JPH083764A - Gold ornament and its production - Google Patents
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- JPH083764A JPH083764A JP15954494A JP15954494A JPH083764A JP H083764 A JPH083764 A JP H083764A JP 15954494 A JP15954494 A JP 15954494A JP 15954494 A JP15954494 A JP 15954494A JP H083764 A JPH083764 A JP H083764A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は，陶磁器，ガラス，結晶
化ガラス等の装飾基材の表面に，金により模様が形成さ
れた金装飾品及びその製造方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a gold decorative article having a pattern formed by gold on the surface of a decorative base material such as ceramics, glass and crystallized glass, and a method for producing the same.
【０００２】[0002]
【従来技術】陶磁器，ガラス，結晶化ガラス，金属，又
はホーローなどの表面には，様々な模様が施されている
ことが多い。この模様の中には，金絵付け，金を含むラ
スター彩，メッキ等，金を主成分としたものが多い。か
かる金装飾が施された金装飾品は，金独特の美しい光沢
があり，そのため，特に装飾性が高く，珍重される。2. Description of the Related Art Various patterns are often applied to the surface of ceramics, glass, crystallized glass, metal or enamel. Many of these patterns are mainly composed of gold, such as gold painting, gold-containing raster paint, and plating. Gold ornaments with such gold decoration have a beautiful luster peculiar to gold, and are therefore highly decorative and prized.
【０００３】[0003]
【解決しようとする課題】しかしながら，上記従来の金
装飾品においては，模様を金により形成している。この
金は，Ｃｌ2 水，Ｂｒ2 水，王水，又はＨＮＯ3 ，ＨＩ
Ｏ3 ，ＭｎＯ2 ，Ｈ2 Ｏ2 等の酸化剤を含むＨＣｌに溶
ける性質がある。そのため，金装飾品が，例えば，洗浄
の作業中に，上記の溶液と接触した場合には，模様を損
ない，金装飾品の外観が悪くなるおそれがある。本発明
はかかる従来の問題点に鑑み，金により形成された模様
の損傷がなく，外観の良好な金装飾品及びその製造方法
を提供しようとするものである。[Problems to be Solved] However, in the above-mentioned conventional gold ornament, the pattern is formed by gold. This gold can be used as Cl 2 water, Br 2 water, aqua regia, or HNO 3 , HI.
It has a property of dissolving in HCl containing an oxidizing agent such as O 3 , MnO 2 , and H 2 O 2 . Therefore, if the gold ornament comes into contact with the above-mentioned solution during the cleaning operation, the pattern may be damaged and the appearance of the gold ornament may be deteriorated. In view of the above conventional problems, the present invention aims to provide a gold decorative article having a good appearance without damaging a pattern formed by gold and a method for manufacturing the same.
【０００４】[0004]
【課題の解決手段】本発明は，装飾基材の表面に，金に
より模様が形成された金装飾品において，上記模様の表
面は，ＳｉＯ2 からなる保護層により被覆されているこ
とを特徴とする金装飾品にある。The present invention provides a gold ornament in which a pattern is formed by gold on the surface of a decorative substrate, wherein the surface of the pattern is covered with a protective layer made of SiO 2. It is in the gold ornaments.
【０００５】本発明において最も注目すべきことは，金
により形成された模様が，ＳｉＯ2よりなる保護層によ
り被覆されていることであることである。What is most noticeable in the present invention is that the pattern formed of gold is covered with a protective layer made of SiO 2 .
【０００６】保護層の厚みは，０．０１μｍ〜１０μｍ
であることが好ましい。０．０１μｍ未満の場合には，
Ｃｌ2 水，Ｂｒ2 水，王水，又は酸化剤を含むＨＣｌに
より，模様を形成する金が侵食され，模様を損なうおそ
れがある。一方，１０μｍを越える場合には，保護層に
ひびわれが生じ，模様の外観を損なうおそれがある。さ
らに好ましくは，上記と同様の理由により，０．１μｍ
〜２μｍがよい。保護層は，金により形成された模様だ
けでなく，模様を形成した装飾基材の装飾面を被覆して
いてもよい。保護層は，装飾面における模様の周辺部だ
けを部分的に被覆していてもよいし，装飾面全体を被覆
していてもよい。The thickness of the protective layer is 0.01 μm to 10 μm
It is preferred that If it is less than 0.01 μm,
Cl 2 water, Br 2 water, aqua regia, or HCl containing an oxidizing agent may erode the gold forming the pattern and damage the pattern. On the other hand, if it exceeds 10 μm, the protective layer may be cracked and the appearance of the pattern may be impaired. More preferably, for the same reason as above, 0.1 μm
˜2 μm is preferable. The protective layer may cover not only the pattern formed of gold but also the decorative surface of the decorative substrate on which the pattern is formed. The protective layer may partially cover only the peripheral portion of the pattern on the decorative surface, or may cover the entire decorative surface.
【０００７】また，保護層としては，上記ＳｉＯ2 の他
に，Ａｌ2 Ｏ3 ，ＴｉＯ2 ，又はＺｒＯ2 のいずれかの
酸化物を用いることもできる。上記装飾基材は，例え
ば，陶磁器，ガラス，結晶化ガラス，金属，又はホーロ
ーのいずれかである。上記金属としては，ステンレス，
クロム，ニッケル等を用いることができる。上記装飾面
には，金よりなる模様の他に，金を含まない模様が形成
されていてもよい。ＳｉＯ2 からなる保護層が，これら
の模様を被覆することにより，模様の損傷を防止するこ
とができる。Further, as the protective layer, an oxide of any one of Al 2 O 3 , TiO 2 and ZrO 2 can be used in addition to the above SiO 2 . The decorative substrate is, for example, ceramic, glass, crystallized glass, metal, or enamel. As the above metal, stainless steel,
Chromium, nickel, etc. can be used. In addition to the pattern made of gold, a pattern not containing gold may be formed on the decorative surface. By covering these patterns with a protective layer made of SiO 2 , damage to the patterns can be prevented.
【０００８】次に，上記保護層としてＳｉＯ2 を用いた
金装飾品の製造方法としては，例えば，装飾基材の表面
に，金により模様を形成し，次いで，上記模様の表面
に，一般式Ｓｉ（ＯＲ）4 （Ｒはアルキル基を意味す
る。以下同様。）であらわされるテトラアルキルシリケ
ートの加水分解物を塗布し，熱処理を施すことにより，
上記模様の表面をＳｉＯ2 の保護層により被覆すること
を特徴とする金装飾品の製造方法がある。Next, as a method of manufacturing a gold decorative article using SiO 2 as the protective layer, for example, a pattern is formed on the surface of a decorative base material with gold, and then the general formula is applied to the surface of the pattern. By applying a hydrolyzate of tetraalkyl silicate represented by Si (OR) 4 (R means an alkyl group, the same applies hereinafter) and applying heat treatment,
There is a method for producing a gold ornament, which is characterized in that the surface of the above pattern is covered with a protective layer of SiO 2 .
【０００９】上記製造方法において最も注目すべきこと
は，金により形成された模様の表面に，テトラアルキル
シリケートの加水分解物を塗布し，熱処理を施して，Ｓ
ｉＯ2 の保護層を形成することである。上記テトラアル
キルシリケートは，一般式Ｓｉ（ＯＲ）4 で表され，ま
た，該一般式中のＲ（アルキル基）は，例えばメチル
基，エチル基，プロピル基，及びブチル基のグループか
ら選ばれる１種又は２種以上である。上記一般式におい
て，１つのＳｉに結合している４つのＲは，すべて同一
のアルキル基であってもよい。また，互いに異なるアル
キル基であってもよい。What is most noticeable in the above-mentioned manufacturing method is that a hydrolyzate of tetraalkyl silicate is applied to the surface of the pattern formed of gold, heat treatment is performed, and S
The purpose is to form a protective layer of iO 2 . The tetraalkyl silicate is represented by the general formula Si (OR) 4 , and R (alkyl group) in the general formula is selected from the group consisting of, for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and a butyl group. There are two or more species. In the above general formula, all four Rs bonded to one Si may be the same alkyl group. Further, they may be different alkyl groups.
【００１０】上記テトラアルキルシリケートの加水分解
物の調製は，一般的な加水分解法により行うことができ
る。その一例として，テトラアルキルシリケートとアル
コールと硝酸水溶液とを混合することにより，加水分解
反応を行う方法がある。上記テトラアルキルシリケート
の加水分解物の塗布厚みは，０．０１μｍ〜１０μｍで
あることが好ましい。０．０１μｍ未満の場合には，Ｃ
ｌ2 水，Ｂｒ2水，王水，又は酸化剤を含むＨＣｌによ
り，模様を構成する金が侵食され，模様を損なうおそれ
がある。一方，１０μｍを越える場合には，塗布層にひ
びわれが生じて模様の外観を損なうおそれがある。The above hydrolyzate of tetraalkyl silicate can be prepared by a general hydrolysis method. As an example, there is a method of performing a hydrolysis reaction by mixing a tetraalkyl silicate, an alcohol, and a nitric acid aqueous solution. The coating thickness of the hydrolyzate of tetraalkyl silicate is preferably 0.01 μm to 10 μm. If less than 0.01 μm, C
1 2 water, Br 2 water, aqua regia, or HCl containing an oxidant may erode the gold forming the pattern and damage the pattern. On the other hand, if it exceeds 10 μm, the coating layer may be cracked and the appearance of the pattern may be impaired.
【００１１】上記加水分解物は，上記模様の表面だけで
なく，模様を形成した装飾基材の装飾面の表面に塗布す
ることもできる。その後，これらを熱処理することによ
り，装飾基材の装飾面の表面にＳｉＯ2 からなる保護層
が形成される。上記加水分解物の塗布は，例えば，ディ
ッピング，スプレー，スピンコーティング，刷毛塗り
等，一般的な方法により行うことができる。The above-mentioned hydrolyzate can be applied not only to the surface of the above-mentioned pattern but also to the surface of the decorative surface of the decorative substrate on which the pattern is formed. Then, by heat-treating these, a protective layer made of SiO 2 is formed on the surface of the decorative surface of the decorative base material. The application of the hydrolyzate can be carried out by a general method such as dipping, spraying, spin coating, brush coating and the like.
【００１２】上記塗布工程の後は，加水分解物に熱処理
を施す。熱処理は，装飾基材，金，テトラアルキルシリ
ケートの種類に合わせて，適当な温度で行う。その温度
は，一般的に，１００〜１４００℃であることが好まし
い。１００℃未満の場合には，熱処理効果が得られず，
ＳｉＯ2 の保護膜の形成が困難となる。一方，１４００
℃を越える場合には，テトラアルキルシリケートの加水
分解物が装飾基材と反応するおそれがある。After the coating step, the hydrolyzate is heat treated. The heat treatment is performed at an appropriate temperature according to the types of decorative base material, gold, and tetraalkyl silicate. Generally, the temperature is preferably 100 to 1400 ° C. If the temperature is less than 100 ° C, the heat treatment effect cannot be obtained,
It becomes difficult to form a protective film of SiO 2 . On the other hand, 1400
Above 40 ° C, the hydrolyzate of tetraalkyl silicate may react with the decorative substrate.
【００１３】上記模様は，金を含む，ラスター彩又は絵
の具を，装飾基材に塗布するか，或いはメッキを施すこ
とにより，形成することができる。上記模様が形成され
る装飾基材としては，上記と同様のものを用いることが
できる。The above pattern can be formed by applying a raster color or paint containing gold to the decorative base material or by plating. As the decorative base material on which the pattern is formed, the same ones as described above can be used.
【００１４】[0014]
【作用及び効果】本発明の金装飾品においては，金によ
り形成された模様は，保護層により被覆されている。該
保護層は，ＳｉＯ2 であり，Ｃｌ2 水，Ｂｒ2 水，王
水，又はＨＮＯ3 ，ＨＩＯ3 ，ＭｎＯ2 ，Ｈ2 Ｏ2 等の
酸化剤を含むＨＣｌに溶けにくいものである。そのた
め，ＳｉＯ2 の保護層が，金よりなる模様を被覆するこ
とにより，金の溶出を抑制することができる。それ故，
模様の色落ち，剥離等の損傷がない。そのため，金装飾
品が，例えば，洗浄の作業中に，上記の溶液と接触して
も，模様は損傷せず，金装飾品の外観も良好に維持する
ことができる。In the gold ornament of the present invention, the pattern formed of gold is covered with the protective layer. The protective layer is made of SiO 2 , and is hardly soluble in Cl 2 water, Br 2 water, aqua regia, or HCl containing an oxidizing agent such as HNO 3 , HIO 3 , MnO 2 , and H 2 O 2 . Therefore, the elution of gold can be suppressed by covering the pattern made of gold with the protective layer of SiO 2 . Therefore,
There is no damage such as discoloration or peeling of the pattern. Therefore, even if the gold ornament comes into contact with the above-mentioned solution during the cleaning operation, the pattern is not damaged, and the appearance of the gold ornament can be maintained well.
【００１５】また，ＳｉＯ2 の保護層は透明で，可視光
及び赤外光に対して，透光性が高い。そのため，模様
が，保護層を通じて鮮明に見える。また，保護層は，赤
外透過特性を有する装飾基材に使用しても赤外透過特性
を妨げない。そのため，ＳｉＯ2 の保護層を有する装飾
基材をハロゲンヒータ，ラジュントヒータ等のトッププ
レートとして用いても，それらのエネルギー効率を低下
させることはない。The SiO 2 protective layer is transparent and has a high transparency to visible light and infrared light. Therefore, the pattern is clearly visible through the protective layer. Also, the protective layer does not interfere with the infrared transmission characteristics even when used for a decorative substrate having infrared transmission characteristics. Therefore, even if the decorative base material having the SiO 2 protective layer is used as the top plate of the halogen heater, the radiant heater, or the like, the energy efficiency of the top plate is not reduced.
【００１６】更に，ＳｉＯ2 は１４００℃の高温にも耐
えることができ，耐熱強度が高い。そのため，この保護
層により被覆された金は，高温での溶融が抑制される。
それ故，高温下での模様の変形を防止することができ
る。また，ＳｉＯ2 の鉛筆硬度は２Ｈ〜５Ｈであるた
め，金装飾品の耐摩耗性も向上する。Furthermore, SiO 2 can withstand a high temperature of 1400 ° C. and has high heat resistance. Therefore, the gold coated with this protective layer is suppressed from melting at high temperatures.
Therefore, the deformation of the pattern under high temperature can be prevented. Moreover, since the pencil hardness of SiO 2 is 2H to 5H, the wear resistance of the gold ornament is also improved.
【００１７】また，本発明の金装飾品の製造方法におい
ては，模様が形成された装飾面に，ＳｉＯ2 の保護層を
形成している。かかる保護層は，上記のＣｌ2 水等の溶
液により損傷を受けない。そのため，金により形成され
た模様の損傷がなく，外観の良好な金装飾品を製造する
ことができる。Further, in the method for manufacturing a gold decorative article of the present invention, a SiO 2 protective layer is formed on the decorative surface on which the pattern is formed. Such a protective layer is not damaged by the above solution of Cl 2 water or the like. Therefore, it is possible to manufacture a gold ornament having a good appearance without damaging the pattern formed by gold.
【００１８】本発明によれば，金により形成された模様
の損傷がなく，強度に優れ，外観の良好な金装飾品及び
その製造方法を提供することができる。According to the present invention, it is possible to provide a gold decorative article which has no damage on the pattern formed of gold, is excellent in strength and has a good appearance, and a method for producing the same.
【００１９】[0019]
実施例１ 本発明の実施例にかかる金装飾品について，図１を用い
て説明する。本例の金装飾品７は，図１に示すごとく，
装飾基材６の表面に，金により模様５が形成されてい
る。模様５は，ＳｉＯ2 からなる保護層１により被覆さ
れている。また，保護層１は，模様５だけでなく，模様
が形成された装飾基材６の装飾面６０全体も被覆してい
る。保護層１の厚みは，０．１μｍである。装飾基材６
は結晶化ガラスである。Example 1 A gold ornament according to an example of the present invention will be described with reference to FIG. The gold ornament 7 of this example is, as shown in FIG.
The pattern 5 is formed of gold on the surface of the decorative base material 6. The pattern 5 is covered with a protective layer 1 made of SiO 2 . Further, the protective layer 1 covers not only the pattern 5 but also the entire decorative surface 60 of the decorative substrate 6 on which the pattern is formed. The thickness of the protective layer 1 is 0.1 μm. Decorative base material 6
Is crystallized glass.
【００２０】次に，上記金装飾品７の製造方法について
説明する。まず，装飾基材６としての結晶化ガラスの表
面に，金を３重量％含むラスター彩を刷毛塗りし，８４
０℃，１０分間焼成して，模様５を形成する。一方，テ
トラアルキルシリケートにメチルアルコールと硝酸水溶
液とを加えて，攪拌し，加水分解反応を行う。次いで，
この加水分解溶液に，イソプロピルアルコールを加え，
テトラアルキルシリケートの加水分解物の溶液を調製す
る。Next, a method of manufacturing the gold ornament 7 will be described. First, the surface of the crystallized glass as the decorative base material 6 is brushed with a raster paint containing 3% by weight of gold.
The pattern 5 is formed by baking at 0 ° C. for 10 minutes. On the other hand, methyl alcohol and a nitric acid aqueous solution are added to tetraalkyl silicate, and the mixture is stirred and hydrolyzed. Then,
To this hydrolyzed solution, add isopropyl alcohol,
A solution of tetraalkyl silicate hydrolyzate is prepared.
【００２１】次いで，装飾基材６における，模様５が形
成された装飾面６０の全面に，上記の加水分解物溶液
を，０．１μｍの厚みに刷毛塗りする。次いで，これら
を８４０℃，１０分間熱処理して，ＳｉＯ2 の保護層１
を形成する。これにより，上記金装飾品７が得られる。
保護層１の鉛筆硬度は４Ｈであった。Then, the entire surface of the decorative surface 60 on which the pattern 5 is formed on the decorative base material 6 is brush-coated with the above-mentioned hydrolyzate solution to a thickness of 0.1 μm. Then, these are heat-treated at 840 ° C. for 10 minutes to form the SiO 2 protective layer 1
To form. As a result, the gold ornament 7 is obtained.
The pencil hardness of the protective layer 1 was 4H.
【００２２】実施例２ 本実施例において，金装飾品７は，図１に示すごとく，
装飾基材６の表面に，金により模様５が形成され，模様
５および装飾基材６の装飾面６０の全体は，ＳｉＯ2 か
らなる保護層１により被覆されている。保護層１の厚み
は０．５μｍであり，装飾基材６は結晶化ガラスであ
る。本実施例における金装飾品７の製造方法は，模様５
が形成された装飾面６０の全面に，テトラアルキルシリ
ケートの加水分解物溶液を，０．５μｍの厚みに刷毛塗
りする以外は，実施例１と同様である。実施例２におけ
る保護層１の鉛筆強度は４Ｈであった。Embodiment 2 In this embodiment, the gold ornament 7 is as shown in FIG.
The pattern 5 is formed of gold on the surface of the decorative base material 6, and the entire decorative surface 60 of the pattern 5 and the decorative base material 6 is covered with the protective layer 1 made of SiO 2 . The protective layer 1 has a thickness of 0.5 μm, and the decorative substrate 6 is crystallized glass. The method for manufacturing the gold ornament 7 in this embodiment is the pattern 5
The procedure is the same as in Example 1 except that a hydrolyzate solution of tetraalkyl silicate is applied to the entire surface of the decorative surface 60 on which is formed with a brush to a thickness of 0.5 μm. The pencil strength of the protective layer 1 in Example 2 was 4H.
【００２３】実施例３ 本実施例においては，金装飾品７は図１に示すごとく，
装飾基材６の表面に，金により模様５が形成され，模様
５および装飾基材６の装飾面６０の全体は，ＳｉＯ2 か
らなる保護層１により被覆されている。保護層１の厚み
は１．０μｍであり，装飾基材６は結晶化ガラスであ
る。本実施例における金装飾品７の製造方法は，模様５
が形成された装飾面６０の全面に，テトラアルキルシリ
ケートの加水分解物溶液を，１．０μｍの厚みに刷毛塗
りする以外は，実施例１と同様である。実施例３におけ
る保護層１の鉛筆強度は４Ｈであった。Embodiment 3 In this embodiment, the gold ornament 7 is as shown in FIG.
The pattern 5 is formed of gold on the surface of the decorative base material 6, and the entire decorative surface 60 of the pattern 5 and the decorative base material 6 is covered with the protective layer 1 made of SiO 2 . The protective layer 1 has a thickness of 1.0 μm, and the decorative substrate 6 is crystallized glass. The method for manufacturing the gold ornament 7 in this embodiment is the pattern 5
The procedure is the same as in Example 1 except that the hydrolyzate solution of tetraalkyl silicate is applied to the entire surface of the decorative surface 60 on which is formed by brushing to a thickness of 1.0 μm. The pencil strength of the protective layer 1 in Example 3 was 4H.
【００２４】実施例４ 本実施例においては，金装飾品７は図１に示すごとく，
装飾基材６の表面に，金により模様５が形成されてい
る。模様５および装飾基材６の装飾面６０の全体は，Ｓ
ｉＯ2 からなる保護層１により被覆されている。保護層
１の厚みは２μｍであり，装飾基材６は結晶化ガラスで
ある。本実施例における金装飾品７の製造方法は，模様
５が形成された装飾面６０の全面に，テトラアルキルシ
リケートの加水分解物溶液を，２μｍの厚みに刷毛塗り
する以外は，実施例１と同様である。実施例４における
保護層１の鉛筆強度は４Ｈであった。Embodiment 4 In this embodiment, the gold ornament 7 is as shown in FIG.
The pattern 5 is formed of gold on the surface of the decorative base material 6. The entire decorative surface 60 of the pattern 5 and the decorative substrate 6 is S
It is covered with a protective layer 1 made of iO 2. The protective layer 1 has a thickness of 2 μm, and the decorative substrate 6 is crystallized glass. The method of manufacturing the gold ornament 7 in this example is the same as that of Example 1 except that the tetraalkyl silicate hydrolyzate solution is brushed to a thickness of 2 μm on the entire decorative surface 60 on which the pattern 5 is formed. It is the same. The pencil strength of the protective layer 1 in Example 4 was 4H.
【００２５】実施例５ 本実施例において，金装飾品７は，図１に示すごとく，
装飾基材６の表面に，金により模様５が形成され，模様
５および装飾基材６の装飾面６０の全体は，ＳｉＯ2 か
らなる保護層１により被覆されている。保護層１の厚み
は０．１μｍであり，装飾基材６はボーンチャイナであ
る。本実施例における金装飾品７の製造方法は，模様５
が形成された装飾面６０の全面にテトラアルキルシリケ
ートの加水分解物溶液を０．１μｍの厚みに刷毛塗りす
ること，及び装飾基材６がボーンチャイナであること以
外は，実施例１と同様である。実施例５における保護層
１の鉛筆強度は４Ｈであった。Embodiment 5 In this embodiment, the gold ornament 7 is as shown in FIG.
The pattern 5 is formed of gold on the surface of the decorative base material 6, and the entire decorative surface 60 of the pattern 5 and the decorative base material 6 is covered with the protective layer 1 made of SiO 2 . The protective layer 1 has a thickness of 0.1 μm, and the decorative base material 6 is a bone china. The method for manufacturing the gold ornament 7 in this embodiment is the pattern 5
The same procedure as in Example 1 was carried out except that the hydrolyzate solution of tetraalkyl silicate was brush-coated to a thickness of 0.1 μm on the entire surface of the decorative surface 60 on which was formed, and the decorative base material 6 was bone china. is there. The pencil strength of the protective layer 1 in Example 5 was 4H.
【００２６】実施例６ 本実施例においては，金装飾品７は図１に示すごとく，
装飾基材６の表面に，金により模様５が形成され，模様
５および装飾基材６の装飾面６０の全体は，ＳｉＯ2 か
らなる保護層１により被覆されている。保護層１の厚み
は０．５μｍであり，装飾基材６はボーンチャイナであ
る。本実施例における金装飾品７の製造方法は，模様５
が形成された装飾面６０の全面にテトラアルキルシリケ
ートの加水分解物溶液を０．５μｍの厚みに刷毛塗りす
ること，及び装飾基材６がボーンチャイナであること以
外は，実施例１と同様である。実施例６における保護層
１の鉛筆強度は４Ｈであった。Embodiment 6 In this embodiment, the gold ornament 7 is as shown in FIG.
The pattern 5 is formed of gold on the surface of the decorative base material 6, and the entire decorative surface 60 of the pattern 5 and the decorative base material 6 is covered with the protective layer 1 made of SiO 2 . The protective layer 1 has a thickness of 0.5 μm, and the decorative base material 6 is a bone china. The method for manufacturing the gold ornament 7 in this embodiment is the pattern 5
The same procedure as in Example 1 was performed except that the hydrolyzate solution of tetraalkyl silicate was brush-coated to a thickness of 0.5 μm on the entire surface of the decorative surface 60 on which was formed, and the decorative base material 6 was bone china. is there. The pencil strength of the protective layer 1 in Example 6 was 4H.
【００２７】実施例７ 本実施例においては，金装飾品７は図１に示すごとく，
装飾基材６の表面に，金により模様５が形成され，模様
５および装飾基材６の装飾面６０の全体は，ＳｉＯ2 か
らなる保護層１により被覆されている。保護層１の厚み
は１μｍであり，装飾基材６はボーンチャイナである。
本実施例における金装飾品７の製造方法は，模様５が形
成された装飾面６０の全面にテトラアルキルシリケート
の加水分解物溶液を１μｍの厚みに刷毛塗りすること，
及び装飾基材６がボーンチャイナであること以外は，実
施例１と同様である。実施例７における保護層１の鉛筆
強度は４Ｈであった。Embodiment 7 In this embodiment, the gold ornament 7 is as shown in FIG.
The pattern 5 is formed of gold on the surface of the decorative base material 6, and the entire decorative surface 60 of the pattern 5 and the decorative base material 6 is covered with the protective layer 1 made of SiO 2 . The protective layer 1 has a thickness of 1 μm, and the decorative base material 6 is a bone china.
The method for manufacturing the gold ornament 7 in this embodiment is as follows. The entire surface of the decorative surface 60 on which the pattern 5 is formed is brush-coated with a hydrolyzate solution of tetraalkylsilicate to a thickness of 1 μm.
And the same as Example 1 except that the decorative substrate 6 is a bone china. The pencil strength of the protective layer 1 in Example 7 was 4H.
【００２８】実施例８ 本実施例においては，金装飾品７は図１に示すごとく，
装飾基材６の表面に，金により模様５が形成され，模様
５および装飾基材６の装飾面６０の全体は，ＳｉＯ2 か
らなく保護層１により被覆されている。保護層１の厚み
は２μｍであり，装飾基材６はボーンチャイナである。
本実施例における金装飾品７の製造方法は，模様５が形
成された装飾面６０の全面にテトラアルキルシリケート
の加水分解物溶液を２μｍの厚みに刷毛塗りすること，
及び装飾基材６がボーンチャイナであること以外は，実
施例１と同様である。実施例８における保護層１の鉛筆
強度は４Ｈであった。Embodiment 8 In this embodiment, the gold ornament 7 is as shown in FIG.
The pattern 5 is formed of gold on the surface of the decorative base material 6, and the entire pattern 5 and the decorative surface 60 of the decorative base material 6 are covered with the protective layer 1 instead of SiO 2 . The protective layer 1 has a thickness of 2 μm, and the decorative base material 6 is a bone china.
The method for manufacturing the gold decorative article 7 in this embodiment is to apply a hydrolyzate solution of tetraalkyl silicate to the entire surface of the decorative surface 60 on which the pattern 5 is formed with a brush thickness of 2 μm.
And the same as Example 1 except that the decorative substrate 6 is a bone china. The pencil strength of the protective layer 1 in Example 8 was 4H.
【００２９】実施例９ 本例においては，実施例１〜実施例８の金装飾品の曝露
試験を行った。試験は，５０容量％のＨＣｌ水溶液，Ｎ
ａＣｌＯ溶液（残留塩素６重量％），Ｃｌ2 ガスの中
に，それぞれ上記金装飾品を曝した。曝露時間は，すべ
て３０分間である。Example 9 In this example, an exposure test was conducted on the gold ornaments of Examples 1 to 8. The test was carried out with 50% by volume HCl aqueous solution, N
The gold ornaments were exposed to an aClO solution (residual chlorine 6% by weight) and Cl 2 gas, respectively. All exposure times are 30 minutes.
【００３０】また，比較のために，ＳｉＯ2 の保護層の
ない金装飾品（比較例１，２）を作製し，これについて
も同様に試験を行った。比較例１の装飾基材は結晶化ガ
ラス，比較例２の装飾基材はボーンチャイナである。比
較例１，及び比較例２とも，装飾基材６の表面に，金３
重量％を含むラスター彩を刷毛塗りし，８４０℃で１０
分間焼成して模様を形成したものを用いた。For comparison, gold ornaments without a SiO 2 protective layer (Comparative Examples 1 and 2) were prepared, and the same tests were conducted. The decorative base material of Comparative Example 1 is crystallized glass, and the decorative base material of Comparative Example 2 is bone china. In both Comparative Example 1 and Comparative Example 2, gold 3 was formed on the surface of the decorative base material 6.
Brush painting with a raster containing 10% by weight and apply 10% at 840 ℃.
The one that was fired for a minute to form a pattern was used.
【００３１】上記の結果を表１に示した。表１より知ら
れるように，本実施例１〜８にかかる金装飾品は，いず
れの曝露環境下でも，模様の変化，損傷，変色はなかっ
た。また，金装飾品の外観も良好であった。The above results are shown in Table 1. As is known from Table 1, the gold ornaments according to Examples 1 to 8 did not show any pattern change, damage or discoloration under any exposure environment. Also, the appearance of the gold ornaments was good.
【００３２】これに対し，比較例１，２としての金装飾
品については，ＨＣｌ溶液では，溶液から蒸発するＨＣ
ｌ蒸気で，模様の色が脱色した。また，ＮａＣｌＯ溶液
中，又はＣｌ2 ガス中でも，模様の色が変色した。この
ことから，ＳｉＯ2 の保護層により，金よりなる模様を
被覆することにより，金の溶出を抑制することができ，
模様の損傷を防止することができることがわかる。On the other hand, in the gold ornaments as Comparative Examples 1 and 2, HC solution evaporates HC from the solution.
The color of the pattern was decolorized with l steam. Further, the color of the pattern changed in the NaClO solution or the Cl 2 gas. From this, it is possible to suppress the elution of gold by covering the pattern made of gold with the SiO 2 protective layer,
It can be seen that pattern damage can be prevented.
【００３３】[0033]
【表１】 [Table 1]
【００３４】実施例１０ 本例においては，実施例１〜実施例８の金装飾品の摩耗
試験をおこなった。試験は，市販の砂消ゴムを用い，５
８０ｇの力で上記金装飾品をそれぞれこすることでおこ
なった。また，比較のために，ＳｉＯ2 の保護層のない
金装飾品（比較例１，２）を，実施例９と同様の方法で
作成したものを用いた。比較例１の装飾基材は結晶化ガ
ラス，比較例２の装飾基材はボーンチャイナである。そ
の結果を表２に示す。Example 10 In this example, wear tests of the gold ornaments of Examples 1 to 8 were conducted. For the test, a commercially available sand eraser was used.
It was done by rubbing each of the above gold ornaments with a force of 80 g. For comparison, gold ornaments without a SiO 2 protective layer (Comparative Examples 1 and 2) prepared in the same manner as in Example 9 were used. The decorative base material of Comparative Example 1 is crystallized glass, and the decorative base material of Comparative Example 2 is bone china. The results are shown in Table 2.
【００３５】その結果，表２に示すように，本発明にか
かる金装飾品（実施例１〜８）は，ＳｉＯ2 の保護層の
ない金装飾品（比較例１，２）にくらべ，２倍以上の摩
耗強度があることがわかった。このことから，ＳｉＯ2
の保護層を用い，金よりなる模様を被覆することで，金
装飾品の摩耗強度も向上することがわかる。As a result, as shown in Table 2, the gold ornaments according to the present invention (Examples 1 to 8) are 2 % less than the gold ornaments without the SiO 2 protective layer (Comparative Examples 1 and 2). It was found that there was more than double the wear strength. From this, SiO 2
It can be seen that the wear strength of gold ornaments is improved by using the protective layer and covering the pattern made of gold.
【００３６】[0036]
【表２】 [Table 2]
【００３７】実施例１１ 本例の金装飾品においては，図２に示すごとく，金から
なる模様５の表面にだけＳｉＯ2 からなる保護層１１が
被覆している。装飾基材６は，結晶化ガラスおよびボー
ンチャイナの２種類を用意した。上記金装飾品７１を製
造するに当たっては，まず，実施例１と同様に装飾基材
６に金からなる模様５を形成する。また，テトラアルキ
ルシリケートの加水分解物の溶液を調製する。Example 11 In the gold ornament of this example, as shown in FIG. 2, the surface of the pattern 5 made of gold is covered with the protective layer 11 made of SiO 2 . Two types of decorative base material 6 were prepared: crystallized glass and bone china. In manufacturing the gold ornament 71, first, the pattern 5 made of gold is formed on the decorative base material 6 as in the first embodiment. In addition, a solution of hydrolyzed tetraalkyl silicate is prepared.
【００３８】次いで，模様と同形状の開口部を有するマ
スクパターンを装飾基材６における模様５が形成された
装飾面６０上に配置する。次に，このマスクパターンの
開口部から上記加水分解物の溶液を模様５に塗布する。
塗布厚みはそれぞれ０．１μｍ，０．５μｍ，１μｍ，
２μｍである。次に，これらに８４０℃，１０分間熱処
理を施して，ＳｉＯ2 の保護層１１を形成する。これに
より，上記金装飾品７１が得られる。その他は，実施例
１と同様である。Next, a mask pattern having an opening having the same shape as the pattern is placed on the decorative surface 60 of the decorative substrate 6 on which the pattern 5 is formed. Next, the solution of the hydrolyzate is applied to the pattern 5 through the opening of the mask pattern.
The coating thickness is 0.1 μm, 0.5 μm, 1 μm,
2 μm. Next, these are heat-treated at 840 ° C. for 10 minutes to form the SiO 2 protective layer 11. As a result, the gold ornament 71 is obtained. Others are the same as in the first embodiment.
【００３９】本例の金装飾品７１について実施例１と同
様の曝露試験を行ったところ，いずれの曝露環境下で
も，模様の変化，損傷，変色はなかった。保護層１１の
鉛筆硬度は４Ｈであった。金装飾品の外観も良好であっ
た。When the gold ornament 71 of this example was subjected to the same exposure test as in Example 1, there was no pattern change, damage or discoloration under any exposure environment. The pencil hardness of the protective layer 11 was 4H. The gold ornament also had a good appearance.
【図１】実施例１〜８の金装飾品の説明図。FIG. 1 is an explanatory view of gold ornaments of Examples 1 to 8.
【図２】実施例１０の金装飾品の説明図。FIG. 2 is an explanatory view of a gold ornament of Example 10.
１，１１．．．保護層，５．．．模様，
６０．．．装飾面，６．．．装飾基材，
７，７１．．．金装飾品，1,11. ． ． Protective layer, 5. ． ． pattern,
60. ． ． Decorative surface, 6. ． ． Decorative base material,
7,71. ． ． Gold ornaments,
Claims (9)
された金装飾品において，上記模様の表面は，ＳｉＯ2
からなる保護層により被覆されていることを特徴とする
金装飾品。1. A gold decorative article having a pattern formed of gold on the surface of a decorative substrate, wherein the surface of the pattern is SiO 2
A gold ornament characterized by being covered with a protective layer consisting of.
は，０．０１μｍ〜１０μｍであることを特徴とする金
装飾品。2. The gold ornament according to claim 1, wherein the protective layer has a thickness of 0.01 μm to 10 μm.
は，上記模様の表面だけでなく，模様を形成した装飾基
材の装飾面を被覆していることを特徴とする装飾基材。3. The decorative substrate according to claim 1, wherein the protective layer covers not only the surface of the pattern but also the decorative surface of the patterned decorative substrate.
飾基材は，陶磁器，ガラス，結晶化ガラス，金属，又は
ホーローのいずれかであることを特徴とする金装飾品。4. The gold decorative article according to claim 1, 2, or 3, wherein the decorative base material is any of ceramics, glass, crystallized glass, metal, and enamel.
し，次いで，上記模様の表面に，一般式Ｓｉ（ＯＲ）4
（Ｒはアルキル基を意味する。以下同様。）であらわさ
れるテトラアルキルシリケートの加水分解物を塗布し，
熱処理を施すことにより，上記模様の表面をＳｉＯ2 の
保護層により被覆することを特徴とする金装飾品の製造
方法。5. A pattern is formed on the surface of a decorative substrate with gold, and then the surface of the pattern is formed by the general formula Si (OR) 4
(R means an alkyl group. The same applies hereinafter.) A hydrolyzate of tetraalkyl silicate represented by
A method for producing a gold ornament, characterized in that the surface of the pattern is covered with a protective layer of SiO 2 by heat treatment.
Ｒ）4 中のアルキル基（Ｒ）は，メチル基，エチル基，
プロピル基，及びブチル基のグループから選ばれる１種
又は２種以上であることを特徴とする金装飾品の製造方
法。6. The method of claim 5, wherein the general formula Si (O
The alkyl group (R) in R) 4 is a methyl group, an ethyl group,
A method for producing a gold ornament, which is one or more selected from the group consisting of a propyl group and a butyl group.
アルキルシリケートの加水分解物の塗布厚みは，０．０
１μｍ〜１０μｍであることを特徴とする金装飾品の製
造方法。7. The coating thickness according to claim 5, wherein the hydrolyzate of the tetraalkyl silicate is 0.0
1 μm to 10 μm, a method for producing a gold ornament.
水分解物は，上記模様の表面だけでなく，模様を形成し
た装飾基材の装飾面の表面に塗布することを特徴とする
金装飾品の製造方法。8. The gold according to claim 5, 6, or 7, wherein the hydrolyzate is applied not only to the surface of the pattern but also to the surface of the decorative surface of the decorative base material on which the pattern is formed. Manufacturing method of ornaments.
上記装飾基材は，陶磁器，ガラス，結晶化ガラス，金
属，又はホーローのいずれかであることを特徴とする金
装飾品の製造方法。9. The method according to claim 5, wherein
The method for producing a gold decorative article, wherein the decorative base material is any of ceramics, glass, crystallized glass, metal, and enamel.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15954494A JPH083764A (en) | 1994-06-17 | 1994-06-17 | Gold ornament and its production |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15954494A JPH083764A (en) | 1994-06-17 | 1994-06-17 | Gold ornament and its production |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH083764A true JPH083764A (en) | 1996-01-09 |
Family
ID=15696078
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15954494A Pending JPH083764A (en) | 1994-06-17 | 1994-06-17 | Gold ornament and its production |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH083764A (en) |
-
1994
- 1994-06-17 JP JP15954494A patent/JPH083764A/en active Pending
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