JPH09146266A - グラビアエッチング版作成方法及び線画データ作成装置 - Google Patents
グラビアエッチング版作成方法及び線画データ作成装置Info
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- JPH09146266A JPH09146266A JP30437795A JP30437795A JPH09146266A JP H09146266 A JPH09146266 A JP H09146266A JP 30437795 A JP30437795 A JP 30437795A JP 30437795 A JP30437795 A JP 30437795A JP H09146266 A JPH09146266 A JP H09146266A
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- grain
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- Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 セル形状を任意に設計でき、しかもセルサイ
ズをセルピッチより大きくすることができる印刷版の作
成方法を提供する。 【解決手段】 砂粒に対応する砂粒画素を電子的に2次
元配置した砂目2次元画像(砂目パターン)を発生さ
せ、各砂粒画素について隣接画素除去を行った後、各砂
粒画素を所定のセル形状に対応するドットパターンに変
換し、該セル形状をドットパターンに展開した線画デー
タをレジスト直描機に出力し、シリンダに被着されてい
るレジスト膜を、上記線画データに基づいて直接露光し
てレジストパターンを作成し、該レジストパターンをマ
スクとしてシリンダをエッチングして、砂目柄の印刷版
を作成する。
ズをセルピッチより大きくすることができる印刷版の作
成方法を提供する。 【解決手段】 砂粒に対応する砂粒画素を電子的に2次
元配置した砂目2次元画像(砂目パターン)を発生さ
せ、各砂粒画素について隣接画素除去を行った後、各砂
粒画素を所定のセル形状に対応するドットパターンに変
換し、該セル形状をドットパターンに展開した線画デー
タをレジスト直描機に出力し、シリンダに被着されてい
るレジスト膜を、上記線画データに基づいて直接露光し
てレジストパターンを作成し、該レジストパターンをマ
スクとしてシリンダをエッチングして、砂目柄の印刷版
を作成する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、グラビアエッチン
グ版作成方法及び線画データ作成装置、特に砂目柄印刷
に用いる印刷版を作成するに好適なグラビアエッチング
版作成方法、及び、エッチングマクスとして使用するレ
ジストパターン作成に適用して好適な線画データ作成装
置に関する。
グ版作成方法及び線画データ作成装置、特に砂目柄印刷
に用いる印刷版を作成するに好適なグラビアエッチング
版作成方法、及び、エッチングマクスとして使用するレ
ジストパターン作成に適用して好適な線画データ作成装
置に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、合板、石膏ボード等の種々の建築
素材の表面を化粧すると共に、表面を保護する建材印刷
物が重要になってきている。このような建材印刷物の柄
には、所定の地色の用紙に多数の砂粒をばらまいたとき
に得られる模様、あるいはそれに類する模様からなる、
通常砂目柄と称されるものが知られている。
素材の表面を化粧すると共に、表面を保護する建材印刷
物が重要になってきている。このような建材印刷物の柄
には、所定の地色の用紙に多数の砂粒をばらまいたとき
に得られる模様、あるいはそれに類する模様からなる、
通常砂目柄と称されるものが知られている。
【0003】ところで、砂目柄の印刷を行うについて
は、まず砂目のパターンを作成し、そのパターンに基づ
いて印刷版を作成する必要があるが、その主な方法とし
ては、次の2つが採用されている。
は、まず砂目のパターンを作成し、そのパターンに基づ
いて印刷版を作成する必要があるが、その主な方法とし
ては、次の2つが採用されている。
【0004】その1つは、オフセット・グラビア(O/
G)法と呼ばれる方法で、先ず、例えば砂粒を無地の紙
等の上にばらまいて砂目のパターンを作成し、それを写
真撮影して得られたフィルムの画像をスキャナで読み込
んで網点フィルムに出力し、それを印刷版の作成カメラ
で反射型フィルムであるオペークに複写し、そして、こ
のオペークをグラビア彫刻機の入力側である読み取りド
ラムに巻き付けた後、スキャニングして出力側のドラム
に巻き付けてあるシリンダに砂目パターンに対応するセ
ルパターンを彫刻する方法である。
G)法と呼ばれる方法で、先ず、例えば砂粒を無地の紙
等の上にばらまいて砂目のパターンを作成し、それを写
真撮影して得られたフィルムの画像をスキャナで読み込
んで網点フィルムに出力し、それを印刷版の作成カメラ
で反射型フィルムであるオペークに複写し、そして、こ
のオペークをグラビア彫刻機の入力側である読み取りド
ラムに巻き付けた後、スキャニングして出力側のドラム
に巻き付けてあるシリンダに砂目パターンに対応するセ
ルパターンを彫刻する方法である。
【0005】他の1つは、最新デジタル技術を用いて砂
目パターンを電子的に発生させるダイレクト法であり、
画像データをデジタル的に彫刻機の制御に用いる彫刻デ
ータに変換し、該彫刻データを直接グラビア彫刻出力部
にわたして彫刻する方法である。ここで行われる画像デ
ータの彫刻データへの変換は、通常彫刻機付属のフロン
トエンドWS(ワークステーション)で行われる。
目パターンを電子的に発生させるダイレクト法であり、
画像データをデジタル的に彫刻機の制御に用いる彫刻デ
ータに変換し、該彫刻データを直接グラビア彫刻出力部
にわたして彫刻する方法である。ここで行われる画像デ
ータの彫刻データへの変換は、通常彫刻機付属のフロン
トエンドWS(ワークステーション)で行われる。
【0006】上記いずれの印刷版の作成方法を採用する
場合でも、又、本出願人が特開平5−88332で既に
提案している砂目柄画像データ発生システムを採用し
て、全く癖のない画像データを作成して印刷版を作成す
る場合でも、作成した画像データは2値画像であるにも
拘らず、従来のグラビア印刷版の作成システムでは、印
刷用シリンダに彫刻されるセルには調子がつき(階調が
生じ)、様々な大きさのセルが形成される。
場合でも、又、本出願人が特開平5−88332で既に
提案している砂目柄画像データ発生システムを採用し
て、全く癖のない画像データを作成して印刷版を作成す
る場合でも、作成した画像データは2値画像であるにも
拘らず、従来のグラビア印刷版の作成システムでは、印
刷用シリンダに彫刻されるセルには調子がつき(階調が
生じ)、様々な大きさのセルが形成される。
【0007】その原因としては前記O/G法の場合は、
2値画像を光学的に読み取っているため、エッジの部分
で半調(ハーフトーン)になる。この現象は、通常の印
刷物ではアンチエリアシングと呼ばれるエッジ部分を滑
らかにするプラスの効果になる。
2値画像を光学的に読み取っているため、エッジの部分
で半調(ハーフトーン)になる。この現象は、通常の印
刷物ではアンチエリアシングと呼ばれるエッジ部分を滑
らかにするプラスの効果になる。
【0008】又、前記ダイレクト法の場合は、画像デー
タから彫刻データに変換する際、双方でレゾ(解像度:
1mm当りのドット数)が異なるためにレゾ変換が行わ
れているが、そのときの画像処理上の補間処理で半調画
素が発生する。例えば、濃度が0%画素と100%画素
の間に50%画素が補間される。
タから彫刻データに変換する際、双方でレゾ(解像度:
1mm当りのドット数)が異なるためにレゾ変換が行わ
れているが、そのときの画像処理上の補間処理で半調画
素が発生する。例えば、濃度が0%画素と100%画素
の間に50%画素が補間される。
【0009】又、通常の彫刻機では、彫刻データ上の4
画素を単位(画素ブロック)として1つのセルを彫刻す
るようになっているため、セルが参照する画素のアドレ
スとのタイミングにより半調セルが彫られることがあ
る。
画素を単位(画素ブロック)として1つのセルを彫刻す
るようになっているため、セルが参照する画素のアドレ
スとのタイミングにより半調セルが彫られることがあ
る。
【0010】これを、彫刻データに1:1に対応する画
像データと彫刻セルとの関係を模式的に示した図16を
用いて説明すると、画像データは(A)に示すようにド
ラムの円周方向には、各行共(4n+2)個の画素の列
で構成され、彫刻開始点は左から順に奇数行では最初の
画素からカウントし、偶数行では3画素目(二重線で区
別して示す)からカウントするスキャニングを行ってシ
リンダ上部にセルを彫刻している。なお、ここでは正方
形1個が1画素で、中に記した×印はその画素が黒であ
ることを意味する。
像データと彫刻セルとの関係を模式的に示した図16を
用いて説明すると、画像データは(A)に示すようにド
ラムの円周方向には、各行共(4n+2)個の画素の列
で構成され、彫刻開始点は左から順に奇数行では最初の
画素からカウントし、偶数行では3画素目(二重線で区
別して示す)からカウントするスキャニングを行ってシ
リンダ上部にセルを彫刻している。なお、ここでは正方
形1個が1画素で、中に記した×印はその画素が黒であ
ることを意味する。
【0011】従って、左から1行目のデータの場合は、
開始点から4画素が全て黒であるから、図16(B)の
ように、網点面積率100%のセルが彫刻されるが、3
行目の場合は、開始点から1つ目のセルに対応する4画
素からなる画素ブロックには黒が3つで、2つ目の画素
ブロックには黒が1つしかないため、同図(C)のよう
に、連続した2つの半調セルが彫刻されることが起こ
る。
開始点から4画素が全て黒であるから、図16(B)の
ように、網点面積率100%のセルが彫刻されるが、3
行目の場合は、開始点から1つ目のセルに対応する4画
素からなる画素ブロックには黒が3つで、2つ目の画素
ブロックには黒が1つしかないため、同図(C)のよう
に、連続した2つの半調セルが彫刻されることが起こ
る。
【0012】以上のように、前記いずれの印刷版作成方
法を採用する場合でも、一般の印刷物を印刷する場合に
は、エッジがハーフトーンになるため見た目が美しくな
るという効果として現われる。
法を採用する場合でも、一般の印刷物を印刷する場合に
は、エッジがハーフトーンになるため見た目が美しくな
るという効果として現われる。
【0013】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、砂目柄
印刷物を印刷する際に前記のようにハーフトーンが印刷
されるような半調セルが形成された印刷版を用いたので
は、大きな問題があることが明らかになった。特に、印
刷媒体として通常化粧紙と呼ばれている建材印刷用原反
等の光沢の無い厚紙に印刷する場合には、インキが網点
面積率50%以上のセルであれば問題なく載るが、25
%以下のセルでは載らない。又、25〜50%のセルで
は載ったり載らなかったりして不安定である。その結
果、このような印刷版を用いて上記化粧紙を印刷する
と、原版や印刷版自体にはむらがなくともインキの付着
にむらができ、砂粒がつながった印象を与える筋むら
や、不自然なパターンの繰り返しの印象を与える柄くせ
が発生することが多い。
印刷物を印刷する際に前記のようにハーフトーンが印刷
されるような半調セルが形成された印刷版を用いたので
は、大きな問題があることが明らかになった。特に、印
刷媒体として通常化粧紙と呼ばれている建材印刷用原反
等の光沢の無い厚紙に印刷する場合には、インキが網点
面積率50%以上のセルであれば問題なく載るが、25
%以下のセルでは載らない。又、25〜50%のセルで
は載ったり載らなかったりして不安定である。その結
果、このような印刷版を用いて上記化粧紙を印刷する
と、原版や印刷版自体にはむらがなくともインキの付着
にむらができ、砂粒がつながった印象を与える筋むら
や、不自然なパターンの繰り返しの印象を与える柄くせ
が発生することが多い。
【0014】又、トータルの網点面積率が100%であ
っても、50%以下のセルの集まりで砂粒を表現する
と、1つのセルで表現する場合に比べて焦点がぼけた感
じやにじんだ感じに見え、デザイン的に砂のざらつき感
が弱く、印刷の見当不良という印象を与える。
っても、50%以下のセルの集まりで砂粒を表現する
と、1つのセルで表現する場合に比べて焦点がぼけた感
じやにじんだ感じに見え、デザイン的に砂のざらつき感
が弱く、印刷の見当不良という印象を与える。
【0015】以上のように、ハーフトーン表現は通常印
刷にはプラス効果があっても、建材印刷等で行う砂目柄
印刷にはマイナスの効果になることが多いことが明らか
になった。
刷にはプラス効果があっても、建材印刷等で行う砂目柄
印刷にはマイナスの効果になることが多いことが明らか
になった。
【0016】そこで、本出願人は、建材印刷用原反のよ
うにインキの載りが悪い媒体に対しても、筋むらや柄く
せが無く、しかもザラツキ感がはっきりしている砂目柄
を確実に印刷できるようにするために、特願平7−73
339で、画像発生手段により任意の砂目画像データを
発生させ、該画像データに基づいて解像度及びスキャン
方向が彫刻制御用の彫刻データと同一である彫刻用画像
データを作成し、該彫刻用画像データを彫刻データに変
換した後、該彫刻データにより彫刻装置を制御して砂目
柄のパターンに対応するセルパターンを彫刻してグラビ
ア印刷版を作成する印刷版の作成方法において、前記彫
刻用画像データでは、砂目柄の単位となる砂粒に対応付
けられている1つのグラビアセルを彫刻する際にアドレ
スとして参照するセル対応画素ブロックを、一定数の連
続した画素で設定し、且つ各セル対応画素ブロックを他
のセル対応画素ブロックに隣接しないようにする技術
を、既に提案している。
うにインキの載りが悪い媒体に対しても、筋むらや柄く
せが無く、しかもザラツキ感がはっきりしている砂目柄
を確実に印刷できるようにするために、特願平7−73
339で、画像発生手段により任意の砂目画像データを
発生させ、該画像データに基づいて解像度及びスキャン
方向が彫刻制御用の彫刻データと同一である彫刻用画像
データを作成し、該彫刻用画像データを彫刻データに変
換した後、該彫刻データにより彫刻装置を制御して砂目
柄のパターンに対応するセルパターンを彫刻してグラビ
ア印刷版を作成する印刷版の作成方法において、前記彫
刻用画像データでは、砂目柄の単位となる砂粒に対応付
けられている1つのグラビアセルを彫刻する際にアドレ
スとして参照するセル対応画素ブロックを、一定数の連
続した画素で設定し、且つ各セル対応画素ブロックを他
のセル対応画素ブロックに隣接しないようにする技術
を、既に提案している。
【0017】この技術は、上述した半調セルの発生を防
止し、化粧紙に安定した印刷を可能にすることができる
点で極めて優れているが、グラビア彫刻装置を使用する
場合には、新たに次の問題があることが明らかになっ
た。
止し、化粧紙に安定した印刷を可能にすることができる
点で極めて優れているが、グラビア彫刻装置を使用する
場合には、新たに次の問題があることが明らかになっ
た。
【0018】(1)前記図16に示したように、セル形
状を菱形にしかできないため、鋭角部分が生じるが、そ
の部分はインキが付着し難いために印刷した砂粒が円形
に近い形状になり易く、その上に、他のセル形状の選択
ができないため、砂目柄の印刷形状が限られてしまう。 (2)例えば、多色刷りで砂目柄を重ね印刷する場合に
は、1つの版のセル数を少なくし、セル1個の寸法であ
るセルサイズを大きくすることにより、印刷される砂粒
を疎らにし、しかも砂目を明瞭にしたいという要望があ
る。ところが、図17に網点面積率100%のグラビア
セルGを拡大して示したように、機構上セルサイズをセ
ルピッチより大きくできないようになっているため、網
点面積率100%(実際には周囲土手g部分があるた
め、80%程度)を超える大きさのセルを作成すること
ができない。
状を菱形にしかできないため、鋭角部分が生じるが、そ
の部分はインキが付着し難いために印刷した砂粒が円形
に近い形状になり易く、その上に、他のセル形状の選択
ができないため、砂目柄の印刷形状が限られてしまう。 (2)例えば、多色刷りで砂目柄を重ね印刷する場合に
は、1つの版のセル数を少なくし、セル1個の寸法であ
るセルサイズを大きくすることにより、印刷される砂粒
を疎らにし、しかも砂目を明瞭にしたいという要望があ
る。ところが、図17に網点面積率100%のグラビア
セルGを拡大して示したように、機構上セルサイズをセ
ルピッチより大きくできないようになっているため、網
点面積率100%(実際には周囲土手g部分があるた
め、80%程度)を超える大きさのセルを作成すること
ができない。
【0019】本発明は、前記問題点を解決するべくなさ
れたもので、セル形状を任意に設計できることから砂目
柄の意匠性を豊かにし、しかも、セルサイズをセルピッ
チより大きくできることから砂目柄を明瞭に印刷するこ
とができる、グラビアエッチング版作成に関する技術を
提供することを課題とする。
れたもので、セル形状を任意に設計できることから砂目
柄の意匠性を豊かにし、しかも、セルサイズをセルピッ
チより大きくできることから砂目柄を明瞭に印刷するこ
とができる、グラビアエッチング版作成に関する技術を
提供することを課題とする。
【0020】
【課題を解決するための手段】本発明は、砂粒に対応す
る砂粒画素を電子的に2次元配置した砂目2次元画像を
発生させ、各砂粒画素を所定のセル形状に対応するドッ
トパターンに変換し、該セル形状をドットパターンに展
開した線画データをレジスト直描機に出力し、シリンダ
に被着されているレジスト膜を、上記線画データに基づ
いて直接露光してレジストパターンを作成し、該レジス
トパターンをマスクとしてシリンダをエッチングして、
砂目柄の印刷版を作成することにより、前記課題を解決
したものである。
る砂粒画素を電子的に2次元配置した砂目2次元画像を
発生させ、各砂粒画素を所定のセル形状に対応するドッ
トパターンに変換し、該セル形状をドットパターンに展
開した線画データをレジスト直描機に出力し、シリンダ
に被着されているレジスト膜を、上記線画データに基づ
いて直接露光してレジストパターンを作成し、該レジス
トパターンをマスクとしてシリンダをエッチングして、
砂目柄の印刷版を作成することにより、前記課題を解決
したものである。
【0021】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して、本発明の
実施の形態を詳細に説明する。
実施の形態を詳細に説明する。
【0022】図1は、本発明に係る第1実施形態の線画
データ作成装置が適用されたグラビアエッチング版作成
装置の概略構成を示すブロック図であり、これは画像処
理装置10、隣接画素除去装置12、ドットパターン変
換装置14、レーザ・レジスト直描装置16、シリンダ
腐食装置18を備えている。
データ作成装置が適用されたグラビアエッチング版作成
装置の概略構成を示すブロック図であり、これは画像処
理装置10、隣接画素除去装置12、ドットパターン変
換装置14、レーザ・レジスト直描装置16、シリンダ
腐食装置18を備えている。
【0023】本実施形態の線画データ作成装置20は、
上記画像処理装置10、隣接画素除去装置12、ドット
パターン変換装置14を含んで構成されている。画像処
理装置10は、砂粒に対応する砂粒画素を電子的に2次
元配置した砂目2次元画像を発生させる機能を有する。
隣接画素除去装置12は、奇数番目のスキャンラインに
対して偶数番目のスキャンラインを1/2画素分ずらし
た2次元モデルを想定し、各砂粒画素の6近傍に砂粒画
素が配置されることを防止する機能を有する。又、上記
ドットパターン変換装置14は、各砂粒画素を所定のセ
ル形状に対応するドットパターンに変換すると共に、変
換して得られるセル形状をドットパターンに展開した線
画データをレジスト直描機に出力する機能を有してい
る。
上記画像処理装置10、隣接画素除去装置12、ドット
パターン変換装置14を含んで構成されている。画像処
理装置10は、砂粒に対応する砂粒画素を電子的に2次
元配置した砂目2次元画像を発生させる機能を有する。
隣接画素除去装置12は、奇数番目のスキャンラインに
対して偶数番目のスキャンラインを1/2画素分ずらし
た2次元モデルを想定し、各砂粒画素の6近傍に砂粒画
素が配置されることを防止する機能を有する。又、上記
ドットパターン変換装置14は、各砂粒画素を所定のセ
ル形状に対応するドットパターンに変換すると共に、変
換して得られるセル形状をドットパターンに展開した線
画データをレジスト直描機に出力する機能を有してい
る。
【0024】なお、本実際形態では、上記のように、ド
ットパターン変換装置14で作成した線画データをレー
ザ・レジスト直描装置16に出力するが、その際、線画
対応レーザグラビア出力装置を用い、ドットジェネレー
タをバイパスして出力する方法をとっている。
ットパターン変換装置14で作成した線画データをレー
ザ・レジスト直描装置16に出力するが、その際、線画
対応レーザグラビア出力装置を用い、ドットジェネレー
タをバイパスして出力する方法をとっている。
【0025】本実施形態では、図2に示したフローチャ
ートに従って以下のように処理が実行される。まず、ス
テップS1で、画像処理装置10により砂目パターン画
像を発生させるために、次の(1)〜(5)の画像処理
条件の設定を、X方向、Y方向それぞれについて行う。 (1)粒子数:XDOT(≦XSIZE)、YDOT
(≦YSIZE) (2)変位倍率:XVIB、YVIB (3)画像サイズ:XSIZE、YSIZE (4)セルサイズ:XCELL、YCELL (5)出力画素数:XLW、YLW
ートに従って以下のように処理が実行される。まず、ス
テップS1で、画像処理装置10により砂目パターン画
像を発生させるために、次の(1)〜(5)の画像処理
条件の設定を、X方向、Y方向それぞれについて行う。 (1)粒子数:XDOT(≦XSIZE)、YDOT
(≦YSIZE) (2)変位倍率:XVIB、YVIB (3)画像サイズ:XSIZE、YSIZE (4)セルサイズ:XCELL、YCELL (5)出力画素数:XLW、YLW
【0026】上記(1)の粒子数は配置する砂粒の数、
(2)は配置した砂粒画素をランダム変位させる場合の
倍率、(3)の画像サイズはセルを単位とした場合の最
大配置数、(4)のセルサイズはセル1個の寸法、
(5)の出力画素数は対象とする画像を構成する全画素
数をそれぞれ意味する。
(2)は配置した砂粒画素をランダム変位させる場合の
倍率、(3)の画像サイズはセルを単位とした場合の最
大配置数、(4)のセルサイズはセル1個の寸法、
(5)の出力画素数は対象とする画像を構成する全画素
数をそれぞれ意味する。
【0027】次いで、ステップS2で、砂目パターン
(2次元画像)を発生させる。この砂目2次元画像の発
生は、既に本出願人が、特開平5−88332で提案し
ている技術を適用して電子的に発生させることができ
る。
(2次元画像)を発生させる。この砂目2次元画像の発
生は、既に本出願人が、特開平5−88332で提案し
ている技術を適用して電子的に発生させることができ
る。
【0028】即ち、所定のメモリ空間上に所定個数のポ
イントを等間隔に均等に、且つ単位面積当たりのポイン
ト数が一定になるように割り当て、当該各ポイントのア
ドレスを所定の最大変位量の範囲内でランダムに変位さ
せ、その結果得られた各ポイントのアドレスに所定のパ
ターンを配置することにより作成することができる。
イントを等間隔に均等に、且つ単位面積当たりのポイン
ト数が一定になるように割り当て、当該各ポイントのア
ドレスを所定の最大変位量の範囲内でランダムに変位さ
せ、その結果得られた各ポイントのアドレスに所定のパ
ターンを配置することにより作成することができる。
【0029】上記ランダム変位は、X方向であれば、そ
の変位量Δxは前記変位倍率XVIBを用いる次式で設
定できる。Y方向についても同様の式でΔyを設定でき
る。
の変位量Δxは前記変位倍率XVIBを用いる次式で設
定できる。Y方向についても同様の式でΔyを設定でき
る。
【0030】 Δx=XVIB×(RND−0.5)×2.0
【0031】上の式でΔxは、正負の整数値をとるよう
に処理される。RNDは0と1の間の任意の数値で発生
する乱数であり、XVIBが1のときは、Δxは±1に
なる。
に処理される。RNDは0と1の間の任意の数値で発生
する乱数であり、XVIBが1のときは、Δxは±1に
なる。
【0032】図3は、上記ステップS2で発生させた砂
目パターンの画像データを模式的に示したもので、四角
形1つが1画素に対応し、斜線を付したものが砂粒画素
(黒画素)を表わしている。便宜上、X方向画像サイズ
(XSIZE)が5、Y方向画像サイズ(YSIZE)
が4からなる画像データとして表わしてあり、1つの砂
粒画素が1つのセルに対応している。
目パターンの画像データを模式的に示したもので、四角
形1つが1画素に対応し、斜線を付したものが砂粒画素
(黒画素)を表わしている。便宜上、X方向画像サイズ
(XSIZE)が5、Y方向画像サイズ(YSIZE)
が4からなる画像データとして表わしてあり、1つの砂
粒画素が1つのセルに対応している。
【0033】次いで、ステップS3で、隣接画素除去装
置12により隣接画素の除去を行う。これは、孤立した
砂粒のみからなる砂目パターンを作成するために行う処
理であり、ここでは6近傍画素の除去を行う。そのため
に、次のような2次元モデルを考える。
置12により隣接画素の除去を行う。これは、孤立した
砂粒のみからなる砂目パターンを作成するために行う処
理であり、ここでは6近傍画素の除去を行う。そのため
に、次のような2次元モデルを考える。
【0034】上記5×4からなる画像を構成する各画素
に、X方向スキャンラインに従って順に1〜20の番号
を付けた図4において、偶数ラインの画素を右方向に1
/2画素分ずらし、そのときに後端からはみ出した1/
2画素分を前端に配置させ、図5の状態にする。このよ
うにして、奇数番目のスキャンラインに対して1/2画
素分だけ位相をずらした図5に示す2次元モデルを想定
し、このモデルについて周囲6近傍の隣接画素の除去を
行う。
に、X方向スキャンラインに従って順に1〜20の番号
を付けた図4において、偶数ラインの画素を右方向に1
/2画素分ずらし、そのときに後端からはみ出した1/
2画素分を前端に配置させ、図5の状態にする。このよ
うにして、奇数番目のスキャンラインに対して1/2画
素分だけ位相をずらした図5に示す2次元モデルを想定
し、このモデルについて周囲6近傍の隣接画素の除去を
行う。
【0035】即ち、図6に示すように、○印を付けた画
素が砂粒であるとすると、×印を付けたその周囲6近傍
に他の砂粒画素が配置されている場合には、それを除去
する。
素が砂粒であるとすると、×印を付けたその周囲6近傍
に他の砂粒画素が配置されている場合には、それを除去
する。
【0036】又、6近傍除去としては、図7に示したよ
うに、更に×印を付けた画素まで禁止範囲を拡張するよ
うにしてもよい。この場合は、○印の砂粒画素に対して
縦方向に並ぶ砂粒画素の発生を4画素離れた位置まで禁
止できるので、筋目の発生が有効に防止できる。
うに、更に×印を付けた画素まで禁止範囲を拡張するよ
うにしてもよい。この場合は、○印の砂粒画素に対して
縦方向に並ぶ砂粒画素の発生を4画素離れた位置まで禁
止できるので、筋目の発生が有効に防止できる。
【0037】上記のように奇数ライン画素を1/2画素
分ずらして6近傍画素を除去するのは、従来のグラビア
彫刻装置により作成されるセルパターンに近似したセル
パターンを有する印刷版を作成し、その版を用いてグラ
ビア印刷した場合に近似した砂目柄の意匠性を実現しよ
うとすることにある。
分ずらして6近傍画素を除去するのは、従来のグラビア
彫刻装置により作成されるセルパターンに近似したセル
パターンを有する印刷版を作成し、その版を用いてグラ
ビア印刷した場合に近似した砂目柄の意匠性を実現しよ
うとすることにある。
【0038】前記図4では、便宜上画像サイズは、XS
IZE=5、YSIZE=4として表わしていたが、X
SIZEはシリンダ1周分に、YSIZEは例えば30
0mm幅に相当する。
IZE=5、YSIZE=4として表わしていたが、X
SIZEはシリンダ1周分に、YSIZEは例えば30
0mm幅に相当する。
【0039】従って、図5の2次元モデルで、周方向の
奇数ラインの終端画素5、10について6近傍除去を行
う場合は、始端画素1、11にそれぞれ隣接していると
考える。又、幅方向は、同一の画像データをリピートし
て寸法を拡大することを前提としているので、第4ライ
ンの画素16〜20は、第1ラインの画素1〜5にそれ
ぞ隣接していると考えて処理を行う。
奇数ラインの終端画素5、10について6近傍除去を行
う場合は、始端画素1、11にそれぞれ隣接していると
考える。又、幅方向は、同一の画像データをリピートし
て寸法を拡大することを前提としているので、第4ライ
ンの画素16〜20は、第1ラインの画素1〜5にそれ
ぞ隣接していると考えて処理を行う。
【0040】図8は、上述した図6に示した6近傍画素
除去を行って作成された前記図2に相当する画像データ
である。但し、画像データ自体は、奇数番目のスキャン
ラインを1/2画素分ずらしていないので、斜め方向に
隣接しているように見えるものもあるが、前記図5の2
次元モデルの状態で考えると、隣接していない(離れて
いる)ことが理解される。
除去を行って作成された前記図2に相当する画像データ
である。但し、画像データ自体は、奇数番目のスキャン
ラインを1/2画素分ずらしていないので、斜め方向に
隣接しているように見えるものもあるが、前記図5の2
次元モデルの状態で考えると、隣接していない(離れて
いる)ことが理解される。
【0041】以上のようにして、隣接画素除去が完了し
た後、ステップS4で、ドットパターン変換装置14に
より上記画像データに含まれる砂粒画素をドットパター
ンに変換する。このドットパターン変換は、前記図8の
1つの砂粒画素について説明すると、図9に拡大して示
すように、1画素を約50×50画素(図中1ラインが
約10画素であるとして表わしてある)からなる線画デ
ータに変換することにあたる。これは、図8の画像デー
タが8画素/mmの解像度で作成されているのに対し、
本実施形態で使用している前記線画対応レーザグラビア
出力装置では、100ドット(画素)/mmであるた
め、1つの砂粒を表現するのに縦横共約10倍に拡張し
ていることを意味する。
た後、ステップS4で、ドットパターン変換装置14に
より上記画像データに含まれる砂粒画素をドットパター
ンに変換する。このドットパターン変換は、前記図8の
1つの砂粒画素について説明すると、図9に拡大して示
すように、1画素を約50×50画素(図中1ラインが
約10画素であるとして表わしてある)からなる線画デ
ータに変換することにあたる。これは、図8の画像デー
タが8画素/mmの解像度で作成されているのに対し、
本実施形態で使用している前記線画対応レーザグラビア
出力装置では、100ドット(画素)/mmであるた
め、1つの砂粒を表現するのに縦横共約10倍に拡張し
ていることを意味する。
【0042】又、この変換の際、X方向、Y方向の各画
素数を上記50画素より拡張してセルピッチより縦横共
拡大したセルパターンを作成することもできる。
素数を上記50画素より拡張してセルピッチより縦横共
拡大したセルパターンを作成することもできる。
【0043】図10は、この方法で前記図8の画像デー
タのセルサイズを約20%拡大して変換したドットパタ
ーンを概念的に示したものである。この図では、便宜上
XSIZE=5、YSIZE=4からなる20セル分の
マス目として表わしてあるが、X方向出力画素数XLW
は、シリンダ1周分、例えば930mmに相当している
とすると、解像度100ドット/mmでは930×10
0画素になる。同様に、Y方向の出力画素数YLWは、
例えば300mm幅に相当しているとすると、300×
100画素になる。
タのセルサイズを約20%拡大して変換したドットパタ
ーンを概念的に示したものである。この図では、便宜上
XSIZE=5、YSIZE=4からなる20セル分の
マス目として表わしてあるが、X方向出力画素数XLW
は、シリンダ1周分、例えば930mmに相当している
とすると、解像度100ドット/mmでは930×10
0画素になる。同様に、Y方向の出力画素数YLWは、
例えば300mm幅に相当しているとすると、300×
100画素になる。
【0044】上記ドットパターンでは、X方向のセルピ
ッチがXLW/XSIZE、Y方向のセルピッチがYL
W/YSIZEで与えられるが、通常は端数がでるた
め、その端数を多数のセルに、XLW、YLWの単位で
ある1ドット(1画素)ずつを平均に分担させ、例えば
セルサイズが50ドットであれば51ドットにして端数
分を吸収させるようにする。
ッチがXLW/XSIZE、Y方向のセルピッチがYL
W/YSIZEで与えられるが、通常は端数がでるた
め、その端数を多数のセルに、XLW、YLWの単位で
ある1ドット(1画素)ずつを平均に分担させ、例えば
セルサイズが50ドットであれば51ドットにして端数
分を吸収させるようにする。
【0045】以上のように、セル形状をドットパターン
に展開した線画データを、黒ラン、白ランのランレング
ス形式にデータを圧縮して、ファイルに格納すると共
に、圧縮された線画データをレーザ・レジスト直描装置
16に出力する。
に展開した線画データを、黒ラン、白ランのランレング
ス形式にデータを圧縮して、ファイルに格納すると共
に、圧縮された線画データをレーザ・レジスト直描装置
16に出力する。
【0046】上記のようにセル形状をドットパターンに
展開した線画データを、即ちドットイメージを線画モー
ドで上記直描装置16に出力することにより、グラビア
シリンダの周囲表面にコーティングされているレジスト
膜を露光し、現像して、前記図10に対応するセルの形
状と配置からなるレジストパターンを作成することがで
き、その後、このレジストパターンをマスクにして、シ
リンダ腐食装置18でエッチングすることにより、前記
図10のセルパターンが形成されたグラビアエッチング
版を作成することができる。
展開した線画データを、即ちドットイメージを線画モー
ドで上記直描装置16に出力することにより、グラビア
シリンダの周囲表面にコーティングされているレジスト
膜を露光し、現像して、前記図10に対応するセルの形
状と配置からなるレジストパターンを作成することがで
き、その後、このレジストパターンをマスクにして、シ
リンダ腐食装置18でエッチングすることにより、前記
図10のセルパターンが形成されたグラビアエッチング
版を作成することができる。
【0047】以上詳述した如く、本実施形態によれば、
セル形状に対応するドットパターンを線画データに展開
して作成するため、ドットパターンの寸法を、その配置
間隔(セルピッチ)より大きくすることが可能となるた
め、作成される印刷版におけるセルサイズをセルピッチ
より大きくすることが可能となることから、個々の砂粒
のインキ付着性を安定させることができる。
セル形状に対応するドットパターンを線画データに展開
して作成するため、ドットパターンの寸法を、その配置
間隔(セルピッチ)より大きくすることが可能となるた
め、作成される印刷版におけるセルサイズをセルピッチ
より大きくすることが可能となることから、個々の砂粒
のインキ付着性を安定させることができる。
【0048】又、本実施形態によれば、上記ドットパタ
ーンの形状を矩形(又は正方形)で作成することができ
るため、線画データのデータ量を高圧縮することができ
る。
ーンの形状を矩形(又は正方形)で作成することができ
るため、線画データのデータ量を高圧縮することができ
る。
【0049】なお、セル形状に対応するドットパターン
は、矩形(正方形)に限らず、任意に作成でき、その
上、セル寸法、セル配置間隔も任意に設定できるため、
印刷される砂目柄の意匠性を豊富にすることができる。
は、矩形(正方形)に限らず、任意に作成でき、その
上、セル寸法、セル配置間隔も任意に設定できるため、
印刷される砂目柄の意匠性を豊富にすることができる。
【0050】次に、本発明に係る第2実施形態について
説明する。本実施形態の線画データ作成装置は、詳述す
るエンドレス継目検版機能が追加されている以外は、前
記第1実施形態の線画データ作成装置20と実質的に同
一である。
説明する。本実施形態の線画データ作成装置は、詳述す
るエンドレス継目検版機能が追加されている以外は、前
記第1実施形態の線画データ作成装置20と実質的に同
一である。
【0051】図11は、本実施形態の処理の特徴を示し
たフローチャートである。本実施形態は、前記図2のフ
ローチャートのステップS3の隣接画素除去(但し、こ
のステップは行わない場合もある)と、ステップS4の
ドットパターン変換の間に、即ち線画データに変換する
前の段階で、エンドレス継目検版工程を追加した場合に
あたる。
たフローチャートである。本実施形態は、前記図2のフ
ローチャートのステップS3の隣接画素除去(但し、こ
のステップは行わない場合もある)と、ステップS4の
ドットパターン変換の間に、即ち線画データに変換する
前の段階で、エンドレス継目検版工程を追加した場合に
あたる。
【0052】最近起版している砂目柄は、前述した如
く、(1)半調セルの発生を阻止するためにセルのサイ
ズが均一化され、(2)隣接セルを除去し、セルの集結
を阻止して作成されており、その上(3)セル=砂粒で
表現しているため、特に多色重ね刷りの場合には、セル
の密度がより低くなる傾向にあることから、調子がフラ
ットな傾向になりつつあり、そのために、エンドレス継
目で段差が発生し易くなっている。
く、(1)半調セルの発生を阻止するためにセルのサイ
ズが均一化され、(2)隣接セルを除去し、セルの集結
を阻止して作成されており、その上(3)セル=砂粒で
表現しているため、特に多色重ね刷りの場合には、セル
の密度がより低くなる傾向にあることから、調子がフラ
ットな傾向になりつつあり、そのために、エンドレス継
目で段差が発生し易くなっている。
【0053】この現象を詳細に検討したところ、エンド
レス継目部分で、砂粒画素の数の分布に大きな差がある
ことに起因していることが明らかになった。そこで、そ
の継目部分での画素数をカウントし、継目を中心に砂粒
画素数をモニタ表示したり、プリンタで出力するように
し、その結果から段差が発生する程に大きな画素数の差
が認められた場合には、その修正をプログラム的に行う
ようにした。
レス継目部分で、砂粒画素の数の分布に大きな差がある
ことに起因していることが明らかになった。そこで、そ
の継目部分での画素数をカウントし、継目を中心に砂粒
画素数をモニタ表示したり、プリンタで出力するように
し、その結果から段差が発生する程に大きな画素数の差
が認められた場合には、その修正をプログラム的に行う
ようにした。
【0054】本実施形態では、このシリンダの円周方向
と幅方向に継目があるため、両方向で問題になる。
と幅方向に継目があるため、両方向で問題になる。
【0055】まず、幅方向について説明する。幅方向の
エンドレス印刷は、エッチング形成されたグラビアシリ
ンダ(印刷版)を用いてシリンダ幅分を順次ずらしなが
ら印刷することにあたる。従って、最初に彫刻したライ
ンと、最後の彫刻ラインとが、隣接することになるた
め、この両者近傍における画素数をカウントすれば、印
刷した場合に段差が生じるかどうかが推定できることに
なる。
エンドレス印刷は、エッチング形成されたグラビアシリ
ンダ(印刷版)を用いてシリンダ幅分を順次ずらしなが
ら印刷することにあたる。従って、最初に彫刻したライ
ンと、最後の彫刻ラインとが、隣接することになるた
め、この両者近傍における画素数をカウントすれば、印
刷した場合に段差が生じるかどうかが推定できることに
なる。
【0056】図12は、幅方向のエンドレス継目に段差
が認められた画像データについて、最終ライン(E)の
6004ラインから5990ラインまで、ライン毎に砂
粒セル(画素数)をカウントした結果を左半分に、最初
のライン(S)の1ライン目から15ラインまで、同様
にカウントした結果を右半分に示したグラフである。こ
の場合は、最終と最初のライン間でカウント数に大差が
あることが分かる。その後、プログラムを修正して、画
像データを作成し直した後、同様の方法で画素数をカウ
ントしたところ、図13のように修正することができ
た。この図13のデータを用いて印刷版を作成したとこ
ろ、幅方向のエンドレス継目に生じていた段差を解消す
ることができた。
が認められた画像データについて、最終ライン(E)の
6004ラインから5990ラインまで、ライン毎に砂
粒セル(画素数)をカウントした結果を左半分に、最初
のライン(S)の1ライン目から15ラインまで、同様
にカウントした結果を右半分に示したグラフである。こ
の場合は、最終と最初のライン間でカウント数に大差が
あることが分かる。その後、プログラムを修正して、画
像データを作成し直した後、同様の方法で画素数をカウ
ントしたところ、図13のように修正することができ
た。この図13のデータを用いて印刷版を作成したとこ
ろ、幅方向のエンドレス継目に生じていた段差を解消す
ることができた。
【0057】本実施形態では、上述した幅方向の連続性
に加えて、周方向の連続性をも評価するため、同様の方
法により周方向の第1ライン(S)と、最終の4417
ライン(E)を中心とした検版を行った。
に加えて、周方向の連続性をも評価するため、同様の方
法により周方向の第1ライン(S)と、最終の4417
ライン(E)を中心とした検版を行った。
【0058】図15は、周方向のエンドレス継目に絵柄
に段差が認められた画像データの場合の砂粒画素の検数
結果であり、図16は、プログラム的に砂粒画素のバラ
ンスを修正した後の検数結果である。図16のように修
正した画像データを用いて印刷版を作成したところ、周
方向にも段差のない砂目柄印刷ができた。
に段差が認められた画像データの場合の砂粒画素の検数
結果であり、図16は、プログラム的に砂粒画素のバラ
ンスを修正した後の検数結果である。図16のように修
正した画像データを用いて印刷版を作成したところ、周
方向にも段差のない砂目柄印刷ができた。
【0059】以上、本発明について具体的に説明した
が、本発明は、前記実施形態に示したものに限られるも
のでなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能で
ある。
が、本発明は、前記実施形態に示したものに限られるも
のでなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能で
ある。
【0060】例えば、前記実施形態では、隣接画素除去
として6近傍画素除去を説明したが、前記図5のセル配
置のままで、周囲8近傍の画素を除去するようにしても
よい。
として6近傍画素除去を説明したが、前記図5のセル配
置のままで、周囲8近傍の画素を除去するようにしても
よい。
【0061】
【発明の効果】以上説明したとおり、本発明によれば、
セル形状を任意に設計できることから砂目柄の意匠性を
豊かにすることができ、しかもセルサイズをセルピッチ
より大きくすることができるため、砂目柄を明瞭に印刷
することができる。
セル形状を任意に設計できることから砂目柄の意匠性を
豊かにすることができ、しかもセルサイズをセルピッチ
より大きくすることができるため、砂目柄を明瞭に印刷
することができる。
【図1】本発明に係る第1実施形態に適用する装置構成
の概略を示すブロック図
の概略を示すブロック図
【図2】第1実施形態の処理手順の概要を示すフローチ
ャート
ャート
【図3】砂目パターンの画像データを模式的に示す説明
図
図
【図4】隣接画素除去方法を説明するための画像データ
を模式的に示す説明図
を模式的に示す説明図
【図5】6近傍画素除去のための2次元モデルを示す説
明図
明図
【図6】6近傍画素除去の原理を示す説明図
【図7】6近傍画素除去の変形例を示す説明図
【図8】隣接画素除去後の画像データを示す説明図
【図9】1画素のドットパターン変換を概念的に示す説
明図
明図
【図10】画像データの砂粒画素を変換したドットパタ
ーンを示す説明図
ーンを示す説明図
【図11】本発明に係る第2実施形態の特徴を示すフロ
ーチャート
ーチャート
【図12】段差がある場合の幅方向エンドレス継目近傍
の画素数を示す線図
の画素数を示す線図
【図13】修正後の幅方向エンドレス継目近傍の画素数
を示す線図
を示す線図
【図14】段差がある場合の周方向のエンドレス継目近
傍の画素数を示す線図
傍の画素数を示す線図
【図15】修正後の周方向エンドレス継目近傍の画素数
を示す線図
を示す線図
【図16】従来の彫刻システムでセルを彫刻した場合の
問題点を示す説明図
問題点を示す説明図
【図17】グラビア彫刻機で彫刻されるセルサイズとセ
ルピッチの関係を示す説明図
ルピッチの関係を示す説明図
10…画像処理装置 12…隣接画素除去装置 14…ドットパターン変換装置 16…レーザ・レジスト直描装置 18…シリンダ腐食装置 20…線画データ作成装置
Claims (4)
- 【請求項1】砂粒に対応する砂粒画素を電子的に2次元
配置した砂目2次元画像を発生させ、各砂粒画素を所定
のセル形状に対応するドットパターンに変換し、該セル
形状をドットパターンに展開した線画データをレジスト
直描機に出力し、シリンダに被着されているレジスト膜
を、上記線画データに基づいて直接露光してレジストパ
ターンを作成し、該レジストパターンをマスクとしてシ
リンダをエッチングして、砂目柄の印刷版を作成するこ
とを特徴とするグラビアエッチング版作成方法。 - 【請求項2】請求項1において、 各砂粒画素をドットパターンに変換する前に、奇数番目
のスキャンラインに対して偶数番目のスキャンラインを
1/2画素分ずらした2次元モデルを想定し、各砂粒画
素の6近傍に砂粒画素が配置されることを防止する隣接
画素除去を行うことを特徴とするグラビアエッチング版
作成方法。 - 【請求項3】シリンダをエッチングして砂目柄の印刷版
を作成する際にマスクとして用いるレジストパターンを
作成するために、シリンダに被着されているレジスト膜
を直接露光するレジスト直描機に対して、露光を制御す
るための線画データを出力する線画データ作成装置であ
って、 砂粒に対応する砂粒画素を電子的に2次元配置した砂目
2次元画像を発生させる手段と、 発生された各砂粒画素を所定のセル形状に対応するドッ
トパターンに変換すると共に、変換して得られるセル形
状をドットパターンに展開した線画データをレジスト直
描機に出力する手段と、 を備えていることを特徴とする線画データ作成装置。 - 【請求項4】請求項3において、 各砂粒画素をドットパターンに変換する手段の前に、奇
数番目のスキャンラインに対して偶数番目のスキャンラ
インを1/2画素分ずらした2次元モデルを想定し、各
砂粒画素の6近傍に砂粒画素が配置されることを防止す
る隣接画素除去手段を備えていることを特徴とする線画
データ作成装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30437795A JPH09146266A (ja) | 1995-11-22 | 1995-11-22 | グラビアエッチング版作成方法及び線画データ作成装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30437795A JPH09146266A (ja) | 1995-11-22 | 1995-11-22 | グラビアエッチング版作成方法及び線画データ作成装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH09146266A true JPH09146266A (ja) | 1997-06-06 |
Family
ID=17932294
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP30437795A Pending JPH09146266A (ja) | 1995-11-22 | 1995-11-22 | グラビアエッチング版作成方法及び線画データ作成装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH09146266A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7306980B2 (en) | 1999-09-16 | 2007-12-11 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method for fabricating thin film transistor |
CN113689334A (zh) * | 2021-08-24 | 2021-11-23 | 深圳市先地图像科技有限公司 | 一种激光成像设备以及激光成像控制方法 |
-
1995
- 1995-11-22 JP JP30437795A patent/JPH09146266A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7306980B2 (en) | 1999-09-16 | 2007-12-11 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method for fabricating thin film transistor |
CN113689334A (zh) * | 2021-08-24 | 2021-11-23 | 深圳市先地图像科技有限公司 | 一种激光成像设备以及激光成像控制方法 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20051213 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20060404 |