JPH0841326A - Composition for active optical waveguide, production of active optical waveguide therefrom and active optical waveguide - Google Patents
Composition for active optical waveguide, production of active optical waveguide therefrom and active optical waveguideInfo
- Publication number
- JPH0841326A JPH0841326A JP17496494A JP17496494A JPH0841326A JP H0841326 A JPH0841326 A JP H0841326A JP 17496494 A JP17496494 A JP 17496494A JP 17496494 A JP17496494 A JP 17496494A JP H0841326 A JPH0841326 A JP H0841326A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical waveguide
- active optical
- composition
- formula
- electro
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Optical Integrated Circuits (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、アクティブ光導波路用
組成物、これを用いたアクティブ光導波路の製造法及び
アクティブ光導波路に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a composition for active optical waveguide, a method for producing an active optical waveguide using the same, and an active optical waveguide.
【０００２】[0002]
【従来の技術】オプトエレクトロニクスＩＣ（ＯＥＩ
Ｃ）における光導波路には、従来からＬｉＮｂＯ3、Ｌ
ｉＴａＯ3、ＰＬＺＴ、Ｓｒ2Ｎｂ2Ｏ7等の無機材料が用
いられている。しかしながら、これらの材料は潮解性や
低い被破壊しきい値、さらには高誘電率のため応答速度
が遅く、そのため適用できる周波数帯域が限定される問
題点がある。これに対して有機高分子材料は、一般に潮
解性もなく被破壊しきい値が高いなど無機材料に比べて
優れているが、このような高分子材料は一般には配向性
がなく、このままでは電気光学効果を利用した光スイッ
チや変調素子等の材料として用いることができない。一
般に配向性のない高分子材料に対し、加熱しながら直流
電場を印加し配向させる、すなわち、ポーリング処理に
より電気光学効果を発現させる手法が用いられるが、ポ
ーリング後常温に戻し放置すること及び使用することに
よって配向が失われ、電気光学効果が消失する重大な問
題点がある。従来、高分子系光導波路材料としてポリメ
チルメタクリレート（ＰＭＭＡ）などが精力的に研究さ
れているが、ガラス転移温度（Tg）が１５０℃程度と低
くＯＥＩＣ製造中にかかる２００℃以上の温度において
ポーリングによって発現した配向性が完全に消失する問
題点がある。2. Description of the Related Art Optoelectronic ICs (OEI)
The optical waveguide in C) is conventionally made of LiNbO 3 , L
Inorganic materials such as iTaO 3 , PLZT, Sr 2 Nb 2 O 7 are used. However, these materials have a problem that the response speed is slow due to deliquescent property, low threshold value for destruction, and high dielectric constant, which limits the applicable frequency band. On the other hand, organic polymer materials are generally superior to inorganic materials in that they have no deliquescent property and have a high threshold value for destruction, but such polymer materials generally have no orientation, and as-is It cannot be used as a material for optical switches and modulators that utilize the optical effect. In general, a polymer material having no orientation is applied with a DC electric field while being heated to orient, that is, a method of expressing an electro-optical effect by a poling treatment is used. As a result, the orientation is lost and the electro-optic effect is lost, which is a serious problem. Conventionally, polymethylmethacrylate (PMMA), etc., has been vigorously studied as a polymer-based optical waveguide material, but the glass transition temperature (Tg) is as low as about 150 ° C, and poling is performed at a temperature of 200 ° C or higher required during OEIC manufacturing. However, there is a problem that the orientation generated by the above is completely lost.
【０００３】[0003]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記のよう
な従来技術の問題点に鑑みてなされたものであり、耐熱
性、電気光学効果に優れ、広い周波数帯域に適用できる
アクティブ光導波路用組成物、これを用いたアクティブ
光導波路の製造法及びアクティブ光導波路を提供するも
のである。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the problems of the prior art as described above, and is excellent in heat resistance and electro-optical effect and for an active optical waveguide applicable to a wide frequency band. The present invention provides a composition, a method for producing an active optical waveguide using the composition, and an active optical waveguide.
【０００４】[0004]
【課題を解決するための手段】本発明は、フッ素化ポリ
アミド酸及び電気光学材料を含むアクティブ光導波路用
組成物であって、電気光学材料が一般式（Ｉ）The present invention is a composition for an active optical waveguide containing a fluorinated polyamic acid and an electro-optical material, wherein the electro-optical material has the general formula (I).
【化６】 （式中、Ａｚはピロール環、インドール環又はベンズイ
ミダゾール環を示し、ｎは１又は２である）で表される
化合物であるアクティブ光導波路用組成物に関する。[Chemical 6] (In the formula, Az represents a pyrrole ring, an indole ring or a benzimidazole ring, and n is 1 or 2.) The present invention relates to a composition for active optical waveguide.
【０００５】また、本発明は、上記アクティブ光導波路
用組成物中のフッ素化ポリアミド酸を、イミド閉環して
フッ素化ポリイミドとし、電気光学材料を配向させるこ
とを特徴とするアクティブ光導波路の製造法に関する。Further, according to the present invention, the method for producing an active optical waveguide is characterized in that the fluorinated polyamic acid in the composition for active optical waveguide is imide ring-closed to give a fluorinated polyimide, and the electro-optical material is oriented. Regarding
【０００６】また、本発明は、上記アクティブ光導波路
の製造法により製造されたアクティブ光導波路に関す
る。The present invention also relates to an active optical waveguide manufactured by the method for manufacturing an active optical waveguide described above.
【０００７】以下本発明を詳細に説明する。本発明に用
いられるフッ素化ポリアミド酸は、フルオロ基、フルオ
ロアルキル基等を有するポリアミド酸であり、通常のポ
リアミド酸の製造と同様な条件で製造でき、一般的には
Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセト
アミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドなどの極性有機
溶媒中で、少なくとも一方がフルオロ基、フルオロアル
キル基で置換されたジアミンとテトラカルボン酸又はそ
の誘導体とを反応させて製造することができる。フルオ
ロ基、フルオロアルキル基等で置換されたジアミンとし
ては、例えば、３−フルオロ−１、２−フェニレンジア
ミン、４−フルオロ−１、２−フェニレンジアミン、
３、４−ジフルオロ−１、２−フェニレンジアミン、３
−フルオロ−１、３−フェニレンジアミン、４−フルオ
ロ−１、３−フェニレンジアミン、３、４−ジフルオロ
−１、３−フェニレンジアミン、３−フルオロ−１、４
−フェニレンジアミン、４−フルオロ−１、４−フェニ
レンジアミン、３、４−ジフルオロ−１、４−フェニレ
ンジアミン、３−トリフルオロメチル−１、２−フェニ
レンジアミン、４−トリフルオロメチル−１、２−フェ
ニレンジアミン、３−トリフルオロメチル−１、３−フ
ェニレンジアミン、４−トリフルオロメチル−１、３−
フェニレンジアミン、３−トリフルオロメチル−１、４
−フェニレンジアミン、４−トリフルオロメチル−１、
４−フェニレンジアミン、２、２′−（ビストリフルオ
ロメチル）−４、４′−ジアミノビフェニル、２、２′
−ジフルオロ−４、４′−ジアミノビフェニル等が挙げ
られる。The present invention will be described in detail below. The fluorinated polyamic acid used in the present invention is a polyamic acid having a fluoro group, a fluoroalkyl group, etc., and can be produced under the same conditions as in the production of ordinary polyamic acid, and generally N-methyl-2-pyrrolidone is used. , N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide and the like, in a polar organic solvent, at least one of which is substituted with a fluoro group or a fluoroalkyl group, and a tetracarboxylic acid or a derivative thereof is reacted. be able to. Examples of the diamine substituted with a fluoro group, a fluoroalkyl group or the like include 3-fluoro-1,2-phenylenediamine, 4-fluoro-1,2-phenylenediamine,
3,4-difluoro-1,2-phenylenediamine, 3
-Fluoro-1,3-phenylenediamine, 4-fluoro-1,3-phenylenediamine, 3,4-difluoro-1,3-phenylenediamine, 3-fluoro-1,4
-Phenylenediamine, 4-fluoro-1,4-phenylenediamine, 3,4-difluoro-1,4-phenylenediamine, 3-trifluoromethyl-1,2-phenylenediamine, 4-trifluoromethyl-1,2 -Phenylenediamine, 3-trifluoromethyl-1,3-phenylenediamine, 4-trifluoromethyl-1,3-
Phenylenediamine, 3-trifluoromethyl-1,4
-Phenylenediamine, 4-trifluoromethyl-1,
4-Phenylenediamine, 2,2 '-(bistrifluoromethyl) -4,4'-diaminobiphenyl, 2,2'
-Difluoro-4,4'-diaminobiphenyl and the like.
【０００８】またフルオロ基、フルオロアルキル基等で
置換されたテトラカルボン酸やその誘導体としての酸無
水物、酸塩化物、エステル化物としては、例えば、１−
フルオロピロメリット酸、１、４−ジフルオロピロメリ
ット酸、１−トリフルオロメチルピロメリット酸、２、
２−ビス（２、３−ジカルボキシフェニル）−ヘキサフ
ルオロプロパン、１、４−ビス（３、４−ジカルボキシ
トリフルオロフェノキシ）テトラフルオロベンゼン、
２、２′−ジフルオロ−３、３′、４、４′−ビフェニ
ルテトラカルボン酸、２、２′−ビス（トリフルオロメ
チル）−３、３′、４、４′−ビフェニルテトラカルボ
ン酸やこれらの酸無水物、酸塩化物、エステル化物等が
挙げられる。なお、上記以外のフルオロ基、フルオロア
ルキル基等で置換されていないジアミンやテトラカルボ
ン酸及びその誘導体を本発明の目的を阻害しない範囲で
用いてもよい。The tetracarboxylic acid substituted with a fluoro group, a fluoroalkyl group or the like, or an acid anhydride, an acid chloride or an ester compound as a derivative thereof is, for example, 1-
Fluoropyromellitic acid, 1,4-difluoropyromellitic acid, 1-trifluoromethylpyromellitic acid, 2,
2-bis (2,3-dicarboxyphenyl) -hexafluoropropane, 1,4-bis (3,4-dicarboxytrifluorophenoxy) tetrafluorobenzene,
2,2'-difluoro-3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic acid, 2,2'-bis (trifluoromethyl) -3,3', 4,4'-biphenyltetracarboxylic acid and these Acid anhydrides, acid chlorides, ester compounds, and the like. It should be noted that diamines or tetracarboxylic acids and their derivatives which are not substituted with fluoro groups, fluoroalkyl groups and the like other than the above may be used within the range not impairing the object of the present invention.
【０００９】本発明におけるフッ素化ポリアミド酸は、
電気光学効果、耐熱性等の点から、イミド閉環してフッ
素化ポリイミドとなった時、屈折率が１．４〜１．９
（５８９nm）、誘電率が２．６〜３．５（１MHz）及び
ガラス転移温度（Tg）が３００℃以上となるものが好ま
しい。The fluorinated polyamic acid in the present invention is
From the viewpoint of electro-optical effect, heat resistance, etc., when the imide ring-closes to give a fluorinated polyimide, the refractive index is 1.4 to 1.9.
(589 nm), a dielectric constant of 2.6 to 3.5 (1 MHz) and a glass transition temperature (Tg) of 300 ° C. or higher are preferable.
【００１０】本発明におけるフッ素化ポリアミド酸は、
電気光学効果、耐熱性等の点から、式（II−１）The fluorinated polyamic acid in the present invention is
From the viewpoint of electro-optic effect, heat resistance, etc., formula (II-1)
【化７】 で表される繰り返し単位及び式（II−２）[Chemical 7] A repeating unit represented by the formula (II-2)
【化８】 で表される繰り返し単位の少なくとも１つと式（III−
１）Embedded image Of at least one repeating unit represented by the formula (III-
1)
【化９】 で表される繰り返し単位及び式（III−２）[Chemical 9] A repeating unit represented by the formula (III-2)
【化１０】 で表される繰り返し単位の少なくとも１つとを有するフ
ッ素化ポリアミド酸であることが好ましい。[Chemical 10] A fluorinated polyamic acid having at least one repeating unit represented by
【００１１】フッ素化ポリアミド酸中に前記式（II−
１）で表される繰り返し単位又は前記式（II−２）で表
される繰り返し単位を与えるには、例えば、ジアミンと
して２，２′−（ビストリフルオロメチル）−４，４′
−ジアミノビフェニルを用い、テトラカルボン酸無水物
としてピロメリット酸無水物を用いればよい。The above formula (II-
To provide the repeating unit represented by 1) or the repeating unit represented by the formula (II-2), for example, 2,2 ′-(bistrifluoromethyl) -4,4 ′ as a diamine
-Diaminobiphenyl may be used, and pyromellitic acid anhydride may be used as the tetracarboxylic acid anhydride.
【００１２】フッ素化ポリアミド酸中に前記式（III−
１）で表される繰り返し単位又は前記式（III−２）で
表される繰り返し単位を与えるには、例えば、ジアミン
として２，２′−（ビストリフルオロメチル）−４，
４′−ジアミノビフェニルを用い、テトラカルボン酸無
水物として２，２′−ビス（トリフルオロメチル）−
３，３′，４，４′−ビフェニルテトラカルボン酸無水
物を用いればよい。[0012] The above formula (III-
To provide the repeating unit represented by 1) or the repeating unit represented by the above formula (III-2), for example, 2,2 ′-(bistrifluoromethyl) -4, as a diamine,
4,2'-bis (trifluoromethyl)-as a tetracarboxylic acid anhydride using 4'-diaminobiphenyl
3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic acid anhydride may be used.
【００１３】本発明におけるフッ素化ポリアミド酸をイ
ミド閉環させることにより得られるフッ素化ポリイミド
の屈折率は、使用するジアミンやテトラカルボン酸及び
その誘導体の種類と使用量を適宜選択することにより容
易に調整することができる。例えば、フッ素化ポリアミ
ド酸において前記式（II−１）で表される繰り返し単位
又は前記式（II−２）で表される繰り返し単位の含有量
を増やすと、得られるフッ素化ポリイミドの屈折率を増
大させることができる。一方、フッ素化ポリアミド酸に
おいて前記式（III−１）で表される繰り返し単位又は
前記式（III−２）で表される繰り返し単位の含有量を
増やすと、得られるフッ素化ポリイミドの屈折率を減少
させることができる。The refractive index of the fluorinated polyimide obtained by subjecting the fluorinated polyamic acid in the present invention to imide ring closure can be easily adjusted by appropriately selecting the type and amount of the diamine or tetracarboxylic acid and its derivative to be used. can do. For example, when the content of the repeating unit represented by the formula (II-1) or the repeating unit represented by the formula (II-2) in the fluorinated polyamic acid is increased, the refractive index of the obtained fluorinated polyimide is increased. Can be increased. On the other hand, when the content of the repeating unit represented by the formula (III-1) or the repeating unit represented by the formula (III-2) in the fluorinated polyamic acid is increased, the refractive index of the obtained fluorinated polyimide is increased. Can be reduced.
【００１４】本発明においては、ジアミンやテトラカル
ボン酸又はその誘導体は、単一で用いるばかりでなく、
複数のジアミンやテトラカルボン酸又はその誘導体を組
み合わせて用いることができる。その場合は、複数又は
単一のジアミンのモル数の合計と複数または単一のテト
ラカルボン酸又はその誘導体のモル数の合計が等しいか
ほぼ等しくなるようにすることが好ましい。ジアミンと
テトラカルボン酸又はその誘導体の反応により得られた
フッ素化ポリアミド酸の溶液において、その溶液の固形
分濃度は５〜４０重量％、特に１０〜２５重量％である
ことが好ましい。また、フッ素化ポリアミド酸は、固形
分濃度１５重量％のとき、そのｎ−メチル−２−ピロリ
ドン溶液の回転粘度（２０℃）が、２０００〜８０００
mPa・sであるものが好ましく、４０００〜６０００mPa・s
であるものがより好ましい。In the present invention, the diamine, tetracarboxylic acid or its derivative is not only used alone but
A plurality of diamines, tetracarboxylic acids or their derivatives can be used in combination. In that case, it is preferable that the total number of moles of a plurality or single diamine and the total number of moles of a plurality or single tetracarboxylic acid or its derivative are equal or almost equal. In the solution of the fluorinated polyamic acid obtained by the reaction of the diamine and the tetracarboxylic acid or its derivative, the solid content concentration of the solution is preferably 5 to 40% by weight, particularly 10 to 25% by weight. Further, when the solid content of the fluorinated polyamic acid is 15% by weight, the rotational viscosity (20 ° C.) of the n-methyl-2-pyrrolidone solution is 2000 to 8000.
It is preferably mPa · s, 4000 to 6000 mPa · s
Is more preferable.
【００１５】本発明におけるフッ素化ポリイミドは、電
気光学効果、耐熱性等の点から、下記式（II）The fluorinated polyimide of the present invention has the following formula (II) from the viewpoint of electro-optical effect, heat resistance and the like.
【化１１】 で表される繰り返し単位及び下記式（III）[Chemical 11] And a repeating unit represented by the following formula (III)
【化１２】 で表される繰り返し単位を有するフッ素化ポリイミドで
あることが好ましい。[Chemical 12] A fluorinated polyimide having a repeating unit represented by
【００１６】本発明における電気光学材料は、耐熱性及
び電気光学効果の点から、一般式（Ｉ）The electro-optical material in the present invention has the general formula (I) from the viewpoint of heat resistance and electro-optical effect.
【化１３】 （式中、Ａｚはピロール環、インドール環又はベンズイ
ミダゾール環を示し、ｎは１又は２である）で表される
化合物とされる。[Chemical 13] (In the formula, Az represents a pyrrole ring, an indole ring, or a benzimidazole ring, and n is 1 or 2.).
【００１７】この一般式（Ｉ）で表される化合物として
は、例えば、以下のような化合物が列挙できる。Examples of the compound represented by the general formula (I) include the following compounds.
【００１８】[0018]
【化１７】 [Chemical 17]
【００１９】前記一般式（Ｉ）で表される化合物は、以
下の反応式に基づいて合成することができる。The compound represented by the general formula (I) can be synthesized based on the following reaction formula.
【化１８】 （式中、Ａｚ−Ｈは、ピロール、インドール又はベンズ
イミダゾールを示し、ｎは１又は２である） 例えば、Ａｚ−Ｈを１，４−ジオキサンに加え、次いで
Ａｚ−Ｈとほぼ等モルのニトロフェニルスルフェニルク
ロリドを加え、これにトリエチルアミンを少しずつ加え
た後、１〜２時間室温で反応させることにより、一般式
（Ｉ）で表される化合物を得ることができる。Embedded image (In the formula, Az-H represents pyrrole, indole, or benzimidazole, and n is 1 or 2.) For example, Az-H is added to 1,4-dioxane, and then nitro of about equimolar to Az-H is added. Phenylsulfenyl chloride is added, triethylamine is added little by little, and the mixture is reacted at room temperature for 1 to 2 hours to obtain a compound represented by the general formula (I).
【００２０】本発明のアクティブ光導波路用組成物は、
例えば、フッ素化ポリアミド酸の極性有機溶媒溶液に電
気光学材料を加えて撹拌等により混合することにより容
易に製造することができる。この際、電気光学材料の使
用量は、フッ素化ポリアミド酸１００重量部に対して
０．１〜１０重量部の範囲とすることが好ましく、０．
５〜５重量部とすることがより好ましく、０．５〜３重
量部とすることが特に好ましい。この使用量が少なすぎ
ても多すぎても、電気光学特性、その他の光学特性、機
械特性、安定性、作業性等が劣る傾向がある。本発明の
アクティブ光導波路用組成物には、フッ素化ポリアミド
酸以外のポリマー（例えば、フッ素原子を含んでいない
ポリアミド酸、液晶ポリエステル等の液晶性ポリマ
ー）、ピンホール防止剤、レベリング剤、可塑剤、密着
性向上剤等の添加剤などを含ませることができる。The composition for active optical waveguide of the present invention is
For example, it can be easily produced by adding an electro-optical material to a polar organic solvent solution of fluorinated polyamic acid and mixing them by stirring or the like. At this time, the amount of the electro-optical material used is preferably in the range of 0.1 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the fluorinated polyamic acid, and is preferably 0.1.
The amount is more preferably 5 to 5 parts by weight, and particularly preferably 0.5 to 3 parts by weight. If the amount used is too small or too large, electro-optical properties, other optical properties, mechanical properties, stability, workability, etc. tend to be poor. The composition for active optical waveguide of the present invention includes a polymer other than fluorinated polyamic acid (for example, polyamic acid containing no fluorine atom, liquid crystalline polymer such as liquid crystal polyester), pinhole inhibitor, leveling agent, plasticizer. An additive such as an adhesion improver can be included.
【００２１】本発明のアクティブ光導波路について説明
する。本発明のアクティブ光導波路は、例えば、光マト
リックススイッチ、変調器、光偏光器、光アイソレータ
ー等に用いられる。光マトリックススイッチ、変調器の
基本形態を図１に示す。光導波路の形成においては、一
般的な製膜法、例えば、スピンコート法、浸漬法、ドク
ターブレード法、ワイヤーバー法、ローラー法、スプレ
ー法等を用いることができる。光導波路のコア材とクラ
ッド材の選択は、光の波長、使用用途に適した屈折率の
差になるようにすればよい。The active optical waveguide of the present invention will be described. The active optical waveguide of the present invention is used, for example, in optical matrix switches, modulators, optical polarizers, optical isolators, and the like. The basic form of the optical matrix switch and modulator is shown in FIG. In forming the optical waveguide, a general film forming method, for example, a spin coating method, a dipping method, a doctor blade method, a wire bar method, a roller method, a spray method or the like can be used. The core material and the clad material of the optical waveguide may be selected so that the difference between the wavelength of light and the refractive index suitable for the intended use.
【００２２】本発明のアクティブ光導波路は、アクティ
ブ光導波路用組成物を、例えば、シリコン基板上にスピ
ンコートし、窒素雰囲気下で加熱処理しアクティブ光導
波路用組成物中のフッ素化ポリアミド酸をイミド閉環し
てフッ素化ポリイミドとし、電気光学材料を配向させる
ことにより形成することができる。例えば、アクティブ
光導波路の一態様である方向性結合器型光スイッチの製
造について図２を参照しつつ説明する。１は基板、２は
下部電極、３は下部クラッド層、４はコア層、５はアル
ミニウム層、６はレジスト層、７は上部クラッド層、８
は上部電極を意味する。シリコン等の基板の上にアルミ
ニウム等の下部電極２を蒸着法やスパッタ法等により作
製し、次に本発明のアクティブ光導波路用組成物からな
るコア層４よりも屈折率の小さい、本発明のアクティブ
光導波路用組成物における二つの必須構成要素の内の一
つの構成要素であるフッ素化ポリイミドで構成される下
部クラッド層３を形成する。この上に本発明のアクティ
ブ光導波路用組成物（電気光学材料及びフッ素化ポリア
ミド酸を必須構成成分として含む）を所定の厚さに塗布
し、加熱キュアすることによりコア層４を得る。次に蒸
着法等によりアルミニウム層５をつけた後に、レジスト
塗布、プリベーク、露光、現像、アフターベークを行な
い、パターニングされたレジスト層６を得る。レジスト
層６により保護されていないアルミニウムをウェットエ
ッチングにより除去した後、アルミニウム層５で保護さ
れていないコア層４のポリイミド層をドライエッチング
により除去する。残ったアルミニウム層６をウェットエ
ッチングで除去し、この上に前記下部クラッド層３形成
に用いたポリイミドを用いて上部クラッド層７を形成す
る。最後にマスクパターンを通して所定のコア層４の上
に上部電極８を蒸着法やスパッタ法等により形成し方向
性結合器型光スイッチが得られる。In the active optical waveguide of the present invention, the composition for active optical waveguide is spin-coated on, for example, a silicon substrate and heat-treated in a nitrogen atmosphere to imidate the fluorinated polyamic acid in the composition for active optical waveguide. It can be formed by ring closure to give a fluorinated polyimide and orienting the electro-optic material. For example, manufacturing of a directional coupler type optical switch, which is one mode of the active optical waveguide, will be described with reference to FIG. 1 is a substrate, 2 is a lower electrode, 3 is a lower clad layer, 4 is a core layer, 5 is an aluminum layer, 6 is a resist layer, 7 is an upper clad layer, 8
Means the upper electrode. A lower electrode 2 of aluminum or the like is formed on a substrate of silicon or the like by a vapor deposition method, a sputtering method, or the like, and then has a smaller refractive index than the core layer 4 made of the active optical waveguide composition of the present invention. A lower clad layer 3 composed of fluorinated polyimide, which is one of the two essential components in the composition for active optical waveguide, is formed. A core layer 4 is obtained by applying the active optical waveguide composition of the present invention (containing an electro-optical material and a fluorinated polyamic acid as essential constituents) to a predetermined thickness and heating and curing the composition. Next, after applying the aluminum layer 5 by a vapor deposition method or the like, resist coating, pre-baking, exposure, development and after-baking are performed to obtain a patterned resist layer 6. After aluminum which is not protected by the resist layer 6 is removed by wet etching, the polyimide layer of the core layer 4 which is not protected by the aluminum layer 5 is removed by dry etching. The remaining aluminum layer 6 is removed by wet etching, and an upper clad layer 7 is formed thereon by using the polyimide used for forming the lower clad layer 3. Finally, an upper electrode 8 is formed on a predetermined core layer 4 through a mask pattern by a vapor deposition method, a sputtering method, or the like to obtain a directional coupler type optical switch.
【００２３】前記アクティブ光導波路中のコア層に含ま
れる電気光学材料を配向させるには、ポーリング処理等
を行なえばよい。例えば、電場を印加しながら加熱して
イミド閉環によるイミド化を行ないながら、同時に電気
光学材料を配向させることができる。電場の印加方法に
は、電極を設けて行なう方法、コロナ放電で表面を帯電
させる方法等が挙げられる。電場の強さは、１０5V/cm
とすることが好ましく、１０6V/cm以上とすることがよ
り好ましい。また、イミド閉環によるイミド化を行ない
最終的な構造であるフッ素化ポリイミドとした後に、こ
れに電場を加えてTg以上の温度に加熱して電気光学材料
を配向させることもできる。導波路は、通常、１０μｍ
〜１５μｍ幅で、３μｍ〜４μｍの高さで形成され、パ
タ−ン間隔は、２μｍ〜３μｍ程度である。In order to orient the electro-optical material contained in the core layer in the active optical waveguide, poling treatment or the like may be performed. For example, it is possible to orient the electro-optical material at the same time while heating while applying an electric field to perform imidization by imide ring closure. Examples of the method of applying the electric field include a method of providing an electrode and a method of charging the surface by corona discharge. The strength of the electric field is 10 5 V / cm
And more preferably 10 6 V / cm or more. It is also possible to orient the electro-optical material by applying an electric field to this and heating it to a temperature of Tg or higher after imidizing by imide ring closure to give a final structure of fluorinated polyimide. Waveguide is usually 10 μm
The width is about 15 μm and the height is about 3 μm to 4 μm. The pattern interval is about 2 μm to 3 μm.
【００２４】本発明においては、プラスチック中で最も
高い耐熱性を有するフッ素化ポリイミドが光導波路のコ
ア層、クラッド層のいずれかまたは両者に用いられる。
また、耐熱性に優れる電気光学材料である一般式（Ｉ）
で表される化合物が前記フッ素化ポリイミド中に含有さ
れる。In the present invention, the fluorinated polyimide having the highest heat resistance among plastics is used for either or both of the core layer and the clad layer of the optical waveguide.
In addition, the general formula (I), which is an electro-optical material having excellent heat resistance,
The compound represented by is contained in the fluorinated polyimide.
【００２５】[0025]
【実施例】以下、本発明を実施例によりさらに詳細に説
明するが、本発明は、以下の実施例に限定されるもので
はない。EXAMPLES The present invention will be described in more detail with reference to examples below, but the present invention is not limited to the following examples.
【００２６】製造例１ ２−（４−ニトロフェニルチオ）ピロール（化合物１）
の合成 ピロール２．４ml（２．３ｇ、３４．６mmol）をエルレ
ンマイヤーフラスコに採取し、１，４−ジオキサン５０
mlと混合し、撹拌しながら４−ニトロベンゼンスルフェ
ニルクロリド５．７ｇ（３０．１mmol）を加え、トリエ
チルアミン６．０ml（４．４ｇ、４３．０mmol）を少し
ずつ加えた後、１時間室温で撹拌した。次いで、反応液
を減圧濃縮し、残査を真空乾燥した後、少量のエタノー
ルに溶解し、この溶液に水４００mlを滴下しながら加
え、析出した粗結晶を吸引ろ過によりろ取し、多量の水
でよく洗浄する。この粗結晶を真空乾燥した後、エタノ
ール及びトルエン等の溶媒から再結晶し、目的物（化合
物１）を得た。Production Example 1 2- (4-nitrophenylthio) pyrrole (Compound 1)
Synthesis of pyrrole 2.4 ml (2.3 g, 34.6 mmol) was collected in an Erlenmeyer flask and 1,4-dioxane 50 was added.
After mixing with ml and stirring, 5.7 g (30.1 mmol) of 4-nitrobenzenesulfenyl chloride was added, and 6.0 ml (4.4 g, 43.0 mmol) of triethylamine was added little by little, followed by stirring at room temperature for 1 hour. did. Then, the reaction solution was concentrated under reduced pressure, the residue was dried under vacuum, dissolved in a small amount of ethanol, 400 ml of water was added dropwise to this solution, and the precipitated crude crystals were collected by suction filtration to obtain a large amount of water. Wash well with. The crude crystals were dried under vacuum and then recrystallized from a solvent such as ethanol and toluene to obtain the desired product (Compound 1).
【００２７】製造例２ ２−（２，４−ジニトロフェニルチオ）ピロール（化合
物２）の合成 製造例１において、４−ニトロベンゼンスルフェニルク
ロリドを２，４−ジニトロベンゼンスルフェニルクロリ
ド７．０ｇ（２９．８mmol）に代えた以外は、製造例１
と同様の方法で、目的物（化合物２）を得た。Production Example 2 Synthesis of 2- (2,4-dinitrophenylthio) pyrrole (Compound 2) In Production Example 1, 4-nitrobenzenesulfenyl chloride was replaced with 7.0 g (29 g) of 2,4-dinitrobenzenesulfenyl chloride. Production Example 1 except that the amount was changed to 0.8 mmol).
The target product (Compound 2) was obtained in the same manner as in (1) above.
【００２８】製造例３ ３−（４−ニトロフェニルチオ）インドール（化合物
３）の合成 製造例１において、ピロールをインドール４．０ｇ（３
４．１mmol）に代えた以外は、製造例１と同様の方法
で、目的物（化合物３）を得た。Production Example 3 Synthesis of 3- (4-nitrophenylthio) indole (Compound 3) In Production Example 1, pyrrole was added to indole (4.0 g, 3).
The target product (Compound 3) was obtained in the same manner as in Production Example 1 except that the amount was changed to 4.1 mmol).
【００２９】製造例４ ３−（２，４−ジニトロフェニルチオ）インドール（化
合物４）の合成 製造例３において、４−ニトロベンゼンスルフェニルク
ロリドを２，４−ジニトロベンゼンスルフェニルクロリ
ド７．０ｇ（２９．８mmol）に代えた以外は、製造例３
と同様の方法で、目的物（化合物４）を得た。Production Example 4 Synthesis of 3- (2,4-dinitrophenylthio) indole (Compound 4) In Production Example 3, 4-nitrobenzenesulfenyl chloride was replaced with 7.0 g (29%) of 2,4-dinitrobenzenesulfenyl chloride. Production Example 3 except that the amount was changed to 0.8 mmol).
The target product (Compound 4) was obtained by the same method as described above.
【００３０】製造例５ ２−（４−ニトロフェニルチオ）ベンズイミダゾール
（化合物５）の合成 ２−メルカプトベンズイミダゾール４．５ｇ（３０．０
mmol）と水酸化ナトリウム１．４ｇ（３５．０mmol）を
エタノール３０mlに溶解し、１−クロロ−４−ニトロピ
リジン４．７ｇ（２９．８mmol）を少しずつ加えた後、
３時間加熱撹拌した。放冷後、この溶液に塩化アンモニ
ウム２．０ｇ（３７．４mmol）を溶解した水４００mlを
滴下しながら加え、析出した粗結晶を吸引ろ過によりろ
取し、多量の水でよく洗浄する。この粗結晶を真空乾燥
した後、エタノール及びトルエン等の溶媒から再結晶
し、目的物（化合物５）を得た。Production Example 5 Synthesis of 2- (4-nitrophenylthio) benzimidazole (Compound 5) 2-mercaptobenzimidazole 4.5 g (30.0
mmol) and 1.4 g (35.0 mmol) of sodium hydroxide in 30 ml of ethanol and 4.7 g (29.8 mmol) of 1-chloro-4-nitropyridine was added little by little,
The mixture was heated and stirred for 3 hours. After allowing to cool, to this solution was added dropwise 400 ml of water in which 2.0 g (37.4 mmol) of ammonium chloride was dissolved, and the precipitated crude crystals were collected by suction filtration and washed well with a large amount of water. The crude crystals were dried under vacuum and then recrystallized from a solvent such as ethanol and toluene to obtain the desired product (Compound 5).
【００３１】製造例６ ２−（２，４−ジニトロフェニルチオ）ベンズイミダゾ
ール（化合物６）の合成 製造例５において、１−クロロ−４−ニトロピリジンを
１−クロロ−２，４−ジニトロベンゼン３．１ｇ（３
０．１mmol）に代えた以外は、製造例５と同様の方法
で、目的物（化合物６）を得た。Production Example 6 Synthesis of 2- (2,4-dinitrophenylthio) benzimidazole (Compound 6) In Production Example 5, 1-chloro-4-nitropyridine was replaced with 1-chloro-2,4-dinitrobenzene 3 .1 g (3
The target product (Compound 6) was obtained in the same manner as in Production Example 5 except that 0.1 mmol) was used.
【００３２】製造例７ １−（４−ニトロフェニルチオ）ベンズイミダゾール
（化合物７）の合成 製造例１において、ピロールをベンズイミダゾール４．
０ｇ（３３．９mmol）に代えた以外は、製造例１と同様
の方法で、目的物（化合物７）を得た。Production Example 7 Synthesis of 1- (4-nitrophenylthio) benzimidazole (Compound 7) In Production Example 1, pyrrole was replaced with benzimidazole 4.
The target product (Compound 7) was obtained in the same manner as in Production Example 1, except that the amount was changed to 0 g (33.9 mmol).
【００３３】製造例８ １−（２，４−ジニトロフェニルチオ）ベンズイミダゾ
ール（化合物８）の合成 製造例７において、４−ニトロベンゼンスルフェニルク
ロリドを２，４−ジニトロベンゼンスルフェニルクロリ
ド７．０ｇ（２９．８mmol）に代えた以外は、製造例７
と同様の方法で、目的物（化合物８）を得た。Production Example 8 Synthesis of 1- (2,4-dinitrophenylthio) benzimidazole (Compound 8) In Production Example 7, 4-nitrobenzenesulfenyl chloride was replaced with 7.0 g of 2,4-dinitrobenzenesulfenyl chloride. 29.8 mmol), but in Production Example 7
The target product (Compound 8) was obtained in the same manner as in (1) above.
【００３４】実施例１ 前記製造例１において製造した電気光学材料としての
（化合物１）１重量部とフッ素化ポリアミド酸ＯＰＩ−
１００５（日立化成工業社製商品名）１５重量部をＮ−
メチルピロリドン（ＮＭＰ）２００重量部に溶解して得
られたアクティブ光導波路用組成物の溶液を１００nm厚
の半透明アルミ電極を付けた石英ガラス上に回転数２０
００rpmでスピン塗工し、２μｍ膜を形成した。ＮＭＰ
溶剤を除去するため真空下１２０℃で６時間ソフトベー
クし、続いて前記の膜上に１００nm厚の半透明アルミ電
極を形成しサンドウィッチ型のサンプルを作製した。電
極間に４００Ｖの電圧を印加しながら２℃／分の昇温速
度で２５０℃（ポーリング温度）にサンプルを加熱し、
さらに、４００Ｖの電圧を印加しながら同温度で１時間
保持し、その後、４００Ｖの電圧を印加しながら室温ま
で冷却してアクティブ光導波路試験用サンプル（ここで
は、図２におけるコア層４の部分に対応するコア部のみ
を含み、クラッド部にあたるものはない）を作製した。Example 1 1 part by weight of (Compound 1) as an electro-optical material produced in Production Example 1 and fluorinated polyamic acid OPI-
N-added 15 parts by weight of 1005 (trade name of Hitachi Chemical Co., Ltd.)
A solution of the composition for active optical waveguide obtained by dissolving it in 200 parts by weight of methylpyrrolidone (NMP) was spun on a quartz glass having a semi-transparent aluminum electrode with a thickness of 100 nm and a rotation speed of 20.
Spin coating was performed at 00 rpm to form a 2 μm film. NMP
To remove the solvent, soft baking was performed under vacuum at 120 ° C. for 6 hours, and then a 100 nm-thick semitransparent aluminum electrode was formed on the film to prepare a sandwich type sample. While applying a voltage of 400 V between the electrodes, the sample was heated to 250 ° C. (poling temperature) at a heating rate of 2 ° C./min,
Further, the sample was held at the same temperature for 1 hour while applying a voltage of 400V, then cooled to room temperature while applying a voltage of 400V, and the active optical waveguide test sample (here, the core layer 4 portion in FIG. The corresponding core part was included, and the clad part was not included.
【００３５】図３に示す測定装置を用いて前記アクティ
ブ光導波路試験用サンプルについて熱安定性を調べた。
この装置は電気光学定数測定装置で、測定方法はC.C.Te
ng and H.T.Man,Appl.Phys.Lett.56(18)1734(1990)に記
載された方法とほぼ同じである。図３に示す測定装置
は、次のように構成されたものである。Ｈｅ−Ｎｅレー
ザ９からの光を偏光子１０を通過させ、直線偏光にした
後、サンプル１１の法線方向とビーム軸のなす角がθと
なるように傾けられたサンプル１１を透過させ、バビネ
・ソレイユ補償子１２と検光子１３を通して検出器（フ
ォトダイオード）１４で検出する。検出された光の強度
は電圧として、直流電圧計１６とロックインアンプ１５
で計測される。測定する際の検光子の透過軸の角度は、
検光子を回転して直流電圧計１６で測定される直流電圧
の最大と最少の値の差の１／２の値となるよう設定す
る。発振器１７で周波数１kHz、交流電圧１０Ｖをサン
プル１１に印加すると、電気光学効果によって、出力信
号も１kHzで変調される。このときの、交流成分をロッ
クインアンプ１５で、直流成分を直流電圧計１６で測定
する。ロックインアンプ１５、直流電圧計１６での測定
電圧をそれぞれＶm、Ｖと定義すると、電気光学定数ｒ
33は下記式（１）から求められる。The thermal stability of the active optical waveguide test sample was examined by using the measuring apparatus shown in FIG.
This device is an electro-optical constant measuring device, and the measuring method is CCTe.
ng and HTMan, Appl. Phys. Lett. 56 (18) 1734 (1990). The measuring device shown in FIG. 3 is configured as follows. The light from the He-Ne laser 9 is passed through the polarizer 10 to be linearly polarized light, and then the sample 11 tilted so that the angle formed by the normal axis of the sample 11 and the beam axis is θ is transmitted, and the Babinet is used. Detecting with a detector (photodiode) 14 through a Soleil compensator 12 and an analyzer 13. The detected light intensity is used as a voltage, and the DC voltmeter 16 and the lock-in amplifier 15 are used.
Is measured at. The angle of the transmission axis of the analyzer when measuring is
The analyzer is set to rotate so that the difference between the maximum value and the minimum value of the DC voltage measured by the DC voltmeter 16 is 1/2. When an oscillator 17 applies a frequency of 1 kHz and an AC voltage of 10 V to the sample 11, the output signal is also modulated at 1 kHz by the electro-optic effect. At this time, the AC component is measured by the lock-in amplifier 15 and the DC component is measured by the DC voltmeter 16. When the measured voltages at the lock-in amplifier 15 and the DC voltmeter 16 are defined as V m and V, respectively, the electro-optical constant r
33 is calculated from the following formula (1).
【数１】 なお、屈折率ｎはアッベの屈折率計で測定した。熱安定
性はポーリング直後の電気光学定数ｒ33(０)と温度１５
０℃の恒温槽に２５０時間放置した後のサンプルの電気
光学定数ｒ33(Ｔ)を測定し、前記ｒ33(０)とｒ33(Ｔ)か
ら下記式（２）を用いて求めた保持率ｄ(Ｔ)から評価
し、結果を表１に示した。[Equation 1] The refractive index n was measured with an Abbe refractometer. Thermal stability is determined by electro-optic constant r 33 (0) and temperature of 15 after poling.
The electro-optical constant r 33 (T) of the sample after standing in a constant temperature bath of 0 ° C. for 250 hours was measured, and the retention was calculated from the above r 33 (0) and r 33 (T) by using the following formula (2). Evaluation was made from the rate d (T), and the results are shown in Table 1.
【数２】 [Equation 2]
【００３６】実施例２〜８ 実施例１において用いた（化合物１）とポリアミド酸Ｏ
ＰＩ−１００５に代えて、表１に示す電気光学材料及び
フッ素化ポリアミド酸（日立化成工業社製）を用いて、
実施例１と同様にしてアクティブ光導波路試験用サンプ
ルを作製し、電気光学特性の保持率ｄ（Ｔ）を評価し、
結果を表１に示した。Examples 2 to 8 (Compound 1) used in Example 1 and polyamic acid O
Instead of PI-1005, the electro-optical material and fluorinated polyamic acid (made by Hitachi Chemical Co., Ltd.) shown in Table 1 were used.
An active optical waveguide test sample was prepared in the same manner as in Example 1, and the retention rate d (T) of electro-optical characteristics was evaluated.
The results are shown in Table 1.
【００３７】比較例１ 実施例１において用いた（化合物１）とフッ素化ポリア
ミド酸ＯＰＩ−１００５に代えて、表１に示す４−〔Ｎ
−エチル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）〕−アミノ−
４′−ニトロアゾベンゼン（Disperse Red１）とポリメ
チルメタクリレート（ＰＭＭＡ）溶液（１２重量％）を
用い、ポーリング温度を１５０℃にした以外は実施例１
と同様にしてアクティブ光導波路試験用サンプルを作製
し、電気光学特性の保持率ｄ（Ｔ）を評価し、結果を表
１に示した。電気光学特性は、１００℃に加熱するだけ
で７５％消失した。Comparative Example 1 In place of (Compound 1) used in Example 1 and fluorinated polyamic acid OPI-1005, 4- [N] shown in Table 1 was used.
-Ethyl-N- (2-hydroxyethyl)]-amino-
Example 1 except that 4'-nitroazobenzene (Disperse Red 1) and a polymethylmethacrylate (PMMA) solution (12 wt%) were used and the poling temperature was 150 ° C.
A sample for active optical waveguide test was prepared in the same manner as described above, and the retention rate d (T) of electro-optical characteristics was evaluated. The results are shown in Table 1. The electro-optical properties disappeared by 75% only by heating to 100 ° C.
【００３８】[0038]
【表１】 [Table 1]
【００３９】[0039]
【発明の効果】本発明のアクティブ光導波路用組成物は
光学的に良好な透明膜を与える。本発明のアクティブ光
導波路用組成物を用いて作製したアクティブ光導波路
は、熱的に非常に安定であり、光スイッチ、変調器等の
電気光学素子を作製するのに好適なものである。耐熱性
に優れるフッ素化ポリイミド及び一般式（Ｉ）で表され
る化合物を使用することにより光導波路作製時に必要と
される熱安定性が向上される。さらにスピンコート法に
より、容易に大面積光導波路が作製できるという利点を
持ち、光導波路の低価格化が可能である。The composition for active optical waveguide of the present invention gives an optically excellent transparent film. The active optical waveguide produced by using the composition for active optical waveguide of the present invention is very stable thermally and is suitable for producing electro-optical elements such as optical switches and modulators. By using the fluorinated polyimide having excellent heat resistance and the compound represented by the general formula (I), the thermal stability required when producing an optical waveguide is improved. Furthermore, the spin coating method has an advantage that a large-area optical waveguide can be easily manufactured, and the cost of the optical waveguide can be reduced.
【図１】光マトリックススイッチ、変調器の基本形態。FIG. 1 is a basic form of an optical matrix switch and a modulator.
【図２】アクティブ光導波路作製工程の説明図。FIG. 2 is an explanatory diagram of an active optical waveguide manufacturing process.
【図３】実施例及び比較例で用いた電気光学定数の測定
装置の説明図。FIG. 3 is an explanatory diagram of an electro-optical constant measuring device used in Examples and Comparative Examples.
【符号の説明】 １ 基板 ２ 下部電極 ３ 下部クラッド層 ４ コア層 ５ アルミニウム層 ６ レジスト層 ７ 上部クラッド層 ８ 上部電極 ９ Ｈｅ−Ｎｅレーザ １０ 偏光子 １１ サンプル １２ ハビネ・ソレイユ補償板 １３ 検光子 １４ 検出器 １５ ロックインアンプ １６ 直流電圧計 １７ 発振器[Description of Reference Signs] 1 substrate 2 lower electrode 3 lower clad layer 4 core layer 5 aluminum layer 6 resist layer 7 upper clad layer 8 upper electrode 9 He-Ne laser 10 polarizer 11 sample 12 Habine-Soleil compensator 13 analyzer 14 Detector 15 Lock-in amplifier 16 DC voltmeter 17 Oscillator
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ０２Ｂ 6/13 Ｇ０２Ｆ 1/03 ５０１ 1/313 Ｇ０２Ｂ 6/12 Ｊ ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification number Office reference number FI technical display location G02B 6/13 G02F 1/03 501 1/313 G02B 6/12 J
Claims (5)
を含むアクティブ光導波路用組成物であって、電気光学
材料が一般式（Ｉ） 【化１】 （式中、Ａｚはピロール環、インドール環又はベンズイ
ミダゾール環を示し、ｎは１又は２である）で表される
化合物であるアクティブ光導波路用組成物。1. A composition for an active optical waveguide, comprising a fluorinated polyamic acid and an electro-optical material, wherein the electro-optical material has the general formula (I): A composition for an active optical waveguide, which is a compound represented by the formula (Az represents a pyrrole ring, an indole ring or a benzimidazole ring, and n is 1 or 2).
てフッ素化ポリイミドとなった時、屈折率が１．４〜
１．９（５８９nm）、誘電率が２．６〜３．５（１MH
z）及びガラス転移温度（Tg）が３００℃以上となるも
のである請求項１記載のアクティブ光導波路用組成物。2. When the fluorinated polyamic acid is imide-closed to form a fluorinated polyimide, the refractive index is 1.4 to
1.9 (589 nm), dielectric constant 2.6-3.5 (1 MH
The composition for active optical waveguides according to claim 1, wherein z) and the glass transition temperature (Tg) are 300 ° C or higher.
１） 【化４】 で表される繰り返し単位及び式（III−２） 【化５】 で表される繰り返し単位の少なくとも１つとを有するフ
ッ素化ポリアミド酸である請求項１又は２記載のアクテ
ィブ光導波路用組成物。3. The fluorinated polyamic acid has the formula (II-1): The repeating unit represented by the formula and the formula (II-2): Of at least one repeating unit represented by the formula (III-
1) [Chemical 4] A repeating unit represented by the formula and formula (III-2): The composition for active optical waveguides according to claim 1 or 2, which is a fluorinated polyamic acid having at least one repeating unit represented by:
導波路用組成物中のフッ素化ポリアミド酸を、イミド閉
環してフッ素化ポリイミドとし、電気光学材料を配向さ
せることを特徴とするアクティブ光導波路の製造法。4. The active optical waveguide characterized in that the fluorinated polyamic acid in the composition for active optical waveguide according to claim 1, 2 or 3 is imide ring-closed to give a fluorinated polyimide to orient an electro-optical material. Waveguide manufacturing method.
造法により製造されたアクティブ光導波路。5. An active optical waveguide manufactured by the method for manufacturing an active optical waveguide according to claim 4.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17496494A JPH0841326A (en) | 1994-07-27 | 1994-07-27 | Composition for active optical waveguide, production of active optical waveguide therefrom and active optical waveguide |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17496494A JPH0841326A (en) | 1994-07-27 | 1994-07-27 | Composition for active optical waveguide, production of active optical waveguide therefrom and active optical waveguide |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0841326A true JPH0841326A (en) | 1996-02-13 |
Family
ID=15987823
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17496494A Pending JPH0841326A (en) | 1994-07-27 | 1994-07-27 | Composition for active optical waveguide, production of active optical waveguide therefrom and active optical waveguide |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0841326A (en) |
-
1994
- 1994-07-27 JP JP17496494A patent/JPH0841326A/en active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5061404A (en) | Electro-optical materials and light modulator devices containing same | |
| EP1222237B1 (en) | Materials for inducing alignment in liquid crystals and liquid crystal displays | |
| US5186865A (en) | Electro-optical materials and light modulator devices containing same | |
| KR20070057658A (en) | Process for preparing of liquid crystal aligning layer, liquid crystal aligning prepared by the same, and liquid crystal display including liquid crystal aligning layer | |
| KR101679234B1 (en) | Liquid crystal display device, method of manufacturing the same, and polymer composition | |
| US5759442A (en) | Polyimide alignment film from 2,2-BIS (3,4-dicarboxyphenyl)--hexafluoropropane dianhydride and ortho-substituted aromatic diamines for active matrix liquid crystal displays | |
| áM Wang et al. | Highly stable, functionalized polyimides for second order nonlinear optics | |
| US4954612A (en) | Solvent-soluble polyimide and production thereof | |
| JPH07159738A (en) | Composition for active optical waveguide, production of active optical waveguide using the same and active optical waveguide | |
| JPH0841329A (en) | Composition for active optical waveguide, production of active optical waveguide therefrom and active optical waveguide | |
| TWI691548B (en) | Liquid crystal alignment agent composition, method of producing liquid crystal alignment film using the same, liquid crystal alignment film and liquid crystal display device using the same | |
| JP2001290023A (en) | Polyimide optical phase difference thin film for liquid crystal display device, color filter with optical phase difference thin film and liquid crystal display device | |
| KR0160101B1 (en) | Polyimides for stn displays | |
| JPH0841326A (en) | Composition for active optical waveguide, production of active optical waveguide therefrom and active optical waveguide | |
| JPH0841327A (en) | Composition for active optical waveguide, proudction of active optical waveguide therefrom and active optical waveguide | |
| JPH0841324A (en) | Composition for active optical waveguide, production of active optical waveguide therefrom and active optical waveguide | |
| JPH0841334A (en) | Composition for active optical waveguide, production of active optical waveguide and active optical waveguide | |
| JPH0841328A (en) | Composition for active optical waveguide, production of active optical waveguide therefrom and active optical waveguide | |
| JPH0841331A (en) | Composition for active optical waveguide, production of active optical waveguide therefrom and active optical waveguide | |
| JPH0841323A (en) | Composition for active optical waveguide, production of active optical waveguide therefrom and active optical wavegude | |
| JPH0841335A (en) | Composition for active optical waveguide, production of active optical waveguide therefrom and active optical waveguide | |
| JPH0841330A (en) | Composition for active optical waveguide, production of active optical waveguide therefrom and active optical waveguide | |
| JPH0841337A (en) | Composition for active optical waveguide, production of active optical waveguide therefrom and active optical waveguide | |
| JPH0841333A (en) | Composition for active optical waveguide, production of active optical waveguide therefrom and active optical waveguide | |
| JPH0841325A (en) | Composition for active optical waveguide, production of active optical waveguide threfrom and active optical waveguide |