JPH08500292A - 気一液接触装置のための高容量トレー - Google Patents

気一液接触装置のための高容量トレー

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JPH08500292A JP7502922A JP50292295A JPH08500292A JP H08500292 A JPH08500292 A JP H08500292A JP 7502922 A JP7502922 A JP 7502922A JP 50292295 A JP50292295 A JP 50292295A JP H08500292 A JPH08500292 A JP H08500292A
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(57)【要約】 直交流気−液接触タワーにおいて、液体は垂直方向に間隔をおいて配設された複数個のトレー(2)を横切って水平方向に流動し、そしてトレーからトレーへ下方向に移動し、気体はトレーにおける開口を流過して活性バブル領域で液体−蒸気混合物を形成する。各開口はトレーの平面に孔(16)を備え、更に孔に重なって存在して横蒸気出口スロット(22)を規定するデフレクタ(18)も備えている。孔(16)はその上流端がその下流端よりも幅広であり、デフレクタ(18)は孔の両端を横切って延在する上流部分及び下流部分(18u、18d)を有する。デフレクタは静止式でよく、或いは垂直方向移動自在な弁であることもできる。孔(16)の中心は流動方向において約3.0インチ以下で流動方向に対して横方向において約2.0インチ以下の間隔で離間する。

Description

【発明の詳細な説明】 気−液接触装置のための高容量トレー発明の背景 本発明は気−液接触装置に関し、更に詳しくは精留塔及びその他の装置で使用 するための新規な直交流トレーに関する。 典型的な装置においては開口を有する多数の水平トレーが、カラム又はタワー として工業界で知られている垂直方向に延びる密閉容器内に装着される。液体は 最上部トレーの上表面に導入される。各トレーの下流端には、ダウンカマーに到 る堰が存在し、ダウンカマーはその次の下側トレーにおける無孔上流領域(「ダ ウンカマーシール領域」)に到る。気体はタワーの下端部に導入される。液体が トレーを流過する際、気体はトレーにおける開口中を上昇して液体中に流入し、 気体と液体との間の緊密且つ活発な接触が生ずるバブル領域を形成する。例えば 軽質炭化水素蒸留及び直接接触熱交換の如き高液体速度システムで使用されるタ ワーにおいては、各トレーのレベルはダウンカマー、バブル領域及びダウンカマ ーシール移行領域を含む複数群の流路を有する。 多くの直交流トレーは簡単なシーブトレー、即ち何百という円形穴を有するデ ッキである。幾つかのトレーはトレー開口に付設された弁を有し、他のトレーは 固定デフレクタを有する。1969年8月26日付けの米国特許第3,463, 464号に図示及び説明されている後者の例において、各トレー開口はトレーデ ッキの平面に台形孔を備え、更に孔に整合せしめられて重ねられた静止デフレク タを備える。このデフレクタと隣接デッキ表面とは、孔を通過する蒸気をデッキ 上の液体の流動方向に対して略横方向である方向に指向させるよう配向された横 出口スロットを形成する。発明の要点 本発明は、デッキトレーが上流位置から下流位置まで略水平な流動方向に移動 する液体本体を支持する形態の気−液接触装置の改良に関するものである。デッ キには、上昇する蒸気を加圧下に液体中へ導入する孔が設けられている。孔の各 々は流動方向に対して平行な長手方向軸線を有し、孔の各々はその上流端におけ る流動方向に対して横方向の最大寸法からその下流端における流動方向に対して 横方向の最小寸法までデッキの平面にて漸次幅狭にせしめられている。デフレク タ部材が孔の上方に存在する。デフレクタの各々は上流部分、中央部分及び下流 部分を有する。上流部分の各々は関連する孔の上流端でデッキの上方に延び、孔 の全最大横方向範囲を横切って存在し、孔に向かって流動方向に移動する液体か ら孔の全体を遮蔽する。下流部分の各々は孔の下流端でデッキの上方に延び、孔 の下流端の全横方向範囲を横切って存在し、蒸気が液体を下流方向へ推進するの を防止する。デフレクタ部材の各々及び隣接するデッキは、孔を通過する蒸気を デッキにおける液体の流動方向に対して略横方向である方向に指向させるよう配 向された横出口スロットを規定する。 一局面において、本発明は、約0.85インチ以下の上縁と0.35インチ以 下の高さと約1.5インチ以下の下縁とを有する出口スロットの使用を含む。 本発明の他の特徴は、孔の各々が、トレーデッキの平面にて、その長手軸線に 沿って測定した1.5インチ以下の長さと約1.0インチ以下の上流幅と0.7 5インチ以下の下流幅とを有することである。好ましくは、孔の中心は流動方向 において約3.0インチ以下で且つ流動方向に対して横方向において約2.0イ ンチ以下の間隔で離間する。 本発明の好適実施例ではその他の特徴も採用される。孔は長手方向に延びる複 数列に配列され、隣接する列における孔は千鳥状に配置され、特定列における孔 は隣接列における2個の孔の長手方向中間に位置せしめられる。デフレクタの中 央部分は、上流及び下流部分によってりデッキ上に支持される。上流バッフル部 分及び下流バッフル部分を傾斜させて、デッキに対して鈍角が形成される。各デ フレクタはデッキと一体であり、垂直投影図にて孔の各々と幾何学的に実質上同 一である。出口スロットは台形であり、ばりが出口の周囲に形成されている。出 口スロットの各々は約0.3平方インチの面積を有する。これは、慣用のシーブ トレーにおける0.5インチの円形開口の面積(0.2平方インチ)よりも大で ある。図面の簡単な説明 図1は気−液接触タワーにおける直交流トレーの全体的配置を示す簡略図。 図2はダウンカマー領域、有孔活性バブル領域及び無孔ダウンカマーシール領 域の概略比率を示す、図1のタワーの簡略平面図。 図3は本発明に従って構成されたトレーにおける1群の開口を示す斜面図。 図4は孔の形状、比率及び間隔を示す、トレーの一部の底面図。 図5は第4図における断面線5−5に沿った断面図。 図6はデフレクタに形成される湾曲部及びばりを示す、図5における断面線6 −6に沿った断面図。 図7は種々異なる開口を備えた流体接触トレーの容量特性を示す線図。 図8は容量指数の関数として接触トレーの同伴及び流出特性を示す線図。 図9は垂直可動弁がデフレクタであ本発明の変形例を示す部分斜面図。 図10は本発明の好適実施例の寸法及び従来技術による2種のトレーの対応寸 法を示す表。詳細な説明 図1は、本発明に従って構成された直交流トレーの基本的概念を簡略に図示し ている。複数個の水平トレー2が垂直タワー4内に装着され、トレー2は垂直方 向に相互に離間されている。液体は液体供給ライン6により最上部トレーに供給 される。ダウンカマー通路8は各トレーの下流端部から次の下側トレーの上流端 部に達する。開口(図1には図示せず)がトレーに形成されており、気体供給ラ イン10によりタワーの下端部に導入された空気又はその他の気体がタワー中を 上昇せしめられ、トレー開口を通過してトレー2における液体中へ流入せしめら れる。タワーはその上端部に蒸気出口を有し、その下端部に液体出口を有する。 典型的なトレーの比率が図2に示されている。各トレーは無孔の上流セグメン ト12(ダウンカマーシール移行部)を有し、このセグメント12はダウンカマ ー8からの液体を受入れ、この液流を開口が位置する活性領域14(「バブリン グ領域」)に再指向させる。上述した如く、参照符号8はダウンカマー通路を示 す。ダウンカマー通路において、液体−蒸気混合物の各成分間に解離又は分離が 生ずる。分離された蒸気成分は上昇し、液体成分は次のトレーの上流端部におけ る無孔のダウンカマーシール移行領域に供給される。 タワー4が48インチの直径を有する典型的な装置において、無孔上流セグメ ント128の長さLs約8インチであり、ダウンカマー8は約10インチの水平 寸法LDを有する。デッキの活性領域14は約30インチの長さLAを有する。こ の例は、慣用の直交流トレー設計の実施例を示す。 本発明は、1969年8月26日付けの米国特許第3,463,464号に開 示された公知形態のトレーの改良に向けられている。上述した如く、この種のト レーにおける各開口はトレーデッキの平面に台形孔とかかる孔に整合せしめて重 ねられたデフレクタとを備えている。デフレクタ及び隣接デッキ表面は、孔を通 過する蒸気をデッキにおける液体の流動方向に対して略横方向である方向に指向 させるよう配向された横出口スロットを規定する。 本発明は、この種のトレーの孔間隔、孔寸法及びスロット寸法を、工業界で従 来用いられていたものとは異なる特定範囲にせしめると、優れた性能を達成し得 るという知見に基づく。 図3に示す如く、本発明に従うトレー2は複数個の孔16とこれらの孔16に 重ねられる複数個のデフレクタ18を備えている。図3には、隣接する3列の長 手方向列に配列せしめられたトレー孔を示し、孔は列毎に千鳥状に配列されてい て、1つの列における孔16は隣接列における長手方向に隣接する2個の孔16 の長手方向中間に位置せしめられている。孔の中心は約3.0インチ以下の距離 SLだけ流動方向に離間されている。流動方向に対して横方向において、隣接列 の中心線20の間の間隔STは約2.0インチ以下である。 各デフレクタ18は上流部分18u、中間部分18m及び下流部分18dを有 する。中間部分18mは略水平であり、上流及び下流部分18u、18dは夫々 液体流動方向に対して上方及び下方に傾斜している。 平面図において、各デフレクタとその孔は幾何学的に実質上同一である。デッ キの平面に形成された孔16の寸法を図4に示している。孔16の長さLは1. 5インチ以下であり、上流幅WUは約1.0インチ以下であり、下流幅Wnは0. 75インチ以下である。 図5は、デフレクタの1つに関する出口スロットの形態を示す側面図である。 出口スロット22は略台形である。出口スロット22の下縁はトレーデッキの上 表面によって規定され、上流縁、下流縁及び上縁はデフレクタの下縁によって規 定されている。出口スロット22の上縁は0.85インチ以下の長さLUを有し 、出口スロット22の高さHは0.35インチ以下であり、出口スロット22の 下縁の長さLLは1.5インチ以下である。 トレーを綿密に視察することによって理解される如く、加工処理においてバッ フル部分18u及び18dには横方向において凸状湾曲部が形成され、出口スロ ットの周囲にはばりが形成される。図6は図5の断面線6−6におけるばり24 を図示している。局部的乱流を増大させてスロット縁における蒸気と液体との界 面接触面積を増加させることによりトレー効率を増大させることに加えて、これ らばり24は後述する流出性能の向上にも寄与すると思われる。 従来技術のトレーに比べて、本発明に従うトレーにおいては孔の中心間隔が小 さい。また、孔は長さがより短く、幅がより狭い。更に、出口スロットは長さ及 び高さがより短い。本発明に従う好適寸法はコンピュータ数字制御(「CNC」 )プレスの製作能力に適合し、スロット寸法及び面積に関する商業的製作ニーズ に充分に適用し得る。 本発明の好適実施例で使用する寸法を後記表にタイプMVG型として示した列 に示し、この表には更に従来技術であるタイプL型トレー及びタイプS型トレー における開口の対応寸法も示している。 タイプL型トレーは、液体速度が低く蒸気速度が高い場合には許容し得ない同 伴レベルをもたらすことが実験から判明した。シーブトレー技術においては、よ り小さい開口がより低い同伴をもたらすことも知られ、これによってタイプS型 トレーが設計され、その目的はデフレクタを備えていない直径0.5インチの円 形開口を有する標準的シーブトレーと比較して好適なレベルまで同伴を減少させ ることであった。タイプL型及びタイプS型トレーの大きい開口は、工業的使用 にて汚染の危険を減少させる点において成功した。 タイプS型トレーが開発された際、CNCプレスはこの寸法のトレースロット を経済的に製作することができず、従ってトレーにおける任意領域のスロット個 数を製作コストの低減のために最少化させた。タイプL型トレーは、スロット面 積が大きく、汚染の危険が少なく、そしてまたタイプS型トレーよりも製作コス トが低い故に、広範に使用された。しかしながら、低液体速度におけるタイプL 型トレーの不満足な同伴特性はその工業的使用の妨げとなっている。 図9は、デッキ孔が図3乃至図6におけると同じ寸法、形状及び配向を有する が、デフレクタが垂直可動弁28であるトレーを示している。この弁28は、そ の上方移動を制限する外向脚部28fと完全閉鎖を防止する所定ディンプル30 とを有する。弁28がその上昇した開放位置にある時には、弁28は上流部分2 8u、中間部分28m及び下流部分28dを有するデフレクタである。これら部 分の寸法は、中間部分の幅をより大きくして弁が閉鎖する際にトレー孔中へ脱落 するのを防止していることを除いて、対応する静止式デフレクタ18の寸法と同 じである。弁28が開いた際、弁28と隣接デッキとは矩形の蒸気出口スロット を形成して、上昇蒸気をデッキにおける気体の流動方向に対して略横方向である 方向に指向させる。 種々のトレーの容量及び流出限界を示す比較データを図7及び図8に示してい る。タイプS型トレー及び本発明に従うトレーは図3に示す如くその孔を千鳥状 に配置し(「三角形ピッチ」)、タイプL型トレーは隣接列における孔が横方向 に互いに整列した「矩形ピッチ」を有する。予想されるように、本発明に従う小 さいスロット寸法は低液体速度にて低い同伴をもたらした。更に、同伴は工業的 に興味ある全液体速度範囲に渡って低いことが注目された。 工業においては10%同伴レベルで良好な経済的実施が可能であり、従って、 図7に示す如く、本発明に従うトレーの能力は、一定の液体速度におけるその能 力向上が低液体速度における約7%から中庸液体速度における約9%に到る範囲 であるため、極めて優良である。 本発明に従うトレーはこのような優良な同伴及び容量特性を有することが知ら れるようになった際には、他の性能特性に犠牲が生ずると予想された。しかしな がら、驚くべきことに、本発明に従って構成されるトレーはより良好な流出性能 を与えた。この性質は図8の線図に示されており、10%同伴−流出レベルにて 約32%の増大ターンダウンポテンシャルが存在した。上昇蒸気速度曲線は同伴 が生ずる範囲に存在し、下降蒸気速度曲線は流出範囲に存在する。本発明に従っ て構成されるトレーはより低い流出速度(左側)及びより低い同伴速度(右側) を示すことが理解される。 タイプMVG型トレーの向上した流出特性は、本発明者によって設計された複 雑な弁トレーで達成される通気と同様にバブリング領域に渡って一層均一な通気 をもたらすことも判明した。 以上のとおりであるので、本発明は格別の性能とコストとの利点を有する流体 接触トレー装置を提供することが理解されるであろう。これら利点は上記実施例 とは異なるトレーからも実現し得ることが当業者には了解され、従って本発明は 上記実施例のみに限定されず、本発明の思想及び範囲から逸脱することなく多く の改変が可能であることが理解されるべきである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 EP(AT,BE,CH,DE, DK,ES,FR,GB,GR,IE,IT,LU,M C,NL,PT,SE),OA(BF,BJ,CF,CG ,CI,CM,GA,GN,ML,MR,NE,SN, TD,TG),AT,AU,BB,BG,BR,BY, CA,CH,CN,CZ,DE,DK,ES,FI,G B,HU,JP,KP,KR,KZ,LK,LU,MG ,MN,MW,NL,NO,NZ,PL,PT,RO, RU,SD,SE,SK,UA,US,VN

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1. 上流位置から下流位置まで略水平な流動方向に流過する液体本体を支持す る流体接触トレーにして、 上昇する蒸気を加圧下に該液体中へ導入するための一群の孔を有するデッキを 備え、該孔は該流動方向に平行な長手方向軸線を有し、該孔の各々はその上流端 における該流動方向に対して横方向の最大寸法からその下流端における該流動方 向に対して横方向の最小寸法まで該デッキの平面にて漸次幅狭にせしめられてお り、 該孔の各1個に夫々整合せしめて重ねられている複数個の静止デフレクタ部材 を備え、該デフレクタ部材の各々は上流部分、中央部分及び下流部分を含み、該 中央部分は該上流部分及び該下流部分に接続されており、 該上流部分の各々は該孔の1個の上流端にて該デッキの上方に延び且つ該孔の 全最大横方向範囲に渡って存在し、該孔に向かって該流動方向に移動する液体か ら該孔の全体を遮蔽し、 該下流部分の各々は該孔の1個の下流端にて該デッキの上方に延び且つ該孔の の下流端の全横方向範囲に渡って存在し、蒸気が液体を下流方向へ推進するのを 防止し、 該デフレクタ部材の各々及び該デッキは、該孔を通過する蒸気を該デッキ上に おける液体の流動方向に対して略横方向である方向に指向させるよう配向された 横出口スロットを規定し、該トレーは該出口スロットの周囲に形成されたばりを 有し、 該出口スロットの各々は約0.85インチ以下の上縁と0.35インチ 以下の高さと約1.5インチ以下の下縁とを有し、 該孔は該流動方向において約3.0インチ以下で且つ該流動方向に対して横方 向において約2.0インチ以下の間隔で離間する中心を有する、 ことを特徴とする流体接触トレー。 2. 該上流バッフル部分及び該下流バッフル部分は傾斜して該デッキに対して 鈍角を形成する、請求項1記載の装置。 3. 該デフレクタ部材の各々は該デッキと一体であり、垂直投影図にて該デッ キの該孔の夫々と幾何学的に実質上同一である、請求項1記載の装置。 4. 該出口スロットの各々は約0.3平方インチの面積を有する、請求項1記 載の装置。 5. 該孔は長手方向に延びる複数列に配列され、隣接列における該孔は千鳥状 に配列されており、特定列における該孔が隣接列における2個の該孔の長手方向 中間に位置する、請求項1記載の装置。 6. 該トレーは相互に垂直方向に間隔をおいてタワー内に装着され、ダウンカ マー導管手段は該トレーの下流位置からその下方に位置するトレーの上流位置に 到る、タワーを組み合わせられる請求項1記載の複数の流体接触トレー。 7. 該孔の各々の長手方向軸線に沿って測定した長さは1.5インチ以下であ り、上流幅は約1.0インチ以下であり、下流幅は0.75インチ以下である、 請求項1記載の装置。 8. 上流位置から下流位置まで略水平な流動方向に流過する液体本体を支持す る流体接触トレーにして、 上昇する蒸気を加圧下に該液体中へ導入するための一群の孔を有するデッキを 備え、該孔は該流動方向に平行な長手方向軸線を有し、該孔の各々はその上流端 における該流動方向に対して横方向の最大寸法からその下流端における該流動方 向に対して横方向の最小寸法まで該デッキの平面にて漸次幅狭にせしめられてお り、該孔の各々の長手方向軸線に沿って測定した長さは1.5インチ以下であり 、上流幅は約1.0インチ以下であり、下流幅は0.75インチ以下であり、 該孔は該流動方向において約3.0インチ以下で且つ該流動方向に対して横方 向において約2.0インチ以下の間隔で離間する中心を有し、 該孔の各1個に夫々整合せしめて重ねられている複数個の静止デフレクタ部材 を備え、該デフレクタ部材の各々は上流部分、中央部分及び下流部分を含み、該 中央部分は該上流部分及び該下流部分によって該デッキに接続されており、 該上流部分の各々は該孔の1個の上流端にて該デッキの上方に延び且つ該孔の 全最大横方向範囲に渡って存在し、該孔に向かって該流動方向に移動する液体か ら該孔の全体を遮蔽し、 該下流部分の各々は該孔の1個の下流端にて該デッキの上方に延び且つ該孔の の下流端の全横方向範囲に渡って存在し、蒸気が液体を下流方向へ推進するのを 防止し、 該デフレクタ部材の各々及び該デッキは、該孔を通過する蒸気を該デッキ上に おける液体の流動方向に対して略横方向である方向に指向させるよう配向された 横出口スロットを規定し、該トレーは該出口スロットの周囲に形成されたばりを 有する、 ことを特徴とする流体接触トレー。 9. 該上流バッフル部分及び該下流バッフル部分は傾斜して該デッキに対して 鈍角を形成する、請求項8記載の装置。 10. 該デフレクタ部材の各々は該デッキと一体であり、垂直投影図にて該デ ッキの該孔の夫々と幾何学的に実質上同一である、請求項8記載の装置。 11. 該出口スロットの各々は約0.3平方インチの面積を有する、請求項8 記載の装置。 12. 該孔は長手方向に延びる複数列に配列され、隣接列における該孔は千鳥 状に配列されており、特定列における該孔が隣接列における2個の該孔の長手方 向中間に位置する、請求項8記載の装置。 13. 該トレーは相互に垂直方向に間隔をおいてタワー内に装着され、ダウン カマー導管手段は該トレーの下流位置からその下方に位置するトレーの上流位置 に到る、タワーを組み合わせられる請求項8記載の複数の流体接触トレー。
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SG (1) SG49758A1 (ja)
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2018500161A (ja) * 2014-12-23 2018-01-11 スルザー ケムテック アクチェンゲゼルシャフト 気液接触トレイ用の開口配置

Families Citing this family (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5788894A (en) * 1996-04-05 1998-08-04 Koch Engineering Company, Inc. High capacity vapor-liquid contact tray
US5762834A (en) * 1997-02-05 1998-06-09 Hauser; Richard P. Mass transfer device
JP2000507879A (ja) * 1997-02-05 2000-06-27 ノートン ケミカル プロセス プロダクツ コーポレイション 改良された物質移動装置
US5975504A (en) * 1997-03-12 1999-11-02 Uop Llc Closely-spaced high capacity fractionation trays
DE19833358C2 (de) * 1998-07-24 2000-09-07 Mannesmann Vdo Ag Drehmomentsensor und Verfahren zum Erzeugen eines drehmomentabhängigen Signals
US6089550A (en) * 1998-09-22 2000-07-18 Norton Chemical Process Products Corporation Mass transfer process
US6250611B1 (en) 1999-10-07 2001-06-26 Sulzer Chemtech Usa, Inc. Vapor-liquid contact apparatus
US6588736B1 (en) * 2000-12-14 2003-07-08 Karl T. Chuang Gas/liquid contacting, perforated tray assembly
US6575438B2 (en) 2001-06-13 2003-06-10 Sulzer Chemtech Usa, Inc. Stepped downcomer apparatus and vapor-liquid contact apparatus with same
CA2515356C (en) * 2003-02-06 2011-06-07 Sulzer Chemtech Ag Tray apparatus, column with same and method of assembling and using
US7708258B2 (en) * 2006-12-21 2010-05-04 Sulzer Chemtech Ag Tray for a mass exchange column
US8066264B2 (en) 2007-11-26 2011-11-29 Sulzer Chemtech Ag Contact tray for a mass transfer column
WO2011114585A1 (ja) * 2010-03-18 2011-09-22 電気化学工業株式会社 残留モノマー除去装置及びポリビニルアルコール樹脂の製造方法
DE102010019263A1 (de) 2010-05-04 2011-11-10 Rvt Process Equipment Gmbh Ventilboden
US8944419B2 (en) 2010-05-11 2015-02-03 Sulzer Chemtech Ag Contact tray for a mass transfer column
CN102614744A (zh) * 2011-01-27 2012-08-01 宜兴协联生物化学有限公司 一种水喷淋吸收器
KR101288811B1 (ko) * 2011-11-29 2013-07-23 주식회사 프로파워 연료 혼합 장치, 이를 이용하는 연료 공급 방법 및 전기 화학 장치
RU2498838C1 (ru) * 2012-05-10 2013-11-20 Илшат Минуллович Валиуллин Контактная тарелка
WO2016051372A1 (en) * 2014-10-04 2016-04-07 Jayawant Ravindra Valve with floating cap and restraint assembly for deployment in valve trays of distillation columns
WO2017211790A1 (de) 2016-06-10 2017-12-14 Basf Se Boden für eine stoffaustauschkolonne sowie stoffaustauschkolonne, und verwendung des bodens
US11420135B2 (en) * 2018-08-06 2022-08-23 Koch-Glitsch, Lp Multi-pass contact tray for a mass transfer column and method involving same
CN112058021A (zh) * 2020-08-11 2020-12-11 陕西大秦环境科技有限公司 一种低温甲醇洗尾气VOCs处理方法及装置
CN112023432A (zh) * 2020-08-26 2020-12-04 朱文艳 一种板式分馏塔

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB690789A (en) * 1950-11-28 1953-04-29 Messerschmidt Sebastian Improvements in and relating to lapping machines
NL71492C (ja) * 1950-12-29
US3463464A (en) * 1967-09-26 1969-08-26 Irvin E Nutter Fluid contact tray
DE2015213A1 (en) * 1970-03-31 1971-10-21 Stage, Hermann, Dr, 5000 Köln Sieve tray for exchange columns
US3747905A (en) * 1970-11-10 1973-07-24 Pantaleoni N Contact apparatus and method
US3770255A (en) * 1972-06-28 1973-11-06 D Nutter Valve tray having means for avoiding edge erosion
GB1449278A (en) * 1973-11-02 1976-09-15 Vyzk Ustav Chem Zarizeni Gas/liquid contact columns
CH653564A5 (de) * 1981-09-08 1986-01-15 Kuehni Ag Stoffaustauschboden und verfahren zu dessen herstellung.
US5147584A (en) * 1989-03-08 1992-09-15 Glitsch, Inc. Contact tray assembly and method

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2018500161A (ja) * 2014-12-23 2018-01-11 スルザー ケムテック アクチェンゲゼルシャフト 気液接触トレイ用の開口配置
US10596483B2 (en) 2014-12-23 2020-03-24 Sulzer Chemtech Ag Aperture layout for vapor-liquid contact tray
JP2020073277A (ja) * 2014-12-23 2020-05-14 スルザー ケムテック アクチェンゲゼルシャフト 気液接触トレイ用の開口配置
US10737196B2 (en) 2014-12-23 2020-08-11 Sulzer Chemtech Ag Aperture layout for vapor-liquid contact tray

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