JPH08338991A - Liquid crystal panel, projector and liquid crystal display device - Google Patents

Abstract

PURPOSE: To provide a liquid crystal panel having a black matrix whose reflectance at a high shielding area is high and which is made a thin film state without complicating the manufacturing process of the liquid crystal panel, and a projector and a liquid crystal display device using the liquid crystal panel. CONSTITUTION: As for the liquid crystal panel having glass substrates 10 and 30 arranged opposed to each other, liquid crystal 39 sealed in between the glass substrates 10 and 30, a picture element electrode 38 provided at the glass substrate 30 and orienting the liquid crystal 39 by applying voltage and light shielding film 42 provided at the glass substrate 10 and shielding light made incident on an area where the picture element electrode 38 is not formed; the light shielding film 42 is constituted of first film 12 provided on the glass substrate 10 and at least having a layer that consists of material whose specific resistance is <=10<9> Ω.cm and second film 14 provided on the first film 12 and absorbing the light.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【０００１】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、スクリーン上に画
像を拡大投影するプロジェクタに係り、特に、プロジェ
クタに用いられる液晶パネル、液晶表示装置、及びプロ
ジェクタに関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a projector for enlarging and projecting an image on a screen, and more particularly to a liquid crystal panel, a liquid crystal display device, and a projector used for the projector.

【０００２】[0002]

【従来の技術】液晶プロジェクタは、光源から放射され
る光を空間変調素子によって変調し、投影レンズにより
スクリーン上に投影する装置である。空間変調素子は、
多数の画素から構成されており、各画素を各々独立に電
気的に動作することにより透過光を制御するものであ
る。2. Description of the Related Art A liquid crystal projector is a device in which light emitted from a light source is modulated by a spatial modulator and projected onto a screen by a projection lens. The spatial modulator is
It is composed of a large number of pixels, and the transmitted light is controlled by electrically operating each pixel independently.

【０００３】このような空間変調素子のうち、電界を印
加した状態で黒を表示する空間変調素子では各画素間を
黒表示することができないため、画素間において光漏れ
が発生して表示品質が劣化してしまう。そのため、画素
間には遮光性の部材、いわゆるブラックマトリクスが配
設されている。空間変調素子の一種である液晶パネルに
おいては、ブラックマトリクスの材料としてはクロム膜
が一般に用いられている。クロム膜は、遮光性に優れて
いるとともに、薄膜の成膜性、加工性、耐薬品性、耐ガ
ス性に優れているため、液晶パネルの製造プロセスに適
合し得る廉価な材料だからである。通常クロム膜の膜厚
は、十分な遮光能力を得るために１２０ｎｍ以上に設定
されている。Among such spatial modulators, a spatial modulator that displays black when an electric field is applied cannot display black between pixels, so that light leakage occurs between pixels and the display quality is reduced. It will deteriorate. Therefore, a light-shielding member, a so-called black matrix, is arranged between the pixels. In a liquid crystal panel, which is a type of spatial modulation element, a chromium film is generally used as a material for a black matrix. This is because the chrome film is excellent in light-shielding property, and also excellent in film forming property, workability, chemical resistance, and gas resistance of a thin film, and is therefore an inexpensive material that can be adapted to the manufacturing process of the liquid crystal panel. Usually, the thickness of the chromium film is set to 120 nm or more in order to obtain a sufficient light shielding ability.

【０００４】このようなクロム膜をブラックマトリクス
として使用した場合、入射した光のうち約４０％を反射
することができる。残りの６０％の入射光については、
ブラックマトリクスにおける遮光能力を高めるために、
可能な限りクロム膜自身により吸収する必要がある。し
かしながら、液晶パネルの構造上、ブラックマトリクス
はガラス基板により両側を封じられているため、光吸収
により生じた熱は容易には外部に放出されない。特に、
液晶プロジェクタでは液晶パネルに強力な光が入射する
ため、ブラックマトリクスに隣接する液晶、配向膜、Ｔ
ＦＴ（薄膜トランジスタ）までもが高温となり、液晶パ
ネルの信頼性の低下をもたらすことになる。When such a chromium film is used as a black matrix, about 40% of incident light can be reflected. For the remaining 60% of the incident light,
To enhance the light blocking ability of the black matrix,
It should be absorbed by the chromium film itself as much as possible. However, due to the structure of the liquid crystal panel, the black matrix is sealed on both sides by the glass substrate, so that the heat generated by light absorption is not easily released to the outside. In particular,
In a liquid crystal projector, strong light is incident on the liquid crystal panel.
Even the FT (thin film transistor) becomes high temperature, resulting in a decrease in reliability of the liquid crystal panel.

【０００５】このような問題を解決するため、特開平６
−３０１０２３号公報記載の液晶パネルでは、ＺｒＯ膜
などの誘電体膜からなる干渉膜と、クロム膜等からなる
遮光性膜とによりブラックマトリクスを構成し、増反射
となる構造を形成している。このようにしてブラックマ
トリクスに干渉膜を形成することにより、反射率を約６
０％程度にまで高めることができるので、ブラックマト
リクスの昇温を抑制することが可能となる。In order to solve such a problem, Japanese Unexamined Patent Publication (Kokai) No. Hei 6
In the liquid crystal panel described in Japanese Patent No. 301023, a black matrix is constituted by an interference film made of a dielectric film such as a ZrO film and a light-shielding film made of a chromium film or the like to form a structure for increased reflection. By thus forming the interference film on the black matrix, the reflectance is about 6
Since the temperature can be increased to about 0%, it is possible to suppress the temperature rise of the black matrix.

【０００６】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の液晶パネルでは、干渉膜として誘電体膜を用いてい
るが、誘電体膜は、遮光性膜に用いるクロム膜と同一の
条件で加工することができないので、遮光性膜と干渉膜
とを別々に加工する必要があり、製造工程が複雑になる
といった問題があった。However, in the above-mentioned conventional liquid crystal panel, the dielectric film is used as the interference film, but the dielectric film should be processed under the same conditions as the chromium film used for the light shielding film. Therefore, it is necessary to separately process the light-shielding film and the interference film, which complicates the manufacturing process.

【０００７】また、誘電体膜は一般に光の吸収が小さい
ので、誘電体膜自身には遮光能力がない。従って、誘電
体膜により干渉膜を設ける場合には、干渉膜の膜厚分ブ
ラックマトリクスの厚さが増加するといった問題があっ
た。本発明の目的は、反射率が高く、液晶パネルの製造
工程を複雑にせずに薄膜化が可能なブラックマトリクス
を有する液晶パネル、及びその液晶パネルを用いたプロ
ジェクタ、液晶表示装置を提供することにある。Further, since the dielectric film generally has a small light absorption, the dielectric film itself does not have a light-shielding ability. Therefore, when the interference film is provided by the dielectric film, there is a problem that the thickness of the black matrix increases by the film thickness of the interference film. An object of the present invention is to provide a liquid crystal panel having a black matrix which has a high reflectance and can be thinned without complicating the manufacturing process of the liquid crystal panel, and a projector and a liquid crystal display device using the liquid crystal panel. is there.

【０００８】[0008]

【課題を解決するための手段】上記目的は、対向して配
置された一対の基板と、前記一対の基板間に封入された
液晶と、前記一対の基板の一方又は両方に設けられた遮
光膜とを有する液晶パネルにおいて、前記遮光膜は、前
記基板上に設けられ、比抵抗が１０⁹Ω・ｃｍ以下の材
料からなる層を少なくとも有する第１の膜と、前記第１
の膜上に設けられ、光を吸収する第２の膜とを有するこ
とを特徴とする液晶パネルによって達成される。このよ
うに液晶パネルを構成することにより、遮光膜の膜厚を
厚くすることなく遮光膜の反射率を高めることができ
る。The above object is to provide a pair of substrates arranged to face each other, a liquid crystal enclosed between the pair of substrates, and a light-shielding film provided on one or both of the pair of substrates. In the liquid crystal panel having: the light-shielding film, the first film having at least a layer formed on the substrate and made of a material having a specific resistance of 10 ⁹ Ω · cm or less;
And a second film which is provided on the film and absorbs light. By configuring the liquid crystal panel in this way, the reflectance of the light shielding film can be increased without increasing the film thickness of the light shielding film.

【０００９】また、上記の液晶パネルにおいて、前記第
１の膜及び前記第２の膜は金属膜であることが望まし
い。このように液晶パネルを構成すれば遮光膜を薄くす
ることができるので、液晶パネルを小型化するのに好適
である。また、上記の液晶パネルにおいて、前記第１の
膜は、前記第２の膜の反射率を増加させることが望まし
い。このように液晶パネルを構成すれば入射光により遮
光膜が加熱することを抑えることができるので、液晶パ
ネルの信頼性を高めることができる。In the above liquid crystal panel, it is desirable that the first film and the second film are metal films. By configuring the liquid crystal panel in this way, the light-shielding film can be made thin, which is suitable for downsizing the liquid crystal panel. Further, in the above liquid crystal panel, it is preferable that the first film increase the reflectance of the second film. By configuring the liquid crystal panel in this way, it is possible to prevent the light shielding film from being heated by the incident light, so that the reliability of the liquid crystal panel can be improved.

【００１０】また、上記の液晶パネルにおいて、前記遮
光膜は、前記第１の膜と前記基板との間に弗化金属膜を
更に有することが望ましい。こうすることにより、遮光
膜の反射率を更に高めることができる。また、対向して
配置された一対の基板と、前記一対の基板間に封入され
た液晶と、前記一対の基板の一方又は両方に設けられた
遮光膜とを有する液晶パネルにおいて、前記基板と前記
遮光膜との間の前記基板の少なくとも表示領域全面に設
けられ、前記遮光膜の反射率を増加する第１の透明膜を
更に有することを特徴とする液晶パネルによっても達成
される。このように液晶パネルを構成することにより、
液晶パネルの製造プロセスを複雑にすることなく遮光膜
の反射率を高めることができる。In the above liquid crystal panel, it is desirable that the light shielding film further has a metal fluoride film between the first film and the substrate. By doing so, the reflectance of the light shielding film can be further increased. Further, in a liquid crystal panel having a pair of substrates arranged to face each other, a liquid crystal enclosed between the pair of substrates, and a light-shielding film provided on one or both of the pair of substrates, the substrate and the The present invention can also be achieved by a liquid crystal panel, further comprising a first transparent film which is provided on at least the entire display region of the substrate between the light shielding film and increases the reflectance of the light shielding film. By configuring the liquid crystal panel in this way,
The reflectance of the light shielding film can be increased without complicating the manufacturing process of the liquid crystal panel.

【００１１】また、上記の液晶パネルにおいて、前記遮
光膜は、前記第１の透明膜上に設けられた第１の膜と、
前記第１の膜上に設けられ、光を吸収する第２の膜とを
有し、前記第１の膜と前記第１の透明膜とからなる積層
膜は、前記第２の膜の反射率を増加することが望まし
い。このように液晶パネルを構成することにより、液晶
パネルの製造プロセスを複雑にすることなく遮光膜の反
射率を高めることができる。Further, in the above liquid crystal panel, the light shielding film includes a first film provided on the first transparent film,
A laminated film, which is provided on the first film and has a second film that absorbs light, and which includes the first film and the first transparent film, has a reflectance of the second film. It is desirable to increase. By configuring the liquid crystal panel as described above, the reflectance of the light shielding film can be increased without complicating the manufacturing process of the liquid crystal panel.

【００１２】また、上記の液晶パネルにおいて、前記遮
光膜が形成されていない領域の前記第１の透明膜上に設
けられ、前記遮光膜が形成されていない領域の反射率を
低減する第２の透明膜を更に有することが望ましい。こ
のように液晶パネルを構成すれば、遮光領域での反射率
を増加しつつ、透過領域における反射率を低減すること
ができる。Further, in the above liquid crystal panel, a second film is provided on the first transparent film in a region where the light shielding film is not formed, and which reduces the reflectance of the region where the light shielding film is not formed. It is desirable to further have a transparent film. By configuring the liquid crystal panel in this way, it is possible to reduce the reflectance in the transmissive region while increasing the reflectance in the light shielding region.

【００１３】また、上記の液晶パネルにおいて、前記第
２の透明膜は、前記液晶を配向するための電極であるこ
とが望ましい。このように液晶パネルを構成すれば、遮
光膜の膜厚を厚くする必要がなく、液晶パネルの薄膜化
を図ることができる。また、上記の液晶パネルにおい
て、前記第２の膜は金属膜であり、前記第１の膜は前記
金属膜の金属の酸化物からなる膜を有することが望まし
い。このように液晶パネルを構成すれば、遮光膜を加工
する際のエッチング工程において、第１の膜と第２の膜
とを同時に加工できるので、液晶パネルの製造工程を簡
略化できる。In the above liquid crystal panel, it is desirable that the second transparent film is an electrode for orienting the liquid crystal. By configuring the liquid crystal panel in this way, it is not necessary to increase the film thickness of the light shielding film, and the liquid crystal panel can be thinned. Further, in the above liquid crystal panel, it is preferable that the second film is a metal film and the first film is a film made of an oxide of a metal of the metal film. If the liquid crystal panel is configured in this way, the first film and the second film can be processed at the same time in the etching process when processing the light shielding film, so that the manufacturing process of the liquid crystal panel can be simplified.

【００１４】また、上記の液晶パネルにおいて、前記第
２の膜は金属膜であり、前記第１の膜は前記金属膜の金
属を含む材料からなる膜を有することが望ましい。この
ように液晶パネルを構成すれば、遮光膜を加工する際の
エッチング工程において、第１の膜と第２の膜とを同時
に加工できるので、液晶パネルの製造工程を簡略化でき
る。Further, in the above liquid crystal panel, it is preferable that the second film is a metal film and the first film is a film made of a material containing a metal of the metal film. If the liquid crystal panel is configured in this way, the first film and the second film can be processed at the same time in the etching process when processing the light shielding film, so that the manufacturing process of the liquid crystal panel can be simplified.

【００１５】また、上記の液晶パネルにおいて、前記第
１の膜は、屈折率が、前記基板側で大きく、前記第２の
膜側で小さくなるような光学特性を有することが望まし
い。こうすることにより、遮光膜の反射率を更に高める
ことができる。また、上記の液晶パネルにおいて、前記
遮光膜における反射率が最大となる光の波長が、４００
〜６００ｎｍの範囲であることが望ましい。このように
液晶パネルを構成すれば、入射光に可視光を用いる場合
に反射率を高めることができる。Further, in the above liquid crystal panel, it is desirable that the first film has optical characteristics such that the refractive index is large on the substrate side and small on the second film side. By doing so, the reflectance of the light shielding film can be further increased. In addition, in the above liquid crystal panel, the wavelength of light that maximizes the reflectance of the light shielding film is 400
It is desirable that the range is up to 600 nm. By configuring the liquid crystal panel in this way, the reflectance can be increased when visible light is used as incident light.

【００１６】また、液晶パネルの画像情報をスクリーン
に投影するプロジェクタであって、上記の液晶パネルを
有することを特徴とするプロジェクタによっても達成さ
れる。このようにプロジェクタを構成すれば、光強度の
大きい入射光に対しても液晶パネルの放熱特性を高める
ことができるので、プロジェクタの信頼性を向上するこ
とが可能となる。The present invention can also be achieved by a projector for projecting image information of a liquid crystal panel on a screen, the projector having the above liquid crystal panel. By configuring the projector in this way, the heat dissipation characteristics of the liquid crystal panel can be improved even for incident light having a high light intensity, and therefore the reliability of the projector can be improved.

【００１７】また、液晶パネルの画像情報をスクリーン
に投影するプロジェクタであって、互いに異なる波長域
の光が入射する、上記の液晶パネルを複数有し、前記液
晶パネルのうち少なくとも一つが、前記遮光膜が形成さ
れた領域において、入射する波長域の光を最も反射する
特性を有することを特徴とするプロジェクタによっても
達成される。このようにプロジェクタを構成すれば、そ
れぞれの液晶パネルについて入射光に対して優れた放熱
効率が得られるので、プロジェクタの信頼性を高めるこ
とが可能となる。A projector for projecting image information of a liquid crystal panel onto a screen, wherein the projector has a plurality of liquid crystal panels into which lights of different wavelength regions are incident, at least one of the liquid crystal panels being the light-shielding device. It is also achieved by a projector characterized in that it has a characteristic of most reflecting light in an incident wavelength region in a region where a film is formed. If the projector is configured in this way, excellent heat dissipation efficiency with respect to incident light can be obtained for each liquid crystal panel, so that the reliability of the projector can be improved.

【００１８】また、上記の液晶パネルを有することを特
徴とする液晶表示装置によっても達成される。Further, it is achieved by a liquid crystal display device characterized by having the above liquid crystal panel.

【００１９】[0019]

【発明の実施の形態】本発明は、ブラックマトリクスを
構成する遮光性膜上に、光の干渉により増反射する構造
の干渉膜を形成することにより、ブラックマトリクスの
昇温を防止する液晶パネルを提供するものである。始め
に、本発明の原理を説明する。図１に示すように、ガラ
ス基板１０と、干渉膜１２と、遮光性膜１４とが積層さ
れた試料のガラス基板１０側から光１６を入射すると、
ガラス基板１０を透過した光は、一部は干渉膜１２中に
入射し、一部はガラス基板１０と干渉膜１２との界面で
反射される。干渉膜１２に入射した光１８は、一部は遮
光性膜１４中に入射し、一部は干渉膜１２と遮光性膜１
４との界面で反射される。遮光性膜１４に入射した光２
０は、遮光性膜１４中で吸収される。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The present invention provides a liquid crystal panel for preventing the temperature rise of a black matrix by forming an interference film having a structure of increasing reflection due to light interference on a light-shielding film forming a black matrix. It is provided. First, the principle of the present invention will be described. As shown in FIG. 1, when the light 16 is incident from the glass substrate 10 side of the sample in which the glass substrate 10, the interference film 12, and the light shielding film 14 are laminated,
The light transmitted through the glass substrate 10 is partially incident on the interference film 12 and is partially reflected at the interface between the glass substrate 10 and the interference film 12. The light 18 that has entered the interference film 12 partially enters the light-shielding film 14, and part of it enters the interference film 12 and the light-shielding film 1.
It is reflected at the interface with 4. Light 2 incident on the light-shielding film 14
0 is absorbed in the light-shielding film 14.

【００２０】このとき、ガラス基板１０と干渉膜１２と
の界面で反射される光２２と、干渉膜１２と遮光性膜１
４との界面で反射されてガラス基板１０に入射する光２
４との位相がほぼ等しければ、それらは互いに強め合
い、増反射を起こすことができる。一般に、物質０を透
過して物質１に入射する透過光と、物質０と物質１の界
面によって反射される反射光との間に生じる位相差Δは Δ＝ｔａｎ^-1｛（ｎ₁κ₀−ｎ₀κ₁）／（ｎ₀ ²−ｎ₁ ²＋κ₀ ²−κ₁ ²）｝ (但し、-π<Δ<π) …（１） として表される。ここで、ｎ₀は物質０の屈折率、κ₀は
物質０の消衰係数、ｎ₁は物質１の屈折率、κ₁は物質１
の消衰係数である。なお、本願明細書にいう屈折率ｎと
消衰係数κは、それぞれ、屈折率を複素屈折率で表した
際の実数部と虚数部に相当する。At this time, the light 22 reflected at the interface between the glass substrate 10 and the interference film 12, the interference film 12 and the light shielding film 1
2 which is reflected at the interface with 4 and enters the glass substrate 10
If they are approximately in phase with 4, they can strengthen each other and cause increased reflection. In general, the phase difference Δ between the transmitted light that passes through the substance 0 and enters the substance 1 and the reflected light that is reflected by the interface between the substance 0 and the substance 1 is Δ = tan ⁻¹ {(n ₁ κ _{0 -n 0 κ 1) / (n} 0 2 -n 1 2 + κ 0 2 -κ 1 2)} ( where, -π <Δ <π) are represented as (1). Here, n ₀ is the refractive index of the substance 0, κ ₀ is the extinction coefficient of the substance 0, n ₁ is the refractive index of the substance 1, and κ ₁ is the substance 1
Is the extinction coefficient of. The refractive index n and the extinction coefficient κ in the present specification correspond to the real number part and the imaginary number part, respectively, when the refractive index is expressed by a complex refractive index.

【００２１】ガラス基板１０を透過して干渉膜１２に入
射する光と、ガラス基板１０と干渉膜１２の界面によっ
て反射される光との間の位相差をΔ₀₁と、干渉膜１２を
透過して遮光性膜１４に入射する光と、干渉膜１２と遮
光性膜１４の界面によって反射される光との間の位相差
をΔ₁₂とすると、ガラス基板１０と干渉膜１２との界面
で増反射を起こすためには、干渉膜１２に入射した光が
干渉膜１２と遮光性膜１４との界面に達するまでに変化
する位相差と、位相差Δ₁₂と、干渉膜１２と遮光性膜１
４の界面で反射された光がガラス基板１０と干渉膜１２
との界面に達するまでに変化する位相差との和を、位相
差Δ₀₁にほぼ等しくする必要がある。The phase difference between the light that passes through the glass substrate 10 and enters the interference film 12 and the light that is reflected by the interface between the glass substrate 10 and the interference film 12 is Δ _01. Assuming that the phase difference between the light incident on the light-shielding film 14 and the light reflected by the interface between the interference film 12 and the light-shielding film 14 is Δ ₁₂ , it increases at the interface between the glass substrate 10 and the interference film 12. In order to cause the reflection, the phase difference that changes the light incident on the interference film 12 until it reaches the interface between the interference film 12 and the light shielding film 14, the phase difference Δ _12, and the interference film 12 and the light shielding film 1.
The light reflected at the interface of No. 4 has the glass substrate 10 and the interference film 12
It is necessary to make the sum of the phase difference that changes before reaching the interface with and approximately equal to the phase difference Δ ₀₁ .

【００２２】即ち、入射する光の波長をλ、干渉膜１２
の膜厚をｄ₁とすると、 ２ｄ₁＝λδ／２πｎ₁ δ＝２πｍ＋Δ₀₁−Δ₀₂ (m=0,1,2,3,…) …（２） の条件のもとに増反射が生ずることになる。このよう
に、材料の屈折率が既知であれば、干渉膜の膜厚を制御
することにより増反射を起こすことが可能となる。That is, the wavelength of the incident light is λ, and the interference film 12
If the thickness of the film is d ₁ , then 2d ₁ = λδ / 2πn ₁ δ = 2πm + Δ ₀₁ −Δ ₀₂ (m = 0,1,2,3, ...) (2) The increased reflection occurs under the condition (2). It will be. As described above, if the refractive index of the material is known, it is possible to cause the increased reflection by controlling the film thickness of the interference film.

【００２３】次に、本発明の第１実施形態による液晶パ
ネルを図２を用いて説明する。図２は、本実施形態によ
る液晶パネルの構造を示す平面図及び断面図である。ガ
ラス基板３０上には、絶縁膜３２を介して信号線３４が
形成されている。信号線３４上には、絶縁膜３６を介し
て画素電極３８が形成されている。また、画素電極３８
上には、液晶を配向する配向膜４０が形成されている。Next, the liquid crystal panel according to the first embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 2 is a plan view and a cross-sectional view showing the structure of the liquid crystal panel according to the present embodiment. A signal line 34 is formed on the glass substrate 30 via an insulating film 32. A pixel electrode 38 is formed on the signal line 34 via an insulating film 36. In addition, the pixel electrode 38
An alignment film 40 for aligning the liquid crystal is formed on the top.

【００２４】ガラス基板３０と対向するガラス基板１０
には、屈折率ｎ、消衰係数κがともに大きいクロム膜か
らなる干渉膜１２と、消衰係数κが小さいＡｇ（銀）膜
からなる遮光性膜１４とを有するブラックマトリクス４
２が形成されている。ブラックマトリクス４２が形成さ
れたガラス基板１０上には、対向電極２６と、液晶を配
向する配向膜２８とが積層して形成されている。The glass substrate 10 facing the glass substrate 30
Includes a black matrix 4 having an interference film 12 made of a chromium film having a large refractive index n and an extinction coefficient κ and a light-shielding film 14 made of an Ag (silver) film having a small extinction coefficient κ.
2 is formed. On the glass substrate 10 on which the black matrix 42 is formed, the counter electrode 26 and the alignment film 28 for aligning the liquid crystal are laminated and formed.

【００２５】対向して配置されたガラス基板１０とガラ
ス基板３０との間には、液晶材料３９が封入されてい
る。本実施形態による液晶パネルでは、（２）式をもと
にしてクロム膜からなる干渉膜１２の膜厚を２２ｎｍと
した。また、Ａｇ膜からなる遮光性膜１４の膜厚は、入
射光を十分に遮光できるように６５ｎｍとした。このよ
うにしてブラックマトリクス４２を構成した。A liquid crystal material 39 is enclosed between the glass substrate 10 and the glass substrate 30 which are arranged so as to face each other. In the liquid crystal panel according to the present embodiment, the thickness of the interference film 12 made of a chromium film is set to 22 nm based on the equation (2). The film thickness of the light-shielding film 14 made of an Ag film was set to 65 nm so that the incident light could be sufficiently shielded. Thus, the black matrix 42 was constructed.

【００２６】本実施形態では、干渉膜１２として屈折率
ｎ及び消衰係数κがともに大きいクロム膜を用いたの
で、誘電体膜を用いた従来の干渉膜よりも膜厚を大幅に
薄くすることができる。また、干渉膜１２自身の光吸収
もあるため、遮光性膜１４の膜厚を薄くすることができ
る。上記のブラックマトリクス４２において、膜全体の
反射率を測定した結果、約４６％であった。従って、干
渉膜１２を形成しない従来のクロム膜のブラックマトリ
クスと比較すると、反射率を約６％向上することができ
る。In the present embodiment, since the chromium film having the large refractive index n and the large extinction coefficient κ is used as the interference film 12, the film thickness should be made much thinner than the conventional interference film using the dielectric film. You can Further, since the interference film 12 itself absorbs light, the thickness of the light shielding film 14 can be reduced. As a result of measuring the reflectance of the entire film of the black matrix 42, it was about 46%. Therefore, the reflectance can be improved by about 6% as compared with the conventional black matrix of the chromium film in which the interference film 12 is not formed.

【００２７】このように、本実施形態によれば、遮光性
膜と干渉膜をともに金属膜により形成したので、ブラッ
クマトリクスの厚さを薄くすることができる。従って、
液晶パネルを小型化する上で好適である。また、干渉膜
に金属膜を用いることにより干渉膜による光吸収が生ず
るが、増反射が生ずることにより、従来のブラックマト
リクスよりも反射率を向上することができる。As described above, according to this embodiment, since the light-shielding film and the interference film are both formed of the metal film, the thickness of the black matrix can be reduced. Therefore,
It is suitable for downsizing the liquid crystal panel. Further, the use of the metal film as the interference film causes the absorption of light by the interference film, but the increased reflection causes the reflectance to be improved as compared with the conventional black matrix.

【００２８】なお、本実施形態では、干渉膜としてＡｇ
膜を用いたが、干渉膜として用いる膜は、その比抵抗が
１０⁹Ω・ｃｍ以下であることが望ましい。例えば、ア
ルミニウム膜を用いても同様の効果を得られる。次に、
本発明の第２実施形態による液晶パネルを図３を用いて
説明する。図２に示す第１実施形態による液晶パネルと
同一の構成要素には同一の符号を付して説明を省略又は
簡略にする。In this embodiment, Ag is used as the interference film.
Although a film is used, it is desirable that the film used as the interference film has a specific resistance of 10 ⁹ Ω · cm or less. For example, the same effect can be obtained by using an aluminum film. next,
A liquid crystal panel according to a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. The same components as those of the liquid crystal panel according to the first embodiment shown in FIG. 2 are designated by the same reference numerals to omit or simplify the description.

【００２９】図３は本実施形態による液晶パネルにおけ
るブラックマトリクスの断面図である。本実施形態で
は、図３に示すように、干渉膜として酸化物半導体であ
る酸化クロム膜１２ａを用い、遮光性膜としてクロム膜
１４ａを用いた。なお、酸化クロム膜１２ａの膜厚は、
（２）式をもとにして、９５ｎｍに設定した。また、ク
ロム膜１４ａの膜厚は、入射光を十分に遮光できるよう
に９０ｎｍとした。このようにしてブラックマトリクス
４２を構成した。FIG. 3 is a sectional view of a black matrix in the liquid crystal panel according to the present embodiment. In the present embodiment, as shown in FIG. 3, the chromium oxide film 12a which is an oxide semiconductor is used as the interference film and the chromium film 14a is used as the light shielding film. The thickness of the chromium oxide film 12a is
It was set to 95 nm based on the equation (2). The thickness of the chrome film 14a is 90 nm so that the incident light can be sufficiently blocked. Thus, the black matrix 42 was constructed.

【００３０】本実施形態では、遮光性膜１４としてクロ
ム膜１４ａを用い、干渉膜１２として酸化クロム膜１２
ａを用いてブラックマトリクス４２を構成した。このよ
うに、遮光性膜と干渉膜を同一金属を含む物質により構
成することは、ブラックマトリクス４２の加工性を改善
する上で重要である。即ち、これらの材料は化学的性質
が類似しているため、ブラックマトリクス４２を加工す
るエッチングの際に、同一条件で行なえるからである。
従って、液晶パネルの製造プロセスを簡素化することが
可能となる。In this embodiment, the chromium film 14a is used as the light-shielding film 14, and the chromium oxide film 12 is used as the interference film 12.
The black matrix 42 was constructed using a. As described above, it is important to improve the workability of the black matrix 42 by configuring the light-shielding film and the interference film with a substance containing the same metal. That is, since these materials have similar chemical properties, they can be etched under the same conditions when etching the black matrix 42.
Therefore, the manufacturing process of the liquid crystal panel can be simplified.

【００３１】なお、クロム膜１４ａと酸化クロム膜１２
ａとの二層構造を加工する際には、例えば、硫酸第二セ
リウムアンモンと過塩素酸の混合液を用いてエッチング
すれば良い。上記のブラックマトリクス４２において、
膜全体の反射率を測定した結果、約４５％であった。従
って、干渉膜１２を形成しない従来のクロム膜のブラッ
クマトリクスと比較すると、反射率を約５％向上するこ
とができる。The chromium film 14a and the chromium oxide film 12
When processing the two-layer structure with a, for example, etching may be performed using a mixed solution of ceric ammonium sulfate and perchloric acid. In the above black matrix 42,
The reflectance of the entire film was measured and found to be about 45%. Therefore, the reflectance can be improved by about 5% as compared with the conventional black matrix of the chromium film in which the interference film 12 is not formed.

【００３２】このように、本実施形態によれば、遮光性
膜と干渉膜を構成する材料を、同一金属を含む材料とし
たので、ブラックマトリクスの加工性を改善することが
できる。これにより、液晶パネルの製造プロセスを簡素
化することができる。次に、本発明の第３実施形態によ
る液晶パネルを図４を用いて説明する。図３に示す第２
実施形態による液晶パネルと同一の構成要素には同一の
符号を付して説明を省略又は簡略にする。As described above, according to this embodiment, since the material forming the light-shielding film and the interference film contains the same metal, the workability of the black matrix can be improved. Thereby, the manufacturing process of the liquid crystal panel can be simplified. Next, a liquid crystal panel according to a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. Second shown in FIG.
The same components as those of the liquid crystal panel according to the embodiment are designated by the same reference numerals to omit or simplify the description.

【００３３】図４は本実施形態による液晶パネルにおけ
るブラックマトリクスの断面図である。本実施形態で
は、図４に示すように、干渉膜１２としてクロム膜１２
ｂと酸化クロム膜１２ｃとの積層膜を用い、遮光性膜１
４としてクロム膜１４ａを用いた。なお、クロム膜１２
ｂ及び酸化クロム膜１２ｃの膜厚は、（２）式をもとに
して、それぞれ２１ｎｍ、５６ｎｍに設定した。また、
クロム膜１４ａの膜厚は、入射光を十分に遮光できるよ
うに６２ｎｍとした。このようにしてブラックマトリク
ス４２を構成した。FIG. 4 is a sectional view of a black matrix in the liquid crystal panel according to the present embodiment. In the present embodiment, as shown in FIG. 4, the chromium film 12 is used as the interference film 12.
b and a chrome oxide film 12c are used as the light-shielding film 1
A chrome film 14a was used as 4. The chrome film 12
The film thicknesses of b and the chromium oxide film 12c were set to 21 nm and 56 nm, respectively, based on the equation (2). Also,
The thickness of the chrome film 14a was set to 62 nm so that the incident light could be sufficiently shielded. Thus, the black matrix 42 was constructed.

【００３４】（２）式により膜厚を算出する際には、各
界面における反射光により増反射が起こるように、ガラ
ス基板１０とクロム膜１２ｂとの界面で反射される光の
位相が、クロム膜１２ｂと酸化クロム膜１２ｃとの界面
で反射されてガラス基板１０に入射する光の位相と、酸
化クロム膜１２ｃとクロム膜１４ａとの界面で反射され
てガラス基板１０に入射する光の位相とが等しくなるよ
うにした。When the film thickness is calculated by the equation (2), the phase of the light reflected at the interface between the glass substrate 10 and the chromium film 12b is chrome so that the reflection light at each interface causes increased reflection. The phase of light reflected on the interface between the film 12b and the chromium oxide film 12c and incident on the glass substrate 10, and the phase of light reflected on the interface between the chromium oxide film 12c and the chromium film 14a and incident on the glass substrate 10. So that they are equal.

【００３５】本実施形態では、遮光性膜１４としてクロ
ム膜１４ａを用い、干渉膜１２としてクロム膜１２ｂと
酸化クロム膜１２ｃとの積層膜を用いてブラックマトリ
クスを構成した。前述のように、遮光性膜１４と干渉膜
１２とを同一金属を含む材料により構成することは、ブ
ラックマトリクス４２の加工性を改善する上で重要であ
る。即ち、これらの材料は化学的性質が類似しているた
め、ブラックマトリクス４２を加工するエッチングの際
に、同一条件で行なえるからである。In this embodiment, the black film is formed by using the chromium film 14a as the light-shielding film 14 and the laminated film of the chromium film 12b and the chromium oxide film 12c as the interference film 12. As described above, it is important for the light-shielding film 14 and the interference film 12 to be made of a material containing the same metal in order to improve the workability of the black matrix 42. That is, since these materials have similar chemical properties, they can be etched under the same conditions when etching the black matrix 42.

【００３６】上記のブラックマトリクス４２において、
膜全体の反射率を測定した結果、約５７％であった。従
って、干渉膜１２を形成しない従来のクロム膜のブラッ
クマトリクスと比較すると、反射率を約１７％向上する
ことができる。このように、本実施形態によれば、遮光
性膜と干渉膜を構成する材料を、同一金属を含む材料に
より構成したので、ブラックマトリクスの加工性を改善
することができる。これにより、液晶パネルの製造プロ
セスを簡素化することができる。In the above black matrix 42,
The reflectance of the entire film was measured and found to be about 57%. Therefore, the reflectance can be improved by about 17% as compared with the conventional black matrix of the chromium film in which the interference film 12 is not formed. As described above, according to this embodiment, since the material forming the light-shielding film and the interference film is formed of the material containing the same metal, the workability of the black matrix can be improved. Thereby, the manufacturing process of the liquid crystal panel can be simplified.

【００３７】次に、本発明の第４実施形態による液晶パ
ネルを図５を用いて説明する。図３に示す第３実施形態
による液晶パネルと同一の構成要素には同一の符号を付
して説明を省略又は簡略にする。図５は本実施形態によ
る液晶パネルにおけるブラックマトリクスの断面図であ
る。Next, a liquid crystal panel according to a fourth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. The same components as those of the liquid crystal panel according to the third embodiment shown in FIG. 3 are designated by the same reference numerals to omit or simplify the description. FIG. 5 is a sectional view of a black matrix in the liquid crystal panel according to the present embodiment.

【００３８】本実施形態では、図５に示すように、干渉
膜１２として、クロム膜１２ｂと、酸化クロム膜１２ｃ
と、クロム膜１２ｄと、酸化クロム膜１２ｅとを積層し
た積層膜を用い、遮光性膜としてクロム膜１４ａを用い
た。また、遮光性膜１４としてはクロム膜１４ａを用い
た。本実施形態では、クロム膜と酸化クロム膜との積層
膜を複数積層して干渉膜１２を構成したが、これは次の
理由による。In this embodiment, as shown in FIG. 5, the interference film 12 includes a chromium film 12b and a chromium oxide film 12c.
And a chromium film 12d and a chromium oxide film 12e are laminated, and a chromium film 14a is used as a light shielding film. A chromium film 14a was used as the light-shielding film 14. In this embodiment, the interference film 12 is formed by stacking a plurality of stacked films of a chromium film and a chromium oxide film, but this is for the following reason.

【００３９】即ち、上記第１乃至３実施形態による液晶
パネルでは、所定の波長λにおける反射率を高めるよう
に干渉膜１２の材料や膜厚等を設定するが、広帯域の波
長を有する光が入射した際には、所定の波長帯において
のみ反射率が向上することになるからである。本実施形
態による液晶パネルでは、例えば、クロム膜１２ｂと酸
化クロム膜１２ｃとの組み合わせにより、波長λ₁にお
ける反射率を向上し、クロム膜１２ｄと酸化クロム膜１
２ｅとの組み合わせにより、波長λ₂における反射率を
向上することが可能となる。That is, in the liquid crystal panels according to the first to third embodiments, the material and film thickness of the interference film 12 are set so as to increase the reflectance at the predetermined wavelength λ, but the light having the broadband wavelength is incident. This is because in that case, the reflectance is improved only in a predetermined wavelength band. In the liquid crystal panel according to the present embodiment, for example, by combining the chromium film 12b and the chromium oxide film 12c, the reflectance at the wavelength λ ₁ is improved, and the chromium film 12d and the chromium oxide film 1 are formed.
By combining with 2e, it becomes possible to improve the reflectance at the wavelength λ ₂ .

【００４０】例えば、約４５０ｎｍの波長を有する入射
光に対して反射強度を高めるために、クロム膜１２ｂと
酸化クロム膜１２ｃの膜厚をそれぞれ、３４ｎｍと４５
ｎｍに設定し、約６５０ｎｍの波長を有する入射光に対
して反射強度を高めるために、クロム膜１２ｄと酸化ク
ロム膜１２ｅの膜厚をそれぞれ、３０ｎｍと６６ｎｍに
設定すれば、広帯域の波長を有する光おいても反射率を
を向上することができる。For example, in order to increase the reflection intensity with respect to incident light having a wavelength of about 450 nm, the thicknesses of the chromium film 12b and the chromium oxide film 12c are 34 nm and 45 nm, respectively.
If the thicknesses of the chromium film 12d and the chromium oxide film 12e are set to 30 nm and 66 nm, respectively, in order to increase the reflection intensity with respect to incident light having a wavelength of about 650 nm, the wavelengths of a wide band will be obtained. Even with light, the reflectance can be improved.

【００４１】このようにして干渉膜１２を構成すること
により、４５０ｎｍの波長を有する入射光に対しては約
５０％の反射率を、６５０ｎｍの波長を有する入射光に
対しては約５０％の反射率を得ることができる。このよ
うに、本実施形態によれば、干渉膜を多層膜により構成
することにより、複数の波長における反射率を向上する
ことができるので、広域にわたる波長帯で反射率を高く
することができる。By constructing the interference film 12 in this way, a reflectance of about 50% is obtained for incident light having a wavelength of 450 nm, and a reflectance of about 50% is obtained for incident light having a wavelength of 650 nm. The reflectance can be obtained. As described above, according to the present embodiment, since the interference film is formed of the multilayer film, the reflectance at a plurality of wavelengths can be improved, so that the reflectance can be increased in a wide wavelength band.

【００４２】なお、上記実施形態では、クロム膜と酸化
クロム膜との積層膜を二層重ねて干渉膜を構成したが、
三層以上積層して形成してもよい。また、干渉膜を構成
する材料についても上記実施形態に限定されるものでは
ない。次に、本発明の第５実施形態による液晶パネルを
図６を用いて説明する。図４に示す第３実施形態による
液晶パネルと同一の構成要素には同一の符号を付して説
明を省略又は簡略にする。In the above embodiment, the interference film is formed by stacking two layers of the chromium film and the chromium oxide film.
It may be formed by stacking three or more layers. The material forming the interference film is not limited to the above embodiment. Next, a liquid crystal panel according to a fifth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. The same components as those of the liquid crystal panel according to the third embodiment shown in FIG. 4 are designated by the same reference numerals to omit or simplify the description.

【００４３】図６は本実施形態による液晶パネルにおけ
るブラックマトリクスの断面図である。本実施形態で
は、図４に示すように、干渉膜１２として弗化マグネシ
ウム膜１２ｆと、クロム膜１２ｂと、酸化クロム膜１２
ｃとの積層膜を用い、遮光性膜１４としてクロム膜１４
ａを用いた。なお、弗化マグネシウム膜１２ｆ、クロム
膜１２ｂ、酸化クロム膜１２ｃの膜厚は、（２）式をも
とにして、それぞれ６６ｎｍ、２１ｎｍ、５６ｎｍに設
定した。また、クロム膜１４ａの膜厚は、入射光を十分
に遮光できるように７５ｎｍとした。このようにしてブ
ラックマトリクス４２を構成した。FIG. 6 is a sectional view of the black matrix in the liquid crystal panel according to the present embodiment. In the present embodiment, as shown in FIG. 4, as the interference film 12, a magnesium fluoride film 12f, a chromium film 12b, and a chromium oxide film 12 are used.
c is used as a light-shielding film 14, and a chromium film 14 is used.
a was used. The thicknesses of the magnesium fluoride film 12f, the chromium film 12b, and the chromium oxide film 12c were set to 66 nm, 21 nm, and 56 nm, respectively, based on the equation (2). The thickness of the chromium film 14a is set to 75 nm so that the incident light can be sufficiently blocked. Thus, the black matrix 42 was constructed.

【００４４】本実施形態では、第３実施形態に示したブ
ラックマトリクスにおいて、ガラス基板１０と、クロム
膜１２ｂとの間に弗化マグネシウム膜１２ｆを設けた
が、これは次の理由による。即ち、ガラス基板１０とク
ロム膜１２ｂとの間に、ガラス基板１０より屈折率の小
さい弗化マグネシウム膜１２ｆを設ければ、弗化マグネ
シウム膜１２ｆとクロム膜１２ｂとの界面における屈折
率差を大きくすることができる。従って、弗化マグネシ
ウム膜１２ｆとクロム膜１２ｂとの界面における反射率
を、ガラス基板１０とクロム膜１２ｂとの界面における
反射率よりも高めることが可能だからである。In the present embodiment, in the black matrix shown in the third embodiment, the magnesium fluoride film 12f is provided between the glass substrate 10 and the chromium film 12b, but this is for the following reason. That is, if the magnesium fluoride film 12f having a smaller refractive index than the glass substrate 10 is provided between the glass substrate 10 and the chromium film 12b, the difference in refractive index at the interface between the magnesium fluoride film 12f and the chromium film 12b is increased. can do. Therefore, the reflectance at the interface between the magnesium fluoride film 12f and the chromium film 12b can be made higher than the reflectance at the interface between the glass substrate 10 and the chromium film 12b.

【００４５】上記のブラックマトリクス４２において、
膜全体の反射率を測定した結果、約６０％であった。従
って、干渉膜１２を形成しない従来のクロム膜のブラッ
クマトリクスと比較すると、反射率を約２０％向上する
ことができる。このように、本実施形態によれば、ガラ
ス基板に接する面に、屈折率の小さい弗化金属膜を有す
る干渉膜を形成したので、干渉膜中における反射率を高
くすることができる。これにより、ブラックマトリクス
が昇温することを抑制することができる。In the above black matrix 42,
As a result of measuring the reflectance of the entire film, it was about 60%. Therefore, the reflectance can be improved by about 20% as compared with the conventional black matrix of the chromium film in which the interference film 12 is not formed. As described above, according to this embodiment, since the interference film having the metal fluoride film having a small refractive index is formed on the surface in contact with the glass substrate, the reflectance in the interference film can be increased. As a result, it is possible to suppress the temperature rise of the black matrix.

【００４６】次に、本発明の第６実施形態による液晶パ
ネルを図７を用いて説明する。図２に示す第１実施形態
による液晶パネルと同一の構成要素には同一の符号を付
して説明を省略又は簡略にする。図７は本実施形態によ
る液晶パネルにおけるブラックマトリクスの断面図であ
る。Next, a liquid crystal panel according to a sixth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. The same components as those of the liquid crystal panel according to the first embodiment shown in FIG. 2 are designated by the same reference numerals to omit or simplify the description. FIG. 7 is a sectional view of a black matrix in the liquid crystal panel according to the present embodiment.

【００４７】本実施形態では、図７に示すように、ガラ
ス基板１０側では純クロムであり、ガラス基板１０から
の距離が増加するに従ってニッケル含有量が連続的に高
くなるようなニッケル−クロム合金膜１２ｇにより干渉
膜を形成し、クロム膜１４ａにより遮光性膜を形成し
た。このように、ニッケル含有量が連続的に変化するニ
ッケル−クロム合金膜１２ｇにより干渉膜を形成すれ
ば、各界面における反射率を高くすることができる。In the present embodiment, as shown in FIG. 7, pure chromium is present on the glass substrate 10 side, and the nickel content is continuously increased as the distance from the glass substrate 10 increases. An interference film was formed of the film 12g, and a light-shielding film was formed of the chromium film 14a. Thus, if the interference film is formed by the nickel-chromium alloy film 12g whose nickel content continuously changes, the reflectance at each interface can be increased.

【００４８】また、（２）式に基づいて干渉層の膜厚等
を設計すれば、発熱量が小さく、薄型で、且つ遮光性の
高いブラックマトリクス４２を形成することができる。
上記のブラックマトリクス４２において、ニッケル−ク
ロム合金膜１２ｇの膜厚を１４ｎｍとした際に膜全体の
反射率を測定した結果、約５７％であった。従って、干
渉膜１２を形成しない従来のクロム膜のブラックマトリ
クスと比較すると、反射率を約１７％向上することがで
きる。Further, by designing the film thickness of the interference layer based on the equation (2), it is possible to form the black matrix 42 which has a small amount of heat generation, is thin, and has a high light shielding property.
In the above black matrix 42, when the thickness of the nickel-chromium alloy film 12g was set to 14 nm, the reflectance of the entire film was measured and found to be about 57%. Therefore, the reflectance can be improved by about 17% as compared with the conventional black matrix of the chromium film in which the interference film 12 is not formed.

【００４９】このように、本実施形態によれば、干渉膜
中の金属含有量を連続的に変化することにより、干渉膜
の光学特性に空間的な分布を形成したので、反射率を大
幅に高くすることができる。これにより、ブラックマト
リクスが昇温することを抑制することができる。次に、
本発明の第７実施形態による液晶パネルを図８を用いて
説明する。図２に示す第１実施形態による液晶パネルと
同一の構成要素には同一の符号を付して説明を省略又は
簡略にする。As described above, according to the present embodiment, the spatial distribution of the optical characteristics of the interference film is formed by continuously changing the metal content in the interference film, so that the reflectance is significantly increased. Can be higher. As a result, it is possible to suppress the temperature rise of the black matrix. next,
A liquid crystal panel according to a seventh embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. The same components as those of the liquid crystal panel according to the first embodiment shown in FIG. 2 are designated by the same reference numerals to omit or simplify the description.

【００５０】図８は本実施形態による液晶パネルにおけ
るブラックマトリクスの断面図である。本実施形態で
は、図８に示すように、ガラス基板１０側では膜の密度
が高く、ガラス基板１０からの距離が増加するに従って
膜の密度が低くなる酸化クロム膜１２ｈにより干渉膜を
形成し、クロム膜１４ａにより遮光性膜を形成した。FIG. 8 is a sectional view of a black matrix in the liquid crystal panel according to the present embodiment. In the present embodiment, as shown in FIG. 8, the interference film is formed by the chromium oxide film 12h in which the film density is high on the glass substrate 10 side and decreases as the distance from the glass substrate 10 increases, A light-shielding film was formed by the chromium film 14a.

【００５１】このように、干渉膜の密度が連続的に変化
する酸化クロム膜１２ｈにより干渉膜を形成すれば、酸
化クロム膜１２ｈとクロム膜１２ａとの界面における反
射率を高くすることができる。上記のブラックマトリク
ス４２において、酸化クロム膜１２ｈの膜厚を４８ｎｍ
とした際に膜全体の反射率を測定した結果、約４９％で
あった。従って、干渉膜１２を形成しない従来のクロム
膜のブラックマトリクスと比較すると、反射率を約９％
向上することができる。By forming the interference film with the chromium oxide film 12h in which the density of the interference film continuously changes, the reflectance at the interface between the chromium oxide film 12h and the chromium film 12a can be increased. In the above black matrix 42, the thickness of the chromium oxide film 12h is 48 nm.
Then, the reflectance of the entire film was measured and found to be about 49%. Therefore, the reflectance is about 9% as compared with the conventional black matrix of the chromium film in which the interference film 12 is not formed.
Can be improved.

【００５２】このように、本実施形態によれば、干渉膜
の密度を連続的に変化することにより、干渉膜の光学特
性に空間的な分布を形成したので、反射率を大幅に高く
することができる。これにより、ブラックマトリクスが
昇温することを抑制することができる。次に、本発明の
第８実施形態による液晶パネルを図９を用いて説明す
る。図２に示す第１実施形態による液晶パネルと同一の
構成要素には同一の符号を付して説明を省略又は簡略に
する。As described above, according to the present embodiment, since the spatial distribution is formed in the optical characteristics of the interference film by continuously changing the density of the interference film, the reflectance can be significantly increased. You can As a result, it is possible to suppress the temperature rise of the black matrix. Next, a liquid crystal panel according to an eighth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. The same components as those of the liquid crystal panel according to the first embodiment shown in FIG. 2 are designated by the same reference numerals to omit or simplify the description.

【００５３】図９は本実施形態による液晶パネルの構造
を示す断面図である。本実施形態による液晶パネルで
は、干渉膜として透明物質膜を用いるとともに、遮光膜
のみを加工してブラックマトリクスを構成している。す
なわち、ガラス基板３０と対向するガラス基板１０に
は、二酸化硅素膜１２ｉよりなる干渉膜がガラス基板１
０の全面に形成されている。二酸化硅素膜１２ｉ上の所
定の領域には、クロム膜１４ａよりなる遮光性膜が形成
されている。こうして、二酸化硅素膜１２ｉとクロム膜
１４ａとによりブラックマトリクス４２が構成されてい
る。FIG. 9 is a sectional view showing the structure of the liquid crystal panel according to the present embodiment. In the liquid crystal panel according to the present embodiment, the transparent material film is used as the interference film, and only the light shielding film is processed to form the black matrix. That is, the glass substrate 10 facing the glass substrate 30 is provided with an interference film made of the silicon dioxide film 12i.
It is formed on the entire surface of 0. A light-shielding film made of a chromium film 14a is formed in a predetermined region on the silicon dioxide film 12i. In this way, the black matrix 42 is constituted by the silicon dioxide film 12i and the chromium film 14a.

【００５４】本実施形態のように干渉膜を全体に残すこ
とは、製造工程上極めて有利となる。すなわち、上記第
２実施形態等においては干渉膜１２を構成する材料を選
択することにより干渉膜１２と遮光性膜１４とのエッチ
ング条件を統一したが、本実施形態によれば、干渉膜１
２として透明物質膜である二酸化硅素膜１２ｉを用いる
ことにより干渉膜の加工工程を省略することができる。Leaving the interference film entirely as in this embodiment is extremely advantageous in the manufacturing process. That is, in the above-described second embodiment and the like, the etching conditions for the interference film 12 and the light-shielding film 14 are unified by selecting the material forming the interference film 12, but according to the present embodiment, the interference film 1
By using the silicon dioxide film 12i which is a transparent material film as 2, the processing step of the interference film can be omitted.

【００５５】従って、干渉膜として、遮光性膜とエッチ
ング条件の異なる誘電体膜などを用いた場合であって
も、ブラックマトリクス４２の加工性を低下することな
く液晶パネルを形成することができる。波長λが５００
ｎｍの入射光に対して増反射するように（２）式を用い
て計算し、二酸化硅素膜１２ｉの膜厚を７５ｎｍに設定
した結果、ブラックマトリクス４２における入射光の反
射率は約５９％であった。従って、干渉膜を形成しない
従来のクロム膜のブラックマトリクスと比較すると、反
射率を約１９％向上することができた。Therefore, even when a dielectric film having a different etching condition from the light-shielding film is used as the interference film, the liquid crystal panel can be formed without deteriorating the workability of the black matrix 42. Wavelength λ is 500
The calculation is performed using the formula (2) so that the incident light of nm has an increased reflection, and the thickness of the silicon dioxide film 12i is set to 75 nm. As a result, the reflectance of the incident light on the black matrix 42 is about 59%. there were. Therefore, the reflectance could be improved by about 19% as compared with the conventional black matrix of the chromium film in which the interference film is not formed.

【００５６】このように、本実施形態によれば、干渉膜
として透明物質膜を用い、遮光性膜のみを加工すること
によりブラックマトリクスを構成するので、干渉膜に遮
光性膜とエッチング特性の異なる物質を用いた場合であ
ってもブラックマトリクスの加工性を低下せずに液晶パ
ネルを構成することができる。これにより、液晶パネル
の製造プロセスを簡素化することができる。As described above, according to this embodiment, since the transparent matrix is used as the interference film and only the light-shielding film is processed to form the black matrix, the interference film has different etching characteristics from those of the light-shielding film. Even when a substance is used, the liquid crystal panel can be configured without deteriorating the workability of the black matrix. Thereby, the manufacturing process of the liquid crystal panel can be simplified.

【００５７】なお、上記実施形態では、基板１０の全面
に干渉膜１２を設けたが、必ずしも全面である必要はな
い。例えば、表示領域にのみ干渉膜１２を残存させても
よい。表示領域とは、基板１０の領域のうち、画素電極
などが形成されている領域である。次に、本発明の第９
実施形態による液晶パネルを図１０を用いて説明する。
図９に示す第８実施形態による液晶パネルと同一の構成
要素には同一の符号を付して説明を省略又は簡略にす
る。Although the interference film 12 is provided on the entire surface of the substrate 10 in the above embodiment, it does not necessarily have to be the entire surface. For example, the interference film 12 may be left only in the display area. The display area is an area of the substrate 10 in which pixel electrodes and the like are formed. Next, the ninth aspect of the present invention
The liquid crystal panel according to the embodiment will be described with reference to FIG.
The same components as those of the liquid crystal panel according to the eighth embodiment shown in FIG. 9 are designated by the same reference numerals to omit or simplify the description.

【００５８】図１０は本実施形態による液晶パネルの構
造を示す断面図である。本実施形態による液晶パネルで
は、第８実施形態による液晶パネルにおいて、干渉膜を
構成する透明物質膜として弗化金属膜を用いている。す
なわち、ガラス基板３０と対向するガラス基板１０に
は、弗化金属である弗化マグネシウム膜１２ｆよりなる
干渉膜がガラス基板１０の全面に形成されている。弗化
マグネシウム膜１２ｆ上の所定の領域には、クロム膜１
４ａよりなる遮光性膜が形成されている。こうして、弗
化マグネシウム膜１２ｆとクロム膜１４ａとによりブラ
ックマトリクス４２が構成されている。FIG. 10 is a sectional view showing the structure of the liquid crystal panel according to the present embodiment. In the liquid crystal panel according to the present embodiment, in the liquid crystal panel according to the eighth embodiment, a metal fluoride film is used as the transparent material film forming the interference film. That is, on the glass substrate 10 facing the glass substrate 30, an interference film made of a magnesium fluoride film 12f which is a metal fluoride is formed on the entire surface of the glass substrate 10. The chromium film 1 is formed in a predetermined area on the magnesium fluoride film 12f.
A light-shielding film made of 4a is formed. Thus, the black matrix 42 is constituted by the magnesium fluoride film 12f and the chromium film 14a.

【００５９】第５実施形態において示したように、弗化
マグネシウムを代表とする弗化金属を干渉膜として用い
ると、干渉膜と遮光性膜との界面における反射率を高め
ることができる。従って、ブラックマトリクス４２の加
工性を低下することなく、遮光部の反射率が高い液晶パ
ネルを形成することができる。As shown in the fifth embodiment, when a metal fluoride represented by magnesium fluoride is used as the interference film, the reflectance at the interface between the interference film and the light shielding film can be increased. Therefore, it is possible to form a liquid crystal panel in which the light-shielding portion has a high reflectance without deteriorating the workability of the black matrix 42.

【００６０】波長λが５００ｎｍの入射光に対して増反
射するように（２）式を用いて計算し、弗化マグネシウ
ム膜１２ｆの膜厚を１２０ｎｍに設定した結果、ブラッ
クマトリクス４２における入射光の反射率は約６２％で
あった。従って、干渉膜を形成しない従来のクロム膜の
ブラックマトリクスと比較すると、反射率を約２２％向
上することができた。Calculation was performed using the equation (2) so that the incident light having a wavelength λ of 500 nm was subjected to increased reflection, and the thickness of the magnesium fluoride film 12f was set to 120 nm. The reflectance was about 62%. Therefore, the reflectance could be improved by about 22% as compared with the conventional black matrix of the chromium film in which the interference film is not formed.

【００６１】このように、本実施形態によれば、干渉膜
として弗化金属よりなる透明物質膜を用い、遮光性膜の
みを加工することによりブラックマトリクスを構成する
ので、干渉膜に遮光性膜とエッチング特性の異なる物質
を用いた場合であってもブラックマトリクスの加工性を
低下せずに液晶パネルを構成することができる。これに
より、液晶パネルの製造プロセスを簡素化することがで
きる。As described above, according to this embodiment, since the transparent substance film made of metal fluoride is used as the interference film and the black matrix is formed by processing only the light-shielding film, the light-shielding film is formed on the interference film. Even when materials having different etching characteristics are used, the liquid crystal panel can be constructed without deteriorating the workability of the black matrix. Thereby, the manufacturing process of the liquid crystal panel can be simplified.

【００６２】また、干渉膜に弗化金属膜を、遮光性膜に
クロム膜を用いることにより干渉膜と遮光性膜との間の
屈折率差を大きくすることができるので、界面における
反射率を向上することができる。次に、本発明の第１０
実施形態による液晶パネルを図１１を用いて説明する。
図９及び図１０に示す第８及び第９実施形態による液晶
パネルと同一の構成要素には同一の符号を付して説明を
省略又は簡略にする。By using a metal fluoride film as the interference film and a chromium film as the light-shielding film, the refractive index difference between the interference film and the light-shielding film can be increased, so that the reflectance at the interface can be increased. Can be improved. Next, the tenth aspect of the present invention
The liquid crystal panel according to the embodiment will be described with reference to FIG.
The same components as those of the liquid crystal panels according to the eighth and ninth embodiments shown in FIGS. 9 and 10 are designated by the same reference numerals to omit or simplify the description.

【００６３】図１１は本実施形態による液晶パネルの構
造を示す部分断面図である。ガラス基板１０には、弗化
マグネシウム膜１２ｆと、クロム膜１２ｂと、酸化クロ
ム膜１２ｃとが順次積層されてなる干渉膜１２が形成さ
れている。干渉膜１２上には、クロム膜１４ａよりなる
遮光性膜が形成されている。こうして、干渉膜１２と遮
光性膜１４ａとによりブラックマトリクス４２が構成さ
れている。FIG. 11 is a partial sectional view showing the structure of the liquid crystal panel according to the present embodiment. On the glass substrate 10, an interference film 12 is formed in which a magnesium fluoride film 12f, a chromium film 12b, and a chromium oxide film 12c are sequentially laminated. A light-shielding film made of a chromium film 14 a is formed on the interference film 12. Thus, the interference film 12 and the light-shielding film 14a form the black matrix 42.

【００６４】ここで、本実施形態による液晶パネルは、
干渉膜１２中の弗化マグネシウム膜１２ｆがガラス基板
１０上の全面に形成されており、クロム膜１２ｂと酸化
クロム膜１２ｃとがクロム膜１４ａと同一のパターンに
加工されていることを特徴としている。このようにブラ
ックマトリクス４２を構成することにより、液晶パネル
の製造プロセスを簡素化することができる。Here, the liquid crystal panel according to the present embodiment is
The magnesium fluoride film 12f in the interference film 12 is formed on the entire surface of the glass substrate 10, and the chromium film 12b and the chromium oxide film 12c are processed into the same pattern as the chromium film 14a. . By thus configuring the black matrix 42, the manufacturing process of the liquid crystal panel can be simplified.

【００６５】すなわち、図６に示す第５実施形態による
液晶パネルでは、クロム膜１４ａ、酸化クロム膜１２
ｃ、クロム膜１２ｂをエッチングする工程と、弗化マグ
ネシウム膜１２ｆをエッチングする工程とが必要であっ
たが、本実施形態による液晶パネルでは、クロム膜１４
ａ、酸化クロム膜１２ｃ、クロム膜１２ｂをエッチング
する一回のエッチング工程によりブラックマトリクス４
２を形成することができる。That is, in the liquid crystal panel according to the fifth embodiment shown in FIG. 6, the chromium film 14a and the chromium oxide film 12 are used.
c, the step of etching the chrome film 12b and the step of etching the magnesium fluoride film 12f are necessary. However, in the liquid crystal panel according to the present embodiment, the chrome film 14 is used.
a, the chromium oxide film 12c, and the chromium film 12b are etched once to form the black matrix 4
2 can be formed.

【００６６】波長λが５００ｎｍの入射光に対して増反
射するように（２）式を用いて計算し、弗化マグネシウ
ム膜１２ｆの膜厚を８０ｎｍ、クロム膜１２ｂの膜厚を
２５ｎｍ、酸化クロム膜１２ｃの膜厚を８０ｎｍ、クロ
ム膜１４ａの膜厚を５０ｎｍに設定し、図１１に示すよ
うな液晶パネルを構成した結果、ブラックマトリクス４
２における入射光の反射率は約６４％であった。従っ
て、干渉膜１２を形成しない従来のクロム膜のブラック
マトリクスと比較すると、反射率を約２４％向上するこ
とができた。Calculation was performed using the equation (2) so that the incident light having the wavelength λ of 500 nm was subjected to increased reflection. The thickness of the magnesium fluoride film 12f was 80 nm, the thickness of the chromium film 12b was 25 nm, and the chromium oxide was formed. The film thickness of the film 12c is set to 80 nm and the film thickness of the chromium film 14a is set to 50 nm, and a liquid crystal panel as shown in FIG.
The reflectance of incident light in Example 2 was about 64%. Therefore, the reflectance could be improved by about 24% as compared with the conventional black matrix of the chromium film in which the interference film 12 is not formed.

【００６７】このように、本実施形態によれば、干渉膜
が透明物質膜を含む積層膜により構成されている場合
に、透明物質膜を基板全面に残し、これより上層の膜を
遮光性膜と同一形状にパターニングするので、ブラック
マトリクスの加工性を低下せずに液晶パネルを構成する
ことができる。これにより、液晶パネルの製造プロセス
を簡素化することができる。As described above, according to the present embodiment, when the interference film is formed of the laminated film including the transparent material film, the transparent material film is left on the entire surface of the substrate and the film above the transparent material film is used as the light shielding film. Since the patterning is performed in the same shape as described above, the liquid crystal panel can be configured without deteriorating the workability of the black matrix. Thereby, the manufacturing process of the liquid crystal panel can be simplified.

【００６８】なお、上記実施形態では、弗化マグネシウ
ム膜１２ｆ、クロム膜１２ｂ、酸化クロム膜１２ｃによ
り干渉膜を構成したが、第４実施形態と同様にして、弗
化マグネシウム膜１２ｆ上に、クロム膜と酸化クロム膜
との積層膜を複数回積層してもよい。こうすることによ
り、波長帯域の広い入射光に対しても反射率を高めるこ
とができる。Although the interference film is composed of the magnesium fluoride film 12f, the chromium film 12b and the chromium oxide film 12c in the above embodiment, the chromium film is formed on the magnesium fluoride film 12f in the same manner as in the fourth embodiment. The laminated film of the film and the chromium oxide film may be laminated plural times. By doing so, the reflectance can be increased even for incident light having a wide wavelength band.

【００６９】次に、本発明の第１１実施形態による液晶
パネルを図１２を用いて説明する。図９及び図１０に示
す第８及び第９実施形態による液晶パネルと同一の構成
要素には同一の符号を付して説明を省略又は簡略にす
る。図１２は本実施形態による液晶パネルの構造を示す
断面図である。第１乃至第７実施形態による液晶パネル
におけるブラックマトリクス４２の開口部では、ガラス
基板１０上にはＩＴＯ膜よりなる対向電極２６が形成さ
れ、対向電極２６上には配向膜２８が形成されている。
このため、開口部に入射する光は、ガラス基板１０と対
向電極２６との界面において約１．１％が反射され、対
向電極２６と配向膜２８との界面において約１．４％が
反射される。Next, the liquid crystal panel according to the eleventh embodiment of the present invention will be explained with reference to FIG. The same components as those of the liquid crystal panels according to the eighth and ninth embodiments shown in FIGS. 9 and 10 are designated by the same reference numerals to omit or simplify the description. FIG. 12 is a sectional view showing the structure of the liquid crystal panel according to the present embodiment. In the openings of the black matrix 42 in the liquid crystal panels according to the first to seventh embodiments, the counter electrode 26 made of the ITO film is formed on the glass substrate 10, and the alignment film 28 is formed on the counter electrode 26. .
Therefore, about 1.1% of the light entering the opening is reflected at the interface between the glass substrate 10 and the counter electrode 26, and about 1.4% is reflected at the interface between the counter electrode 26 and the alignment film 28. It

【００７０】一方、第１０実施形態による液晶パネルに
おけるブラックマトリクスの開口部では、ガラス基板１
０上に透明物質膜よりなる干渉膜１２が形成され、干渉
膜１２上にはＩＴＯ膜よりなる対向電極２６が形成さ
れ、対向電極２６上には配向膜２８が形成されている。
この場合には、開口部に入射する光は、ガラス基板１０
と干渉膜１２との界面、干渉膜１２と対向電極２６との
界面、対向電極２６と配向膜２８との界面において反射
され、トータルの反射率は約４．９％となる。On the other hand, in the opening of the black matrix in the liquid crystal panel according to the tenth embodiment, the glass substrate 1
An interference film 12 made of a transparent material film is formed on the counter film 0, a counter electrode 26 made of an ITO film is formed on the interference film 12, and an alignment film 28 is formed on the counter electrode 26.
In this case, the light incident on the opening is the glass substrate 10
And the interference film 12, the interface between the interference film 12 and the counter electrode 26, and the interface between the counter electrode 26 and the alignment film 28, and the total reflectance is about 4.9%.

【００７１】このように、透明物質よりなる干渉膜１２
をガラス基板１０全面に残留させておくと、製造プロセ
スの簡素化は図れるが開口部における入射光の透過率が
減少してしまう。そこで、本実施形態による液晶パネル
では、ブラックマトリクス４２の開口部において、干渉
膜１２と対向電極２６との間に反射防止膜１５をさらに
設け、開口部における反射率低減を図っている。As described above, the interference film 12 made of a transparent material.
If the glass is left on the entire surface of the glass substrate 10, the manufacturing process can be simplified, but the transmittance of the incident light at the opening is reduced. Therefore, in the liquid crystal panel according to the present embodiment, the antireflection film 15 is further provided between the interference film 12 and the counter electrode 26 in the opening of the black matrix 42 to reduce the reflectance in the opening.

【００７２】すなわち、本実施形態は、干渉膜１２と対
向電極２６との間に反射防止膜１５を設けることによ
り、干渉膜１２と反射防止膜１５との界面における反射
光と、反射防止膜１５と対向電極２６の界面における反
射光と、対向電極２６と配向膜２８との界面における反
射光とを互いに干渉させ、開口部における全体の反射率
を減少するものである。反射防止膜１５の材料及び膜厚
は、（１）式をもとにして各界面における光の位相差を
考慮して決定すればよい。例えば、第１０実施形態によ
る液晶パネルの構造に反射防止膜１５を設ける場合に
は、膜厚約５０ｎｍの酸化マグネシウム膜を反射防止膜
１５として適用することができる。このように反射防止
膜１５を設けることにより、開口部の反射率を０．５％
以下にすることができた。That is, in this embodiment, by providing the antireflection film 15 between the interference film 12 and the counter electrode 26, the reflected light at the interface between the interference film 12 and the antireflection film 15 and the antireflection film 15 are provided. The reflected light at the interface between the counter electrode 26 and the counter electrode 26 and the reflected light at the interface between the counter electrode 26 and the alignment film 28 interfere with each other to reduce the overall reflectance at the opening. The material and film thickness of the antireflection film 15 may be determined in consideration of the phase difference of light at each interface based on the equation (1). For example, when the antireflection film 15 is provided in the structure of the liquid crystal panel according to the tenth embodiment, a magnesium oxide film with a film thickness of about 50 nm can be applied as the antireflection film 15. By thus providing the antireflection film 15, the reflectance of the opening is 0.5%.
I was able to:

【００７３】このように、本実施形態によれば、ブラッ
クマトリクスの開口部に干渉膜を残した場合に、開口部
における反射率の増加を低減するように反射防止膜を更
に設けるので、開口部における反射率を大幅に低減する
ことができる。また、反射防止膜は、遮光膜をパターニ
ングした後にガラス基板の全面に堆積するだけでよい。
従って、液晶パネルの製造プロセスを複雑にすることな
く反射防止膜を設けることができる。As described above, according to this embodiment, when the interference film is left in the opening portion of the black matrix, the antireflection film is further provided so as to reduce the increase in the reflectance in the opening portion. It is possible to significantly reduce the reflectivity at. Further, the antireflection film may be deposited on the entire surface of the glass substrate after patterning the light shielding film.
Therefore, the antireflection film can be provided without complicating the manufacturing process of the liquid crystal panel.

【００７４】また、反射防止膜を新たに設けて反射率を
低減するので、遮光部における干渉膜とは個別に設計す
ることができる。すなわち、遮光部における反射率と透
過部における反射率を独立して最適化することができ
る。次に、本発明の第１２実施形態による液晶パネルを
図１３を用いて説明する。図１２に示す第１１実施形態
による液晶パネルと同一の構成要素には同一の符号を付
して説明を省略又は簡略にする。Further, since the antireflection film is newly provided to reduce the reflectance, it can be designed separately from the interference film in the light shielding part. That is, the reflectance of the light shielding portion and the reflectance of the transmission portion can be optimized independently. Next, a liquid crystal panel according to a twelfth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. The same components as those of the liquid crystal panel according to the eleventh embodiment shown in FIG. 12 are designated by the same reference numerals to omit or simplify the description.

【００７５】図１３は本実施形態による液晶パネルの構
造を示す断面図である。上記第１２実施形態による液晶
パネルでは、ブラックマトリクスの開口部に干渉膜１２
を残した場合に、開口部における反射率の増加を低減す
るように反射防止膜１５を設けたが、ＩＴＯ膜よりなる
対向電極２６の膜厚を最適化することによっても開口部
の反射率を低減することができる。FIG. 13 is a sectional view showing the structure of the liquid crystal panel according to the present embodiment. In the liquid crystal panel according to the twelfth embodiment, the interference film 12 is formed in the opening of the black matrix.
The antireflection film 15 is provided so as to reduce the increase in the reflectance in the opening when the above condition is left. However, the reflectance in the opening can be reduced by optimizing the film thickness of the counter electrode 26 made of the ITO film. It can be reduced.

【００７６】すなわち、本実施形態による液晶パネルで
は、干渉膜１２と対向電極２６との界面における反射
と、対向電極２６と配向膜２８との界面における反射と
が、逆位相で干渉するように対向電極２６の膜厚を調整
している。対向電極２６の膜厚は、（１）式をもとにし
て各界面における光の位相差を考慮して決定すればよ
い。例えば、第１０実施形態による液晶パネルの構造に
反射防止膜１５を設ける場合には、対向電極２６とし
て、膜厚を約１３０ｎｍのＩＴＯ膜を適用することがで
きる。このような対向電極２６を設けることにより、開
口部における反射率を約１％にまで低減することができ
た。That is, in the liquid crystal panel according to the present embodiment, the reflection at the interface between the interference film 12 and the counter electrode 26 and the reflection at the interface between the counter electrode 26 and the alignment film 28 face each other so as to interfere in opposite phases. The film thickness of the electrode 26 is adjusted. The thickness of the counter electrode 26 may be determined in consideration of the phase difference of light at each interface based on the equation (1). For example, when the antireflection film 15 is provided in the structure of the liquid crystal panel according to the tenth embodiment, an ITO film having a film thickness of about 130 nm can be applied as the counter electrode 26. By providing such a counter electrode 26, the reflectance at the opening could be reduced to about 1%.

【００７７】このように、本実施形態によれば、ブラッ
クマトリクスの開口部に干渉膜を残した場合に、開口部
における反射率の増加を低減するように対向電極の膜厚
を調整するので、開口部における反射率を大幅に低減す
ることができる。また、第１１実施形態の場合のように
新たな層を加える必要がないので、液晶パネルの製造プ
ロセスを簡略化できるとともに、液晶パネルの薄膜化を
図ることができる。As described above, according to this embodiment, when the interference film is left in the opening of the black matrix, the film thickness of the counter electrode is adjusted so as to reduce the increase in the reflectance in the opening. The reflectance at the opening can be significantly reduced. Moreover, since it is not necessary to add a new layer unlike the case of the eleventh embodiment, the manufacturing process of the liquid crystal panel can be simplified and the liquid crystal panel can be thinned.

【００７８】なお、上記実施形態では、第１０実施形態
による液晶パネルを例にして、光透過部の反射率を低減
する構成を示したが、上記第１乃至第９実施形態のいず
れかに記載の液晶パネルに適用しても反射率を低減する
効果を得ることができる。次に、本発明の第１３実施形
態によるプロジェクタを図１４を用いて説明する。In the above-described embodiment, the liquid crystal panel according to the tenth embodiment is taken as an example to show the structure for reducing the reflectance of the light transmitting portion. However, any one of the first to ninth embodiments is described. Even when applied to the liquid crystal panel, the effect of reducing the reflectance can be obtained. Next, a projector according to a thirteenth embodiment of the invention will be described with reference to FIG.

【００７９】図１４は、本実施形態によるプロジェクタ
の構造を示す図である。白色光源５０の光軸上には、赤
外光及び紫外光を除去するＵＶ／ＩＲカットフィルタ５
２、集光レンズ５４、偏光板５６、液晶パネル５８、偏
光板６０、投影レンズ６２、スクリーン６４が順次設け
られている。白色光源５０から発した光は、ＵＶ／ＩＲ
カットフィルタ５２を通過し、ほぼ可視光域の光とな
る。次いで、ＵＶ／ＩＲカットフィルタ５２を通過した
光は集光レンズ５４により集光され、偏光板５６に入射
する。偏光板５６に入射した光は直線偏光された後に液
晶パネル５８に入射する。FIG. 14 is a diagram showing the structure of the projector according to the present embodiment. A UV / IR cut filter 5 for removing infrared light and ultraviolet light is provided on the optical axis of the white light source 50.
2, a condenser lens 54, a polarizing plate 56, a liquid crystal panel 58, a polarizing plate 60, a projection lens 62, and a screen 64 are sequentially provided. The light emitted from the white light source 50 is UV / IR.
The light passes through the cut filter 52 and becomes almost visible light. Next, the light that has passed through the UV / IR cut filter 52 is condensed by the condenser lens 54 and enters the polarizing plate 56. The light that has entered the polarizing plate 56 is linearly polarized and then enters the liquid crystal panel 58.

【００８０】液晶パネル５８に入射した光は、液晶パネ
ル５８の映像信号に従って部分的に偏光方向を変化さ
れ、偏光板６０により検出される。偏光板６０から出射
した光は投影レンズ６２に入射し、スクリーン６４に投
影される。ここで、液晶パネル５８に入射した光の一部
は、図２に示すブラックマトリクス４２により反射され
て白色光源５０の方向に戻っていく。また、一部はブラ
ックマトリクス４２により吸収されて熱となる。The light incident on the liquid crystal panel 58 is partially changed in polarization direction according to the image signal of the liquid crystal panel 58, and is detected by the polarizing plate 60. The light emitted from the polarizing plate 60 enters the projection lens 62 and is projected on the screen 64. Here, part of the light that has entered the liquid crystal panel 58 is reflected by the black matrix 42 shown in FIG. 2 and returns to the direction of the white light source 50. Further, a part of the heat is absorbed by the black matrix 42 and becomes heat.

【００８１】ＵＶ／ＩＲカットフィルタ５２を通過した
白色光源２０からの光の放射エネルギーは、おおむね４
００〜６００ｎｍの波長域で最大になる。液晶パネル５
８には、白色光源５０からの光がほぼそのままのスペク
トル分布で到達するため、上記の波長域で反射率が最大
になるように干渉膜及び遮光性膜を設計することで、実
効的にブラックマトリクス４２への入射エネルギーを低
くすることができる。The radiant energy of the light from the white light source 20 that has passed through the UV / IR cut filter 52 is approximately 4
It becomes maximum in the wavelength range of 00 to 600 nm. LCD panel 5
Since the light from the white light source 50 arrives at 8 with almost the same spectral distribution, the interference film and the light-shielding film are designed so that the reflectance is maximized in the above-mentioned wavelength range. The incident energy on the matrix 42 can be lowered.

【００８２】例えば、第４実施形態による液晶パネル５
８を用いれば、広い波長範囲で反射率を高くすることが
できるので、液晶パネル５８の冷却効果を高めることが
可能となる。このように、本実施形態によれば、入射光
の吸収による加熱が少ない液晶パネルを用いてプロジェ
クタを構成するので、プロジェクタの信頼性を向上する
ことができる。For example, the liquid crystal panel 5 according to the fourth embodiment.
By using No. 8, since the reflectance can be increased in a wide wavelength range, it is possible to enhance the cooling effect of the liquid crystal panel 58. As described above, according to the present embodiment, since the projector is configured using the liquid crystal panel that is less heated by absorption of incident light, the reliability of the projector can be improved.

【００８３】次に、本発明の第１４実施形態によるプロ
ジェクタを図１５を用いて説明する。図１５は、本実施
形態によるプロジェクタの構造を示す図である。第１３
実施形態では、３層以上からなる干渉膜を形成し、広帯
域で高い反射率を得ることができる液晶パネルを構成し
たが、干渉膜を構成するそれぞれの層の膜厚は、入射波
長と物質の屈折率で決まる一定の厚さ以上でなければな
らないので、ブラックマトリクス４２全体の膜厚が大き
くなる欠点がある。Next explained is a projector according to the fourteenth embodiment of the invention, with reference to FIG. FIG. 15 is a diagram showing the structure of the projector according to the present embodiment. Thirteenth
In the embodiment, an interference film composed of three or more layers is formed to constitute a liquid crystal panel capable of obtaining a high reflectance in a wide band. However, the film thickness of each layer forming the interference film depends on the incident wavelength and the material. Since the thickness must be equal to or larger than a certain thickness determined by the refractive index, there is a drawback that the thickness of the entire black matrix 42 becomes large.

【００８４】また、干渉膜に２層程度の積層膜を用いた
場合、例えば、第３実施形態による液晶パネルを用いた
場合には、干渉膜の厚さを薄くすることができる。しか
し、屈折率ｎ、消衰係数κの光波長依存性から生じる反
射率の変化を打ち消すことができないので、可視波長域
全体において従来の液晶パネルよりも反射率を高くする
ことが困難である。Further, when the laminated film of about two layers is used as the interference film, for example, when the liquid crystal panel according to the third embodiment is used, the thickness of the interference film can be reduced. However, since it is not possible to cancel the change in reflectance caused by the light wavelength dependency of the refractive index n and the extinction coefficient κ, it is difficult to increase the reflectance over the conventional liquid crystal panel in the entire visible wavelength range.

【００８５】本実施形態では、上記の欠点を補うことが
できるプロジェクタを提供する。白色光源５０の光軸上
には、赤外光及び紫外光を除去するＵＶ／ＩＲカットフ
ィルタ５２が設けられている。ＵＶ／ＩＲカットフィル
タ５２を透過した光の行路上には、青色光を分離するダ
イクロイックミラー６６が設けられている。ダイクロイ
ックミラー６６を透過した光の行路上には、全反射鏡６
８が設けられており、行路を変化するようになってい
る。全反射鏡６８により反射した光の行路上には、集光
レンズ５４Ｂ、偏光板５６Ｂ、液晶パネル５８Ｂ、偏光
板６０Ｂが順次設けられている。The present embodiment provides a projector capable of compensating for the above drawbacks. A UV / IR cut filter 52 that removes infrared light and ultraviolet light is provided on the optical axis of the white light source 50. A dichroic mirror 66 that separates blue light is provided on the path of the light that has passed through the UV / IR cut filter 52. On the path of the light transmitted through the dichroic mirror 66, the total reflection mirror 6
8 are provided so that the route can be changed. A condenser lens 54B, a polarizing plate 56B, a liquid crystal panel 58B, and a polarizing plate 60B are sequentially provided on the path of the light reflected by the total reflection mirror 68.

【００８６】ダイクロイックミラー６６により反射した
光の行路上には、緑色光と赤色光とを分離するダイクロ
イックミラー７０が設けられている。ダイクロイックミ
ラー７０を透過した光の行路上には、集光レンズ５４
Ｇ、偏光板５６Ｇ、液晶パネル５８Ｇ、偏光板６０Ｇが
順次設けられている。ダイクロイックミラー７０により
反射した光の行路上には、集光レンズ５４Ｒ、偏光板５
６Ｒ、液晶パネル５８Ｒ、偏光板６０Ｒが順次設けられ
ている。A dichroic mirror 70 for separating green light and red light is provided on the path of the light reflected by the dichroic mirror 66. A condenser lens 54 is provided on the path of the light transmitted through the dichroic mirror 70.
G, a polarizing plate 56G, a liquid crystal panel 58G, and a polarizing plate 60G are sequentially provided. On the path of the light reflected by the dichroic mirror 70, the condenser lens 54R and the polarizing plate 5
6R, a liquid crystal panel 58R, and a polarizing plate 60R are sequentially provided.

【００８７】偏光板６０Ｒ、６０Ｇ、６０Ｂを出射した
光の行路上には、これらの光を一つの行路上に合流する
ように、全反射鏡７２、ダイクロイックミラー７４、７
６が設けられている。合成された光の行路上には、スク
リーン６４に光を投影する投影レンズ６２が設けられて
いる。白色光源５０から発した光は、ＵＶ／ＩＲカット
フィルタ５２を通過し、ほぼ可視光域の光となる。次い
で、ＵＶ／ＩＲカットフィルタ５２を通過した光はダイ
クロイックミラー６６により青色光（約４００〜５１０
ｎｍ）が分離される。The total reflection mirror 72 and the dichroic mirrors 74, 7 are arranged on the paths of the lights emitted from the polarizing plates 60R, 60G, 60B so as to join these lights on one path.
6 is provided. A projection lens 62 that projects light onto a screen 64 is provided on the path of the combined light. The light emitted from the white light source 50 passes through the UV / IR cut filter 52 and becomes almost visible light. Next, the light that has passed through the UV / IR cut filter 52 is converted into blue light (about 400 to 510) by the dichroic mirror 66.
nm) are separated.

【００８８】分離された青色光はダイクロイックミラー
６６を透過して全反射鏡６８により反射され、集光レン
ズ５４Ｂに入射する。青色光は集光レンズ５４Ｂにより
集光され、偏光板５６Ｂに入射する。偏光板５６Ｂに入
射した青色光は直線偏光された後に液晶パネル５８Ｂに
入射する。液晶パネル５８Ｂに入射した青色光は、液晶
パネル５８Ｂの映像信号に従って部分的に偏光方向を回
転され、偏光板６０Ｂにより検出される。The separated blue light passes through the dichroic mirror 66, is reflected by the total reflection mirror 68, and enters the condenser lens 54B. The blue light is condensed by the condenser lens 54B and enters the polarizing plate 56B. The blue light that has entered the polarizing plate 56B is linearly polarized and then enters the liquid crystal panel 58B. The blue light incident on the liquid crystal panel 58B is partially rotated in the polarization direction according to the video signal of the liquid crystal panel 58B, and is detected by the polarizing plate 60B.

【００８９】ダイクロイックミラー６６により反射され
た光は、ダイクロイックミラー７０により赤色光（約５
８０〜６８０ｎｍ）と緑色光（５１０〜５８０ｎｍ）と
に分離される。分離された緑色光はダイクロイックミラ
ー７０を透過して集光レンズ５４Ｇに入射する。緑色光
は集光レンズ５４Ｇにより集光され、偏光板５６Ｇに入
射する。偏光板５６Ｇに入射した緑色光は直線偏光され
た後に液晶パネル５８Ｇに入射する。液晶パネル５８Ｇ
に入射した緑色光は、液晶パネル５８Ｇの映像信号に従
って部分的に偏光方向を回転され、偏光板６０Ｇにより
検出される。The light reflected by the dichroic mirror 66 is red light (about 5
80 to 680 nm) and green light (510 to 580 nm). The separated green light passes through the dichroic mirror 70 and enters the condenser lens 54G. The green light is condensed by the condenser lens 54G and enters the polarizing plate 56G. The green light that has entered the polarizing plate 56G is linearly polarized and then enters the liquid crystal panel 58G. Liquid crystal panel 58G
The green light incident on is partially rotated in the polarization direction according to the image signal of the liquid crystal panel 58G, and is detected by the polarizing plate 60G.

【００９０】分離された赤色光はダイクロイックミラー
７０により反射して集光レンズ５４Ｒに入射する。赤色
光は集光レンズ５４Ｒにより集光され、偏光板５６Ｒに
入射する。偏光板５６Ｒに入射した赤色光は直線偏光さ
れた後に液晶パネル５８Ｒに入射する。液晶パネル５８
Ｒに入射した赤色光は、液晶パネル５８Ｒの映像信号に
従って部分的に偏光方向を回転され、偏光板６０Ｒによ
り検出される。The separated red light is reflected by the dichroic mirror 70 and enters the condenser lens 54R. The red light is condensed by the condenser lens 54R and enters the polarizing plate 56R. The red light that has entered the polarizing plate 56R is linearly polarized and then enters the liquid crystal panel 58R. LCD panel 58
The red light incident on R is partially rotated in the polarization direction according to the image signal of the liquid crystal panel 58R and is detected by the polarizing plate 60R.

【００９１】偏光板６０Ｂ、６０Ｒ、６０Ｇを出射した
各光は、全反射鏡７２、ダイクロイックミラー７４、７
６により合成されて投影レンズ６２に入射し、スクリー
ン６４に投影される。このように、本実施形態によるプ
ロジェクタでは、赤、緑、青の色別に液晶パネル５８を
設けている。従って、それぞれの液晶パネルに入射する
波長帯域に応じて遮光性膜と干渉膜の構成を変えること
ができる。The respective lights emitted from the polarizing plates 60B, 60R and 60G are total reflection mirror 72 and dichroic mirrors 74 and 7.
It is combined by 6 and enters the projection lens 62 and is projected on the screen 64. As described above, in the projector according to the present embodiment, the liquid crystal panel 58 is provided for each of red, green, and blue colors. Therefore, the configurations of the light-shielding film and the interference film can be changed according to the wavelength band incident on each liquid crystal panel.

【００９２】例えば、液晶パネル５８Ｒは６３０ｎｍの
光に対して、液晶パネル５８Ｇは５５０ｎｍの光に対し
て、液晶パネル５８Ｂは４５０ｎｍの光に対して高い反
射率が得られるようにブラックマトリクス４２を設計す
れば、液晶パネルの光吸収による温度上昇を従来の７０
％程度に抑えることができる。このように、本実施形態
によれば、入射光を色別に分離し、各色ごとに反射率の
少ない液晶パネルに入射するようにプロジェクタを構成
したので、液晶パネルの発熱が少なくなり、プロジェク
タの信頼性を向上することができる。For example, the black matrix 42 is designed so that the liquid crystal panel 58R has a high reflectance for 630 nm light, the liquid crystal panel 58G has a high reflectance for 550 nm light, and the liquid crystal panel 58B has a high reflectance for 450 nm light. If this is done, the temperature rise due to light absorption of the liquid crystal panel will be
It can be suppressed to about%. As described above, according to the present embodiment, the projector is configured so that the incident light is separated for each color and is incident on the liquid crystal panel having a low reflectance for each color. Therefore, the heat generation of the liquid crystal panel is reduced, and the reliability of the projector is reduced. It is possible to improve the property.

【００９３】上記実施形態では、液晶パネルをプロジェ
クタに応用する場合について示したが、直視型の液晶表
示装置に上記の液晶パネルを応用してもよい。In the above embodiments, the case where the liquid crystal panel is applied to the projector has been described, but the above liquid crystal panel may be applied to a direct-view type liquid crystal display device.

【００９４】[0094]

【発明の効果】以上の通り、本発明によれば、対向して
配置された一対の基板と、一対の基板間に封入された液
晶と、一対の基板の一方又は両方に設けられた遮光膜と
を有する液晶パネルにおいて、基板上に設けられ、比抵
抗が１０⁹Ω・ｃｍ以下の材料からなる層を少なくとも
有する第１の膜と、第１の膜上に設けられ、光を吸収す
る第２の膜とにより遮光膜を構成するので、遮光膜の膜
厚を厚くすることなく遮光膜の反射率を高めることがで
きる。As described above, according to the present invention, a pair of substrates arranged to face each other, a liquid crystal enclosed between the pair of substrates, and a light shielding film provided on one or both of the pair of substrates. A liquid crystal panel having: a first film provided on a substrate, having at least a layer made of a material having a specific resistance of 10 ⁹ Ω · cm or less; and a first film provided on the first film and absorbing light. Since the light-shielding film is composed of the second film, the reflectance of the light-shielding film can be increased without increasing the thickness of the light-shielding film.

【００９５】また、上記の液晶パネルにおいて、第１の
膜及び第２の膜に金属膜を用いれば、遮光膜を薄くする
ことができるので、液晶パネルを小型化するのに好適で
ある。また、上記の液晶パネルにおいて、第１の膜を、
第２の膜の反射率を増加させるように設計すれば、入射
光により遮光膜が加熱することを抑えることができるの
で、液晶パネルの信頼性を高めることができる。Further, in the above liquid crystal panel, if the metal film is used for the first film and the second film, the light shielding film can be thinned, which is suitable for downsizing the liquid crystal panel. In the above liquid crystal panel, the first film is
By designing to increase the reflectance of the second film, it is possible to prevent the light shielding film from being heated by incident light, so that the reliability of the liquid crystal panel can be improved.

【００９６】また、上記の液晶パネルにおいて、第１の
膜と基板との間に弗化金属膜を設けて遮光膜を構成すれ
ば、遮光膜の反射率を更に高めることができる。また、
対向して配置された一対の基板と、一対の基板間に封入
された液晶と、一対の基板の一方又は両方に設けられた
遮光膜とを有する液晶パネルにおいて、基板と遮光膜と
の間の基板の表示領域全面に設けられ、遮光膜の反射率
を増加する第１の透明膜を更に設ければ、液晶パネルの
製造プロセスを複雑にすることなく遮光膜の反射率を高
めることができる。Further, in the above liquid crystal panel, if the metal fluoride film is provided between the first film and the substrate to form the light shielding film, the reflectance of the light shielding film can be further increased. Also,
In a liquid crystal panel having a pair of substrates arranged to face each other, a liquid crystal sealed between the pair of substrates, and a light shielding film provided on one or both of the pair of substrates, a liquid crystal panel between the substrate and the light shielding film is provided. If the first transparent film provided on the entire display area of the substrate and increasing the reflectance of the light shielding film is further provided, the reflectance of the light shielding film can be increased without complicating the manufacturing process of the liquid crystal panel.

【００９７】また、上記の液晶パネルにおいて、第１の
透明膜上に設けられた第１の膜と、第１の膜上に設けら
れ、光を吸収する第２の膜とにより遮光膜を構成し、第
１の膜と第１の透明膜とからなる積層膜が、第２の膜の
反射率を増加するようにすれば、液晶パネルの製造プロ
セスを複雑にすることなく遮光膜の反射率を高めること
ができる。In the above liquid crystal panel, the light shielding film is composed of the first film provided on the first transparent film and the second film provided on the first film and absorbing light. If the laminated film including the first film and the first transparent film increases the reflectance of the second film, the reflectance of the light-shielding film can be obtained without complicating the manufacturing process of the liquid crystal panel. Can be increased.

【００９８】また、上記の液晶パネルにおいて、遮光膜
が形成されていない領域の第１の透明膜上に設けられ、
遮光膜が形成されていない領域の反射率を低減する第２
の透明膜を更に設ければ、遮光領域での反射率を増加し
つつ、透過領域における反射率を低減することができ
る。また、上記の液晶パネルにおいて、第２の透明膜
を、液晶を配向するための電極により構成すれば、遮光
膜の膜厚を厚くする必要がなく、液晶パネルの薄膜化を
図ることができる。In the above liquid crystal panel, the light-shielding film is provided on the first transparent film in a region where it is not formed,
Second for reducing the reflectance in the region where the light shielding film is not formed
If the transparent film is further provided, the reflectance in the light-shielding region can be increased and the reflectance in the transmissive region can be reduced. Further, in the above liquid crystal panel, if the second transparent film is composed of electrodes for orienting the liquid crystal, it is not necessary to increase the film thickness of the light shielding film, and the liquid crystal panel can be thinned.

【００９９】また、上記の液晶パネルにおいて、第２の
膜に金属膜を用い、第１の膜にその金属の酸化物からな
る酸化物半導体膜を有する膜を用いれば、遮光膜を加工
する際のエッチング工程において、第１の膜と第２の膜
とを同時に加工できるので、液晶パネルの製造工程を簡
略化できる。また、上記の液晶パネルにおいて、第２の
膜に金属膜を用い、第１の膜にその金属を含む材料から
なる膜を有する膜を用いれば、遮光膜を加工する際のエ
ッチング工程において、第１の膜と第２の膜とを同時に
加工できるので、液晶パネルの製造工程を簡略化でき
る。In the above liquid crystal panel, when a metal film is used as the second film and a film having an oxide semiconductor film made of an oxide of the metal is used as the first film, the light-shielding film is processed. Since the first film and the second film can be simultaneously processed in the etching step, the manufacturing process of the liquid crystal panel can be simplified. Further, in the above liquid crystal panel, if a metal film is used for the second film and a film having a film made of a material containing the metal is used for the first film, it is Since the first film and the second film can be processed at the same time, the manufacturing process of the liquid crystal panel can be simplified.

【０１００】また、上記の液晶パネルにおいて、屈折率
が基板側で大きく、第２の膜側で小さくなるような光学
特性を有する膜により第１の膜を構成すれば、反射率を
更に高めることができる。また、上記の液晶パネルにお
いて、遮光膜における反射率が最大となる光の波長を、
４００〜６００ｎｍの範囲とすれば、入射光に可視光を
用いる液晶パネルにおいて反射率を高めることができ
る。Further, in the above liquid crystal panel, if the first film is made of a film having optical characteristics such that the refractive index is large on the substrate side and small on the second film side, the reflectance is further enhanced. You can Further, in the above liquid crystal panel, the wavelength of light at which the reflectance of the light shielding film is maximum is
When the thickness is in the range of 400 to 600 nm, the reflectance can be increased in a liquid crystal panel that uses visible light as incident light.

【０１０１】また、液晶パネルの画像情報をスクリーン
に投影するプロジェクタに上記の液晶パネルを用いれ
ば、光強度の大きい入射光に対しても液晶パネルの放熱
特性を高めることができ、プロジェクタの信頼性を向上
することが可能となる。また、上記の液晶パネルを複数
設け、互いに異なる波長域の光が入射するようにし、そ
れら液晶パネルのうち少なくとも一つが、遮光膜の形成
された領域において入射する波長域の光を最も反射する
ように構成すれば、それぞれの液晶パネルについて入射
光に対して優れた放熱効率が得られるので、プロジェク
タの信頼性を高めることが可能となる。Further, if the above-mentioned liquid crystal panel is used for the projector that projects the image information of the liquid crystal panel on the screen, the heat dissipation characteristic of the liquid crystal panel can be improved even for the incident light having a high light intensity, and the reliability of the projector is improved. It becomes possible to improve. In addition, a plurality of the above liquid crystal panels are provided so that lights in different wavelength ranges from each other are incident, and at least one of the liquid crystal panels is most reflective of the light in the wavelength range to be incident in the region where the light shielding film is formed. With this configuration, since excellent heat dissipation efficiency for the incident light can be obtained for each liquid crystal panel, the reliability of the projector can be improved.

【０１０２】また、上記の液晶パネルは、液晶表示装置
に適用することができる。The above liquid crystal panel can be applied to a liquid crystal display device.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図１】本発明による液晶パネルの原理を説明する図で
ある。FIG. 1 is a diagram illustrating the principle of a liquid crystal panel according to the present invention.

【図２】本発明の第１実施形態による液晶パネルの構造
を示す平面図及び断面図である。FIG. 2 is a plan view and a cross-sectional view showing a structure of a liquid crystal panel according to a first embodiment of the present invention.

【図３】本発明の第２実施形態による液晶パネルにおけ
るブラックマトリクスの断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view of a black matrix in a liquid crystal panel according to a second embodiment of the present invention.

【図４】本発明の第３実施形態による液晶パネルにおけ
るブラックマトリクスの断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view of a black matrix in a liquid crystal panel according to a third embodiment of the present invention.

【図５】本発明の第４実施形態による液晶パネルにおけ
るブラックマトリクスの断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view of a black matrix in a liquid crystal panel according to a fourth embodiment of the present invention.

【図６】本発明の第５実施形態による液晶パネルにおけ
るブラックマトリクスの断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view of a black matrix in a liquid crystal panel according to a fifth embodiment of the present invention.

【図７】本発明の第６実施形態による液晶パネルにおけ
るブラックマトリクスの断面図である。FIG. 7 is a cross-sectional view of a black matrix in a liquid crystal panel according to a sixth embodiment of the present invention.

【図８】本発明の第７実施形態による液晶パネルにおけ
るブラックマトリクスの断面図である。FIG. 8 is a cross-sectional view of a black matrix in a liquid crystal panel according to a seventh embodiment of the present invention.

【図９】本発明の第８実施形態による液晶パネルの構造
を示す断面図である。FIG. 9 is a sectional view showing a structure of a liquid crystal panel according to an eighth embodiment of the present invention.

【図１０】本発明の第９実施形態による液晶パネルの構
造を示す断面図である。FIG. 10 is a sectional view showing a structure of a liquid crystal panel according to a ninth embodiment of the present invention.

【図１１】本発明の第１０実施形態による液晶パネルの
構造を示す部分断面図である。FIG. 11 is a partial cross-sectional view showing the structure of a liquid crystal panel according to a tenth embodiment of the present invention.

【図１２】本発明の第１１実施形態による液晶パネルの
構造を示す断面図である。FIG. 12 is a cross-sectional view showing a structure of a liquid crystal panel according to an eleventh embodiment of the present invention.

【図１３】本発明の第１２実施形態による液晶パネルの
構造を示す断面図である。FIG. 13 is a sectional view showing a structure of a liquid crystal panel according to a twelfth embodiment of the present invention.

【図１４】本発明の第１３実施形態によるプロジェクタ
の構造を示す概略図である。FIG. 14 is a schematic diagram showing the structure of a projector according to a thirteenth embodiment of the present invention.

【図１５】本発明の第１４実施形態によるプロジェクタ
の構造を示す概略図である。FIG. 15 is a schematic diagram showing the structure of a projector according to a fourteenth embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

１０…ガラス基板 １２…干渉膜 １２ａ…酸化クロム膜 １２ｂ…クロム膜 １２ｃ…酸化クロム膜 １２ｄ…クロム膜 １２ｅ…酸化クロム膜 １２ｆ…弗化マグネシウム膜 １２ｇ…ニッケル−クロム合金膜 １２ｈ…酸化クロム膜 １２ｉ…二酸化硅素膜 １４…遮光性膜 １４ａ…クロム膜 １５…反射防止膜 １６…入射光 １８…入射光 ２０…入射光 ２２…反射光 ２４…反射光 ２６…対向電極 ２８…配向膜 ３０…ガラス基板 ３２…絶縁膜 ３４…信号線 ３６…絶縁膜 ３８…画素電極 ３９…液晶 ４０…配向膜 ４２…ブラックマトリクス ５０…白色光源 ５２…ＵＶ／ＩＲカットフィルタ ５４…集光レンズ ５６…偏光板 ５８…液晶パネル ６０…偏光板 ６２…投影レンズ ６４…スクリーン ６６…ダイクロイックミラー ６８…全反射鏡 ７０…ダイクロイックミラー ７２…全反射鏡 ７４…ダイクロイックミラー ７６…ダイクロイックミラー 10 ... Glass substrate 12 ... Interference film 12a ... Chromium oxide film 12b ... Chrome film 12c ... Chromium oxide film 12d ... Chrome film 12e ... Chromium oxide film 12f ... Magnesium fluoride film 12g ... Nickel-chromium alloy film 12h ... Chromium oxide film 12i ... Silicon dioxide film 14 ... Light-shielding film 14a ... Chromium film 15 ... Antireflection film 16 ... Incoming light 18 ... Incoming light 20 ... Incoming light 22 ... Reflected light 24 ... Reflected light 26 ... Counter electrode 28 ... Alignment film 30 ... Glass substrate 32 ... Insulating film 34 ... Signal line 36 ... Insulating film 38 ... Pixel electrode 39 ... Liquid crystal 40 ... Alignment film 42 ... Black matrix 50 ... White light source 52 ... UV / IR cut filter 54 ... Condensing lens 56 ... Polarizing plate 58 ... Liquid crystal Panel 60 ... Polarizing plate 62 ... Projection lens 64 ... Screen 66 ... Dichroic mirror 68 ... Total reflection mirror 70 ... Da Kuroikkumira 72 ... total reflecting mirror 74 ... dichroic mirror 76 ... dichroic mirror

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 浜田 哲也 神奈川県川崎市中原区上小田中1015番地 富士通株式会社内 (72)発明者 菅原 真理 神奈川県川崎市中原区上小田中1015番地 富士通株式会社内 (72)発明者 小林 哲也 神奈川県川崎市中原区上小田中1015番地 富士通株式会社内 (72)発明者 後藤 猛 神奈川県川崎市中原区上小田中1015番地 富士通株式会社内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Tetsuya Hamada 1015 Kamiodanaka, Nakahara-ku, Kawasaki City, Kanagawa Prefecture, Fujitsu Limited (72) Inventor Mari Sugawara, 1015, Kamiodanaka, Nakahara-ku, Kawasaki City, Kanagawa Prefecture, Fujitsu Limited ( 72) Inventor Tetsuya Kobayashi 1015 Kamiodanaka, Nakahara-ku, Kawasaki City, Kanagawa Prefecture, Fujitsu Limited (72) Inventor Takeshi Goto 1015, Kamikodanaka, Nakahara-ku, Kawasaki City, Kanagawa Prefecture, Fujitsu Limited

Claims (15)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項１】 対向して配置された一対の基板と、 前記一対の基板間に封入された液晶と、 前記一対の基板の一方又は両方に設けられた遮光膜とを
有する液晶パネルにおいて、 前記遮光膜は、前記基板上に設けられ、比抵抗が１０⁹
Ω・ｃｍ以下の材料からなる層を少なくとも有する第１
の膜と、前記第１の膜上に設けられ、光を吸収する第２
の膜とを有することを特徴とする液晶パネル。1. A liquid crystal panel having a pair of substrates arranged to face each other, a liquid crystal sealed between the pair of substrates, and a light-shielding film provided on one or both of the pair of substrates, The light shielding film is provided on the substrate and has a specific resistance of 10 ⁹
First having at least a layer made of a material of Ω · cm or less
And a second film provided on the first film for absorbing light.
A liquid crystal panel having a film of 【請求項２】 請求項１記載の液晶パネルにおいて、 前記第１の膜及び前記第２の膜は金属膜であることを特
徴とする液晶パネル。2. The liquid crystal panel according to claim 1, wherein the first film and the second film are metal films. 【請求項３】 請求項１又は２記載の液晶パネルにおい
て、 前記第１の膜は、前記第２の膜の反射率を増加させるこ
とを特徴とする液晶パネル。3. The liquid crystal panel according to claim 1, wherein the first film increases the reflectance of the second film. 【請求項４】 請求項３記載の液晶パネルにおいて、 前記遮光膜は、前記第１の膜と前記基板との間に弗化金
属膜を更に有することを特徴とする液晶パネル。4. The liquid crystal panel according to claim 3, wherein the light shielding film further has a metal fluoride film between the first film and the substrate. 【請求項５】 対向して配置された一対の基板と、 前記一対の基板間に封入された液晶と、 前記一対の基板の一方又は両方に設けられた遮光膜とを
有する液晶パネルにおいて、 前記基板と前記遮光膜との間の前記基板の少なくとも表
示領域全面に設けられ、前記遮光膜の反射率を増加する
第１の透明膜を更に有することを特徴とする液晶パネ
ル。5. A liquid crystal panel comprising a pair of substrates arranged to face each other, a liquid crystal sealed between the pair of substrates, and a light-shielding film provided on one or both of the pair of substrates, A liquid crystal panel, further comprising a first transparent film provided between the substrate and the light-shielding film at least on the entire display region of the substrate to increase the reflectance of the light-shielding film. 【請求項６】 請求項５記載の液晶パネルにおいて、 前記遮光膜は、前記第１の透明膜上に設けられた第１の
膜と、前記第１の膜上に設けられ、光を吸収する第２の
膜とを有し、 前記第１の膜と前記第１の透明膜とからなる積層膜は、
前記第２の膜の反射率を増加することを特徴とする液晶
パネル。6. The liquid crystal panel according to claim 5, wherein the light-shielding film is provided on the first transparent film and the first film, and is provided on the first film to absorb light. A laminated film including a second film, the laminated film including the first film and the first transparent film,
A liquid crystal panel, wherein the reflectance of the second film is increased. 【請求項７】 請求項５又は６記載の液晶パネルにおい
て、 前記遮光膜が形成されていない領域の前記第１の透明膜
上に設けられ、前記遮光膜が形成されていない領域の反
射率を低減する第２の透明膜を更に有することを特徴と
する液晶パネル。7. The liquid crystal panel according to claim 5, wherein the reflectance of a region provided on the first transparent film in a region where the light shielding film is not formed and the light shielding film is not formed is A liquid crystal panel further comprising a second transparent film for reducing. 【請求項８】 請求項７記載の液晶パネルにおいて、 前記第２の透明膜は、前記液晶を配向するための電極で
あることを特徴とする液晶パネル。8. The liquid crystal panel according to claim 7, wherein the second transparent film is an electrode for aligning the liquid crystal. 【請求項９】 請求項３乃至８のいずれかに記載の液晶
パネルにおいて、 前記第２の膜は金属膜であり、 前記第１の膜は前記金属膜の金属の酸化物からなる膜を
有することを特徴とする液晶パネル。9. The liquid crystal panel according to claim 3, wherein the second film is a metal film, and the first film has a film made of a metal oxide of the metal film. A liquid crystal panel characterized by that. 【請求項１０】 請求項３乃至８のいずれかに記載の液
晶パネルにおいて、 前記第２の膜は金属膜であり、 前記第１の膜は前記金属膜の金属を含む材料からなる膜
を有することを特徴とする液晶パネル。10. The liquid crystal panel according to claim 3, wherein the second film is a metal film, and the first film has a film made of a material containing a metal of the metal film. A liquid crystal panel characterized by that. 【請求項１１】 請求項３乃至１０のいずれかに記載の
液晶パネルにおいて、 前記第１の膜は、屈折率が、前記基板側で大きく、前記
第２の膜側で小さくなるような光学特性を有することを
特徴とする液晶パネル。11. The liquid crystal panel according to claim 3, wherein the first film has an optical property that a refractive index is large on the substrate side and small on the second film side. A liquid crystal panel comprising: 【請求項１２】 請求項１乃至１１のいずれかに記載の
液晶パネルにおいて、 前記遮光膜における反射率が最大となる光の波長が、４
００〜６００ｎｍの範囲であることを特徴とする液晶パ
ネル。12. The liquid crystal panel according to claim 1, wherein the wavelength of light that maximizes the reflectance of the light shielding film is 4
A liquid crystal panel having a range of 00 to 600 nm. 【請求項１３】 液晶パネルの画像情報をスクリーンに
投影するプロジェクタであって、 請求項１乃至１２のいずれかに記載の液晶パネルを有す
ることを特徴とするプロジェクタ。13. A projector for projecting image information of a liquid crystal panel onto a screen, comprising the liquid crystal panel according to claim 1. Description: 【請求項１４】 液晶パネルの画像情報をスクリーンに
投影するプロジェクタであって、 互いに異なる波長域の光が入射する、請求項１乃至１２
のいずれかに記載の液晶パネルを複数有し、 前記液晶パネルのうち少なくとも一つが、前記遮光膜が
形成された領域において、入射する波長域の光を最も反
射する特性を有することを特徴とするプロジェクタ。14. A projector for projecting image information of a liquid crystal panel onto a screen, wherein lights of different wavelength bands are incident.
A plurality of liquid crystal panels according to any one of the above items, wherein at least one of the liquid crystal panels has a characteristic of most reflecting light in an incident wavelength region in a region where the light shielding film is formed. projector. 【請求項１５】 請求項１乃至１２のいずれかに記載の
液晶パネルを有することを特徴とする液晶表示装置。15. A liquid crystal display device comprising the liquid crystal panel according to any one of claims 1 to 12.