JPH08337722A

JPH08337722A - シリコーンゴム、該シリコーンゴムを用いたオフセット印刷機用ブランケット及び印刷方法

Info

Publication number: JPH08337722A
Application number: JP14467495A
Authority: JP
Inventors: Norio Kaneko; 典夫金子; Yasuo Mukai; 康雄向井
Original assignee: Canon Inc
Current assignee: Canon Inc
Priority date: 1995-06-12
Filing date: 1995-06-12
Publication date: 1996-12-24

Abstract

(57)【要約】【目的】分子構造に起因する粘弾性特性が改善され、
外部からの圧力分布を分子レベルで均一化できるシリコ
ーンゴムを提供すること。【構成】シロキサンを繰り返し単位とし、かつ少なく
とも１分子鎖中に１個以上の不飽和脂肪族基を含むオル
ガノポリシロキサン（Ａ）と、シロキサンを繰り返し単
位とし、かつ１分子鎖中に３個以上の独立した水素化ケ
イ素単位を含むオルガノポリシロキサン（Ｂ）と、金
属、金属化合物又は該金属若しくは該金属化合物を含む
ポリシロキサン組成物の中から選ばれた１種（Ｃ）を基
本構成物として、これらが反応して生成されたシリコー
ンゴム。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、シリコーンゴム、該シ
リコーンゴムを用いたオフセット印刷機用ブランケト及
び印刷方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、各種表示装置が大画面化してきて
おり、これらの蛍光体、電極あるいはカラーフィルター
などを形成する手段として印刷技術が注目されてきた。
従来、一般的には、このような目的のためにはフォトリ
ソグラフィー技術を用いていたが、この方法は工程が長
く、また緊雑であることからコストが問題となってい
た。こうしたなか、カラーフィルターの製造にオフセッ
ト印刷を採用することが提案されている。例えば、特開
平０３−０２２３２４号公報では、ブランケットにシリ
コーンゴムを主体とする弾性体を表面層に使用し、被印
刷物表面に紫外線あるいは熱硬化樹脂を形成し、該樹脂
上に凹版オフセット印刷により蛍光体パターンを印刷し
ている。印刷後、印刷物を熱処理することにより、前記
樹脂層を除去して蛍光体のみのパターンを形成する事が
できる。

【０００３】また、特開平０６−２５５２８０号公報に
は、臨界表面張力と粘弾性特性を限定したシリコーンゴ
ム表面層のブランケットが提案されている。表面ゴムの
臨界表面張力及び粘弾性特性は、オフセット印刷におい
ては極めて重要な物性であり、これらを規定することに
より、カラーフィルター製造において、線幅１００μｍ
程度の着色層と線幅２０μｍ程度のブラックマトリック
ス層の形成を凹版オフセット印刷により可能としてい
る。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明者らは、より高
精度な印刷を行ない得る印刷機用ブランケットについて
鋭意検討を行なったところ、上述した公報に開示された
技術にあっては、下述する解決すべき課題があることが
明らかとなった。

【０００５】即ち、特開平０３−０２２３２４号公報に
あっては、ブランケットに使用しているシリコーンゴム
の硬度は規定しているが、シリコーンゴムの物性、特に
分子構造に由来するような内容は全く記載されていな
い。シリコーンゴムの性質は、印刷性に大きな影響を与
えるが、印刷パターンが微細になってくると、バルク的
な性質だけでなく、ブランケットを構成している素材の
分子のレベルでの性質や構造も重要になってくる。特開
平０３−０２２３２４号公報で開示されているゴムの硬
度は、バルク的な性質であり、分子レベルの性質ではな
い。従って、これらの点について検討する必要がある。

【０００６】また、特開平０６−２５５２８０号公報に
開示された臨界表面張力は、印刷に使用するインクの材
質や被印刷物の材質によって変化する物性である。粘弾
性特性についてはｔａｎδの値のみが記載されている。
一般に、粘弾性特性は弾性率Ｇ＝Ｇ′＋ｉＧ′′（Ｇ′
は貯蔵弾性率、Ｇ′′は損失弾性率）で表される。そし
て、ｔａｎδはＧ′′／Ｇ′と定義される。従って、ｔ
ａｎδのみの記述では、弾性体の硬さや周期的な変形圧
力などに関する弾性体の挙動を議論することはできな
い。弾性率Ｇは、材料のマクロ的な性質であり、特開平
０６−２５５２８０特許公開公報でもゴムの分子構造に
関しては何も開示されていない。

【０００７】シリコーンゴムは、一般にオルガノポリシ
ロキサンより合成されるゴムである。オルガノポリシロ
キサンとは、シロキサン（１）を繰り返し単位とする有
機シロキサン重合体のことである。

【０００８】（−Ｓｉ（Ｍ）₂ −Ｏ−）…（１）通常は、（１）式のＭ（水素、メチル基などの飽和脂肪
族基、ビニル基などの不飽和脂肪族基、アミノ基やヒド
ロキシル基、ハロゲンなどの極性基や金属を含む前記飽
和及び不飽和脂肪族基など）及びゴム中のシロキサン単
位数を選択することにより、所望のシリコーンゴムを得
ている。また、シリコーンゴムは３次元の架橋構造を有
しており、この架橋構造が弾性率Ｇと関連していること
はゴム一般で広く知られている。ブランケットの粘弾性
特性を最適化するためには、前記架橋構造を制御するこ
とが極めて重要であるが、特開平０３−０２２３２４号
公報や特開平０６−２５５２８０号公報においてはシリ
コーンゴムの架橋構造については何等開示がない。

【０００９】印刷パターンが微細になり、また、フォト
リソグラフィー技術に代わって大面積のパターンを高速
で形成するためには、印刷パターンの変形と位置精度は
極めて重要になる。このために早い周波数で応力が加え
られても、ブランケットの表面ゴムはその応力に対して
忠実に応答し、かつ、加えられた応力が少なくとも表面
ゴム層に残存して隣接するパターンに影響を与えないこ
とが求められる。しかしながら、従来のブランケットの
表面ゴムにはこのような高速での周期的応力に対する対
策が施されていないというのが実状である。

【００１０】本発明は、上述した解決すべき技術的課題
を解決したシリコーンゴム、該シリコーンゴムを用いた
オフセット印刷機用ブランケット及び印刷方法を提供す
ることを目的とする。

【００１１】本発明の別の目的は、分子構造に起因する
粘弾性特性が改善され、外部からの圧力分布を分子レベ
ルで均一化できるシリコーンゴムを提供することにあ
る。

【００１２】本発明の更に別の目的は、高精度のオフセ
ット印刷を可能とするオフセット印刷機用ブランケット
及び印刷方法を提供することにある。

【００１３】

【課題を解決するための手段及び作用】本発明は、上述
した課題を解決するため鋭意検討を行なってなされたも
のであり、下述する構成のものである。即ち、本発明の
シリコーンゴムは、シロキサンを繰り返し単位とし、か
つ少なくとも１分子鎖中に１個以上不飽和脂肪族基を含
むオルガノポリシロキサン（Ａ）と、シロキサンを繰り
返し単位とし、かつ１分子鎖中に３個以上の独立した水
素化ケイ素単位を含むオルガノポリシロキサン（Ｂ）
と、金属、金属化合物又は該金属若しくは該金属化合物
を含むポリシロキサン組成物の中から選ばれた１種
（Ｃ）を基本構成物として、これらが反応して生成され
たことを特徴とするものである。

【００１４】本発明は、オフセット印刷機用ブランケッ
ト及び印刷方法を包含する。

【００１５】本発明のオフセット印刷機用ブランケット
は、シロキサンを繰り返し単位とし、かつ少なくとも１
分子鎖中に１個以上の不飽和脂肪族基を含むオルガノポ
リシロキサン（Ａ）と、シロキサンを繰り返し単位と
し、かつ１分子鎖中に３個以上の独立した水素化ケイ素
単位を含むオルガノポリシロキサン（Ｂ）と、金属、金
属化合物又は該金属若しくは該金属化合物を含むポリシ
ロキサン組成物の中から選ばれた１種（Ｃ）を基本構成
物として、これらが反応して生成されたシリコーンゴム
を配して構成したことを特徴とするものである。

【００１６】本発明の印刷方法は、版上にインキをパタ
ーン状に配する工程、ブランケットの表面に配され、且
つシロキサンを繰り返し単位とし、かつ少なくとも１分
子鎖中に１個以上の不飽和脂肪族基を含むオルガノポリ
シロキサン（Ａ）と、シロキサンを繰り返し単位とし、
かつ１分子鎖中に３個以上の独立した水素化ケイ素単位
を含むオルガノポリシロキサン（Ｂ）と、金属、金属化
合物又は該金属若しくは該金属化合物を含むポリシロキ
サン組成物の中から選ばれた１種（Ｃ）を基本構成物と
して、これらが反応して生成されたシリコーンゴムを前
記インキに接触させて、前記インキを受理する工程、及
び前記受理されたインキを被印刷物に接触させ、該被印
刷物に転移させる工程とを有することを特徴とするもの
である。

【００１７】本発明によれば、上述した技術的課題が解
決され、上述した目的が達成される。

【００１８】本発明のシリコーンゴムは、分子構造を制
御している。そして、このゴムを用いてオフセット印刷
機用のブランケットを構成し、これを印刷に用いると高
速印刷においても１０¹ から１０² μｍ程度の微細パタ
ーンを形成することができる。

【００１９】本発明のシリコーンゴムにおいては、外部
から加えられた圧力に対する表面ゴム層内での圧力分布
レベルで均一化できるように表面ゴムの架橋構造を改善
している。本発明のシリコーンゴムは、シリコーンゴム
の分子構造すなわち架橋構造を制御するために、２種類
のオルガノポリシロキサンと室温から１００℃程度の温
度で所望の架橋構造を得るための触媒を基本構成物とし
た組成物を用いて、２種類のオルガノポリシロキサンを
付加反応によって架橋させて合成することができる。本
発明のシリコーンゴムを構成する基本構成物は、分子鎖
中に１個以上、特に好ましくは２から１０個の不飽和脂
肪族基を含むオルガノポリシロキサン（Ａ）と、分子鎖
中に３個以上の水素化ケイ素を含むオルガノポリシロキ
サン（Ｂ）と硬化触媒である金属、金属化合物又はこれ
らを含むポリシロキサン組成物の中から選ばれた１種
（Ｃ）とすることができる。（Ａ）の不飽和脂肪族基
は、ポリシロキサン分子鎖の途中でも末端に含まれてい
ても良い。（Ｂ）は、（Ａ）を架橋するために用いる架
橋材であり、その分子鎖中に３個以上、特に好ましくは
４から２０個の水素化ケイ素を含み、この水素化ケイ素
は分子鎖の途中でも末端に含まれていても良い。図１に
前述した（１）式におけるＭが炭化水素系のオルガノポ
リシロキサン（Ａ）具体例を示した。図２には、オルガ
ノポリシロキサン（Ｂ）の具体例を示した。

【００２０】オルガノポリシロキサン（Ａ）は室温での
粘度が２０から３００００ｃｐｓであるが、オルガノポ
リシロキサン（Ｂ）及び触媒（Ｃ）とより均一に混合さ
せるためには２０から２００００ｃｐｓとすることが好
ましい。オルガノポリシロキサン（Ｂ）の室温での粘度
は１０から１００００ｃｐｓであり、好ましくは２０か
ら９０００ｃｐｓとするのが良い。これらの粘度に相当
するオルガノポリシロキサンの分子量は、（１）式のＭ
を構成する原子種により異なるが、Ｍが炭素と水素だけ
から構成されている場合には、（Ａ）、（Ｂ）ともに概
略９００００以下であり、架橋構造をより正確に制御す
るためには２０００から５００００程度が特に好まし
い。（Ａ）と（Ｂ）を付加反応させる時の触媒（Ｃ）は
金属、金属化合物及びこれらを含むポリシロキサン組成
物の中から選ばれた１種である。金属元素としては、白
金やロジウムなどが挙げられるが、反応速度を適度にす
るという観点からは白金が好ましい。具体的には、白
金、白金オレフィン錯体、白金ホスフィン錯体などの白
金配位化合物、テトラクロル白金酸などのハロゲン化白
金酸化合物、ビニルシラン化合物などの不飽和ケイ素化
合物で錯体化した白金酸化合物、白金ビニルシロキサン
錯体、白金トリフェニルホスフィン錯体などである。

【００２１】これらオルガノポリシロキサン（Ａ）、オ
ルガノポリシロキサン（Ｂ）および触媒（Ｃ）より、シ
リコーンゴムを合成するための反応式（Ａ）の不飽和脂
肪族基と（Ｂ）の水素化ケイ素単位をそれぞれ１個とし
た場合）は以下ように示すことができる。なお、以下の
反応式におけるＲ、Ｒ′、Ｒ′′、Ｒ′′′、Ｍ₁ 、Ｍ
₂ 、Ｍ₁ ′、Ｍ₂ ′、Ｍ₁ ′′、Ｍ₂ ′′、Ｍ
₁ ′′′、Ｍ₂ ′′′は、いづれも前述した（１）式の
Ｍと同様な原子団である。

【００２２】

【外１】この式から明らかなように、本発明のシリコーンゴムの
合成には、ハイドロシリレーション反応を利用すること
ができる。この反応によれば反応に際してなんら遊離物
（副生成物）を生成しない、さらに、オルガノポリシロ
キサン（Ｂ）においては、分子鎖内で水素化ケイ素単位
ＳｉＨが単独で存在している。このために、分子鎖内の
水素化ケイ素単位の数とシロキサン単位の繰り返し数を
決めるｘ及びｙの値を選択することにより反応生成物の
架橋部位を制御できる。

【００２３】本発明のシリコーンゴムの合成に際して
は、必要により反応遅延剤などを添加しても良いことは
言うまでもない。反応遅延剤としては、ジアセチレンア
ルコールなどの不飽和アルコール類、ビニルシラン化合
物（モノマー）などの不飽和ケイ素化合物類がある。

【００２４】このような反応を利用してシリコーンゴム
を合成すると、得られる本発明のシリコーンゴムの架橋
構造は図３に模式的示した構造となる（本来はシリコー
ンゴムは３次元構造となるが、ここでは２次元構造とし
て示した）。図３に表されるように、この反応を用いる
とほぼ等間隔に架橋部位を設定できる。これに対して、
一般にシリコーンゴムと呼ばれる物はオルガノポリシロ
キサン（Ｂ）において、下記の（２）式に示される、水
素化ケイ素とシロキサン単位がそれぞれ複数個連続した
構造のオルガノポリシロキサンを使う（伊藤邦雄編シリ
コーンハンドブック１９９０年日刊工業新聞Ｐ．１１２
に示された式（５．４）の分子構造参照）。このため本
発明のシリコーンゴムの合成に用いられるのと同様の反
応を用いても、得られるゴムの架橋構造は図７に模式的
に示したもののようになる。

【００２５】

【外２】

【００２６】以上の説明から理解されるように、本発明
のシリコーンゴムは架橋部位がほぼ均等間隔で存在す
る。このためこのシリコーンゴムを用いてオフセット印
刷機用ブランケットを構成し、これをオフセット印刷に
使用すると、版（平版、凹版）からインキを受理し、ガ
ラスなどの被印刷物にインキを転移させる際に、ブラン
ケットに圧力が印加された場合に分子レベルでもその圧
力が均等に配分されることになる。一方、図７に示した
不均一な架橋構造を有する場合には、原子の存在密度が
空間的に大きく変化するために印刷における圧力が分子
内で不均一になる。このことは、シリコーンゴムの粘弾
性特性にも影響し、本発明のシリコーンゴム（図３に示
した架橋構造）は、図７に示される構造のシリコーンゴ
ムに比較して貯蔵弾性率Ｇ′がほぼ同じ値であっても、
損失弾性率Ｇ′′が小さくなると考えられる。そして、
Ｇ′′が大きくなると、シリコーンゴムの応力に対する
応答性が悪くなり、インキ受理や転移においてシリコー
ンゴムに加えられた応力が残存する。即ち、シリコーン
ゴムは変形が回復しない状態で印刷することになり、パ
ターン変形が大きくなったり、位置精度も悪くなると考
えられる。特に、シリコーンゴムは圧縮力が大きくなる
と粘性が大きくなり、また圧縮率も高くなることが知ら
れており（Ｐ．Ｗ．Ｂｒｉｄｇｍａｎ，Ｐｒｏｃ．Ａ
ｍ．Ａｃａｄ．Ａｒｔｓ．Ｓｃｉ．，７７，１１５（１
９４９））、ブランケットの押し込み量が大きくなると
Ｇ′′が大きな領域でのシリコーンゴムの変形回復問題
は深刻になる。さらに、印刷速度が速くなったり、印刷
パターンが微細になってくると、例えば凹版内のインキ
をシリコーンゴムに受理しようとすると単位時間当たり
シリコーンゴムに印加される圧力の周波数が大きくな
る。このような場合には、従来のシリコーンゴムでは分
子レベルでの外部圧力分布の不均一性がブランケット表
面に起き、部分的な塑性変形を生じて印刷パターンの変
形や位置精度の低下はさらに深刻になる。これに対して
本発明のシリコーンゴムは、分子レベルでの外部圧力分
布を均一化させることができる。従って、本発明のシリ
コーンゴム・オフセット印刷機用ブランケット及び印刷
方法は、上述した技術的課題を解決し得る。

【００２７】本発明のシリコーンゴムは、例えば二酸化
ケイ素などの粒子を混入させて、硬度を調整することも
可能であり、また、表面処理により表面の性質を改善す
ることも可能である。

【００２８】本発明のブランケットにおいて、基布など
表面ゴム以外のブランケット構成部材は、特に制限され
るものではないが、例えばレオメトリックス社製ＲＭＳ
７００メカニカルスペクトロメーターを用いて剛性率Ｇ
を測定し、Ｇ′が１０³ から１０⁶ ｄｙｎｅ／ｃｍ² 程
度、ｔａｎδが１０^-1程度以下のものを用いるのが望ま
しい。

【００２９】

【実施例】以下、具体的実施例により本発明をより詳細
に説明する。なお、以下の実施例では、インキに金属ペ
ーストを用いたが、本発明はこれに限定されるものでは
ない。

【００３０】（実施例１）室温における粘度が３０００
ｃｐａｓのオルガノポリシロキサン（シロキサンの繰り
返し単位の数が５６０程度、分子鎖中にビニルシラン単
位を３個含む）（Ａ）と、室温における粘度が１５００
ｃｐｓのオルガノポリシロキサン（シロキサンの繰り返
しの数が６５０程度、分子鎖中に水素化ケイ素単位を６
個含む）（Ｂ）を（Ａ）：（Ｂ）＝２：３の割合で混合
し、さらに硬化触媒として白金酸のビヌルトリメトキシ
シラン錯体（白金酸１モルをビニルトリメトキシシラン
１０モルで錯体化したもの）を組成物全体の重量に対し
て白金換算で８５ｐｐｍとなるように混合した組成物を
ブランケットの表面ゴム層に使用した。この組成物は、
調整後、約１００分でほぼ完全に硬化した。このこと
は、レオメトリックス社製ＲＭＳ７００メカニカルスペ
クトロメーターを用いて剛性率Ｇの変化を測定し、剛性
率が変化しなくなることで確認した。結果を図６に示
す。前記装置を用いて本例のシリコーンゴムについて
Ｇ′およびＧ′′の測定を行なった。この結果を図４に
示す。図４より測定範囲において、Ｇ′≫Ｇ′′であ
り、かつ周波数依存も少ないことが解る。これは、外部
からの応力に対して、本例のシリコーンゴムが正確に応
答することを示している。

【００３１】基布など表面ゴム以外のブランケットの構
成部材にはレオメトリックス社製ＲＭＳ７００メカニカ
ルスペクトロメーターを用いた剛性率測定により、Ｇ′
が１０⁵ ｄｙｎｅ／ｃｍ² 、ｔａｎδが１０^-3のものを
用いた。

【００３２】ブランケット胴に、本例のシリコーンゴム
を配したブランケットを装着し、次のようにしてオフセ
ット印刷を行なった。図５を用いて説明する。まず所望
のパターンに形成された凹版１内にインキ５０をドクタ
ーブレードを用いて充填させ（図５（Ａ））、このイン
キ５０をブランケット胴２に取り付けたブランケット３
を凹版上を回転移動させることにより受理させた（図５
（Ｂ））。

【００３３】次いで被印刷物である基板４上をブランケ
ット３を回転させることにより、ブランケット３に受理
されたインキパターンを基板４上に転移させた（図５
（Ｃ））。

【００３４】本例では、深さ８μｍで幅Ｌ＝５０、１０
０、１５０、２００μｍ、間隔Ｓ＝１００、５０、２０
μｍで並べた直線パターンを形成したガラス製凹版を用
い、インキにはＰｔ−ＭＯペーストを使用した。また、
基板４には青板ガラスを用いた。このように印刷したイ
ンキを乾燥、焼成して目的の印刷パターンを得た。印刷
精度は、凹版と印刷パターンの幅と間隔を比較して、凹
版のパターンを忠実に再現しているかどうかで評価し
た。本例の表面ゴムを使用した場合には、印刷パターン
は幅、間隔ともに±３μｍで再現できた。これに対し
て、ポリオルガノシロキサン（Ｂ）に従来の構造のもの
（複数のＳｉＨ基が連続して結合している）を用いた場
合には、粘弾性特性は図８に示されるようにＧ′′≧
Ｇ′の領域が観測された。更に従来のものの場合、間隔
を５０、２０μｍとすると再現せずに印刷パターンがつ
ながってしまうことが多くなった。特に、ブランケット
の基板に対する押し込み量が多くなると、この傾向が強
くなってしまった。

【００３５】（実施例２）オルガノポリシロキサン
（Ａ）として、室温の粘度が１８０００ｃｐｓで分子鎖
中にフェニル基とメチル基が概ね４：６で含まれ、かつ
分子鎖中に不飽和脂肪族基が１０個含まれるものを用い
た。オルガノポリシロキサン（Ｂ）として、室温の粘度
が８０００ｃｐｓで分子鎖中に水素化ケイ素基が１０個
（水素化ケイ素基の数分子量分布などのために平均して
１〜２個の誤差が含まれる）を含まれるものを用いた。
また、触媒（Ｃ）としてはビニルトリメトシシランの白
金酸錯体を、白金換算で１５０ｐｐｍとなるようにし
て、（Ａ）と（Ｂ）を１：３の割合にした混合物に
（Ｃ）を混合して表面ゴムを形成した。この組成物は、
調整後約１５０分で、ほぼ完全に硬化した。レオメトリ
ックス社製ＲＭＳ７００メカニカルスペクトロメーター
による本例のシリコーンゴムのＧ′およびＧ′′の測定
し、Ｇ′≫Ｇ′′であり、かつ周波数依存も少ないこと
を確認した。実施例１と同様にしてブランケットを構成
し、オフセット印刷を行なった。本例では、深さ９μｍ
で幅Ｌ＝５０、１００、１５０、２００、３００μｍ、
間隔Ｓ＝２００、１００、５０、２０μｍで並べた直線
パターンを形成した金属凹版を用い、インキにはＡｇペ
ーストを使用した。また、基板には青板ガラスを用い
た。このようにして印刷したインキを乾燥、焼成して目
的の印刷パターンを得た。印刷精度は、凹版と印刷パタ
ーンの幅と間隔を比較して、凹版のパターンを忠実に再
現しているかどうかで評価した。本例の表面ゴムを使用
した場合には、印刷パターンは金属凹版に対して幅、間
隔ともに±５μｍで再現できた。これに対して、ポリオ
ルガノシロキサン（Ｂ）に従来の構造のもの（複数のＳ
ｉＨ基が連続して結合している）を用いた場合には、間
隔が５０、２０μｍの場合には再現できずに印刷パター
ンがつながってしまうことが多くなった。特に、ブラン
ケットの基板に対する押し込み量が３００μｍ程度より
多くなると、幅及び間隔は３０μｍ以上も変化してしま
った。

【００３６】（実施例３）室温における粘度が２０００
ｃｐｓのオルガノポリシロキサン（シロキサンの繰り返
し単位の数が５６０程度、分子鎖中にビニルシラン単位
を３個含む）（Ａ）と、室温における粘度が２５００ｃ
ｐｓのオルガノポリシロキサン（シロキサンの繰り返し
の数が９５０程度、分子鎖中に水素化ケイ素単位を３個
含む）（Ｂ）を（Ａ）：（Ｂ）＝２：３の割合で混合
し、さらに硬化触媒として白金酸のビニルトリメトキシ
シラン錯体（白金酸１モルをビニルトリメトキシシラン
１０モルで錯体化したもの）を組成物全体の重量に対し
て白金換算で６０ｐｐｍとなるように混合した組成物を
ブランケットの表面ゴム層に使用した。さらに、この
（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）を混合する際に、該混合物に
対して重量比で約５％の二酸化ケイ素粉末（平均粒径１
μｍ程度）を加えて架橋反応を行なった。この組成物
は、調整後約１２０分で、ほぼ完全に硬化した。実施例
１と同様にしてブランケットを構成し、オフセット印刷
を行なった。

【００３７】本例では、深さ１５μｍで幅Ｌ＝５０、１
００、１５０、２００μｍ、間隔Ｓ＝１００、５０、２
０μｍで並べた直線パターンを形成したガラス製凹版を
用い、インキはＡｕペーストを使用した。また、基板に
は青板ガラスを用いた。このようにして印刷したインキ
を乾燥、焼成して目的の印刷パターンを得た。印刷精度
は、凹版と印刷パターンの幅と間隔を比較して、凹版の
パターンを忠実に再現しているかどうかで評価した。本
例の表面ゴムを使用した場合には、印刷パターンは幅、
間隔ともに±４μｍ以内で再現できた。これに対して、
ポリオルガノシロキサン（Ｂ）に従来の構造のもの（複
数のＳｉＨ基が連続して結合している）を用いた場合に
は、間隔が５０、２０μｍの場合には版パターンの再現
性は悪く、隣接する印刷パターンがつながってしまうこ
とが多くなった。特に、ブランケットの基板に対する押
し込み量が約２５０μｍより大きくなると、この傾向が
強くなり、幅、間隔も１５μｍ以上変化してしまった。

【００３８】（実施例４）オルガノポリシロキサン
（Ａ）として、室温の粘度が２５００ｃｐｓで分子鎖中
にフェニル基とメチル基が概ね３：７で含まれるものを
用いた。オルガノポリシロキサン（Ｂ）として、室温の
粘度が２０００ｃｐｓで分子鎖中に水素化ケイ素基が４
個（水素化ケイ素基の数は分子量分布などのために平均
して１〜２個の誤差が含まれる）を含まれるものを用い
た。また、触媒（Ｃ）としてはビニルトリメトシシラン
の白金酸錯体を、白金換算で１５０ｐｐｍとなるように
して、（Ａ）と（Ｂ）を１：３の割合にした混合物に
（Ｃ）を混合して表面ゴムを形成した。この組成物は、
調整後約１２０分で、ほぼ完全に硬化した。この表面ゴ
ムとＧ′が１０⁴ から１０⁷ ｄｙｎｅ／ｃｍ² 程度、ｔ
ａｎδが１０^-2程度以下の基布よりブランケットを形成
し、このブランケットの表面ゴムの表面をアンモニアガ
スを含む雰囲気中でプラズマ処理した。表面ゴムに含ま
れる窒素原子は主としてアミノ基として存在し、表面ゴ
ムの親水性を改善できた。窒素原子の最適割合は、印刷
に使用するインキ、版の材質、基板の種類により変化す
るが、インキの受理／転移が最も良好になるようにすれ
ばよい。一般的には、表面ゴムに含まれる窒素原子の割
合は炭素原子に対して概略１０００ｐｐｍ以下にするこ
とが望ましい。本例では窒素原子の割合は２５０ｐｐｍ
のものを用いた。なお、炭素原子と窒素原子の比率は、
表面ゴムを加熱燃焼させて発生した気体を分析すること
で測定することができる。また、アンモニアガスの代わ
りに、メタノールなどのアルコール類、水蒸気、ハロゲ
ンガスなどを使用しても良い。さらに、オルガノポリシ
ロキサン（Ａ）、（Ｂ）の少なくとも一方にアミノ基、
ヒドロキシル基、ハロゲン元素などを有するものを使用
すれば、プラズマ処理と同じ効果が得られる。

【００３９】上述の表面シリコーンゴムと基布を用いて
ブランケットを作製し、印刷を行なった。本例では、深
さ９μｍで幅Ｌ＝５０、１００、１５０、２００μｍ、
間隔Ｓ＝１００、５０、２０μｍで並べた直線パターン
を並べた金属製凹版を用い、インキはＡｕペーストを使
用した。また、基板には青板ガラスを用いた。このよう
にして印刷したインキを乾燥、焼成して目的の印刷パタ
ーンを得た。印刷精度は、凹版と印刷パターンの幅と間
隔を比較して、凹版のパターンを忠実に再現しているか
どうかで評価した。本例の表面ゴムを使用した場合に
は、印刷バターンは幅、間隔ともに±３μｍで再現でき
た。これに対して、ポリオルガノシロキサン（Ｂ）に従
来の構造のもの（ＳｉＨ基が連続して結合している）を
用いた場合には、幅、間隔ともに１０μｍ以上の変形が
発生し、特に、間隔が５０、２０μｍの場合には隣接す
る印刷パターンがつながってしまうことが多くなった。
特に、ブランケットの基板に対する押し込み量が約２５
０μｍより大きくなると、この傾向が強くなり、幅、間
隔も１０μｍ以上変化してしまった。

【００４０】

【発明の効果】以上、説明したように本発明のシリコー
ンゴムは分子構造に起因する粘弾性特性が改善されたも
ので外部からの圧力分布を分子レベルで均一化できる。
このシリコーンゴムを用いたブランケット及び印刷方法
によれば高精度のオフセット印刷が可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のシリコーンゴムに適用可能なオルガノ
ポリシロキサン（Ａ）の構造式の例である。

【図２】本発明のシリコーンゴムに適用可能なオルガノ
ポリシロキサン（Ｂ）の構造式の例である。

【図３】本発明のシリコーンゴムの架橋構造を示す模式
図である。

【図４】本発明のシリコーンゴムの粘弾性特性を示すグ
ラフである。

【図５】オフセット印刷の工程を示す模式図である。

【図６】本発明のシリコーンゴムの弾性率の時間依存性
を示すグラフである。

【図７】従来のゴムの架橋構造を示す模式図である。

【図８】従来のシリコーンゴムの粘弾性特性を示す模式
図である。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号庁内整理番号ＦＩ技術表示箇所Ｃ０８Ｌ 83/05 Ｃ０８Ｌ 83/05 Ｈ０１Ｊ 9/227 Ｈ０１Ｊ 9/227 Ｃ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】シロキサンを繰り返し単位とし、かつ少
なくとも１分子鎖中に１個以上の不飽和脂肪族基を含む
オルガノポリシロキサン（Ａ）と、シロキサンを繰り返
し単位とし、かつ１分子鎖中に３個以上の独立した水素
化ケイ素単位を含むオルガノポリシロキサン（Ｂ）と、
金属、金属化合物又は該金属若しくは該金属化合物を含
むポリシキロキサン組成物の中から選ばれた１種（Ｃ）
を基本構成物として、これらが反応して生成されたこと
を特徴とするシリコーンゴム。
【請求項２】前記ポリシロキサン組成物の中から選ば
れた１種（Ｃ）の重量が前記ポリシロキサン組成物全体
の重量に対して、金属換算で１から２０００ｐｐｍの範
囲にある請求項１に記載のシリコーンゴム。
【請求項３】前記オルガノポリシロキサン組成物の金
属元素が白金元素であり、全オルガノポリシロキサンに
対して該白金元素の重量が白金換算で１から２５０ｐｐ
ｍの範囲にある請求項２に記載のシリコーンゴム。
【請求項４】前記オルガノポリシロキサン（Ａ）の１
分子鎖中に不飽和脂肪族基が１個以上含まれており、室
温での粘度が２０から３００００ｃｐｓの範囲にある請
求項１に記載のシリコーンゴム。
【請求項５】前記ポルガノポリシロキサン（Ｂ）の１
分子鎖中に水素化ケイ素単位が３個以上含まれており、
室温での粘度が１０から１００００ｃｐｓの範囲にある
請求項１に記載のシリコーンゴム。
【請求項６】シロキサンを繰り返し単位とし、かつ少
なくとも１分子鎖中に１個以上の不飽和脂肪族基を含む
オルガノポリシロキサン（Ａ）と、シロキサンを繰り返
し単位とし、かつ１分子鎖中に３個以上の独立した水素
化ケイ素単位を含むオルガノポリシロキサン（Ｂ）と、
金属、金属化合物又は該金属若しくは該金属化合物を含
むポリシロキサン組成物の中から選ばれた１種（Ｃ）を
基本構成物として、これらが反応して生成されたシリコ
ーンゴムを配して構成したことを特徴とするオフセット
印刷機用ブランケット。
【請求項７】前記シリコーンゴムの表面に親水性処理
を施した請求項６に記載のオフセット印刷機用ブランケ
ットゴム。
【請求項８】前記親水性処理が、アンモニア、水蒸
気、アルコール、ハロゲン化物などオルガノポリシロキ
サンと反応して親水基となる原子団を含んだ気体含有雰
囲気中でのプラズマ処理である請求項７に記載のオフセ
ット印刷機用ブランケット。
【請求項９】前記シリコーンゴムを構成するオルガノ
ポリシロキサンがアミノ基、ヒドロキシル基、ハロゲン
元素など親水性を発揮する原子団を含んでいる請求項６
に記載のオフセット印刷機用ブランケット。
【請求項１０】版上にインキをパターン状に配する工
程、ブランケットの表面に配され、且つシロキサンを繰
り返し単位とし、かつ少なくとも１分子鎖中に１個以上
の不飽和脂肪族基を含むオルガノポリシロキサン（Ａ）
と、シロキサンを繰り返し単位とし、かつ１分子鎖中に
３個以上の独立した水素化ケイ素単位を含むオルガノポ
リシロキサン（Ｂ）と、金属、金属化合物又は該金属若
しくは該金属化合物を含むポリシロキサン組成物の中か
ら選ばれた１種（Ｃ）を基本構成物として、これらが反
応して生成されたシリコーンゴムを前記インキに接触さ
せて前記インキを受理する工程、及び前記受理されたイ
ンキを被印刷物に接触させ、該被印刷物に転移させる工
程とを有することを特徴とする印刷方法。