JPH09115452A - プラズマディスプレイパネルの障壁構造 - Google Patents
プラズマディスプレイパネルの障壁構造Info
- Publication number
- JPH09115452A JPH09115452A JP7291863A JP29186395A JPH09115452A JP H09115452 A JPH09115452 A JP H09115452A JP 7291863 A JP7291863 A JP 7291863A JP 29186395 A JP29186395 A JP 29186395A JP H09115452 A JPH09115452 A JP H09115452A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- barrier
- barriers
- column
- row
- dummy
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 障壁の傾斜を抑制し、蛍光体の塗布時の製品
歩留を向上させ、放電空間を確保できるプラズマディス
プレイパネルの障壁構造を提供する。 【解決手段】 複数個の密閉型障壁を備えたプラズマデ
ィスプレイパネルである。密閉型障壁の行方向障壁の延
長線上またはその近傍であって、補助セル上に、該隣接
する密閉型障壁間を接続し、該障壁の焼成収縮の方向性
を抑制する単数または複数本のダミー障壁を設けてい
る。
歩留を向上させ、放電空間を確保できるプラズマディス
プレイパネルの障壁構造を提供する。 【解決手段】 複数個の密閉型障壁を備えたプラズマデ
ィスプレイパネルである。密閉型障壁の行方向障壁の延
長線上またはその近傍であって、補助セル上に、該隣接
する密閉型障壁間を接続し、該障壁の焼成収縮の方向性
を抑制する単数または複数本のダミー障壁を設けてい
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマディスプ
レイパネル（以下、ＰＤＰという）の障壁構造に係り、
より詳細には、密閉型障壁の放電セル内側への傾斜を抑
制し、後工程である放電セル内の障壁面への蛍光体塗布
を容易かつ確実に行え、また放電セル内の放電空間の減
少を抑え放電特性の均一化に寄与するＰＤＰの障壁構造
に関するものである。
レイパネル（以下、ＰＤＰという）の障壁構造に係り、
より詳細には、密閉型障壁の放電セル内側への傾斜を抑
制し、後工程である放電セル内の障壁面への蛍光体塗布
を容易かつ確実に行え、また放電セル内の放電空間の減
少を抑え放電特性の均一化に寄与するＰＤＰの障壁構造
に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】図４は、ＰＤＰのうちのＤＣ型ＰＤＰの
一例を示す斜視図である。このＰＤＰは、アノード電極
群（陽極）３が形成される前面板１と、カソード電極群
（陰極）４が形成される背面板２の二枚の絶縁板１，２
の内側に障壁５を設け、表示セル６と補助セル１０を形
成した構成からなる。すなわち、相対向して交差するア
ノード電極群３とカソード電極群４と、該電極間に光の
クローストークが発生するのを防ぎ、前面板１と背面板
２との隙間を一定の間隔に保持するための障壁５を設
け、該障壁５により表示セル６と補助セル１０を形成
し、該電極間にキセノン等の希ガスを封入し、絶縁板
１，２に形成された両電極群３，４の交差部が一つの画
素（表示セル６）に対応する構成としている。
一例を示す斜視図である。このＰＤＰは、アノード電極
群（陽極）３が形成される前面板１と、カソード電極群
（陰極）４が形成される背面板２の二枚の絶縁板１，２
の内側に障壁５を設け、表示セル６と補助セル１０を形
成した構成からなる。すなわち、相対向して交差するア
ノード電極群３とカソード電極群４と、該電極間に光の
クローストークが発生するのを防ぎ、前面板１と背面板
２との隙間を一定の間隔に保持するための障壁５を設
け、該障壁５により表示セル６と補助セル１０を形成
し、該電極間にキセノン等の希ガスを封入し、絶縁板
１，２に形成された両電極群３，４の交差部が一つの画
素（表示セル６）に対応する構成としている。
【０００３】そして、このＰＤＰでは、両電極群３，４
間に電圧をかけると放電が起こり、補助セル１０におけ
る種火放電から荷電粒子などの供給を受けながら表示セ
ル６の内部ではプラズマ放電から紫外線が放射され、該
紫外線によって励起された表示セル６の蛍光面７，８，
９から可視光を得ることができる。このようなＰＤＰで
は、高輝度を得るメモリー駆動のため、あるいは色滲み
防止のため表示セルを形成する障壁５を、例えば、図２
のＰＤＰの障壁構造に示すように、行方向障壁１１と列
方向障壁１２からなる密閉型構造とする必要がある。
間に電圧をかけると放電が起こり、補助セル１０におけ
る種火放電から荷電粒子などの供給を受けながら表示セ
ル６の内部ではプラズマ放電から紫外線が放射され、該
紫外線によって励起された表示セル６の蛍光面７，８，
９から可視光を得ることができる。このようなＰＤＰで
は、高輝度を得るメモリー駆動のため、あるいは色滲み
防止のため表示セルを形成する障壁５を、例えば、図２
のＰＤＰの障壁構造に示すように、行方向障壁１１と列
方向障壁１２からなる密閉型構造とする必要がある。
【０００４】ところで、このＰＤＰにおける障壁の形成
法としては、 絶縁板上にガラスペーストをスクリーン印刷によ
り、障壁パターンを重ねて印刷し、乾燥後、焼成して形
成する方法（スクリーン印刷法）、 ガラスペーストを均一な高さにコーティングし、ま
たはガラスペーストを予めシート状にしたものを絶縁板
に貼り合わせ、これに感光性ドライフィルムを貼り、こ
れを露光、現像して障壁部分を残し、サンドブラスト処
理を施すと共に、該ドライフィルムを剥離して障壁パタ
ーンを得た後、該障壁パターンを焼成して形成する方法
（サンドブラスト法）、 絶縁板に、障壁粉末と紫外線硬化樹脂を混合したペ
ーストの塗布膜を形成した後、この塗布膜に、遮光マス
クを用いて障壁パターン部分に紫外線を選択的に照射
し、この工程を複数回繰り返すことにより積層された塗
布層を形成し、この塗布面を一括現像することにより所
望とする高さの障壁パターンを得た後、該障壁パターン
を焼成して形成する方法（フォトリソグラフィ法） がある。そして、このフォトリソグラフィ法による場合
は、１００μｍ以下のライン幅およびライン間隔をも
ち、かつ１００μｍ以上の障壁高さを有するＰＤＰ用の
密閉型障壁を得ることができる。
法としては、 絶縁板上にガラスペーストをスクリーン印刷によ
り、障壁パターンを重ねて印刷し、乾燥後、焼成して形
成する方法（スクリーン印刷法）、 ガラスペーストを均一な高さにコーティングし、ま
たはガラスペーストを予めシート状にしたものを絶縁板
に貼り合わせ、これに感光性ドライフィルムを貼り、こ
れを露光、現像して障壁部分を残し、サンドブラスト処
理を施すと共に、該ドライフィルムを剥離して障壁パタ
ーンを得た後、該障壁パターンを焼成して形成する方法
（サンドブラスト法）、 絶縁板に、障壁粉末と紫外線硬化樹脂を混合したペ
ーストの塗布膜を形成した後、この塗布膜に、遮光マス
クを用いて障壁パターン部分に紫外線を選択的に照射
し、この工程を複数回繰り返すことにより積層された塗
布層を形成し、この塗布面を一括現像することにより所
望とする高さの障壁パターンを得た後、該障壁パターン
を焼成して形成する方法（フォトリソグラフィ法） がある。そして、このフォトリソグラフィ法による場合
は、１００μｍ以下のライン幅およびライン間隔をも
ち、かつ１００μｍ以上の障壁高さを有するＰＤＰ用の
密閉型障壁を得ることができる。
【０００５】そして、このような方法で絶縁板（前面絶
縁板または背面絶縁板）に形成した障壁による表示セル
の壁面に蛍光面を形成し、この前面絶縁板と背面絶縁板
を封着して希ガスを封入することでＰＤＰを形成する。
ここで、既に形成されているセル障壁面に蛍光体を形成
すると、パネル発光時の輝度を向上できることから有利
である。この既に形成されている１００μｍ以上の高さ
を持つセル障壁面に蛍光体を形成するには、例えば、感
光性を持たせた蛍光塗料をセル内部に充填後、露光、現
像により形成する方法、もしくは厚膜印刷により蛍光塗
料をセル部に塗り分け、サンドブラストにより不要部を
除去し形成する方法がある。
縁板または背面絶縁板）に形成した障壁による表示セル
の壁面に蛍光面を形成し、この前面絶縁板と背面絶縁板
を封着して希ガスを封入することでＰＤＰを形成する。
ここで、既に形成されているセル障壁面に蛍光体を形成
すると、パネル発光時の輝度を向上できることから有利
である。この既に形成されている１００μｍ以上の高さ
を持つセル障壁面に蛍光体を形成するには、例えば、感
光性を持たせた蛍光塗料をセル内部に充填後、露光、現
像により形成する方法、もしくは厚膜印刷により蛍光塗
料をセル部に塗り分け、サンドブラストにより不要部を
除去し形成する方法がある。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかし、障壁として、
焼成収縮をもつ障壁材料を用い、図２に示すような密閉
型障壁とした場合、次のような課題が生じる。すなわ
ち、 図３に示すように、行方向障壁１１が列方向障壁１
２と交差し、表示セルと補助セルを形成している部分で
は焼成した際、障壁の焼成収縮により列方向障壁１２が
行方向障壁１１の収縮の影響を受けて表示セル６内側に
傾斜する。この焼成による収縮は、該障壁材料中に多く
の樹脂を含み、あるいは障壁材料組成中に骨材成分が少
ないために焼成収縮が大きくなることによる。 そのため、蛍光体の塗布を表示セル６内の障壁面の
細部まで行うことが困難となり、製品歩留が低下する。 また焼成収縮による列方向障壁１２が傾斜すると、
表示セル６の放電空間が減少し、輝度が低下するばかり
か放電空間が不均一になり、輝度にバラツキが生ずる。
さらに密閉型障壁の障壁高さを高く、また障壁幅を狭く
して放電空間を増加させようとすると、該障壁の傾斜が
さらに大きくなり、また障壁に亀裂を発生させ製品歩留
が低下する。 等の課題がある。
焼成収縮をもつ障壁材料を用い、図２に示すような密閉
型障壁とした場合、次のような課題が生じる。すなわ
ち、 図３に示すように、行方向障壁１１が列方向障壁１
２と交差し、表示セルと補助セルを形成している部分で
は焼成した際、障壁の焼成収縮により列方向障壁１２が
行方向障壁１１の収縮の影響を受けて表示セル６内側に
傾斜する。この焼成による収縮は、該障壁材料中に多く
の樹脂を含み、あるいは障壁材料組成中に骨材成分が少
ないために焼成収縮が大きくなることによる。 そのため、蛍光体の塗布を表示セル６内の障壁面の
細部まで行うことが困難となり、製品歩留が低下する。 また焼成収縮による列方向障壁１２が傾斜すると、
表示セル６の放電空間が減少し、輝度が低下するばかり
か放電空間が不均一になり、輝度にバラツキが生ずる。
さらに密閉型障壁の障壁高さを高く、また障壁幅を狭く
して放電空間を増加させようとすると、該障壁の傾斜が
さらに大きくなり、また障壁に亀裂を発生させ製品歩留
が低下する。 等の課題がある。
【０００７】本発明は、上述した課題に対処して創作し
たものであって、その目的とする処は、障壁の傾斜を抑
制し、蛍光体の塗布時の製品歩留を向上させ、放電空間
を確保させるためのＰＤＰの障壁構造を提供することに
ある。
たものであって、その目的とする処は、障壁の傾斜を抑
制し、蛍光体の塗布時の製品歩留を向上させ、放電空間
を確保させるためのＰＤＰの障壁構造を提供することに
ある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】そして、上記目的を達成
するための手段としての本発明のＰＤＰの障壁構造は、
一定の空間を隔てて互いに平行にかつ対向して配した前
面絶縁板と背面絶縁板の内側に、相対向して交差する二
組の電極群を設け、かつ両電極群間の直交する部分に放
電セルを形成するための障壁を形成したＰＤＰにおい
て、該障壁が、前記前面絶縁板上または背面絶縁板上の
いずれか一方の電極群に平行する列方向障壁と該電極群
と直交する行方向障壁で四方を囲む密閉型放電セルを形
成する複数個の密閉型障壁を有し、隣接する該密閉型障
壁間隔内または該密閉型障壁の外周囲で、該密閉型障壁
の行方向障壁または列方向障壁の延長線上またはその近
傍に、該密閉型障壁が傾斜するのを抑制するための単数
または複数本のダミー障壁を設けてなる構成としてい
る。
するための手段としての本発明のＰＤＰの障壁構造は、
一定の空間を隔てて互いに平行にかつ対向して配した前
面絶縁板と背面絶縁板の内側に、相対向して交差する二
組の電極群を設け、かつ両電極群間の直交する部分に放
電セルを形成するための障壁を形成したＰＤＰにおい
て、該障壁が、前記前面絶縁板上または背面絶縁板上の
いずれか一方の電極群に平行する列方向障壁と該電極群
と直交する行方向障壁で四方を囲む密閉型放電セルを形
成する複数個の密閉型障壁を有し、隣接する該密閉型障
壁間隔内または該密閉型障壁の外周囲で、該密閉型障壁
の行方向障壁または列方向障壁の延長線上またはその近
傍に、該密閉型障壁が傾斜するのを抑制するための単数
または複数本のダミー障壁を設けてなる構成としてい
る。
【０００９】ところで、ＰＤＰの密閉型障壁を形成する
ための黒色の障壁材料としては、一般的に、ＰｂＯ、Ｂ
2 Ｏ3 、ＳｉＯ2 、Ａｌ2 Ｏ3 からなるガラスフリット
と、Ａｌ2 Ｏ3 粉末等からなる骨材と、Ｆｅ2 Ｏ3 、Ｍ
ｎ3 Ｏ4 、ＣｏＯを主成分とする黒色顔料からなる混合
粉末と、バインダー（樹脂）、および溶剤を混合したペ
ーストを用いている。そして、この障壁材料を用いて密
閉型障壁を形成した場合、焼成時、焼成収縮のバランス
により、行方向障壁の収縮影響を受けて、列方向障壁が
傾斜する箇所がある。
ための黒色の障壁材料としては、一般的に、ＰｂＯ、Ｂ
2 Ｏ3 、ＳｉＯ2 、Ａｌ2 Ｏ3 からなるガラスフリット
と、Ａｌ2 Ｏ3 粉末等からなる骨材と、Ｆｅ2 Ｏ3 、Ｍ
ｎ3 Ｏ4 、ＣｏＯを主成分とする黒色顔料からなる混合
粉末と、バインダー（樹脂）、および溶剤を混合したペ
ーストを用いている。そして、この障壁材料を用いて密
閉型障壁を形成した場合、焼成時、焼成収縮のバランス
により、行方向障壁の収縮影響を受けて、列方向障壁が
傾斜する箇所がある。
【００１０】しかし、本発明のＰＤＰの障壁構造の場
合、前記障壁材料を用いた場合であっても、前記隣接す
る密閉型障壁間隔内または該密閉型障壁の外周囲で、該
密閉型障壁の行方向障壁または列方向障壁の延長線上ま
たはその近傍に形成した単数または複数本のダミー障壁
が、焼成時の該行方向障壁または列方向障壁の収縮を吸
収することになり、前記密閉型障壁の放電セル内側への
傾斜を抑制できる。
合、前記障壁材料を用いた場合であっても、前記隣接す
る密閉型障壁間隔内または該密閉型障壁の外周囲で、該
密閉型障壁の行方向障壁または列方向障壁の延長線上ま
たはその近傍に形成した単数または複数本のダミー障壁
が、焼成時の該行方向障壁または列方向障壁の収縮を吸
収することになり、前記密閉型障壁の放電セル内側への
傾斜を抑制できる。
【００１１】
【発明の効果】以上の説明より明らかなように、本発明
のＰＤＰの障壁構造によれば、密閉型障壁の放電セル内
側への傾斜を抑制できるので、後工程である放電セル内
の障壁面への蛍光体の塗布を容易かつ確実に行え、ＰＤ
Ｐの作製歩留が向上するという効果を有する。また、障
壁幅が微細な障壁や、障壁高さを高くした障壁について
も障壁傾斜の不具合がなくなり、大型で、しかも高精細
なＰＤＰが歩留よく作製できるという効果を有する。
のＰＤＰの障壁構造によれば、密閉型障壁の放電セル内
側への傾斜を抑制できるので、後工程である放電セル内
の障壁面への蛍光体の塗布を容易かつ確実に行え、ＰＤ
Ｐの作製歩留が向上するという効果を有する。また、障
壁幅が微細な障壁や、障壁高さを高くした障壁について
も障壁傾斜の不具合がなくなり、大型で、しかも高精細
なＰＤＰが歩留よく作製できるという効果を有する。
【００１２】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照しながら、本発
明を具体化した最良の実施形態についてＤＣ型ＰＤＰを
例として説明する。ここで、図１は、本実施形態のＤＣ
型ＰＤＰの密閉型障壁の構造を示し、（ａ）は平面図、
（ｂ）は斜視図である。
明を具体化した最良の実施形態についてＤＣ型ＰＤＰを
例として説明する。ここで、図１は、本実施形態のＤＣ
型ＰＤＰの密閉型障壁の構造を示し、（ａ）は平面図、
（ｂ）は斜視図である。
【００１３】本実施形態のＰＤＰは、前述した従来技術
で説明し、かつ図４に示すように、ＤＣ型ＰＤＰの障壁
構造であって、一定の空間を隔てて絶縁板よりなる前面
板１と、背面板２を配し、両絶縁板１，２間に相対向し
てアノード電極（陽極）３とカソード電極（陰極）４を
設け、また両電極３，４間に光のクローストークが発生
するのを防ぎ、放電空間を確保するための障壁５を設
け、該障壁５により表示セル６と補助セル１０を形成
し、該電極間にキセノン等の希ガスを封入し、絶縁板
１，２に形成された両電極３，４の交差部が一つの画素
（表示セル６）に対応する構成としている。
で説明し、かつ図４に示すように、ＤＣ型ＰＤＰの障壁
構造であって、一定の空間を隔てて絶縁板よりなる前面
板１と、背面板２を配し、両絶縁板１，２間に相対向し
てアノード電極（陽極）３とカソード電極（陰極）４を
設け、また両電極３，４間に光のクローストークが発生
するのを防ぎ、放電空間を確保するための障壁５を設
け、該障壁５により表示セル６と補助セル１０を形成
し、該電極間にキセノン等の希ガスを封入し、絶縁板
１，２に形成された両電極３，４の交差部が一つの画素
（表示セル６）に対応する構成としている。
【００１４】障壁５は、行方向障壁１１と列方向障壁１
２からなる複数個の密閉型障壁として形成してある。そ
して、行方向障壁１１の延長線上またはその近傍であっ
て、放電に関与しない補助セル１０上に、隣接する密閉
型障壁５，５間を接続し、障壁の焼成収縮の方向性を抑
制する単数または複数本のダミー障壁１３を設けている
（図１参照）。
２からなる複数個の密閉型障壁として形成してある。そ
して、行方向障壁１１の延長線上またはその近傍であっ
て、放電に関与しない補助セル１０上に、隣接する密閉
型障壁５，５間を接続し、障壁の焼成収縮の方向性を抑
制する単数または複数本のダミー障壁１３を設けている
（図１参照）。
【００１５】ここで、ダミー障壁１３の幅ｘ1 および高
さｈ1 は、表示セル６の内寸法（表示セル６の内寸法に
おける行方向障壁１１の障壁長さａ、列方向障壁１２の
障壁長さｂ）、行方向障壁１１と列方向障壁１２の幅ｙ
2 および高さｈ2 、補助セル１０の間隔ｚにより決定す
る。
さｈ1 は、表示セル６の内寸法（表示セル６の内寸法に
おける行方向障壁１１の障壁長さａ、列方向障壁１２の
障壁長さｂ）、行方向障壁１１と列方向障壁１２の幅ｙ
2 および高さｈ2 、補助セル１０の間隔ｚにより決定す
る。
【００１６】例えば、フォトリソグラフィ法による１０
０μｍ以下の微細な障壁幅の形成では、密閉型障壁５の
行方向障壁１１と列方向障壁１２の各障壁幅ｙ2 が５０
μｍ、高さｈ2 が１００〜２００μｍ、表示セル６の内
寸法における行方向障壁１１の障壁長さａが５５０μ
ｍ、列方向障壁１２の障壁長さｂが６５０μｍ、補助セ
ル１０の間隔ｚが１５０μｍの場合、ダミー障壁１３の
高さｈ1 は、障壁高さｈ2 の２０％以上の高さで、かつ
１００μｍ以下が最適である。これは、ダミー障壁１３
の高さｈ1 が、障壁高さの２０％未満の高さであると、
焼成収縮による列方向障壁１２の傾斜を抑制することが
できず、１００μｍよりも高いとパターン形成時の補助
セル１０部分の現像が困難となり、残渣が残り、放電特
性に悪影響を与えるので好ましくないことによる。ま
た、ダミー障壁１３の幅ｘ1 は、２０μｍ以上、３００
μｍ未満が好ましい。これは、２０μｍ未満では焼成収
縮による障壁の傾斜を抑制することができず、また３０
０μｍ以上ではパターン形成時の補助セル部の現像が困
難となり、残渣が残るため放電特性に悪影響を与えるの
で好ましくないことによる。最適には、密閉型障壁５の
行方向障壁１１と列方向障壁１２の各障壁幅ｙ2 と同じ
５０μｍが好ましい。これは、ダミー障壁１３および行
方向障壁１１と列方向障壁１２の連結部の収縮バランス
が良くなるためである。
０μｍ以下の微細な障壁幅の形成では、密閉型障壁５の
行方向障壁１１と列方向障壁１２の各障壁幅ｙ2 が５０
μｍ、高さｈ2 が１００〜２００μｍ、表示セル６の内
寸法における行方向障壁１１の障壁長さａが５５０μ
ｍ、列方向障壁１２の障壁長さｂが６５０μｍ、補助セ
ル１０の間隔ｚが１５０μｍの場合、ダミー障壁１３の
高さｈ1 は、障壁高さｈ2 の２０％以上の高さで、かつ
１００μｍ以下が最適である。これは、ダミー障壁１３
の高さｈ1 が、障壁高さの２０％未満の高さであると、
焼成収縮による列方向障壁１２の傾斜を抑制することが
できず、１００μｍよりも高いとパターン形成時の補助
セル１０部分の現像が困難となり、残渣が残り、放電特
性に悪影響を与えるので好ましくないことによる。ま
た、ダミー障壁１３の幅ｘ1 は、２０μｍ以上、３００
μｍ未満が好ましい。これは、２０μｍ未満では焼成収
縮による障壁の傾斜を抑制することができず、また３０
０μｍ以上ではパターン形成時の補助セル部の現像が困
難となり、残渣が残るため放電特性に悪影響を与えるの
で好ましくないことによる。最適には、密閉型障壁５の
行方向障壁１１と列方向障壁１２の各障壁幅ｙ2 と同じ
５０μｍが好ましい。これは、ダミー障壁１３および行
方向障壁１１と列方向障壁１２の連結部の収縮バランス
が良くなるためである。
【００１７】次に、本実施形態のＤＣ型ＰＤＰの障壁構
造のフォトリソグラフィ法による形成方法について説明
する。まず黒色の障壁材料として、ＰｂＯ、Ｂ2 Ｏ3 、
ＳｉＯ2 、Ａｌ2 Ｏ3 からなるガラスフリットと、骨材
としてのＡｌ2 Ｏ3 粉末、およびＦｅ2 Ｏ3 、Ｍｎ3 Ｏ
4 、ＣｏＯを主成分とする黒色顔料からなる混合粉末に
紫外線硬化樹脂と溶剤を混合したペーストを作製する。
そして、このペーストを電極および多種パターンが形成
された絶縁体上にロールコーターにて塗布し乾燥した
後、障壁形成部に４２０ｎｍの紫外線を選択的に照射
（露光）し障壁部を紫外線硬化させる。そして、この塗
布および露光の工程を障壁の所望生厚みとなるまで数回
繰り返す。この際、ダミー障壁の形成は、前述のダミー
障壁高さを得るため、密閉型障壁とダミー障壁を形成す
るための第１の露光マスクと密閉型障壁のみを形成する
ための第２の露光マスクを必要により使い分けることに
より、所望とするダミー障壁部を紫外線硬化させる。次
に、現像液を用いて未硬化部を現像除去し、障壁パター
ンを得る。最後に５５０℃×１５分で焼成し、補助セル
部にダミー障壁を有する密閉型の黒色障壁を得る。
造のフォトリソグラフィ法による形成方法について説明
する。まず黒色の障壁材料として、ＰｂＯ、Ｂ2 Ｏ3 、
ＳｉＯ2 、Ａｌ2 Ｏ3 からなるガラスフリットと、骨材
としてのＡｌ2 Ｏ3 粉末、およびＦｅ2 Ｏ3 、Ｍｎ3 Ｏ
4 、ＣｏＯを主成分とする黒色顔料からなる混合粉末に
紫外線硬化樹脂と溶剤を混合したペーストを作製する。
そして、このペーストを電極および多種パターンが形成
された絶縁体上にロールコーターにて塗布し乾燥した
後、障壁形成部に４２０ｎｍの紫外線を選択的に照射
（露光）し障壁部を紫外線硬化させる。そして、この塗
布および露光の工程を障壁の所望生厚みとなるまで数回
繰り返す。この際、ダミー障壁の形成は、前述のダミー
障壁高さを得るため、密閉型障壁とダミー障壁を形成す
るための第１の露光マスクと密閉型障壁のみを形成する
ための第２の露光マスクを必要により使い分けることに
より、所望とするダミー障壁部を紫外線硬化させる。次
に、現像液を用いて未硬化部を現像除去し、障壁パター
ンを得る。最後に５５０℃×１５分で焼成し、補助セル
部にダミー障壁を有する密閉型の黒色障壁を得る。
【００１８】また、感光性スラリー液を用いたフォトリ
ソグラフィ法による蛍光面は、密閉型障壁の表示セル側
に蛍光体を含む感光性スラリー液をスプレー法、ディッ
プ法、スピナー法等のいずれかによって塗布した後、該
蛍光面のパターンに対応したフォトマスクを用いて露光
し、更に現像、焼成することによって所望位置に塗り分
けられた蛍光面を形成できる。ここで、前記感光性スラ
リーとしては、例えば、蛍光体、ポリビニルアルコール
およびジアゾニウム塩を含む混合物に必要に応じて消泡
剤や界面活性剤を添加したものを用いる。
ソグラフィ法による蛍光面は、密閉型障壁の表示セル側
に蛍光体を含む感光性スラリー液をスプレー法、ディッ
プ法、スピナー法等のいずれかによって塗布した後、該
蛍光面のパターンに対応したフォトマスクを用いて露光
し、更に現像、焼成することによって所望位置に塗り分
けられた蛍光面を形成できる。ここで、前記感光性スラ
リーとしては、例えば、蛍光体、ポリビニルアルコール
およびジアゾニウム塩を含む混合物に必要に応じて消泡
剤や界面活性剤を添加したものを用いる。
【００１９】
【実施例】次に、前述した実施形態におけるＤＣ型ＰＤ
Ｐの障壁構造の作用・効果を確認するために、密閉型障
壁の障壁高さと、ダミー障壁の障壁高さを変えて、密閉
型障壁の列方向障壁の底部と頂部との距離で表される障
壁最大傾き距離ｔ（図１（ｂ）、図３（ｂ）参照）およ
び補助セル部分の残渣状況を観察し、密閉型障壁として
の綜合判定を行った。その結果を表１に示す。なお、障
壁最大傾き距離ｔは、１０μｍ以下であれば蛍光体塗布
を表示セルの細部まで行うことができ良好な蛍光面を得
ることができた。
Ｐの障壁構造の作用・効果を確認するために、密閉型障
壁の障壁高さと、ダミー障壁の障壁高さを変えて、密閉
型障壁の列方向障壁の底部と頂部との距離で表される障
壁最大傾き距離ｔ（図１（ｂ）、図３（ｂ）参照）およ
び補助セル部分の残渣状況を観察し、密閉型障壁として
の綜合判定を行った。その結果を表１に示す。なお、障
壁最大傾き距離ｔは、１０μｍ以下であれば蛍光体塗布
を表示セルの細部まで行うことができ良好な蛍光面を得
ることができた。
【００２０】
【表１】
【００２１】そして、表１に示すようにダミー障壁の障
壁高さが、密閉型障壁の障壁高さの２０％以上で、かつ
１００μｍ以下である場合、障壁最大傾き距離ｔを１０
μｍ以下に抑えることができ、蛍光体塗布が良好で、か
つ補助セル部に残渣を残さない密閉型障壁の形成が可能
であるのに対し、比較例で示すように、ダミー障壁の障
壁高さが、密閉型障壁の障壁高さの２０％未満では障壁
最大傾き距離ｔが大きく蛍光体塗布が細部まで行えな
く、また１００μｍより高い場合では、補助セル部の残
渣が残り、蛍光体塗布あるいは障壁形成の歩留を低下さ
せる原因となるということが判明した。
壁高さが、密閉型障壁の障壁高さの２０％以上で、かつ
１００μｍ以下である場合、障壁最大傾き距離ｔを１０
μｍ以下に抑えることができ、蛍光体塗布が良好で、か
つ補助セル部に残渣を残さない密閉型障壁の形成が可能
であるのに対し、比較例で示すように、ダミー障壁の障
壁高さが、密閉型障壁の障壁高さの２０％未満では障壁
最大傾き距離ｔが大きく蛍光体塗布が細部まで行えな
く、また１００μｍより高い場合では、補助セル部の残
渣が残り、蛍光体塗布あるいは障壁形成の歩留を低下さ
せる原因となるということが判明した。
【００２２】なお、本発明は、上述した実施形態に限定
されるものではなく、本発明の主旨を変更しない範囲内
で変形実施できる構成を含む。また、前述の実施形態で
は、ダミー障壁をフォトリソグラフィ法を用いて形成し
た時の寸法を示したが、この寸法は、密閉型障壁の表示
セル寸法、幅、高さ、材料（収縮率）さらに補助セルの
間隔等により決められ、さらに厚膜印刷法など他の形成
法により得られた障壁についてもあてはまることは当然
である。更に、前述した実施形態においては、前面板に
黒色障壁を形成した構造について説明したが、背面板に
障壁を形成した構成あるいは白色障壁についてもあては
まることは当然である。
されるものではなく、本発明の主旨を変更しない範囲内
で変形実施できる構成を含む。また、前述の実施形態で
は、ダミー障壁をフォトリソグラフィ法を用いて形成し
た時の寸法を示したが、この寸法は、密閉型障壁の表示
セル寸法、幅、高さ、材料（収縮率）さらに補助セルの
間隔等により決められ、さらに厚膜印刷法など他の形成
法により得られた障壁についてもあてはまることは当然
である。更に、前述した実施形態においては、前面板に
黒色障壁を形成した構造について説明したが、背面板に
障壁を形成した構成あるいは白色障壁についてもあては
まることは当然である。
【００２３】ところで、前述した実施形態においては、
ＰＤＰとして、ＤＣ型ＰＤＰについて説明したが、ＡＣ
型ＰＤＰにおける障壁構造として適用できることは当然
である。また、前述した実施形態では、密閉型障壁が傾
斜するのを抑制するための単数または複数本のダミー障
壁を、図１に示すように、隣接する密閉型障壁間隔内
で、該密閉型障壁の行方向障壁または列方向障壁の延長
線上またはその近傍に形成した構成で説明したが、図５
に示すように、密閉型障壁の外周囲に形成した構成とし
てもよい。
ＰＤＰとして、ＤＣ型ＰＤＰについて説明したが、ＡＣ
型ＰＤＰにおける障壁構造として適用できることは当然
である。また、前述した実施形態では、密閉型障壁が傾
斜するのを抑制するための単数または複数本のダミー障
壁を、図１に示すように、隣接する密閉型障壁間隔内
で、該密閉型障壁の行方向障壁または列方向障壁の延長
線上またはその近傍に形成した構成で説明したが、図５
に示すように、密閉型障壁の外周囲に形成した構成とし
てもよい。
【図１】 本発明の実施形態のＰＤＰの密閉型障壁の構
造を示し、（ａ）は平面図、（ｂ）は斜視図、（ｃ）は
他の実施形態の平面図である。
造を示し、（ａ）は平面図、（ｂ）は斜視図、（ｃ）は
他の実施形態の平面図である。
【図２】 従来例のＰＤＰにおける焼成前の密閉型障壁
の構造を示し、（ａ）は平面図、（ｂ）は斜視図であ
る。
の構造を示し、（ａ）は平面図、（ｂ）は斜視図であ
る。
【図３】 従来例のＰＤＰにおける焼成後の密閉型障
壁の構造を示し、（ａ）は平面図、（ｂ）は斜視図であ
る。
壁の構造を示し、（ａ）は平面図、（ｂ）は斜視図であ
る。
【図４】 ＤＣ型ＰＤＰの模式図である。
【図５】 本発明の他の実施形態のＰＤＰの密閉型障壁
の平面図である。
の平面図である。
１・・・前面板（絶縁体）、２・・・背面板（絶縁
体）、３・・・アノード電極（陽極）、４・・・カソー
ド電極（陰極）、５・・・密閉型障壁、６・・・表示セ
ル、７，８，９・・・螢光面、１０・・・補助セル、１
１・・・密閉型障壁の行方向障壁、１２・・・列方向障
壁、１３・・・ダミー障壁、ｘ1 ・・・ダミー障壁の障
壁幅、ｈ1 ・・・ダミー障壁の障壁高さ、ａ・・・表示
セル６の内寸法における行方向障壁の障壁長さ、ｂ・・
・列方向障壁の障壁長さ、ｙ2 ・・・行方向障壁と列方
向障壁の障壁幅、ｈ2 ・・・行方向障壁と列方向障壁の
障壁高さ、ｚ・・・補助セルの間隔、ｔ・・・障壁傾き
距離
体）、３・・・アノード電極（陽極）、４・・・カソー
ド電極（陰極）、５・・・密閉型障壁、６・・・表示セ
ル、７，８，９・・・螢光面、１０・・・補助セル、１
１・・・密閉型障壁の行方向障壁、１２・・・列方向障
壁、１３・・・ダミー障壁、ｘ1 ・・・ダミー障壁の障
壁幅、ｈ1 ・・・ダミー障壁の障壁高さ、ａ・・・表示
セル６の内寸法における行方向障壁の障壁長さ、ｂ・・
・列方向障壁の障壁長さ、ｙ2 ・・・行方向障壁と列方
向障壁の障壁幅、ｈ2 ・・・行方向障壁と列方向障壁の
障壁高さ、ｚ・・・補助セルの間隔、ｔ・・・障壁傾き
距離
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 河井 貴志 東京都世田谷区砧一丁目10番11号 日本放 送協会放送技術研究所内 (72)発明者 宗本 英治 東京都世田谷区砧一丁目10番11号 日本放 送協会放送技術研究所内
Claims (1)
- 【請求項１】 一定の空間を隔てて互いに平行にかつ対
向して配した前面絶縁板と背面絶縁板の内側に、相対向
して交差する二組の電極群を設け、かつ両電極群間の直
交する部分に放電セルを形成するための障壁を形成した
プラズマディスプレイパネルにおいて、該障壁が、前記
前面絶縁板上または背面絶縁板上のいずれか一方の電極
群に平行する列方向障壁と該電極群と直交する行方向障
壁で四方を囲む密閉型放電セルを形成する複数個の密閉
型障壁を有し、隣接する該密閉型障壁間隔内または該密
閉型障壁の外周囲で、該密閉型障壁の行方向障壁または
列方向障壁の延長線上またはその近傍に、該密閉型障壁
が傾斜するのを抑制するための単数または複数本のダミ
ー障壁を設けてなることを特徴とするプラズマディスプ
レイパネルの障壁構造。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7291863A JPH09115452A (ja) | 1995-10-13 | 1995-10-13 | プラズマディスプレイパネルの障壁構造 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7291863A JPH09115452A (ja) | 1995-10-13 | 1995-10-13 | プラズマディスプレイパネルの障壁構造 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09115452A true JPH09115452A (ja) | 1997-05-02 |
Family
ID=17774409
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7291863A Pending JPH09115452A (ja) | 1995-10-13 | 1995-10-13 | プラズマディスプレイパネルの障壁構造 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09115452A (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003086105A (ja) * | 2001-09-10 | 2003-03-20 | Nec Corp | プラズマディスプレイ及びその製造方法 |
| KR100471969B1 (ko) * | 2002-09-04 | 2005-03-10 | 삼성에스디아이 주식회사 | 더미 격벽을 갖는 플라즈마 디스플레이 패널 |
| KR20050111906A (ko) * | 2004-05-24 | 2005-11-29 | 삼성에스디아이 주식회사 | 플라즈마 디스플레이 패널 |
| KR20060117034A (ko) * | 2005-05-12 | 2006-11-16 | 삼성전자주식회사 | 표시장치 및 이의 제조 방법 |
| KR100670245B1 (ko) * | 2004-12-09 | 2007-01-16 | 삼성에스디아이 주식회사 | 플라즈마 디스플레이 패널 |
| KR100715295B1 (ko) * | 2001-08-28 | 2007-05-08 | 가부시끼가이샤 히다치 세이사꾸쇼 | 플라즈마 디스플레이 패널 |
| JP2008091093A (ja) * | 2006-09-29 | 2008-04-17 | Fujitsu Hitachi Plasma Display Ltd | プラズマディスプレイパネル |
| USRE40502E1 (en) | 2000-09-06 | 2008-09-16 | Fujitsu Hitachi Plasma Display Limited | Plasma display panel and method for manufacturing the same |
| USRE44445E1 (en) * | 2001-04-09 | 2013-08-20 | Hitachi Consumer Electronics Co., Ltd. | Method for forming partitions of plasma display panel by using sandblasting processing |
-
1995
- 1995-10-13 JP JP7291863A patent/JPH09115452A/ja active Pending
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| USRE40502E1 (en) | 2000-09-06 | 2008-09-16 | Fujitsu Hitachi Plasma Display Limited | Plasma display panel and method for manufacturing the same |
| USRE44445E1 (en) * | 2001-04-09 | 2013-08-20 | Hitachi Consumer Electronics Co., Ltd. | Method for forming partitions of plasma display panel by using sandblasting processing |
| KR100715295B1 (ko) * | 2001-08-28 | 2007-05-08 | 가부시끼가이샤 히다치 세이사꾸쇼 | 플라즈마 디스플레이 패널 |
| JP2003086105A (ja) * | 2001-09-10 | 2003-03-20 | Nec Corp | プラズマディスプレイ及びその製造方法 |
| KR100471969B1 (ko) * | 2002-09-04 | 2005-03-10 | 삼성에스디아이 주식회사 | 더미 격벽을 갖는 플라즈마 디스플레이 패널 |
| KR20050111906A (ko) * | 2004-05-24 | 2005-11-29 | 삼성에스디아이 주식회사 | 플라즈마 디스플레이 패널 |
| KR100670245B1 (ko) * | 2004-12-09 | 2007-01-16 | 삼성에스디아이 주식회사 | 플라즈마 디스플레이 패널 |
| KR20060117034A (ko) * | 2005-05-12 | 2006-11-16 | 삼성전자주식회사 | 표시장치 및 이의 제조 방법 |
| JP2008091093A (ja) * | 2006-09-29 | 2008-04-17 | Fujitsu Hitachi Plasma Display Ltd | プラズマディスプレイパネル |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR100807942B1 (ko) | 플라즈마 디스플레이 패널과 그 제조방법 | |
| JPH09115452A (ja) | プラズマディスプレイパネルの障壁構造 | |
| KR100692095B1 (ko) | 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽, 플라즈마 디스플레이 패널 및 그의 제조방법 | |
| JP2814557B2 (ja) | ガス放電パネルの製造方法 | |
| KR100692820B1 (ko) | 플라즈마 디스플레이 장치, 플라즈마 디스플레이 패널 및그의 제조방법 | |
| US20070013308A1 (en) | Black top green sheet, plasma display panel, and method for manufacturing the same | |
| KR100350652B1 (ko) | 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 및 형광체 형성 방법 | |
| US7722423B2 (en) | Method of manufacturing plasma display panel with concave barrier wall portion | |
| KR100587265B1 (ko) | 플라즈마 디스플레이 패널의 형광체 도포방법 | |
| KR100467076B1 (ko) | 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법 | |
| JP2002216640A (ja) | ガス放電表示装置およびその製造方法 | |
| KR100489611B1 (ko) | 격벽 형성용 페이스트 조성물 및플라즈마디스플레이패널의 하판제조방법 | |
| JP2001006537A (ja) | プラズマディスプレイパネル及びその製造方法 | |
| KR100738221B1 (ko) | 플라즈마 디스플레이 패널 및 그의 제조방법 | |
| KR100692087B1 (ko) | 플라즈마 디스플레이 장치, 플라즈마 디스플레이 패널 및그의 제조방법 | |
| JP2941346B2 (ja) | プラズマディスプレイパネル及びその製造方法 | |
| EP1742244A2 (en) | Method for manufacturing plasma display panel | |
| JP2002372919A (ja) | 凹凸パターン形成方法 | |
| KR100525891B1 (ko) | 격벽 형성용 드라이 필름 레지스트 및 플라즈마디스플레이패널의 하판제조방법 | |
| KR100698157B1 (ko) | 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 제조 방법 | |
| JP2002352729A (ja) | ガス放電パネル | |
| JP2000262944A (ja) | 蛍光体塗布ノズルおよび蛍光体層の形成方法 | |
| JP2005116349A (ja) | プラズマディスプレイ装置 | |
| KR20060109547A (ko) | 플라즈마 디스플레이 패널 및 그의 제조방법 | |
| KR100392949B1 (ko) | 고주파 플라즈마 디스플레이 패널의 형광체 제조방법 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20040525 |