JPH0845892A - Rotary treating apparatus - Google Patents
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- JPH0845892A JPH0845892A JP6201317A JP20131794A JPH0845892A JP H0845892 A JPH0845892 A JP H0845892A JP 6201317 A JP6201317 A JP 6201317A JP 20131794 A JP20131794 A JP 20131794A JP H0845892 A JPH0845892 A JP H0845892A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、カップの内部におい
て、例えば半導体ウェハやＬＣＤ基板などを回転させて
その上方より例えばリンス液の如き処理液を供給し、該
処理液をその遠心力によって被処理体の周囲に飛散させ
て処理を行う回転処理装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention rotates a semiconductor wafer, an LCD substrate or the like inside a cup and supplies a treatment liquid such as a rinse liquid from above the cup, and the treatment liquid is subjected to centrifugal force. The present invention relates to a rotation processing device that scatters around a processing body to perform processing.
【０００２】[0002]
【従来の技術】例えば、半導体の製造においては、被処
理体である半導体ウェハやＬＣＤ基板などの表面にレジ
ストパターンを形成させるために、いわゆるリソグラフ
ィ工程が行われている。このリソグラフィ工程は、被処
理体の洗浄、被処理体の表面へのレジストの塗布、その
レジストの露光、現像など、種々の工程を含んでいる。2. Description of the Related Art For example, in the manufacture of semiconductors, a so-called lithographic process is performed in order to form a resist pattern on the surface of an object to be processed such as a semiconductor wafer or an LCD substrate. This lithographic process includes various processes such as cleaning the object to be processed, applying a resist to the surface of the object to be processed, exposing the resist, and developing the resist.
【０００３】以上のようなリソグラフィ工程において、
スクラバを例にとって説明すると、カップの内部に回転
自在なスピンチャックが配置されており、このスピンチ
ャックの上に例えばＬＣＤ基板などの被処理体を装着し
てこれを回転させると共に、回転する被処理体の表面に
例えばリンス液などの処理液を供給している。そして、
処理液をその遠心力によって被処理体の周囲に飛散させ
ることにより、被処理体の表面を洗浄すると同時に、カ
ップの内部に浮遊しているダストやミスト、その他の有
害ガス、悪臭等を除去する構成になっている。In the lithography process as described above,
Taking a scrubber as an example, a rotatable spin chuck is arranged inside a cup, and an object to be processed such as an LCD substrate is mounted on the spin chuck and is rotated, and the object to be rotated is also rotated. A treatment liquid such as a rinse liquid is supplied to the surface of the body. And
By scattering the treatment liquid around the object by the centrifugal force, the surface of the object is washed and at the same time, dust and mist floating in the cup, other harmful gases, and odors are removed. It is configured.
【０００４】[0004]
【発明が解決しようとする課題】ところが、かかるスク
ラバにおいては、被処理体の表面に供給されその遠心力
で被処理体の周囲に飛散した例えばリンス液などの処理
液がミストとなってカップ内で浮遊し、それが被処理体
の表面に再付着するといった問題を生じていた。そし
て、このようにミストとなった処理液が被処理体の表面
に再付着することにより、洗浄後の被処理体の表面にウ
ォーターマークが発生したり、パーティクルが付着した
りすることにより、表面清浄が劣化されるという課題が
あった。In such a scrubber, however, the treatment liquid such as a rinse liquid supplied to the surface of the object to be treated and scattered around the object to be treated by its centrifugal force becomes a mist in the cup. However, there is a problem that the particles float on the surface of the object to be treated and reattach to the surface of the object to be processed. Then, by reattaching the treatment liquid that has become mist to the surface of the object to be treated, a water mark is generated on the surface of the object to be treated after cleaning, or particles are attached to the surface, There was a problem that the cleanliness deteriorates.
【０００５】ここで、以上のようなミストとなった処理
液が被処理体の表面に再付着するといった問題の解決策
として、先ず、被処理体の下方において排気ポンプでカ
ップ内雰囲気を吸引するといった方法が試みられた。し
かし、この方法は装置構成上実現が相当に困難である。
特に、被処理体の表面を洗浄するスクラバの他、例えば
被処理体の表面に所定の膜などを形成する成膜装置等を
備えて構成される処理システにおいては、各処理装置内
を共同廃棄する構成になっているため、スクラバ内を吸
引排気するための排気ポンプを特別に設置するといった
ことは現状では不可能であった。Here, as a solution to the problem that the above-described mist treatment liquid re-attaches to the surface of the object to be treated, first, the atmosphere inside the cup is sucked by an exhaust pump below the object to be treated. Such a method was tried. However, this method is considerably difficult to realize due to the device configuration.
In particular, in a processing system including a scrubber for cleaning the surface of the object to be processed, a film forming apparatus for forming a predetermined film on the surface of the object to be processed, etc. Because of the above structure, it is impossible at present to install a special exhaust pump for sucking and exhausting the inside of the scrubber.
【０００６】また、被処理体の周囲を囲んでいるカップ
の形状を種々に変形させることにより、処理液がカップ
内で浮遊しないようにする方法も多々試みられたが、実
用化されるほど効果の上がるものは得られていない。Also, various methods have been tried in which the treatment liquid is prevented from floating in the cup by variously deforming the shape of the cup surrounding the object to be treated, but it is effective as it is put to practical use. I haven't been able to get anything higher.
【０００７】従って本発明の目的は、被処理体の表面に
処理液が再付着することを防止できる手段を提供するこ
とにある。Therefore, an object of the present invention is to provide a means for preventing the processing liquid from reattaching to the surface of the object to be processed.
【０００８】[0008]
【課題を解決するための手段】本発明によれば、カップ
の内部において回転する被処理体の表面に処理液を供給
し、該処理液をその遠心力によって被処理体の周囲に飛
散させて処理を行うものにおいて、遠心力によって被処
理体の周囲に飛散された上記処理液をカップの下方に案
内する案内手段を設けたことを特徴とする回転処理装置
が提供される。According to the present invention, the processing liquid is supplied to the surface of the object to be processed which rotates inside the cup, and the processing liquid is scattered around the object to be processed by its centrifugal force. In the processing apparatus, there is provided a rotation processing apparatus including guide means for guiding the processing solution scattered around the object to be processed to the lower side of the cup by centrifugal force.
【０００９】この回転処理装置における上記案内手段
は、カップ内面に対して固定された静翼とすることがで
き、また、該静翼は、入口角が水平な曲面板で構成する
ことができる。The guide means in this rotation processing device may be a stationary blade fixed to the inner surface of the cup, and the stationary blade may be composed of a curved plate having a horizontal inlet angle.
【００１０】また本発明によれば、カップの内部におい
て回転する被処理体の表面に処理液を供給し、該処理液
をその遠心力によって被処理体の周囲に飛散させて処理
を行うものにおいて、被処理体と共に回転して被処理体
とカップとの間において下降気流を発生させる気流発生
手段を設けたことを特徴とする回転処理装置が併せて提
供される。According to the present invention, the treatment liquid is supplied to the surface of the object to be processed which rotates inside the cup, and the treatment liquid is scattered around the object to be processed by the centrifugal force to perform the treatment. There is also provided a rotation processing device characterized in that an airflow generating means for rotating with the object to be processed and generating a descending airflow between the object to be processed and the cup is provided.
【００１１】この回転処理装置にあっては、更に、上記
気流発生手段によって発生された下降気流をカップの下
方に案内する案内手段を設けることができる。そして、
上記気流発生手段は、上記被処理体と共に回転すること
によって下降気流を発生させる動翼とすることができ、
上記案内手段は、カップ内面に対して固定された静翼と
することができる。また、該静翼は、入口角が上記気流
発生手段によって発生された下降気流と平行な曲面板で
構成することができる。In this rotation processing device, it is possible to further provide guide means for guiding the descending airflow generated by the airflow generating means below the cup. And
The airflow generating means can be a moving blade that generates a downdraft by rotating together with the object to be processed,
The guide means may be a stationary blade fixed to the inner surface of the cup. Further, the stationary blade may be formed of a curved plate whose inlet angle is parallel to the descending airflow generated by the airflow generating means.
【００１２】[0012]
【作用】例えば半導体ウェハやＬＣＤ基板などの洗浄等
を行うスクラバの如き回転処理装置にあっては、カップ
の内部において被処理体を回転させてその上方から処理
液を供給し、被処理体の周囲に遠心力で処理液を飛散さ
せるようになっている。かかる回転処理装置にあっては
遠心力で被処理体の周囲に飛散した処理液が、ミストと
なってカップ内で浮遊し、それが再付着することによっ
て洗浄後の被処理体の表面清浄を劣化させる要因とな
る。In a rotation processing apparatus such as a scrubber for cleaning semiconductor wafers, LCD substrates, etc., for example, the object to be processed is rotated inside the cup and the processing liquid is supplied from above to rotate the object to be processed. The processing solution is scattered around by centrifugal force. In such a rotation processing apparatus, the processing liquid scattered around the object to be processed by centrifugal force becomes a mist and floats in the cup, and by reattaching it, the surface of the object to be cleaned after cleaning is cleaned. It causes deterioration.
【００１３】本発明者らは以上のようなＬＣＤ基板など
の洗浄等を回転処理によって行うカップの内面にタフト
と呼ばれる糸状のものを装着して、回転処理時において
カップ内で発生している気流の状況を調べ、被処理体の
周囲に飛散した処理液がどのような現象によってカップ
内でミストとなって浮遊するか、その原因の究明を行っ
た。その結果、遠心力で被処理体の周囲に飛散した処理
液は、カップ内面付近で上昇させられてミストとなって
再び被処理体の表面に落下するといった、カップ内にお
ける循環流が発生していることが分かった。The inventors of the present invention attach a thread-like material called a tuft to the inner surface of the cup for cleaning the LCD substrate or the like by the rotation process as described above, and generate an air flow in the cup during the rotation process. The situation was investigated, and the cause of the phenomenon of the processing liquid scattered around the object to be treated as a mist floating in the cup was investigated. As a result, the processing liquid scattered around the object to be processed due to the centrifugal force is raised near the inner surface of the cup to become a mist and drops again on the surface of the object to be processed, causing a circulating flow in the cup. I found out that
【００１４】そこで、本発明者らは上記のように、遠心
力によって被処理体の周囲に飛散された上記処理液をカ
ップの下方に案内する案内手段を設けるか、または、被
処理体と共に回転して被処理体とカップとの間において
下降気流を発生させる気流発生手段を設けることによっ
て、そのようなカップ内における循環流の発生を妨げる
こととした。かかる本発明によれば、被処理体の周囲に
遠心力によって飛散された処理液を案内手段で下方に案
内することにより、処理液がカップ内上方に舞い上がろ
うとすることを防ぐことができる。また、被処理体の周
囲に設けた気流発生手段を被処理体と共に回転させるこ
とによってカップ内において下降気流が発生し、この下
降気流により被処理体の周囲に飛散された処理液を下方
に排気することが可能になる。このように、本発明によ
れば被処理体の周囲に飛散された処理液を案内手段や気
流発生手段を用いて下方に強制排気することによってカ
ップ内における循環流の発生を防止でき、処理液が洗浄
後の被処理体の表面に再付着するといった問題を回避で
きるようになる。Therefore, as described above, the present inventors have provided a guide means for guiding the processing liquid scattered around the object to be processed to the lower side of the cup by the centrifugal force, or rotated with the object to be processed. Then, by providing an air flow generating means for generating a descending air flow between the object to be processed and the cup, the generation of the circulating flow in the cup is prevented. According to the present invention, by guiding the processing liquid scattered by the centrifugal force around the object to be processed downward by the guiding means, it is possible to prevent the processing liquid from trying to rise upward in the cup. Further, by rotating the airflow generating means provided around the object to be processed together with the object to be processed, a downward airflow is generated in the cup, and the processing liquid scattered around the object is exhausted downward by the downward airflow. It becomes possible to do. As described above, according to the present invention, it is possible to prevent the generation of a circulating flow in the cup by forcibly exhausting the processing liquid scattered around the object to be processed downward by using the guide means and the air flow generating means, and thus the processing liquid can be prevented. It becomes possible to avoid the problem of redeposition on the surface of the object to be processed after cleaning.
【００１５】[0015]
【実施例】以下に本発明の実施例を、被処理体の表面を
リンス液を用いて洗浄するスクラバに基づいて詳述す
る。図１はスクラバ１の断面図、図２はスクラバ１の平
面図、図３はスクラバ１が配置された処理システム２の
全体構成を示す斜視図である。EXAMPLES Examples of the present invention will be described in detail below with reference to a scrubber for cleaning the surface of an object to be treated with a rinse liquid. 1 is a cross-sectional view of the scrubber 1, FIG. 2 is a plan view of the scrubber 1, and FIG. 3 is a perspective view showing the overall configuration of a processing system 2 in which the scrubber 1 is arranged.
【００１６】まず、図３に示す処理システム２から説明
する。この処理システム２は、その一側に被処理体Ｗと
して例えば半導体ウェハを収容する複数のカセット１０
を載置可能に構成したキャリアステーション１１を有
し、キャリアステーション１１の中央部には被処理体Ｗ
の搬送及び位置決めを行うと共に被処理体Ｗを保持して
メンアーム１２との間で受け渡しを行う補助アーム１３
が設けられている。メインアーム１２は、処理システム
２の中央部を長手方向に移動可能に、２基直列に配置さ
れており、その移送路の両側には、現像装置１４その他
の各種処理装置が配置されている。First, the processing system 2 shown in FIG. 3 will be described. The processing system 2 includes a plurality of cassettes 10 each containing a semiconductor wafer as an object W to be processed on one side thereof.
Has a carrier station 11 configured to be capable of mounting a workpiece W on the center portion of the carrier station 11.
Auxiliary arm 13 for carrying and positioning the workpiece W and for holding the workpiece W and transferring it to and from the men arm 12.
Is provided. Two main arms 12 are arranged in series so as to be movable in the longitudinal direction in the central portion of the processing system 2, and a developing device 14 and other various processing devices are arranged on both sides of the transfer path.
【００１７】図示の処理システム２にあっては、キャリ
アステーション１１側の側方には、被処理体Ｗを回転さ
せながらその表面に例えば純水などのリンス液を供給す
ることによって被処理体Ｗの表面を洗浄するためのスク
ラバ１及び高圧ジェット水により被処理体Ｗを洗浄する
ための高圧ジェット洗浄機１６等が並設され、メインア
ーム１２の移送路を挟んで反対側に本発明実施例に係る
現像装置１４が二基並設され、その隣に二基の加熱装置
１７が積み重ねて設けられている。In the illustrated processing system 2, the object W to be processed is supplied to the side of the carrier station 11 by supplying a rinse liquid such as pure water to the surface of the object W while rotating the object W to be processed. A scrubber 1 for cleaning the surface of the main body and a high-pressure jet cleaning machine 16 for cleaning the object W with high-pressure jet water are provided side by side, and the embodiment of the present invention is provided on the opposite side of the transfer path of the main arm 12. Two developing devices 14 according to the above are installed side by side, and two heating devices 17 are stacked next to each other.
【００１８】これら機器の側方には、接続用ユニット１
８を介して、被処理体Ｗにレジストを塗布する前に被処
理体Ｗを疎水処理するアドヒージョン装置２０が設けら
れ、このアドヒージョン装置２０の下方には冷却用クー
リング装置２１が配置されている。また、これらアドヒ
ージョン装置２０及びクーリング装置２１の側方に加熱
装置２２が二列に二個づつ積み重ねられて配置される。
メインアーム１２の移送路を挟んで反対側には被処理体
Ｗにレジスト液を塗布するレジスト塗布装置２３が二台
並設されている。図示はしないが、これらレジスト塗布
装置２３の側部には、レジスト膜に所定の微細パターン
を露光するための露光装置等が設けられる。A connecting unit 1 is provided on the side of these devices.
An adhesion device 20 for hydrophobically treating the object W to be processed before applying a resist to the object W via 8 is provided, and a cooling device 21 for cooling is arranged below the adhesion device 20. Further, two heating devices 22 are arranged in two rows beside the adhesion device 20 and the cooling device 21.
On the opposite side of the main arm 12 across the transfer path, two resist coating devices 23 for coating the resist liquid on the workpiece W are installed in parallel. Although not shown, an exposure device and the like for exposing a predetermined fine pattern on the resist film is provided on the side of the resist coating device 23.
【００１９】以上のように構成された処理システム２に
組み込まれるスクラバ１の中心部には、図１、２に示す
ように、駆動モータ２５によって回転可能でかつ上下動
可能に構成されたスピンチャック２６が設けられ、この
スピンチャック２６の上面に被処理体Ｗを保持するよう
に構成されている。このスピンチャック２６の周囲を囲
うようにして、純水などのリンス液の飛散を防止するた
めの樹脂または金属からなる環状のカップ２７が設けら
れる。このカップ２７の上方２８は上にいくに従って狭
くなるように、内側に傾斜して設けられ、その上端開口
部２９の直径は被処理体Ｗをカップ２７内に挿入できる
大きさに形成されている。また、カップ２７の底部３０
は水平よりも若干傾斜して設けられ、この底部３０の最
下部には廃液配管３１が接続されると共に、その反対側
にはカップ２７内の雰囲気を排気するための排気配管３
２が接続されている。この底部３０には環状壁３３が立
設してあり、この環状壁３３の上端によって、上記スピ
ンチャック２６と一体的に回転する支持板３４が回転自
在に支持されている。この支持板３４の周辺部は外側に
向かって下方に傾斜するように構成されている。At the center of the scrubber 1 incorporated in the processing system 2 constructed as described above, as shown in FIGS. 1 and 2, a spin chuck rotatable and vertically movable by a drive motor 25. 26 is provided, and the object W to be processed is held on the upper surface of the spin chuck 26. An annular cup 27 made of resin or metal is provided so as to surround the spin chuck 26 and prevent the rinse liquid such as pure water from scattering. The upper portion 28 of the cup 27 is provided so as to be inclined inward so that the upper portion 28 becomes narrower as it goes upward, and the diameter of the upper end opening portion 29 is formed to a size such that the object W to be processed can be inserted into the cup 27. . Also, the bottom portion 30 of the cup 27
Is provided at a position slightly inclined with respect to the horizontal, a waste liquid pipe 31 is connected to the bottom of the bottom portion 30, and an exhaust pipe 3 for exhausting the atmosphere in the cup 27 is provided on the opposite side.
2 is connected. An annular wall 33 is erected on the bottom portion 30, and a support plate 34 that rotates integrally with the spin chuck 26 is rotatably supported by the upper end of the annular wall 33. The peripheral portion of the support plate 34 is configured to incline downward toward the outside.
【００２０】カップ２７の上部側方には、スピンチャッ
ク２６によって保持された被処理体Ｗ上にリンス液とし
て例えば純水を供給するためのリンス液ヘッダ４０が設
けられる。図４に示されるように、このリンス液ヘッダ
４０の下方に二つのリンス用ノズル４１、４１が垂設さ
れており、リンス液源４３からリンス液ヘッダ４０内に
供給されたリンス液がこれらリンス用ノズル４１、４１
から被処理体Ｗ上に吐き出されるように構成されてい
る。A rinse liquid header 40 for supplying, for example, pure water as a rinse liquid on the object W held by the spin chuck 26 is provided on the upper side of the cup 27. As shown in FIG. 4, two rinse nozzles 41, 41 are vertically provided below the rinse liquid header 40, and the rinse liquid supplied from the rinse liquid source 43 into the rinse liquid header 40 is rinsed. Nozzle 41, 41
It is configured to be discharged onto the object W to be processed.
【００２１】また、図２に示すようにカップ２７の前方
には、リンス液ヘッダ４０を被処理体Ｗの上方において
往復動させるための搬送レール４８が設けられ、このレ
ール４８に沿って把持アーム５０が移動自在に装着され
ている。把持アーム５０はエアーシリンダやステッピン
グモーター等によって駆動されるボールスクリュー、ベ
ルト式の移動機構によって移動し、上記リンス液ヘッダ
４０を把持して被処理体Ｗ上において移動させるように
構成される。なお、把持アーム５０は、エアーシリンダ
ー等を使用したメカニカルチャック機構や、真空吸着
式、電磁石式のチャック等により構成され、リンス液ヘ
ッダ４０を把持、挟持、吸着することが可能である。As shown in FIG. 2, a transport rail 48 for reciprocating the rinse liquid header 40 above the workpiece W is provided in front of the cup 27, and a gripping arm is provided along the rail 48. 50 is movably mounted. The gripping arm 50 is configured to be moved by a ball screw driven by an air cylinder, a stepping motor or the like, or a belt type moving mechanism to grip the rinse liquid header 40 and move the rinse liquid header 40 on the object W to be processed. The gripping arm 50 is composed of a mechanical chuck mechanism using an air cylinder or the like, a vacuum suction type chuck, an electromagnet type chuck, or the like, and is capable of gripping, holding, and sucking the rinse liquid header 40.
【００２２】そして、以上に説明した駆動モータ２５、
及びリンス液源４３を含む装置全体の制御は、例えばマ
イクロコンピュータ等よりなる制御部５１により行われ
る。Then, the drive motor 25 described above,
The control of the entire apparatus including the rinse liquid source 43 is performed by the control unit 51 including, for example, a microcomputer.
【００２３】しかして以上のように構成されるスクラバ
１にあっては、カップ２７の内部においてスピンチャッ
ク２６で被処理体Ｗを回転させ、その上方からリンス用
ノズル４１、４１でリンス液を供給することにより、リ
ンス液を被処理体Ｗの周囲に遠心力で飛散させるように
している。そこで本発明にあっては、そのように遠心力
によって被処理体Ｗの周囲に飛散されたリンス液をカッ
プ２７の下方に案内する案内手段を設けるか、もしく
は、被処理体Ｗと共に回転して被処理体Ｗとカップとの
間において下降気流を発生させる気流発生手段を設ける
ことにより、被処理体Ｗの周囲に飛散された処理液を下
方に強制排気する構成としたものである。以下にかかる
強制排気を行うための案内手段及び気流発生手段の具体
的な実施例を説明する。In the scrubber 1 constructed as described above, the object W to be processed is rotated by the spin chuck 26 inside the cup 27, and the rinse liquid is supplied from above by the rinse nozzles 41, 41. By doing so, the rinse liquid is spattered around the object W by centrifugal force. Therefore, in the present invention, a guide means for guiding the rinse liquid scattered around the object W to be processed by the centrifugal force to the lower side of the cup 27 is provided, or it is rotated together with the object W to be processed. By providing an airflow generating means for generating a descending airflow between the object W to be processed and the cup, the processing liquid scattered around the object W is forcibly discharged downward. Specific examples of the guide means and the air flow generating means for performing the forced exhaust will be described below.
【００２４】先ず、案内手段の実施例から説明する。図
５に示されるように、回転駆動されるスピンチャック２
６の上面に被処理体Ｗが保持されており、この被処理体
Ｗの周縁部と対向するカップ２７の内面に、案内手段と
しての静翼６０が設けられる。図６に示すように、静翼
６０は円筒形状をなすカップ２７の内面に複数設けられ
ている。図７に示すように、静翼６０の上端６１の入口
角は水平に設けられ、静翼６０は、この上端６１から被
処理体Ｗの回転進行方向６２に進むに従って次第に低く
なるような全体として曲面板で構成されている。First, an embodiment of the guide means will be described. As shown in FIG. 5, the spin chuck 2 is driven to rotate.
An object W to be processed is held on the upper surface of 6, and a stationary blade 60 as a guide is provided on the inner surface of the cup 27 facing the peripheral edge of the object W to be processed. As shown in FIG. 6, a plurality of vanes 60 are provided on the inner surface of the cup 27 having a cylindrical shape. As shown in FIG. 7, the inlet angle of the upper end 61 of the stationary vane 60 is provided horizontally, and the stationary vane 60 as a whole is gradually lowered from the upper end 61 in the rotation advancing direction 62 of the workpiece W. It is composed of a curved plate.
【００２５】さて、以上のように構成された実施例にお
いて、駆動モータ２５によってスピンチャック２６の上
面に保持している被処理体Ｗが回転されると、リンス用
ノズル４１、４１から被処理体Ｗの表面に供給されたリ
ンス液はその遠心力によって被処理体Ｗの周囲に飛散す
る。そして、該リンス液は液滴、あるいはミスト状にな
って被処理体Ｗの周縁部から回転接線方向に向かって飛
び出すこととなる。こうして被処理体Ｗの周縁部から回
転接線方向に向かって飛び出したリンス液の液滴等は、
次にカップ２７内面に設けられている静翼６０の裏面６
３に当接し、図７に示す矢印６４の方向に強制的にガイ
ドされてカップ２７内下方に排気されるようになる。In the embodiment configured as described above, when the object W to be processed which is held on the upper surface of the spin chuck 26 is rotated by the drive motor 25, the objects to be processed from the rinse nozzles 41, 41. The rinse liquid supplied to the surface of W is scattered around the object W by the centrifugal force. Then, the rinsing liquid becomes droplets or mist, and jumps out from the peripheral portion of the object W to be processed in the rotational tangential direction. In this way, the droplets of the rinse liquid and the like, which are ejected from the peripheral edge portion of the object W in the rotational tangential direction,
Next, the back surface 6 of the vane 60 provided on the inner surface of the cup 27
3 and is forcibly guided in the direction of the arrow 64 shown in FIG. 7 to be exhausted downward in the cup 27.
【００２６】次に、気流発生手段の実施例を説明する。
図８に示されるように、回転駆動されるスピンチャック
２６の上面に被処理体Ｗが保持されており、この被処理
体Ｗの下方に配置され、被処理体Ｗと一体的に回転する
支持板３４の周面に気流発生手段としての動翼７０が設
けられる。また、この動翼７０の下側に案内手段として
の静翼７１がカップ２７の内面に設けられている。更
に、この実施例においては、支持板３４の下方に形成さ
れた空間を埋めるための固定ブロック７２が設けてあ
る。図９に示すように、動翼７０は支持板３４の周面に
複数設けられており、各動翼７０の形状は、支持板３４
（被処理体Ｗ）の回転進行方向７３に進むに従って次第
に高くなるような全体として曲面板で構成されている。
なお、図９に示した実施例は動翼７０が比較的短い構成
のものであるが、図１０に示すように、支持板３４を平
面視した場合に相隣り合う動翼７０同士の上端７５と下
端７６を交互に重なり合わせるようにして、比較的長い
動翼７０を支持板３４の周面に配設する構成としても良
い。Next, an embodiment of the air flow generating means will be described.
As shown in FIG. 8, the object W to be processed is held on the upper surface of the spin chuck 26 that is rotationally driven, and is disposed below the object W to be processed and is supported integrally with the object W to rotate. A moving blade 70 serving as an airflow generating means is provided on the peripheral surface of the plate 34. Further, a stationary blade 71 as guide means is provided on the inner surface of the cup 27 below the moving blade 70. Further, in this embodiment, a fixing block 72 for filling a space formed below the support plate 34 is provided. As shown in FIG. 9, a plurality of moving blades 70 are provided on the peripheral surface of the support plate 34, and the shape of each moving blade 70 is the same as that of the support plate 34.
It is formed of a curved plate as a whole so as to gradually become higher as it goes in the rotation advancing direction 73 of the (processing target W).
In the embodiment shown in FIG. 9, the moving blades 70 have a relatively short configuration, but as shown in FIG. 10, the upper ends 75 of the moving blades 70 adjacent to each other when the support plate 34 is viewed in plan view. And the lower end 76 are alternately overlapped with each other, and the relatively long moving blade 70 may be arranged on the peripheral surface of the support plate 34.
【００２７】また、図示はしないが、先に説明した図６
のものと同様に、カップ２７の内面に複数の曲面板から
なる静翼７１を設けた構成になっている。但し、この実
施例の静翼７１の入口角θは支持板３４と共に回転する
動翼７０によって発生される下降気流の出口速度と平行
に形成されている。即ち、図１１に示すように、支持板
３４が被処理体Ｗと一体的に回転すると、動翼７０の作
用によって被処理体Ｗの周囲において下降気流が発生す
ることとなるが、この下降気流の動翼７０の下端７６に
おける出口速度ｖは、動翼７０の回転速度ｖ1と、動翼
７０の下面に沿って生ずる接線方向速度ｖ2との合成ベ
クトルによって表される。そこで実施例のものにおいて
は、この合成ベクトルとして表される出口速度ｖと水平
方向（即ち回転速度ｖ1）とのなす角度αと、上記静翼
７１の入口角θとを一致させることにより、動翼７０の
作用によって発生された下降気流が、スムーズに静翼７
１に侵入できるような構成になっている。Although not shown, the previously described FIG.
Similarly to the above, the inner surface of the cup 27 is provided with the stationary blades 71 formed of a plurality of curved plates. However, the inlet angle θ of the stationary blade 71 of this embodiment is formed parallel to the outlet velocity of the descending airflow generated by the moving blade 70 rotating together with the support plate 34. That is, as shown in FIG. 11, when the support plate 34 rotates integrally with the object W to be processed, a downward airflow is generated around the object W to be processed due to the action of the moving blade 70. The exit velocity v at the lower end 76 of the moving blade 70 is represented by a composite vector of the rotation speed v 1 of the moving blade 70 and the tangential speed v 2 generated along the lower surface of the moving blade 70. Therefore, in the embodiment, by making the angle α formed by the exit velocity v expressed as the composite vector and the horizontal direction (that is, the rotation velocity v 1 ) and the entrance angle θ of the stationary blade 71 coincide, The descending airflow generated by the action of the moving blades 70 smoothly moves to the stationary blades 7.
1 is configured so that it can enter.
【００２８】しかして、この実施例においては、駆動モ
ータ２５によって支持板３４と被処理体Ｗが一体的に回
転され、上記リンス用ノズル４１、４１から被処理体Ｗ
の表面に供給されたリンス液はその遠心力によって被処
理体Ｗの周囲に飛散する。そして、該リンス液は液滴、
あるいはミスト状になって被処理体Ｗの周縁部から回転
接線方向に向かって飛び出す。一方、支持板３４が被処
理体Ｗと一体的に回転することにより、支持板３４の周
面に設けられている動翼７０の作用によって被処理体Ｗ
の周囲において下降気流が発生する。かくして被処理体
Ｗの周縁部から飛散したリンス液の液滴等は、この下降
気流によって被処理体Ｗの周囲から下方に排気され、動
翼７０の下端７６から吐き出された後も、更にカップ２
７内面に設けられている静翼７１によって下方に強制的
にガイドされてカップ２７内下方に排気される。In this embodiment, however, the support plate 34 and the object W to be processed are integrally rotated by the drive motor 25, and the objects W to be processed from the rinse nozzles 41, 41.
The rinsing liquid supplied to the surface of is scattered around the object W by the centrifugal force. Then, the rinse liquid is a droplet,
Alternatively, it becomes a mist and jumps out from the peripheral edge of the object to be processed W in the rotational tangential direction. On the other hand, when the support plate 34 rotates integrally with the object W to be processed, the object W to be processed W is generated by the action of the moving blades 70 provided on the peripheral surface of the support plate 34.
A downdraft occurs around the. Thus, the rinse liquid droplets and the like scattered from the peripheral edge of the object to be processed W are exhausted downward from the periphery of the object to be processed W by this descending airflow, and are further discharged from the lower end 76 of the moving blade 70 even after the cup is discharged. Two
7 is forcedly guided downward by a vane 71 provided on the inner surface of the cup 7, and is exhausted downward in the cup 27.
【００２９】このように本発明の実施例のものによれ
ば、案内手段としての静翼６０や気流発生手段としての
動翼７０を設けたことにより、被処理体Ｗの周囲に飛散
されたリンス液を下方に強制排気することが可能とな
り、これによりリンス液がカップ内に上昇浮遊して洗浄
後の被処理体Ｗの表面に再付着するといった問題を回避
できるようになる。As described above, according to the embodiment of the present invention, since the stationary blade 60 as the guide means and the moving blade 70 as the air flow generating means are provided, the rinse scattered around the object W to be processed. It is possible to forcibly discharge the liquid downward, thereby avoiding the problem that the rinse liquid ascends and floats in the cup and reattaches to the surface of the object W to be cleaned after cleaning.
【００３０】以上、本発明の実施例をスクラバについて
説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、
種々の態様を採り得るものである。例えば、静翼や動翼
は図示のように曲面板としないで平板形状などに構成し
ても良い。また、図８では動翼と静翼の両方を設けたも
のを説明したが、必ずしも両方は必要ではなく、動翼と
静翼の何れか一方のみだけを設けるようにして本発明の
目的を達成することも可能である。更に、本発明の回転
処理装置を、例えば現像装置、塗布装置、乾燥装置、オ
ゾンのレジストストッパ、ＨＦ洗浄機など他の機種に適
用することもできる。Although the embodiment of the present invention has been described with respect to the scrubber, the present invention is not limited to this.
Various aspects can be adopted. For example, the stationary blades and the moving blades may not be curved plates as shown in the drawing but may be formed in a flat plate shape. Further, although FIG. 8 describes the case where both the moving blade and the stationary blade are provided, both of them are not always necessary, and only one of the moving blade and the stationary blade is provided to achieve the object of the present invention. It is also possible to do so. Further, the rotation processing device of the present invention can be applied to other models such as a developing device, a coating device, a drying device, an ozone resist stopper, and an HF cleaning machine.
【００３１】[0031]
【発明の効果】本発明によれば、被処理体の周囲に遠心
力によって飛散された処理液を被処理体の回転を利用す
ることによって下方に強制排気できるので、カップ内に
おける循環流の発生を排気ポンプなどといった特別な装
置を付加せずに効率よく防止でき、処理液が洗浄後の被
処理体の表面に再付着するといった問題を回避できるよ
うになる。従って、本発明によればウォーターマークや
パーティクルの付着といった問題のない、清浄な製品が
得られるようになる。更に、強制排気することによって
被処理体の乾燥効率を向上させることも可能である。According to the present invention, the processing liquid scattered around the object to be processed by centrifugal force can be forcibly discharged downward by utilizing the rotation of the object to be processed, so that a circulating flow is generated in the cup. Can be efficiently prevented without adding a special device such as an exhaust pump, and the problem that the treatment liquid redeposits on the surface of the object to be treated after cleaning can be avoided. Therefore, according to the present invention, it is possible to obtain a clean product free from problems such as watermarks and particle adhesion. Furthermore, it is possible to improve the drying efficiency of the object to be processed by forcibly exhausting it.
【図１】本発明の実施例を適用するスクラバの断面図FIG. 1 is a sectional view of a scrubber to which an embodiment of the present invention is applied.
【図２】同スクラバの平面図FIG. 2 is a plan view of the scrubber.
【図３】スクラバが配置された処理システムの全体構成
を示す斜視図FIG. 3 is a perspective view showing an overall configuration of a processing system in which a scrubber is arranged.
【図４】リンス液ヘッダの説明図FIG. 4 is an explanatory diagram of a rinse liquid header.
【図５】案内手段の実施例を示す断面図FIG. 5 is a sectional view showing an embodiment of guide means.
【図６】案内手段の実施例を示す斜視図FIG. 6 is a perspective view showing an embodiment of guide means.
【図７】案内手段の実施例を示す正面図FIG. 7 is a front view showing an embodiment of guide means.
【図８】気流発生手段の実施例を示す断面図FIG. 8 is a sectional view showing an embodiment of an air flow generating means.
【図９】気流発生手段の実施例を示す斜視図FIG. 9 is a perspective view showing an embodiment of an air flow generating means.
【図１０】比較的長い動翼とした気流発生手段の実施例
を示す平面図FIG. 10 is a plan view showing an embodiment of an airflow generating means having relatively long moving blades.
【図１１】動翼からの出口速度と静翼の入口角の関係を
示す正面図FIG. 11 is a front view showing the relationship between the outlet velocity from the moving blade and the inlet angle of the stationary blade.
Ｗ 被処理体 １ スクラバ ２６ スピンチャック ２９ カップ ４０ リンス液ヘッダ W Object 1 Scrubber 26 Spin chuck 29 Cup 40 Rinse liquid header
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 篠木 武虎 佐賀県鳥栖市西新町1375番地41 東京エレ クトロン九州株式会社熊本事業所内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Taketora Shinoki 1375-1375 Nishishinmachi, Tosu City, Saga Prefecture Tokyo Electron Kyushu Co., Ltd. Kumamoto Plant
Claims (8)
の表面に処理液を供給し、該処理液をその遠心力によっ
て被処理体の周囲に飛散させて処理を行うものにおい
て、遠心力によって被処理体の周囲に飛散された上記処
理液をカップの下方に案内する案内手段を設けたことを
特徴とする回転処理装置。1. A method in which a treatment liquid is supplied to the surface of an object to be processed which rotates inside a cup, and the treatment liquid is scattered around the object to be processed by the centrifugal force, whereby the object to be treated is centrifugally applied. A rotation processing apparatus comprising guide means for guiding the processing liquid scattered around the processing body to the lower side of the cup.
定された静翼であることを特徴とする請求項１に記載の
回転処理装置。2. The rotation processing device according to claim 1, wherein the guide means is a stationary blade fixed to the inner surface of the cup.
成されることを特徴とする請求項２に記載の回転処理装
置。3. The rotary processing device according to claim 2, wherein the stationary blade is formed of a curved plate having a horizontal entrance angle.
の表面に処理液を供給し、該処理液をその遠心力によっ
て被処理体の周囲に飛散させて処理を行うものにおい
て、被処理体と共に回転して被処理体とカップとの間に
おいて下降気流を発生させる気流発生手段を設けたこと
を特徴とする回転処理装置。4. A treatment liquid is supplied to the surface of an object to be processed that rotates inside a cup, and the treatment liquid is scattered around the object to be processed by the centrifugal force to perform the treatment. A rotation processing apparatus comprising: an airflow generating unit that rotates and generates a downflow airflow between the object to be processed and the cup.
に回転することによって下降気流を発生させる動翼であ
ることを特徴とする請求項４に記載の回転処理装置。5. The rotation processing apparatus according to claim 4, wherein the airflow generating means is a moving blade that generates a descending airflow by rotating together with the object to be processed.
れた下降気流をカップの下方に案内する案内手段を設け
たことを特徴とする請求項４または５に記載の回転処理
装置。6. The rotation processing apparatus according to claim 4, further comprising guide means for guiding the descending airflow generated by the airflow generating means below the cup.
定された静翼であることを特徴とする請求項６に記載の
回転処理装置。7. The rotation processing device according to claim 6, wherein the guide means is a stationary blade fixed to the inner surface of the cup.
によって発生された下降気流と平行な曲面板で構成され
ることを特徴とする請求項７に記載の回転処理装置。8. The rotation processing device according to claim 7, wherein the stationary vane is formed of a curved plate whose inlet angle is parallel to the descending airflow generated by the airflow generating means.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP06201317A JP3100108B2 (en) | 1994-08-03 | 1994-08-03 | Rotary processing equipment |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP06201317A JP3100108B2 (en) | 1994-08-03 | 1994-08-03 | Rotary processing equipment |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0845892A true JPH0845892A (en) | 1996-02-16 |
| JP3100108B2 JP3100108B2 (en) | 2000-10-16 |
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| JP (1) | JP3100108B2 (en) |
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1994
- 1994-08-03 JP JP06201317A patent/JP3100108B2/en not_active Expired - Fee Related
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| JP3100108B2 (en) | 2000-10-16 |
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