JPH09159586A - Exhaust gas sampling device - Google Patents
Exhaust gas sampling deviceInfo
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- JPH09159586A JPH09159586A JP34524695A JP34524695A JPH09159586A JP H09159586 A JPH09159586 A JP H09159586A JP 34524695 A JP34524695 A JP 34524695A JP 34524695 A JP34524695 A JP 34524695A JP H09159586 A JPH09159586 A JP H09159586A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】この発明は、ボイラやごみ焼
却炉等の煙道排ガス成分を分析する際に使用される排ガ
スサンプリング装置、特にダストの詰まりが少なく高速
応答可能で低倍率稀釈でも精度の良いサンプリングが可
能な排ガスサンプリング装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an exhaust gas sampling apparatus used when analyzing flue gas components of a boiler, a refuse incinerator, etc., and particularly, it is capable of high-speed response with little dust clogging and high accuracy even at low magnification dilution. The present invention relates to an exhaust gas sampling device capable of good sampling.
【０００２】[0002]
【従来の技術】ボイラやごみ焼却炉から排出される排気
ガスを分析する際には、煙道より試料ガスを採取して一
定比率に稀釈する排ガスサンプリング装置が用いられ
る。通常、煙道中の排ガスは高温状態であり、ダストや
水分を多量に含んでいるので冷却状態になると水分が凝
縮してドレンとなり、これに排ガス成分が溶解して測定
誤差の原因となる。従って、煙道排ガスを採取分析する
際には一定の高温（恒温）（１００°Ｃ〜１３０°Ｃ）
状態に加熱配管して分析する。また、排ガス中に水分が
存在してもエアにより稀釈すればそれだけ水分の影響も
軽減することができる。2. Description of the Related Art When analyzing exhaust gas discharged from a boiler or a refuse incinerator, an exhaust gas sampling device for sampling a sample gas from a flue and diluting the sample gas at a fixed ratio is used. Usually, the exhaust gas in the flue is in a high temperature state and contains a large amount of dust and water. Therefore, in the cooling state, the water is condensed and becomes a drain, and the exhaust gas component is dissolved in this to cause a measurement error. Therefore, when sampling and analyzing flue gas, a high temperature (constant temperature) (100 ° C to 130 ° C)
Heat pipes to the condition and analyze. Further, even if water is present in the exhaust gas, if it is diluted with air, the effect of water can be reduced accordingly.
【０００３】図２は、従来の排ガスサンプリング装置の
構成例である。即ち、ベンチュリ管状に形成したエジェ
クタ２０に音速ノズル２１により加圧稀釈用エアを高速
で噴出させ、同時に該エジェクタ２０の空間２０ａに通
じる管路２２に配置したフィルタ２３及び臨界ノズル
（キャピラリノズル）２４より煙道排ガスから取り入れ
た試料ガスを稀釈し、一定比率に混合稀釈された混合サ
ンプリングガスをプロ−ブ２５により採取して分析計に
導入する。この場合、加圧稀釈用エアの流量をＱ1 と
し、前記臨界ノズル２４を通して採取される煙道排ガス
の流量をＱ2 とすると、稀釈比ρは、ρ＝（Ｑ1 ＋
Ｑ2 ）／Ｑ2 となる。このような排ガスサンプリング装
置によれば、プロ−ブ以後はクリ−ンなガスを分析装
置に供給することができる、稀釈比率の変更（グラス
オリフィスの交換）により分析計の測定レンジを変更せ
ず装置としての測定レンジが可変となる、プロ−ブ先
端からの校正が可能となる、等の利点がある。FIG. 2 is a structural example of a conventional exhaust gas sampling apparatus. That is, pressurized dilution air is jetted at high speed by the sonic nozzle 21 to the ejector 20 formed in a Venturi tube, and at the same time, the filter 23 and the critical nozzle (capillary nozzle) 24 arranged in the pipe line 22 leading to the space 20a of the ejector 20. The sample gas taken in from the flue gas is diluted, and the mixed sampling gas diluted at a fixed ratio is sampled by the probe 25 and introduced into the analyzer. In this case, assuming that the flow rate of the pressurized dilution air is Q 1 and the flow rate of the flue gas discharged through the critical nozzle 24 is Q 2 , the dilution ratio ρ is ρ = (Q 1 +
Q 2 ) / Q 2 . According to such an exhaust gas sampling device, it is possible to supply a clean gas to the analyzer after the probe, without changing the measuring range of the analyzer by changing the dilution ratio (replacement of the glass orifice). There are advantages that the measurement range of the device can be changed, calibration from the tip of the probe is possible, and the like.
【０００４】[0004]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記構
成の排ガスサンプリング装置では、臨界ノズル２４前
のプロ−ブ等の空間により応答遅れが生じる、臨界ノ
ズル２４はキャピラリを使用しているため周囲の温度変
化による影響を受けやすく流量が変わり稀釈比精度が悪
い、臨界ノズルや加圧稀釈用エアの定流量化部品等が
高価であるため高価格である、低倍率稀釈が困難であ
る、等の問題がある。更に、従来の排ガスサンプリン
グ装置では、稀釈比率が高いため高感度の分析計が必要
である、特に、高稀釈比率であると排ガス中の酸素
（Ｏ2 ）濃度や炭酸ガス（ＣＯ2 ）濃度の測定が困難と
なり大気中の酸素や炭酸ガスの濃度変化の影響を受けや
すい、という問題もある。However, in the exhaust gas sampling apparatus having the above structure, a response delay occurs due to a space such as a probe in front of the critical nozzle 24. Since the critical nozzle 24 uses a capillary, the ambient temperature is reduced. It is easily affected by changes, the flow rate changes, the precision of the dilution ratio is poor, it is expensive because of the high cost of critical nozzles and constant flow rate parts for pressurized dilution air, etc. There is. Further, in the conventional exhaust gas sampling device, a highly sensitive analyzer is required because the dilution ratio is high. In particular, when the dilution ratio is high, the oxygen (O 2 ) concentration and the carbon dioxide (CO 2 ) concentration in the exhaust gas are high. There is also a problem that measurement becomes difficult and it is easily affected by changes in the concentration of oxygen and carbon dioxide in the atmosphere.
【０００５】この発明は上記する課題に着目してなされ
たものであり、低倍率稀釈化が可能であり、周囲温度の
変化による影響も少なく、ダスト等による詰まりも生じ
難く且つ高速応答可能な排ガスサンプリング装置を提供
することを目的としている。The present invention has been made by paying attention to the above-mentioned problems, and it is possible to dilute at a low magnification, the influence of changes in ambient temperature is small, the clogging due to dust or the like is hard to occur, and the exhaust gas is capable of high-speed response. The purpose is to provide a sampling device.
【０００６】[0006]
【課題を解決するための手段】即ち、この発明は上記す
る課題を解決するために、排ガスサンプリング装置が、
本体１ａの先端部にサンプルガス導入部１ｂを設け内部
にフィルタ１ｃを充填すると共に該フィルタ１ｃの前部
にプロ−ブチャンバ１１を後部に稀釈チャンバ１２をそ
れぞれ形成した採取点稀釈プロ−ブ１と、先端部（２ａ
1 ）を前記採取点稀釈プロ−ブ１のプロ−ブチャンバ１
１に開口配置し途中に接続した分岐管路の先端部（２ａ
2 ）を稀釈チャンバ１２に開口配置した管路２ａと該管
路２ａに配置される調圧弁２ｂと抵抗管２ｃと電磁弁２
ｄと前記調圧弁２ｂと抵抗管２ｃの間に接続され端部を
前記採取点稀釈プロ−ブのプロ−ブチャンバに開口配置
し且つ途中に電磁弁２ｆを配置したブロ−バックライン
１０とで構成される定流量稀釈エアユニット２と、前記
採取点稀釈プロ−ブ１の稀釈チャンバ１２内に端部を配
置した管路３ａとフィルタ３ｂと吸引用ポンプ３ｃと調
圧弁３ｄと抵抗管３ｅとで構成される定流量サンプリン
グユニット３と、前記定流量稀釈エアユニット２の電磁
弁２ｄとブロ−バックラインの電磁弁２ｆ及び前記定流
量サンプリングユニット３のポンプ３ｃとを制御する制
御装置４と、を具備することを特徴とする。That is, in order to solve the above problems, the present invention provides an exhaust gas sampling device,
A sampling gas dilution probe 1 in which a sample gas introduction portion 1b is provided at the tip of the main body 1a, a filter 1c is filled inside, and a probe chamber 11 is formed at the front portion of the filter 1c and a dilution chamber 12 is formed at the rear portion. , Tip (2a
1 ) is the probe chamber 1 of the above-mentioned sampling point dilution probe 1
1, the end of the branch pipe (2a
2 ) which is opened in the dilution chamber 12 and a pressure regulating valve 2b, a resistance pipe 2c and a solenoid valve 2 which are arranged in the pipe 2a.
d and a blowback line 10 which is connected between the pressure regulating valve 2b and the resistance tube 2c and has an end portion opened in the probe chamber of the sampling point dilution probe and an electromagnetic valve 2f disposed in the middle. A constant flow dilution air unit 2, a pipe line 3a having an end portion arranged in the dilution chamber 12 of the sampling point dilution probe 1, a filter 3b, a suction pump 3c, a pressure regulating valve 3d and a resistance pipe 3e. A constant flow rate sampling unit 3 and a controller 4 for controlling the solenoid valve 2d of the constant flow rate dilution air unit 2, the solenoid valve 2f of the blowback line and the pump 3c of the constant flow rate sampling unit 3; It is characterized by having.
【０００７】[0007]
【発明の実施の形態】以下、この発明の具体的実施例に
ついて図面を参照して説明する。図１はこの発明の排ガ
スサンプリング装置の構成を示す配置図である。この排
ガスサンプリング装置は、採取点稀釈プロ−ブ１と、定
流量稀釈エアユニット２と、定流量サンプリングユニッ
ト３と、稀釈エアの流量や採取された稀釈混合ガスの流
量等のエアや稀釈混合ガス全体の流れを制御する制御装
置（演算処理装置（ＣＰＵ））４と、より構成される。
更に、該排ガスサンプリング装置には、校正用ガスを供
給するスパンガス供給ライン５が設けられている。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, specific embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a layout diagram showing the configuration of an exhaust gas sampling apparatus of the present invention. This exhaust gas sampling device includes a sampling point dilution probe 1, a constant flow rate dilution air unit 2, a constant flow rate sampling unit 3, an air flow rate of diluted air and a flow rate of a diluted dilution gas sampled, and a diluted mixture gas. It comprises a control device (arithmetic processing unit (CPU)) 4 for controlling the overall flow.
Further, the exhaust gas sampling device is provided with a span gas supply line 5 for supplying a calibration gas.
【０００８】前記採取点稀釈プロ−ブ１は、プロ−ブの
本体１ａと、該プロ−ブ本体１ａの先端部に形成され煙
道６の途中に配置されサンプルガスを取り入れるサンプ
ルガス導入部１ｂと、フィルタ１ｃを充填し後部に稀釈
ガス排出部１ｄを設けプロ−ブ本体１ａ内に、前部にプ
ロ−ブチャンバ１１が形成され且つ後部に稀釈チャンバ
１２が形成されるよう配置される枠体１ｅと、で構成さ
れている。即ち、該採取点稀釈プロ−ブ１では、フィル
タ１ｃの前方のプロ−ブチャンバ１１でサンプルガスと
稀釈用エアとが混合され、このサンプルガスと稀釈用エ
アの混合稀釈ガスはフィルタ１ｃ通過後も稀釈チャンバ
１２で更に後述する管路２ａ2 から排出される稀釈エア
で稀釈されることになる。尚、前記フィルタ１ｃとして
は、石英バルクフィルタを用いると、連続使用による詰
まりの発生を防止することができる。The sampling point dilution probe 1 is provided with a main body 1a of the probe and a sample gas introducing portion 1b which is formed at a tip end portion of the probe main body 1a and is disposed in the middle of a flue 6 for taking in sample gas. And a frame body which is filled with a filter 1c and provided with a dilution gas discharge portion 1d at a rear portion thereof so that a probe chamber 11 is formed at a front portion and a dilution chamber 12 is formed at a rear portion in the probe main body 1a. 1e and. That is, in the sampling point dilution probe 1, the sample gas and the dilution air are mixed in the probe chamber 11 in front of the filter 1c, and the mixture gas of the sample gas and the dilution air is passed through the filter 1c. The dilution chamber 12 is further diluted with the dilution air discharged from the conduit 2a 2 described later. If a quartz bulk filter is used as the filter 1c, clogging due to continuous use can be prevented.
【０００９】次に、前記定流量稀釈エアユニット２は、
稀釈用のエアを流す管路２ａに配置される調圧弁２ｂと
エア流量を制限する抵抗管２ｃと該抵抗管２ｃの下流に
配置される電磁弁２ｄと前記調圧弁２ｂと抵抗管２ｃの
間の管路２ａに接続された分岐管路２ｅと、該分岐管路
２ｅに電磁弁２ｆを配置して構成されるブロ−バックラ
イン１０と、で構成される。この場合の稀釈エアは露点
−２０°Ｃ程度（蒸発換算値）のドライエアが使用され
る。前記管路２ａは前方を二つの分岐管路２ａ1 ，２ａ
2 に分け、一方の分岐管路２ａ1 の先端部は前記採取点
稀釈プロ−ブ１のフィルタ１ｃの前方に形成されたプロ
−ブチャンバ１１に開口配置され、他方の分岐管路２ａ
2 の先端部は採取点稀釈プロ−ブ１のフィルタ１ｃの後
方に形成された稀釈チャンバ１２に開口配置されてい
る。また、前記ブロ−バックライン２１の分岐管路２ｅ
の先端部２ｅ1 は前記採取点稀釈プロ−ブ１のフィルタ
１ｃの前方のプロ−ブチャンバ１１に開口配置してあ
る。このブロ−バックライン１０は前記フィルタ１ｃに
ダストが付着した場合に使用するものであって通常は電
磁弁２ｆは閉鎖状態となっている。Next, the constant flow dilution air unit 2 is
Between the pressure regulating valve 2b arranged in the conduit 2a for flowing the dilution air, the resistance pipe 2c for limiting the air flow rate, the solenoid valve 2d arranged downstream of the resistance pipe 2c, the pressure regulating valve 2b and the resistance pipe 2c. The branch pipeline 2e connected to the pipeline 2a and the blowback line 10 configured by arranging the electromagnetic valve 2f in the branch pipeline 2e. In this case, the diluted air is dry air having a dew point of about -20 ° C (evaporation conversion value). The pipe line 2a has two branch pipe lines 2a 1 and 2a at the front.
The tip of one of the branch pipes 2a1 is disposed in the probe chamber 11 formed in front of the filter 1c of the sampling point dilution probe 1, and the other branch pipe 2a1 is divided into two.
The tip of 2 is placed in an opening in a dilution chamber 12 formed behind the filter 1c of the sampling point dilution probe 1. In addition, the branch line 2e of the blowback line 21
The tip portion 2e 1 of the probe is placed in the probe chamber 11 in front of the filter 1c of the sampling point dilution probe 1. The blowback line 10 is used when dust adheres to the filter 1c, and the solenoid valve 2f is normally closed.
【００１０】前記定流量サンプリングユニット３は、前
記採取点稀釈プロ−ブ１のフィルタ１ｃの後方に設けら
れた稀釈ガス排出部１ｄの前に端部を配置した管路３ａ
と、フィルタ（メンブレンフィルタ）３ｂと、混合稀釈
ガスを吸引するためのポンプ３ｃと、混合稀釈ガスを一
定の圧力に調整する調圧弁３ｄと、抵抗管３ｅと、で構
成される。The constant flow rate sampling unit 3 has a conduit 3a having an end portion arranged in front of a dilution gas discharge portion 1d provided behind the filter 1c of the sampling point dilution probe 1.
A filter (membrane filter) 3b, a pump 3c for sucking the mixed diluted gas, a pressure regulating valve 3d for adjusting the mixed diluted gas to a constant pressure, and a resistance pipe 3e.
【００１１】校正用ガスを供給するスパンガス供給ライ
ン５には管路５ａに電磁弁５ｂが配置されているが、該
管路５ａの先端部は、採取点稀釈プロ−ブ１のプロ−ブ
チャンバ１１に開口配置したブロ−バックライン１０の
管路２ｅの先端部２ｅ1 に接合させてある。従って校正
ガスは該管路２ｅの先端部２ｅ1 より排出される。The span gas supply line 5 for supplying the calibration gas is provided with a solenoid valve 5b in a pipe line 5a. The tip of the pipe line 5a has a probe chamber 11 of a sampling point dilution probe 1. It is joined to the tip end portion 2e 1 of the conduit 2e of the blowback line 10 which is arranged in the opening. Therefore, the calibration gas is discharged from the tip 2e 1 of the conduit 2e.
【００１２】前記制御装置４は、前記定流量稀釈エアユ
ニット２の電磁弁２ｄと、ブロ−バックライン１０の分
岐管路２ｅに配置した電磁弁２ｆと、前記定流量サンプ
リングユニット３のポンプ３ｃ及びスパンガスライン５
の電磁弁５ｂとを制御する。The controller 4 includes a solenoid valve 2d of the constant flow dilution air unit 2, a solenoid valve 2f arranged in a branch line 2e of the blowback line 10, a pump 3c of the constant flow sampling unit 3, and a pump 3c. Span gas line 5
Control the solenoid valve 5b.
【００１３】尚、図の破線で示すように、前記定流量稀
釈エアユニット２の調圧弁２ｂと抵抗管２ｃと電磁弁２
ｄ及び定流量サンプリングユニット３のフィルタ３ｂと
ポンプ３ｃと調圧弁３ｄと抵抗管３ｅはケ−ス７内に収
容する。そして、特に、抵抗管２ｃ，３ｅは周囲又は雰
囲気温度による流量変化を押さえるため温調ブロック
８，９内に収納されている。As shown by the broken line in the figure, the pressure regulating valve 2b, the resistance pipe 2c and the solenoid valve 2 of the constant flow rate dilution air unit 2 are shown.
d, the filter 3b of the constant flow rate sampling unit 3, the pump 3c, the pressure regulating valve 3d, and the resistance pipe 3e are housed in the case 7. In particular, the resistance tubes 2c and 3e are housed in the temperature control blocks 8 and 9 in order to suppress the flow rate change due to the ambient or ambient temperature.
【００１４】この発明の排ガスサンプリング装置の構成
は、以上のようであるが、次にサンプルガスの採取と稀
釈混合ガスとして取り出す動作について説明する。 （１）定流量稀釈エアユニット２では、稀釈用エアは、
調圧弁２ｂで圧力を１〜２（ｋｇｆ／ｃｍ2 ）に設定し
抵抗管２ｃで定流量（ｑa ）とする。そして管路２ａの
一方の分岐管路２ａ1 の端部から前記採取点稀釈プロ−
ブ１のプロ−ブチャンバ１１内に稀釈用エアを排出さ
せ、また、他方の分岐管管路２ａ2 の端部からは稀釈チ
ャンバ１２内に稀釈用エアを排出させる。 （２）前記採取点稀釈プロ−ブ１で稀釈混合されたサン
プルガスは定流量サンプリングユニット３のポンプ３ｃ
で吸引される。そしてフィルタ３ｂを通過後調圧弁３ｄ
と抵抗管３ｅにより流量を一定流量（ｑs ）として分析
装置（図示せず）へ送り出す。 （３）定流量稀釈エアユニット２の電磁弁２ｄ，定流量
サンプリングユニット３のポンプ３ｃ等は制御装置４に
より制御される。そして定流量稀釈エアユニット２の調
圧弁２ｂ及び抵抗管２ｃで調整した流量ｑa と、定流量
サンプリングユニット３の調圧弁３ｄ及び抵抗管３ｅで
調整した流量ｑs との比ｑs ／ｑa をηとすると、η＝
１．１〜１．０５、即ち、稀釈比が１０〜２０倍となる
ように調整する。 （４）サンプルガスの長期吸引により採取点稀釈プロ−
ブ１のフィルタ（石英バルクフィルタ）１ｃにはダスト
が付着するが、定期的にブロ−バックライン１０の電磁
弁２ｆを『開』としてエアを吹き付けブロ−バックをか
けてプロ−ブチャンバ１１内に滞留していたダストを煙
道内へ戻す。前記フィルタ１ｃとして使用される石英バ
ルクフィルタはサンプルガス吸引量５０〜１００（ｍｌ
／ｍｉｎ）に対して表面積が極めて大きくダストの付着
に対して圧力損失は生じない。 （５）定流量稀釈エアユニット２及び定流量サンプリン
グユニット３のエア流量及びサンプルガス流量の安定性
と稀釈比は、定期的にスパンガスライン５の管路５ａよ
りスパンガスを導入して分析計指示値によりチェックす
る。The structure of the exhaust gas sampling apparatus of the present invention is as described above. Next, the operation of sampling the sample gas and extracting it as the diluted mixed gas will be described. (1) In the constant flow dilution air unit 2, the dilution air is
The pressure is set to 1 to 2 (kgf / cm 2 ) by the pressure regulating valve 2b and the constant flow rate (q a ) is set by the resistance tube 2c. From the end of one branch line 2a 1 of the line 2a, the sampling point dilution pro-
The diluting air is discharged into the probe chamber 11 of the valve 1, and the diluting air is discharged into the diluting chamber 12 from the end of the other branch pipe line 2a 2 . (2) The sample gas diluted and mixed by the sampling point dilution probe 1 is the pump 3c of the constant flow rate sampling unit 3.
Is sucked in. And after passing through the filter 3b, the pressure regulating valve 3d
And a resistance tube 3e to send a constant flow rate (q s ) to an analyzer (not shown). (3) The solenoid valve 2d of the constant flow dilution air unit 2, the pump 3c of the constant flow sampling unit 3, and the like are controlled by the control device 4. The ratio q s / q a of the flow rate q a adjusted by the pressure regulating valve 2b and the resistance tube 2c of the constant flow rate dilution air unit 2 to the flow rate q s adjusted by the pressure regulating valve 3d and the resistance tube 3e of the constant flow rate sampling unit 3. Is η, η =
1.1 to 1.05, that is, the dilution ratio is adjusted to 10 to 20 times. (4) Sampling point dilution professional by long-term suction of sample gas
Dust adheres to the filter (quartz bulk filter) 1c of the valve 1, but the electromagnetic valve 2f of the blowback line 10 is periodically set to "open" to blow air to blow it back into the probe chamber 11. The accumulated dust is returned to the flue. The quartz bulk filter used as the filter 1c has a sample gas suction amount of 50 to 100 (ml).
/ Min), the surface area is extremely large, and no pressure loss occurs due to the adhesion of dust. (5) The stability and dilution ratio of the air flow rate and the sample gas flow rate of the constant flow rate dilution air unit 2 and the constant flow rate sampling unit 3 are measured by the span gas introduced from the pipe line 5a of the span gas line 5 to the analyzer indicated value. Check by.
【００１５】[0015]
【発明の効果】以上詳述したようにこの発明の排ガスサ
ンプリング装置によれば、低倍率の稀釈比で希釈精度が
高く、サンプルガス圧の変化による影響の少ないガスサ
ンプリングが可能となる。また、周囲温度変化による稀
釈率の影響も少なく安定したガスサンプリングを行うこ
とができる。この排ガスサンプリング装置ではダストの
詰まりによる稀釈比率の変化が少なく、ブロ−バック操
作によりダストを除去することができるので高ダストサ
ンプルにも使用することができる。更に、この発明の排
ガスサンプリング装置では稀釈用のエアをプロ−ブチャ
ンバ内にも分配することで高速応答型の稀釈プロ−ブを
提供することができる。As described above in detail, according to the exhaust gas sampling apparatus of the present invention, it is possible to perform gas sampling with a low dilution ratio, high dilution accuracy, and little influence due to changes in sample gas pressure. In addition, stable gas sampling can be performed with little influence of the dilution rate due to changes in ambient temperature. In this exhaust gas sampling device, there is little change in the dilution ratio due to clogging of dust, and dust can be removed by blowback operation, so it can also be used for high dust samples. Further, in the exhaust gas sampling apparatus of the present invention, the dilution air can be distributed also in the probe chamber to provide a fast response type dilution probe.
【図１】この発明の排ガスサンプリング装置の構成を示
す配置図である。FIG. 1 is a layout diagram showing a configuration of an exhaust gas sampling apparatus of the present invention.
【図２】従来の排ガスサンプリング装置の構成を示す配
置図である。FIG. 2 is a layout diagram showing a configuration of a conventional exhaust gas sampling apparatus.
１ 採取点稀釈プロ−ブ ２ 流量稀釈エ
アユニット １ａ プロ−ブ本体 ２ａ 管路 １ｂ サンプルガス導入部 ２ｂ 調圧弁 １ｃ フィルタ ２ｃ 抵抗管 １ｅ 枠体 ２ｄ 電磁弁 １１ プロ−ブチャンバ ２ｅ 分岐管路 １２ 稀釈チャンバ ２ｆ 電磁弁 ３ 定流量サンプリングユニット ４ 制御装置 ３ａ 管路 ５ スパンガ
ス供給ライン ３ｂ フィルタ ５ａ 管路 ３ｃ ポンプ ５ｂ 電磁弁 ３ｄ 調圧弁 １０ ブロ−バ
ックライン ３ｅ 抵抗管1 Sampling point dilution probe 2 Flow rate dilution air unit 1a Probe main body 2a Pipe line 1b Sample gas introduction part 2b Pressure regulating valve 1c Filter 2c Resistance pipe 1e Frame body 2d Solenoid valve 11 Probe chamber 2e Branch pipe 12 Dilution chamber 2f Solenoid valve 3 Constant flow sampling unit 4 Control device 3a Pipe line 5 Span gas supply line 3b Filter 5a Pipe line 3c Pump 5b Solenoid valve 3d Pressure regulating valve 10 Blow back line 3e Resistance pipe
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 藤原 雅彦 京都府京都市南区吉祥院宮の東町２番地 株式会社堀場製作所内 (72)発明者 清水 直仁 京都府京都市南区吉祥院宮の東町２番地 株式会社堀場製作所内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Masahiko Fujiwara, 2 Higashi-cho, Kichijoin-miya, Minami-ku, Kyoto-shi, Kyoto Prefecture Horiba Manufacturing Co., Ltd. (72) Naoto Shimizu, Higashi-cho, 2 Kichijo-in, Minami-ku, Kyoto, Kyoto HORIBA, Ltd.
Claims (1)
け内部にフィルタを充填すると共に該フィルタの前部に
プロ−ブチャンバを後部に稀釈チャンバをそれぞれ形成
した採取点稀釈プロ−ブと、 先端部を前記採取点稀釈プロ−ブのプロ−ブチャンバに
開口配置し途中に接続した分岐管路の先端部を稀釈チャ
ンバに開口配置した管路と該管路に配置される調圧弁と
抵抗管と電磁弁と前記調圧弁と抵抗管の間に接続され端
部を前記採取点稀釈プロ−ブのプロ−ブチャンバに開口
配置し且つ途中に電磁弁を配置したブロ−バックライン
とで構成される定流量稀釈エアユニットと、 前記採取点稀釈プロ−ブの稀釈チャンバ内に端部を配置
した管路とフィルタと吸引用ポンプと調圧弁と抵抗管と
で構成される定流量サンプリングユニットと、 前記定流量稀釈エアユニットの電磁弁とブロ−バックラ
インの電磁弁及び前記定流量サンプリングユニットのポ
ンプとを制御する制御装置と、 を具備することを特徴とする排ガスサンプリング装置。1. A sampling point dilution probe in which a sample gas inlet is provided at the tip of the main body and a filter is filled inside, and a probe chamber is formed at the front of the filter and a dilution chamber is formed at the rear of the filter, and a tip. And a pressure regulating valve and a resistance pipe arranged in the diluting chamber with the tip end of the branch pipe connected to the sampling chamber diluting probe. A blowback line which is connected between the solenoid valve, the pressure regulating valve and the resistance pipe, and has an end portion which is opened in the probe chamber of the sampling point dilution probe and a solenoid valve is disposed in the middle thereof. A flow rate dilution air unit, a constant flow rate sampling unit including a pipe line having an end disposed in the dilution chamber of the sampling point dilution probe, a filter, a suction pump, a pressure regulating valve, and a resistance pipe, Flow An exhaust gas sampling device, comprising: a control device for controlling a solenoid valve of the dilution air unit, a solenoid valve of a blowback line, and a pump of the constant flow rate sampling unit.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7243559B2 (en) * | 2001-07-10 | 2007-07-17 | Caterpillar Inc. | Exhaust gas particulate measuring system |
| JP2010085412A (en) * | 2008-10-02 | 2010-04-15 | Avl List Gmbh | Device for diluting gas to be analyzed with dilution gas |
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-
1995
- 1995-12-06 JP JP07345246A patent/JP3076748B2/en not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7243559B2 (en) * | 2001-07-10 | 2007-07-17 | Caterpillar Inc. | Exhaust gas particulate measuring system |
| JP2010085412A (en) * | 2008-10-02 | 2010-04-15 | Avl List Gmbh | Device for diluting gas to be analyzed with dilution gas |
| JP2014215117A (en) * | 2013-04-24 | 2014-11-17 | 日本特殊陶業株式会社 | Fine particle measuring apparatus |
| CN105571909A (en) * | 2014-10-28 | 2016-05-11 | 中国科学院大连化学物理研究所 | Exhaled air acquisition pressure-stabilizing flow rate control device and application |
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