JPH0888265A - 位置決めステージ - Google Patents
位置決めステージInfo
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- JPH0888265A JPH0888265A JP24997794A JP24997794A JPH0888265A JP H0888265 A JPH0888265 A JP H0888265A JP 24997794 A JP24997794 A JP 24997794A JP 24997794 A JP24997794 A JP 24997794A JP H0888265 A JPH0888265 A JP H0888265A
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- JP
- Japan
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- wafer chuck
- positioning stage
- transfer
- holding
- wafer
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 位置決めステージの駆動部を小型化し、位置
決めを安定化する。 【構成】 搬送ハンドＨ1 からウエハＷ1 を受け取る受
け渡しピン３は、台板５に固定された円筒部材４と一体
であり、円筒部材４は、揺動レバー８ａによって上下動
する有底円筒体７を支持する。ウエハチャック１と一体
であるウエハチャック支持体２の円筒部２ａは、駆動シ
リンダ９ａと圧電駆動装置９ｂによって有底円筒体７に
対して上下動する。有底円筒体７に対する円筒部材４と
ウエハチャック支持体２の相対移動量を加算したもの
が、ウエハチャック１に対する受け渡しピン３の上昇ス
トロークの長さに等しい。
決めを安定化する。 【構成】 搬送ハンドＨ1 からウエハＷ1 を受け取る受
け渡しピン３は、台板５に固定された円筒部材４と一体
であり、円筒部材４は、揺動レバー８ａによって上下動
する有底円筒体７を支持する。ウエハチャック１と一体
であるウエハチャック支持体２の円筒部２ａは、駆動シ
リンダ９ａと圧電駆動装置９ｂによって有底円筒体７に
対して上下動する。有底円筒体７に対する円筒部材４と
ウエハチャック支持体２の相対移動量を加算したもの
が、ウエハチャック１に対する受け渡しピン３の上昇ス
トロークの長さに等しい。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体ディバイスある
いは液晶表示パネル等製造のためのウエハ等基板を露光
する露光装置の位置決めステージに関するものである。
いは液晶表示パネル等製造のためのウエハ等基板を露光
する露光装置の位置決めステージに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】半導体ディバイスあるいは液晶表示パネ
ル等製造のためのウエハ等基板を露光する露光装置は、
露光光やマスクに対してウエハ等基板を高精度で位置決
めする位置決めステージを必要とする。
ル等製造のためのウエハ等基板を露光する露光装置は、
露光光やマスクに対してウエハ等基板を高精度で位置決
めする位置決めステージを必要とする。
【０００３】特に半導体製造の分野においては、集積回
路の高集積化に伴って転写パターンの微細化がすすみ、
高解像レンズを搭載したステッパ（縮小投影型露光装
置）等が開発されており、これらに搭載する位置決めス
テージは、公知のプリアライメントステージにおいて予
め大まかな位置決めを行なったウエハを、搬送ハンドか
ら受け取り、平坦度の高い吸着面に吸着してウエハの平
面度を矯正したうえで、ウエハをステップ移動させ、複
数の露光領域を逐次マスク等に対して高精度で位置決め
するように構成されている。
路の高集積化に伴って転写パターンの微細化がすすみ、
高解像レンズを搭載したステッパ（縮小投影型露光装
置）等が開発されており、これらに搭載する位置決めス
テージは、公知のプリアライメントステージにおいて予
め大まかな位置決めを行なったウエハを、搬送ハンドか
ら受け取り、平坦度の高い吸着面に吸着してウエハの平
面度を矯正したうえで、ウエハをステップ移動させ、複
数の露光領域を逐次マスク等に対して高精度で位置決め
するように構成されている。
【０００４】図５は位置決めステージの一従来例を示す
もので、これは、ウエハＷ0 を吸着する吸着面１０１ａ
を有するウエハチャック１０１と、これと一体であるウ
エハチャック支持体１０２と、ウエハチャック１０１と
ウエハチャック支持体１０２の貫通孔をそれぞれ摺動自
在に貫通する３個の受け渡しピン１０３を有し、各受け
渡しピン１０３は図示上向きの吸引孔１０３ａを有し、
図６に示すようにウエハチャック１０１の周方向に等間
隔で配設される。各受け渡しピン１０３の下端は円筒部
材１０４に固定されており、各受け渡しピン１０３の吸
引孔１０３ａは円筒部材１０４の内部配管１０４ａを介
して図示しない真空源に接続され、各受け渡しピン１０
３の図示上端に真空吸着力を発生する。
もので、これは、ウエハＷ0 を吸着する吸着面１０１ａ
を有するウエハチャック１０１と、これと一体であるウ
エハチャック支持体１０２と、ウエハチャック１０１と
ウエハチャック支持体１０２の貫通孔をそれぞれ摺動自
在に貫通する３個の受け渡しピン１０３を有し、各受け
渡しピン１０３は図示上向きの吸引孔１０３ａを有し、
図６に示すようにウエハチャック１０１の周方向に等間
隔で配設される。各受け渡しピン１０３の下端は円筒部
材１０４に固定されており、各受け渡しピン１０３の吸
引孔１０３ａは円筒部材１０４の内部配管１０４ａを介
して図示しない真空源に接続され、各受け渡しピン１０
３の図示上端に真空吸着力を発生する。
【０００５】円筒部材１０４は、図示しないＸＹステー
ジ機構に搭載された台板１０５と一体であり、ボールガ
イド１０６を介して、ウエハチャック１０１と一体であ
るウエハチャック支持体１０２の有底筒状部分１０２ａ
の円筒面を少くとも軸方向に摺動自在に支持する。ウエ
ハチャック支持体１０２の有底筒状部分１０２ａの底面
は、台板１０５に支持されたモータ１０７によって駆動
される揺動レバー１０７ａの先端に当接され、揺動レバ
ー１０７ａの揺動によってウエハチャック支持体１０２
が上下動し、その結果、ウエハチャック１０１が上下動
するように構成されている。
ジ機構に搭載された台板１０５と一体であり、ボールガ
イド１０６を介して、ウエハチャック１０１と一体であ
るウエハチャック支持体１０２の有底筒状部分１０２ａ
の円筒面を少くとも軸方向に摺動自在に支持する。ウエ
ハチャック支持体１０２の有底筒状部分１０２ａの底面
は、台板１０５に支持されたモータ１０７によって駆動
される揺動レバー１０７ａの先端に当接され、揺動レバ
ー１０７ａの揺動によってウエハチャック支持体１０２
が上下動し、その結果、ウエハチャック１０１が上下動
するように構成されている。
【０００６】図示しないプリアライメントステージから
搬送ハンドＨ0 によって搬入されたウエハＷ0 はまず各
受け渡しピン１０３の上端に吸着され、搬送ハンドＨ0
が後退したのちにモータ１０７を駆動してウエハチャッ
ク１０１を上昇させ、その吸着面１０１ａにウエハＷ0
を吸着させる。続いて、ＸＹステージ機構によって台板
１０５を駆動し、ウエハチャック１０１をステップ移動
させて、ウエハＷ0 の各露光領域を図示しない露光光や
マスクに対して位置決めして露光する。各露光領域の位
置決めは図示しないアライメント光学系を用いて微小な
位置ずれを検出し、図示しない微動ステージ機構によっ
てウエハチャック１０１を微動させることによって行な
われる。すべての露光領域の露光が終了したら、前述と
逆に、まず、モータ１０７を逆駆動してウエハチャック
１０１を下降させ、各受け渡しピン１０３の上端にウエ
ハＷ0 を支持させた状態で搬送ハンドＨ0 をウエハチャ
ック１０１とウエハＷ0 の間に挿入し、ウエハＷ0 を搬
送ハンドＨ0 に吸着させて所定の回収装置あるいは待機
位置へ搬送する。
搬送ハンドＨ0 によって搬入されたウエハＷ0 はまず各
受け渡しピン１０３の上端に吸着され、搬送ハンドＨ0
が後退したのちにモータ１０７を駆動してウエハチャッ
ク１０１を上昇させ、その吸着面１０１ａにウエハＷ0
を吸着させる。続いて、ＸＹステージ機構によって台板
１０５を駆動し、ウエハチャック１０１をステップ移動
させて、ウエハＷ0 の各露光領域を図示しない露光光や
マスクに対して位置決めして露光する。各露光領域の位
置決めは図示しないアライメント光学系を用いて微小な
位置ずれを検出し、図示しない微動ステージ機構によっ
てウエハチャック１０１を微動させることによって行な
われる。すべての露光領域の露光が終了したら、前述と
逆に、まず、モータ１０７を逆駆動してウエハチャック
１０１を下降させ、各受け渡しピン１０３の上端にウエ
ハＷ0 を支持させた状態で搬送ハンドＨ0 をウエハチャ
ック１０１とウエハＷ0 の間に挿入し、ウエハＷ0 を搬
送ハンドＨ0 に吸着させて所定の回収装置あるいは待機
位置へ搬送する。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記従来
の技術によれば、受け渡しピンを台板に固定し、ウエハ
チャックと一体であるウエハチャック支持体の有底円筒
部分を揺動レバーのみによって押し上げることで、ウエ
ハチャックを上昇させるように構成されているため、ウ
エハチャック支持体を案内するボールガイドには、ウエ
ハチャック支持体すなわちウエハチャックを安定して上
下動させるための必要長さに、ウエハチャックの上昇ス
トロークの長さを加えた長さが必要となる。
の技術によれば、受け渡しピンを台板に固定し、ウエハ
チャックと一体であるウエハチャック支持体の有底円筒
部分を揺動レバーのみによって押し上げることで、ウエ
ハチャックを上昇させるように構成されているため、ウ
エハチャック支持体を案内するボールガイドには、ウエ
ハチャック支持体すなわちウエハチャックを安定して上
下動させるための必要長さに、ウエハチャックの上昇ス
トロークの長さを加えた長さが必要となる。
【０００８】最近ではウエハの大型化が進み、これに伴
ってウエハの肉厚が増大しており、また、ウエハを搬送
する搬送ハンドにもウエハの高重量に耐えるだけの肉厚
が必要であるから、ウエハチャックの上昇ストロークは
大幅に長大化する傾向を有する。このようにウエハチャ
ックの上昇ストロークが大きくなると前述のようにウエ
ハチャック支持体の有底円筒部分を案内するボールガイ
ドの必要長さも増大し、加えて、揺動レバーの駆動量の
増加とともに揺動レバーの必要スペースも大きくなる。
その結果、位置決めステージ全体が極めて嵩高となり、
省スペースの観点から好ましくないうえに、ボールガイ
ドが長くなるにつれて位置決めの安定性を損なうおそれ
もある。さらに、ウエハチャックの上昇ストロークの長
大化によってウエハの受け渡しに要する時間も長くな
り、スループットを著しく低下させる。
ってウエハの肉厚が増大しており、また、ウエハを搬送
する搬送ハンドにもウエハの高重量に耐えるだけの肉厚
が必要であるから、ウエハチャックの上昇ストロークは
大幅に長大化する傾向を有する。このようにウエハチャ
ックの上昇ストロークが大きくなると前述のようにウエ
ハチャック支持体の有底円筒部分を案内するボールガイ
ドの必要長さも増大し、加えて、揺動レバーの駆動量の
増加とともに揺動レバーの必要スペースも大きくなる。
その結果、位置決めステージ全体が極めて嵩高となり、
省スペースの観点から好ましくないうえに、ボールガイ
ドが長くなるにつれて位置決めの安定性を損なうおそれ
もある。さらに、ウエハチャックの上昇ストロークの長
大化によってウエハの受け渡しに要する時間も長くな
り、スループットを著しく低下させる。
【０００９】本発明は、上記従来の技術の有する問題点
に鑑みてなされたものであって、ウエハチャック等の保
持盤に対して受け渡しピン等を相対移動させるための駆
動部を大幅に小型化し、しかも位置決めの安定化と高速
化に大きく役立つ位置決めステージを提供することを目
的とするものである。
に鑑みてなされたものであって、ウエハチャック等の保
持盤に対して受け渡しピン等を相対移動させるための駆
動部を大幅に小型化し、しかも位置決めの安定化と高速
化に大きく役立つ位置決めステージを提供することを目
的とするものである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明の位置決めステージは、基板を保持する保持
面を有する保持盤と、該保持盤の前記保持面から所定の
軸方向に突出自在な受け渡し手段と、前記保持盤と前記
受け渡し手段をそれぞれ前記軸方向に案内する案内手段
と、前記保持盤と前記受け渡し手段と前記案内手段のう
ちのいずれか１つを支持する支持手段と、それぞれ前記
受け渡し手段と前記保持盤を前記案内手段に対して相対
的に往復移動させる第１および第２の駆動手段を有する
ことを特徴とする。
め、本発明の位置決めステージは、基板を保持する保持
面を有する保持盤と、該保持盤の前記保持面から所定の
軸方向に突出自在な受け渡し手段と、前記保持盤と前記
受け渡し手段をそれぞれ前記軸方向に案内する案内手段
と、前記保持盤と前記受け渡し手段と前記案内手段のう
ちのいずれか１つを支持する支持手段と、それぞれ前記
受け渡し手段と前記保持盤を前記案内手段に対して相対
的に往復移動させる第１および第２の駆動手段を有する
ことを特徴とする。
【００１１】案内手段が円筒体を有し、該円筒体がその
内面と外面によって保持盤と受け渡し手段を個別に案内
するように構成されているとよい。
内面と外面によって保持盤と受け渡し手段を個別に案内
するように構成されているとよい。
【００１２】第１および第２の駆動手段のうちの一方が
案内手段に対する受け渡し手段または保持盤の相対移動
を利用するように構成されていてもよい。
案内手段に対する受け渡し手段または保持盤の相対移動
を利用するように構成されていてもよい。
【００１３】
【作用】第１および第２の駆動手段を同時にまたは逐次
駆動することで保持盤の保持面から受け渡し手段を突出
させ、搬送ハンド等によって搬入された基板の受け渡し
を行なう。受け渡し手段の突出量は第１および第２の駆
動手段の駆動量の和に等しい。案内手段が保持盤と受け
渡し手段の双方を個別に案内し、保持盤と受け渡し手段
が案内手段に対して互に逆方向に相対移動されること
で、保持盤の保持面から受け渡し手段を突出させるもの
であるため、保持盤および受け渡し手段の一方に案内手
段を固定して他方を移動させる場合に比べて、案内手段
の長さを大幅に短縮できる。その結果、位置決めステー
ジの駆動部の小型化および位置決めの安定化と高速化を
大きく促進できる。
駆動することで保持盤の保持面から受け渡し手段を突出
させ、搬送ハンド等によって搬入された基板の受け渡し
を行なう。受け渡し手段の突出量は第１および第２の駆
動手段の駆動量の和に等しい。案内手段が保持盤と受け
渡し手段の双方を個別に案内し、保持盤と受け渡し手段
が案内手段に対して互に逆方向に相対移動されること
で、保持盤の保持面から受け渡し手段を突出させるもの
であるため、保持盤および受け渡し手段の一方に案内手
段を固定して他方を移動させる場合に比べて、案内手段
の長さを大幅に短縮できる。その結果、位置決めステー
ジの駆動部の小型化および位置決めの安定化と高速化を
大きく促進できる。
【００１４】
【実施例】本発明の実施例を図面に基づいて説明する。
【００１５】図１は一実施例による位置決めステージを
示すもので、これは、ウエハＷ1 を吸着する保持面であ
る吸着面１ａを有する保持盤であるウエハチャック１
と、これと一体であるウエハチャック支持体２と、ウエ
ハチャック１とウエハチャック支持体２の貫通孔をそれ
ぞれ摺動自在に貫通する受け渡し手段である３個の受け
渡しピン３を有する。各受け渡しピン３は図示上向きの
吸引孔３ａを有し、図２に示すようにウエハチャック１
の周方向に等間隔で配設されている。各受け渡しピン３
の下端は円筒部材４に固定されており、各受け渡しピン
３の吸引孔３ａは円筒部材４の内部配管４ａを介して図
示しない真空源に接続され、各受け渡しピン３の図示上
端に真空吸着力を発生する。
示すもので、これは、ウエハＷ1 を吸着する保持面であ
る吸着面１ａを有する保持盤であるウエハチャック１
と、これと一体であるウエハチャック支持体２と、ウエ
ハチャック１とウエハチャック支持体２の貫通孔をそれ
ぞれ摺動自在に貫通する受け渡し手段である３個の受け
渡しピン３を有する。各受け渡しピン３は図示上向きの
吸引孔３ａを有し、図２に示すようにウエハチャック１
の周方向に等間隔で配設されている。各受け渡しピン３
の下端は円筒部材４に固定されており、各受け渡しピン
３の吸引孔３ａは円筒部材４の内部配管４ａを介して図
示しない真空源に接続され、各受け渡しピン３の図示上
端に真空吸着力を発生する。
【００１６】円筒部材４は図示しない公知のＸＹステー
ジ機構に搭載された支持手段である台板５と一体であ
り、円筒部材４の内側には第１のボールガイド６が保持
され、第１のボールガイド６はその内側に、案内手段で
ある有底円筒体７の外周面を摺動自在に支持する。有底
円筒体７はその底面を、台板５に支持されたアクチュエ
ータであるモータ８によって揺動される第１の駆動手段
である揺動レバー８ａの先端に当接、支持され、揺動レ
バー８ａの揺動によって上下動する。第１のボールガイ
ド６は、このようにして上下動する有底円筒体７を安定
して支持し、案内する役目をする。
ジ機構に搭載された支持手段である台板５と一体であ
り、円筒部材４の内側には第１のボールガイド６が保持
され、第１のボールガイド６はその内側に、案内手段で
ある有底円筒体７の外周面を摺動自在に支持する。有底
円筒体７はその底面を、台板５に支持されたアクチュエ
ータであるモータ８によって揺動される第１の駆動手段
である揺動レバー８ａの先端に当接、支持され、揺動レ
バー８ａの揺動によって上下動する。第１のボールガイ
ド６は、このようにして上下動する有底円筒体７を安定
して支持し、案内する役目をする。
【００１７】有底円筒体７は内部にアクチュエータであ
る駆動シリンダ９ａを支持し、駆動シリンダ９ａはこれ
とともに第２の駆動手段を構成する微駆動用の圧電駆動
装置９ｂを介してウエハチャック支持体２を上下動させ
る。また、有底円筒体７の円筒部分の内側には第２のボ
ールガイド１０が保持され、これは、ウエハチャック支
持体２の円筒部２ａを摺動自在に支持し、ウエハチャッ
ク支持体２が駆動シリンダ９ａによって上下動されると
きにこれを安定して支持し、案内する役目をする。
る駆動シリンダ９ａを支持し、駆動シリンダ９ａはこれ
とともに第２の駆動手段を構成する微駆動用の圧電駆動
装置９ｂを介してウエハチャック支持体２を上下動させ
る。また、有底円筒体７の円筒部分の内側には第２のボ
ールガイド１０が保持され、これは、ウエハチャック支
持体２の円筒部２ａを摺動自在に支持し、ウエハチャッ
ク支持体２が駆動シリンダ９ａによって上下動されると
きにこれを安定して支持し、案内する役目をする。
【００１８】ウエハチャック１の吸着面１ａには、図２
に示すように、同軸状に配設された複数の吸着溝１ｂが
設けられ、これらはウエハチャック１およびウエハチャ
ック支持体２の内部配管を介して図示しない真空源に接
続され、ウエハチャック１の吸着面１ａに所定の真空吸
着力を発生させる。
に示すように、同軸状に配設された複数の吸着溝１ｂが
設けられ、これらはウエハチャック１およびウエハチャ
ック支持体２の内部配管を介して図示しない真空源に接
続され、ウエハチャック１の吸着面１ａに所定の真空吸
着力を発生させる。
【００１９】図示しないプリアライメントステージから
搬送ハンドＨ1 によって搬入されたウエハＷ1 はまず、
ウエハチャック１の吸着面１ａから上方に所定量だけ突
出させた各受け渡しピン３の上端に吸着され、搬送ハン
ドＨ1 が後退したのちに、モータ８と駆動シリンダ９ａ
を駆動してウエハチャック１を上昇させ、その吸着面１
ａにウエハＷ1 を吸着させる。
搬送ハンドＨ1 によって搬入されたウエハＷ1 はまず、
ウエハチャック１の吸着面１ａから上方に所定量だけ突
出させた各受け渡しピン３の上端に吸着され、搬送ハン
ドＨ1 が後退したのちに、モータ８と駆動シリンダ９ａ
を駆動してウエハチャック１を上昇させ、その吸着面１
ａにウエハＷ1 を吸着させる。
【００２０】このときのウエハチャック１の上昇ストロ
ークの長さは、モータ８による有底円筒体７の上昇量と
駆動シリンダ９ａによる有底円筒体７に対するウエハチ
ャック支持体２の上昇量を加えたものに等しい。すなわ
ち、有底円筒体７に対する円筒部材４すなわち受け渡し
ピン３とウエハチャック支持体２すなわちウエハチャッ
ク１の互に逆向きの移動量を加えたものがウエハチャッ
ク１の上昇ストロークの長さに等しい。
ークの長さは、モータ８による有底円筒体７の上昇量と
駆動シリンダ９ａによる有底円筒体７に対するウエハチ
ャック支持体２の上昇量を加えたものに等しい。すなわ
ち、有底円筒体７に対する円筒部材４すなわち受け渡し
ピン３とウエハチャック支持体２すなわちウエハチャッ
ク１の互に逆向きの移動量を加えたものがウエハチャッ
ク１の上昇ストロークの長さに等しい。
【００２１】続いて、ＸＹステージ機構を駆動し、台板
５を介してウエハチャック１をステップ移動させてウエ
ハＷ1 の各露光領域を図示しない露光光学系やマスクに
対して位置決めして露光する。なお、圧電駆動装置９ｂ
は、主に露光光学系やマスクに対してウエハＷ1 を最終
位置決めするときの微動調節に用いられるものである。
５を介してウエハチャック１をステップ移動させてウエ
ハＷ1 の各露光領域を図示しない露光光学系やマスクに
対して位置決めして露光する。なお、圧電駆動装置９ｂ
は、主に露光光学系やマスクに対してウエハＷ1 を最終
位置決めするときの微動調節に用いられるものである。
【００２２】すべての露光領域の露光が終了したら、前
述と逆に、まずモータ８と駆動シリンダ９ａを逆駆動し
てウエハチャック１を下降させ、吸着面１ａから突出す
る各受け渡しピン３の上端にウエハＷ1 を支持させた状
態で、搬送ハンドＨ1 をウエハチャック１とウエハＷ1
の間に挿入し、ウエハＷ1 を搬送ハンドＨ1 に吸着させ
て所定の回収装置あるいは待機位置へ搬送する。
述と逆に、まずモータ８と駆動シリンダ９ａを逆駆動し
てウエハチャック１を下降させ、吸着面１ａから突出す
る各受け渡しピン３の上端にウエハＷ1 を支持させた状
態で、搬送ハンドＨ1 をウエハチャック１とウエハＷ1
の間に挿入し、ウエハＷ1 を搬送ハンドＨ1 に吸着させ
て所定の回収装置あるいは待機位置へ搬送する。
【００２３】なお、ウエハチャック支持体２は、円筒部
材４すなわち台板５に対して不必要に回転するのを防ぐ
ための回転防止手段である回転防止装置１１を有する。
これは、ウエハチャック支持体２と一体である回り止め
板１１ａと、台板５に固定された静圧軸受１１ｂからな
り、静圧軸受１１ｂは、台板５の下面と一体である軸受
ハウジング１１ｃと、これに保持された一対の静圧軸受
パッド１１ｄを有し、両静圧軸受パッド１１ｄは台板５
の周方向に互に離間して対向し、両静圧軸受パッド１１
ｄの間に回り止め板１１ａが挿入されている。
材４すなわち台板５に対して不必要に回転するのを防ぐ
ための回転防止手段である回転防止装置１１を有する。
これは、ウエハチャック支持体２と一体である回り止め
板１１ａと、台板５に固定された静圧軸受１１ｂからな
り、静圧軸受１１ｂは、台板５の下面と一体である軸受
ハウジング１１ｃと、これに保持された一対の静圧軸受
パッド１１ｄを有し、両静圧軸受パッド１１ｄは台板５
の周方向に互に離間して対向し、両静圧軸受パッド１１
ｄの間に回り止め板１１ａが挿入されている。
【００２４】両静圧軸受パッド１１ｄから回り止め板１
１ａの両面に向かって気体が噴出されるとその静圧によ
って、回り止め板１１ａが両静圧軸受パッド１１ｄの間
に非接触でウエハチャック１の周方向に固定され、ウエ
ハチャック支持体２の回転を防ぐ。
１ａの両面に向かって気体が噴出されるとその静圧によ
って、回り止め板１１ａが両静圧軸受パッド１１ｄの間
に非接触でウエハチャック１の周方向に固定され、ウエ
ハチャック支持体２の回転を防ぐ。
【００２５】本実施例によれば、前述のように、ウエハ
チャックを上昇させる駆動部が、有底円筒体を上昇させ
る揺動レバーと有底円筒体に対してウエハチャック支持
体を上昇させる駆動シリンダからなる２重構造であり、
ウエハチャックの上昇ストロークの長さが、有底円筒体
の上昇量と有底円筒体に対するウエハチャック支持体の
上昇量を加えたものであるため、例えば、有底円筒体の
上昇量と有底円筒体に対するウエハチャック支持体の上
昇量がそれぞれウエハチャックの上昇ストローク長の１
／２であれば、有底円筒体とウエハチャック支持体の円
筒部をそれぞれ支持する第１、第２のボールガイドの必
要長さは、ウエハチャックを上昇させる機構が有底円筒
体とこれを上昇させる揺動レバーのみである場合の略１
／２でよい。
チャックを上昇させる駆動部が、有底円筒体を上昇させ
る揺動レバーと有底円筒体に対してウエハチャック支持
体を上昇させる駆動シリンダからなる２重構造であり、
ウエハチャックの上昇ストロークの長さが、有底円筒体
の上昇量と有底円筒体に対するウエハチャック支持体の
上昇量を加えたものであるため、例えば、有底円筒体の
上昇量と有底円筒体に対するウエハチャック支持体の上
昇量がそれぞれウエハチャックの上昇ストローク長の１
／２であれば、有底円筒体とウエハチャック支持体の円
筒部をそれぞれ支持する第１、第２のボールガイドの必
要長さは、ウエハチャックを上昇させる機構が有底円筒
体とこれを上昇させる揺動レバーのみである場合の略１
／２でよい。
【００２６】各ボールガイドは長くなるにつれて安定性
が減少する傾向があるため、本実施例の２重構造におい
てはウエハチャックの上下動を極めて安定して行なうこ
とができる。加えて、揺動レバーの揺動量を従来例に比
べて大きく低減し、揺動レバーの揺動に必要なスペース
を大幅に節約できる。その結果、位置決めステージ全体
の小型化に大きく役立つ。
が減少する傾向があるため、本実施例の２重構造におい
てはウエハチャックの上下動を極めて安定して行なうこ
とができる。加えて、揺動レバーの揺動量を従来例に比
べて大きく低減し、揺動レバーの揺動に必要なスペース
を大幅に節約できる。その結果、位置決めステージ全体
の小型化に大きく役立つ。
【００２７】さらに、揺動レバーと駆動シリンダを同時
に駆動することによってウエハチャックの上昇ストロー
クに必要な時間を大幅に短縮できるため、ウエハの受け
渡し工程を従来例の２倍以上に高速化できるという利点
も有する。
に駆動することによってウエハチャックの上昇ストロー
クに必要な時間を大幅に短縮できるため、ウエハの受け
渡し工程を従来例の２倍以上に高速化できるという利点
も有する。
【００２８】なお、受け渡しピンの替わりにウエハチャ
ックの方をＸＹステージ機構の台板に固定し、受け渡し
ピンを前述と同様の２重構造の駆動装置によって上下動
させることもできることは言うまでもない。
ックの方をＸＹステージ機構の台板に固定し、受け渡し
ピンを前述と同様の２重構造の駆動装置によって上下動
させることもできることは言うまでもない。
【００２９】また、図３に示すように、ウエハチャック
支持体２２に有底筒状部分２２ａを一体的に設け、台板
２５と一体的に設けられた案内手段（円筒体）であるブ
ッシュ２５ａの内側に保持されたボールガイド３０によ
ってウエハチャック支持体２２の有底筒状部分２２ａの
外周面を案内、支持し、ブッシュ２５ａの外側に保持さ
れたボールガイド２６によって円筒部材２４の円周面を
案内、支持するとともに、円筒部材２４を第１の揺動レ
バー２８ａによって上下動させることで、円筒部材２４
と一体である受け渡しピン２３を上下動させ、これと同
時に、第２の揺動レバー２８ｂによって受け渡しピン２
３と逆向きにウエハチャック支持体２２すなわちウエハ
チャック２１を上下動させることでウエハチャック２１
の吸着面２１ａから各受け渡しピン２３を突出させるよ
うに構成してもよい。
支持体２２に有底筒状部分２２ａを一体的に設け、台板
２５と一体的に設けられた案内手段（円筒体）であるブ
ッシュ２５ａの内側に保持されたボールガイド３０によ
ってウエハチャック支持体２２の有底筒状部分２２ａの
外周面を案内、支持し、ブッシュ２５ａの外側に保持さ
れたボールガイド２６によって円筒部材２４の円周面を
案内、支持するとともに、円筒部材２４を第１の揺動レ
バー２８ａによって上下動させることで、円筒部材２４
と一体である受け渡しピン２３を上下動させ、これと同
時に、第２の揺動レバー２８ｂによって受け渡しピン２
３と逆向きにウエハチャック支持体２２すなわちウエハ
チャック２１を上下動させることでウエハチャック２１
の吸着面２１ａから各受け渡しピン２３を突出させるよ
うに構成してもよい。
【００３０】この場合は、ウエハチャック２１を大きく
上下動させる必要がないため、ウエハの受け渡し中にプ
リアライメントステージによるプリアライメントの精度
を大きく損うおそれがない。また、台板２５に対するウ
エハチャック２１の移動量が少いため、ウエハチャック
２１の安定性が向上するという長所もある。
上下動させる必要がないため、ウエハの受け渡し中にプ
リアライメントステージによるプリアライメントの精度
を大きく損うおそれがない。また、台板２５に対するウ
エハチャック２１の移動量が少いため、ウエハチャック
２１の安定性が向上するという長所もある。
【００３１】さらに、図４に示すように、ウエハチャッ
ク支持体２２の有底筒状部分２２ａの上下動に連動する
連動レバー４０を設け、連動レバー４０の揺動によって
円筒部材２４をウエハチャック支持体２２と逆向きに上
下動させるように構成すれば、第２の揺動レバー２８ｂ
のみによって各受け渡しピン２３を必要量だけ突出する
ことができるため、モータや駆動シリンダ等のアクチュ
エータが１つですむという利点も付加される。
ク支持体２２の有底筒状部分２２ａの上下動に連動する
連動レバー４０を設け、連動レバー４０の揺動によって
円筒部材２４をウエハチャック支持体２２と逆向きに上
下動させるように構成すれば、第２の揺動レバー２８ｂ
のみによって各受け渡しピン２３を必要量だけ突出する
ことができるため、モータや駆動シリンダ等のアクチュ
エータが１つですむという利点も付加される。
【００３２】また、ボールガイド６，１０，２６，３０
のそれぞれに替えて、静圧軸受等を用いることも自在で
あり、さらに、２重構造に限らず、必要であれば３重構
造以上の多重構造の駆動部にすることもできる。
のそれぞれに替えて、静圧軸受等を用いることも自在で
あり、さらに、２重構造に限らず、必要であれば３重構
造以上の多重構造の駆動部にすることもできる。
【００３３】
【発明の効果】本発明は上述のとおり構成されているの
で、次に記載するような効果を奏する。
で、次に記載するような効果を奏する。
【００３４】ウエハチャック等の保持盤に対して受け渡
しピン等を相対移動させるための駆動部を大幅に小型化
できるうえに、位置決めの安定化と高速化に大きく役立
つ。このような位置決めステージを用いることで、露光
装置の高精度化や小型化を促進し、生産性の向上にも大
きく貢献できる。
しピン等を相対移動させるための駆動部を大幅に小型化
できるうえに、位置決めの安定化と高速化に大きく役立
つ。このような位置決めステージを用いることで、露光
装置の高精度化や小型化を促進し、生産性の向上にも大
きく貢献できる。
【図１】一実施例による位置決めステージを図２のＡ−
Ａ線でとった断面で示す模式断面図である。
Ａ線でとった断面で示す模式断面図である。
【図２】図１の装置の一部をＢ−Ｂ線で破断して示す一
部破断平面図である。
部破断平面図である。
【図３】図１の装置の一変形例の主要部を示す部分模式
断面図である。
断面図である。
【図４】図１の装置の別の変形例の主要部を示す部分模
式断面図である。
式断面図である。
【図５】従来例を図６のＡ−Ａ線でとった断面で示す模
式断面図である。
式断面図である。
【図６】従来例を示す平面図である。
１，２１ ウエハチャック １ａ，２１ａ 吸着面 ２，２２ ウエハチャック支持体 ２ａ 円筒部 ３，２３ 受け渡しピン ４，２４ 円筒部材 ５，２５ 台板 ６，１０，２６，３０ ボールガイド ７ 有底円筒体 ８ モータ ８ａ，２８ａ，２８ｂ 揺動レバー ９ａ 駆動シリンダ １１ 回転防止装置 ２２ａ 有底筒状部分 ２５ａ ブッシュ ４０ 連動レバー
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 21/027 // Ｂ２３Ｑ 5/22 ５２０ Ｂ
Claims (10)
- 【請求項１】 基板を保持する保持面を有する保持盤
と、該保持盤の前記保持面から所定の軸方向に突出自在
な受け渡し手段と、前記保持盤と前記受け渡し手段をそ
れぞれ前記軸方向に案内する案内手段と、前記保持盤と
前記受け渡し手段と前記案内手段のうちのいずれか１つ
を支持する支持手段と、それぞれ前記受け渡し手段と前
記保持盤を前記案内手段に対して相対的に往復移動させ
る第１および第２の駆動手段を有する位置決めステー
ジ。 - 【請求項２】 案内手段が円筒体を有し、該円筒体がそ
の内面と外面によって保持盤と受け渡し手段を個別に案
内するように構成されていることを特徴とする請求項１
記載の位置決めステージ。 - 【請求項３】 受け渡し手段または案内手段が支持手段
に固定されていることを特徴とする請求項１または２記
載の位置決めステージ。 - 【請求項４】 第１および第２の駆動手段のそれぞれが
個別に駆動されるアクチュエータを有することを特徴と
する請求項１ないし３いずれか１項記載の位置決めステ
ージ。 - 【請求項５】 第１および第２の駆動手段のうちの一方
が案内手段に対する受け渡し手段または保持盤の相対移
動を利用するように構成されていることを特徴とする請
求項１ないし４いずれか１項記載の位置決めステージ。 - 【請求項６】 案内手段が受け渡し手段と保持盤をそれ
ぞれ案内する第１および第２のボールガイドを有するこ
とを特徴とする請求項１ないし５いずれか１項記載の位
置決めステージ。 - 【請求項７】 案内手段が、受け渡し手段と保持盤をそ
れぞれ案内する第１および第２の静圧軸受を有すること
を特徴とする請求項１ないし５いずれか１項記載の位置
決めステージ。 - 【請求項８】 受け渡し手段が先端に基板を吸着自在で
ある少くとも１個の受け渡しピンを有することを特徴と
する請求項１ないし７いずれか１項記載の位置決めステ
ージ。 - 【請求項９】 支持手段が、保持盤の回転を防止するた
めの回転防止手段を有することを特徴とする請求項１な
いし８いずれか１項の記載の位置決めステージ。 - 【請求項１０】 回転防止手段が、保持盤を非接触に支
持する静圧軸受を有することを特徴とする請求項９記載
の位置決めステージ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24997794A JP3163223B2 (ja) | 1994-09-19 | 1994-09-19 | 位置決めステージ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24997794A JP3163223B2 (ja) | 1994-09-19 | 1994-09-19 | 位置決めステージ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0888265A true JPH0888265A (ja) | 1996-04-02 |
| JP3163223B2 JP3163223B2 (ja) | 2001-05-08 |
Family
ID=17201008
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24997794A Expired - Fee Related JP3163223B2 (ja) | 1994-09-19 | 1994-09-19 | 位置決めステージ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3163223B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6160615A (en) * | 1998-02-24 | 2000-12-12 | Hitachi, Ltd. | Surface measurement apparatus for detecting crystal defects of wafer |
| JP2006294793A (ja) * | 2005-04-08 | 2006-10-26 | Canon Inc | ステージ装置および露光装置 |
| JP2007042924A (ja) * | 2005-08-04 | 2007-02-15 | Nikon Corp | ステージ装置及び露光装置 |
| CN104308780A (zh) * | 2014-10-29 | 2015-01-28 | 哈尔滨工业大学 | 基于力封闭多点随动的长轴标准器精密装夹方法与装置 |
| CN106338890A (zh) * | 2015-07-15 | 2017-01-18 | 上海微电子装备有限公司 | 一种无源基底交接机构及方法 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101711122B1 (ko) * | 2015-03-11 | 2017-02-28 | 박장수 | 스코어보드 지지장치 |
-
1994
- 1994-09-19 JP JP24997794A patent/JP3163223B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6160615A (en) * | 1998-02-24 | 2000-12-12 | Hitachi, Ltd. | Surface measurement apparatus for detecting crystal defects of wafer |
| JP2006294793A (ja) * | 2005-04-08 | 2006-10-26 | Canon Inc | ステージ装置および露光装置 |
| JP4673117B2 (ja) * | 2005-04-08 | 2011-04-20 | キヤノン株式会社 | ステージ装置および露光装置 |
| JP2007042924A (ja) * | 2005-08-04 | 2007-02-15 | Nikon Corp | ステージ装置及び露光装置 |
| JP4692131B2 (ja) * | 2005-08-04 | 2011-06-01 | 株式会社ニコン | ステージ装置及び露光装置 |
| CN104308780A (zh) * | 2014-10-29 | 2015-01-28 | 哈尔滨工业大学 | 基于力封闭多点随动的长轴标准器精密装夹方法与装置 |
| CN104308780B (zh) * | 2014-10-29 | 2015-10-28 | 哈尔滨工业大学 | 基于力封闭多点随动的长轴标准器精密装夹方法与装置 |
| CN106338890A (zh) * | 2015-07-15 | 2017-01-18 | 上海微电子装备有限公司 | 一种无源基底交接机构及方法 |
| CN106338890B (zh) * | 2015-07-15 | 2018-06-29 | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 | 一种无源基底交接机构及方法 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3163223B2 (ja) | 2001-05-08 |
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