JPH09107018A - ウェーハセンタリング装置 - Google Patents
ウェーハセンタリング装置Info
- Publication number
- JPH09107018A JPH09107018A JP26526795A JP26526795A JPH09107018A JP H09107018 A JPH09107018 A JP H09107018A JP 26526795 A JP26526795 A JP 26526795A JP 26526795 A JP26526795 A JP 26526795A JP H09107018 A JPH09107018 A JP H09107018A
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- JP
- Japan
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- wafer
- clamp
- center
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- Pending
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- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】段取り替え無しで且つ精度よくウェーハのセン
タリングを行うことができるウェーハセンタリング装置
の提供。 【解決手段】ウェーハ４０を挟持するクランプローラ３
２ａ〜３２ｄは、同心上に９０°間隔で配設されるとと
もに、半径方向にスライド移動自在に支持され、中心に
向かう方向に定張力バネ２４に付勢されている。これに
より、クランプローラ３２ａ〜３２ｄは、如何なる径の
ウェーハ４０を挟持する場合であっても、常に９０°の
間隔を維持してウェーハ４０を挟持することができる。
また、定張力バネ２４で付勢することにより、如何なる
径のウェーハ４０であっても、常に一定の力でウェーハ
４０を挟持することができる。したがって、如何なる径
のウェーハ４０であっても同一条件でウェーハ４０のセ
ンタリングを行うことができるので、センタリング精度
を高精度に維持することができる。またこれにより、段
取り替え無しでウェーハ４０のセンタリングを行うこと
ができるので、操作者の作業時間を短縮することができ
る。
タリングを行うことができるウェーハセンタリング装置
の提供。 【解決手段】ウェーハ４０を挟持するクランプローラ３
２ａ〜３２ｄは、同心上に９０°間隔で配設されるとと
もに、半径方向にスライド移動自在に支持され、中心に
向かう方向に定張力バネ２４に付勢されている。これに
より、クランプローラ３２ａ〜３２ｄは、如何なる径の
ウェーハ４０を挟持する場合であっても、常に９０°の
間隔を維持してウェーハ４０を挟持することができる。
また、定張力バネ２４で付勢することにより、如何なる
径のウェーハ４０であっても、常に一定の力でウェーハ
４０を挟持することができる。したがって、如何なる径
のウェーハ４０であっても同一条件でウェーハ４０のセ
ンタリングを行うことができるので、センタリング精度
を高精度に維持することができる。またこれにより、段
取り替え無しでウェーハ４０のセンタリングを行うこと
ができるので、操作者の作業時間を短縮することができ
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はウェーハセンタリン
グ装置に係り、特に半導体素子の素材となるシリコン等
のウェーハのセンタリングを行うウェーハセンタリング
装置に関する。
グ装置に係り、特に半導体素子の素材となるシリコン等
のウェーハのセンタリングを行うウェーハセンタリング
装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、この種のウェーハセンタリング装
置は、図２に示すように、ガイドレール１、１上を一対
のクランプアーム２Ａ、２Ｂがスライド移動自在に支持
され、そのクランプアーム２Ａ、２Ｂの両端部に設けら
れたクランプローラ３ａ、３ｂ、３ｃ、３ｄでウェーハ
４の外周を挟持することにより、ウェーハ４のセンタリ
ングを行っている。
置は、図２に示すように、ガイドレール１、１上を一対
のクランプアーム２Ａ、２Ｂがスライド移動自在に支持
され、そのクランプアーム２Ａ、２Ｂの両端部に設けら
れたクランプローラ３ａ、３ｂ、３ｃ、３ｄでウェーハ
４の外周を挟持することにより、ウェーハ４のセンタリ
ングを行っている。
【０００３】また、同図に示すように、前記一対のクラ
ンプアーム２Ａ、２Ｂは、スプリング５で連結されてお
り、このスプリング５により、前記クランプローラ３ａ
〜３ｄは、互いに近づく方向に付勢されてウェーハ４を
挟持する。
ンプアーム２Ａ、２Ｂは、スプリング５で連結されてお
り、このスプリング５により、前記クランプローラ３ａ
〜３ｄは、互いに近づく方向に付勢されてウェーハ４を
挟持する。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記従
来の装置で小径から大径までのウェーハ４を段取り替え
無しでセンタリングを行うと、ウェーハ４の径によって
挟持する力が異なり、大径のウェーハ４のセンタリング
を行う際に、スプリング５の付勢力が強くなりすぎると
いう欠点があった。
来の装置で小径から大径までのウェーハ４を段取り替え
無しでセンタリングを行うと、ウェーハ４の径によって
挟持する力が異なり、大径のウェーハ４のセンタリング
を行う際に、スプリング５の付勢力が強くなりすぎると
いう欠点があった。
【０００５】また、精度よくセンタリングを行うために
は、４つのクランプローラ３ａ〜３ｄが等間隔（９０°
間隔）でウェーハ４を挟持することが最も良い条件とさ
れるが、前記従来の装置では、ウェーハ４の径が変わる
と等間隔で挟持できないという欠点があった。本発明は
このような事情に鑑みてなされたもので、段取り替え無
しで且つ精度よくウェーハのセンタリングを行うことが
できるウェーハセンタリング装置を提供することを目的
とする。
は、４つのクランプローラ３ａ〜３ｄが等間隔（９０°
間隔）でウェーハ４を挟持することが最も良い条件とさ
れるが、前記従来の装置では、ウェーハ４の径が変わる
と等間隔で挟持できないという欠点があった。本発明は
このような事情に鑑みてなされたもので、段取り替え無
しで且つ精度よくウェーハのセンタリングを行うことが
できるウェーハセンタリング装置を提供することを目的
とする。
【０００６】
【課題を解決する為の手段】本発明は前記目的を達成す
る為に、円周上に等間隔で配設されるとともに、半径方
向にスライド移動自在に支持された少なくとも３個のク
ランプローラと、前記クランプローラを半径方向内側に
付勢する付勢手段と、前記クランプローラを半径方向外
側に移動させる移動手段と、からなり、前記移動手段で
半径方向外側に移動させた前記クランプローラの中心に
ウェーハをセットし、前記付勢手段で前記クランプロー
ラを半径方向内側に付勢して前記ウェーハの外周を前記
クランプローラで挟持することにより前記ウェーハのセ
ンタリングを行うことを特徴とする。
る為に、円周上に等間隔で配設されるとともに、半径方
向にスライド移動自在に支持された少なくとも３個のク
ランプローラと、前記クランプローラを半径方向内側に
付勢する付勢手段と、前記クランプローラを半径方向外
側に移動させる移動手段と、からなり、前記移動手段で
半径方向外側に移動させた前記クランプローラの中心に
ウェーハをセットし、前記付勢手段で前記クランプロー
ラを半径方向内側に付勢して前記ウェーハの外周を前記
クランプローラで挟持することにより前記ウェーハのセ
ンタリングを行うことを特徴とする。
【０００７】本発明によれば、ウェーハを挟持するクラ
ンプローラは円周上に等間隔で配設されるとともに、半
径方向にスライド移動自在に支持される。したがって、
前記クランプローラは、如何なる径のウェーハを挟持す
る場合であっても、常にその間隔を一定に保つことがで
きる。したがって、センタリング精度を高精度に維持す
ることができる。
ンプローラは円周上に等間隔で配設されるとともに、半
径方向にスライド移動自在に支持される。したがって、
前記クランプローラは、如何なる径のウェーハを挟持す
る場合であっても、常にその間隔を一定に保つことがで
きる。したがって、センタリング精度を高精度に維持す
ることができる。
【０００８】
【発明の実施の形態】以下添付図面に従って本発明に係
るウェーハセンタリング装置の好ましい実施の形態につ
いて詳説する。図１は、本発明に係るウェーハセンタリ
ング装置の実施の形態の平面図である。同図に示すよう
に、前記ウェーハセンタリング装置１０は、ベースプレ
ート１２を有し、ベースプレート１２上には、横方向に
一対のガイドレール１４、１４が敷設されている。この
ガイドレール１４、１４上には、一対のスライダ１６
Ａ、１６Ｂが各々スライド移動自在に支持されている。
るウェーハセンタリング装置の好ましい実施の形態につ
いて詳説する。図１は、本発明に係るウェーハセンタリ
ング装置の実施の形態の平面図である。同図に示すよう
に、前記ウェーハセンタリング装置１０は、ベースプレ
ート１２を有し、ベースプレート１２上には、横方向に
一対のガイドレール１４、１４が敷設されている。この
ガイドレール１４、１４上には、一対のスライダ１６
Ａ、１６Ｂが各々スライド移動自在に支持されている。
【０００９】前記スライダ１６Ａ、１６Ｂには、それぞ
れラック１８Ａ、１８Ｂが固着されており、ラック１８
Ａ、１８Ｂは、同一のピニオンギア２０に螺合されてい
る。このピニオンギア２０は、前記スライダ１６Ａ、１
６Ｂの中間位置に配置され、その軸部には、ベースプレ
ート１２に設けられたモータ２２の回転軸２２Ａが連結
されている。したがって、前記スライダ１６Ａ、１６Ｂ
は、前記モータ２２を駆動することにより移動し、その
移動量は、ピニオンギア２０とラック１８Ａ、１８Ｂの
作用により常に同じになる。これにより、スライダ１６
Ａ、１６Ｂは、常にベースプレート１２の中心Ｏから等
距離の位置に維持される。
れラック１８Ａ、１８Ｂが固着されており、ラック１８
Ａ、１８Ｂは、同一のピニオンギア２０に螺合されてい
る。このピニオンギア２０は、前記スライダ１６Ａ、１
６Ｂの中間位置に配置され、その軸部には、ベースプレ
ート１２に設けられたモータ２２の回転軸２２Ａが連結
されている。したがって、前記スライダ１６Ａ、１６Ｂ
は、前記モータ２２を駆動することにより移動し、その
移動量は、ピニオンギア２０とラック１８Ａ、１８Ｂの
作用により常に同じになる。これにより、スライダ１６
Ａ、１６Ｂは、常にベースプレート１２の中心Ｏから等
距離の位置に維持される。
【００１０】また、前記一対のスライダ１６Ａ、１６Ｂ
は、定張力バネ２４で連結されている。したがって、互
いに離れる方向に移動すると、スライダ１６Ａ、１６Ｂ
には、その定張力バネ２４により互いに接近する方向に
付勢力が発生する。この定張力バネ２４で発生する付勢
力は、常に一定であり、したがって、スライダ１６Ａ、
１６Ｂがどの位置に移動しても、常に一定の力で互いに
接近する方向に付勢される。
は、定張力バネ２４で連結されている。したがって、互
いに離れる方向に移動すると、スライダ１６Ａ、１６Ｂ
には、その定張力バネ２４により互いに接近する方向に
付勢力が発生する。この定張力バネ２４で発生する付勢
力は、常に一定であり、したがって、スライダ１６Ａ、
１６Ｂがどの位置に移動しても、常に一定の力で互いに
接近する方向に付勢される。
【００１１】前記一対のスライダ１６Ａ、１６Ｂの上面
には、それぞれ長尺状の平板で形成されたクランプアー
ム２６Ａ、２６Ｂが設けられている。このクランプアー
ム２６Ａ、２６Ｂのうちスライダ１６Ｂに設けられたク
ランプアーム２６Ｂは、スライダ１６Ｂの上面に固着さ
れ、一方、スライダ１６Ａに設けられたクランプアーム
２６Ａは、スライダ１６Ａの上面中央に立設されたピン
２８に揺動自在に支持されている。
には、それぞれ長尺状の平板で形成されたクランプアー
ム２６Ａ、２６Ｂが設けられている。このクランプアー
ム２６Ａ、２６Ｂのうちスライダ１６Ｂに設けられたク
ランプアーム２６Ｂは、スライダ１６Ｂの上面に固着さ
れ、一方、スライダ１６Ａに設けられたクランプアーム
２６Ａは、スライダ１６Ａの上面中央に立設されたピン
２８に揺動自在に支持されている。
【００１２】前記クランプアーム２６Ａ、２６Ｂの両端
近傍には、それぞれクランプアーム２６Ａ、２６Ｂに沿
って長穴３０ａ、３０ｂ、３０ｃ、３０ｄが形成されて
おり、各長穴３０ａ〜３０ｄには、それぞれクランプロ
ーラ３２ａ〜３２ｄの軸部３２ａ´〜３２ｄ´の先端が
嵌合されている。一方、このクランプローラ３２ａ〜３
２ｄは、スライダ３４ａ〜３４ｄに回動自在に支持され
ており、スライダ３４ａ〜３４ｄはベースプレート１２
に配設されたガイドレール３６ａ〜３６ｄ上をスライド
移動自在に支持されている。このガイドレール３６ａ〜
３６ｄは、ベースプレート１２の中心Ｏを通り、互いに
直交する直線Ｌ１、Ｌ２に沿って配設されており、前記
クランプローラ３２ａ〜３２ｄは、このガイドレール３
６ａ〜３６ｄにガイドされることにより、前記直線Ｌ
１、Ｌ２上を移動する。
近傍には、それぞれクランプアーム２６Ａ、２６Ｂに沿
って長穴３０ａ、３０ｂ、３０ｃ、３０ｄが形成されて
おり、各長穴３０ａ〜３０ｄには、それぞれクランプロ
ーラ３２ａ〜３２ｄの軸部３２ａ´〜３２ｄ´の先端が
嵌合されている。一方、このクランプローラ３２ａ〜３
２ｄは、スライダ３４ａ〜３４ｄに回動自在に支持され
ており、スライダ３４ａ〜３４ｄはベースプレート１２
に配設されたガイドレール３６ａ〜３６ｄ上をスライド
移動自在に支持されている。このガイドレール３６ａ〜
３６ｄは、ベースプレート１２の中心Ｏを通り、互いに
直交する直線Ｌ１、Ｌ２に沿って配設されており、前記
クランプローラ３２ａ〜３２ｄは、このガイドレール３
６ａ〜３６ｄにガイドされることにより、前記直線Ｌ
１、Ｌ２上を移動する。
【００１３】したがって、クランプローラ３２ａ〜３２
ｄは、クランプアーム２６Ａ、２６Ｂが移動することに
より、前記長穴３０ａ〜３０ｄとガイドレール３６ａ〜
３６ｄの作用により、前記直線Ｌ１、Ｌ２上を同じ移動
量で移動し、その間隔は、常に９０°に維持される。前
記の如く構成された本発明に係るウェーハセンタリング
装置の実施の形態の作用は次の通りである。
ｄは、クランプアーム２６Ａ、２６Ｂが移動することに
より、前記長穴３０ａ〜３０ｄとガイドレール３６ａ〜
３６ｄの作用により、前記直線Ｌ１、Ｌ２上を同じ移動
量で移動し、その間隔は、常に９０°に維持される。前
記の如く構成された本発明に係るウェーハセンタリング
装置の実施の形態の作用は次の通りである。
【００１４】まず、モータ２２を駆動して、ピニオンギ
ア２０を図中矢印方向に回転させる。これにより、クラ
ンプアーム２６Ａ、２６Ｂは、前記ピニオンギア２０と
ラック１８Ａ、１８Ｂの作用により、互いに中心Ｏから
離れる方向に同じ移動量で移動する。このクランプアー
ム２６Ａ、２６Ｂの移動に伴い、各クランプローラ３２
ａ〜３２ｄも同じ移動量で移動するが、その移動方向
は、長穴３０ａ〜３０ｄとガイドレール３６ａ〜３６ｄ
の作用により、直線Ｌ１、Ｌ２上を中心Ｏから離れる方
向に移動する。
ア２０を図中矢印方向に回転させる。これにより、クラ
ンプアーム２６Ａ、２６Ｂは、前記ピニオンギア２０と
ラック１８Ａ、１８Ｂの作用により、互いに中心Ｏから
離れる方向に同じ移動量で移動する。このクランプアー
ム２６Ａ、２６Ｂの移動に伴い、各クランプローラ３２
ａ〜３２ｄも同じ移動量で移動するが、その移動方向
は、長穴３０ａ〜３０ｄとガイドレール３６ａ〜３６ｄ
の作用により、直線Ｌ１、Ｌ２上を中心Ｏから離れる方
向に移動する。
【００１５】前記クランプローラ３２ａ〜３２ｄを中心
Ｏから離れる方向に移動させることにより、各クランプ
ローラ３２ａ〜３２ｄの間隔が広がるので、その間隔が
最大限に広がった位置で、クランプローラ３２ａ〜３２
ｄの間にウェーハ４０をセットする。そして、前記モー
タ２２の駆動力を解除する。前記モータ２２の駆動力が
解除されると、定張力バネ２４の張力により、クランプ
アーム２６Ａ、２６Ｂは互いに近づく方向に同一の移動
量で移動し、これに伴って、各クランプローラ３２ａ〜
３２ｄも直線Ｌ１、Ｌ２上を中心Ｏに向かう方向に同一
の移動量で移動する。
Ｏから離れる方向に移動させることにより、各クランプ
ローラ３２ａ〜３２ｄの間隔が広がるので、その間隔が
最大限に広がった位置で、クランプローラ３２ａ〜３２
ｄの間にウェーハ４０をセットする。そして、前記モー
タ２２の駆動力を解除する。前記モータ２２の駆動力が
解除されると、定張力バネ２４の張力により、クランプ
アーム２６Ａ、２６Ｂは互いに近づく方向に同一の移動
量で移動し、これに伴って、各クランプローラ３２ａ〜
３２ｄも直線Ｌ１、Ｌ２上を中心Ｏに向かう方向に同一
の移動量で移動する。
【００１６】各クランプローラ３２ａ〜３２ｄが、中心
Ｏに向かう方向に移動してゆくことにより、各クランプ
ローラ３２ａ〜３２ｄがウェーハ４０の外周に当接して
ウェーハ４０を挟持するが、各クランプローラ３２ａ〜
３２ｄがウェーハ４０を挟持する過程において、ウェー
ハ４０の中心がベースプレート１２の中心Ｏと一致する
ように各クランプローラ３２ａ〜３２ｄがウェーハ４０
の外周を押圧して矯正することにより、ウェーハ４０の
センタリングが行われる。
Ｏに向かう方向に移動してゆくことにより、各クランプ
ローラ３２ａ〜３２ｄがウェーハ４０の外周に当接して
ウェーハ４０を挟持するが、各クランプローラ３２ａ〜
３２ｄがウェーハ４０を挟持する過程において、ウェー
ハ４０の中心がベースプレート１２の中心Ｏと一致する
ように各クランプローラ３２ａ〜３２ｄがウェーハ４０
の外周を押圧して矯正することにより、ウェーハ４０の
センタリングが行われる。
【００１７】このように、本実施の形態のウェーハセン
タリング装置によれば、ウェーハ４０を挟持するクラン
プローラ３２ａ〜３２ｄが、常に９０°の間隔を維持し
ながら移動するので、如何なる径のウェーハ４０であっ
ても、常に９０°の間隔でウェーハ４０を挟持すること
ができる。また、定張力バネ２４による張力でウェーハ
４０を挟持することにより、如何なる径のウェーハ４０
を挟持する場合であっても、常にその挟持する力を一定
に保つことができる。
タリング装置によれば、ウェーハ４０を挟持するクラン
プローラ３２ａ〜３２ｄが、常に９０°の間隔を維持し
ながら移動するので、如何なる径のウェーハ４０であっ
ても、常に９０°の間隔でウェーハ４０を挟持すること
ができる。また、定張力バネ２４による張力でウェーハ
４０を挟持することにより、如何なる径のウェーハ４０
を挟持する場合であっても、常にその挟持する力を一定
に保つことができる。
【００１８】したがって、如何なる径のウェーハ４０で
あっても同一条件でウェーハ４０を挟持することができ
るため、センタリング精度を高精度に保つことができ
る。またこれにより、段取り替え無しにウェーハセンタ
リングができるため、操作者の作業時間を短縮すること
ができる。尚、本実施の形態では、クランプローラ３２
ａ〜３２ｄを半径方向内側に付勢する付勢手段として定
張力バネ２４を用いたが、付勢手段は、如何なる径のウ
ェーハ４０でも同一の力でウェーハ４０を挟持できれば
よく、例えば、シリンダを用いても同様の効果を得るこ
とができる。
あっても同一条件でウェーハ４０を挟持することができ
るため、センタリング精度を高精度に保つことができ
る。またこれにより、段取り替え無しにウェーハセンタ
リングができるため、操作者の作業時間を短縮すること
ができる。尚、本実施の形態では、クランプローラ３２
ａ〜３２ｄを半径方向内側に付勢する付勢手段として定
張力バネ２４を用いたが、付勢手段は、如何なる径のウ
ェーハ４０でも同一の力でウェーハ４０を挟持できれば
よく、例えば、シリンダを用いても同様の効果を得るこ
とができる。
【００１９】また、ピニオンギア２０の駆動源として
は、モータ２２の代わりにロータリシリンダーを用いて
も良い。更に、本実施の形態では、４つのクランプロー
ラ３２ａ〜３２ｄを用いてウェーハ４０を挟持したが、
クランプローラの数は４つに限定されるものではなく、
３個以上で且つその間隔が一定であれば良く、たとえ
ば、３つのクランプローラを１２０°間隔で配設したも
のでも同様の効果を得ることができる。
は、モータ２２の代わりにロータリシリンダーを用いて
も良い。更に、本実施の形態では、４つのクランプロー
ラ３２ａ〜３２ｄを用いてウェーハ４０を挟持したが、
クランプローラの数は４つに限定されるものではなく、
３個以上で且つその間隔が一定であれば良く、たとえ
ば、３つのクランプローラを１２０°間隔で配設したも
のでも同様の効果を得ることができる。
【００２０】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
如何なる径のウェーハのセンタリングを行う場合であっ
ても、ウェーハを挟持するクランプローラの間隔が一方
に保たれるので、ウェーハのセンタリング精度を高精度
に維持することができる。また、これにより、段取り替
えなしでウェーハのセンタリングを行うことができるの
で、操作者の作業時間を短縮することができる。
如何なる径のウェーハのセンタリングを行う場合であっ
ても、ウェーハを挟持するクランプローラの間隔が一方
に保たれるので、ウェーハのセンタリング精度を高精度
に維持することができる。また、これにより、段取り替
えなしでウェーハのセンタリングを行うことができるの
で、操作者の作業時間を短縮することができる。
【図１】本発明に係るウェーハセンタリング装置の実施
の形態の平面図
の形態の平面図
【図２】従来のウェーハセンタリング装置の実施の形態
の平面図
の平面図
１０…ウェーハセンタリング装置 １２…ベースプレート １８Ａ、１８Ｂ…ラック ２０…ピニオンギア ２２…モータ ２４…定張力バネ ２６Ａ、２６Ｂ…クランプアーム ３２ａ〜３２ｄ…クランプローラ ４０…ウェーハ
Claims (3)
- 【請求項１】 円周上に等間隔で配設されるとともに、
半径方向にスライド移動自在に支持された少なくとも３
個のクランプローラと、 前記クランプローラを半径方向内側に付勢する付勢手段
と、 前記クランプローラを半径方向外側に移動させる移動手
段と、からなり、前記移動手段で半径方向外側に移動さ
せた前記クランプローラの中心にウェーハをセットし、
前記付勢手段で前記クランプローラを半径方向内側に付
勢して前記ウェーハの外周を前記クランプローラで挟持
することにより前記ウェーハのセンタリングを行うこと
を特徴とするウェーハセンタリング装置。 - 【請求項２】 前記付勢手段は、定張力バネであること
を特徴とする請求項１記載のウェーハセンタリング装
置。 - 【請求項３】 前記付勢手段は、シリンダであることを
特徴とする請求項１記載のウェーハセンタリング装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26526795A JPH09107018A (ja) | 1995-10-13 | 1995-10-13 | ウェーハセンタリング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26526795A JPH09107018A (ja) | 1995-10-13 | 1995-10-13 | ウェーハセンタリング装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09107018A true JPH09107018A (ja) | 1997-04-22 |
Family
ID=17414862
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26526795A Pending JPH09107018A (ja) | 1995-10-13 | 1995-10-13 | ウェーハセンタリング装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09107018A (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100439573B1 (ko) * | 2001-01-12 | 2004-07-12 | 동부전자 주식회사 | 노광 장비용 웨이퍼 홀더 |
| KR100479161B1 (ko) * | 2002-01-28 | 2005-03-25 | 삼성전자주식회사 | 센터링 장치 및 반도체 제조 장치 |
| KR100730739B1 (ko) * | 2006-01-12 | 2007-06-21 | 세메스 주식회사 | 기판 이송 장치 및 이를 포함하는 반도체 소자 제조용 장비 |
| JP2009283664A (ja) * | 2008-05-22 | 2009-12-03 | Fujikura Ltd | ウェハ保持装置 |
| KR100988632B1 (ko) * | 2008-04-23 | 2010-10-18 | 세크론 주식회사 | 웨이퍼 링을 안내하기 위한 장치 |
| KR101044085B1 (ko) * | 2008-11-06 | 2011-06-23 | 류기성 | 2축 센터링유닛 |
| CN102180348A (zh) * | 2011-04-02 | 2011-09-14 | 东莞宏威数码机械有限公司 | 精准导向定位设备 |
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1995
- 1995-10-13 JP JP26526795A patent/JPH09107018A/ja active Pending
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