい
る。メモリは概して光ファイバ７であり、この光ファイ
バの一方の端部に光を放射する送信機８が配設され、他
方の端部には光を検出する受信機９が配設されている。
グラスファイバとして形成された光ファイバ内には、送
信機８と受信機９との間に本発明に基づくフォトクロミ
ック層３、３’が配置され、この場合受信機９はより効
果的に層３、３’に直接配設されるべきであろう。
【００３２】送信機８として半導体レーザ領域を利用す
る場合には、フォトダイオードの領域として受信機９を
形成することが好都合であり、この場合レーザアレーの
各半導体レーザにフォトダイオードを配設する。
る場合には、フォトダイオードの領域として受信機９を
形成することが好都合であり、この場合レーザアレーの
各半導体レーザにフォトダイオードを配設する。
【００３３】送信機８としての２つのレーザの場合に
は、レーザの１つを記録およびリフレッシュレーザとし
て使用することが有効であり、この場合その波長は、層
３、３’のフォトクロミック効果のスイッチングしきい
値Ｓ1 の下方に配置される。他方のレーザは読み取りレ
ーザとして使用され、またスイッチングしきい値Ｓ1 の
上方に配置される波長を有することが好ましい。
は、レーザの１つを記録およびリフレッシュレーザとし
て使用することが有効であり、この場合その波長は、層
３、３’のフォトクロミック効果のスイッチングしきい
値Ｓ1 の下方に配置される。他方のレーザは読み取りレ
ーザとして使用され、またスイッチングしきい値Ｓ1 の
上方に配置される波長を有することが好ましい。
【００３４】この光学式メモリに書き込むために、書き
込みレーザは所定の継続時間の光パルスを発生し、これ
によって層３、３’は少なくとも領域毎に着色される。
図４のグラフから確認できるように、所定の継続時間後
に、メモリの設定状態として見なされる最低着色を維持
するために、層３、３’に所定の継続時間だけ新たに書
き込みレーザの光が加えられる。この再度の感光が行わ
れない場合、層３、３’の着色が消えるのでメモリは消
去される。
込みレーザは所定の継続時間の光パルスを発生し、これ
によって層３、３’は少なくとも領域毎に着色される。
図４のグラフから確認できるように、所定の継続時間後
に、メモリの設定状態として見なされる最低着色を維持
するために、層３、３’に所定の継続時間だけ新たに書
き込みレーザの光が加えられる。この再度の感光が行わ
れない場合、層３、３’の着色が消えるのでメモリは消
去される。
【００３５】読み取りのために、読み取りレーザは公知
の強度の光パルスを発生する。連続光の強度は、受信機
９により層３、３’について透過率で測定され、また残
留強度に応じてメモリの設定状態または非設定状態に割
り当てられる。
の強度の光パルスを発生する。連続光の強度は、受信機
９により層３、３’について透過率で測定され、また残
留強度に応じてメモリの設定状態または非設定状態に割
り当てられる。
【００３６】図６では、カメラの写真フィルムに類似し
た本発明に基づく層３、３’が感光層として使用される
ようなガラス基板５上のフォトクロミック層３、３’を
有する層構造が示されている。次に本発明に基づくフォ
トクロミック層３、３’はホログラフィ点マトリックス
によって感光される。本発明に基づく層３、３’のフォ
トクロミック効果の可逆的性質により、本発明に基づく
層３、３’は、フォトクロミック層３、３’の着色が後
退する所定の時間後に所望のホログラフィに必要な点マ
トリックスによって、新たに感光しなければならない。
本応用例では、本発明に基づく層３、３’はすなわち一
時的なホログラフィ画像メモリを備える。
た本発明に基づく層３、３’が感光層として使用される
ようなガラス基板５上のフォトクロミック層３、３’を
有する層構造が示されている。次に本発明に基づくフォ
トクロミック層３、３’はホログラフィ点マトリックス
によって感光される。本発明に基づく層３、３’のフォ
トクロミック効果の可逆的性質により、本発明に基づく
層３、３’は、フォトクロミック層３、３’の着色が後
退する所定の時間後に所望のホログラフィに必要な点マ
トリックスによって、新たに感光しなければならない。
本応用例では、本発明に基づく層３、３’はすなわち一
時的なホログラフィ画像メモリを備える。
【００３７】一時的画像メモリとしての本発明に基づく
層３、３’の他の応用例が図７に示されている。本実施
例の基本的層構造は、図６の層構造に一致している。も
ちろん記憶された画像では、例えば電磁波の干渉形成の
ために使用されるような一時的な刻線格子が対象であ
る。着色によって製造される格子がその他の措置なしに
所定の時間だけ維持され続けることによって、フォトク
ロミック効果の減少から算出されるある緩和時間後に、
例えば格子の線間隔および他のパラメータを適切に変更
することが可能である。これによって、例えばそれぞれ
異なった状況と必要性に対して干渉計格子を適合化する
ための簡単な手段が得られる。
層３、３’の他の応用例が図７に示されている。本実施
例の基本的層構造は、図６の層構造に一致している。も
ちろん記憶された画像では、例えば電磁波の干渉形成の
ために使用されるような一時的な刻線格子が対象であ
る。着色によって製造される格子がその他の措置なしに
所定の時間だけ維持され続けることによって、フォトク
ロミック効果の減少から算出されるある緩和時間後に、
例えば格子の線間隔および他のパラメータを適切に変更
することが可能である。これによって、例えばそれぞれ
異なった状況と必要性に対して干渉計格子を適合化する
ための簡単な手段が得られる。
【００３８】図８では車両ボデーの効果塗料の塗料構造
が示され、この場合効果塗料には顔料６が添加され、こ
の顔料６は本発明に基づくフォトクロミック層を備え
る。効果塗料の使用はもちろん車両ボデーの好適な応用
に限定されず、塗装可能な他の対象物も含む。
が示され、この場合効果塗料には顔料６が添加され、こ
の顔料６は本発明に基づくフォトクロミック層を備え
る。効果塗料の使用はもちろん車両ボデーの好適な応用
に限定されず、塗装可能な他の対象物も含む。
【００３９】車両ボデーのシートメタル１０上に塗装さ
れる塗料構造のほとんどは、リン酸塩処理層１１、下塗
り層１２、充填層１３、カラー層１４およびクリアラッ
ク層１５のような通常の構造を有する。クリアラック層
１５には顔料６が添加され、この顔料は干渉材料２によ
り被着されたフォトクロミック材料１を有する本発明に
基づく層３、３’を有する。
れる塗料構造のほとんどは、リン酸塩処理層１１、下塗
り層１２、充填層１３、カラー層１４およびクリアラッ
ク層１５のような通常の構造を有する。クリアラック層
１５には顔料６が添加され、この顔料は干渉材料２によ
り被着されたフォトクロミック材料１を有する本発明に
基づく層３、３’を有する。
【００４０】特に数１０μｍの厚さのガラス膜の基板５
の上に干渉材料２とフォトクロミック材料１とを蒸着
し、次に本発明に基づく層３、３’が蒸着されたガラス
膜を顔料６を形成しつつ破砕することによって、顔料６
の製造を行うことができる。顔料の大きさとしては、顔
料６の平均的な大きさはｍｍ範囲の下または下方にあ
り、特に１００μｍよりも小さいことが好ましい。しか
し「サイズ効果」の表面効果を避けるために、０．１μ
ｍよりも大きい大きさ、特に１μｍよりも大きいことが
好ましい。
の上に干渉材料２とフォトクロミック材料１とを蒸着
し、次に本発明に基づく層３、３’が蒸着されたガラス
膜を顔料６を形成しつつ破砕することによって、顔料６
の製造を行うことができる。顔料の大きさとしては、顔
料６の平均的な大きさはｍｍ範囲の下または下方にあ
り、特に１００μｍよりも小さいことが好ましい。しか
し「サイズ効果」の表面効果を避けるために、０．１μ
ｍよりも大きい大きさ、特に１μｍよりも大きいことが
好ましい。
【００４１】このようなＣｄＳ／ＷＯ3 層３、３’の自
己色は、ＣｄＳ層の層厚に応じて青みを帯びたまたは緑
を帯びた色である。しかし青みを帯びた自己色では、黄
色の自己色を有するＣｄＳ被膜は十分に薄くなければな
らない。効果塗料の色効果は、青みがかったＣｄＳ／Ｗ
Ｏ3 層３、３’で得られ、この層はＣｄＳ／ＷＯ3 層
３、３’が唯一存在する場合にのみ例えば赤色の着色カ
ラー層１４と共同作用して、日光の状態に応じて効果塗
料の色彩の全体的印象を媒介し、この全体的印象は徐々
に赤色（日光なし）から紫色（日光あり）に変化する。
己色は、ＣｄＳ層の層厚に応じて青みを帯びたまたは緑
を帯びた色である。しかし青みを帯びた自己色では、黄
色の自己色を有するＣｄＳ被膜は十分に薄くなければな
らない。効果塗料の色効果は、青みがかったＣｄＳ／Ｗ
Ｏ3 層３、３’で得られ、この層はＣｄＳ／ＷＯ3 層
３、３’が唯一存在する場合にのみ例えば赤色の着色カ
ラー層１４と共同作用して、日光の状態に応じて効果塗
料の色彩の全体的印象を媒介し、この全体的印象は徐々
に赤色（日光なし）から紫色（日光あり）に変化する。
【００４２】図９では、構造１６上に塗装されまたフォ
トクロミック層３、３’を備える顔料６を有する塗料構
造が示されている。このような塗料構造の可能な用途と
しては、構造１６の着色のほかに、構造１６の断熱用ガ
ラスとしてまたは車両ガラスとして設けられるガラス製
品が考えられる。
トクロミック層３、３’を備える顔料６を有する塗料構
造が示されている。このような塗料構造の可能な用途と
しては、構造１６の着色のほかに、構造１６の断熱用ガ
ラスとしてまたは車両ガラスとして設けられるガラス製
品が考えられる。
【００４３】本発明に基づくフォトクロミック層３、
３’によって被着した構造１６またはガラス製品は、構
造によって囲まれた車室の、特に車両の特に好ましくは
乗用車の乗員室の、日光入射に起因する加熱を自立的に
最少化するために役立つ。
３’によって被着した構造１６またはガラス製品は、構
造によって囲まれた車室の、特に車両の特に好ましくは
乗用車の乗員室の、日光入射に起因する加熱を自立的に
最少化するために役立つ。
【図１】干渉材料およびフォトクロミック材料を蒸着し
た層付きのガラス基板の断面図である。
た層付きのガラス基板の断面図である。
【図２】干渉材料とフォトクロミック材料との間の境界
面領域における価電子帯と伝導帯の概略推移図である。
面領域における価電子帯と伝導帯の概略推移図である。
【図３】波長に対する着色速度のグラフである。
【図４】時間に基づく着色の概略図である。
【図５】フォトクロミック層を用いた情報またはコンピ
ュータ技術用の光学メモリユニットの構造である。
ュータ技術用の光学メモリユニットの構造である。
【図６】フォトクロミック層を備えまたホログラフィ点
マトリックスで感光させたガラス基板である。
マトリックスで感光させたガラス基板である。
【図７】フォトクロミック層を備えまた回折格子を形成
する線マトリックスで感光させたガラス基板である。
する線マトリックスで感光させたガラス基板である。
【図８】車両ボデーの効果塗料の塗料構造であり、塗料
構造にはフォトクロミック層を有する顔料が添加されて
いる。
構造にはフォトクロミック層を有する顔料が添加されて
いる。
【図９】フォトクロミック層を有する顔料付き構造の塗
料構造である。
料構造である。
１ フォトクロミック材料 ２ 干渉材料 ３、３’ フォトクロミック層 ５ ガラス基板 Ｅg バンドギャップ Ｅc 伝導帯 Ｅf フェルミ準位 Ｓ1 スイッチングしきい値 Ｓ2 スイッチングしきい値 ４ 反応材料 ７ 光ファイバ ８ 送信機 ９ 受信機 ６ 顔料 １１ リン酸塩処理層 １２ 下塗り層 １３ 充填層 １４ カラー層 １５ クリアラック層 １６ 構造
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ１１Ｂ 7/24 ５１６ 8721−5Ｄ Ｇ１１Ｂ 7/24 ５１６ (72)発明者 クレメンス ベヒンガー ドイツ連邦共和国 78464 コンスタンツ ハーデルガツセ 14 (72)発明者 パウル ライデラー ドイツ連邦共和国 78476 アレンスバツ ハ ツム ヴアルツエンベルク (72)発明者 エツケハルト ヴイルト ドイツ連邦共和国 88048 フリードリツ ヒスハーフエン ロートケールヒエンヴエ ーク 23
Claims (20)
- 【請求項１】 フォトクロミック材料および光学的に可
逆なフォトクロミック効果と、可視スペクトル領域外ま
たはその境界領域のフォトクロミック材料のスイッチン
グしきい値とを有する層において、フォトクロミック材
料（１）が干渉材料（２）によって被着され、この結果
層（３、３’）を形成する被着されたフォトクロミック
材料のスイッチングしきい値（Ｓ1 ）が、被着されてい
ないフォトクロミック材料（１）のスイッチングしきい
値（Ｓ2 ）に対してより長い波長の方向に偏移すること
を特徴とする層。 - 【請求項２】 前記フォトクロミック材料（１）が酸化
タングステン（ＷＯ3 ）であることを特徴とする、請求
項１に記載の層構造。 - 【請求項３】 前記フォトクロミック材料（１）がアモ
ルファスであることを特徴とする、請求項１に記載の層
構造。 - 【請求項４】− フォトクロミック材料（１）が干渉材
料（２）とのキャリヤ輸送可能接点を備え、 − 価電子帯（Ｅv ）と、電子伝導帯（Ｅc ）との間の
干渉材料（２）がフォトクロミック材料（１）よりも小
さなバンドギャップ（Ｅg ）を有し、 − 干渉材料（２）のキャリヤが光学的スペクトル領域
内で励起可能であり、 − 干渉材料（２）とフォトクロミック材料（１）との
間のキャリヤ輸送に関する少なくともある種のキャリヤ
について、あるかもしれないポテンシャル障壁を考慮し
て、ゼロよりも大きな量子力学的移行マトリックス成分
が存在し、 − この場合ポテンシャル障壁が、フォトクロミック材
料（１）と干渉材料（２）との間のバンドギャップ差異
の差よりも小さい、ことを特徴とする、請求項１に記載
の層構造。 - 【請求項５】 前記干渉材料（２）がアモルファスであ
ることを特徴とする、請求項４に記載の層構造。 - 【請求項６】 前記フォトクロミック材料（１）が酸化
タングステン（ＷＯ3 ）であり、また干渉材料（２）が
半導体材料であることを特徴とする、請求項４に記載の
層構造。 - 【請求項７】 前記フォトクロミック材料（１）が酸化
タングステン（ＷＯ3 ）であり、また干渉材料（２）が
硫化カドミウム（ＣｄＳ）であることを特徴とする、請
求項４に記載の層構造。 - 【請求項８】 前記フォトクロミック材料（１）と干渉
材料（２）との間に、少なくとも領域毎に、層（３、
３’）の着色度を高める反応材料（４）が配置されるこ
とを特徴とする、請求項４に記載の層構造。 - 【請求項９】 前記反応材料（４）が、水、および／ま
たは極性結合されまた陽子として分離可能な水素付きの
層構造内に留まる不揮発性の物質、および／または多
糖、および／またはポリビニルアルコールであることを
特徴とする、請求項７に記載の層構造。 - 【請求項１０】 前記層（３’）が、フォトクロミック
材料（１）と干渉材料（２）とからなる複数の交互の層
を備えることを特徴とする、請求項４に記載の層構造。 - 【請求項１１】 ある所定の波長からスイッチングしき
い値を生起する光学的に可逆なフォトクロミック材料の
フォトクロミック効果を有する層の製造方法において、
フォトクロミック材料（１）に干渉材料（２）が加えら
れることを特徴とする方法。 - 【請求項１２】 前記干渉材料（２）とフォトクロミッ
ク材料（１）が特にガラス製の基板（５）上に蒸着され
ることを特徴とする、請求項１１に記載の方法。 - 【請求項１３】 前記フォトクロミック材料（１）を干
渉材料（２）上に被着する前にまたは干渉材料（２）を
フォトクロミック材料（１）上に被着する前に、それぞ
れ自由なまた引き続く材料被着のために設けられるそれ
ぞれの材料の表面に、反応材料（４）特に水蒸気を加え
ることを特徴とする、請求項１１に記載の方法。 - 【請求項１４】 情報技術またはコンピュータ技術にお
ける光学式メモリ材料としての請求項１に記載のフォト
クロミック層の利用方法。 - 【請求項１５】 ホログラフィ構造用の感光材料として
の請求項１に記載のフォトクロミック層の利用方法。 - 【請求項１６】 回折格子製造用の材料としての請求項
１に記載のフォトクロミック層の利用方法。 - 【請求項１７】 塗装時の効果塗料としての請求項１に
記載のフォトクロミック層の利用方法。 - 【請求項１８】 塗装対象物特に車両用の効果塗料の顔
料（６）としての破砕状態の、請求項１に記載のフォト
クロミック層の利用方法。 - 【請求項１９】 光波および／または光度に基づき制御
可能な、対象物特に構造の断熱のための請求項１に記載
のフォトクロミック層の利用方法。 - 【請求項２０】 特に車両のガラス板のコーティングと
しての請求項１に記載のフォトクロミック層の利用方
法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19547327A DE19547327C2 (de) | 1995-12-19 | 1995-12-19 | Schichtaufbau mit einem photochromen Material, Verfahren zu dessen Herstellung sowie dessen Verwendung |
| DE19547327.2 | 1995-12-19 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09230390A true JPH09230390A (ja) | 1997-09-05 |
| JP3079135B2 JP3079135B2 (ja) | 2000-08-21 |
Family
ID=7780502
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP08354335A Expired - Fee Related JP3079135B2 (ja) | 1995-12-19 | 1996-12-19 | フォトクロミック材料を有する層、その製造方法および利用方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5976717A (ja) |
| EP (1) | EP0780708A3 (ja) |
| JP (1) | JP3079135B2 (ja) |
| DE (1) | DE19547327C2 (ja) |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19816675A1 (de) | 1998-04-15 | 1999-10-28 | Fraunhofer Ges Forschung | Optisches Bauelement |
| FR2802488B1 (fr) * | 1999-12-20 | 2002-03-08 | Valeo Climatisation | Preconditionnement de l'habitacle d'un vehicule a l'arret |
| US7009750B1 (en) | 2002-10-25 | 2006-03-07 | Eclipse Energy Systems, Inc. | Apparatus and methods for modulating refractive index |
| MX2007007445A (es) | 2004-12-20 | 2007-11-08 | Performance Indicator Llc | Formulaciones y objetos con fotoluminiscencia persistente, de alta densidad, y metodos para crearlos. |
| US7910022B2 (en) | 2006-09-15 | 2011-03-22 | Performance Indicator, Llc | Phosphorescent compositions for identification |
| US7547894B2 (en) | 2006-09-15 | 2009-06-16 | Performance Indicator, L.L.C. | Phosphorescent compositions and methods for identification using the same |
| US7842128B2 (en) | 2007-09-13 | 2010-11-30 | Performance Indicatior LLC | Tissue marking compositions |
| US8039193B2 (en) | 2007-09-13 | 2011-10-18 | Performance Indicator Llc | Tissue markings and methods for reversibly marking tissue employing the same |
| US20090074994A1 (en) * | 2007-09-14 | 2009-03-19 | Mclean Linda L | Kit for Decorating A Car |
| NO342807B1 (en) | 2016-01-21 | 2018-08-06 | Inst Energiteknik | Photochromic device |
| NO20161267A1 (en) | 2016-08-05 | 2018-02-06 | Inst Energiteknik | Photochromic device |
Family Cites Families (23)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3745044A (en) * | 1966-02-07 | 1973-07-10 | Bausch & Lomb | Optical device |
| US4324622A (en) * | 1974-09-26 | 1982-04-13 | American Cyanamid Company | Multilayered electroplatographic element comprising ion conductive and electrochromic layers |
| US4018965A (en) * | 1975-04-14 | 1977-04-19 | Corning Glass Works | Photochromic sheet glass compositions and articles |
| JPS527755A (en) * | 1975-07-08 | 1977-01-21 | Canon Inc | Display element manufacturing process |
| JPS5246814A (en) * | 1975-10-09 | 1977-04-14 | Canon Inc | Photocomposing machine |
| GB1600615A (en) * | 1977-10-28 | 1981-10-21 | Plessey Co Ltd | Photochromic compounds |
| JPS55133020A (en) * | 1979-04-03 | 1980-10-16 | Seiko Epson Corp | Electrochromic display body |
| JPS5852619A (ja) * | 1981-09-24 | 1983-03-28 | Fujitsu Ltd | エレクトロクロミツク表示素子 |
| JPS58105217A (ja) * | 1981-12-18 | 1983-06-23 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 表示装置 |
| JPS58184132A (ja) * | 1982-04-17 | 1983-10-27 | Nippon Kogaku Kk <Nikon> | エレクトロクロミツクデバイスを用いた光学部材 |
| JPS59226591A (ja) * | 1983-06-08 | 1984-12-19 | Sony Corp | カラ−ビデオ信号記録再生装置 |
| JPS59226592A (ja) * | 1983-06-08 | 1984-12-19 | Fujitsu Ltd | 立体表示装置 |
| JPS6042738A (ja) * | 1983-08-18 | 1985-03-07 | Canon Inc | エレクトロクロミツク素子の製造方法 |
| DE3345639A1 (de) * | 1983-12-16 | 1985-07-04 | Optische Werke G. Rodenstock, 8000 München | Optisches element mit phototropem ueberzug |
| JPS62145089A (ja) * | 1985-12-19 | 1987-06-29 | Showa Denko Kk | スピロピペリジンナフトオキサジン化合物 |
| JPS6327819A (ja) * | 1986-07-22 | 1988-02-05 | Nissan Motor Co Ltd | エレクトロクロミツク素子 |
| US5628934A (en) * | 1988-06-01 | 1997-05-13 | Shiseido Co. Ltd. | Photochromic color rendering regulatory composition and cosmetics |
| JPH05246814A (ja) * | 1991-03-29 | 1993-09-24 | Norin Suisansyo Shinrin Sogo Kenkyusho | 樹皮下に生育する害虫の防除法 |
| JPH0642738A (ja) * | 1992-03-06 | 1994-02-18 | Nepon Kk | オイルバーナの風量制御方法 |
| JPH06130546A (ja) * | 1992-10-20 | 1994-05-13 | Mita Ind Co Ltd | 光記録媒体 |
| US5384653A (en) * | 1992-11-06 | 1995-01-24 | Midwest Research Institute | Stand-alone photovoltaic (PV) powered electrochromic window |
| JPH07258581A (ja) * | 1994-03-18 | 1995-10-09 | Nippon Paint Co Ltd | フォトクロミック性光輝顔料及びそれを含むコーティング組成物 |
| US5604626A (en) * | 1995-02-10 | 1997-02-18 | Donnelly Corporation | Photochromic devices |
-
1995
- 1995-12-19 DE DE19547327A patent/DE19547327C2/de not_active Expired - Fee Related
-
1996
- 1996-11-12 EP EP96118087A patent/EP0780708A3/de not_active Withdrawn
- 1996-12-19 US US08/769,743 patent/US5976717A/en not_active Expired - Fee Related
- 1996-12-19 JP JP08354335A patent/JP3079135B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0780708A2 (de) | 1997-06-25 |
| US5976717A (en) | 1999-11-02 |
| DE19547327C2 (de) | 1999-08-26 |
| JP3079135B2 (ja) | 2000-08-21 |
| DE19547327A1 (de) | 1997-07-03 |
| EP0780708A3 (de) | 1998-06-03 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4190321A (en) | Microstructured transmission and reflectance modifying coating | |
| He et al. | Photochromism of molybdenum oxide | |
| US5004673A (en) | Method of manufacturing surface relief patterns of variable cross-sectional geometry | |
| Tubbs | MoO3 layers—optical properties, colour centres, and holographic recording | |
| JPH09230390A (ja) | フォトクロミック材料を有する層、その製造方法および利用方 法 | |
| DE3030434C2 (de) | Laserstrahlaufzeichnungsträger und Verfahren zu dessen Herstellung | |
| Charles | Optimization of Multilayer Soap Crystals for Ultrasoft X‐Ray Diffraction | |
| JPS5817038B2 (ja) | 光学記録用媒体及びその製造方法 | |
| Malyovanik et al. | Laser-induced optical changes in amorphous multilayers | |
| Tubbs et al. | Photographic applications of lead iodide | |
| Nobakht et al. | Deposition of ZnO thin film by plasma sputtering method and study of changes in its physical and morphological properties under gamma irradiation with different doses | |
| JP2001066783A (ja) | 微細パターン形成用材料及びそれを用いた微細パターン形成方法 | |
| Peled et al. | Continuous-wave laser photodeposition of amorphous selenium films | |
| Chomat et al. | Relief holograms in thin films of amorphous As2Se3 under high laser exposures | |
| Bao et al. | UV-light and visible-light photochromism of inorganic–organic multilayer films based on polyoxometalate and poly (acrylamide) | |
| CN113504705A (zh) | 一种湿度可调的水凝胶多彩结构色制备方法 | |
| Indutnyi et al. | Plasmon-enhanced photostimulated diffusion in a thin-layer Ag–GeSe2 structure | |
| EP1614002B1 (en) | Lithium salt of polyacetylene as radiation sensitive filaments and preparation and use thereof | |
| JPH0743527A (ja) | ナノメートル粒子薄膜による発色法 | |
| US7445880B2 (en) | Lithium salt of polyacetylene as radiation sensitive filaments and preparation and use thereof | |
| RU2165637C1 (ru) | Способ изготовления голографических дифракционных решеток | |
| Grytsenko et al. | Photochromic films prepared by vacuum co-deposition of polymer and spiropyrans | |
| JP2000081682A (ja) | 光メモリ素子 | |
| Kleinfeld et al. | Light‐controlled vapor deposition by light‐induced drift | |
| JPS62274063A (ja) | 光照射有機薄膜作成法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |