JPH0860215A - 流動層炉とそれを用いる溶融還元装置 - Google Patents
流動層炉とそれを用いる溶融還元装置Info
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- JPH0860215A JPH0860215A JP19328694A JP19328694A JPH0860215A JP H0860215 A JPH0860215 A JP H0860215A JP 19328694 A JP19328694 A JP 19328694A JP 19328694 A JP19328694 A JP 19328694A JP H0860215 A JPH0860215 A JP H0860215A
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Abstract
流動層炉の構成の簡略化を図るとともに、鉱石全体の平
均予備還元率を高くすること。 【構成】 小径筒部とその上部に中空逆円錐台部を介し
て大径筒部を形成し、小径筒部の分散板よりも下方の風
箱に還元ガスを供給し、小径筒部内で粗粒の流動層を形
成して分散板付近の粗粒排出口から粗粒を排出し、大径
筒部では細粒を流動化して細粒排出口から細粒をオーバ
フローして排出し、大径筒部から飛散する細粒ないしは
微粉を極わずかにしてサイクロンを小形化し、低い位置
に置くことができるようにし、細粉を循環しないように
する。
Description
原料の流動層を形成して反応させる流動層炉に関し、さ
らにその流動層炉を予備還元炉として用いる溶融還元装
置に関する。
開平1−129915に開示され、それは図12に示さ
れる。溶融還元用予備還元炉1の上部1aには供給管2
から酸化鉄などの鉱石を装入し、小径の下部1bには、
漏斗状の分散板6が配置され、その下方の導入管3から
は還元ガスが供給され、これによって粗粒は、分散板6
上に一旦堆積し、分散板6の排出口7から鉱石の排出に
伴ってゆっくりと移動して移動層が形成され、予備還元
されて排出され、中粒状の原料は、炉1内の中腹部で気
泡流動層を形成して混合撹拌され、分散板6の排出口7
から排出され、微粉は、前記気泡流動層から飛び出し、
排ガスとともにサイクロン8に導かれて捕集され、循環
管9を経て炉1内に戻されて循環され、循環流動層を形
成する。炉1の上部1aの内径Daを大きくして、空塔
速度を減じ、炉1外に飛散する微粉の粒径を規制するよ
うにし、また下部1bの内径Dbを小さくして、粒径の
大きい鉱石の流動化を可能にしている。
は、サイクロン8で捕集される微粉は、粗粉よりも炉内
での滞留時間が短いので、1回の循環による予備還元率
が小さく、したがって循環を繰り返し行わなければなら
ない。鉱石の種類によっては、その微粉の割合が大き
く、またその鉱石の種類によっては炉内での粉化が激し
く、このように微粉の量が多い場合には、循環量が増大
する。サイクロン8の捕集率は一定であるので、循環量
が増大することによって、サイクロン8で捕集すること
ができない微粉量が増大し、歩留りが低下し、すなわち
鉱石の有効利用率が悪化する。またこのように循環量が
増大すると、サイクロン8などにおける耐火物の損耗量
が大きくなるという問題がある。さらに循環量が増大す
ることによって、鉱石の粉化が激しくなり、上述の問題
がさらに顕著になる。
実用規模になると、サイクロン8の上下の長さは炉1よ
りも大きくなる。このとき、サイクロン8で捕集した微
粉を、そのサイクロン8の下部から、重力で落下して循
環管9を経て炉1に戻すことができるようにするには、
そのような上下の長さが大きいサイクロン8を高い位置
に設けざるを得ないことになる。したがって建屋などの
設備費が高価になるという問題がある。もしも、そのよ
うな長いサイクロン8を、低い位置に設置すると、サイ
クロン8の下部から排出される微粉を、自重で炉1に落
下して導くことができず、そのサイクロン8の下部から
の高温の微粉を、高価な気送式高温粉体輸送装置を設置
して導く必要が生じてしまう。
7は分散板6に1カ所だけ設けられているので、上部1
aの内径Daが微粉の径に対応して大きいときには、そ
の微粉が上部1a内に累積滞留し、やがて炉1の上部1
aの出口10から飛散して飛び出すことになる。したが
ってこのようなときには、微粉を希望する予備還元率で
排出することができない。
実開平2−94242に開示されている。この先行技術
では、原料鉱石が装入される粗粒のための第1の流動層
炉と、その第1の流動層炉からの排ガスに同伴される微
粒鉱石を捕集するサイクロンと、そのサイクロンで捕集
された微粒鉱石が装入される第2の流動層炉とが備えら
れる。これによって微粉を循環する構成を備えることな
く、微粉の予備還元率を向上して、鉱石全体の平均還元
率を向上することを可能にしている。
が複雑であり、設備費が高くなる。またこの先行技術で
は第1および第2の各流動層炉への還元ガスの流量分配
の設定が難しく、運転が難しい。
層炉における微粉の割合が大きいときには、サイクロン
の負荷が大きく、そのため耐火物の過大な損耗を生じ、
さらにまたそのような微粉量が大きいときには、サイク
ロンで捕集することができない微粉量が増大し、鉱石の
歩留りが悪くなる。
に開示され、この先行技術では反応塔からの排ガスに随
伴する鉱石をサイクロンで回収し、下降連結管を介し
て、再度、反応塔に装入して反応させて鉱石を循環流動
する構成を有する。この先行技術では、鉱石の循環量が
多いので、前述の第1の先行技術の問題点と同様な問題
点がある。
1に開示され、それは図13に示される。この先行技術
では、流動層炉11の上部11aの内径を下部11bよ
りも大きくし、導入部13からの還元ガスの流速を上部
11aで低下させて微粉の滞留時間を延長し、サイクロ
ン14を経て下降管15から下部11bに戻されて循環
する微粉の量を減少し、微粉濃厚領域19からの微粉は
排出口16から排出し、粗粉濃厚領域18からの粗粉は
排出口17から排出する。
術では、サイクロン14を用いて微粉を循環しているの
で、その微粉14および下降管15を含む循環経路の耐
火物が摩耗するという問題があることは、前述の先行技
術と同様である。
の捕集率を向上するために、上下の長さを大きくしたと
きには、そのサイクロン14で捕集した微粉を、排出口
16で下降管15を介して重力の作用で炉11の下部1
1bに戻すことができるようにするために、その長いサ
イクロン14を高い位置に設ける必要があり、設備費が
高くなる。
が逆流しないようにするために高温度の耐久性に優れた
流量制御弁を下降管15の途中に配置する必要があり、
そのような高温度での耐久性のある流量制御弁は高価で
ある。
も粗粉と同様に流動層内に滞留させることができ、微粉
と粗粉との予備還元などの反応を良好に行うことができ
るようにした流動層炉を提供するとともに、それを用い
て予備還元率の向上を図ることができるようにした溶融
還元装置を提供することである。
小径筒部と、小径筒部の上部に連なり、小径筒部よりも
大きい内径を有し、上下に延びる大径筒部と、小径筒部
に設けられ、下方に風箱を形成する分散板とを含み、風
箱内にガスが供給され、小径筒部内および大径筒部内に
原料の流動層が形成され、大径筒部の上部に排気口が形
成され、小径筒部の分散板上方で、その分散板付近に粗
粒の排出口が形成され、大径筒部の上下方向の途中位置
で細粒をオーバフローして排出する細粒の排出口が形成
され、さらに大径筒部の排気口に接続されて、それによ
って捕集された細粒を前記流動層内へ循環させない第1
捕集手段が形成されることを特徴とする流動層炉であ
る。また本発明は、大径筒部内では、粉体が縦に旋回す
る縦旋回流が形成されることを特徴とする。また本発明
は、小径筒部または大径筒部は、上方になるにつれて内
径が大きくなる中空円錐台状であることを特徴とする。
また本発明は、大径筒部の上部には、上方になるにつれ
て小径となる中空錐体状のカバーが設けられ、そのカバ
ーの頂部に排気口が形成されることを特徴とする。また
本発明は、(a)予備還元用の流動層炉であって、上下
に延びる小径筒部と、小径筒部の上部に連なり、小径筒
部よりも大きい内径を有し、上下に延びる大径筒部と、
小径筒部に設けられ、下方に風箱を形成する分散板とを
含み、風箱内にガスが供給され、小径筒部内および大径
筒部内に原料の流動層が形成され、大径筒部の上部に排
気口が形成され、小径筒部の分散板上方で、その分散板
付近に粗粒の排出口が形成され、大径筒部の上下方向の
途中位置で細粒をオーバフローして排出する細粒の排出
口が形成される流動層炉と、(b)流動層炉よりも低い
位置に設けられ、前記大径筒部の排気口に接続され、そ
れによって捕集された細粒を前記流動層内へ循環させな
い第1捕集手段と、(c)流動層炉よりも低い位置に設
けられる溶融還元炉であって、流動層の粗粒排出口と細
粒排出口および第1捕集手段の細粒排出口とが溶融還元
炉に接続される溶融還元炉と、(d)溶融還元炉の上部
からの還元ガスが導かれ、その還元ガスを前記風箱に導
く第2捕集手段とを含むことを特徴とする溶融還元装置
である。また本発明は、流動層炉と溶融還元炉との各軸
線を含む一仮想平面に関して、第1捕集手段が一方側
に、また第2捕集手段が他方側にそれぞれ配置されるこ
とを特徴とする。
ことが基本要件であり、小径筒部と大径筒部とがこの順
序で下から上に配置されて炉体が形成され、小径筒部に
は分散板が設けられ、小径筒部と大径筒部との内部で流
動層が形成され、たとえば予備還元などの反応が行わ
れ、小径筒部内の粗粒は、分散板付近の排出口から排出
され、また大径筒部内の細粒は、その細粒の排出口をオ
ーバフローして排出され、こうして粗粒だけでなく細粒
も炉内で滞留させることによって、前述の先行技術にお
ける細粒または微粉の循環のための構成をなくすことが
でき、設備費を低減することができる。また下流側に飛
散する細粉または微粉の量が極くわずかになり、原料、
たとえば鉱石の有効利用率を向上することができ、その
結果、運転費を安くすることができるようになる。
が、縦の旋回流を形成して、反応が促進されることにな
る。
径筒部のいずれか一方または両者は、上方になるにつれ
て内径が大きくなる中空円錐台状に形成され、これによ
って構成を簡略化するようにしてもよい。
設けられるカバーは、上方になるにつれて小径となる中
空錐体状に形成され、そのカバーの頂部に排気口が形成
され、これによって小径筒部は勿論、大径筒部内におけ
るガスの偏流を防ぎ、流速の分布を均一にして安定した
流動層を形成し、予備還元などの反応の均一化を図るこ
とができる。
する鉱石、たとえば酸化鉄などを溶融還元するに先立
ち、流動層炉内で鉱石の予備還元を行い、この流動層炉
内には、たとえば上述のように粗粒だけでなく細粒もま
た滞留されるようにし、その細粒または微粉を循環する
構成とはしないので、第1捕集手段、たとえばサイクロ
ンなどを流動層炉よりも低い位置に配置し、すなわち第
1捕集手段からの捕集された細粒または微粉の排出口
を、流動層炉の原料装入口よりも低く配置することがで
きるようになり、したがって設備を簡略化し、その設備
費を安くすることができる。
元炉との各縦の軸線を含む一仮想平面に関して、流動層
炉からの細粉を捕集する第1捕集手段と溶融還元炉から
の還元ガスに含まれる粉体を捕集して還元ガスを流動層
炉に導く第2捕集手段とを両側に分けてそれぞれ配置す
ることによって、配管をできるだけ短くして構成の小形
化を図り、設置面積を小さくてすむようにすることがで
きる。
めに実施することができるだけでなく、そのほか、セメ
ント、石灰、ニッケル、チタンなどの各種の原料の焼成
プロセスおよび、そのほかの反応のためにもまた実施す
ることができる。
装置を構成する予備還元のための流動層炉21の縦断面
図である。この流動層炉21は、(a)鉛直軸線を有す
る直円筒状の小径筒部22と、(b)この小径筒部22
の上部に連なる中空逆円錐台状の錐体23と、(c)こ
の錐体23の上部に連なり、小径筒部22よりも大きい
内径を有する鉛直軸線を有する大径筒部24とを含み、
これら各構成要素22,23,24の軸線は一鉛直軸線
上にある。小径筒部22の上下の途中位置には、分散板
25が設けられ、その分散板25の下方に風箱26が形
成される。風箱26には、管路27が接続され、還元ガ
スが供給される。
散板25付近には、粗粒排出口28が形成され、粗粒排
出管29が接続される。大径筒部24の上下方向の途中
位置には、細粒排出口30が形成され、この細粒排出口
30には、細粒排出管31が接続され、細粒がオーバフ
ローして排出口30から排出される。
ある錐体23には、原料である鉱石を装入する装入口3
2が形成され、原料は装入シュート33から供給され
る。
化した平面図である。大径筒部24の上部には、カバー
34が設けられる。このカバー34は、上方になるにつ
れて小径となる中空円錐台であって、錐体状に形成され
る。このカバー34の頂部には排気口35が形成され、
排気管路36が接続される。
層37が形成され、大径筒部24内では、細粒の流動層
38が形成される。この細粒流動層38では、ガスの流
速分布は大径筒部24内でほぼ均一であり、その流動層
38が安定して形成され、細粒ないし微粉は流動層38
に滞留したままとなり、希望する予備還元率に還元され
ることができる。こうして還元された細粒は、細粒排出
口30からオーバフローして排出される。
うに細粒の流動層38が形成されるガス流速が得られる
ように流動化開始速度以上であって、(b)細粒の平均
還元率が希望する値、たとえば27%になるように、さ
らに(c)排気口35からの細粒ないし微粉の飛散を抑
制して鉱石歩留りがたとえば98%になるように、選ば
れる。また小径筒部22の内径D2は、粗粒の流動化が
行われるに必要なガス流速が得られるように、すなわち
そのガス流速が流動化開始速度以上になるように定めら
れる。そのためにはD1/D2は、2.0以上に選び、
大径筒部24のガス流速を低下させる。
いで、細粒の安定な流動層38を形成するために、排出
口30よりも上方の高さH1を比較的長く定めるととも
に、カバー34を上述のように中空円錐台として、その
中央位置に排気口35を設ける。これによって流動層3
8内では、鉛直軸線にほぼ平行なガスの流れを形成する
ことができる。細粒流動層38の上部で滞留する鉱石で
ある粉体と、それよりも上方に飛散してキャリオーバさ
れる粉体との流動分布が明確に一定して分級されること
ができ、排気口35から排出される細粒または微粉が極
わずかとなるように抑制することができる。
息角付近または安息角よりもわずかに大きい角度、また
はもっと大きい角度に選ばれ、たとえば約50度に選ば
れる。
び大径筒部24内で、細粒流動層38では、小径筒部2
2の直上よりも外周部において、粉体が縦に旋回する縦
旋回流40が形成されるように、その内径D1およびガ
スの流速などを選ぶようにしてもよく、これによって粉
体のガスとの接触による反応が促進されることになる。
1に導かれ、細粉または微粉が捕集され、排出口42か
ら排出される。流動層炉21から排ガスに同伴される極
細粒の量がわずかであるので、サイクロン41は、そこ
で捕集された排出口42からの極細粒を流動層炉21に
戻す構造とはしないので、排出口42を流動層炉21の
原料装入口32よりも下方に配置し、こうしてサイクロ
ン41を流動層炉21よりも低い地上位置に設けること
ができ、これによって設備費を低減することができるよ
うになる。
炉21を備える溶融還元装置の全体の構成を示す簡略化
した平面図である。流動層炉21の粗粒排出管29およ
び細粒排出管31からの各粉体は、溶融還元炉43に、
管路44,45(後述の図6参照)を介して供給され
る。溶融還元炉43の頂部から排出される還元ガスは、
管路46を経て、もう1つのサイクロン47に導かれて
粉体が集塵されて捕集され、その還元ガスは清浄化され
て管路27から、前述のように流動層炉21の風箱26
に供給される。流動層炉21と溶融還元炉43との鉛直
な各軸線48,49を含む一仮想平面50に関して、サ
イクロン41が一方側(図3の下方)に配置され、もう
1つのサイクロン47は下方側(図3の上方)にそれぞ
れ配置される。これによって本件溶融還元炉の管路2
7,29,31,36,44,45,46などの配管を
短くして簡略化し、設備を小形化することができ、した
がって設置面積が少なくてすむようになる。
た後のガスは、管路51から集塵機52に導かれて集塵
された後、ガスホルダー(図示せず)等を経て燃料ガス
として利用される。
面図である。予備還元を行う流動層炉21よりもサイク
ロン41が低い位置に配置され、それらは架台54,5
5に支持される。サイクロン41にて捕集された細粒は
溶融還元炉へ導かれる。
面図である。溶融還元炉43は、基台56上に設置さ
れ、サイクロン47は、架台57によって比較的低い位
置に設けられる。
略化した側面図である。流動層炉21の小径筒部22に
接続されている粗粒排出管29には気密排出装置58が
設けられ、粗粒によるマテリアルシールを行いつつ、そ
の流量を制御して、管路44から溶融還元炉43に、予
備還元された粗粒が供給される。また同様に流動層炉2
1の細粒排出管31からの細粒は、気密排出装置59を
経て、管路45から溶融還元炉43に供給される。気密
排出装置58において、マテリアルシールを行っている
粗粒は参照符60で示され、こうして溶融還元炉43か
らの還元ガスが管路44,29を経て流動層炉21に流
れることを防ぎ、このことはもう1つの気密排出装置5
9に関しても同様である。
1aの断面図である。この実施例は前述の実施例に類似
し、対応する部分には同一の参照符を付す。注目すべき
はこの実施例では、中空円錐台状のカバー34の上部
に、図8に平面が示されるように2つの排気口35が形
成され、管路36に共通に接続される。カバー34の頂
部61は水平に形成されている。
における細粒流動層38におけるガスの流速の分布を、
2つの排気口35から排出することによって、流速分布
をほぼ均一にすることができる。したがって流動層38
の上部におけるガスの流速がほぼ均一になってガスが上
昇し、そのため流動層38で滞留する粉体と排ガスによ
ってキャリオーバされて排気口35から飛散されて排出
される粉体との粒度分布が明確に、一定して分級される
ことが正確になる。そのため大径筒部24の細粒排出口
30よりも上方の高さH2を比較的短くしても、流動層
38におけるガスの流速の分布を均一にすることがで
き、したがって流動層炉21aを低くして小形化が可能
になる。
るように流動層炉21aの排気口35を3個以上、たと
えば3個、設けてもよく、さらに多くの排気口を設ける
ようにしてもよく、これによって大径筒部24における
ガスの流れの偏流を防いで、流速を均一にし、安定な流
動層38を形成することが可能になる。
に示されるように流動層炉21bの断面図である。この
実施例では、炉体が多段化され、すなわち直円筒状の小
径筒部22の上方に中空円錐台部62が形成され、さら
に小径筒部22よりも大きい内径を有する直円筒状の筒
部63が形成され、その上にさらに錐体23を介して大
径筒部24が形成される。そのほかの構成は前述の実施
例と同様である。このような構成もまた、本発明の精神
に含まれる。
に示されるように流動層炉21cでは、小径筒部22c
が上方になるにつれて内径が大きくなる中空円錐台状に
形成され、その上部に大径筒部24が連なる。そのほか
の構成は前述の実施例と同様である。このような構成に
よれば、構成が単純であり、生産が容易である。
部24を、上方になるにつれて内径が大きくなる中空円
錐台状に形成されてもよい。本発明のさらに他の実施例
として小径筒部22と大径筒部24とが一体的に連なっ
て逆円錐台状に形成された構成としてもよい。
布は、最大径8mmφ、8.0〜0.5mmφが20%
以上、たとえば50%、0.5〜0.06mmφが20
%以上、たとえば40%であってもよく、0.06mm
φ以下の鉱石が20%未満、たとえば10%である。
される予備還元鉄の粒度分布は、種々の実験に基づく1
つの試算では、最大径8mmφ、8.0〜0.5mmφ
が40%、0.5〜0.06mmφが54%、0.06
〜0.008mmφが4%である。
4の内径D1=4500mmφ、小径筒部22の内径D
2=2000mmφであり、D1/D2=2.25であ
る。管路27からの還元ガスの流量は2000Nm3/
hであり、装入シュート33からの原料投入量は10t
on/hである。流動層炉21内の原料をすべて排出し
た状態で、管路27から上述のように還元ガスを供給し
たとき、小径筒部22内でのガス流速は5.0m/se
cであり、大径筒部24内では、0.8m/secであ
り、大径筒部24では、たとえば粒径0.2〜0.06
mmφの鉱石が流動化される。
程度の低い値でも、粒径0.5mmφ以上が25%、粒
径0.5〜0.06mmφが30%、粒径0.06〜
0.008mmφが13%であり、平均の予備還元率は
27%である。もちろんCO%が大きい還元ガスを導入
する場合は27%よりもはるかに大きい値を得ることが
可能である。サイクロン41への飛散微粒は、装入鉱石
の20%未満、好ましくは5%未満とし、たとえば流動
層炉21内に投入される鉱石の歩留りは98%である。
筒部22の粗粒排出口28から粗粒排出管29を経て排
出される粗粒は0.5mmφ以上の粒径を有し、大径筒
部24の細粒排出口30から細粒排出管31を経て排出
される細粒の粒径は0.5〜0.06mmφであり、ま
たサイクロン41で捕集されて排出口42から排出され
る極細粒の粒径は0.06〜0.008mmφである。
こうして流動層炉21では、粗粒および細粒が良好な歩
留りで炉内に滞留されて予備還元される。
の上部に大径筒部を連ねて炉体を形成し、小径筒部の分
散板の上方で粗粒の流動層が形成され、分散板付近の排
出口から粗粒が排出され、大径筒部では細粒の流動層が
形成され、細粒排出口から細粒がオーバフローして排出
され、こうして粗粒は勿論、細粒ないし微粉が炉内で滞
留され、循環されることはないので、前述の先行技術に
関連して述べた細粒ないし微粉の循環のための構成を必
要とせず、したがって構成が簡略化され、設備を簡略化
してその設備費を安くすることが可能となる。
分散板付近の粗粒排出口から排出し、また大径筒部内の
細粒を、細粒排出口からオーバフローして排出するよう
にし、こうして粗粒および細粒の炉内における滞留時間
を反応に適した時間に選ぶことができるようになる。
筒部内で細粒が滞留して流動層が形成され、飛散する粉
体が極わずかであるので、鉱石などの粉体の有効利用率
が向上し、この結果、運転費を安くすることができる。
には、細粒である粉体が縦に旋回する縦旋回流が形成さ
れ、これによって細粉とガスとの接触が良好になり、反
応が促進されることになる。
径筒部のいずれか一方または両者は、中空円錐台状に形
成し、これによって構成を簡略化することができる。
設けられるカバーは、上方になるにつれて小径となる中
空錐体状に形成され、そのカバーの頂部に1または複数
の排気口を形成することによって、大径筒部におけるガ
スの流速の分布をほぼ均一にして流動層を安定に形成
し、細粉ないし微粉の前記排気口からの飛散を極くわず
かに抑えることができる。
鉱石などの原料の予備還元を行い、この流動層炉からは
細粉が循環されず、したがって第1捕集手段、たとえば
サイクロンまたは耐熱性に優れた高温バグフィルタを小
形化し、その第1捕集手段を流動層炉よりも低い位置に
設けて設備費を安くすることができるようになる。
行い、粗粒だけでなく細粒もまた炉内で滞留されるの
で、鉱石全体の平均予備還元率を高くすることができる
ようになる。これによって溶融還元炉での石炭使用量を
少なくし、かつ溶融還元炉からの出口ガス流量を少なく
することができ、そのためプラント全体の設備費を安く
することができ、また石炭量、酸素使用量および水使用
量などの運転費を安くすることができるようになる。
動層炉から下流側に飛散する細粒または微粉の鉱石が少
ないので、鉱石の有効利用率を向上することができ、こ
の結果、運転費を安くすることができる。
1捕集手段では、分離して捕集すべき鉱石量が減るの
で、その捕集手段であるたとえばサイクロンなどの内壁
を形成する耐火物およびダクトなどの細粒または微粉に
よる損耗が少なくなり、これによって捕集のための時間
が大幅に減り、プラント全体の稼動率を向上することが
できる。
元炉との各縦の軸線を含む一仮想平面に関して、第1捕
集手段と第2捕集手段とを両側にそれぞれ分けて配置
し、これによって配管を簡略化し、構成の小形化を図
り、設置面積が少なくてすむようになる。
層炉21とサイクロン41とを示す断面図である。
である。
還元装置の全体の構成を示す簡略化した平面図である。
略化した側面図である。
略化した側面図である。
ら見た簡略化した側面図である。
面図である。
る。
対応する簡略化した平面図である。
化した断面図である。
の断面図である。
Claims (6)
- 【請求項1】 上下に延びる小径筒部と、 小径筒部の上部に連なり、小径筒部よりも大きい内径を
有し、上下に延びる大径筒部と、 小径筒部に設けられ、下方に風箱を形成する分散板とを
含み、 風箱内にガスが供給され、小径筒部内および大径筒部内
に原料の流動層が形成され、 大径筒部の上部に排気口が形成され、 小径筒部の分散板上方で、その分散板付近に粗粒の排出
口が形成され、 大径筒部の上下方向の途中位置で細粒をオーバフローし
て排出する細粒の排出口が形成され、さらに大径筒部の
排気口に接続されて、それによって捕集された細粒を前
記流動層内へ循環させない第1捕集手段が形成されるこ
とを特徴とする流動層炉。 - 【請求項2】 大径筒部内では、粉体が縦に旋回する縦
旋回流が形成されることを特徴とする請求項1記載の流
動層炉。 - 【請求項3】 小径筒部または大径筒部は、上方になる
につれて内径が大きくなる中空円錐台状であることを特
徴とする請求項1記載の流動層炉。 - 【請求項4】 大径筒部の上部には、上方になるにつれ
て小径となる中空錐体状のカバーが設けられ、 そのカバーの頂部に排気口が形成されることを特徴とす
る請求項1記載の流動層炉。 - 【請求項5】 (a)予備還元用の流動層炉であって、 上下に延びる小径筒部と、 小径筒部の上部に連なり、小径筒部よりも大きい内径を
有し、上下に延びる大径筒部と、 小径筒部に設けられ、下方に風箱を形成する分散板とを
含み、 風箱内にガスが供給され、小径筒部内および大径筒部内
に原料の流動層が形成され、 大径筒部の上部に排気口が形成され、 小径筒部の分散板上方で、その分散板付近に粗粒の排出
口が形成され、 大径筒部の上下方向の途中位置で細粒をオーバフローし
て排出する細粒の排出口が形成される流動層炉と、 (b)流動層炉よりも低い位置に設けられ、前記大径筒
部の排気口に接続され、それによって捕集された細粒を
前記流動層内へ循環させない第1捕集手段と、 (c)流動層炉よりも低い位置に設けられる溶融還元炉
であって、流動層の粗粒排出口と細粒排出口および第1
捕集手段の細粒排出口とが溶融還元炉に接続される溶融
還元炉と、 (d)溶融還元炉の上部からの還元ガスが導かれ、その
還元ガスを前記風箱に導く第2捕集手段とを含むことを
特徴とする溶融還元装置。 - 【請求項6】 流動層炉と溶融還元炉との各軸線を含む
一仮想平面に関して、第1捕集手段が一方側に、また第
2捕集手段が他方側にそれぞれ配置されることを特徴と
する請求項5記載の溶融還元装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19328694A JPH0860215A (ja) | 1994-08-17 | 1994-08-17 | 流動層炉とそれを用いる溶融還元装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19328694A JPH0860215A (ja) | 1994-08-17 | 1994-08-17 | 流動層炉とそれを用いる溶融還元装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0860215A true JPH0860215A (ja) | 1996-03-05 |
Family
ID=16305398
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP19328694A Pending JPH0860215A (ja) | 1994-08-17 | 1994-08-17 | 流動層炉とそれを用いる溶融還元装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0860215A (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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1994
- 1994-08-17 JP JP19328694A patent/JPH0860215A/ja active Pending
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