JPH0878508A - ウェーハ保持プレート - Google Patents

ウェーハ保持プレート

Info

Publication number
JPH0878508A
JPH0878508A JP20990594A JP20990594A JPH0878508A JP H0878508 A JPH0878508 A JP H0878508A JP 20990594 A JP20990594 A JP 20990594A JP 20990594 A JP20990594 A JP 20990594A JP H0878508 A JPH0878508 A JP H0878508A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wafer
holding plate
wafer holding
adhesive
chip
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP20990594A
Other languages
English (en)
Inventor
Akihisa Hayashida
明久 林田
Takanori Muramoto
孝紀 村本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu VLSI Ltd
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu VLSI Ltd
Fujitsu Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu VLSI Ltd, Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu VLSI Ltd
Priority to JP20990594A priority Critical patent/JPH0878508A/ja
Publication of JPH0878508A publication Critical patent/JPH0878508A/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Processing Of Stones Or Stones Resemblance Materials (AREA)
  • Dicing (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 本発明は、半導体製造工程のウェーハダイ
シング工程以降のウェーハの搬送及び位置合わせに用い
るウェーハ保持プレートに関し、大口径化したウェーハ
のハンドリングを簡略化し、破損を防止する。 【構成】 紫外線照射により粘着力の低下する接着剤
を表面に有し、且つ、ウェーハ内のチップに対応して配
列されている孔が開口された透明基板からなるウェーハ
保持プレート。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体製造工程のウェ
ーハダイシング工程以降のウェーハの搬送及び位置合わ
せに用いるウェーハ保持プレートに関する。
【0002】近年、ウェーハの大口径化や厚さの減少に
伴い、ウェーハのハンドリングを現在使用しているハン
ドリングロボットで行った場合、ウェーハの割れ等の問
題が生じる恐れがある。
【0003】そのため、ウェーハの大口径化や厚さの減
少が今後更に進んでも、ウェーハの割れを生じさせない
ハンドリング用のウェーハ保持プレートを提供する。
【0004】
【従来の技術】図5は従来例の説明図である。図におい
て、3はウェーハ、14はウェーハキャリア、15はダイシ
ングフレーム、16はテープ、17はダイシングブレードで
ある。
【0005】従来ウェーハのハンドリングには図4
(a)の左に斜視図、右に断面図で示すような多段式の
ウェーハキャリア14や、それぞれの目的に応じたハンド
リングカセットが用いられてきた。
【0006】今後、ウェーハの大口径化にともなってウ
ェーハを収納するキャリアが更に大きくなると、現在の
数十枚を収納するキャリアはますます大型化し、重量化
する。
【0007】また、ウェーハをチップに切り出すダイシ
ング工程においても、図5(b)に示すように、ウェー
ハマウンタ、ダイサー、紫外線照射、ダイスボンディン
グに通して用いられているダイシングフレーム15は、図
5(c)に示すように、ダイシングフレーム15に装填し
たテープ16上のウェーハ3をダイシングする際に、ダイ
シングブレード17がダイシングフレーム15に接触しない
ように、ウェーハ3とダイシングフレーム15の間に間隔
Zを設けるため、その内径の大きさがウェーハ3の直径
よりも数cm程大きくなる。
【0008】また、ダイシングフレーム15に装填したウ
ェーハ3のダイシング時の位置合わせに高精度のセンサ
や数ステップの処理が必要となっていた。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】従って、ウェーハのハ
ンドリングにおいて、、ウェーハが大口径化し、且つ薄
くなるにつれてウェーハがたわみ、ハンドリングミスや
ウェーハの割れを生じる。
【0010】また、ダイシングフレームが大型化し、上
記装置の小型化の大きな障害となっており、ウェーハの
ダイシング時の位置合わせにも高精度のセンサや数ステ
ップの処理が必要となっていた。
【0011】更に,ウェーハキャリアも現在の方式のま
まではウェーハの収納や運搬が困難となる。本発明は、
上記問題点を解決する手段を得ることを目的として提供
される。
【0012】
【課題を解決するための手段】図1は本発明の原理説明
図である。図において、1はウェーハ保持プレート、2
は接着剤、3はウェーハ、4は孔である。
【0013】上記の問題点を解決するためには、ウェー
ハのダイシング工程、それ以降のダイス付け工程に共通
にハンドリングや位置合わせが可能な、ウェーハ3の一
枚毎にウェーハ保持プレート1を用意する。
【0014】このウェーハ保持プレート1はダイシング
工程における接着剤2の粘着力低下のための紫外線線照
射や、ダイシングされたチップのピックアップ、その後
のハンドリングにも適用するため、その表面に接着剤を
有する、チップのピッチに対応して配列されている孔を
多数開口した透明な石英板かプラスラック板を用い、か
つウェーハ保持プレートの重合わせが容易に出来る形状
とする。
【0015】すなわち、本発明の目的は、図1に示すよ
うに、紫外線照射により粘着力の低下する接着剤2を表
面に有し、且つ、ウェーハ3内のチップのピッチに対応
して配列されている孔4が開口された透明基板からなる
ウェーハ保持プレート1を用いることにより、また、前
記透明基板の外周に、複数の該透明基板を重合わせ可能
な嵌め込み機構を有することにより、更に、前記透明基
板の外周面に光学的に読み取り可能なコード番号が付さ
れていることにより達成される。
【0016】
【作用】本発明のように、ダイシング工程において、本
発明のウェーハ保持プレートを利用すると、実質的にウ
ェーハの強度が増したこととなり、また、ウェーハ保持
プレートの外周に重合わせ機構を具備したり、更に、外
周面にコード番号を付すことにより自動ハンドリングが
一貫して容易に行われ、従来の大型で且つ重いハンドリ
ング用のウェーハキャリアが不要となり、工程も短縮さ
れる。
【0017】
【実施例】図2〜図4は本発明の幾つかの実施例の説明
図である。図において、1はウェーハ保持プレート、2
は接着剤、3はウェーハ、4は孔、5はチップ、6はダ
イシングプレート、7はエア(圧縮空気)、8はコレッ
ト、9はアライメントステージ、10は円筒ガイド、11は
整理番号、12は搬送台、13は移送ロボットである。
【0018】図2は本発明の第1の実施例の説明図であ
る。本発明のウェーハ保持プレート1は図2に示すよう
に、使用する8インチのウェーハ3より僅かに大きい2
1cm径で厚さ5mmの透明な石英板、或いはプラスチ
ック板からできている。ウェーハ保持プレート1の表面
には接着剤2があらかじめスピナーを用いて塗布されて
おり、この接着剤2は加熱して粘度が低下し、また、紫
外線照射で粘着力が減少する有機物質からなり、熱湯或
いは有機溶剤で洗い流すことが出来る。
【0019】また、ウェーハ保持プレート1はウェーハ
3内のチップ5のピッチに対応して配列されている1
個、或いはそれ以上の数の小さな孔4が開口されてい
る。このウェーハ保持プレート1上にダイシングするウ
ェーハ3を載置する。そして、ダイサーのダイシングプ
レート6上にそのままウェーハ保持プレート1をセット
し、ダイシングブレードで所定のピッチでチップを切り
出す。
【0020】続いて、ウェーハ保持プレート1を紫外線
照射装置にセットし、背面から透明なウェーハ保持プレ
ート1を照射して、その上の接着剤2に紫外線を照射
し、切り出されたチップ5背面のウェーハ保持プレート
1との接着力を減退させる。
【0021】そして、ウェーハ保持プレート1の背面か
ら孔4を通して加圧されたエア7を送って、チップ5を
少し浮かせ、コレット8を用いて任意の特性試験でパス
した良品チップ5を1個ずつ真空吸着し、ダイスボンダ
にハンドリングする。このようにして良品のチップ5の
みを順次吸着し、ダイスボンダに移送する。
【0022】図3は本発明の第2の実施例の説明図であ
る。上下方向にウェーハ保持プレート1を積み重ねられ
るように、位置合わせ用の機構を付加したものである。
図3(a)に示すように、嵌め合わせ部としてウェーハ
保持プレート1のウェーハ3をマウントする側には凹状
の段差、裏面には凸状の段差がつけられ、この凹凸状の
嵌め合わせ部を組み合わせてウェーハ保持プレート1を
幾重にも積み重ねる。
【0023】図3(b)はウェーハ3の位置合わせを行
うアライメント機構で、アライメントステージ9に円筒
ガイド10に沿って自動的にチャッキングすれば、相対的
にウェーハ3がアライメントステージ9に位置合わせな
しにセットされる。
【0024】そのため、図3(c)に平面図で示すよう
な円筒ガイド10を用いる。図4はウェーハ3の自動識別
のためのウェーハ保持プレート1である。ウェーハ保持
プレート1にマウントされたウェーハ3の工程管理に使
用し、ウェーハ3を自動搬送しながら、このウェーハ3
のコード番号・を光学式読み取り装置で識別し、ダイサ
ーの番号識別機に入力し、一次試験の良品チップ試験マ
ップに基づいて、前述のように、良品チップのみをピッ
クアップし、ダイボンダに供給する。
【0025】更に、図4(b)に平面図、図4(c)に
断面図で概要を示すように、移送ロボット13を用いコー
ド番号11を認識して、ウェーハ保持プレート1を任意の
順序に搬送や積み換えを行うこともできる。
【0026】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
大口径のウェーハをハンドリングや搬送する際に、ハン
ドリングミスやウェーハ割れ等の発生を抑え、確実にハ
ンドリングするといった効果を奏し、係る半導体製造装
置の性能向上に寄与するところが大きい。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の原理説明図
【図2】 本発明の第1の実施例の説明図
【図3】 本発明の第2の実施例の説明図
【図4】 本発明の第3の実施例の説明図
【図5】 従来例の説明図
【符号の説明】
図において 1 ウェーハ保持プレート 2 接着剤 3 ウェーハ 4 孔 5 チップ 6 ダイシングプレート 7 エア 8 コレット 9 アライメントステージ 10 円筒ガイド 11 コード番号 12 搬送台 13 移送ロボット

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 紫外線照射により粘着力の低下する接着
    剤を表面に有し、且つ、ウェーハ内のチップに対応して
    配列されている孔が開口された透明基板からなることを
    特徴とするウェーハ保持プレート。
  2. 【請求項2】 前記透明基板の外周に、複数の該透明基
    板を重合わせ可能な嵌め込み機構を有することを特徴と
    する請求項1記載のウェーハ保持プレート。
  3. 【請求項3】 前記透明基板の外周面に光学的に読み取
    り可能なコード番号が付されていることを特徴とする請
    求項1または2記載のウェーハ保持プレート。
JP20990594A 1994-09-02 1994-09-02 ウェーハ保持プレート Withdrawn JPH0878508A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP20990594A JPH0878508A (ja) 1994-09-02 1994-09-02 ウェーハ保持プレート

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP20990594A JPH0878508A (ja) 1994-09-02 1994-09-02 ウェーハ保持プレート

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0878508A true JPH0878508A (ja) 1996-03-22

Family

ID=16580600

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP20990594A Withdrawn JPH0878508A (ja) 1994-09-02 1994-09-02 ウェーハ保持プレート

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0878508A (ja)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10206833A (ja) * 1997-01-24 1998-08-07 Sharp Corp 液晶パネル基板の搬送方法、その搬送装置及びその位置決め方法
JP2006041245A (ja) * 2004-07-28 2006-02-09 Murata Mfg Co Ltd ダイシング装置及びダイシング方法
KR100830111B1 (ko) * 2001-10-19 2008-05-20 후지쯔 가부시끼가이샤 반도체 기판용 지그 및 그를 이용한 반도체 장치의 제조방법
JPWO2006028090A1 (ja) * 2004-09-06 2008-07-31 テセラ・インターコネクト・マテリアルズ,インコーポレイテッド 配線膜間接続用部材とその製造方法
KR100882557B1 (ko) * 2001-10-18 2009-02-12 가부시기가이샤 디스코 판형물 지지 방법
TWI473189B (zh) * 2012-06-15 2015-02-11 Powertech Technology Inc 已單離晶粒堆疊封裝件之晶圓級測試方法

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10206833A (ja) * 1997-01-24 1998-08-07 Sharp Corp 液晶パネル基板の搬送方法、その搬送装置及びその位置決め方法
KR100882557B1 (ko) * 2001-10-18 2009-02-12 가부시기가이샤 디스코 판형물 지지 방법
KR100830111B1 (ko) * 2001-10-19 2008-05-20 후지쯔 가부시끼가이샤 반도체 기판용 지그 및 그를 이용한 반도체 장치의 제조방법
US7395847B2 (en) 2001-10-19 2008-07-08 Fujitsu Limited Jig for a semiconductor substrate
US7571538B2 (en) 2001-10-19 2009-08-11 Fujitsu Microelectronics Limited Vacuum fixing jig for semiconductor device
JP2006041245A (ja) * 2004-07-28 2006-02-09 Murata Mfg Co Ltd ダイシング装置及びダイシング方法
JP4517348B2 (ja) * 2004-07-28 2010-08-04 株式会社村田製作所 ダイシング装置及びダイシング方法
JPWO2006028090A1 (ja) * 2004-09-06 2008-07-31 テセラ・インターコネクト・マテリアルズ,インコーポレイテッド 配線膜間接続用部材とその製造方法
TWI473189B (zh) * 2012-06-15 2015-02-11 Powertech Technology Inc 已單離晶粒堆疊封裝件之晶圓級測試方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7294531B2 (en) Wafer level chip stack method
KR100338983B1 (ko) 웨이퍼분리도구및이를이용하는웨이퍼분리방법
US7297412B2 (en) Fabrication of stacked microelectronic devices
KR100506109B1 (ko) 접착성 테이프의 박리 기구, 접착성 테이프의 박리 장치,접착성 테이프의 박리 방법, 반도체 칩의 픽업 장치,반도체 칩의 픽업 방법, 반도체 장치의 제조 방법 및반도체 장치의 제조 장치
US7406759B2 (en) Releasing method and releasing apparatus of work having adhesive tape
US20050260829A1 (en) Manufacturing method of a semiconductor device
US8587130B2 (en) Die-sorting sheet and method for transporting chips having adhesive layer
US6777310B2 (en) Method of fabricating semiconductor devices on a semiconductor wafer using a carrier plate during grinding and dicing steps
US6153536A (en) Method for mounting wafer frame at back side grinding (BSG) tool
KR20040084794A (ko) 반도체 제조 장치 및 반도체 장치의 제조 방법
JP7042944B2 (ja) 搬送装置、および基板処理システム
JP2018006487A (ja) 支持体分離方法、および基板処理方法
WO2005083763A1 (ja) ウェハの転写方法
JPH0878508A (ja) ウェーハ保持プレート
KR20060044663A (ko) 초박 칩의 제조 프로세스 및 제조장치
JP2002141392A (ja) 半導体チップのピックアップ方法及び装置、並びに該装置を有するダイボンド装置
JP2020136650A (ja) チップ転写板ならびに半導体チップ積層方法および半導体装置の製造方法
JP2001176892A (ja) ダイボンディング方法及びその装置
JPH0250440A (ja) ダイボンド装置
JP2006228810A (ja) ウェーハの分割方法
JPH03239346A (ja) 半導体装置の製造方法
JPH04336448A (ja) 半導体装置の製造方法
JP2003197710A (ja) 板状物の薄層加工装置及び板状物の薄層加工方法
US20100184255A1 (en) Manufacturing method for package structure

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Withdrawal of application because of no request for examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20011106