JPH09148096A - フロン分解方法 - Google Patents
フロン分解方法Info
- Publication number
- JPH09148096A JPH09148096A JP7308952A JP30895295A JPH09148096A JP H09148096 A JPH09148096 A JP H09148096A JP 7308952 A JP7308952 A JP 7308952A JP 30895295 A JP30895295 A JP 30895295A JP H09148096 A JPH09148096 A JP H09148096A
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- Japan
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- fluorocarbon
- cfcs
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Abstract
(57)【要約】
【課題】ランニングコストが易いとともに、設備費が安
く、且つ装置の小型化を図ることができるフロン分解方
法を提供する。 【解決手段】空気をプラズマガスとして使用するプラズ
マ発生装置２であって、トーチ３の電極３ａ、３ｂ間に
フロンを投入してプラズマの高熱に直接フロンをさらす
ことにより該フロンをプラズマガス中の酸素と反応させ
た後、アルカリ水溶液を通して急冷させながら処理す
る。前記フロンに水を添加し、該水をプラズマの高熱に
より分解されたフロンと反応させる。
く、且つ装置の小型化を図ることができるフロン分解方
法を提供する。 【解決手段】空気をプラズマガスとして使用するプラズ
マ発生装置２であって、トーチ３の電極３ａ、３ｂ間に
フロンを投入してプラズマの高熱に直接フロンをさらす
ことにより該フロンをプラズマガス中の酸素と反応させ
た後、アルカリ水溶液を通して急冷させながら処理す
る。前記フロンに水を添加し、該水をプラズマの高熱に
より分解されたフロンと反応させる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、適宜に回収された
フロンをプラズマ反応法により分解するフロン分解方法
に関する。
フロンをプラズマ反応法により分解するフロン分解方法
に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、フロンをプラズマ反応法により分
解するフロン分解方法としては、特開平３−８９４９９
号公報に見られるように、フロンを含んだ混合ガスをガ
ス供給ノズルを介して管内に導入し、管内で発生させた
プラズマの作用によりフロンを分解する装置が開示され
ている。
解するフロン分解方法としては、特開平３−８９４９９
号公報に見られるように、フロンを含んだ混合ガスをガ
ス供給ノズルを介して管内に導入し、管内で発生させた
プラズマの作用によりフロンを分解する装置が開示され
ている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来のものでは、高い効率でフロンを分解させるために、
アルゴン、水素、酸素などランニングコストの高いガス
が必要なうえに、高周波発生装置など構成が複雑で装置
の大型化を招き、しかも高価になるという問題があっ
た。
来のものでは、高い効率でフロンを分解させるために、
アルゴン、水素、酸素などランニングコストの高いガス
が必要なうえに、高周波発生装置など構成が複雑で装置
の大型化を招き、しかも高価になるという問題があっ
た。
【０００４】本発明は、上記問題点に鑑みなされたもの
で、構成が簡単で安価であり、しかも高い効率でフロン
を分解させることができる方法を提供することを目的と
する。
で、構成が簡単で安価であり、しかも高い効率でフロン
を分解させることができる方法を提供することを目的と
する。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明の請求項１記載の
フロン分解方法は、空気をプラズマガスとして使用する
プラズマ発生装置であって、トーチの電極間にフロンを
投入してプラズマの高熱に直接フロンをさらすことによ
り該フロンをプラズマガス中の酸素と反応させた後、ア
ルカリ水溶液を通して急冷させながら処理する。
フロン分解方法は、空気をプラズマガスとして使用する
プラズマ発生装置であって、トーチの電極間にフロンを
投入してプラズマの高熱に直接フロンをさらすことによ
り該フロンをプラズマガス中の酸素と反応させた後、ア
ルカリ水溶液を通して急冷させながら処理する。
【０００６】本発明の請求項２記載のフロン分解方法
は、フロンに水を添加し、該水をプラズマの高熱により
分解されたフロンと反応させる。
は、フロンに水を添加し、該水をプラズマの高熱により
分解されたフロンと反応させる。
【０００７】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
を参照して説明する。
を参照して説明する。
【０００８】図１は、本発明のフロン分解方法を実施す
る装置の概略構成を示している。
る装置の概略構成を示している。
【０００９】図１において、１は、分解室で、この分解
室１の上部にはプラズマ発生装置２に連設されたプラズ
マトーチ３が設けられている。
室１の上部にはプラズマ発生装置２に連設されたプラズ
マトーチ３が設けられている。
【００１０】前記分解室１の外周には、冷却室４が配設
されており、図示しないポンプにより冷却水が循環可能
に構成され、該冷却水の循環により分解室１の冷却を行
う。
されており、図示しないポンプにより冷却水が循環可能
に構成され、該冷却水の循環により分解室１の冷却を行
う。
【００１１】前記プラズマトーチ３は、負の電極３ａと
正の電極３ｂとを有し、上記負の電極３ａが上部に配置
されるとともに、正の電極３ｂが該負の電極３ａの下方
に所定の間隔を隔てて配設されている。
正の電極３ｂとを有し、上記負の電極３ａが上部に配置
されるとともに、正の電極３ｂが該負の電極３ａの下方
に所定の間隔を隔てて配設されている。
【００１２】これら負の電極３ａ及び正の電極３ｂは、
プラズマ発生装置２に電気的に接続されている。
プラズマ発生装置２に電気的に接続されている。
【００１３】前記プラズマ発生装置２からは、プラズマ
ガスとして空気を使用するために空気供給管５が前記負
の電極３ａの周辺部に接続されている。
ガスとして空気を使用するために空気供給管５が前記負
の電極３ａの周辺部に接続されている。
【００１４】前記プラズマトーチ３には、フロンを収容
したフロンボンベ６が供給管７を介して連通されてい
る。
したフロンボンベ６が供給管７を介して連通されてい
る。
【００１５】前記供給管７は、前記負の電極３ａと正の
電極３ｂとの間に形成された空間部８に連通されてい
る。
電極３ｂとの間に形成された空間部８に連通されてい
る。
【００１６】また、供給管７の途中部には、水タンク９
に連通された水供給管１０が連通されており、水供給管
１０に介装されたポンプ１１によって水タンク９の水を
供給管７に供給する。
に連通された水供給管１０が連通されており、水供給管
１０に介装されたポンプ１１によって水タンク９の水を
供給管７に供給する。
【００１７】前記分解室１内の下端部は、アルカリ水溶
液が貯留された水槽１２内に浸水配置されており、分割
室１でのフロンの分解により生成した生成物を該水槽１
２の底部に導いた後、アルカリ水溶液に通すことで該ア
ルカリ水溶液と反応させるように構成されている。
液が貯留された水槽１２内に浸水配置されており、分割
室１でのフロンの分解により生成した生成物を該水槽１
２の底部に導いた後、アルカリ水溶液に通すことで該ア
ルカリ水溶液と反応させるように構成されている。
【００１８】前記水槽１２の上部には、該アルカリ水溶
液と反応した反応物を排出する排出管１３が接続されて
いる。
液と反応した反応物を排出する排出管１３が接続されて
いる。
【００１９】排出管１３には、必要に応じて他の処理装
置１４が設けられ、その他端が外気に開放されている。
置１４が設けられ、その他端が外気に開放されている。
【００２０】図１に示す符号１５は供給管７に設けられ
た流量調整弁、１６はヒータである。
た流量調整弁、１６はヒータである。
【００２１】次に、このように構成された装置によって
行われる本発明のフロン分解方法について説明する。
行われる本発明のフロン分解方法について説明する。
【００２２】フロンボンベ６から供給管７を介してフロ
ンを空間部８に供給し、プラズマ発生装置２により空気
をプラズマガスとして発生させたプラズマの高熱に該フ
ロンを直接さらすことにより、フロンがプラズマガス中
の酸素と反応する。
ンを空間部８に供給し、プラズマ発生装置２により空気
をプラズマガスとして発生させたプラズマの高熱に該フ
ロンを直接さらすことにより、フロンがプラズマガス中
の酸素と反応する。
【００２３】続いて、上記反応物をフロンとともに供給
管７を介して供給される水と反応させた後、アルカリ水
溶液を通すことで急冷させながら処理する。
管７を介して供給される水と反応させた後、アルカリ水
溶液を通すことで急冷させながら処理する。
【００２４】これによりフロンが処理され、排出管１３
を介して必要に応じて処理装置１４で後の処理を行った
後、排出する。
を介して必要に応じて処理装置１４で後の処理を行った
後、排出する。
【００２５】このように本方法においては、空気をプラ
ズマガスとして使用しており、アルゴンＡｒや水素等の
高価なガスを使用しないのでランニングコストが易く、
また、高周波発生装置も使用しないので設備費が安く、
且つ装置の小型化を図ることができる。
ズマガスとして使用しており、アルゴンＡｒや水素等の
高価なガスを使用しないのでランニングコストが易く、
また、高周波発生装置も使用しないので設備費が安く、
且つ装置の小型化を図ることができる。
【００２６】図２は、フロン分解装置の他の概略構成を
示している。
示している。
【００２７】図２において、２０は分解室で、該分解室
２０の一方の側部にはプラズマトーチ２１が設けられて
いる。プラズマトーチ２１は、プラズマ発生装置２２に
連設されており、該プラズマ発生装置２２によりプラズ
マトーチ２１を介してプラズマを前記分解室２０内に照
射可能に構成されている。
２０の一方の側部にはプラズマトーチ２１が設けられて
いる。プラズマトーチ２１は、プラズマ発生装置２２に
連設されており、該プラズマ発生装置２２によりプラズ
マトーチ２１を介してプラズマを前記分解室２０内に照
射可能に構成されている。
【００２８】前記プラズマトーチ２１と対峙する前記分
解室２０の側部には、フロンを噴射するための噴射ノズ
ル２３が設けられている。この噴射ノズル２３は、圧入
ポンプ２４を介してフロン貯蔵ボンベ２５に連通されて
いる。
解室２０の側部には、フロンを噴射するための噴射ノズ
ル２３が設けられている。この噴射ノズル２３は、圧入
ポンプ２４を介してフロン貯蔵ボンベ２５に連通されて
いる。
【００２９】フロン貯蔵ボンベ２５は、適宜に回収され
たフロンを貯蔵するもので、前記圧入ポンプ２４の作動
によりフロンを所定の圧力で噴射ノズル２３から噴射す
るようになされている。
たフロンを貯蔵するもので、前記圧入ポンプ２４の作動
によりフロンを所定の圧力で噴射ノズル２３から噴射す
るようになされている。
【００３０】前記噴射ノズル２３の基端には圧力保証付
流量調整弁２６が設けられており、この圧力保証付流量
調整弁２６によりフロンが所定の圧力を維持して分解室
２０内に噴射される。
流量調整弁２６が設けられており、この圧力保証付流量
調整弁２６によりフロンが所定の圧力を維持して分解室
２０内に噴射される。
【００３１】これら噴射ノズル２３、圧入ポンプ２４、
フロン貯蔵ボンベ２５、及び圧力保証付流量調整弁２６
により、フロンを所定圧で分解室２０内に噴出するフロ
ン噴出装置Ａを構成している。
フロン貯蔵ボンベ２５、及び圧力保証付流量調整弁２６
により、フロンを所定圧で分解室２０内に噴出するフロ
ン噴出装置Ａを構成している。
【００３２】また、前記分解室２０には、圧入ポンプ２
７を介して酸素ボンベ２８が連通されており、圧入ポン
プ２７の作動により酸素ボンベ２８から酸素を所定の圧
力で分解室２０内に供給するように構成されている。
７を介して酸素ボンベ２８が連通されており、圧入ポン
プ２７の作動により酸素ボンベ２８から酸素を所定の圧
力で分解室２０内に供給するように構成されている。
【００３３】分解室２０の酸素供給部３０には圧力保証
付流量調整弁２９が設けられており、この圧力保証付流
量調整弁２９により酸素が所定の圧力を維持して分解室
２０内に供給される。なお、分解室２０内に供給する気
体は、酸素に限らず、圧縮空気であってもよい。
付流量調整弁２９が設けられており、この圧力保証付流
量調整弁２９により酸素が所定の圧力を維持して分解室
２０内に供給される。なお、分解室２０内に供給する気
体は、酸素に限らず、圧縮空気であってもよい。
【００３４】これら圧入ポンプ２７、酸素ボンベ２８、
圧力保証付流量調整弁２９、及び酸素供給部３０によ
り、酸素を所定圧で分解室１に供給する供給装置Ｂを構
成している。
圧力保証付流量調整弁２９、及び酸素供給部３０によ
り、酸素を所定圧で分解室１に供給する供給装置Ｂを構
成している。
【００３５】さらに、前記分解室２０には、該分解室２
０で分解されたガスや未分解のフロンの混合ガスを排出
する排出部３１が形成され、この排出部３１は圧力保証
付流量調整弁３２を介して分離装置３３に連通されてい
る。
０で分解されたガスや未分解のフロンの混合ガスを排出
する排出部３１が形成され、この排出部３１は圧力保証
付流量調整弁３２を介して分離装置３３に連通されてい
る。
【００３６】分離装置３３は、混合ガスからフロンを液
化分離するもので、装置本体３３ａ内に配設された冷却
パイプ３３ｂに冷却水を通すことで、装置本体３３ａ内
に導入された混合ガスを冷却させ、その温度差を利用し
てフロンを液化分離する。
化分離するもので、装置本体３３ａ内に配設された冷却
パイプ３３ｂに冷却水を通すことで、装置本体３３ａ内
に導入された混合ガスを冷却させ、その温度差を利用し
てフロンを液化分離する。
【００３７】この液化分離されたフロンは加熱装置３４
によって加熱されることで、再びガス化され、前記フロ
ン貯蔵ボンベ２５に戻される。
によって加熱されることで、再びガス化され、前記フロ
ン貯蔵ボンベ２５に戻される。
【００３８】図１において、３５は分離装置に設けられ
たサンプリング採取用もしくは大気放出用のパイプで、
該パイプ３５には開閉バルブ３６が介装されている。ま
た、３７は逆止弁、３８は適所に配置された圧力計であ
る。
たサンプリング採取用もしくは大気放出用のパイプで、
該パイプ３５には開閉バルブ３６が介装されている。ま
た、３７は逆止弁、３８は適所に配置された圧力計であ
る。
【００３９】次に、このように構成されたフロン分解装
置によるフロンの分解について説明する。
置によるフロンの分解について説明する。
【００４０】まず、プラズマ発生装置２２の作動により
該プラズマ発生装置２２で発生させたプラズマをプラズ
マトーチ２１により分解室２０内に照射し、この状態で
フロン貯蔵ボンベ２５から該フロン貯蔵ボンベ２５に回
収貯蔵されたフロンを圧入ポンプ２４により所定圧に加
圧した状態で圧力保証付流量調整弁２６を経て噴射ノズ
ル２３から前記プラズマトーチ２１に向けて噴射する。
該プラズマ発生装置２２で発生させたプラズマをプラズ
マトーチ２１により分解室２０内に照射し、この状態で
フロン貯蔵ボンベ２５から該フロン貯蔵ボンベ２５に回
収貯蔵されたフロンを圧入ポンプ２４により所定圧に加
圧した状態で圧力保証付流量調整弁２６を経て噴射ノズ
ル２３から前記プラズマトーチ２１に向けて噴射する。
【００４１】この際、分解室２０内には、酸素ボンベ２
８から酸素（もしくは空気）が圧入ポンプ２７により所
定圧に加圧された状態で供給されており、この酸素の供
給によりプラズマトーチ２１に向けて噴射されるフロン
が該プラズマトーチ２１から照射されるプラズマによっ
て良好に分解される。このようにフロンをプラズマに直
接噴射することで簡単な構成により、フロンを良好に分
解させることができる。
８から酸素（もしくは空気）が圧入ポンプ２７により所
定圧に加圧された状態で供給されており、この酸素の供
給によりプラズマトーチ２１に向けて噴射されるフロン
が該プラズマトーチ２１から照射されるプラズマによっ
て良好に分解される。このようにフロンをプラズマに直
接噴射することで簡単な構成により、フロンを良好に分
解させることができる。
【００４２】なお、フロン及び酸素の供給圧力、供給流
量は、フロンが良好な状態で分解されるよう圧力計３８
を確認しながら適宜に設定すればよい。
量は、フロンが良好な状態で分解されるよう圧力計３８
を確認しながら適宜に設定すればよい。
【００４３】そして、上述のようにして分解されたガ
ス、及び分解されずに一部残留したフロンは、分解室２
０の排出部３１から分離装置３３に導入される。
ス、及び分解されずに一部残留したフロンは、分解室２
０の排出部３１から分離装置３３に導入される。
【００４４】分離装置３３では冷却水による冷却作用に
よりフロンのみを液化させて他のガスから分離する。
よりフロンのみを液化させて他のガスから分離する。
【００４５】この分離されたフロンは、加熱装置３４に
導入され、加熱装置３４で再びガス化された後、フロン
貯蔵ボンベ２５に戻され、前述と同様な分解を行う。
導入され、加熱装置３４で再びガス化された後、フロン
貯蔵ボンベ２５に戻され、前述と同様な分解を行う。
【００４６】このようにフロンの分解を繰り返した後、
分離装置３３のパイプ３５から該分離装置３３内のガス
について有害性をチェックし、有害性が無ければこのガ
スをパイプ３５から大気に放出する。
分離装置３３のパイプ３５から該分離装置３３内のガス
について有害性をチェックし、有害性が無ければこのガ
スをパイプ３５から大気に放出する。
【００４７】
【発明の効果】以上述べたように、本発明のフロン分解
方法によれば、空気をプラズマガスとして使用してお
り、アルゴンや水素等の高価なガスを使用しないのでラ
ンニングコストが易く、また、高周波発生装置も使用し
ないので設備費が安く、且つ装置の小型化を図ることが
でき、しかもフロンの分解を効率良く行うことができ
る。
方法によれば、空気をプラズマガスとして使用してお
り、アルゴンや水素等の高価なガスを使用しないのでラ
ンニングコストが易く、また、高周波発生装置も使用し
ないので設備費が安く、且つ装置の小型化を図ることが
でき、しかもフロンの分解を効率良く行うことができ
る。
【図１】本発明のフロン分解方法を実施する装置の概略
構成を示す図である。
構成を示す図である。
【図２】フロン分解装置の他の概略構成を示す図であ
る。
る。
１ 分解室 ２ プラズマ発生装置 ３ プラズマトーチ １２ 水槽
Claims (2)
- 【請求項１】 空気をプラズマガスとして使用するプラ
ズマ発生装置であって、トーチの電極間にフロンを投入
してプラズマの高熱に直接フロンをさらすことにより該
フロンをプラズマガス中の酸素と反応させた後、アルカ
リ水溶液を通して急冷させながら処理することを特徴と
するフロン分解方法。 - 【請求項２】 フロンに水を添加し、該水をプラズマの
高熱により分解されたフロンと反応させることを特徴と
する請求項１記載のフロン分解方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7308952A JPH09148096A (ja) | 1995-11-28 | 1995-11-28 | フロン分解方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7308952A JPH09148096A (ja) | 1995-11-28 | 1995-11-28 | フロン分解方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09148096A true JPH09148096A (ja) | 1997-06-06 |
Family
ID=17987231
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7308952A Pending JPH09148096A (ja) | 1995-11-28 | 1995-11-28 | フロン分解方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09148096A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000025557A1 (fr) * | 1998-10-23 | 2000-05-04 | Mitsubishi Heavy Industries, Ltd. | Dispositif de production de plasma au moyen d'hyperfrequences, procede et systeme de decomposition d'un halogenure organique |
| EP1093849A1 (en) * | 1999-04-12 | 2001-04-25 | Mitsubishi Heavy Industries, Ltd. | Method for decomposition-treating organic halogen compound and decomposing device |
| EP1297891A4 (en) * | 2000-05-29 | 2004-07-28 | Youth Engineering Co Ltd | APPARATUS FOR PROCESSING OBJECTS AND PLASMA DEVICE HAVING THIS APPARATUS |
| JP2004268009A (ja) * | 2003-03-06 | 2004-09-30 | Tadamasa Fujimura | プラズマ反応法による含ハロゲン化合物分解の方法及び装置 |
| KR100695036B1 (ko) * | 2006-02-20 | 2007-03-14 | 엄환섭 | 고온 대용량 플라즈마 가스 스크러버 |
-
1995
- 1995-11-28 JP JP7308952A patent/JPH09148096A/ja active Pending
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000025557A1 (fr) * | 1998-10-23 | 2000-05-04 | Mitsubishi Heavy Industries, Ltd. | Dispositif de production de plasma au moyen d'hyperfrequences, procede et systeme de decomposition d'un halogenure organique |
| US6340863B1 (en) | 1998-10-23 | 2002-01-22 | Mitsubishi Heavy Industries, Ltd. | Microwave plasma generator and system for decomposing organic halide |
| US6593507B2 (en) | 1998-10-23 | 2003-07-15 | Mitsubishi Heavy Industries, Ltd. | Method of decomposing organic halide |
| US6600084B2 (en) | 1998-10-23 | 2003-07-29 | Mitsubishi Heay Industries, Ltd. | Method of decomposing organic halide |
| US6635997B2 (en) | 1998-10-23 | 2003-10-21 | Mitsubishi Heavy Industries, Ltd. | Microwave plasma generator, method of decomposing organic halide, and system for decomposing organic halide |
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| EP1093849A4 (en) * | 1999-04-12 | 2003-06-18 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | PROCESS FOR TREATING BY DECOMPOSITION OF AN ORGANIC HALOGEN COMPOUND AND DEVICE FOR DECOMPOSING |
| EP1297891A4 (en) * | 2000-05-29 | 2004-07-28 | Youth Engineering Co Ltd | APPARATUS FOR PROCESSING OBJECTS AND PLASMA DEVICE HAVING THIS APPARATUS |
| US7378062B2 (en) | 2000-05-29 | 2008-05-27 | Three Tec Co., Ltd. | Object processing apparatus and plasma facility comprising the same |
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| KR100695036B1 (ko) * | 2006-02-20 | 2007-03-14 | 엄환섭 | 고온 대용량 플라즈마 가스 스크러버 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20041005 |