JPH0835059A - 原料蒸気供給装置及び薄膜形成装置 - Google Patents
原料蒸気供給装置及び薄膜形成装置Info
- Publication number
- JPH0835059A JPH0835059A JP19201294A JP19201294A JPH0835059A JP H0835059 A JPH0835059 A JP H0835059A JP 19201294 A JP19201294 A JP 19201294A JP 19201294 A JP19201294 A JP 19201294A JP H0835059 A JPH0835059 A JP H0835059A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- raw material
- opening
- short side
- vapor
- liquid surface
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】本発明は、原料蒸気供給装置及び薄膜形成装置
において、蒸発して付着させる原料の使用効率を向上さ
せ得るようにする。 【構成】開口(9)の形状を矩形に形成すると共に、開
口(9)から溶解した原料(13)の液面(13A)ま
での高さが開口(9)の短辺方向の長さに比して格段的
に大きくかつ液面(13A)の短辺方向の長さが液面
(13A)までの高さのほぼ1/2以下となるように、
全体を鉛直方向に長く形成して、かつ全体を原料(1
3)の溶解温度以上の温度にまで加熱することにより、
内部に付着しても残留することがなくかつ飛散角度を絞
られた原料(13)の蒸気(2)をほぼ所望の付着範囲
(11A)のみに供給させる。
において、蒸発して付着させる原料の使用効率を向上さ
せ得るようにする。 【構成】開口(9)の形状を矩形に形成すると共に、開
口(9)から溶解した原料(13)の液面(13A)ま
での高さが開口(9)の短辺方向の長さに比して格段的
に大きくかつ液面(13A)の短辺方向の長さが液面
(13A)までの高さのほぼ1/2以下となるように、
全体を鉛直方向に長く形成して、かつ全体を原料(1
3)の溶解温度以上の温度にまで加熱することにより、
内部に付着しても残留することがなくかつ飛散角度を絞
られた原料(13)の蒸気(2)をほぼ所望の付着範囲
(11A)のみに供給させる。
Description
【0001】
【目次】以下の順序で本発明を説明する。 産業上の利用分野 従来の技術 発明が解決しようとする課題 課題を解決するための手段(図1) 作用(図1) 実施例(図1〜図3) 発明の効果
【0002】
【産業上の利用分野】本発明は原料蒸気供給装置及び薄
膜形成装置に関し、例えばビデオテープ用高分子化合物
フイルムに磁性材料の薄膜を形成するものに適用し得
る。
膜形成装置に関し、例えばビデオテープ用高分子化合物
フイルムに磁性材料の薄膜を形成するものに適用し得
る。
【0003】
【従来の技術】従来、この種の高分子化合物フイルム
(以下フイルムという)には、磁性材料として例えばコ
バルト・ニツケル合金の薄膜が形成されるものがある。
この薄膜を形成する際、フイルムは、フイルム巻取装置
のシヤツタ付きドラムに巻き付けられる。またルツボ内
のコバルト・ニツケル合金は電子ビームで加熱されて溶
解し、コバルト・ニツケル蒸気を発生させる。シヤツタ
を開くと、露出されたフイルムの表面にコバルト・ニツ
ケル蒸気が付着して薄膜が形成される。
(以下フイルムという)には、磁性材料として例えばコ
バルト・ニツケル合金の薄膜が形成されるものがある。
この薄膜を形成する際、フイルムは、フイルム巻取装置
のシヤツタ付きドラムに巻き付けられる。またルツボ内
のコバルト・ニツケル合金は電子ビームで加熱されて溶
解し、コバルト・ニツケル蒸気を発生させる。シヤツタ
を開くと、露出されたフイルムの表面にコバルト・ニツ
ケル蒸気が付着して薄膜が形成される。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところが、上述のよう
にルツボ内のコバルト・ニツケル合金を電子ビームで加
熱する方法では、コバルト・ニツケル蒸気の拡がり方と
方向とを制御することができない。このためコバルト・
ニツケル蒸気は四方に拡がり、フイルムの表面に加え
て、シヤツタやフイルム巻取装置の周囲にも付着する。
従つてフイルムの表面に付着して有効に使用されるコバ
ルト・ニツケルの量は原料の5%程度となり、原料の使
用効率が非常に低いという問題があつた。
にルツボ内のコバルト・ニツケル合金を電子ビームで加
熱する方法では、コバルト・ニツケル蒸気の拡がり方と
方向とを制御することができない。このためコバルト・
ニツケル蒸気は四方に拡がり、フイルムの表面に加え
て、シヤツタやフイルム巻取装置の周囲にも付着する。
従つてフイルムの表面に付着して有効に使用されるコバ
ルト・ニツケルの量は原料の5%程度となり、原料の使
用効率が非常に低いという問題があつた。
【0005】またフイルムへの均一な薄膜形成を維持す
るには、フイルム巻取装置に付着したコバルト・ニツケ
ルの堆積物を定期的にはがす必要がある。ところが原料
の使用効率が非常に低いため、メインテナンスを短い周
期で繰り返すことになる。従つてメインテナンスの負担
が大きいと共に、この期間は製造工程が停止されて、ス
ループツトが低下するという欠点があつた。
るには、フイルム巻取装置に付着したコバルト・ニツケ
ルの堆積物を定期的にはがす必要がある。ところが原料
の使用効率が非常に低いため、メインテナンスを短い周
期で繰り返すことになる。従つてメインテナンスの負担
が大きいと共に、この期間は製造工程が停止されて、ス
ループツトが低下するという欠点があつた。
【0006】このため、ルツボの開口部を大幅に小さく
してフイルム面に近接させることが考えられる。この方
法によればフイルムに付着するコバルト・ニツケルの蒸
気の量が増加し、原料の使用効率を高くし得る。ところ
がルツボの開口部が電子ビームで走査されるため、ビー
ム源の位置とビーム源からほぼ直線状に飛行する電子ビ
ームの軌跡とを考慮する必要がある。従つて実際上開口
部を大幅に小さくできず、解決策としては未だ不十分で
あつた。
してフイルム面に近接させることが考えられる。この方
法によればフイルムに付着するコバルト・ニツケルの蒸
気の量が増加し、原料の使用効率を高くし得る。ところ
がルツボの開口部が電子ビームで走査されるため、ビー
ム源の位置とビーム源からほぼ直線状に飛行する電子ビ
ームの軌跡とを考慮する必要がある。従つて実際上開口
部を大幅に小さくできず、解決策としては未だ不十分で
あつた。
【0007】本発明は以上の点を考慮してなされたもの
で、蒸発して付着させる原料の使用効率を向上させ得る
原料蒸気供給装置及び薄膜形成装置を提案しようとする
ものである。
で、蒸発して付着させる原料の使用効率を向上させ得る
原料蒸気供給装置及び薄膜形成装置を提案しようとする
ものである。
【0008】
【課題を解決するための手段】かかる課題を解決するた
め本発明においては、原料(13)を収容し、溶解した
原料(13)の蒸気(2)を外部に送出する矩形の開口
(9)が上部に形成されていると共に、開口(9)から
溶解した原料(13)の液面(13A)までの高さが開
口(9)の短辺方向の長さに比して格段的に大きくかつ
液面(13A)の短辺方向の長さが液面(13A)まで
の高さのほぼ1/2以下となるように、全体が鉛直方向
に長く形成された容器手段(7)と、容器手段(7)全
体を原料(13)の溶解温度以上の温度にまで加熱する
加熱手段(8)とを設ける。
め本発明においては、原料(13)を収容し、溶解した
原料(13)の蒸気(2)を外部に送出する矩形の開口
(9)が上部に形成されていると共に、開口(9)から
溶解した原料(13)の液面(13A)までの高さが開
口(9)の短辺方向の長さに比して格段的に大きくかつ
液面(13A)の短辺方向の長さが液面(13A)まで
の高さのほぼ1/2以下となるように、全体が鉛直方向
に長く形成された容器手段(7)と、容器手段(7)全
体を原料(13)の溶解温度以上の温度にまで加熱する
加熱手段(8)とを設ける。
【0009】また本発明においては、原料(13)を収
容し、溶解した原料(13)の蒸気(2)を外部に送出
する矩形の開口(9)が上部に形成されていると共に、
開口(9)から溶解した原料(13)の液面(13A)
までの高さが開口(9)の短辺方向の長さに比して格段
的に大きくかつ液面(13A)の短辺方向の長さが液面
(13A)までの高さのほぼ1/2以下となるように、
全体が鉛直方向に長く形成された容器手段(7)と、容
器手段(7)全体を原料(13)の溶解温度以上の温度
にまで加熱する加熱手段(8)とを有する原料蒸気供給
部(6)と、溶解した原料(13)の蒸気(2)を付着
して蒸気(2)の薄膜を形成させる付着対象(3)を開
口(9)に対して相対的に移動するように駆動する付着
対象駆動部(5)とを設ける。
容し、溶解した原料(13)の蒸気(2)を外部に送出
する矩形の開口(9)が上部に形成されていると共に、
開口(9)から溶解した原料(13)の液面(13A)
までの高さが開口(9)の短辺方向の長さに比して格段
的に大きくかつ液面(13A)の短辺方向の長さが液面
(13A)までの高さのほぼ1/2以下となるように、
全体が鉛直方向に長く形成された容器手段(7)と、容
器手段(7)全体を原料(13)の溶解温度以上の温度
にまで加熱する加熱手段(8)とを有する原料蒸気供給
部(6)と、溶解した原料(13)の蒸気(2)を付着
して蒸気(2)の薄膜を形成させる付着対象(3)を開
口(9)に対して相対的に移動するように駆動する付着
対象駆動部(5)とを設ける。
【0010】
【作用】開口(9)の形状を矩形に形成すると共に、開
口(9)から溶解した原料(13)の液面(13A)ま
での高さが開口(9)の短辺方向の長さに比して格段的
に大きくかつ液面(13A)の短辺方向の長さが液面
(13A)までの高さのほぼ1/2以下となるように、
全体を鉛直方向に長く形成して、かつ全体を原料(1
3)の溶解温度以上の温度にまで加熱することにより、
内部に付着しても残留することがなくかつ飛散角度を絞
られた原料(13)の蒸気(2)をほぼ所望の付着範囲
(11A)のみに供給することができる。従つて原料
(13)の使用効率を格段的に向上させ得る。
口(9)から溶解した原料(13)の液面(13A)ま
での高さが開口(9)の短辺方向の長さに比して格段的
に大きくかつ液面(13A)の短辺方向の長さが液面
(13A)までの高さのほぼ1/2以下となるように、
全体を鉛直方向に長く形成して、かつ全体を原料(1
3)の溶解温度以上の温度にまで加熱することにより、
内部に付着しても残留することがなくかつ飛散角度を絞
られた原料(13)の蒸気(2)をほぼ所望の付着範囲
(11A)のみに供給することができる。従つて原料
(13)の使用効率を格段的に向上させ得る。
【0011】
【実施例】以下図面について、本発明の一実施例を詳述
する。
する。
【0012】図1において、1は全体として磁性材料で
あるコバルト・ニツケルの蒸気2を真空中で大面積の例
えばポリエステルフイルム3の表面に付着させて薄膜を
形成する蒸着装置を示す。蒸着装置1は、フイルム巻取
装置4のシヤツタ付きドラム5の下方に原料蒸発部6を
配している。
あるコバルト・ニツケルの蒸気2を真空中で大面積の例
えばポリエステルフイルム3の表面に付着させて薄膜を
形成する蒸着装置を示す。蒸着装置1は、フイルム巻取
装置4のシヤツタ付きドラム5の下方に原料蒸発部6を
配している。
【0013】原料蒸発部6は、全体が縦長のほぼ4角い
箱形状で上面が長い矩形に形成されたルツボ7と、この
ルツボ7の周囲に巻かれた高周波誘導加熱用コイル8と
でなる。このルツボ7の上部には、長辺に平行な長い矩
形の蒸気発生口9が形成されている。蒸気発生口9の長
辺方向の長さはシヤツタ付きドラム5の幅とほぼ同一で
なる。
箱形状で上面が長い矩形に形成されたルツボ7と、この
ルツボ7の周囲に巻かれた高周波誘導加熱用コイル8と
でなる。このルツボ7の上部には、長辺に平行な長い矩
形の蒸気発生口9が形成されている。蒸気発生口9の長
辺方向の長さはシヤツタ付きドラム5の幅とほぼ同一で
なる。
【0014】ルツボ7は、蒸気発生口9の長手方向がド
ラム5の回転軸10の方向と平行になると共に、蒸気発
生口9を長手方向に2分する鉛直面とシヤツタ付きドラ
ム5の外周面を2分する鉛直面とが一致するように配さ
れている。これにより蒸気発生口9から飛散した蒸気2
は、ドラム5の外周面を2分する鉛直面を中心に平均的
に付着する。
ラム5の回転軸10の方向と平行になると共に、蒸気発
生口9を長手方向に2分する鉛直面とシヤツタ付きドラ
ム5の外周面を2分する鉛直面とが一致するように配さ
れている。これにより蒸気発生口9から飛散した蒸気2
は、ドラム5の外周面を2分する鉛直面を中心に平均的
に付着する。
【0015】また図2に示すように、蒸気発生口9は、
回転軸10の斜め下方のシヤツタ11の開口部11Aの
真下に配されている。シヤツタ11の開口度は、シヤツ
タ11を含むフイルム巻取装置4の周囲に付着する蒸気
2が少なくなると共に、磁気特性を決定する最大入射角
が満足される範囲に調節される。因みに、原料蒸発部6
の上方には、排気系(図示せず)が配されており、ポリ
エステルフイルム3に付着しなかつた蒸気2は排除され
る。
回転軸10の斜め下方のシヤツタ11の開口部11Aの
真下に配されている。シヤツタ11の開口度は、シヤツ
タ11を含むフイルム巻取装置4の周囲に付着する蒸気
2が少なくなると共に、磁気特性を決定する最大入射角
が満足される範囲に調節される。因みに、原料蒸発部6
の上方には、排気系(図示せず)が配されており、ポリ
エステルフイルム3に付着しなかつた蒸気2は排除され
る。
【0016】図2に示すように、蒸気発生口9は、ルツ
ボ7の内面の上端から短辺方向に伸びる天井板12が一
体に形成されて、ルツボ7の内面の幅のほぼ半分の幅に
狭められている。これにより蒸気発生口9の長辺の方向
から見たときの蒸気2が飛散する角度は、溶解した蒸着
原料すなわちコバルト・ニツケル合金13の液面13A
の短辺方向の両端と、狭められた蒸気発生口9の両端と
を結ぶ対角線の範囲にまで制限される。従つて蒸気2が
飛散する角度は、天井板12が配されていない場合に比
して約半分の角度まで絞られている。
ボ7の内面の上端から短辺方向に伸びる天井板12が一
体に形成されて、ルツボ7の内面の幅のほぼ半分の幅に
狭められている。これにより蒸気発生口9の長辺の方向
から見たときの蒸気2が飛散する角度は、溶解した蒸着
原料すなわちコバルト・ニツケル合金13の液面13A
の短辺方向の両端と、狭められた蒸気発生口9の両端と
を結ぶ対角線の範囲にまで制限される。従つて蒸気2が
飛散する角度は、天井板12が配されていない場合に比
して約半分の角度まで絞られている。
【0017】ルツボ7の高さは、液面13Aからドラム
5までの距離、蒸気2の拡散する角度、シヤツタ11の
開口部11Aの開口度等を考慮して決定されている(こ
こではルツボ7の高さは、例えば蒸気発生口9から液面
13Aまでの高さが、ルツボ7の内面の短辺方向の長さ
の約 3.5倍になると共に、液面13Aの短辺方向の長さ
が液面13Aまでの高さのほぼ1/2以下になるように
設定されている)。
5までの距離、蒸気2の拡散する角度、シヤツタ11の
開口部11Aの開口度等を考慮して決定されている(こ
こではルツボ7の高さは、例えば蒸気発生口9から液面
13Aまでの高さが、ルツボ7の内面の短辺方向の長さ
の約 3.5倍になると共に、液面13Aの短辺方向の長さ
が液面13Aまでの高さのほぼ1/2以下になるように
設定されている)。
【0018】図3に示すように、ルツボ7は、縦長のそ
れぞれ4角い箱形状の内槽7A、中間槽7B及び外槽7
Cでなる。天井板12は、内槽7Aの上方に形成されて
いる。また内槽7A、中間槽7B及び外槽7Cの材質
は、それぞれマグネシア、カーボン及びマグネシアでな
る。
れぞれ4角い箱形状の内槽7A、中間槽7B及び外槽7
Cでなる。天井板12は、内槽7Aの上方に形成されて
いる。また内槽7A、中間槽7B及び外槽7Cの材質
は、それぞれマグネシア、カーボン及びマグネシアでな
る。
【0019】以上の構成において、高周波誘導加熱用コ
イル8は、ルツボ7の中間槽7Bを誘導加熱することに
よつて、ルツボ7全体をコバルト・ニツケル合金13の
融点以上に加熱する。これによりコバルト・ニツケル合
金13全体が溶融されて十分大きな熱容量を有すること
になる。従つて十分大きな運動エネルギーを与えられた
蒸気2が液面13A全体から均一に発生する。
イル8は、ルツボ7の中間槽7Bを誘導加熱することに
よつて、ルツボ7全体をコバルト・ニツケル合金13の
融点以上に加熱する。これによりコバルト・ニツケル合
金13全体が溶融されて十分大きな熱容量を有すること
になる。従つて十分大きな運動エネルギーを与えられた
蒸気2が液面13A全体から均一に発生する。
【0020】十分大きな運動エネルギーを与えられてい
ると共に、飛散角度を絞られているため、ルツボ7内で
発生した蒸気2は、蒸気発生口9からほぼ真上に送出さ
れる。続いて、蒸気2は、開口部11を通過して、回転
しているドラム5に巻き付けられて走行するポリエステ
ルフイルム3に付着する。
ると共に、飛散角度を絞られているため、ルツボ7内で
発生した蒸気2は、蒸気発生口9からほぼ真上に送出さ
れる。続いて、蒸気2は、開口部11を通過して、回転
しているドラム5に巻き付けられて走行するポリエステ
ルフイルム3に付着する。
【0021】一方、液面13Aから内槽7Aの内面に付
着した蒸気2は、ルツボ7全体がコバルト・ニツケル合
金13の融点以上に加熱されていることにより、再溶解
して内槽7A内に落下したり再蒸発する。従つて蒸気発
生口9が狭くても、蒸気2が堆積して蒸気発生口9を詰
まらせることはない。
着した蒸気2は、ルツボ7全体がコバルト・ニツケル合
金13の融点以上に加熱されていることにより、再溶解
して内槽7A内に落下したり再蒸発する。従つて蒸気発
生口9が狭くても、蒸気2が堆積して蒸気発生口9を詰
まらせることはない。
【0022】このようにして、蒸気2の飛散角度や方向
を調節してポリエステルフイルム3に付着させることに
より、ルツボ7から送出された蒸気2のうち、ポリエス
テルフイルム3以外の部分に付着するものを格段的に減
少させることができる。従つてルツボ7内のコバルト・
ニツケル合金13は有効に使用され、使用効率を格段的
に高くすることができる。
を調節してポリエステルフイルム3に付着させることに
より、ルツボ7から送出された蒸気2のうち、ポリエス
テルフイルム3以外の部分に付着するものを格段的に減
少させることができる。従つてルツボ7内のコバルト・
ニツケル合金13は有効に使用され、使用効率を格段的
に高くすることができる。
【0023】以上の構成によれば、蒸気発生口9の形状
を矩形に形成すると共に、蒸気発生口9から液面13A
までの高さが蒸気発生口9の短辺方向の長さに比して格
段的に大きく(ここでは7倍程度以上)かつ液面13A
の短辺方向の長さが液面13Aまでの高さのほぼ1/2
以下となるように、全体を縦長に形成して、かつ全体を
コバルト・ニツケル合金13の溶解温度以上の温度にま
で加熱することにより、内部に付着しても残留すること
がなくかつ飛散角度を絞られた蒸気2をほぼ開口部11
Aのみに供給することができる。従つてコバルト・ニツ
ケル合金13の使用効率を格段的に向上させることがで
きる。
を矩形に形成すると共に、蒸気発生口9から液面13A
までの高さが蒸気発生口9の短辺方向の長さに比して格
段的に大きく(ここでは7倍程度以上)かつ液面13A
の短辺方向の長さが液面13Aまでの高さのほぼ1/2
以下となるように、全体を縦長に形成して、かつ全体を
コバルト・ニツケル合金13の溶解温度以上の温度にま
で加熱することにより、内部に付着しても残留すること
がなくかつ飛散角度を絞られた蒸気2をほぼ開口部11
Aのみに供給することができる。従つてコバルト・ニツ
ケル合金13の使用効率を格段的に向上させることがで
きる。
【0024】またコバルト・ニツケル合金13の使用効
率を格段的に高くすることができることにより、ポリエ
ステルフイルム3以外の部分に付着したものをはがすメ
インテナンスの期間を従来に比して大幅に長くすること
ができる。従つてメインテナンスの負担を小さくするこ
とができると共に、スループツトを向上させることがで
きる。
率を格段的に高くすることができることにより、ポリエ
ステルフイルム3以外の部分に付着したものをはがすメ
インテナンスの期間を従来に比して大幅に長くすること
ができる。従つてメインテナンスの負担を小さくするこ
とができると共に、スループツトを向上させることがで
きる。
【0025】さらに蒸気発生口9が詰まらないことによ
り、ルツボ7内のコバルト・ニツケル合金13を使い終
わるまで均一な蒸気2が送出されて、均一な厚さのコバ
ルト・ニツケル合金薄膜がポリエステルフイルム3に形
成される時間を一段と長くすることができる。
り、ルツボ7内のコバルト・ニツケル合金13を使い終
わるまで均一な蒸気2が送出されて、均一な厚さのコバ
ルト・ニツケル合金薄膜がポリエステルフイルム3に形
成される時間を一段と長くすることができる。
【0026】なお上述の実施例においては、材質がそれ
ぞれマグネシア、カーボン及びマグネシアでなる3層の
ルツボ7を高周波誘導加熱する場合について述べたが、
本発明はこれに限らず、ルツボの材質は、蒸発させる原
料の種類やその融点等に応じた材質を使用すれば良い。
またルツボは3層以外の構成でも良い。さらにルツボを
加熱する方法は電気ヒータで直接包んで加熱する方法で
も良い。この場合にも上述と同様の効果を得ることがで
きる。
ぞれマグネシア、カーボン及びマグネシアでなる3層の
ルツボ7を高周波誘導加熱する場合について述べたが、
本発明はこれに限らず、ルツボの材質は、蒸発させる原
料の種類やその融点等に応じた材質を使用すれば良い。
またルツボは3層以外の構成でも良い。さらにルツボを
加熱する方法は電気ヒータで直接包んで加熱する方法で
も良い。この場合にも上述と同様の効果を得ることがで
きる。
【0027】また上述の実施例においては、ルツボ7に
天井板12を形成する場合について述べたが、本発明は
これに限らず、天井板がないルツボを使用する場合や、
例えば液面付近から蒸気発生口に近接するに従つて狭く
なるように形成されたルツボを使用する場合にも適用で
きる。
天井板12を形成する場合について述べたが、本発明は
これに限らず、天井板がないルツボを使用する場合や、
例えば液面付近から蒸気発生口に近接するに従つて狭く
なるように形成されたルツボを使用する場合にも適用で
きる。
【0028】さらに上述の実施例においては、コバルト
・ニツケルの蒸気2をポリエステルフイルム3に付着さ
せる場合について述べたが、本発明はこれに限らず、磁
性材料以外の金属,金属酸化物、半導体等の無機物の蒸
気をポリエステル以外の有機高分子化合物フイルムや、
半導体、金属、金属酸化物等の無機物のフイルムや基板
に付着させる場合にも適用できる。
・ニツケルの蒸気2をポリエステルフイルム3に付着さ
せる場合について述べたが、本発明はこれに限らず、磁
性材料以外の金属,金属酸化物、半導体等の無機物の蒸
気をポリエステル以外の有機高分子化合物フイルムや、
半導体、金属、金属酸化物等の無機物のフイルムや基板
に付着させる場合にも適用できる。
【0029】さらに上述の実施例においては、蒸気発生
口9の長手方向がドラム5の回転軸10の方向と平行に
配され、ポリエステルフイルム3をドラム5に巻き付け
て走行させる場合について述べたが、本発明はこれに限
らず、蒸気を付着させるフイルムや基板を蒸気発生口の
長手方向と任意の角度で交差する直線方向に走行させる
場合にも適用できる。
口9の長手方向がドラム5の回転軸10の方向と平行に
配され、ポリエステルフイルム3をドラム5に巻き付け
て走行させる場合について述べたが、本発明はこれに限
らず、蒸気を付着させるフイルムや基板を蒸気発生口の
長手方向と任意の角度で交差する直線方向に走行させる
場合にも適用できる。
【0030】
【発明の効果】上述のように本発明によれば、開口の形
状を矩形に形成すると共に、開口から溶解した原料の液
面までの高さが開口の短辺方向の長さに比して格段的に
大きくかつ液面の短辺方向の長さが液面までの高さのほ
ぼ1/2以下となるように、全体を鉛直方向に長く形成
して、かつ全体を原料の溶解温度以上の温度にまで加熱
することにより、内部に付着しても残留することがなく
かつ飛散角度を絞られた原料の蒸気をほぼ所望の付着範
囲のみに供給することができる。従つて原料の使用効率
を格段的に向上させ得る原料蒸気供給装置及び薄膜形成
装置を実現できる。
状を矩形に形成すると共に、開口から溶解した原料の液
面までの高さが開口の短辺方向の長さに比して格段的に
大きくかつ液面の短辺方向の長さが液面までの高さのほ
ぼ1/2以下となるように、全体を鉛直方向に長く形成
して、かつ全体を原料の溶解温度以上の温度にまで加熱
することにより、内部に付着しても残留することがなく
かつ飛散角度を絞られた原料の蒸気をほぼ所望の付着範
囲のみに供給することができる。従つて原料の使用効率
を格段的に向上させ得る原料蒸気供給装置及び薄膜形成
装置を実現できる。
【図1】本発明による原料蒸気供給装置及び薄膜形成装
置の一実施例による蒸着装置を示す全体構成図である。
置の一実施例による蒸着装置を示す全体構成図である。
【図2】蒸着装置の説明に供する断面図である。
【図3】ルツボの構成を示す斜視図である。
1……蒸着装置、2……コバルト・ニツケルの蒸気、3
……ポリエステルフイルム、4……フイルム巻取装置、
5……シヤツタ付きドラム、6……原料蒸発部、7……
ルツボ、7A……内槽、7B……中間槽、7C……外
槽、8……高周波誘導加熱用コイル、9……蒸気発生
口、10……回転軸、11……シヤツタ、11A……開
口部、12……天井板、13……コバルト・ニツケル合
金、13A……液面。
……ポリエステルフイルム、4……フイルム巻取装置、
5……シヤツタ付きドラム、6……原料蒸発部、7……
ルツボ、7A……内槽、7B……中間槽、7C……外
槽、8……高周波誘導加熱用コイル、9……蒸気発生
口、10……回転軸、11……シヤツタ、11A……開
口部、12……天井板、13……コバルト・ニツケル合
金、13A……液面。
Claims (6)
- 【請求項1】原料を収容し、溶解した当該原料の蒸気を
外部に供給する矩形の開口が上部に形成されていると共
に、当該開口から上記溶解した原料の液面までの高さが
当該開口の短辺方向の長さに比して格段的に大きくかつ
当該液面の当該短辺方向の長さが当該液面までの高さの
ほぼ1/2以下となるように、全体が鉛直方向に長く形
成された容器手段と、 上記容器手段全体を上記原料の溶解温度以上の温度にま
で加熱する加熱手段とを具えることを特徴とする原料蒸
気供給装置。 - 【請求項2】上記加熱手段は、高周波誘導により上記原
料を加熱することを特徴とする請求項1に記載の原料蒸
気供給装置。 - 【請求項3】上記容器手段は、上記開口の開口度を当該
開口の短辺方向に制限する制限部材を有することを特徴
とする請求項1に記載の原料蒸気供給装置。 - 【請求項4】原料を収容し、溶解した当該原料の蒸気を
外部に供給する矩形の開口が上部に形成されていると共
に、当該開口から上記溶解した原料の液面までの高さが
当該開口の短辺方向の長さに比して格段的に大きくかつ
当該液面の当該短辺方向の長さが当該液面までの高さの
ほぼ1/2以下となるように、全体が鉛直方向に長く形
成された容器手段と、当該容器手段全体を上記原料の溶
解温度以上の温度にまで加熱する加熱手段とを有する原
料蒸気供給部と、 上記溶解した原料の蒸気を付着して当該蒸気の薄膜を形
成させる付着対象を上記開口に対して相対的に移動する
ように駆動する付着対象駆動部とを具えることを特徴と
する薄膜形成装置。 - 【請求項5】上記加熱手段は、高周波誘導により上記原
料を加熱することを特徴とする請求項4に記載の薄膜形
成装置。 - 【請求項6】上記容器手段は、上記開口の開口度を当該
開口の短辺方向に制限する制限部材を有することを特徴
とする請求項4に記載の薄膜形成装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19201294A JPH0835059A (ja) | 1994-07-22 | 1994-07-22 | 原料蒸気供給装置及び薄膜形成装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19201294A JPH0835059A (ja) | 1994-07-22 | 1994-07-22 | 原料蒸気供給装置及び薄膜形成装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0835059A true JPH0835059A (ja) | 1996-02-06 |
Family
ID=16284142
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP19201294A Pending JPH0835059A (ja) | 1994-07-22 | 1994-07-22 | 原料蒸気供給装置及び薄膜形成装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0835059A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008542537A (ja) * | 2005-05-31 | 2008-11-27 | コラス、テクノロジー、ベスローテン、フェンノートシャップ | 基材を被覆する装置および方法 |
DE102009057903A1 (de) * | 2009-12-11 | 2011-06-16 | Calyxo Gmbh | Hochtemperaturgasverdampfungsvorrichtung und Verfahren zur Hochtemperaturgasverdampfung |
-
1994
- 1994-07-22 JP JP19201294A patent/JPH0835059A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008542537A (ja) * | 2005-05-31 | 2008-11-27 | コラス、テクノロジー、ベスローテン、フェンノートシャップ | 基材を被覆する装置および方法 |
DE102009057903A1 (de) * | 2009-12-11 | 2011-06-16 | Calyxo Gmbh | Hochtemperaturgasverdampfungsvorrichtung und Verfahren zur Hochtemperaturgasverdampfung |
DE102009057903B4 (de) * | 2009-12-11 | 2013-05-02 | Calyxo Gmbh | Hochtemperaturgasverdampfungsvorrichtung und Verfahren zur Hochtemperaturgasverdampfung |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6002888B2 (ja) | 成膜方法 | |
JP7301578B2 (ja) | 成膜装置及び成膜方法 | |
JP6851143B2 (ja) | 蒸発源、真空蒸着装置および真空蒸着方法 | |
CN104024467A (zh) | SrRuO3膜的沉积方法 | |
JPH0835059A (ja) | 原料蒸気供給装置及び薄膜形成装置 | |
JP4843873B2 (ja) | 斜め蒸着装置および斜め蒸着方法 | |
JP3877178B2 (ja) | 真空蒸着装置 | |
JP3103676B2 (ja) | 真空蒸着方法 | |
JPS63277752A (ja) | 真空蒸着装置 | |
JP3172588B2 (ja) | 真空蒸着における原料金属溶融方法 | |
JP2005105375A (ja) | 薄膜の製造方法及び薄膜の製造装置 | |
JPH0798861A (ja) | 磁気記録媒体の製造装置 | |
JP3529393B2 (ja) | 真空蒸着装置 | |
JPS6147221B2 (ja) | ||
JPH05106028A (ja) | エネルギービームによる蒸着方法 | |
JPH11350112A (ja) | Pvd装置における蒸発原料の充填方法 | |
JPH0617239A (ja) | 真空蒸着における原料金属供給方法 | |
JPS63259836A (ja) | 磁気記録媒体の製造装置 | |
KR20220074617A (ko) | 분말코팅장치 | |
JPH09143723A (ja) | 連続真空蒸着装置および連続真空蒸着方法 | |
JPH0532468B2 (ja) | ||
JPS58150424A (ja) | 微粒子の表面を被覆処理する方法 | |
JPH0798868A (ja) | 磁気記録媒体の製造装置 | |
JP2864692B2 (ja) | 蒸着装置 | |
JPH0230442Y2 (ja) |