JPH09102142A - Optical recording medium and its production - Google Patents

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To exactly execute tracking control in the pit forming regions of an optical recording medium narrowed in track pitch and to reproduce optical recording signals with high quality. SOLUTION: The pit 12, 12,... of an optical depth d1 are formed in the preformat regions 1 of an optical disk D1 . Grooves are spirally formed around the disk center of the optical disk D1 and the grooves 11, 11,... of the preformat regions 1 are formed at an optical depth d2 . The grooves 21, 21... of the optical recording regions 2 are formed at an optical depth d3 . At this time, the relations d2 >d1 and d2 >d3 are satisfied.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【０００１】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ピット列により情
報が記録されたピット形成領域と光学的に情報が記録さ
れる光記録領域とを有する光記録媒体及びその製造方法
に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical recording medium having a pit forming area in which information is recorded by a pit row and an optical recording area in which information is optically recorded, and a manufacturing method thereof.

【０００２】[0002]

【従来の技術】光ディスクには、ＣＤ−ＲＯＭのような
再生専用の光ディスクの他に、追加記録のみが可能な追
記型光ディスク、書き換え可能な光磁気ディスク及び相
変化ディスク等があり、急速に発展するマルチメディア
化の中の中核となる記録媒体として活用が検討されてい
る。2. Description of the Related Art Optical discs include read-only optical discs such as CD-ROMs, write-once optical discs capable of additional recording only, rewritable magneto-optical discs and phase change discs, and are rapidly developing. Utilization is being considered as a recording medium which is the core of the multimedia development.

【０００３】光ディスクへの情報の記録には幾つかの方
法がある。基板又は基板上に被着せしめた記録膜に凹凸
を形成することにより情報が記録される。この方法によ
り記録された光ディスクでは、情報は再生専用に記録さ
れている。凹凸の形成には、基板上に直接レーザビーム
光を照射してピットを形成する場合と、ビーム露光によ
りピットを形成したガラス原盤を作成し、射出形成によ
り基板を作成する場合とがある。再生時には形成された
凹凸に再生ビーム光を照射し、その反射光の光量変化を
０，１に対応させて情報を再生する。There are several methods for recording information on an optical disc. Information is recorded by forming irregularities on a substrate or a recording film deposited on the substrate. In the optical disc recorded by this method, information is recorded only for reproduction. The unevenness may be formed by directly irradiating the substrate with laser beam light to form pits, or by forming a glass master having pits formed by beam exposure and forming the substrate by injection formation. At the time of reproduction, reproduction light beam is applied to the formed concavities and convexities, and information is reproduced by making the light amount change of the reflected light correspond to 0 and 1.

【０００４】また、基板上に被着せしめた記録膜に磁性
膜を用い、加熱及び外部磁界の印加により記録膜の磁化
方向を異ならせることにより情報が記録される。この記
録方法が用いられる光磁気ディスクでは、情報は書き換
え可能に記録される。記録時には、記録膜を一方向に磁
化して初期化した後、初期化方向と反対方向の磁界を印
加し、記録膜のキュリー温度以上に加熱された領域の磁
化を反転させる。再生時には、再生ビーム光を記録膜に
照射し、磁化方向によるカー回転の方向を０，１に対応
させて情報を再生する。消去時には、初期化方向と同方
向の磁界を印加する。Information is recorded by using a magnetic film as the recording film deposited on the substrate and changing the magnetization direction of the recording film by heating and applying an external magnetic field. In a magneto-optical disk using this recording method, information is rewritably recorded. At the time of recording, after the recording film is magnetized in one direction to be initialized, a magnetic field in a direction opposite to the initialization direction is applied to reverse the magnetization of a region of the recording film heated above the Curie temperature. At the time of reproduction, the recording film is irradiated with reproduction beam light, and information is reproduced by making the Kerr rotation directions depending on the magnetization directions correspond to 0 and 1. At the time of erasing, a magnetic field in the same direction as the initialization direction is applied.

【０００５】さらに、基板上に被着せしめた記録膜とし
て結晶状態により反射率が異なる材料を用い、加熱によ
りその結晶状態を異ならせることにより情報が記録され
る。この記録方法が用いられる相変化型ディスクでは、
情報は書き換え可能又は再生専用に記録される。例え
ば、結晶状態を結晶とアモルファスとの間で変化させる
場合は、記録時には材料固有の所定温度以上に加熱して
結晶化させ、さらに高い所定温度以上に加熱させてアモ
ルファス化する。再生時には、再生ビーム光を記録膜に
照射し、その反射光の反射率変化を０，１に対応させて
情報を再生する。消去時には、結晶化し易い温度に加熱
して結晶化する。Furthermore, information is recorded by using a material having a different reflectance depending on the crystalline state as the recording film deposited on the substrate and changing the crystalline state by heating. In the phase change type disc in which this recording method is used,
Information is rewritable or recorded for reproduction only. For example, in the case of changing the crystalline state between crystalline and amorphous, at the time of recording, the material is heated to a predetermined temperature peculiar to the material or more to be crystallized, and further heated to a predetermined temperature or higher to be amorphized. At the time of reproduction, the recording film is irradiated with a reproduction beam light, and information is reproduced by making the reflectance change of the reflected light correspond to 0 and 1. At the time of erasing, the crystallization is performed by heating to a temperature at which crystallization is easy.

【０００６】光ディスクの基板上には、ビーム光の照射
案内用の溝（グルーブ）が同心円状又は螺旋状に形成さ
れており、ディスク面を各トラックに分割している。ま
た半径方向にグルーブが形成されており、ディスク面を
各セクタに分割している。例えば書き換え可能型の光デ
ィスクでは、光磁気記録又は相変化記録のように書き換
え可能な記録マークがトラックに形成される記録領域
と、媒体条件、記録再生条件及び各セクタのアドレス等
がピット列により記録されるプリフォーマット領域を有
している。このような光ディスクの情報を記録，再生す
る際には、ビーム光が記録領域及びプリフォーマット領
域のトラック上を正確に追従することが重要である。そ
のために、情報の記録再生時にビーム光が光ディスク上
を照射する際に、ビーム光のトラッキングを制御するた
めのトラッキングエラー信号が検出される。On the substrate of the optical disc, grooves for guiding the irradiation of the beam light are formed concentrically or spirally, and the disc surface is divided into each track. Grooves are formed in the radial direction to divide the disk surface into sectors. For example, in a rewritable optical disc, a recording area in which rewritable recording marks are formed on a track such as magneto-optical recording or phase change recording, and medium conditions, recording / reproducing conditions, and addresses of each sector are recorded by a pit string. Has a pre-formatted area. When recording and reproducing information on such an optical disc, it is important that the beam light accurately follows the tracks of the recording area and the preformatted area. Therefore, when the light beam irradiates the optical disk at the time of recording / reproducing information, a tracking error signal for controlling the tracking of the light beam is detected.

【０００７】図１５は、一般的な光記録媒体のトラッキ
ングエラー信号の検出光学系の構成例を示す図である。
図において、Ｄは透明基板に記録膜を形成してなる書き
換え可能型の光ディスク。また、６１は光ビームを出射
するレーザダイオードである。レーザダイオード６１の
出射側には、入射光ビームを円形の光ビームにする真円
補正プリズム６２、光ビームを透過又は反射するビーム
スプリッタ６３、アクチュエータにて位置制御される対
物レンズ６４がこの順に配置されている。ビームスプリ
ッタ６３の反射側には二分割検出器６５が配置されてい
る。二分割検出器６５に入力された夫々の反射光はここ
で電気信号に変換され、差動アンプ６６及び加算器６７
に入力され、夫々の出力が割算器６８へ入力される。割
算器６８ではトラッキングエラー信号のひとつであるデ
バイデッドプッシュプル信号（以下ＤＰＰという）が算
出される。このような構成要素にて、記録膜上に照射す
る光ビームのスポットのトラッキング制御を行う光点制
御信号検出系が構成されている。FIG. 15 is a diagram showing a structural example of a detection optical system for a tracking error signal of a general optical recording medium.
In the figure, D is a rewritable optical disc in which a recording film is formed on a transparent substrate. Reference numeral 61 is a laser diode that emits a light beam. On the emission side of the laser diode 61, a perfect circle correction prism 62 that converts an incident light beam into a circular light beam, a beam splitter 63 that transmits or reflects the light beam, and an objective lens 64 whose position is controlled by an actuator are arranged in this order. Has been done. A two-divided detector 65 is arranged on the reflection side of the beam splitter 63. Each reflected light input to the two-divided detector 65 is converted into an electric signal here, and the differential amplifier 66 and the adder 67.
, And the respective outputs are input to the divider 68. The divider 68 calculates a divided push-pull signal (hereinafter referred to as DPP) which is one of tracking error signals. With such components, a light spot control signal detection system for performing tracking control of the spot of the light beam irradiated on the recording film is configured.

【０００８】レーザダイオード６１から出射された光ビ
ームは、真円補正プリズム６２にて円形の光ビームとな
り、対物レンズ６４を介して光磁気ディスクＤの記録膜
上に集光される。記録膜上では光ビームはグルーブでの
反射による変調を受けて、再び対物レンズ６４を通り、
ビームスプリッタ６３にて反射されて二分割検出器６５
に入力される。二分割検出器６５にて変換された夫々の
信号により、差動アンプ６６からは差信号が出力され、
加算器６７からは和信号が出力される。割算器６８では
前記差信号が和信号で割られ、ＤＰＰが得られる。この
とき、グルーブの光学的深さがλ／８の場合には、トラ
ッキング制御のために充分なＤＰＰが得られ、プリフォ
ーマット領域のピットの光学的深さをλ／４とした場合
に再生に充分なピット信号が得られることが知られてい
る。なお、光学的深さとは、実質深さ×屈折率（基板の
屈折率： 1.5〜1.6 ）である。The light beam emitted from the laser diode 61 is converted into a circular light beam by the perfect circle correction prism 62 and is condensed on the recording film of the magneto-optical disk D via the objective lens 64. On the recording film, the light beam is modulated by reflection in the groove, passes through the objective lens 64 again,
The two-split detector 65 is reflected by the beam splitter 63.
Is input to A difference signal is output from the differential amplifier 66 by each signal converted by the two-divided detector 65,
A sum signal is output from the adder 67. The divider 68 divides the difference signal by the sum signal to obtain DPP. At this time, when the optical depth of the groove is λ / 8, sufficient DPP is obtained for tracking control, and when the optical depth of the pits in the preformatted area is λ / 4, reproduction is performed. It is known that a sufficient pit signal can be obtained. The optical depth is the actual depth × refractive index (refractive index of the substrate: 1.5 to 1.6).

【０００９】[0009]

【発明が解決しようとする課題】以上の如き光ディスク
において、情報記録密度を高めるためにトラックピッチ
を狭くする即ちトラック幅（ディスク径方向）を狭くす
る傾向にある。プリフォーマット領域では、トラック幅
を狭くすることによりピット幅（ディスク径方向）も狭
くしなければならない。これにより再生ビーム径に対す
るピット面積が小さくなり、プリフォーマット領域にお
けるピットが形成された領域と形成されていない領域と
の再生反射受光量の差が小さくなって充分なピット信号
が得られなくなる。これを解決するためにはピットの光
学的深さを深くすることが考えられる。ピットを深くす
ることによりピット領域での反射率が小さくなり、前記
再生反射受光量の差が大きくなって充分なピット信号が
得られる。In the above optical disk, there is a tendency to narrow the track pitch, that is, the track width (disk radial direction) in order to increase the information recording density. In the pre-format area, the pit width (disc radial direction) must be narrowed by narrowing the track width. As a result, the pit area with respect to the reproduction beam diameter becomes small, and the difference in the amount of reproduction reflected light received between the area where the pits are formed and the area where the pits are not formed in the preformat area becomes small, and a sufficient pit signal cannot be obtained. In order to solve this, it is possible to increase the optical depth of the pit. By making the pit deeper, the reflectance in the pit area becomes smaller, and the difference in the amount of light received and reflected by the reproduction becomes larger, so that a sufficient pit signal can be obtained.

【００１０】しかしながら、ピットを深くしてピット領
域での再生反射受光量を少なくすると、プリフォーマッ
ト領域におけるトラッキングエラー信号が充分に得られ
なくなるという問題がある。例えば周方向に長いピット
が形成されている場合に、恰もピットが溝の如く捉えら
れてトラッキングエラー信号が反転し、正常なトラッキ
ングエラー信号が得られない。そこで、正常なトラッキ
ングエラー信号を得るためにはグルーブの光学的深さを
深くして１次回折光の強度を高めれば良いが、溝形成に
用いるビーム光のスポット径の縮小に限界があり、グル
ーブの深さを深くするとグルーブ幅（ディスク径方向）
が広くなる。このために前記記録領域における記録マー
クの形成面積が狭くなり、充分な再生信号が得られなく
なるという問題があった。However, if the pits are deepened to reduce the amount of light reflected and reflected in the pit area, the tracking error signal in the preformatted area cannot be obtained sufficiently. For example, when a long pit is formed in the circumferential direction, the pit is caught like a groove and the tracking error signal is inverted, so that a normal tracking error signal cannot be obtained. Therefore, in order to obtain a normal tracking error signal, the optical depth of the groove may be increased to increase the intensity of the first-order diffracted light, but there is a limit to the reduction of the spot diameter of the beam light used for forming the groove, and the groove is limited. Groove width (disc radial direction)
Becomes wider. For this reason, there is a problem in that the formation area of the recording mark in the recording area becomes narrow and a sufficient reproduction signal cannot be obtained.

【００１１】本発明は、かかる事情に鑑みてなされたも
のであり、高記録密度化に応じてトラックピッチが狭め
られた場合でも、充分な大きさのピット信号、トラッキ
ングエラー信号及び光記録領域からの再生信号が得られ
る光記録媒体及び光記録媒体の製造方法を提供すること
を目的とする。The present invention has been made in view of the above circumstances, and from a sufficiently large pit signal, tracking error signal and optical recording area even when the track pitch is narrowed in accordance with the increase in recording density. It is an object of the present invention to provide an optical recording medium and a method for manufacturing the optical recording medium, in which the reproduction signal of 1 is obtained.

【００１２】[0012]

【課題を解決するための手段】第１発明に係る光記録媒
体は、記録用又は再生用照射光の案内のための溝が設け
られており、該溝は、その形成領域に応じて異なる光学
的深さを有することを特徴とする。例えば、大きなトラ
ッキングエラー信号が必要な領域には光学的深さが深い
溝を、大きなランド面積が必要な領域では浅い溝を備え
ることにより、トラック幅方向に高密度に記録された情
報を高精度に再生できる。The optical recording medium according to the first aspect of the present invention is provided with a groove for guiding the irradiation light for recording or reproduction, and the groove has different optical characteristics depending on the formation area. It is characterized by having a desired depth. For example, by providing a groove with a deep optical depth in a region requiring a large tracking error signal and a shallow groove in a region requiring a large land area, it is possible to accurately record information recorded at high density in the track width direction. Can be played back.

【００１３】第２発明に係る光記録媒体は、記録用又は
再生用の照射光の案内のための溝を設けた基板上に記録
膜が形成されており、ピット形成領域に設けられた溝
は、前記記録膜に光学的に情報を記録すべき光記録領域
に設けられた溝よりも深い光学的深さを有することを特
徴とする。トラッキングエラー信号が容易に得られる光
記録領域ではピット形成領域よりも溝の深さを浅くする
ことにより、トラック面積のうちのグルーブが占める割
合が小さくなるために、光記録マークからの再生信号を
充分に得るためのランド面積が確保される。そしてトラ
ッキングエラー信号が得られ難いピット形成領域では光
記録領域よりも溝の深さを深くすることによりトラッキ
ング制御が正確に行われ、トラック幅方向に高密度に記
録された情報を高精度に再生できる。In the optical recording medium according to the second aspect of the present invention, the recording film is formed on the substrate provided with the groove for guiding the irradiation light for recording or reproduction, and the groove provided in the pit formation region is The recording film is characterized by having an optical depth deeper than a groove provided in an optical recording area for optically recording information. In the optical recording area where the tracking error signal can be easily obtained, by making the depth of the groove shallower than that in the pit forming area, the ratio of the groove to the track area becomes small, so that the reproduction signal from the optical recording mark is The land area for obtaining sufficient is secured. In the pit formation area where it is difficult to obtain a tracking error signal, the groove depth is made deeper than in the optical recording area for accurate tracking control and highly accurate reproduction of information recorded in high density in the track width direction. it can.

【００１４】第３発明に係る光記録媒体は、記録用又は
再生用の照射光の案内のための溝を設けた基板上に記録
膜が形成されており、ピット形成領域に設けられた溝は
ピットよりも深い光学的深さを有し、且つ前記記録膜に
光学的に情報を記録すべき光記録領域に設けられた溝よ
りも深い光学的深さを有することを特徴とする。第１発
明に加えて、ピット形成領域においてグルーブをピット
の深さよりも深くすることにより、ピット信号及びトラ
ッキングエラー信号の双方を充分な大きさで得ることが
でき、正確なトラッキング制御が行える。In the optical recording medium according to the third aspect of the invention, the recording film is formed on the substrate provided with the groove for guiding the irradiation light for recording or reproduction, and the groove provided in the pit formation region is It is characterized in that it has an optical depth deeper than the pits, and also has an optical depth deeper than the groove provided in the optical recording region where information is to be optically recorded on the recording film. In addition to the first invention, by making the groove deeper than the depth of the pit in the pit formation region, both the pit signal and the tracking error signal can be obtained in sufficient magnitude, and accurate tracking control can be performed.

【００１５】第４発明に係る光記録媒体の製造方法は、
ビーム光の照射強度により決定される光学的深さを有す
る記録再生光案内用の溝を基板上に備える光記録媒体の
製造方法において、前記ビーム光の照射位置に応じてそ
の照射強度を異ならせ、該照射強度に応じて光学的深さ
が異なる溝を形成することを特徴とする。例えば、ピッ
ト列の形成により情報を記録したピット形成領域と、前
記記録膜に光学的に情報を記録すべき光記録領域とを有
する光記録媒体において、前記ピット領域では高い強度
でビーム光を照射し、前記光記録領域では低い強度でビ
ーム光を照射する。これにより、前記ピット領域の溝は
前記光記録領域の溝よりも深い光学的深さを有する。溝
が浅いほどトラック幅のうち溝が占める割合が少なく、
深さが必要でない領域ではランドの面積を大きく確保で
きる。A method of manufacturing an optical recording medium according to the fourth invention is
In a method of manufacturing an optical recording medium having a groove for guiding a recording / reproducing light on a substrate, the groove having an optical depth determined by the irradiation intensity of the beam light, the irradiation intensity is varied depending on the irradiation position of the beam light. A groove having a different optical depth depending on the irradiation intensity is formed. For example, in an optical recording medium having a pit forming area where information is recorded by forming a pit row and an optical recording area where information should be optically recorded on the recording film, the pit area is irradiated with a beam light with high intensity. However, the light beam is emitted at a low intensity in the optical recording area. Accordingly, the groove in the pit area has a deeper optical depth than the groove in the optical recording area. The shallower the groove, the smaller the proportion of the track width occupied by the groove,
A large land area can be secured in a region where depth is not required.

【００１６】[0016]

【発明の実施の形態】以下、本発明をその実施例を示す
図面に基づき具体的に説明する。図１は本発明の光記録
媒体の構成を示す一部破断斜視図であり、図２はその部
分平面図である。図に示すように実施例１の光磁気ディ
スクＤ₁ は、ピット列により情報が記録されたプリフォ
ーマット領域１と、光磁気記録により書き換え可能に情
報が記録される光記録領域２とを有している。プリフォ
ーマット領域１には光学的深さｄ₁ のピット１２，１
２，…が形成され、光記録領域２には記録マーク２２，
２２，…が形成されている。そして、光ディスクＤ₁ の
ディスク中央を中心にスパイラル状又は同心円状に溝
（以下グルーブという）が形成されており、プリフォー
マット領域１のグルーブ１１，１１，…は光学的深さｄ
₂ ，幅Ｗ ₂ に形成されており、光記録領域２のグルーブ
２１，２１，…は光学的深さｄ₃，幅Ｗ₃ に形成されて
いる。このとき、ｄ₂ ＞ｄ₁ ，ｄ₂ ＞ｄ₃ 及びＷ₂ ＞Ｗ
₃の関係を満たしている。なお、図１に示したグルーブ
の断面形状は、ＡＦＭ（atomic force scanning micros
cope）により測定されている。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The present invention will now be described by way of its examples.
A specific description will be given with reference to the drawings. FIG. 1 shows the optical recording of the present invention.
FIG. 2 is a partially cutaway perspective view showing the structure of the medium, and FIG.
FIG. As shown in FIG.
Disk D₁Is the pre-recorded information recorded by the pit train.
-Matte area 1 and information that can be rewritten by magneto-optical recording
And an optical recording area 2 where information is recorded. Prefo
-The optical depth d in the mat area 1₁Pit 12,1
2, are formed, and the recording marks 22,
22, ... Are formed. And the optical disc D₁of
Groove spirally or concentrically around the center of the disc
(Hereinafter referred to as a groove) is formed,
The grooves 11, 11, ... Of the matte area 1 have an optical depth d.
_Two, Width W _TwoFormed in the groove of the optical recording area 2
21, 21, ... Are optical depths d_Three, Width W_ThreeFormed into
I have. At this time, d_Two> D₁, D_Two> D_ThreeAnd W_Two> W
_ThreeMeet the relationship. The groove shown in FIG.
The cross-sectional shape of the AFM (atomic force scanning micros
cope) is measured.

【００１７】図３，図４及び図５は、本発明の光記録媒
体のプリフォーマット領域と光記録領域との構成を示す
平面図である。各図に示すように、プリフォーマット領
域１，１，…が光ディスクＤ₁ の中央から放射線状に形
成されており、プリフォーマット領域１に隣接してトラ
ック方向に光記録領域２，２，…が形成されている。図
３は、光ディスクＤ₁ を一定回転数で回転させた際に単
一クロックで記録再生するタイプのものであり、記録再
生装置の回路構成は簡易であるが光ディスクＤ ₁ の外周
部では記録密度が低い。図４は、光ディスクＤ₁ の外周
部ほど記録再生のクロックを速くするタイプのものであ
り、情報の記録密度を高めることができる。図５は、同
一光ディスクＤ₁ 上に、プリフォーマット領域１及び書
き換え可能に情報を記録した光記録領域２の他に、再生
専用に情報を記録したＲＯＭ領域３が形成されたタイプ
のものである。ＲＯＭ領域３は光ディスクＤ₁ の外周側
に設けられており、例えば辞書情報又は再生手順につい
ての情報等がピット列形成により記録されている。本発
明の光記録媒体は上記何れのタイプでも適応できる。FIGS. 3, 4 and 5 show the optical recording medium of the present invention.
Shows the structure of the body's preformatted area and optical recording area
It is a top view. As shown in each figure, the preformat
Areas 1, 1, ... Are optical disks D₁Radially shaped from the center of
The pre-format area 1 is
Optical recording areas 2, 2, ... Are formed in the vertical direction. Figure
3 is an optical disc D₁Is rotated at a constant speed
It is a type that records and reproduces in one clock.
Although the circuit configuration of the raw device is simple, the optical disc D ₁Perimeter
The recording density is low in some parts. FIG. 4 shows an optical disc D₁Perimeter
It is a type that speeds up the recording / playback clock
Therefore, the recording density of information can be increased. Figure 5
One optical disc D₁Above preformatted area 1 and writing
In addition to the optical recording area 2 in which information is exchangeably recorded, reproduction
A type with a dedicated ROM area 3 for recording information
belongs to. ROM area 3 is optical disc D₁Outer peripheral side
It is provided in the
All the information is recorded by forming a pit train. Departure
The bright optical recording medium can be applied to any of the above types.

【００１８】以上の如き光ディスクＤ₁ の製造方法につ
いて以下に説明する。光ディスクＤ ₁ の基板は、グルー
ブ及びピットが形成されたガラス原盤を用いて射出成形
することにより得られる。図６は本発明の光記録媒体を
製造する際に用いられるビーム露光装置の構成図であ
る。まず、研磨されたガラス原盤Ｇに、スピンコート法
によりフォトレジストの厚み150nm を被着させ、90℃に
て30分プリベーク処理する。このガラス原盤Ｇを、図６
に示すスピンドルモータ５２を備える試料台４０上に載
置する。Optical disc D as described above₁Manufacturing method
And will be described below. Optical disc D ₁The substrate is glue
Injection molding using a glass master with pits and pits
It is obtained by doing. FIG. 6 shows the optical recording medium of the present invention.
It is a block diagram of a beam exposure apparatus used in manufacturing
You. First, a glass substrate G that has been polished is spin-coated.
Photoresist thickness of 150nm is applied by
Pre-bake for 30 minutes. This glass master G is shown in FIG.
Mounted on the sample table 40 equipped with the spindle motor 52 shown in
Place.

【００１９】ビーム露光装置の構成について説明する。
４１はＡｒレーザ光源であり、光源４１から出射された
ビーム光はハーフミラー４２ａにて透過及び反射して分
光される。まず、ハーフミラー４２ａにて反射された第
１のビーム光は第１の集光レンズ４３ａへ入射される。
第１の集光レンズ４３ａで集光された光は第１のＡＯＭ
（acousto-optic modulator ）４４ａへ入光されて光強
度が変調される。強度変調された光は第１のコリメート
レンズ４５ａに入射され、ここで平行光に戻されて第１
のビームエキスパンダ４６ａへ入光される。第１のビー
ムエキスパンダ４６ａではビーム径が拡大され、ハーフ
ミラー４７ａで反射されてハーフミラー４８へ入射す
る。第１のコリメートレンズ４５ａ及び後述する第２の
コリメートレンズ４５ｂは、光軸に直交する方向に移動
可能に構成されており、この移動により第１のビーム光
と後述する第２のビーム光との相対位置が制御される。The configuration of the beam exposure apparatus will be described.
Reference numeral 41 is an Ar laser light source, and the beam light emitted from the light source 41 is transmitted and reflected by the half mirror 42a to be dispersed. First, the first light beam reflected by the half mirror 42a is incident on the first condenser lens 43a.
The light condensed by the first condenser lens 43a is the first AOM.
Light is incident on an (acousto-optic modulator) 44a and its light intensity is modulated. The intensity-modulated light is incident on the first collimator lens 45a, where it is returned to the parallel light and is converted into the first light.
The light is incident on the beam expander 46a. The beam diameter is expanded by the first beam expander 46a, reflected by the half mirror 47a, and incident on the half mirror 48. The first collimating lens 45a and the second collimating lens 45b described later are configured to be movable in a direction orthogonal to the optical axis, and by this movement, the first beam light and the second beam light described later are separated. The relative position is controlled.

【００２０】一方、ハーフミラー４２ａにて透過された
第２のビーム光はミラー４２ｂへ入射され、第１のビー
ム光と同様の進路を辿る。即ち、ミラー４２ｂで反射さ
れて第２の集光レンズ４３ｂへ入射された光はここで集
光され、第２のＡＯＭ４４ｂへ入光されて光強度が変調
される。強度変調された光は第２のコリメートレンズ４
５ｂに入射され、ここで平行光に戻されて第２のビーム
エキスパンダ４６ｂへ入光される。第２のビームエキス
パンダ４６ｂではビーム径が拡大され、ミラー４７ｂで
反射されてハーフミラー４７ａを透過し、ハーフミラー
４８へ入射される。On the other hand, the second beam light transmitted by the half mirror 42a is incident on the mirror 42b, and follows the same path as the first beam light. That is, the light reflected by the mirror 42b and incident on the second condensing lens 43b is condensed here, enters the second AOM 44b, and is modulated in light intensity. The intensity-modulated light is emitted from the second collimator lens 4
It is incident on 5b, is returned to parallel light here, and is incident on the second beam expander 46b. The beam diameter is expanded by the second beam expander 46b, reflected by the mirror 47b, transmitted through the half mirror 47a, and incident on the half mirror 48.

【００２１】ハーフミラー４８を透過した第１及び第２
のビーム光は、第１及び第２のコリメートレンズ４５
ａ，４５ｂにて制御された相対位置を保ったまま光学ヘ
ッド４９へ入光される。光学ヘッド４９はダイクロイッ
クミラー５０及び対物レンズ５１を備えており、試料台
４０に対して垂直及び平行方向に移動可能に構成されて
いる。第１及び第２のビーム光がダイクロイックミラー
５０にて反射され、対物レンズ５１にてガラス原盤Ｇ上
に集光される。ガラス原盤Ｇへのフォーカシングは、光
学ヘッド４９の前記垂直方向の移動により制御される。
ガラス原盤Ｇのフォトレジストが感光しない波長である
780nm のレーザビームがガラス原盤に照射され、その反
射光によるフォーカシングエラー信号に応じて光学ヘッ
ド４９を垂直方向に移動せしめてフォーカス制御を行
う。First and second light transmitted through the half mirror 48
Of the beam light of the first and second collimating lenses 45.
Light enters the optical head 49 while maintaining the relative position controlled by a and 45b. The optical head 49 includes a dichroic mirror 50 and an objective lens 51, and is configured to be movable in the vertical and parallel directions with respect to the sample stage 40. The first and second light beams are reflected by the dichroic mirror 50 and are condensed on the glass master G by the objective lens 51. Focusing on the glass master G is controlled by the movement of the optical head 49 in the vertical direction.
A wavelength at which the photoresist of the glass master G is not exposed
A glass substrate is irradiated with a laser beam of 780 nm, and the optical head 49 is moved in the vertical direction according to a focusing error signal due to the reflected light to perform focus control.

【００２２】また、第１のビーム光及び第２のビーム光
が照射されるガラス原盤Ｇ上の位置は、光学ヘッド４９
の前記平行方向の移動により制御され、光学ヘッド４９
の平行方向の移動は露光制御部５３からの指示により行
われる。また露光制御部５３は第１及び第２のＡＯＭ４
４ａ，４４ｂに露光パワーの指示を与え、光強度の変調
程度を制御する。この制御により、ガラス原盤Ｇに形成
するグルーブ及びピットの光学的深さが夫々制御され
る。The position on the glass master G where the first beam light and the second beam light are irradiated is determined by the optical head 49.
Is controlled by the movement of the optical head 49 in the parallel direction,
The movement in the parallel direction is performed by an instruction from the exposure control unit 53. Further, the exposure control unit 53 uses the first and second AOMs 4
An instruction of exposure power is given to 4a and 44b to control the degree of light intensity modulation. By this control, the optical depths of the grooves and pits formed on the glass master G are controlled respectively.

【００２３】ガラス原盤Ｇに集光されて反射した第１の
ビーム光及び第２のビーム光は、ダイクロイックミラー
５０にて反射され、ハーフミラー４８で反射されてビー
ム相対位置検出部５４へ入光する。ビーム相対位置検出
部５４では、第１のビーム光及び第２のビーム光の相対
位置をモニタすることができる。The first beam light and the second beam light focused and reflected on the glass master G are reflected by the dichroic mirror 50, reflected by the half mirror 48, and enter the beam relative position detection unit 54. To do. The beam relative position detector 54 can monitor the relative positions of the first light beam and the second light beam.

【００２４】以上の如きビーム露光装置を用いて、トラ
ックピッチを 1.1μｍ, グルーブとグルーブとの間に形
成されたランドの幅を 0.8μｍに形成した。グルーブを
形成するための第１のビーム光を、プリフォーマット領
域に対応する領域では露光パワー 5.3ｍＷに設定して照
射し、光記録領域に対応する領域では露光制御部５３の
制御により露光パワー 3.7ｍＷに変更して照射し、夫々
の光学的深さが 130ｎｍ、70ｎｍのグルーブを形成し
た。同時に、ピット形成領域では、ピットを形成するた
めの第２のビーム光を露光パワー 4.0ｍＷで照射し、光
学的深さが 110ｎｍのピットを形成した。Using the beam exposure apparatus as described above, the track pitch was 1.1 μm, and the width of the land formed between the grooves was 0.8 μm. The first beam light for forming the groove is irradiated with the exposure power set to 5.3 mW in the area corresponding to the preformat area, and the exposure power 3.7 in the area corresponding to the optical recording area under the control of the exposure controller 53. Irradiation was performed after changing to mW to form grooves having optical depths of 130 nm and 70 nm, respectively. At the same time, in the pit formation region, a second beam light for forming a pit was irradiated with an exposure power of 4.0 mW to form a pit having an optical depth of 110 nm.

【００２５】なお、本実施例では以上の如き構成のビー
ム露光装置を用いてガラス原盤を形成する場合を説明し
ているが、これに限るものではなく、例えば、可視短波
長レーザ又は紫外線レーザを用いても良く、またＥＯＭ
（electro-optic modulator）を用いてビーム光の強度
を変調するように構成してあっても良く、ビーム光の強
度を制御つつガラス原盤Ｇにグルーブ及びピットを形成
できる装置であれば良い。In the present embodiment, the case where the glass master is formed by using the beam exposure apparatus having the above-mentioned structure is described, but the present invention is not limited to this. For example, a visible short wavelength laser or an ultraviolet laser is used. May be used, also EOM
(Electro-optic modulator) may be used to modulate the intensity of the beam light, and any device capable of forming grooves and pits on the glass master G while controlling the intensity of the beam light may be used.

【００２６】このようにピット及びグルーブが形成され
たガラス原盤Ｇを真空蒸着器へ搬入し、ガラス原盤Ｇ表
面にＮｉを 0.2μｍの厚みに蒸着してメッキ用の電極を
形成する。次に電解メッキにてＮｉを 0.3mmの厚みにメ
ッキし、ガラス原盤Ｇを剥離してＮｉ製のスタンパを得
る。このスタンパを用いて射出成形によりポリカーボネ
ート製の基板を作成する。こうして、ガラス原盤Ｇと同
寸法のピット及びグルーブが形成された基板が得られ
る。The glass master G having the pits and grooves formed in this way is carried into a vacuum evaporator, and Ni is vapor-deposited on the surface of the glass master G to a thickness of 0.2 μm to form an electrode for plating. Next, Ni is plated to a thickness of 0.3 mm by electrolytic plating, and the glass master G is peeled off to obtain a Ni stamper. A substrate made of polycarbonate is prepared by injection molding using this stamper. In this way, a substrate having pits and grooves having the same dimensions as the glass master G is obtained.

【００２７】この基板上に、ＲＦマグネトロンスパッタ
法にてＳｉＮの下地層を70ｎｍの厚みに形成し、その表
面にスパッタ法により、Ｇｄ₂₂（Ｆｅ₇₀Ｃｏ₃₀）₇₈の再
生層を厚み８ｎｍ、Ｔｂ₂₀（Ｆｅ₉₀Ｃｏ₁₀）₈₀の記録層
を厚み17ｎｍ、ＳｉＮの上地層を厚み15ｎｍ、Ａｌの反
射層を厚み 100ｎｍでこの順に積層することにより記録
膜を被着する。この記録膜の光記録領域２に書き換え可
能信号を記録する。記録条件は、 680ｎｍの半導体レー
ザ及びＮＡが0.55の対物レンズを備える光ディスク記録
再生装置を用い、線速９ｍ／ｓ，外部磁場 300Ｏｅ、記
録パワーは最大Ｓ／Ｎが得られるパワーである。トラッ
ク方向長さが0.64μｍの記録マークの繰り返しパターン
を記録して、図１及び図２に示した実施例１の光ディス
ク₁ を得た。An underlayer of SiN having a thickness of 70 nm is formed on this substrate by the RF magnetron sputtering method, and a reproducing layer of Gd ₂₂ (Fe ₇₀ Co ₃₀ ) ₇₈ having a thickness of 8 nm and Tb is formed on the surface thereof by the sputtering method. _{A 20} (Fe ₉₀ Co ₁₀ ) ₈₀ recording layer having a thickness of 17 nm, a SiN upper layer having a thickness of 15 nm, and an Al reflecting layer having a thickness of 100 nm are laminated in this order to deposit a recording film. A rewritable signal is recorded in the optical recording area 2 of this recording film. The recording conditions were such that a linear velocity of 9 m / s, an external magnetic field of 300 Oe, and a recording power of maximum S / N were obtained by using an optical disc recording / reproducing apparatus equipped with a 680 nm semiconductor laser and an objective lens having an NA of 0.55. A repetitive pattern of recording marks having a length in the track direction of 0.64 μm was recorded to obtain the optical disc ₁ of Example 1 shown in FIGS.

【００２８】以上の如く作成された光ディスクＤ₁ につ
いて、トラッキングエラー信号、ピット信号及び記録膜
からの再生信号を測定した。再生ビーム光を記録膜上に
集光せしめ、その反射光を光検出器で受光する。光検出
器はディスク半径方向に回折した２つの光を独立的に受
光できる様に２分割されている。光検出器からの夫々の
出力信号の差動信号、和信号及びＤＰＰを測定した。国
際標準規格に合わせて、トラッキングエラー信号として
プッシュプル信号（以下ＰＰという），クロストラック
信号（ＣＴＳという）及びＤＰＰを用いる。ＰＰはフォ
ーカシング制御のみを行ったときの差動信号を、トラッ
キング制御を行ったときのピットがない領域での和信号
で割った値であり、ＣＴＳはフォーカシング制御のみを
行ったときの和信号を、トラッキング制御を行ったとき
のピットがない領域での和信号で割った値である。The tracking error signal, the pit signal, and the reproduction signal from the recording film were measured for the optical disc D ₁ produced as described above. The reproduction beam light is focused on the recording film, and the reflected light is received by the photodetector. The photodetector is divided into two so that the two lights diffracted in the disk radial direction can be independently received. The differential signal, sum signal and DPP of the respective output signals from the photodetector were measured. Push-pull signals (hereinafter referred to as PP), cross-track signals (hereinafter referred to as CTS), and DPP are used as tracking error signals in accordance with international standards. PP is a value obtained by dividing the differential signal when only focusing control is performed by the sum signal in the area without pits when tracking control is performed, and CTS is the sum signal when only focusing control is performed. , The value divided by the sum signal in the area where there is no pit when tracking control is performed.

【００２９】測定結果を以下に説明する。図７は、光デ
ィスクＤ₁ の光記録領域２について、記録マークを記録
する以前のＤＰＰ、ＰＰ及びＣＴＳを測定した結果であ
る。光ディスクＤ₁ の他に、図６に示したビーム露光装
置にて、光記録領域に対応する領域で、第１のビーム光
の露光パワーを 2.0ｍＷから10ｍＷまで異ならせて作成
した光ディスクについても同様に測定している。縦軸は
ＤＰＰ、ＰＰ及びＣＴＳを示し、横軸はグルーブ露光パ
ワーを示している。グラフ中、‘□−□’はＤＰＰを表
し、‘△−△’はＰＰを表し、‘○−○’はＣＴＳを表
している。再生条件は、ディスクの線速９ｍ／ｓ、外部
磁場を 300Ｏｅだけ印加し、再生パワーを 1,5ｍＷとし
た。グラフから明らかなように、ＰＰ及びＤＰＰはグル
ーブ露光パワーが高くなるに従い大きくなり、ある値で
最大ピーク値を有して小さくなった後再び上昇する。こ
れに対してＣＴＳは一つの最大ピーク値を有していると
言える。The measurement results will be described below. FIG. 7 shows the results of measuring DPP, PP, and CTS before recording a recording mark on the optical recording area 2 of the optical disc D ₁ . In addition to the optical disc D ₁ , the same applies to optical discs created by the beam exposure apparatus shown in FIG. 6 in which the exposure power of the first beam light is changed from 2.0 mW to 10 mW in the area corresponding to the optical recording area. Is being measured. The vertical axis represents DPP, PP and CTS, and the horizontal axis represents groove exposure power. In the graph, '□-□' represents DPP, 'Δ-Δ' represents PP, and '○-○' represents CTS. The reproducing conditions were such that the linear velocity of the disk was 9 m / s, an external magnetic field of 300 Oe was applied, and the reproducing power was 1.5 mW. As is clear from the graph, PP and DPP increase as the groove exposure power increases, have a maximum peak value at a certain value, decrease, and then increase again. On the other hand, it can be said that CTS has one maximum peak value.

【００３０】図８は、光ディスクＤ₁ の光記録領域２に
記録された記録マークの再生信号のＳ／Ｎを測定した結
果である。光ディスクＤ₁ の他に、図６に示したビーム
露光装置にて、光記録領域に対応する領域で、第１のビ
ーム光の露光パワーを 2.0ｍＷから９ｍＷまで異ならせ
て作成した光ディスクについても同様に測定している。
縦軸はＳ／Ｎを示し、横軸はグルーブ露光パワーを示し
ている。再生条件は図７に示した場合と同様であり、再
生信号は17MHz のローパスフィルタを通した。グラフか
ら判るように、露光パワーが高くなるに従ってＳ／Ｎは
低下し、露光パワーが略 6.5ｍＷより大きくなると急峻
にＳ／Ｎが低下し、９ｍＷではＳ／Ｎは７dB程度であ
る。グルーブ露光パワーが９ｍＷでは、ランド幅がグル
ーブ幅よりも狭くなるためにＳ／Ｎが顕著に低下してい
ると言える。FIG. 8 shows the result of measuring the S / N of the reproduction signal of the recording mark recorded in the optical recording area 2 of the optical disc D ₁ . In addition to the optical disc D ₁ , the same applies to optical discs created by the beam exposure apparatus shown in FIG. 6 in which the exposure power of the first beam light is changed from 2.0 mW to 9 mW in the region corresponding to the optical recording region. Is being measured.
The vertical axis represents S / N, and the horizontal axis represents groove exposure power. The reproduction conditions were the same as those shown in FIG. 7, and the reproduction signal was passed through a 17 MHz low-pass filter. As can be seen from the graph, the S / N decreases as the exposure power increases, and the S / N decreases sharply when the exposure power exceeds approximately 6.5 mW, and the S / N is about 7 dB at 9 mW. It can be said that when the groove exposure power is 9 mW, the land width is narrower than the groove width, and thus the S / N is significantly reduced.

【００３１】図７及び図８から明らかなように、ピット
が形成されていない光記録領域２においては、グルーブ
露光パワーが低い方が即ちグルーブが浅い方がＳ／Ｎは
高いがトラッキングエラー信号は小さく、図７に示すよ
うにＤＰＰ及びＰＰの最大ピーク辺りが適当であること
が判る。例えば、国際標準規格に従った場合は、ＰＰが
0.5以上、ＤＰＰが 0.65 以上、ＣＴＳが 0.25 以上を
満たすグルーブ露光パワーが適当であり、グラフから
3.7ｍＷ程度が適当であることと言える。なお、記録マ
ークが本実施例の0.64μｍよりも長い場合は、再生に必
要なＳ／Ｎが低くなるので、グルーブ露光パワーは3.7
ｍＷよりも高くても良いことは勿論である。As is apparent from FIGS. 7 and 8, in the optical recording area 2 in which no pit is formed, the S / N is higher when the groove exposure power is lower, that is, when the groove is shallower, but the tracking error signal is It is small, and as shown in FIG. 7, it can be seen that DPP and the vicinity of the maximum peak of PP are appropriate. For example, if you follow the international standard, PP
A groove exposure power satisfying 0.5 or more, DPP of 0.65 or more, and CTS of 0.25 or more is suitable.
It can be said that 3.7 mW is suitable. If the recording mark is longer than 0.64 μm in this embodiment, the S / N required for reproduction is low, so the groove exposure power is 3.7.
Of course, it may be higher than mW.

【００３２】図９、図１０、図１１及び図１２は、光デ
ィスクＤ₁ のプリフォーマット領域２について、ＤＰ
Ｐ、ＰＰ、ＣＴＳ及びＰit変調度を夫々測定した結果で
ある。光ディスクＤ₁ の他に、図６に示したビーム露光
装置にて、プリフォーマット領域に対応する領域で、第
２のビーム光の露光パワーを３ｍＷから７ｍＷまで異な
らせて作成した光ディスクについても同様に測定してい
る。FIG. 9, FIG. 10, FIG. 11 and FIG. 12 show the DP for the pre-formatted area 2 of the optical disc D ₁ .
It is a result of measuring P, PP, CTS, and Pit modulation degree, respectively. In addition to the optical disc D ₁ , the same applies to an optical disc prepared by the beam exposure apparatus shown in FIG. 6 in which the exposure power of the second beam light is varied from 3 mW to 7 mW in the area corresponding to the preformat area. I'm measuring.

【００３３】夫々のグラフでは、２Ｔピット８Ｔスペー
ス記録で最短ピットを形成した場合及び８Ｔピット２Ｔ
スペース記録で最長ピットを形成した場合を示してい
る。２Ｔピット８Ｔスペースについては‘●…●’がグ
ルーブ露光パワーが 3.8ｍＷの場合を示し、‘●−●’
がグルーブ露光パワーが4.5 ｍＷの場合を示し、‘○…
○’がグルーブ露光パワーが5.3 ｍＷの場合を示し、
‘○−○’がグルーブ露光パワーが6.1 ｍＷの場合を示
している。また、８Ｔピット２Ｔスペースについては
‘◆…◆’がグルーブ露光パワーが 3.8ｍＷの場合を示
し、‘◆−◆’がグルーブ露光パワーが4.5 ｍＷの場合
を示し、‘◇…◇’がグルーブ露光パワーが5.3 ｍＷの
場合を示し、‘◇−◇’がグルーブ露光パワーが6.1 ｍ
Ｗの場合を示している。In each graph, the case where the shortest pit is formed by 2T pit 8T space recording and the case where 8T pit 2T
The case where the longest pit is formed by space recording is shown. For 2T pit and 8T space, "● ... ●" indicates the case where the groove exposure power is 3.8 mW, and "●-●"
Shows the case where the groove exposure power is 4.5 mW.
○ indicates the case where the groove exposure power is 5.3 mW,
"○-○" indicates the case where the groove exposure power is 6.1 mW. Regarding 8T pit 2T space, '◆ ... ◆' indicates that the groove exposure power is 3.8 mW, '◆-◆' indicates the groove exposure power is 4.5 mW, and '◇ ... ◇' indicates the groove exposure power. The power is 5.3 mW, and "◇-◇" is the groove exposure power of 6.1 m.
The case of W is shown.

【００３４】図９では縦軸はＤＰＰを示し、横軸はピッ
ト露光パワーを示している。グラフから明らかなよう
に、ピット形成領域１のＤＰＰはピットが形成されてい
るために光記録領域２のＤＰＰ（図７参照）よりも小さ
く、２Ｔピット８Ｔスペース記録では光記録領域でのＤ
ＰＰと同じ特性を示し、８Ｔピット２Ｔスペース記録で
はグルーブ露光パワーが大きくなるに従いＤＰＰも大き
くなっている。またグルーブ露光パワーが一定である場
合はピット露光パワーが大きくなるに従いＤＰＰは小さ
くなっていることが判る。これによりグルーブ露光パワ
ーが大きく、ピット露光パワーが小さいほどＤＰＰが大
きいことが言える。In FIG. 9, the vertical axis represents DPP and the horizontal axis represents pit exposure power. As is clear from the graph, the DPP of the pit formation area 1 is smaller than the DPP of the optical recording area 2 (see FIG. 7) because the pits are formed, and the 2T pit 8T space recording has a DPP in the optical recording area.
It exhibits the same characteristics as PP, and in 8T pit 2T space recording, DPP also increases as the groove exposure power increases. Further, it can be seen that when the groove exposure power is constant, the DPP decreases as the pit exposure power increases. Therefore, it can be said that the larger the groove exposure power and the smaller the pit exposure power, the larger the DPP.

【００３５】図１０では縦軸はＰＰを示し、横軸はピッ
ト露光パワーを示している。グラフから明らかなよう
に、ＰＰについてもＤＰＰと同様の特性が認められる。In FIG. 10, the vertical axis represents PP and the horizontal axis represents pit exposure power. As is clear from the graph, PP has the same characteristics as DPP.

【００３６】図１１では縦軸はＣＴＳを示し、横軸はピ
ット露光パワーを示している。グラフから明らかなよう
に、グルーブ露光パワーが低いほどＣＴＳが小さく、グ
ルーブ露光パワーが一定の場合はピット露光パワーが高
いほどＣＴＳが小さいと言える。ＣＴＳがマイナス値で
ある場合は、位相が反転していることを示している。即
ちＣＴＳがプラス値である場合はランド部分で反射率が
高く溝部分で反射率が低いが、マイナス値である場合は
その逆になる。従って、グルーブ露光パワーよりもピッ
ト露光パワーを低くすることにより、ＣＴＳが高くなる
ことが判る。In FIG. 11, the vertical axis represents CTS and the horizontal axis represents pit exposure power. As is clear from the graph, it can be said that the lower the groove exposure power, the smaller the CTS, and when the groove exposure power is constant, the higher the pit exposure power, the smaller the CTS. A negative CTS value indicates that the phase is inverted. That is, when CTS has a positive value, the reflectance is high in the land portion and low in the groove portion, but the opposite is true when the CTS has a negative value. Therefore, it is understood that the CTS becomes higher by making the pit exposure power lower than the groove exposure power.

【００３７】図１２では縦軸はＰit変調度を示し、横軸
はピット露光パワーを示している。Ｐit変調度とは、ピ
ット信号をピットが形成されていない領域からの再生信
号で規格化したものである。グラフから明らかなよう
に、ピット露光パワーが高くなるに従い、ピット信号は
大きくなることが判る。In FIG. 12, the vertical axis represents the Pit modulation degree and the horizontal axis represents the pit exposure power. The Pit modulation degree is a standardization of a pit signal with a reproduction signal from an area where no pit is formed. As is apparent from the graph, the pit signal increases as the pit exposure power increases.

【００３８】図９〜図１２から、プリフォーマット領域
において、ピット露光パワーよりもグルーブ露光パワー
の方を高く設定し、グルーブ露光パワーについてはＤＰ
Ｐ、ＰＰ及びＣＴＳが大きな範囲を求めることが必要で
あることが判る。例えば、国際標準規格に従った場合
は、ＤＰＰが略0.65、ＰＰが略 0.2、ＣＴＳが略0.06よ
り大きな値となる範囲が適当であり、グルーブ露光パワ
ーは 5.3ｍＷ〜 6.1ｍＷであり、ピット露光パワーは、
３ｍＷ〜５ｍＷである。From FIGS. 9 to 12, the groove exposure power is set higher than the pit exposure power in the preformat area, and the groove exposure power is DP.
It can be seen that it is necessary to find a large range for P, PP and CTS. For example, in the case of following the international standard, it is appropriate that the DPP is about 0.65, the PP is about 0.2, and the CTS is larger than about 0.06. The groove exposure power is 5.3 mW to 6.1 mW and the pit exposure is Power is
It is 3 mW to 5 mW.

【００３９】以上により、トラックピッチを狭くした光
記録媒体にあっても、ピットが形成されたプリフォーマ
ット領域１のグルーブをピットの光学的深さよりも深く
形成することにより、充分な大きさのピット信号及びト
ラッキングエラー信号が得られ、プリフォーマット領域
１のグルーブを光記録領域２のグルーブの光学的深さよ
りも深く形成することにより、充分な大きさの光記録情
報の再生信号を得ることができる。例えば、実施例１の
場合はプリフォーマット領域１のグルーブ露光パワーは
5.3ｍＷ、ピット露光パワーが３ｍＷ, ４ｍＷ, ５ｍＷ
の場合に、グルーブの光学的深さｄ₂ は 130ｎｍであ
り、ピットの光学的深さｄ₁ は夫々 100ｎｍ, 110ｎ
ｍ， 120ｎｍである。このとき、光記録領域２のグルー
ブ露光パワーは 3.7ｍＷであり、グルーブの光学的深さ
ｄ₃ は70ｎｍである。As described above, even in an optical recording medium having a narrow track pitch, by forming the groove of the preformat area 1 in which the pit is formed deeper than the optical depth of the pit, the pit having a sufficient size is formed. A signal and a tracking error signal are obtained, and by forming the groove of the pre-formatted area 1 deeper than the optical depth of the groove of the optical recording area 2, it is possible to obtain a reproduced signal of the optical recorded information having a sufficient size. . For example, in the case of the first embodiment, the groove exposure power of the preformat area 1 is
5.3mW, pit exposure power 3mW, 4mW, 5mW
, The optical depth d ₂ of the groove is 130 nm, and the optical depth d ₁ of the pit is 100 nm and 110 n, respectively.
m, 120 nm. At this time, the groove exposure power of the optical recording area 2 is 3.7 mW, and the optical depth d ₃ of the groove is 70 nm.

【００４０】なお、実施例１に示した記録膜は一例を示
したものであり、光磁気記録が可能な記録膜であれば良
く、上述の材料及び組成に限るものではない。The recording film shown in Example 1 is an example, and any recording film capable of magneto-optical recording may be used, and the recording material and composition are not limited to those described above.

【００４１】実施例２．実施例１と同様にガラス原盤を
作成し、射出成形によりｄ₂ ＞ｄ₁ ，ｄ₂ ＞ｄ ₃ を満た
す基板を形成する。この基板上に記録膜として、ＺｎＳ
−ＳｉＯ₂ 膜を厚み 100ｎｍ、ＧｅＳｂ₂ Ｔｅ₄ 膜を厚
み15ｎｍ、ＺｎＳ−ＳｉＯ₂ 膜を厚み20ｎｍ、Ａｌ膜を
厚み 100ｎｍでこの順に積層する。この光ディスク全体
に紫外線硬化樹脂で保護コーティングを行う。基板上に
形成する記録膜及び保護膜の他は図１に示すものと同様
であり、同部分に同符号を付して説明を省略する。Example 2. As in Example 1, the glass master was
Created and injection molded d_Two> D₁, D_Two> D _ThreeMeet
Forming a substrate. ZnS is used as a recording film on this substrate.
-SiO_TwoFilm thickness 100nm, GeSb_TwoTe_FourMembrane thickness
15nm, ZnS-SiO_Two20nm thick film, Al film
The layers are stacked in this order with a thickness of 100 nm. The entire optical disc
Protective coating with UV curable resin. On board
Other than the recording film and protective film to be formed, it is the same as that shown in FIG.
Therefore, the same parts are denoted by the same reference numerals and the description thereof will be omitted.

【００４２】この光ディスクの光記録領域２に信号を記
録する。記録条件は、 680ｎｍの半導体レーザ及びＮＡ
が0.55の対物レンズを備える光ディスク記録再生装置を
用い、線速６ｍ／ｓ, 最大Ｓ／Ｎが得られる記録パワー
にて、トラック方向長さ0.67μｍの記録マークで繰り返
しパターンを記録する。この光ディスクへの記録は相変
化記録であり、ビーム光照射による加熱でその結晶状態
を異ならせて記録する。A signal is recorded in the optical recording area 2 of this optical disk. Recording conditions are 680 nm semiconductor laser and NA
Using an optical disk recording / reproducing apparatus equipped with an objective lens of 0.55, a repetitive pattern is recorded with recording marks having a track direction length of 0.67 μm at a recording power that can obtain a linear velocity of 6 m / s and a maximum S / N. Recording on this optical disk is phase change recording, and the crystal state is changed by heating by irradiation with beam light.

【００４３】図１３は、実施例２の光ディスクの光記録
領域に記録された記録マークの再生信号のＣ／Ｎを測定
した結果である。実施例２に示した光ディスクの他に、
図６に示したビーム露光装置にて、光記録領域に対応す
る領域で、第１のビーム光の露光パワーを 2.0ｍＷから
９ｍＷまで異ならせて作成した光ディスクについても同
様に測定している。縦軸はＣ／Ｎを示し、横軸はグルー
ブ露光パワーを示している。再生条件は上述の光ディス
ク記録再生装置を用い、線速６ｍ／ｓ, 再生パワーは
1.5ｍＷで再生した。再生信号は12MHz のローパスフィ
ルタを通した。グラフから判るように、露光パワーが高
くなるに従ってＣ／Ｎは低下し、露光パワーが略 6.5ｍ
Ｗより大きくなると急峻にＣ／Ｎが低下している。これ
は実施例１の光ディスクＤ₁ と同様の特性を示してい
る。また、ピット信号及びトラッキングエラー信号を測
定した結果、実施例１と同様の特性を示した。FIG. 13 shows the result of measuring the C / N of the reproduction signal of the recording mark recorded in the optical recording area of the optical disc of the second embodiment. In addition to the optical disc shown in Example 2,
In the beam exposure apparatus shown in FIG. 6, the same measurement is performed on the optical discs produced by changing the exposure power of the first beam light from 2.0 mW to 9 mW in the area corresponding to the optical recording area. The vertical axis represents C / N, and the horizontal axis represents groove exposure power. The reproducing conditions are the above-mentioned optical disk recording / reproducing apparatus, the linear velocity is 6 m / s and the reproducing power
Reproduced at 1.5 mW. The reproduced signal was passed through a 12MHz low-pass filter. As can be seen from the graph, the C / N decreases as the exposure power increases, and the exposure power is approximately 6.5 m.
When it is larger than W, the C / N sharply decreases. This shows the same characteristics as the optical disc D _{1 of the} first embodiment. In addition, as a result of measuring the pit signal and the tracking error signal, the same characteristics as in Example 1 were exhibited.

【００４４】以上により、実施例２に示した相変化型の
光ディスクは、ピット列が形成されたプリフォーマット
領域のグルーブの光学的深さｄ₂ が、ピットの光学的深
さｄ ₁ よりも深く、且つ、光記録領域のグルーブの光学
的深さｄ₃ よりも深いので、トラックピッチを狭くした
光記録媒体にあっても、充分な大きさのピット信号、ト
ラッキングエラー信号及び光記録領域からの再生信号が
得られる。From the above, the phase change type of the second embodiment
Optical discs are pre-formatted with pit rows
Optical depth d of the groove in the area_TwoBut the optical depth of the pit
D ₁Deeper than the optics of the groove in the optical recording area
Depth d_ThreeSince it is deeper than the track pitch
Even with an optical recording medium, the pit signal and
The racking error signal and the reproduction signal from the optical recording area
can get.

【００４５】なお、実施例２の記録膜は一例を示したも
のであって、相変化記録が可能な記録膜であれば良く、
上述の材料及び組成に限るものではない。The recording film of Example 2 is an example, and any recording film capable of phase change recording may be used.
It is not limited to the materials and compositions described above.

【００４６】実施例３．図１４は本発明の実施例３の光
記録媒体の構成を示す断面図である。実施例１と同様に
ｄ₂ ＞ｄ₁ ，ｄ₂ ＞ｄ₃ を満たす光ディスクＤ₁ を２枚
作成する。光ディスクＤ₁ ，Ｄ₁ のグルーブ１１及びピ
ット１２が形成された面を互いに対向せしめ、外周部分
にスペーサ４を介在せしめてホットメルティングにより
張り合わせて両面ディスクを形成した。これにより、さ
らに高密度記録化された光記録媒体のプリフォーマット
領域及び光記録領域から、充分な大きさの再生信号及び
トラッキングエラー信号が得られる。また、実施例２の
光記録媒体を２枚用いて上述のように両面ディスクを作
成しても同様の効果を奏する。Example 3. FIG. 14 is a sectional view showing the structure of the optical recording medium of Example 3 of the present invention. _Two optical disks D ₁ satisfying d ₂ > d ₁ and d ₂ > d ₃ are prepared as in the first embodiment. The surfaces of the optical discs D ₁ and D _{1 on which} the grooves 11 and the pits 12 were formed were made to face each other, and a spacer 4 was interposed on the outer peripheral portion, and they were laminated by hot melting to form a double-sided disc. As a result, a sufficiently large reproduction signal and tracking error signal can be obtained from the preformatted area and the optical recording area of the optical recording medium having a higher recording density. Further, even if a double-sided disk is produced as described above by using two optical recording media of Example 2, the same effect is obtained.

【００４７】なお、上述の実施例では、ガラス原盤から
スタンパを作成して射出成形により光ディスクの基板を
作成する場合を説明しているが、これに限るものではな
く、光ディスクの基板にマスク露光にて直接グルーブ及
びピットを形成する場合にも適用できる。In the above-mentioned embodiment, the case where the stamper is prepared from the glass master and the substrate of the optical disc is prepared by injection molding is explained, but the present invention is not limited to this, and the substrate of the optical disc is exposed by mask exposure. It is also applicable when directly forming grooves and pits.

【００４８】[0048]

【発明の効果】以上のように、本発明においては、形成
領域に応じてその光学的深さが異なる溝を備え、トラッ
ク幅方向の記録密度を高めた光記録媒体のピット形成領
域のグルーブを光記録領域のグルーブよりも深く形成し
ているので、トラッキングエラー信号が得られ難いピッ
ト形成領域で充分なトラッキングエラー信号が得られ、
トラッキングエラー信号が得られ易い光記録領域では、
記録マークを形成するためのランド幅を確保できる。ま
た、ピット形成領域のグルーブの光学的深さをピットの
深さよりも深く形成することにより、ピット信号とトラ
ッキングエラー信号との双方を再生のための充分な大き
さで得ることができる等、本発明は優れた効果を奏する
ものである。As described above, in the present invention, the groove of the pit forming area of the optical recording medium having the groove having the optical depth different depending on the forming area and having the increased recording density in the track width direction is formed. Since it is formed deeper than the groove of the optical recording area, a sufficient tracking error signal can be obtained in the pit formation area where it is difficult to obtain a tracking error signal.
In the optical recording area where the tracking error signal is easily obtained,
A land width for forming the recording mark can be secured. Further, by forming the optical depth of the groove in the pit formation region deeper than the depth of the pit, both the pit signal and the tracking error signal can be obtained with a sufficient size for reproduction. The invention has excellent effects.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図１】本発明の光記録媒体の構成を示す一部破断斜視
図である。FIG. 1 is a partially cutaway perspective view showing the structure of an optical recording medium of the present invention.

【図２】本発明の光記録媒体の構成を示す部分平面図で
ある。FIG. 2 is a partial plan view showing the configuration of the optical recording medium of the present invention.

【図３】本発明の光記録媒体の構成を示す平面図であ
る。FIG. 3 is a plan view showing the configuration of the optical recording medium of the present invention.

【図４】本発明の光記録媒体の構成を示す平面図であ
る。FIG. 4 is a plan view showing the configuration of the optical recording medium of the present invention.

【図５】本発明の光記録媒体の構成を示す平面図であ
る。FIG. 5 is a plan view showing the configuration of the optical recording medium of the present invention.

【図６】本発明の光記録媒体の製造装置の構成図であ
る。FIG. 6 is a configuration diagram of an optical recording medium manufacturing apparatus of the present invention.

【図７】本発明の光記録媒体のグルーブ露光パワーに対
するトラッキングエラー信号特性を示すグラフである。FIG. 7 is a graph showing tracking error signal characteristics with respect to groove exposure power of the optical recording medium of the present invention.

【図８】本発明の光記録媒体のグルーブ露光パワーに対
する再生信号品質を示すグラフである。FIG. 8 is a graph showing reproduced signal quality with respect to groove exposure power of the optical recording medium of the present invention.

【図９】本発明の光記録媒体のピット露光パワーに対す
るデバイデッドプッシュプル信号特性を示すグラフであ
る。FIG. 9 is a graph showing the characteristics of the divided push-pull signal with respect to the pit exposure power of the optical recording medium of the present invention.

【図１０】本発明の光記録媒体のピット露光パワーに対
するプッシュプル信号特性を示すグラフである。FIG. 10 is a graph showing push-pull signal characteristics with respect to pit exposure power of the optical recording medium of the present invention.

【図１１】本発明の光記録媒体のピット露光パワーに対
するクロストラック信号特性を示すグラフである。FIG. 11 is a graph showing cross-track signal characteristics with respect to pit exposure power of the optical recording medium of the present invention.

【図１２】本発明の光記録媒体のピット露光パワーに対
するＰit変調度を示すグラフである。FIG. 12 is a graph showing the Pit modulation degree with respect to the pit exposure power of the optical recording medium of the present invention.

【図１３】本発明の他の光記録媒体のグルーブ露光パワ
ーに対する再生信号品質特性を示すグラフである。FIG. 13 is a graph showing reproduction signal quality characteristics with respect to groove exposure power of another optical recording medium of the present invention.

【図１４】本発明の他の光記録媒体の構成を示す断面図
である。FIG. 14 is a sectional view showing the structure of another optical recording medium of the present invention.

【図１５】一般的な光記録媒体のトラッキングエラー信
号の検出光学系の構成図である。FIG. 15 is a configuration diagram of a tracking error signal detection optical system of a general optical recording medium.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

１ プリフォーマット領域 ２ 光記録領域 ３ ＲＯＭ領域 １１，２１ グルーブ １２ ピット ２２ 記録マーク ４１ Ａｒレーザ光源 ４４ａ，４４ｂ ＡＯＭ ４９ 光学ヘッド Ｄ₁ 光ディスク Ｇ ガラス原盤1 Pre-format area 2 Optical recording area 3 ROM area 11, 21 Groove 12 Pit 22 Recording mark 41 Ar laser light source 44a, 44b AOM 49 Optical head D ₁ Optical disk G Glass master

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ１１Ｂ 11/10 ５４１ 9075−5Ｄ Ｇ１１Ｂ 11/10 ５４１Ｄ ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. ⁶ Identification code Internal reference number FI Technical display location G11B 11/10 541 9075-5D G11B 11/10 541D

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項１】 記録用又は再生用照射光の案内のための
溝を設けた光記録媒体において、前記溝は、その形成領
域に応じて異なる光学的深さを有することを特徴とする
光記録媒体。1. An optical recording medium provided with a groove for guiding irradiation light for recording or reproduction, wherein the groove has an optical depth different depending on a formation region thereof. Medium. 【請求項２】 記録用又は再生用照射光の案内のための
溝を設けた基板上に記録膜が形成されており、ピットの
形成により情報を記録したピット形成領域と、前記記録
膜に光学的に情報を記録すべき光記録領域とを有する光
記録媒体において、 前記ピット形成領域に設けられた溝は、前記光記録領域
に設けられた溝よりも深い光学的深さを有することを特
徴とする光記録媒体。2. A recording film is formed on a substrate provided with a groove for guiding irradiation light for recording or reproduction, and a pit formation area in which information is recorded by forming pits and an optical film formed on the recording film. In an optical recording medium having an optical recording area on which information is to be recorded, the groove provided in the pit forming area has an optical depth deeper than the groove provided in the optical recording area. And an optical recording medium. 【請求項３】 記録用又は再生用照射光の案内のための
溝を設けた基板上に記録膜が形成されており、ピットの
形成により情報を記録したピット形成領域と、前記記録
膜に光学的に情報を記録すべき光記録領域とを有する光
記録媒体において、 前記ピット形成領域に設けられた溝は、前記光記録領域
に設けられた溝及び前記ピットよりも深い光学的深さを
有することを特徴とする光記録媒体。3. A recording film is formed on a substrate provided with a groove for guiding irradiation light for recording or reproduction, and a pit forming area in which information is recorded by forming pits and an optical film on the recording film are formed. In an optical recording medium having an optical recording area where information is to be recorded, the groove provided in the pit forming area has an optical depth deeper than the groove provided in the optical recording area and the pit. An optical recording medium characterized by the above. 【請求項４】 ビーム光の照射強度により決定される光
学的深さを有する記録再生光案内用の溝を基板上に備え
る光記録媒体の製造方法において、 前記ビーム光の照射位置に応じてその照射強度を異なら
せ、該照射強度に応じて光学的深さが異なる溝を形成す
ることを特徴とする光記録媒体の製造方法。4. A method for manufacturing an optical recording medium, comprising a groove for guiding a recording / reproducing light on a substrate, the groove having an optical depth determined by the irradiation intensity of the beam light, the method according to the irradiation position of the beam light. A method for manufacturing an optical recording medium, which comprises varying the irradiation intensity and forming a groove having a different optical depth according to the irradiation intensity.