JPH09155146A - 悪臭ガスの脱臭方法および装置 - Google Patents
悪臭ガスの脱臭方法および装置Info
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- JPH09155146A JPH09155146A JP7324652A JP32465295A JPH09155146A JP H09155146 A JPH09155146 A JP H09155146A JP 7324652 A JP7324652 A JP 7324652A JP 32465295 A JP32465295 A JP 32465295A JP H09155146 A JPH09155146 A JP H09155146A
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- Japan
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- hydrogen sulfide
- gas
- malodorous gas
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02A—TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE
- Y02A50/00—TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE in human health protection, e.g. against extreme weather
- Y02A50/20—Air quality improvement or preservation, e.g. vehicle emission control or emission reduction by using catalytic converters
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- Disinfection, Sterilisation Or Deodorisation Of Air (AREA)
- Treating Waste Gases (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 従来の生物処理や紫外線処理では除去困難で
あった、硫化水素を主成分とする硫黄化合物を含む悪臭
ガスのメチルメルカプタン、硫化メチル及び二硫化メチ
ルなどを、紫外線照射等に必要なエネルギー消費量の増
加を最小限に抑えながら、高い割合で除去することを可
能にする技術を提供する。 【解決手段】 硫化水素を主成分とする硫黄化合物を含
む悪臭ガスを脱臭する方法において、予め硫化水素を除
去した後、紫外線を照射することを特徴とする悪臭ガス
の処理方法、および前記方法を実施するための装置であ
って、前記悪臭ガスの硫化水素を予め除去するための手
段と、前記手段で硫化水素を除去したガスを紫外線照射
する手段とを有してなることを特徴とする装置。
あった、硫化水素を主成分とする硫黄化合物を含む悪臭
ガスのメチルメルカプタン、硫化メチル及び二硫化メチ
ルなどを、紫外線照射等に必要なエネルギー消費量の増
加を最小限に抑えながら、高い割合で除去することを可
能にする技術を提供する。 【解決手段】 硫化水素を主成分とする硫黄化合物を含
む悪臭ガスを脱臭する方法において、予め硫化水素を除
去した後、紫外線を照射することを特徴とする悪臭ガス
の処理方法、および前記方法を実施するための装置であ
って、前記悪臭ガスの硫化水素を予め除去するための手
段と、前記手段で硫化水素を除去したガスを紫外線照射
する手段とを有してなることを特徴とする装置。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、悪臭物質の脱臭に
係わり、特にし尿処理場、下水処理場及び各種工場等で
発生する、硫化水素を主成分とする硫黄化合物を含む悪
臭ガスを効果的にに脱臭する方法および装置に関するも
のである。
係わり、特にし尿処理場、下水処理場及び各種工場等で
発生する、硫化水素を主成分とする硫黄化合物を含む悪
臭ガスを効果的にに脱臭する方法および装置に関するも
のである。
【０００２】
【従来の技術】生物学的脱臭方法は硫化水素、メチルメ
ルカプタン、硫化メチル及び二硫化メチル等の硫黄化合
物を含む悪臭ガスを、微生物を付着させた担体を充填し
た充填層に通過させて脱臭する方法である。この方法
は、低コストの脱臭技術として広く利用されており、硫
化水素に対して優れた脱臭能力を有している。しかしメ
チルメルカプタン、硫化メチル及び二硫化メチルなどの
物質に対する除去能力は十分でない。そのため、これら
の３物質に対する高い除去率を得るためには装置をより
大きなものとして、装置内における悪臭ガスの滞留時間
を長くする必要があった。従って、一般的な大きさの生
物脱臭装置では、これらの物質は生物処理後に残留し、
後段の活性炭塔の負荷となることがしばしばある。そこ
で出願人らは特公平６−７７６７０号公報、「悪臭ガス
の脱臭方法」において「悪臭ガスを、悪臭成分を分解す
る微生物を付着させた充填層と接触させて、生物学的に
悪臭を脱臭する方法において、該充填層を多段に形成し
て、第１段目の充填層は連続散水とし、少なくとも最終
段の充填層は間欠散水とすることを特徴とする悪臭ガス
の脱臭方法」を開発した。一方、紫外線照射はトイレの
消臭、冷蔵庫の消臭など低濃度の悪臭に対する処理方法
として利用されている。
ルカプタン、硫化メチル及び二硫化メチル等の硫黄化合
物を含む悪臭ガスを、微生物を付着させた担体を充填し
た充填層に通過させて脱臭する方法である。この方法
は、低コストの脱臭技術として広く利用されており、硫
化水素に対して優れた脱臭能力を有している。しかしメ
チルメルカプタン、硫化メチル及び二硫化メチルなどの
物質に対する除去能力は十分でない。そのため、これら
の３物質に対する高い除去率を得るためには装置をより
大きなものとして、装置内における悪臭ガスの滞留時間
を長くする必要があった。従って、一般的な大きさの生
物脱臭装置では、これらの物質は生物処理後に残留し、
後段の活性炭塔の負荷となることがしばしばある。そこ
で出願人らは特公平６−７７６７０号公報、「悪臭ガス
の脱臭方法」において「悪臭ガスを、悪臭成分を分解す
る微生物を付着させた充填層と接触させて、生物学的に
悪臭を脱臭する方法において、該充填層を多段に形成し
て、第１段目の充填層は連続散水とし、少なくとも最終
段の充填層は間欠散水とすることを特徴とする悪臭ガス
の脱臭方法」を開発した。一方、紫外線照射はトイレの
消臭、冷蔵庫の消臭など低濃度の悪臭に対する処理方法
として利用されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】特公平６−７７６７０
号公報の「悪臭ガスの脱臭方法」はメチルメルカプタ
ン、硫化メチル及び二硫化メチルの除去率を改善させる
ことができた。しかし、この方法は散水時及び散水後一
時的に脱臭能力が低下する問題を抱えていた。また、こ
の方法で脱臭しても依然として上記の３物質は残留して
いるため、さらに効率の高い除去方法の開発が望まれて
いる。一方、紫外線照射はし尿処理場及び下水処理場な
どの比較的高濃度の悪臭に対する脱臭方法としてはほと
んど利用されていない。その理由としては、悪臭ガス中
の悪臭成分濃度が高いとき、光源と悪臭ガスが接触する
面の汚染が著しいこと、生物処理などと比較してエネル
ギー消費量が大きく、したがって電気料金が高いことな
どが考えられる。本発明は、従来の生物処理や紫外線処
理では除去困難であった、硫化水素を主成分とする硫黄
化合物を含む悪臭ガスの、メチルメルカプタン、硫化メ
チル及び二硫化メチルなどを、紫外線照射等に必要なエ
ネルギー消費量の増加を最小限に抑えながら、高い割合
で除去することを可能にする技術を提供するものであ
る。
号公報の「悪臭ガスの脱臭方法」はメチルメルカプタ
ン、硫化メチル及び二硫化メチルの除去率を改善させる
ことができた。しかし、この方法は散水時及び散水後一
時的に脱臭能力が低下する問題を抱えていた。また、こ
の方法で脱臭しても依然として上記の３物質は残留して
いるため、さらに効率の高い除去方法の開発が望まれて
いる。一方、紫外線照射はし尿処理場及び下水処理場な
どの比較的高濃度の悪臭に対する脱臭方法としてはほと
んど利用されていない。その理由としては、悪臭ガス中
の悪臭成分濃度が高いとき、光源と悪臭ガスが接触する
面の汚染が著しいこと、生物処理などと比較してエネル
ギー消費量が大きく、したがって電気料金が高いことな
どが考えられる。本発明は、従来の生物処理や紫外線処
理では除去困難であった、硫化水素を主成分とする硫黄
化合物を含む悪臭ガスの、メチルメルカプタン、硫化メ
チル及び二硫化メチルなどを、紫外線照射等に必要なエ
ネルギー消費量の増加を最小限に抑えながら、高い割合
で除去することを可能にする技術を提供するものであ
る。
【０００４】
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めに、本発明では硫化水素を主成分とする硫黄化合物を
含む悪臭ガスを脱臭するにあたり、予め硫化水素を除去
した後、悪臭ガスに波長２００ｎｍ以下の紫外線を照射
することを特徴とする脱臭方法を開発した。以下にこの
発明について詳細に説明する。硫化水素の除去方法とし
ては生物処理が有効である。生物処理は、充填塔内に微
生物を保持できる充填材を設け、該充填材の上部に散水
部を配備すると共に、充填塔下部に受水槽を配備し、該
充填材を湿潤状態に維持し、充填材表面に繁殖した微生
物に悪臭物質を接触させて分解させる脱臭装置を用いる
ことが好ましい。
めに、本発明では硫化水素を主成分とする硫黄化合物を
含む悪臭ガスを脱臭するにあたり、予め硫化水素を除去
した後、悪臭ガスに波長２００ｎｍ以下の紫外線を照射
することを特徴とする脱臭方法を開発した。以下にこの
発明について詳細に説明する。硫化水素の除去方法とし
ては生物処理が有効である。生物処理は、充填塔内に微
生物を保持できる充填材を設け、該充填材の上部に散水
部を配備すると共に、充填塔下部に受水槽を配備し、該
充填材を湿潤状態に維持し、充填材表面に繁殖した微生
物に悪臭物質を接触させて分解させる脱臭装置を用いる
ことが好ましい。
【０００５】上記の脱臭方法において、生物脱臭装置が
多段で、充填塔が複数並列に設けられている場合、紫外
線照射は硫化水素が十分除去されていれば、充填塔の間
に設置することもできる。紫外線の光源は、波長２６０
ｎｍ以下の紫外線を照射できるランプであれば特に制限
されないが、市販の紫外線ランプとしては、例えば紫外
線酸化用ランプＱＧＬ２５−Ｗ−３（岩崎電気株式会社
製）、低圧水銀ランプＧＬ２０ＺＨ（山共電気株式会社
製）などを好ましいものとして挙げることができる。
多段で、充填塔が複数並列に設けられている場合、紫外
線照射は硫化水素が十分除去されていれば、充填塔の間
に設置することもできる。紫外線の光源は、波長２６０
ｎｍ以下の紫外線を照射できるランプであれば特に制限
されないが、市販の紫外線ランプとしては、例えば紫外
線酸化用ランプＱＧＬ２５−Ｗ−３（岩崎電気株式会社
製）、低圧水銀ランプＧＬ２０ＺＨ（山共電気株式会社
製）などを好ましいものとして挙げることができる。
【０００６】照射条件としては例えば、０．２１ｐｐｍ
のメチルメルカプタン、０．１９ｐｐｍの硫化メチル及
び０．０３７ｐｐｍの二硫化メチルを含むガス１リット
ルに対して、上記の紫外線ランプを用いて波長１８５ｎ
ｍの紫外線で０．２ジュール（Ｊ）照射することによっ
て十分効果を期待できる。（ただし、同時に他の波長の
紫外線も照射される。例えば、波長２５４ｎｍである。
従って上記のランプを用いて紫外線照射すると、照射さ
れる紫外線の全エネルギー量は０．２ジュール（Ｊ）よ
りも高い。）発明者らは上記紫外線ランプから照射され
る各波長の紫外線のうち、波長１８５ｎｍの紫外線が上
記３物質（メチルメルカプタン、硫化メチル及び二硫化
メチル）の分解に対して最も大きな役割を果たしている
と推測している。
のメチルメルカプタン、０．１９ｐｐｍの硫化メチル及
び０．０３７ｐｐｍの二硫化メチルを含むガス１リット
ルに対して、上記の紫外線ランプを用いて波長１８５ｎ
ｍの紫外線で０．２ジュール（Ｊ）照射することによっ
て十分効果を期待できる。（ただし、同時に他の波長の
紫外線も照射される。例えば、波長２５４ｎｍである。
従って上記のランプを用いて紫外線照射すると、照射さ
れる紫外線の全エネルギー量は０．２ジュール（Ｊ）よ
りも高い。）発明者らは上記紫外線ランプから照射され
る各波長の紫外線のうち、波長１８５ｎｍの紫外線が上
記３物質（メチルメルカプタン、硫化メチル及び二硫化
メチル）の分解に対して最も大きな役割を果たしている
と推測している。
【０００７】
【発明の実施の形態】次に本発明の方法を実施するため
の装置の１例について、その概略図を示した図１で説明
する。図１の悪臭ガス脱臭装置１は、悪臭ガスの硫化水
素を予め除去するための手段である充填塔２と、充填塔
２で硫化水素を除去したガスを紫外線照射する紫外線照
射部３とを有してなる。充填塔２は、微生物を保持でき
る充填材を設けた充填層４と該充填材を湿潤状態に維持
するために充填層４の上部に配備した散水部５と充填層
４の下部に配備した受水部６とを有してなる。
の装置の１例について、その概略図を示した図１で説明
する。図１の悪臭ガス脱臭装置１は、悪臭ガスの硫化水
素を予め除去するための手段である充填塔２と、充填塔
２で硫化水素を除去したガスを紫外線照射する紫外線照
射部３とを有してなる。充填塔２は、微生物を保持でき
る充填材を設けた充填層４と該充填材を湿潤状態に維持
するために充填層４の上部に配備した散水部５と充填層
４の下部に配備した受水部６とを有してなる。
【０００８】微生物を含む活性汚泥などの種汚泥を充填
塔２の受水部６に添加し、循環ポンプ７で充填層４の上
部に設けた散水部５より、連続的に散水する。同時に、
ガス入口部８より悪臭ガスを導入し、脱臭処理を開始す
る。散水には井水やＳＳが１０ｍｇ／Ｌ以下の生物処理
水を使用できる。このようにして充填層４では生物学的
に分解されやすい硫化水素が除去される。その結果、充
填層４では硫酸イオンが発生し、ｐＨは低下する。ｐＨ
は１から３の範囲内に維持するのが望ましい。ｐＨを１
以下にしないようにするためには補給水９を受水部６に
補給する。補給水９の必要量は硫化水素の負荷量に応じ
て変化する。その結果、硫酸イオンは排水１３と共に排
出される。
塔２の受水部６に添加し、循環ポンプ７で充填層４の上
部に設けた散水部５より、連続的に散水する。同時に、
ガス入口部８より悪臭ガスを導入し、脱臭処理を開始す
る。散水には井水やＳＳが１０ｍｇ／Ｌ以下の生物処理
水を使用できる。このようにして充填層４では生物学的
に分解されやすい硫化水素が除去される。その結果、充
填層４では硫酸イオンが発生し、ｐＨは低下する。ｐＨ
は１から３の範囲内に維持するのが望ましい。ｐＨを１
以下にしないようにするためには補給水９を受水部６に
補給する。補給水９の必要量は硫化水素の負荷量に応じ
て変化する。その結果、硫酸イオンは排水１３と共に排
出される。
【０００９】主な悪臭成分である硫化水素は除去され、
メチルメルカプタン、硫化メチル及び二硫化メチルなど
を含有する悪臭ガスは連結部１０を通って紫外線照射部
３に導入され、紫外線を照射される。紫外線照射部３は
ステンレスなどの紫外線により劣化することがなく、光
を透過しない材料で作成することが好ましい。また、紫
外線照射部３の内部には石英保護管１１等が挿入されお
り、その中に紫外線ランプ１２が設けられている。石英
保護管１１の素材は波長２００ｎｍ以下の紫外線を透過
するものであれば、特に限定されないが、合成石英が特
に好ましい。更に、紫外線照射後に再度生物処理するこ
とにより、紫外線照射後に残留した物質を除去すること
ができる。
メチルメルカプタン、硫化メチル及び二硫化メチルなど
を含有する悪臭ガスは連結部１０を通って紫外線照射部
３に導入され、紫外線を照射される。紫外線照射部３は
ステンレスなどの紫外線により劣化することがなく、光
を透過しない材料で作成することが好ましい。また、紫
外線照射部３の内部には石英保護管１１等が挿入されお
り、その中に紫外線ランプ１２が設けられている。石英
保護管１１の素材は波長２００ｎｍ以下の紫外線を透過
するものであれば、特に限定されないが、合成石英が特
に好ましい。更に、紫外線照射後に再度生物処理するこ
とにより、紫外線照射後に残留した物質を除去すること
ができる。
【００１０】〔作用〕し尿処理場及び下水処理場などで
発生する悪臭ガスは硫化水素、メチルメルカプタン、硫
化メチル及び二硫化メチルなどを含有し、主成分は硫化
水素である。生物処理によってまず硫化水素は除去され
る。特に低ｐＨで処理した場合、硫化水素は選択的に除
去され、メチルメルカプタン、硫化メチル及び二硫化メ
チルはほとんど除去されない。そして、この生物処理後
の悪臭ガスに極く低エネルギーの紫外線を照射すること
によって、メチルメルカプタン、硫化メチル及び二硫化
メチルは除去される。
発生する悪臭ガスは硫化水素、メチルメルカプタン、硫
化メチル及び二硫化メチルなどを含有し、主成分は硫化
水素である。生物処理によってまず硫化水素は除去され
る。特に低ｐＨで処理した場合、硫化水素は選択的に除
去され、メチルメルカプタン、硫化メチル及び二硫化メ
チルはほとんど除去されない。そして、この生物処理後
の悪臭ガスに極く低エネルギーの紫外線を照射すること
によって、メチルメルカプタン、硫化メチル及び二硫化
メチルは除去される。
【００１１】一方、硫化水素を主成分とし、メチルメル
カプタン、硫化メチル及び二硫化メチルなどを含有する
悪臭ガスに紫外線を照射すると、極く低エネルギーの紫
外線照射ではいずれの物質もほとんど除去されない。例
えば、１１ｐｐｍの硫化水素、０．２６ｐｐｍのメチル
メルカプタン、０．２３ｐｐｍの硫化メチル及び０．０
４ｐｐｍの二硫化メチルを含むガス１リットルに対し
て、上記の紫外線ランプを用いて波長１８５ｎｍの紫外
線で０．２ジュール（Ｊ）照射してもいずれの物質共に
ほとんど除去されない。従って、その後生物処理を行な
うと、硫化水素は除去されるが、メチルメルカプタン、
硫化メチル及び二硫化メチルは残留する。
カプタン、硫化メチル及び二硫化メチルなどを含有する
悪臭ガスに紫外線を照射すると、極く低エネルギーの紫
外線照射ではいずれの物質もほとんど除去されない。例
えば、１１ｐｐｍの硫化水素、０．２６ｐｐｍのメチル
メルカプタン、０．２３ｐｐｍの硫化メチル及び０．０
４ｐｐｍの二硫化メチルを含むガス１リットルに対し
て、上記の紫外線ランプを用いて波長１８５ｎｍの紫外
線で０．２ジュール（Ｊ）照射してもいずれの物質共に
ほとんど除去されない。従って、その後生物処理を行な
うと、硫化水素は除去されるが、メチルメルカプタン、
硫化メチル及び二硫化メチルは残留する。
【００１２】
【実施例】以下に実施例を挙げて本発明を説明するが、
本発明はこれに限定されない。以下に示す２条件で実験
を行なった。 実験条件 条件１ 本発明 生物処理−紫外線照射 条件２ 本発明の対照実験 紫外線照射−生物処理 流入ガス濃度は以下の表１の通りである。
本発明はこれに限定されない。以下に示す２条件で実験
を行なった。 実験条件 条件１ 本発明 生物処理−紫外線照射 条件２ 本発明の対照実験 紫外線照射−生物処理 流入ガス濃度は以下の表１の通りである。
【００１３】
【表１】
【００１４】条件１の装置運転条件を以下の表２及び表
３に示す。条件１は悪臭ガスに対して生物処理（低ｐ
Ｈ）し、続いてＵＶ照射する。
３に示す。条件１は悪臭ガスに対して生物処理（低ｐ
Ｈ）し、続いてＵＶ照射する。
【００１５】
【表２】
【００１６】
【表３】
【００１７】条件２の装置運転条件を以下の表４及び表
５に示す。条件１は悪臭ガスに対してＵＶ照射し、続い
て生物処理（低ｐＨ）する。条件１と比較して、順序が
逆転している。
５に示す。条件１は悪臭ガスに対してＵＶ照射し、続い
て生物処理（低ｐＨ）する。条件１と比較して、順序が
逆転している。
【００１８】
【表４】
【００１９】
【表５】
【００２０】各条件による処理結果を表６及び表７に示
した。本発明である条件１はいずれの悪臭物質に対して
も優れた除去能力を示した。
した。本発明である条件１はいずれの悪臭物質に対して
も優れた除去能力を示した。
【００２１】
【表６】
【００２２】
【表７】
【００２３】
【発明の効果】本発明の方法はエネルギー消費量の増加
を最小限に抑えながら、従来の生物処理では除去困難で
あったメチルメルカプタン、硫化メチル及び二硫化メチ
ルなどを高い割合で除去することを可能にする。
を最小限に抑えながら、従来の生物処理では除去困難で
あったメチルメルカプタン、硫化メチル及び二硫化メチ
ルなどを高い割合で除去することを可能にする。
【図１】本発明の装置の１例を示す図である。
１ 悪臭ガス脱臭装置 ２ 充填塔 ３ 紫外線照射部 ４ 充填層 ５ 散水部 ６ 受水部 ７ 循環ポンプ ８ ガス入口部 ９ 補給水 １０ 連結部 １１ 石英保護管 １２ 紫外線ランプ １３ 排水
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成８年３月１１日
【手続補正１】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正内容】
【図１】
Claims (5)
- 【請求項１】 硫化水素を主成分とする硫黄化合物を含
む悪臭ガスを脱臭する方法において、予め硫化水素を除
去した後、紫外線を照射することを特徴とする悪臭ガス
の処理方法。 - 【請求項２】 硫化水素の除去が生物処理によることを
特徴とする請求項１記載の悪臭ガスの処理方法。 - 【請求項３】 生物処理が、充填塔内に微生物を保持で
きる充填材を設け該充填材の上部に散水部を配備すると
共に充填塔下部に受水槽を配備し散水して充填材を湿潤
状態に維持する装置に、前記悪臭ガスを通過させて処理
することを特徴とする請求項２記載の悪臭ガスの処理方
法。 - 【請求項４】 硫化水素を主成分とする硫黄化合物を含
む悪臭ガスを脱臭する装置において、前記悪臭ガスの硫
化水素を予め除去するための手段と、前記手段で硫化水
素を除去したガスを紫外線照射する手段とを有してなる
ことを特徴とする悪臭ガスの脱臭装置。 - 【請求項５】 硫化水素を主成分とする硫黄化合物を含
む悪臭ガスを脱臭する装置において、微生物を保持でき
る充填材を設けた充填層と該充填材を湿潤状態に維持す
るために該充填層の上部に配備した散水部と該充填層の
下部に配備した受水部とを有してなる充填塔、および前
記充填塔で硫化水素を除去した前記悪臭ガスを処理する
ための紫外線照射部を有してなることを特徴とする悪臭
ガスの脱臭装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32465295A JP3476293B2 (ja) | 1995-12-13 | 1995-12-13 | 悪臭ガスの脱臭方法および装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32465295A JP3476293B2 (ja) | 1995-12-13 | 1995-12-13 | 悪臭ガスの脱臭方法および装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09155146A true JPH09155146A (ja) | 1997-06-17 |
| JP3476293B2 JP3476293B2 (ja) | 2003-12-10 |
Family
ID=18168221
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32465295A Expired - Fee Related JP3476293B2 (ja) | 1995-12-13 | 1995-12-13 | 悪臭ガスの脱臭方法および装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3476293B2 (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100395427B1 (ko) * | 2001-01-09 | 2003-08-27 | 신영길 | 탈취기 |
| KR100454424B1 (ko) * | 2001-06-22 | 2004-10-26 | 주식회사제4기한국 | 바이오필터와 마이크로웨이브를 이용한 고효율 유해가스정화장치 및 그 정화방법 |
| JPWO2007023749A1 (ja) * | 2005-08-23 | 2009-02-26 | 神崎衛生施設組合 | 脱臭装置及び脱臭方法 |
| KR100936440B1 (ko) * | 2009-04-23 | 2010-01-12 | 대명엔텍(주) | 바이오필터를 이용한 악취 탈취방법 및 그 탈취기 |
| CN107051049A (zh) * | 2017-05-08 | 2017-08-18 | 盐城市兰丰环境工程科技有限公司 | 一种废气处理装置 |
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| CN109893984A (zh) * | 2017-12-08 | 2019-06-18 | 上海和惠生态环境科技有限公司 | 一种新型用于污泥干化尾气处理的喷淋洗涤*** |
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