JPH09131025A - 永久磁石の着磁方法 - Google Patents
永久磁石の着磁方法Info
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- JPH09131025A JPH09131025A JP28155895A JP28155895A JPH09131025A JP H09131025 A JPH09131025 A JP H09131025A JP 28155895 A JP28155895 A JP 28155895A JP 28155895 A JP28155895 A JP 28155895A JP H09131025 A JPH09131025 A JP H09131025A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明は、高磁場を発生させるための大がか
りな設備を用いることなしに、高保磁力型の永久磁石あ
るいは大型形状の磁石のように、十分な着磁磁界強度を
得にくい場合でも着磁できる永久磁石の着磁方法を提供
することを目的とする。 【解決手段】 永久磁石の保磁力が着磁磁界強度以下に
なるまで永久磁石を加熱した後に着磁を行い、パーミア
ンス係数が減磁曲線の直線部分になるようにしたまま室
温まで冷却する永久磁石の着磁方法。
りな設備を用いることなしに、高保磁力型の永久磁石あ
るいは大型形状の磁石のように、十分な着磁磁界強度を
得にくい場合でも着磁できる永久磁石の着磁方法を提供
することを目的とする。 【解決手段】 永久磁石の保磁力が着磁磁界強度以下に
なるまで永久磁石を加熱した後に着磁を行い、パーミア
ンス係数が減磁曲線の直線部分になるようにしたまま室
温まで冷却する永久磁石の着磁方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、高磁場を発生させ
るための大がかりな設備を用いることなしに、高保磁力
型の永久磁石あるいは大型形状の磁石のように、十分な
着磁磁界強度を得にくい場合でも着磁できる永久磁石の
着磁方法に関するものである。
るための大がかりな設備を用いることなしに、高保磁力
型の永久磁石あるいは大型形状の磁石のように、十分な
着磁磁界強度を得にくい場合でも着磁できる永久磁石の
着磁方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年、電子機器や精密機器の小型、軽量
化の市場傾向に伴い、永久磁石においては従来のアルニ
コやフェライト磁石に代わり希土類磁石が多くの分野で
利用されるようになってきた。これら希土類磁石の着磁
方法は、室温で着磁コイルあるいはポールピース内に未
着磁の界磁用永久磁石単体を置き、磁化電源装置により
パルス磁場あるいは静磁場を印加する方法あるいは界磁
用永久磁石に軟磁性ヨークを取付けた後パルス磁場ある
いは静磁場をを印加することにより行なわれている。ま
た、特開平６−１７８５０７号に記載されているよう
に、希土類磁石の高温における保磁力の減少を利用した
着磁方法も採用されている。これは、磁石をヨークに組
み込んだ後に着磁する方法で、組み込んだ後では形状的
な制約のために大きな着磁磁界を発生できないので、低
磁場でも着磁できるように永久磁石を加熱し保磁力を下
げることにより着磁する方法である。
化の市場傾向に伴い、永久磁石においては従来のアルニ
コやフェライト磁石に代わり希土類磁石が多くの分野で
利用されるようになってきた。これら希土類磁石の着磁
方法は、室温で着磁コイルあるいはポールピース内に未
着磁の界磁用永久磁石単体を置き、磁化電源装置により
パルス磁場あるいは静磁場を印加する方法あるいは界磁
用永久磁石に軟磁性ヨークを取付けた後パルス磁場ある
いは静磁場をを印加することにより行なわれている。ま
た、特開平６−１７８５０７号に記載されているよう
に、希土類磁石の高温における保磁力の減少を利用した
着磁方法も採用されている。これは、磁石をヨークに組
み込んだ後に着磁する方法で、組み込んだ後では形状的
な制約のために大きな着磁磁界を発生できないので、低
磁場でも着磁できるように永久磁石を加熱し保磁力を下
げることにより着磁する方法である。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、高保磁
力型永久磁石あるいは大型形状磁石を室温で着磁するた
めには、永久磁石に高磁場を発生させる必要があり着磁
コイルに大電流を流す必要がある。そのため、永久磁石
を着磁するために磁化電源装置の大容量化および着磁コ
イル等着磁設備の大規模化が不可欠となる。そして、こ
れらの大規模かつ大容量の磁化電源装置は、通常使用さ
れる磁化電源装置に比較し、取扱い上非常に危険なもの
である。また、着磁コイルに大電流を流すことは、着磁
コイルの銅損の増加を招き、着磁コイルの発熱を増加さ
せることになり、磁化電源装置および着磁コイルの劣化
を促進することになる。さらに、高磁場を発生させるこ
とは渦電流の影響、着磁コイルの飽和の影響により、非
常に磁場が不安定かつ作業が困難なものである。さら
に、高磁場を発生させる着磁コイルとしては、その瞬間
高磁場による電磁応力が作用するために、その電磁応力
に耐え得る機械的強度も必要とされる。また、磁石をヨ
ークに組み込んで着磁する場合には磁石単体のパーミア
ンス係数（パーミアンス係数は磁石の形状に依存する係
数で、磁化方向の寸法が小さい場合にはパーミアンス係
数が小さくなり、磁石自身による反磁界が大きくな
る。）よりもそれほど大きくすることができないため
に、高温に加熱しすぎると磁石の減磁曲線の直線部分を
外れ、室温に戻したときには大きな不可逆減磁が観察さ
れる。
力型永久磁石あるいは大型形状磁石を室温で着磁するた
めには、永久磁石に高磁場を発生させる必要があり着磁
コイルに大電流を流す必要がある。そのため、永久磁石
を着磁するために磁化電源装置の大容量化および着磁コ
イル等着磁設備の大規模化が不可欠となる。そして、こ
れらの大規模かつ大容量の磁化電源装置は、通常使用さ
れる磁化電源装置に比較し、取扱い上非常に危険なもの
である。また、着磁コイルに大電流を流すことは、着磁
コイルの銅損の増加を招き、着磁コイルの発熱を増加さ
せることになり、磁化電源装置および着磁コイルの劣化
を促進することになる。さらに、高磁場を発生させるこ
とは渦電流の影響、着磁コイルの飽和の影響により、非
常に磁場が不安定かつ作業が困難なものである。さら
に、高磁場を発生させる着磁コイルとしては、その瞬間
高磁場による電磁応力が作用するために、その電磁応力
に耐え得る機械的強度も必要とされる。また、磁石をヨ
ークに組み込んで着磁する場合には磁石単体のパーミア
ンス係数（パーミアンス係数は磁石の形状に依存する係
数で、磁化方向の寸法が小さい場合にはパーミアンス係
数が小さくなり、磁石自身による反磁界が大きくな
る。）よりもそれほど大きくすることができないため
に、高温に加熱しすぎると磁石の減磁曲線の直線部分を
外れ、室温に戻したときには大きな不可逆減磁が観察さ
れる。
【０００４】そこで、本発明は、高磁場を発生させるた
めの大がかりな設備を用いることなしに、高保磁力型の
永久磁石あるいは大型形状の磁石のように、十分な着磁
磁界強度を得にくい場合でも着磁できる永久磁石の着磁
方法を提供することを目的とする。
めの大がかりな設備を用いることなしに、高保磁力型の
永久磁石あるいは大型形状の磁石のように、十分な着磁
磁界強度を得にくい場合でも着磁できる永久磁石の着磁
方法を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
の本永久磁石の着磁方法は、永久磁石を着磁をする際、
永久磁石の保磁力が着磁磁界強度以下になるまで加熱し
た後に着磁を行い、パーミアンス係数が減磁曲線の直線
部分になるようにしたまま室温まで冷却する永久磁石の
着磁方法であり、前記永久磁石がＲ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁
石（ＲはＹを含む希土類元素の１種または２種以上）で
ある永久磁石の着磁方法である。
の本永久磁石の着磁方法は、永久磁石を着磁をする際、
永久磁石の保磁力が着磁磁界強度以下になるまで加熱し
た後に着磁を行い、パーミアンス係数が減磁曲線の直線
部分になるようにしたまま室温まで冷却する永久磁石の
着磁方法であり、前記永久磁石がＲ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁
石（ＲはＹを含む希土類元素の１種または２種以上）で
ある永久磁石の着磁方法である。
【０００６】本発明は、高磁場を発生させるための大が
かりな設備を用いることなしに、高保磁力型の永久磁石
あるいは大型形状の磁石のように、十分な着磁磁界強度
を得にくい場合でも着磁できる永久磁石の着磁方法に関
するものである。すなわち、一般に永久磁石を着磁する
場合、保磁力以上の着磁磁界を永久磁石に印加する必要
があるが、高保磁力型永久磁石を着磁するには保磁力が
大きいので高磁場を発生させるための大がかりな設備が
必要となる。また、大型形状の磁石をポールピース間に
挟んで着磁するには、ポールピース間のギャップが大き
くなり大きな着磁磁界強度が得にくく高磁場を発生させ
るために大がかりな設備が必要となる。そこで、高保磁
力型永久磁石や大型形状の磁石を着磁する場合、永久磁
石における保磁力の温度係数が負であることを利用し永
久磁石を加熱することで永久磁石の保磁力を低下させ、
それにより大がかりな磁界発生装置を用いることなしに
通常の着磁磁界強度でも永久磁石の着磁率を上げること
ができる。しかし、加熱・着磁した永久磁石を熱いまま
着磁器から取り外す時、パーミアンス係数が永久磁石の
減磁曲線の直線部分から外れていると、磁石自身が有す
る磁極の反磁界により減磁が発生し磁気特性が低下して
しまう。そこで、永久磁石の保磁力が着磁磁界強度以下
になるまで加熱した後に着磁を行い、パーミアンス係数
が減磁曲線の直線部分になるように維持したまま永久磁
石を室温まで冷却することにより着磁率が高く磁気特性
の高い永久磁石を得ることができる。
かりな設備を用いることなしに、高保磁力型の永久磁石
あるいは大型形状の磁石のように、十分な着磁磁界強度
を得にくい場合でも着磁できる永久磁石の着磁方法に関
するものである。すなわち、一般に永久磁石を着磁する
場合、保磁力以上の着磁磁界を永久磁石に印加する必要
があるが、高保磁力型永久磁石を着磁するには保磁力が
大きいので高磁場を発生させるための大がかりな設備が
必要となる。また、大型形状の磁石をポールピース間に
挟んで着磁するには、ポールピース間のギャップが大き
くなり大きな着磁磁界強度が得にくく高磁場を発生させ
るために大がかりな設備が必要となる。そこで、高保磁
力型永久磁石や大型形状の磁石を着磁する場合、永久磁
石における保磁力の温度係数が負であることを利用し永
久磁石を加熱することで永久磁石の保磁力を低下させ、
それにより大がかりな磁界発生装置を用いることなしに
通常の着磁磁界強度でも永久磁石の着磁率を上げること
ができる。しかし、加熱・着磁した永久磁石を熱いまま
着磁器から取り外す時、パーミアンス係数が永久磁石の
減磁曲線の直線部分から外れていると、磁石自身が有す
る磁極の反磁界により減磁が発生し磁気特性が低下して
しまう。そこで、永久磁石の保磁力が着磁磁界強度以下
になるまで加熱した後に着磁を行い、パーミアンス係数
が減磁曲線の直線部分になるように維持したまま永久磁
石を室温まで冷却することにより着磁率が高く磁気特性
の高い永久磁石を得ることができる。
【０００７】そこで、本発明は、永久磁石の保磁力が着
磁磁界強度以下になるまで永久磁石を加熱し着磁した
後、パーミアンス係数が減磁曲線の直線部分になるよう
にしたまま室温まで冷却する永久磁石の着磁方法であっ
て、前記永久磁石は保磁力の温度係数が負で比較的大き
いＲ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石（ＲはＹを含む希土類元素の
１種または２種以上）が好ましい。
磁磁界強度以下になるまで永久磁石を加熱し着磁した
後、パーミアンス係数が減磁曲線の直線部分になるよう
にしたまま室温まで冷却する永久磁石の着磁方法であっ
て、前記永久磁石は保磁力の温度係数が負で比較的大き
いＲ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石（ＲはＹを含む希土類元素の
１種または２種以上）が好ましい。
【０００８】以下、本発明の限定理由について示す。本
発明において、永久磁石の保磁力が着磁器の着磁磁界強
度以下になるまで永久磁石を加熱するのは、保磁力が着
磁磁界強度よりも大きいと永久磁石を十分に着磁するこ
とができないからである。また、加熱した後に着磁を行
い、パーミアンス係数が減磁曲線の直線部分になるよう
にしたまま永久磁石を室温まで冷却するのは、パーミア
ンス係数が減磁曲線の直線部分を外れたまま着磁器から
取り外すと、永久磁石は永久磁石自身の持つ磁極の反磁
界により永久減磁を生じ磁気特性が低下するからであ
る。そして、着磁する永久磁石としては保磁力の温度係
数が負でかつ他の磁石材料に比較して大きいＲ−Ｆｅ−
Ｂ系永久磁石（ＲはＹを含む希土類元素の１種または２
種以上）が好ましい。また、予備加熱してから加熱装置
を有する着磁器を用いて着磁を行っても良い。
発明において、永久磁石の保磁力が着磁器の着磁磁界強
度以下になるまで永久磁石を加熱するのは、保磁力が着
磁磁界強度よりも大きいと永久磁石を十分に着磁するこ
とができないからである。また、加熱した後に着磁を行
い、パーミアンス係数が減磁曲線の直線部分になるよう
にしたまま永久磁石を室温まで冷却するのは、パーミア
ンス係数が減磁曲線の直線部分を外れたまま着磁器から
取り外すと、永久磁石は永久磁石自身の持つ磁極の反磁
界により永久減磁を生じ磁気特性が低下するからであ
る。そして、着磁する永久磁石としては保磁力の温度係
数が負でかつ他の磁石材料に比較して大きいＲ−Ｆｅ−
Ｂ系永久磁石（ＲはＹを含む希土類元素の１種または２
種以上）が好ましい。また、予備加熱してから加熱装置
を有する着磁器を用いて着磁を行っても良い。
【０００９】
【発明の実施の態様】以下、本発明を実施例によって具
体的に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限
定されるものではない。
体的に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限
定されるものではない。
【００１０】（実施例１）図１に着磁器の概略図を示
す。この着磁器はポールピース２の先端断面の直径が１
００ｍｍであり、ギャップが１０ｍｍで２５ｋＯｅの着
磁磁界強度を発生させる。この着磁器を用いて４０ｘ７
０ｘ３０ｍｍ（着磁方向：３０ｍｍ）のＮｄ−Ｆｅ−Ｂ
系焼結磁石（Ｂｒ＝１２．５ｋＧ、ｉＨｃ＝１４．５ｋ
Ｏｅ）を以下の手順で着磁した。まず初めに、この永久
磁石３を図２に示すように直径１００ｍｍ、厚さ１０ｍ
ｍの加熱装置を有するＳＳ−４１強磁性体４にはさみ、
着磁器のポールピース２間にセットした。次に、加熱装
置によりＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁石部分を１４０℃に加熱
し、着磁磁界を印加し着磁を行った。この時の着磁磁界
強度は８ｋＯｅであった。磁石を着磁した後、着磁磁界
を取り除き、図３に示すにように磁石をはさんでいるＳ
Ｓ−４１強磁性体が磁気回路的に閉じるようにＳＳ−４
１強磁性体ヨークを取り付けた。取り付けた後、磁石お
よびＳＳ−４１強磁性体を組んだまま着磁器から取り外
し、室温まで冷却した。冷却後、磁石からＳＳ−４１強
磁性体を取り外し磁束を測定し、７３００Ｇの磁束密度
を得た。図６に加熱・着磁した後の磁束の変化を模式的
に示す（ａ：室温→ｂ：１４０℃→ｃ：室温→ｄ：強磁
性体を外した時）。
す。この着磁器はポールピース２の先端断面の直径が１
００ｍｍであり、ギャップが１０ｍｍで２５ｋＯｅの着
磁磁界強度を発生させる。この着磁器を用いて４０ｘ７
０ｘ３０ｍｍ（着磁方向：３０ｍｍ）のＮｄ−Ｆｅ−Ｂ
系焼結磁石（Ｂｒ＝１２．５ｋＧ、ｉＨｃ＝１４．５ｋ
Ｏｅ）を以下の手順で着磁した。まず初めに、この永久
磁石３を図２に示すように直径１００ｍｍ、厚さ１０ｍ
ｍの加熱装置を有するＳＳ−４１強磁性体４にはさみ、
着磁器のポールピース２間にセットした。次に、加熱装
置によりＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁石部分を１４０℃に加熱
し、着磁磁界を印加し着磁を行った。この時の着磁磁界
強度は８ｋＯｅであった。磁石を着磁した後、着磁磁界
を取り除き、図３に示すにように磁石をはさんでいるＳ
Ｓ−４１強磁性体が磁気回路的に閉じるようにＳＳ−４
１強磁性体ヨークを取り付けた。取り付けた後、磁石お
よびＳＳ−４１強磁性体を組んだまま着磁器から取り外
し、室温まで冷却した。冷却後、磁石からＳＳ−４１強
磁性体を取り外し磁束を測定し、７３００Ｇの磁束密度
を得た。図６に加熱・着磁した後の磁束の変化を模式的
に示す（ａ：室温→ｂ：１４０℃→ｃ：室温→ｄ：強磁
性体を外した時）。
【００１１】（実施例２）実施例１で用いた着磁器で４
０ｘ７０ｘ３０ｍｍ（磁化方向：３０ｍｍ）のＮｄ−Ｆ
ｅ−Ｂ系焼結磁石（Ｂｒ＝１２．５ｋＧ、ｉＨｃ＝１
４．５ｋＯｅ）を以下の手順で着磁を行った。まず初め
に、この磁石を図２に示すように直径１００ｍｍ、厚さ
１０ｍｍの加熱装置を有するパーメンダーにはさみ、着
磁器のポールピース間にセットした。次に、加熱装置に
よりＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁石部分を１４０℃に加熱し、着
磁磁界を印加し着磁を行った。この時の着磁磁界強度は
８．５ｋＯｅであった。磁石を着磁した後、着磁磁界を
取り除き、図３に示すように磁石をはさんでいるパーメ
ンダーが磁気回路的に閉じるようにＳＳ−４１ヨークを
取り付けた。取り付けた後、磁石、パーメンダーおよび
ＳＳ−４１を組んだまま着磁器から取り外し室温まで冷
却した。冷却後、磁石からパーメンダーおよびＳＳ−４
１を取り外し磁束を測定し、７３５０Ｇの磁束密度を得
た。
０ｘ７０ｘ３０ｍｍ（磁化方向：３０ｍｍ）のＮｄ−Ｆ
ｅ−Ｂ系焼結磁石（Ｂｒ＝１２．５ｋＧ、ｉＨｃ＝１
４．５ｋＯｅ）を以下の手順で着磁を行った。まず初め
に、この磁石を図２に示すように直径１００ｍｍ、厚さ
１０ｍｍの加熱装置を有するパーメンダーにはさみ、着
磁器のポールピース間にセットした。次に、加熱装置に
よりＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁石部分を１４０℃に加熱し、着
磁磁界を印加し着磁を行った。この時の着磁磁界強度は
８．５ｋＯｅであった。磁石を着磁した後、着磁磁界を
取り除き、図３に示すように磁石をはさんでいるパーメ
ンダーが磁気回路的に閉じるようにＳＳ−４１ヨークを
取り付けた。取り付けた後、磁石、パーメンダーおよび
ＳＳ−４１を組んだまま着磁器から取り外し室温まで冷
却した。冷却後、磁石からパーメンダーおよびＳＳ−４
１を取り外し磁束を測定し、７３５０Ｇの磁束密度を得
た。
【００１２】（実施例３）図１に示す着磁器を用いて１
０ｘ１１ｘ１０ｍｍ（着磁方向：１０ｍｍ）のＮｄ−Ｆ
ｅ−Ｂ系焼結磁石（Ｂｒ＝１２．５ｋＧ、ｉＨｃ＝１
４．５ｋＯｅ）を以下の手順で着磁を行った。この磁石
を図４に示すようにポールピース間にセットし、２５ｋ
Ｏｅの着磁磁界強度を印加し着磁を行った。着磁後、磁
石の減磁曲線を測定し図５（ａ）の減磁曲線を得た。
０ｘ１１ｘ１０ｍｍ（着磁方向：１０ｍｍ）のＮｄ−Ｆ
ｅ−Ｂ系焼結磁石（Ｂｒ＝１２．５ｋＧ、ｉＨｃ＝１
４．５ｋＯｅ）を以下の手順で着磁を行った。この磁石
を図４に示すようにポールピース間にセットし、２５ｋ
Ｏｅの着磁磁界強度を印加し着磁を行った。着磁後、磁
石の減磁曲線を測定し図５（ａ）の減磁曲線を得た。
【００１３】（比較例１）実施例１で用いた着磁器で４
０ｘ７０ｘ３０ｍｍ（着磁方向：３０ｍｍ）のＮｄ−Ｆ
ｅ−Ｂ系焼結磁石（Ｂｒ＝１２．５ｋＧ、ｉＨｃ＝１
４．５ｋＯｅ）を以下の手順で着磁を行った。まず初め
に、この磁石を図２に示すように直径１００ｍｍ、厚さ
１０ｍｍの加熱装置を有するパーメンダーにはさみ、着
磁器のポールピース間にセットした。次に、加熱装置に
よりＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁石部分を１４０℃に加熱し、着
磁磁界を印加し着磁を行った。この時の着磁磁界強度は
８．５ｋＯｅであった。磁石を着磁した後、熱いままポ
ールピースから取り外し室温まで冷却した。冷却後、ヨ
ークを取り外し磁束を測定し６５００Ｇの磁束密度を得
た。図６に、加熱・着磁した後の磁束の変化を模式的に
示す（ａ'：室温→ｂ'：１４０℃→ｃ'：室温減磁曲線
対応点→ｄ'：室温）。
０ｘ７０ｘ３０ｍｍ（着磁方向：３０ｍｍ）のＮｄ−Ｆ
ｅ−Ｂ系焼結磁石（Ｂｒ＝１２．５ｋＧ、ｉＨｃ＝１
４．５ｋＯｅ）を以下の手順で着磁を行った。まず初め
に、この磁石を図２に示すように直径１００ｍｍ、厚さ
１０ｍｍの加熱装置を有するパーメンダーにはさみ、着
磁器のポールピース間にセットした。次に、加熱装置に
よりＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁石部分を１４０℃に加熱し、着
磁磁界を印加し着磁を行った。この時の着磁磁界強度は
８．５ｋＯｅであった。磁石を着磁した後、熱いままポ
ールピースから取り外し室温まで冷却した。冷却後、ヨ
ークを取り外し磁束を測定し６５００Ｇの磁束密度を得
た。図６に、加熱・着磁した後の磁束の変化を模式的に
示す（ａ'：室温→ｂ'：１４０℃→ｃ'：室温減磁曲線
対応点→ｄ'：室温）。
【００１４】（比較例２）図１に着磁器を用いて４０ｘ
７０ｘ３０ｍｍ（着磁方向：３０ｍｍ）のＮｄ−Ｆｅ−
Ｂ系焼結磁石（Ｂｒ＝１２．５ｋＧ、ｉＨｃ＝１４．５
ｋＯｅ）を以下の手順で着磁を行った。この磁石を図４
に示すようにポールピース間にセットし、着磁磁界を印
加し着磁を行った。この時の着磁磁界強度は８ｋＯｅで
あった。着磁後、実施例１と同様に磁束を測定し５３０
０Ｇの磁束密度を得た。
７０ｘ３０ｍｍ（着磁方向：３０ｍｍ）のＮｄ−Ｆｅ−
Ｂ系焼結磁石（Ｂｒ＝１２．５ｋＧ、ｉＨｃ＝１４．５
ｋＯｅ）を以下の手順で着磁を行った。この磁石を図４
に示すようにポールピース間にセットし、着磁磁界を印
加し着磁を行った。この時の着磁磁界強度は８ｋＯｅで
あった。着磁後、実施例１と同様に磁束を測定し５３０
０Ｇの磁束密度を得た。
【００１５】（比較例３）図１に示す着磁器を用いて１
０ｘ１１ｘ１０ｍｍ（着磁方向：１０ｍｍ）のＮｄ−Ｆ
ｅ−Ｂ系焼結磁石（Ｂｒ＝１２．５ｋＧ、ｉＨｃ＝１
４．５ｋＯｅ）を以下の手順で着磁を行った。この磁石
を図４に示すようにポールピース間にセットし、８ｋＯ
ｅの着磁磁界を印加し着磁を行った。着磁後、磁石の減
磁曲線を測定し図５（ｂ）の減磁曲線を得た。
０ｘ１１ｘ１０ｍｍ（着磁方向：１０ｍｍ）のＮｄ−Ｆ
ｅ−Ｂ系焼結磁石（Ｂｒ＝１２．５ｋＧ、ｉＨｃ＝１
４．５ｋＯｅ）を以下の手順で着磁を行った。この磁石
を図４に示すようにポールピース間にセットし、８ｋＯ
ｅの着磁磁界を印加し着磁を行った。着磁後、磁石の減
磁曲線を測定し図５（ｂ）の減磁曲線を得た。
【００１６】
【発明の効果】本発明によれば、高磁場を発生させるた
めの大がかりな設備を用いることなしに、高保磁力型の
永久磁石あるいは大型形状の磁石のように、十分な着磁
磁界強度を得にくい場合でも着磁でき、工業上その利用
価値は極めて高いものである。
めの大がかりな設備を用いることなしに、高保磁力型の
永久磁石あるいは大型形状の磁石のように、十分な着磁
磁界強度を得にくい場合でも着磁でき、工業上その利用
価値は極めて高いものである。
【図１】着磁器の概略図
【図２】永久磁石を強磁性体に挟んだ図
【図３】永久磁石と強磁性体で磁気回路を閉じた図
【図４】永久磁石をポールピースにセットした図
【図５】減磁曲線を示す図。
【図６】磁束の変化を示す図
１ 磁界発生用コイル、２ ポールピース、３ 永久磁
石、４ 強磁性体、５ パーミアンス係数、６ 磁石か
ら得られる磁束密度、７ 不可逆減。
石、４ 強磁性体、５ パーミアンス係数、６ 磁石か
ら得られる磁束密度、７ 不可逆減。
Claims (2)
- 【請求項１】 永久磁石の保磁力が着磁磁界強度以下に
なるまで永久磁石を加熱した後に着磁を行い、パーミア
ンス係数が減磁曲線の直線部分になるようにしたまま室
温まで冷却することを特徴とする永久磁石の着磁方法。 - 【請求項２】 前記永久磁石がＲ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石
（ＲはＹを含む希土類元素の１種または２種以上）であ
ることを特徴とする請求項１記載の永久磁石の着磁方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28155895A JPH09131025A (ja) | 1995-10-30 | 1995-10-30 | 永久磁石の着磁方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28155895A JPH09131025A (ja) | 1995-10-30 | 1995-10-30 | 永久磁石の着磁方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09131025A true JPH09131025A (ja) | 1997-05-16 |
Family
ID=17640865
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28155895A Pending JPH09131025A (ja) | 1995-10-30 | 1995-10-30 | 永久磁石の着磁方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09131025A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008018246A (ja) * | 2006-07-14 | 2008-01-31 | Ge Medical Systems Global Technology Co Llc | 温度操作方法、磁場発生装置およびｍｒｉ装置 |
| US7345560B2 (en) * | 2001-04-03 | 2008-03-18 | General Electric Company | Method and apparatus for magnetizing a permanent magnet |
| JP2008135766A (ja) * | 2002-02-15 | 2008-06-12 | Hitachi Metals Ltd | 磁界発生装置およびその製造方法 |
| US8322024B2 (en) | 2002-02-15 | 2012-12-04 | Hitachi Metals, Ltd. | Magnetic field generator manufacturing method |
-
1995
- 1995-10-30 JP JP28155895A patent/JPH09131025A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7345560B2 (en) * | 2001-04-03 | 2008-03-18 | General Electric Company | Method and apparatus for magnetizing a permanent magnet |
| JP2008135766A (ja) * | 2002-02-15 | 2008-06-12 | Hitachi Metals Ltd | 磁界発生装置およびその製造方法 |
| JP4586850B2 (ja) * | 2002-02-15 | 2010-11-24 | 日立金属株式会社 | 磁界発生装置の製造方法 |
| US8322024B2 (en) | 2002-02-15 | 2012-12-04 | Hitachi Metals, Ltd. | Magnetic field generator manufacturing method |
| JP2008018246A (ja) * | 2006-07-14 | 2008-01-31 | Ge Medical Systems Global Technology Co Llc | 温度操作方法、磁場発生装置およびｍｒｉ装置 |
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