JPH09146266A - グラビアエッチング版作成方法及び線画データ作成装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 セル形状を任意に設計でき、しかもセルサイ
ズをセルピッチより大きくすることができる印刷版の作
成方法を提供する。 【解決手段】 砂粒に対応する砂粒画素を電子的に２次
元配置した砂目２次元画像（砂目パターン）を発生さ
せ、各砂粒画素について隣接画素除去を行った後、各砂
粒画素を所定のセル形状に対応するドットパターンに変
換し、該セル形状をドットパターンに展開した線画デー
タをレジスト直描機に出力し、シリンダに被着されてい
るレジスト膜を、上記線画データに基づいて直接露光し
てレジストパターンを作成し、該レジストパターンをマ
スクとしてシリンダをエッチングして、砂目柄の印刷版
を作成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、グラビアエッチン
グ版作成方法及び線画データ作成装置、特に砂目柄印刷
に用いる印刷版を作成するに好適なグラビアエッチング
版作成方法、及び、エッチングマクスとして使用するレ
ジストパターン作成に適用して好適な線画データ作成装
置に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、合板、石膏ボード等の種々の建築
素材の表面を化粧すると共に、表面を保護する建材印刷
物が重要になってきている。このような建材印刷物の柄
には、所定の地色の用紙に多数の砂粒をばらまいたとき
に得られる模様、あるいはそれに類する模様からなる、
通常砂目柄と称されるものが知られている。

【０００３】ところで、砂目柄の印刷を行うについて
は、まず砂目のパターンを作成し、そのパターンに基づ
いて印刷版を作成する必要があるが、その主な方法とし
ては、次の２つが採用されている。

【０００４】その１つは、オフセット・グラビア（Ｏ／
Ｇ）法と呼ばれる方法で、先ず、例えば砂粒を無地の紙
等の上にばらまいて砂目のパターンを作成し、それを写
真撮影して得られたフィルムの画像をスキャナで読み込
んで網点フィルムに出力し、それを印刷版の作成カメラ
で反射型フィルムであるオペークに複写し、そして、こ
のオペークをグラビア彫刻機の入力側である読み取りド
ラムに巻き付けた後、スキャニングして出力側のドラム
に巻き付けてあるシリンダに砂目パターンに対応するセ
ルパターンを彫刻する方法である。

【０００５】他の１つは、最新デジタル技術を用いて砂
目パターンを電子的に発生させるダイレクト法であり、
画像データをデジタル的に彫刻機の制御に用いる彫刻デ
ータに変換し、該彫刻データを直接グラビア彫刻出力部
にわたして彫刻する方法である。ここで行われる画像デ
ータの彫刻データへの変換は、通常彫刻機付属のフロン
トエンドＷＳ（ワークステーション）で行われる。

【０００６】上記いずれの印刷版の作成方法を採用する
場合でも、又、本出願人が特開平５−８８３３２で既に
提案している砂目柄画像データ発生システムを採用し
て、全く癖のない画像データを作成して印刷版を作成す
る場合でも、作成した画像データは２値画像であるにも
拘らず、従来のグラビア印刷版の作成システムでは、印
刷用シリンダに彫刻されるセルには調子がつき（階調が
生じ）、様々な大きさのセルが形成される。

【０００７】その原因としては前記Ｏ／Ｇ法の場合は、
２値画像を光学的に読み取っているため、エッジの部分
で半調（ハーフトーン）になる。この現象は、通常の印
刷物ではアンチエリアシングと呼ばれるエッジ部分を滑
らかにするプラスの効果になる。

【０００８】又、前記ダイレクト法の場合は、画像デー
タから彫刻データに変換する際、双方でレゾ（解像度：
１ｍｍ当りのドット数）が異なるためにレゾ変換が行わ
れているが、そのときの画像処理上の補間処理で半調画
素が発生する。例えば、濃度が０％画素と１００％画素
の間に５０％画素が補間される。

【０００９】又、通常の彫刻機では、彫刻データ上の４
画素を単位（画素ブロック）として１つのセルを彫刻す
るようになっているため、セルが参照する画素のアドレ
スとのタイミングにより半調セルが彫られることがあ
る。

【００１０】これを、彫刻データに１：１に対応する画
像データと彫刻セルとの関係を模式的に示した図１６を
用いて説明すると、画像データは（Ａ）に示すようにド
ラムの円周方向には、各行共（４ｎ＋２）個の画素の列
で構成され、彫刻開始点は左から順に奇数行では最初の
画素からカウントし、偶数行では３画素目（二重線で区
別して示す）からカウントするスキャニングを行ってシ
リンダ上部にセルを彫刻している。なお、ここでは正方
形１個が１画素で、中に記した×印はその画素が黒であ
ることを意味する。

【００１１】従って、左から１行目のデータの場合は、
開始点から４画素が全て黒であるから、図１６（Ｂ）の
ように、網点面積率１００％のセルが彫刻されるが、３
行目の場合は、開始点から１つ目のセルに対応する４画
素からなる画素ブロックには黒が３つで、２つ目の画素
ブロックには黒が１つしかないため、同図（Ｃ）のよう
に、連続した２つの半調セルが彫刻されることが起こ
る。

【００１２】以上のように、前記いずれの印刷版作成方
法を採用する場合でも、一般の印刷物を印刷する場合に
は、エッジがハーフトーンになるため見た目が美しくな
るという効果として現われる。

【００１３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、砂目柄
印刷物を印刷する際に前記のようにハーフトーンが印刷
されるような半調セルが形成された印刷版を用いたので
は、大きな問題があることが明らかになった。特に、印
刷媒体として通常化粧紙と呼ばれている建材印刷用原反
等の光沢の無い厚紙に印刷する場合には、インキが網点
面積率５０％以上のセルであれば問題なく載るが、２５
％以下のセルでは載らない。又、２５〜５０％のセルで
は載ったり載らなかったりして不安定である。その結
果、このような印刷版を用いて上記化粧紙を印刷する
と、原版や印刷版自体にはむらがなくともインキの付着
にむらができ、砂粒がつながった印象を与える筋むら
や、不自然なパターンの繰り返しの印象を与える柄くせ
が発生することが多い。

【００１４】又、トータルの網点面積率が１００％であ
っても、５０％以下のセルの集まりで砂粒を表現する
と、１つのセルで表現する場合に比べて焦点がぼけた感
じやにじんだ感じに見え、デザイン的に砂のざらつき感
が弱く、印刷の見当不良という印象を与える。

【００１５】以上のように、ハーフトーン表現は通常印
刷にはプラス効果があっても、建材印刷等で行う砂目柄
印刷にはマイナスの効果になることが多いことが明らか
になった。

【００１６】そこで、本出願人は、建材印刷用原反のよ
うにインキの載りが悪い媒体に対しても、筋むらや柄く
せが無く、しかもザラツキ感がはっきりしている砂目柄
を確実に印刷できるようにするために、特願平７−７３
３３９で、画像発生手段により任意の砂目画像データを
発生させ、該画像データに基づいて解像度及びスキャン
方向が彫刻制御用の彫刻データと同一である彫刻用画像
データを作成し、該彫刻用画像データを彫刻データに変
換した後、該彫刻データにより彫刻装置を制御して砂目
柄のパターンに対応するセルパターンを彫刻してグラビ
ア印刷版を作成する印刷版の作成方法において、前記彫
刻用画像データでは、砂目柄の単位となる砂粒に対応付
けられている１つのグラビアセルを彫刻する際にアドレ
スとして参照するセル対応画素ブロックを、一定数の連
続した画素で設定し、且つ各セル対応画素ブロックを他
のセル対応画素ブロックに隣接しないようにする技術
を、既に提案している。

【００１７】この技術は、上述した半調セルの発生を防
止し、化粧紙に安定した印刷を可能にすることができる
点で極めて優れているが、グラビア彫刻装置を使用する
場合には、新たに次の問題があることが明らかになっ
た。

【００１８】（１）前記図１６に示したように、セル形
状を菱形にしかできないため、鋭角部分が生じるが、そ
の部分はインキが付着し難いために印刷した砂粒が円形
に近い形状になり易く、その上に、他のセル形状の選択
ができないため、砂目柄の印刷形状が限られてしまう。 （２）例えば、多色刷りで砂目柄を重ね印刷する場合に
は、１つの版のセル数を少なくし、セル１個の寸法であ
るセルサイズを大きくすることにより、印刷される砂粒
を疎らにし、しかも砂目を明瞭にしたいという要望があ
る。ところが、図１７に網点面積率１００％のグラビア
セルＧを拡大して示したように、機構上セルサイズをセ
ルピッチより大きくできないようになっているため、網
点面積率１００％（実際には周囲土手ｇ部分があるた
め、８０％程度）を超える大きさのセルを作成すること
ができない。

【００１９】本発明は、前記問題点を解決するべくなさ
れたもので、セル形状を任意に設計できることから砂目
柄の意匠性を豊かにし、しかも、セルサイズをセルピッ
チより大きくできることから砂目柄を明瞭に印刷するこ
とができる、グラビアエッチング版作成に関する技術を
提供することを課題とする。

【００２０】

【課題を解決するための手段】本発明は、砂粒に対応す
る砂粒画素を電子的に２次元配置した砂目２次元画像を
発生させ、各砂粒画素を所定のセル形状に対応するドッ
トパターンに変換し、該セル形状をドットパターンに展
開した線画データをレジスト直描機に出力し、シリンダ
に被着されているレジスト膜を、上記線画データに基づ
いて直接露光してレジストパターンを作成し、該レジス
トパターンをマスクとしてシリンダをエッチングして、
砂目柄の印刷版を作成することにより、前記課題を解決
したものである。

【００２１】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して、本発明の
実施の形態を詳細に説明する。

【００２２】図１は、本発明に係る第１実施形態の線画
データ作成装置が適用されたグラビアエッチング版作成
装置の概略構成を示すブロック図であり、これは画像処
理装置１０、隣接画素除去装置１２、ドットパターン変
換装置１４、レーザ・レジスト直描装置１６、シリンダ
腐食装置１８を備えている。

【００２３】本実施形態の線画データ作成装置２０は、
上記画像処理装置１０、隣接画素除去装置１２、ドット
パターン変換装置１４を含んで構成されている。画像処
理装置１０は、砂粒に対応する砂粒画素を電子的に２次
元配置した砂目２次元画像を発生させる機能を有する。
隣接画素除去装置１２は、奇数番目のスキャンラインに
対して偶数番目のスキャンラインを１／２画素分ずらし
た２次元モデルを想定し、各砂粒画素の６近傍に砂粒画
素が配置されることを防止する機能を有する。又、上記
ドットパターン変換装置１４は、各砂粒画素を所定のセ
ル形状に対応するドットパターンに変換すると共に、変
換して得られるセル形状をドットパターンに展開した線
画データをレジスト直描機に出力する機能を有してい
る。

【００２４】なお、本実際形態では、上記のように、ド
ットパターン変換装置１４で作成した線画データをレー
ザ・レジスト直描装置１６に出力するが、その際、線画
対応レーザグラビア出力装置を用い、ドットジェネレー
タをバイパスして出力する方法をとっている。

【００２５】本実施形態では、図２に示したフローチャ
ートに従って以下のように処理が実行される。まず、ス
テップＳ１で、画像処理装置１０により砂目パターン画
像を発生させるために、次の（１）〜（５）の画像処理
条件の設定を、Ｘ方向、Ｙ方向それぞれについて行う。 （１）粒子数：ＸＤＯＴ（≦ＸＳＩＺＥ）、ＹＤＯＴ
（≦ＹＳＩＺＥ） （２）変位倍率：ＸＶＩＢ、ＹＶＩＢ （３）画像サイズ：ＸＳＩＺＥ、ＹＳＩＺＥ （４）セルサイズ：ＸＣＥＬＬ、ＹＣＥＬＬ （５）出力画素数：ＸＬＷ、ＹＬＷ

【００２６】上記（１）の粒子数は配置する砂粒の数、
（２）は配置した砂粒画素をランダム変位させる場合の
倍率、（３）の画像サイズはセルを単位とした場合の最
大配置数、（４）のセルサイズはセル１個の寸法、
（５）の出力画素数は対象とする画像を構成する全画素
数をそれぞれ意味する。

【００２７】次いで、ステップＳ２で、砂目パターン
（２次元画像）を発生させる。この砂目２次元画像の発
生は、既に本出願人が、特開平５−８８３３２で提案し
ている技術を適用して電子的に発生させることができ
る。

【００２８】即ち、所定のメモリ空間上に所定個数のポ
イントを等間隔に均等に、且つ単位面積当たりのポイン
ト数が一定になるように割り当て、当該各ポイントのア
ドレスを所定の最大変位量の範囲内でランダムに変位さ
せ、その結果得られた各ポイントのアドレスに所定のパ
ターンを配置することにより作成することができる。

【００２９】上記ランダム変位は、Ｘ方向であれば、そ
の変位量Δｘは前記変位倍率ＸＶＩＢを用いる次式で設
定できる。Ｙ方向についても同様の式でΔｙを設定でき
る。

【００３０】 Δｘ＝ＸＶＩＢ×（ＲＮＤ−０．５）×２．０

【００３１】上の式でΔｘは、正負の整数値をとるよう
に処理される。ＲＮＤは０と１の間の任意の数値で発生
する乱数であり、ＸＶＩＢが１のときは、Δｘは±１に
なる。

【００３２】図３は、上記ステップＳ２で発生させた砂
目パターンの画像データを模式的に示したもので、四角
形１つが１画素に対応し、斜線を付したものが砂粒画素
（黒画素）を表わしている。便宜上、Ｘ方向画像サイズ
（ＸＳＩＺＥ）が５、Ｙ方向画像サイズ（ＹＳＩＺＥ）
が４からなる画像データとして表わしてあり、１つの砂
粒画素が１つのセルに対応している。

【００３３】次いで、ステップＳ３で、隣接画素除去装
置１２により隣接画素の除去を行う。これは、孤立した
砂粒のみからなる砂目パターンを作成するために行う処
理であり、ここでは６近傍画素の除去を行う。そのため
に、次のような２次元モデルを考える。

【００３４】上記５×４からなる画像を構成する各画素
に、Ｘ方向スキャンラインに従って順に１〜２０の番号
を付けた図４において、偶数ラインの画素を右方向に１
／２画素分ずらし、そのときに後端からはみ出した１／
２画素分を前端に配置させ、図５の状態にする。このよ
うにして、奇数番目のスキャンラインに対して１／２画
素分だけ位相をずらした図５に示す２次元モデルを想定
し、このモデルについて周囲６近傍の隣接画素の除去を
行う。

【００３５】即ち、図６に示すように、○印を付けた画
素が砂粒であるとすると、×印を付けたその周囲６近傍
に他の砂粒画素が配置されている場合には、それを除去
する。

【００３６】又、６近傍除去としては、図７に示したよ
うに、更に×印を付けた画素まで禁止範囲を拡張するよ
うにしてもよい。この場合は、○印の砂粒画素に対して
縦方向に並ぶ砂粒画素の発生を４画素離れた位置まで禁
止できるので、筋目の発生が有効に防止できる。

【００３７】上記のように奇数ライン画素を１／２画素
分ずらして６近傍画素を除去するのは、従来のグラビア
彫刻装置により作成されるセルパターンに近似したセル
パターンを有する印刷版を作成し、その版を用いてグラ
ビア印刷した場合に近似した砂目柄の意匠性を実現しよ
うとすることにある。

【００３８】前記図４では、便宜上画像サイズは、ＸＳ
ＩＺＥ＝５、ＹＳＩＺＥ＝４として表わしていたが、Ｘ
ＳＩＺＥはシリンダ１周分に、ＹＳＩＺＥは例えば３０
０ｍｍ幅に相当する。

【００３９】従って、図５の２次元モデルで、周方向の
奇数ラインの終端画素５、１０について６近傍除去を行
う場合は、始端画素１、１１にそれぞれ隣接していると
考える。又、幅方向は、同一の画像データをリピートし
て寸法を拡大することを前提としているので、第４ライ
ンの画素１６〜２０は、第１ラインの画素１〜５にそれ
ぞ隣接していると考えて処理を行う。

【００４０】図８は、上述した図６に示した６近傍画素
除去を行って作成された前記図２に相当する画像データ
である。但し、画像データ自体は、奇数番目のスキャン
ラインを１／２画素分ずらしていないので、斜め方向に
隣接しているように見えるものもあるが、前記図５の２
次元モデルの状態で考えると、隣接していない（離れて
いる）ことが理解される。

【００４１】以上のようにして、隣接画素除去が完了し
た後、ステップＳ４で、ドットパターン変換装置１４に
より上記画像データに含まれる砂粒画素をドットパター
ンに変換する。このドットパターン変換は、前記図８の
１つの砂粒画素について説明すると、図９に拡大して示
すように、１画素を約５０×５０画素（図中１ラインが
約１０画素であるとして表わしてある）からなる線画デ
ータに変換することにあたる。これは、図８の画像デー
タが８画素／ｍｍの解像度で作成されているのに対し、
本実施形態で使用している前記線画対応レーザグラビア
出力装置では、１００ドット（画素）／ｍｍであるた
め、１つの砂粒を表現するのに縦横共約１０倍に拡張し
ていることを意味する。

【００４２】又、この変換の際、Ｘ方向、Ｙ方向の各画
素数を上記５０画素より拡張してセルピッチより縦横共
拡大したセルパターンを作成することもできる。

【００４３】図１０は、この方法で前記図８の画像デー
タのセルサイズを約２０％拡大して変換したドットパタ
ーンを概念的に示したものである。この図では、便宜上
ＸＳＩＺＥ＝５、ＹＳＩＺＥ＝４からなる２０セル分の
マス目として表わしてあるが、Ｘ方向出力画素数ＸＬＷ
は、シリンダ１周分、例えば９３０ｍｍに相当している
とすると、解像度１００ドット／ｍｍでは９３０×１０
０画素になる。同様に、Ｙ方向の出力画素数ＹＬＷは、
例えば３００ｍｍ幅に相当しているとすると、３００×
１００画素になる。

【００４４】上記ドットパターンでは、Ｘ方向のセルピ
ッチがＸＬＷ／ＸＳＩＺＥ、Ｙ方向のセルピッチがＹＬ
Ｗ／ＹＳＩＺＥで与えられるが、通常は端数がでるた
め、その端数を多数のセルに、ＸＬＷ、ＹＬＷの単位で
ある１ドット（１画素）ずつを平均に分担させ、例えば
セルサイズが５０ドットであれば５１ドットにして端数
分を吸収させるようにする。

【００４５】以上のように、セル形状をドットパターン
に展開した線画データを、黒ラン、白ランのランレング
ス形式にデータを圧縮して、ファイルに格納すると共
に、圧縮された線画データをレーザ・レジスト直描装置
１６に出力する。

【００４６】上記のようにセル形状をドットパターンに
展開した線画データを、即ちドットイメージを線画モー
ドで上記直描装置１６に出力することにより、グラビア
シリンダの周囲表面にコーティングされているレジスト
膜を露光し、現像して、前記図１０に対応するセルの形
状と配置からなるレジストパターンを作成することがで
き、その後、このレジストパターンをマスクにして、シ
リンダ腐食装置１８でエッチングすることにより、前記
図１０のセルパターンが形成されたグラビアエッチング
版を作成することができる。

【００４７】以上詳述した如く、本実施形態によれば、
セル形状に対応するドットパターンを線画データに展開
して作成するため、ドットパターンの寸法を、その配置
間隔（セルピッチ）より大きくすることが可能となるた
め、作成される印刷版におけるセルサイズをセルピッチ
より大きくすることが可能となることから、個々の砂粒
のインキ付着性を安定させることができる。

【００４８】又、本実施形態によれば、上記ドットパタ
ーンの形状を矩形（又は正方形）で作成することができ
るため、線画データのデータ量を高圧縮することができ
る。

【００４９】なお、セル形状に対応するドットパターン
は、矩形（正方形）に限らず、任意に作成でき、その
上、セル寸法、セル配置間隔も任意に設定できるため、
印刷される砂目柄の意匠性を豊富にすることができる。

【００５０】次に、本発明に係る第２実施形態について
説明する。本実施形態の線画データ作成装置は、詳述す
るエンドレス継目検版機能が追加されている以外は、前
記第１実施形態の線画データ作成装置２０と実質的に同
一である。

【００５１】図１１は、本実施形態の処理の特徴を示し
たフローチャートである。本実施形態は、前記図２のフ
ローチャートのステップＳ３の隣接画素除去（但し、こ
のステップは行わない場合もある）と、ステップＳ４の
ドットパターン変換の間に、即ち線画データに変換する
前の段階で、エンドレス継目検版工程を追加した場合に
あたる。

【００５２】最近起版している砂目柄は、前述した如
く、（１）半調セルの発生を阻止するためにセルのサイ
ズが均一化され、（２）隣接セルを除去し、セルの集結
を阻止して作成されており、その上（３）セル＝砂粒で
表現しているため、特に多色重ね刷りの場合には、セル
の密度がより低くなる傾向にあることから、調子がフラ
ットな傾向になりつつあり、そのために、エンドレス継
目で段差が発生し易くなっている。

【００５３】この現象を詳細に検討したところ、エンド
レス継目部分で、砂粒画素の数の分布に大きな差がある
ことに起因していることが明らかになった。そこで、そ
の継目部分での画素数をカウントし、継目を中心に砂粒
画素数をモニタ表示したり、プリンタで出力するように
し、その結果から段差が発生する程に大きな画素数の差
が認められた場合には、その修正をプログラム的に行う
ようにした。

【００５４】本実施形態では、このシリンダの円周方向
と幅方向に継目があるため、両方向で問題になる。

【００５５】まず、幅方向について説明する。幅方向の
エンドレス印刷は、エッチング形成されたグラビアシリ
ンダ（印刷版）を用いてシリンダ幅分を順次ずらしなが
ら印刷することにあたる。従って、最初に彫刻したライ
ンと、最後の彫刻ラインとが、隣接することになるた
め、この両者近傍における画素数をカウントすれば、印
刷した場合に段差が生じるかどうかが推定できることに
なる。

【００５６】図１２は、幅方向のエンドレス継目に段差
が認められた画像データについて、最終ライン（Ｅ）の
６００４ラインから５９９０ラインまで、ライン毎に砂
粒セル（画素数）をカウントした結果を左半分に、最初
のライン（Ｓ）の１ライン目から１５ラインまで、同様
にカウントした結果を右半分に示したグラフである。こ
の場合は、最終と最初のライン間でカウント数に大差が
あることが分かる。その後、プログラムを修正して、画
像データを作成し直した後、同様の方法で画素数をカウ
ントしたところ、図１３のように修正することができ
た。この図１３のデータを用いて印刷版を作成したとこ
ろ、幅方向のエンドレス継目に生じていた段差を解消す
ることができた。

【００５７】本実施形態では、上述した幅方向の連続性
に加えて、周方向の連続性をも評価するため、同様の方
法により周方向の第１ライン（Ｓ）と、最終の４４１７
ライン（Ｅ）を中心とした検版を行った。

【００５８】図１５は、周方向のエンドレス継目に絵柄
に段差が認められた画像データの場合の砂粒画素の検数
結果であり、図１６は、プログラム的に砂粒画素のバラ
ンスを修正した後の検数結果である。図１６のように修
正した画像データを用いて印刷版を作成したところ、周
方向にも段差のない砂目柄印刷ができた。

【００５９】以上、本発明について具体的に説明した
が、本発明は、前記実施形態に示したものに限られるも
のでなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能で
ある。

【００６０】例えば、前記実施形態では、隣接画素除去
として６近傍画素除去を説明したが、前記図５のセル配
置のままで、周囲８近傍の画素を除去するようにしても
よい。

【００６１】

【発明の効果】以上説明したとおり、本発明によれば、
セル形状を任意に設計できることから砂目柄の意匠性を
豊かにすることができ、しかもセルサイズをセルピッチ
より大きくすることができるため、砂目柄を明瞭に印刷
することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る第１実施形態に適用する装置構成
の概略を示すブロック図

【図２】第１実施形態の処理手順の概要を示すフローチ
ャート

【図３】砂目パターンの画像データを模式的に示す説明
図

【図４】隣接画素除去方法を説明するための画像データ
を模式的に示す説明図

【図５】６近傍画素除去のための２次元モデルを示す説
明図

【図６】６近傍画素除去の原理を示す説明図

【図７】６近傍画素除去の変形例を示す説明図

【図８】隣接画素除去後の画像データを示す説明図

【図９】１画素のドットパターン変換を概念的に示す説
明図

【図１０】画像データの砂粒画素を変換したドットパタ
ーンを示す説明図

【図１１】本発明に係る第２実施形態の特徴を示すフロ
ーチャート

【図１２】段差がある場合の幅方向エンドレス継目近傍
の画素数を示す線図

【図１３】修正後の幅方向エンドレス継目近傍の画素数
を示す線図

【図１４】段差がある場合の周方向のエンドレス継目近
傍の画素数を示す線図

【図１５】修正後の周方向エンドレス継目近傍の画素数
を示す線図

【図１６】従来の彫刻システムでセルを彫刻した場合の
問題点を示す説明図

【図１７】グラビア彫刻機で彫刻されるセルサイズとセ
ルピッチの関係を示す説明図

【符号の説明】

１０…画像処理装置 １２…隣接画素除去装置 １４…ドットパターン変換装置 １６…レーザ・レジスト直描装置 １８…シリンダ腐食装置 ２０…線画データ作成装置

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】砂粒に対応する砂粒画素を電子的に２次元
   配置した砂目２次元画像を発生させ、各砂粒画素を所定
   のセル形状に対応するドットパターンに変換し、該セル
   形状をドットパターンに展開した線画データをレジスト
   直描機に出力し、シリンダに被着されているレジスト膜
   を、上記線画データに基づいて直接露光してレジストパ
   ターンを作成し、該レジストパターンをマスクとしてシ
   リンダをエッチングして、砂目柄の印刷版を作成するこ
   とを特徴とするグラビアエッチング版作成方法。
2. 【請求項２】請求項１において、 各砂粒画素をドットパターンに変換する前に、奇数番目
   のスキャンラインに対して偶数番目のスキャンラインを
   １／２画素分ずらした２次元モデルを想定し、各砂粒画
   素の６近傍に砂粒画素が配置されることを防止する隣接
   画素除去を行うことを特徴とするグラビアエッチング版
   作成方法。
3. 【請求項３】シリンダをエッチングして砂目柄の印刷版
   を作成する際にマスクとして用いるレジストパターンを
   作成するために、シリンダに被着されているレジスト膜
   を直接露光するレジスト直描機に対して、露光を制御す
   るための線画データを出力する線画データ作成装置であ
   って、 砂粒に対応する砂粒画素を電子的に２次元配置した砂目
   ２次元画像を発生させる手段と、 発生された各砂粒画素を所定のセル形状に対応するドッ
   トパターンに変換すると共に、変換して得られるセル形
   状をドットパターンに展開した線画データをレジスト直
   描機に出力する手段と、 を備えていることを特徴とする線画データ作成装置。
4. 【請求項４】請求項３において、 各砂粒画素をドットパターンに変換する手段の前に、奇
   数番目のスキャンラインに対して偶数番目のスキャンラ
   インを１／２画素分ずらした２次元モデルを想定し、各
   砂粒画素の６近傍に砂粒画素が配置されることを防止す
   る隣接画素除去手段を備えていることを特徴とする線画
   データ作成装置。