JPH08333355A - Ｎ−置換ジオキソチアゾリジルベンズアミド誘導体及びその製造法 - Google Patents
Ｎ−置換ジオキソチアゾリジルベンズアミド誘導体及びその製造法Info
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- JPH08333355A JPH08333355A JP15978295A JP15978295A JPH08333355A JP H08333355 A JPH08333355 A JP H08333355A JP 15978295 A JP15978295 A JP 15978295A JP 15978295 A JP15978295 A JP 15978295A JP H08333355 A JPH08333355 A JP H08333355A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 インスリン抵抗性を改善し、強力な血糖低下
作用と脂質低下作用を有する新規なＮ−置換ジオキソチ
アゾリジルベンズアミド誘導体及びそれらの製造法を提
供する。 【構成】 一般式（１） ［式中、Ｒ1 ，Ｒ2 は同一又は異なって、水素、炭素数
１〜４の低級アルキル基、炭素数１〜３の低級アルコキ
シ基、炭素数１〜３の低級ハロアルキル基、炭素数１〜
３の低級ハロアルコキシ基、ハロゲン原子、水酸基、ニ
トロ基、炭素数１〜３の低級アルキル基で置換されても
良いアミノ基、及びヘテロ環を、あるいはＲ1 とＲ2 が
結合しメチレンジオキシ基を、Ｒ3 は水素、炭素数１〜
３の低級アルコキシ基、水酸基、ハロゲン原子を、Ｒ4
は水素、炭素数１〜４の低級アルキル基を、点線は二重
結合又は単結合を、ｎは０〜２の整数を示す］で表され
ることを特徴とするＮ−置換ジオキソチアゾリジルベン
ズアミド誘導体及びそれらの製造法に関する。
作用と脂質低下作用を有する新規なＮ−置換ジオキソチ
アゾリジルベンズアミド誘導体及びそれらの製造法を提
供する。 【構成】 一般式（１） ［式中、Ｒ1 ，Ｒ2 は同一又は異なって、水素、炭素数
１〜４の低級アルキル基、炭素数１〜３の低級アルコキ
シ基、炭素数１〜３の低級ハロアルキル基、炭素数１〜
３の低級ハロアルコキシ基、ハロゲン原子、水酸基、ニ
トロ基、炭素数１〜３の低級アルキル基で置換されても
良いアミノ基、及びヘテロ環を、あるいはＲ1 とＲ2 が
結合しメチレンジオキシ基を、Ｒ3 は水素、炭素数１〜
３の低級アルコキシ基、水酸基、ハロゲン原子を、Ｒ4
は水素、炭素数１〜４の低級アルキル基を、点線は二重
結合又は単結合を、ｎは０〜２の整数を示す］で表され
ることを特徴とするＮ−置換ジオキソチアゾリジルベン
ズアミド誘導体及びそれらの製造法に関する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、糖尿病及び高脂血症を
改善する新規なＮ−置換ジオキソチアゾリジルベンズア
ミド誘導体及びそれらの製造法に関する。
改善する新規なＮ−置換ジオキソチアゾリジルベンズア
ミド誘導体及びそれらの製造法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より経口糖尿病治療薬としては、ビ
グアナイド系及びスルホニルウレア系化合物が用いられ
ている。しかしながらビグアナイド系化合物では、乳酸
アルドーシスあるいは低血糖を、スルホニルウレア系化
合物では重篤かつ遷延性の低血糖を引き起こし、その副
作用が問題となっており、このような欠点のない新しい
糖尿病治療剤の出現が望まれている。またチアゾリジン
−２，４−ジオン誘導体のあるものが血糖低下及び血中
脂質低下作用を示すことが知られているが（Journal of
Medicinal Chemistry, 第35巻.P.1853 (1992)，特開平
1-272573号公報）、これらの化合物はいずれも、チアゾ
リジン−２，４−ジオン環と芳香環を結ぶ中間のベンゼ
ン環の置換位置がパラ位であり、前者は芳香環がオキサ
ゾール環であり、後者は結合がスルホンアミドである
等、本発明化合物であるＮ−置換ジオキソチアゾリジル
ベンズアミド誘導体とは構造的に異なるものである。
グアナイド系及びスルホニルウレア系化合物が用いられ
ている。しかしながらビグアナイド系化合物では、乳酸
アルドーシスあるいは低血糖を、スルホニルウレア系化
合物では重篤かつ遷延性の低血糖を引き起こし、その副
作用が問題となっており、このような欠点のない新しい
糖尿病治療剤の出現が望まれている。またチアゾリジン
−２，４−ジオン誘導体のあるものが血糖低下及び血中
脂質低下作用を示すことが知られているが（Journal of
Medicinal Chemistry, 第35巻.P.1853 (1992)，特開平
1-272573号公報）、これらの化合物はいずれも、チアゾ
リジン−２，４−ジオン環と芳香環を結ぶ中間のベンゼ
ン環の置換位置がパラ位であり、前者は芳香環がオキサ
ゾール環であり、後者は結合がスルホンアミドである
等、本発明化合物であるＮ−置換ジオキソチアゾリジル
ベンズアミド誘導体とは構造的に異なるものである。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】糖尿病患者の大多数を
占めるインスリン非依存型糖尿病（ＮＩＤＤＭ）におい
てはインスリン抵抗性を改善し、安全性の高い有効な血
糖低下薬が強く望まれる。
占めるインスリン非依存型糖尿病（ＮＩＤＤＭ）におい
てはインスリン抵抗性を改善し、安全性の高い有効な血
糖低下薬が強く望まれる。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、インスリ
ン抵抗性を改善し、強力な血糖低下作用を有する安全性
の高い薬物に関して鋭意研究を重ねた結果、下記一般式
（１）で表される新規Ｎ−置換ジオキソチアゾリジルベ
ンズアミド誘導体が優れた血糖低下作用、脂質低下作用
を有することを見出し本発明を完成した。
ン抵抗性を改善し、強力な血糖低下作用を有する安全性
の高い薬物に関して鋭意研究を重ねた結果、下記一般式
（１）で表される新規Ｎ−置換ジオキソチアゾリジルベ
ンズアミド誘導体が優れた血糖低下作用、脂質低下作用
を有することを見出し本発明を完成した。
【０００５】即ち本発明は一般式（１） ［式中、Ｒ1 ，Ｒ2 は同一又は異なって、水素、炭素数
１〜４の低級アルキル基、炭素数１〜３の低級アルコキ
シ基、炭素数１〜３の低級ハロアルキル基、炭素数１〜
３の低級ハロアルコキシ基、ハロゲン原子、水酸基、ニ
トロ基、炭素数１〜３の低級アルキル基で置換されても
良いアミノ基、及びヘテロ環を、あるいはＲ1 とＲ2 が
結合しメチレンジオキシ基を、Ｒ3 は水素、炭素数１〜
３の低級アルコキシ基、水酸基、ハロゲン原子を、Ｒ4
水素、炭素数１〜４の低級アルキル基を、点線は二重結
合又は単結合を、ｎは０〜２の整数を示す］で表される
Ｎ−置換ジオキソチアゾリジルベンズアミド誘導体及び
その薬理学的に許容しうる塩である。
１〜４の低級アルキル基、炭素数１〜３の低級アルコキ
シ基、炭素数１〜３の低級ハロアルキル基、炭素数１〜
３の低級ハロアルコキシ基、ハロゲン原子、水酸基、ニ
トロ基、炭素数１〜３の低級アルキル基で置換されても
良いアミノ基、及びヘテロ環を、あるいはＲ1 とＲ2 が
結合しメチレンジオキシ基を、Ｒ3 は水素、炭素数１〜
３の低級アルコキシ基、水酸基、ハロゲン原子を、Ｒ4
水素、炭素数１〜４の低級アルキル基を、点線は二重結
合又は単結合を、ｎは０〜２の整数を示す］で表される
Ｎ−置換ジオキソチアゾリジルベンズアミド誘導体及び
その薬理学的に許容しうる塩である。
【０００６】本発明における一般式（１）で表される化
合物の塩類は慣用のものであって、金属塩例えばアルカ
リ金属塩（例えばナトリウム塩、カリウム塩など）、ア
ルカリ土類金属塩（例えばカルシウム塩、マグネシウム
塩など）、アルミニウム塩等薬理学的に許容しうる塩が
挙げられる。
合物の塩類は慣用のものであって、金属塩例えばアルカ
リ金属塩（例えばナトリウム塩、カリウム塩など）、ア
ルカリ土類金属塩（例えばカルシウム塩、マグネシウム
塩など）、アルミニウム塩等薬理学的に許容しうる塩が
挙げられる。
【０００７】また、本発明における一般式（１）には、
二重結合に基づく立体異性体及びチアゾリジン部分に基
づく光学異性体が含まれることがあるが、そのような異
性体及びそれらの混合物はすべてこの発明の範囲内に包
含されるものとする。
二重結合に基づく立体異性体及びチアゾリジン部分に基
づく光学異性体が含まれることがあるが、そのような異
性体及びそれらの混合物はすべてこの発明の範囲内に包
含されるものとする。
【０００８】本発明の一般式（１）において、「低級ア
ルキル基」とは、メチル、エチル、プロピル、ブチル
等、直鎖もしくは分岐した炭素数１〜４のものが挙げら
れる。
ルキル基」とは、メチル、エチル、プロピル、ブチル
等、直鎖もしくは分岐した炭素数１〜４のものが挙げら
れる。
【０００９】「低級アルコキシ基」とは、メトキシ、エ
トキシ、プロポキシ等、直鎖もしくは分岐した炭素数１
〜３のものが挙げられる。
トキシ、プロポキシ等、直鎖もしくは分岐した炭素数１
〜３のものが挙げられる。
【００１０】「低級ハロアルキル基」とは、トリフルオ
ロメチル等、直鎖もしくは分岐した炭素数１〜３のもの
が挙げられる。
ロメチル等、直鎖もしくは分岐した炭素数１〜３のもの
が挙げられる。
【００１１】「低級ハロアルコキシ基」とは、トリフル
オロメトキシ等、直鎖もしくは分岐した炭素数１〜３の
ものが挙げられる。
オロメトキシ等、直鎖もしくは分岐した炭素数１〜３の
ものが挙げられる。
【００１２】「ハロゲン原子」とは、フッ素原子、塩素
原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
【００１３】「低級アルキル基で置換されても良いアミ
ノ基」とは、アミノ基又は、メチル、エチル、プロピル
等、直鎖もしくは分岐した炭素数１〜３の低級アルキル
基で１又は２置換されたメチルアミノ基、エチルアミノ
基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基等が挙げられ
る。
ノ基」とは、アミノ基又は、メチル、エチル、プロピル
等、直鎖もしくは分岐した炭素数１〜３の低級アルキル
基で１又は２置換されたメチルアミノ基、エチルアミノ
基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基等が挙げられ
る。
【００１４】本発明によれば上記一般式（１）である化
合物は以下の方法により製造することができる。
合物は以下の方法により製造することができる。
【００１５】一般式（１）である化合物は一般式（７）
の化合物に一般式（11）の化合物を作用させることによ
り製造することができる。 ［式中、Ｒ1 ，Ｒ2 は同一又は異なって、水素、炭素数
１〜４の低級アルキル基、炭素数１〜３の低級アルコキ
シ基、炭素数１〜３の低級ハロアルキル基、炭素数１〜
３の低級ハロアルコキシ基、ハロゲン原子、水酸基、ニ
トロ基、炭素数１〜３の低級アルキル基で置換されても
良いアミノ基、及びヘテロ環を、あるいはＲ1 とＲ2 が
結合しメチレンジオキシ基を、Ｒ3 は水素、炭素数１〜
３の低級アルコキシ基、水酸基、ハロゲン原子を、Ｒ4
は水素、炭素数１〜４の低級アルキル基を、点線は二重
結合又は単結合を、ｎは０〜２の整数を示す］ ［式中、Ｒ3 、点線は前述の通り］ ［式中、Ｒ1 ，Ｒ2 ，Ｒ4 、ｎは前述の通り］
の化合物に一般式（11）の化合物を作用させることによ
り製造することができる。 ［式中、Ｒ1 ，Ｒ2 は同一又は異なって、水素、炭素数
１〜４の低級アルキル基、炭素数１〜３の低級アルコキ
シ基、炭素数１〜３の低級ハロアルキル基、炭素数１〜
３の低級ハロアルコキシ基、ハロゲン原子、水酸基、ニ
トロ基、炭素数１〜３の低級アルキル基で置換されても
良いアミノ基、及びヘテロ環を、あるいはＲ1 とＲ2 が
結合しメチレンジオキシ基を、Ｒ3 は水素、炭素数１〜
３の低級アルコキシ基、水酸基、ハロゲン原子を、Ｒ4
は水素、炭素数１〜４の低級アルキル基を、点線は二重
結合又は単結合を、ｎは０〜２の整数を示す］ ［式中、Ｒ3 、点線は前述の通り］ ［式中、Ｒ1 ，Ｒ2 ，Ｒ4 、ｎは前述の通り］
【００１６】反応は有機溶媒、例えばジメチルスルホキ
シド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等中で、縮合剤、
例えば１−エチル−３−（３′−ジメチルアミノプロピ
ル）カルボジイミド、シアノリン酸ジエチル等で処理す
ることにより行うことができる。また必要ならば有機塩
基、例えばトリエチルアミン等を添加しても良い。反応
温度としては氷冷〜室温で行うことができる。
シド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等中で、縮合剤、
例えば１−エチル−３−（３′−ジメチルアミノプロピ
ル）カルボジイミド、シアノリン酸ジエチル等で処理す
ることにより行うことができる。また必要ならば有機塩
基、例えばトリエチルアミン等を添加しても良い。反応
温度としては氷冷〜室温で行うことができる。
【００１７】一般式（1b）である化合物は、一般式（1
a）の化合物を還元することにより製造することができ
る。 ［式中、Ｒ1 ，Ｒ2 ，Ｒ3 ，Ｒ4 、ｎは前述の通り］ ［式中、Ｒ1 ，Ｒ2 ，Ｒ3 ，Ｒ4 、ｎは前述の通り］
a）の化合物を還元することにより製造することができ
る。 ［式中、Ｒ1 ，Ｒ2 ，Ｒ3 ，Ｒ4 、ｎは前述の通り］ ［式中、Ｒ1 ，Ｒ2 ，Ｒ3 ，Ｒ4 、ｎは前述の通り］
【００１８】反応は有機溶媒、例えばエタノール、酢酸
エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等中、あるいは
それらの混合溶媒中で、室温〜加熱下、パラジウム／炭
素等の触媒の存在下に常圧〜４kg／cm2 で水素添加する
ことにより行うことができる。あるいは有機溶媒、例え
ばエタノール等のアルコール中、又は水との混合溶媒中
で、室温〜加熱下にナトリウムアマルガムと処理するこ
とにより行うことができる。
エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等中、あるいは
それらの混合溶媒中で、室温〜加熱下、パラジウム／炭
素等の触媒の存在下に常圧〜４kg／cm2 で水素添加する
ことにより行うことができる。あるいは有機溶媒、例え
ばエタノール等のアルコール中、又は水との混合溶媒中
で、室温〜加熱下にナトリウムアマルガムと処理するこ
とにより行うことができる。
【００１９】下記一般式（1d）である化合物は一般式
（1c）にルイス酸を作用させることにより製造すること
ができる。 ［式中、Ｒ1 ，Ｒ2 ，Ｒ4 、点線、ｎは前述の通り］ ［式中、Ｒ1 ，Ｒ2 ，Ｒ4 、点線、ｎは前述通り］
（1c）にルイス酸を作用させることにより製造すること
ができる。 ［式中、Ｒ1 ，Ｒ2 ，Ｒ4 、点線、ｎは前述の通り］ ［式中、Ｒ1 ，Ｒ2 ，Ｒ4 、点線、ｎは前述通り］
【００２０】反応は有機溶媒、例えばジクロロメタン、
クロロホルム等中、−78℃〜室温下でルイス酸、例えば
三臭化ホウ素、三塩化ホウ素等で処理することにより行
うことができる。
クロロホルム等中、−78℃〜室温下でルイス酸、例えば
三臭化ホウ素、三塩化ホウ素等で処理することにより行
うことができる。
【００２１】一般式（７）である化合物は下記一般式
（６）の化合物を加水分解することにより製造できる。 ［式中、Ｒ3 、点線は前述の通りであり、Ｒ6 は炭素数
１〜３の低級アルキル基を示す］
（６）の化合物を加水分解することにより製造できる。 ［式中、Ｒ3 、点線は前述の通りであり、Ｒ6 は炭素数
１〜３の低級アルキル基を示す］
【００２２】反応は酸性、又はアルカリ性条件下で反応
温度としては冷却下〜溶媒還流で行うことができ、酢酸
と濃塩酸の混合溶媒中で加熱還流することが好ましい。
温度としては冷却下〜溶媒還流で行うことができ、酢酸
と濃塩酸の混合溶媒中で加熱還流することが好ましい。
【００２３】一般式（４）である化合物は下記一般式
（２）の化合物に式（３）の化合物を作用させることに
より製造できる。 ［式中、Ｒ3 は前述の通りであり、Ｒ5 は水素、炭素数
１〜３の低級アルキル基を示す］ ［式中、Ｒ3 及びＲ5 は前述の通り］
（２）の化合物に式（３）の化合物を作用させることに
より製造できる。 ［式中、Ｒ3 は前述の通りであり、Ｒ5 は水素、炭素数
１〜３の低級アルキル基を示す］ ［式中、Ｒ3 及びＲ5 は前述の通り］
【００２４】反応は有機溶媒、例えばベンゼン、トルエ
ン、キシレン等中で、反応温度としては室温〜溶媒還流
温度で行うことができるが、溶媒還流温度が好ましい。
また触媒として、二級アミン（ピペリジン等）あるいは
酢酸塩類（酢酸アンモニウム等）と酢酸の添加も好適で
ある。また無溶媒で塩基（酢酸ナトリウム、ピペリジン
等）と共に加熱することによっても行うことができる。
ン、キシレン等中で、反応温度としては室温〜溶媒還流
温度で行うことができるが、溶媒還流温度が好ましい。
また触媒として、二級アミン（ピペリジン等）あるいは
酢酸塩類（酢酸アンモニウム等）と酢酸の添加も好適で
ある。また無溶媒で塩基（酢酸ナトリウム、ピペリジン
等）と共に加熱することによっても行うことができる。
【００２５】一般式（５）である化合物は、一般式
（４）の化合物を還元することにより製造することがで
きる。 ［式中、Ｒ3 ，Ｒ5 は前述の通り］
（４）の化合物を還元することにより製造することがで
きる。 ［式中、Ｒ3 ，Ｒ5 は前述の通り］
【００２６】反応は有機溶媒、例えばエタノール、酢酸
エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等中、あるいは
それらの混合溶媒中で、室温〜加熱下、パラジウム／炭
素等の触媒の存在下に常圧〜４kg／cm2 で水素添加する
ことにより行うことができる。あるいは有機溶媒、例え
ばエタノール等のアルコール中、又は水との混合溶媒中
で、室温〜加熱下にナトリウムアマルガムと処理するこ
とにより行うことができる。
エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等中、あるいは
それらの混合溶媒中で、室温〜加熱下、パラジウム／炭
素等の触媒の存在下に常圧〜４kg／cm2 で水素添加する
ことにより行うことができる。あるいは有機溶媒、例え
ばエタノール等のアルコール中、又は水との混合溶媒中
で、室温〜加熱下にナトリウムアマルガムと処理するこ
とにより行うことができる。
【００２７】一般式（7a）である化合物は下記一般式
（10）の化合物にチオ尿素を作用させた後、加水分解す
ることによっても製造できる。 ［式中、Ｒ3 は前述の通り］ ［式中、Ｒ3 、Ｒ6 は前述の通りであり、Ｒ7 は炭素数
１〜３の低級アルキル基を、Ｘはハロゲン原子を示す］
（10）の化合物にチオ尿素を作用させた後、加水分解す
ることによっても製造できる。 ［式中、Ｒ3 は前述の通り］ ［式中、Ｒ3 、Ｒ6 は前述の通りであり、Ｒ7 は炭素数
１〜３の低級アルキル基を、Ｘはハロゲン原子を示す］
【００２８】一般式（10）の化合物とチオ尿素との反応
は有機溶媒、例えばエタノール等のアルコール中で室温
〜溶媒還流温度で行うことができるが、溶媒還流温度が
好ましい。必要ならば塩基（酢酸ナトリウム等）を添加
しても良い。次の反応である加水分解は酸性条件下で行
うことができ、塩酸あるいは塩酸と有機溶媒（スルホラ
ン等）の混合溶媒中で加熱還流することが好ましい。
は有機溶媒、例えばエタノール等のアルコール中で室温
〜溶媒還流温度で行うことができるが、溶媒還流温度が
好ましい。必要ならば塩基（酢酸ナトリウム等）を添加
しても良い。次の反応である加水分解は酸性条件下で行
うことができ、塩酸あるいは塩酸と有機溶媒（スルホラ
ン等）の混合溶媒中で加熱還流することが好ましい。
【００２９】一般式（10）である化合物は一般式（８）
の化合物をジアゾニウム塩とした後に一般式（９）の化
合物とメイルバイン アリレーション（meerwein Aryla
tion）を行うことにより製造できる。 ［式中、Ｒ3 ，Ｒ6 は前述の通り］ ［式中、Ｒ7 は前述の通り］
の化合物をジアゾニウム塩とした後に一般式（９）の化
合物とメイルバイン アリレーション（meerwein Aryla
tion）を行うことにより製造できる。 ［式中、Ｒ3 ，Ｒ6 は前述の通り］ ［式中、Ｒ7 は前述の通り］
【００３０】反応は有機溶媒、例えばメタノール、エタ
ノール等のアルコール類もしくはアセトン、メチルエチ
ルケトン等のケトン類、水及びこれにの混合溶媒中、塩
酸、臭化水素酸等のハロゲン化水素存在下、一般式
（８）である化合物を亜硝酸ナトリウム等の亜硝酸塩類
によりジアゾ化した後、一般式（９）である化合物の存
在下に触媒量の酸化第一銅、塩化第一銅等の第一銅塩類
を作用させることにより行うことができる。
ノール等のアルコール類もしくはアセトン、メチルエチ
ルケトン等のケトン類、水及びこれにの混合溶媒中、塩
酸、臭化水素酸等のハロゲン化水素存在下、一般式
（８）である化合物を亜硝酸ナトリウム等の亜硝酸塩類
によりジアゾ化した後、一般式（９）である化合物の存
在下に触媒量の酸化第一銅、塩化第一銅等の第一銅塩類
を作用させることにより行うことができる。
【００３１】
【実施例】次に本発明を具体例によって説明するがこれ
らの例によって本発明が限定されるものではない。実施
例で使用する略号は以下の意味を表す。1 Ｈ ＮＭＲ プロトン核磁気共鳴スペクトル ＭＳ 質量スペクトル ＣＤＣｌ3 重水素化クロロホルム ＤＭＦ Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド ＤＭＳＯ ジメチルスルホキシド ｄ6 −ＤＭＳＯ 重水素化ジメチルスルホキシド
らの例によって本発明が限定されるものではない。実施
例で使用する略号は以下の意味を表す。1 Ｈ ＮＭＲ プロトン核磁気共鳴スペクトル ＭＳ 質量スペクトル ＣＤＣｌ3 重水素化クロロホルム ＤＭＦ Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド ＤＭＳＯ ジメチルスルホキシド ｄ6 −ＤＭＳＯ 重水素化ジメチルスルホキシド
【００３２】実施例１ ５−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イリデン）
メチル−２−メトキシ安息香酸メチル
メチル−２−メトキシ安息香酸メチル
【００３３】５−ホルミル−２−メトキシ安息香酸メチ
ル（490mg)、チアゾリジン−２，４−ジオン（358mg)、
酢酸アンモニウム（401mg)、酢酸（0.8ml)、ベンゼン
（10ml）の混合物をディーンスターク脱水装置を付して
４時間加熱還流した。冷後、析出した結晶を濾取し、ベ
ンゼン、20％アセトン水溶液で洗浄した後、乾燥し、目
的化合物を結晶として 634mg（86％）得た。
ル（490mg)、チアゾリジン−２，４−ジオン（358mg)、
酢酸アンモニウム（401mg)、酢酸（0.8ml)、ベンゼン
（10ml）の混合物をディーンスターク脱水装置を付して
４時間加熱還流した。冷後、析出した結晶を濾取し、ベ
ンゼン、20％アセトン水溶液で洗浄した後、乾燥し、目
的化合物を結晶として 634mg（86％）得た。
【００３４】1Ｈ ＮＭＲ （ｄ6 −ＤＭＳＯ）、δ：
3.83（３Ｈ，ｓ），3.90（３Ｈ，ｓ），7.34（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝9.3Hz)，7.79（１Ｈ，ｓ），7.76−7.83（１
Ｈ，ｍ），7.87−7.92（１Ｈ，ｍ）， 12.59（１Ｈ，
ｓ）
3.83（３Ｈ，ｓ），3.90（３Ｈ，ｓ），7.34（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝9.3Hz)，7.79（１Ｈ，ｓ），7.76−7.83（１
Ｈ，ｍ），7.87−7.92（１Ｈ，ｍ）， 12.59（１Ｈ，
ｓ）
【００３５】実施例２ ５−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イリデン）
メチル−２−メトキシ安息香酸
メチル−２−メトキシ安息香酸
【００３６】５−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５
−イリデン）メチル−２−メトキシ安息香酸メチル（62
9mg)の酢酸−濃塩酸（１：１，18.0ml）懸濁液を６時間
加熱還流した。冷後、水（36ml）を加え、結晶を濾取
し、水洗後、乾燥し、目的化合物を結晶として 599mg(1
00％）得た。
−イリデン）メチル−２−メトキシ安息香酸メチル（62
9mg)の酢酸−濃塩酸（１：１，18.0ml）懸濁液を６時間
加熱還流した。冷後、水（36ml）を加え、結晶を濾取
し、水洗後、乾燥し、目的化合物を結晶として 599mg(1
00％）得た。
【００３７】1Ｈ ＮＭＲ （ｄ6 −ＤＭＳＯ）、δ：
3.89（３Ｈ，ｓ），7.31（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝8.8 Hz），7.
76（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝2.4, 8.8Hz），7.79（１Ｈ，
ｓ），7.89（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝2.4Hz)， 12.58（１Ｈ，
ｓ）， 12.91（１Ｈ，ｂｒ）
3.89（３Ｈ，ｓ），7.31（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝8.8 Hz），7.
76（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝2.4, 8.8Hz），7.79（１Ｈ，
ｓ），7.89（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝2.4Hz)， 12.58（１Ｈ，
ｓ）， 12.91（１Ｈ，ｂｒ）
【００３８】実施例３ ５−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イル）メチ
ル−２−メトキシ安息香酸メチル
ル−２−メトキシ安息香酸メチル
【００３９】５−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５
−イリデン）メチル−２−メトキシ安息香酸メチル（9.
52ｇ）をＤＭＦ（250ml)に懸濁し、室温、 3.5kg／cm2
に水素加圧下10％パラジウム／炭素（10.0ｇ）で水素化
した。反応後、溶液を濾過、濃縮し、残留物に水を加
え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗
い、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下濃縮した。残
留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒
塩化メチレン：アセトン＝50：１）で精製し、目的化
合物をアモルファスとして5.88ｇ（61％）得た。ＭＳ
（ｍ／ｚ）： 295（Ｍ+ ）
−イリデン）メチル−２−メトキシ安息香酸メチル（9.
52ｇ）をＤＭＦ（250ml)に懸濁し、室温、 3.5kg／cm2
に水素加圧下10％パラジウム／炭素（10.0ｇ）で水素化
した。反応後、溶液を濾過、濃縮し、残留物に水を加
え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗
い、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下濃縮した。残
留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒
塩化メチレン：アセトン＝50：１）で精製し、目的化
合物をアモルファスとして5.88ｇ（61％）得た。ＭＳ
（ｍ／ｚ）： 295（Ｍ+ ）
【００４０】実施例４ ５−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イル）メチ
ル−２−メトキシ安息香酸
ル−２−メトキシ安息香酸
【００４１】５−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５
−イル）メチル−２−メトキシ安息香酸メチル（6.39
ｇ）のメタノール（120ml)懸濁液に水酸化ナトリウム水
溶液（水酸化ナトリウム 5.47ｇ，水 30ml）を加え、
60℃に加熱し１時間攪拌した。冷後、水（100ml)を加
え、酢酸エチルで洗浄した後、水層を２Ｎ塩酸で酸性と
し酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水の順
で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下濃縮し
析出した結晶を濾取し、目的化合物を結晶として3.93ｇ
（65％）得た。融点： 182.0〜184.0 ℃
−イル）メチル−２−メトキシ安息香酸メチル（6.39
ｇ）のメタノール（120ml)懸濁液に水酸化ナトリウム水
溶液（水酸化ナトリウム 5.47ｇ，水 30ml）を加え、
60℃に加熱し１時間攪拌した。冷後、水（100ml)を加
え、酢酸エチルで洗浄した後、水層を２Ｎ塩酸で酸性と
し酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水の順
で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下濃縮し
析出した結晶を濾取し、目的化合物を結晶として3.93ｇ
（65％）得た。融点： 182.0〜184.0 ℃
【００４２】実施例５ ３−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イリデン）
メチル安息香酸
メチル安息香酸
【００４３】３−ホルミル−２−メトキシ安息香酸メチ
ル（1.90ｇ）、チアゾリジン−２，４−ジオン（2.48
ｇ）、酢酸アンモニウム（1.84ｇ）、酢酸（3.70ml）、
ベンゼン（60ml）の混合物をディーンスターク脱水装置
を付して６時間加熱還流した。冷後、析出した結晶を濾
取し水洗した後、この結晶を酢酸−濃塩酸（１：１，60
ml）に懸濁し、６時間加熱還流した。冷後、水（150ml)
を加え、結晶を濾取し、水洗後、乾燥し、目的化合物を
結晶として2.38ｇ（82％）得た。 ＭＳ（ｍ／ｚ）： 249（Ｍ+ ）
ル（1.90ｇ）、チアゾリジン−２，４−ジオン（2.48
ｇ）、酢酸アンモニウム（1.84ｇ）、酢酸（3.70ml）、
ベンゼン（60ml）の混合物をディーンスターク脱水装置
を付して６時間加熱還流した。冷後、析出した結晶を濾
取し水洗した後、この結晶を酢酸−濃塩酸（１：１，60
ml）に懸濁し、６時間加熱還流した。冷後、水（150ml)
を加え、結晶を濾取し、水洗後、乾燥し、目的化合物を
結晶として2.38ｇ（82％）得た。 ＭＳ（ｍ／ｚ）： 249（Ｍ+ ）
【００４４】実施例６ Ｎ−（４−ｔ−ブチルフェニル）−５−（２，４−ジオ
キソチアゾリジン−５−イリデン）メチル−２−メトキ
シベンズアミド
キソチアゾリジン−５−イリデン）メチル−２−メトキ
シベンズアミド
【００４５】５−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５
−イリデン）メチル−２−メトキシ安息香酸（1.00
ｇ）、４−ｔ−ブチルアニリン（540mg)のＤＭＦ（10m
l）溶液にアルゴン雰囲気、室温攪拌下シアノリン酸ジ
エチル（615mg)、トリエチルアミン（370mg)を加え、そ
のまま８時間攪拌した。反応液を氷水に注ぎ、析出する
結晶を濾取し、水洗後乾燥し目的化合物を結晶として1.
45ｇ（99％）得た。更にこのものをエタノールから再結
晶し、黄色プリズム晶として精製した目的化合物を得
た。融点 261.0〜265.0 ℃
−イリデン）メチル−２−メトキシ安息香酸（1.00
ｇ）、４−ｔ−ブチルアニリン（540mg)のＤＭＦ（10m
l）溶液にアルゴン雰囲気、室温攪拌下シアノリン酸ジ
エチル（615mg)、トリエチルアミン（370mg)を加え、そ
のまま８時間攪拌した。反応液を氷水に注ぎ、析出する
結晶を濾取し、水洗後乾燥し目的化合物を結晶として1.
45ｇ（99％）得た。更にこのものをエタノールから再結
晶し、黄色プリズム晶として精製した目的化合物を得
た。融点 261.0〜265.0 ℃
【００４６】
【００４７】実施例７〜15 実施例６と同様にして表１の化合物を得た。
【００４８】
【表１】
【００４９】実施例16 Ｎ−（４−ｔ−ブチルフェニル）−５−（２，４−ジオ
キソチアゾリジン−５−イル）メチル−２−メトキシベ
ンズアミド
キソチアゾリジン−５−イル）メチル−２−メトキシベ
ンズアミド
【００５０】Ｎ−（４−ｔ−ブチルフェニル）−５−
（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イリデン）メチ
ル−２−メトキシベンズアミド（900mg)をエタノール−
酢酸エチル（１：１，45ml）に懸濁し、室温、 3.0kg／
cm2 に水素加圧下10％パラジウム／炭素で水素化した。
反応液を濾過、濃縮し残留物をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（展開溶媒 塩化メチレン：メタノール＝
50：１）で精製し、目的化合物を結晶として 709mg（78
％）得た。更にこのものを酢酸エチルから再結晶し、無
色プリズム晶として精製した目的化合物を得た。融点 2
17.5〜219.0 ℃
（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イリデン）メチ
ル−２−メトキシベンズアミド（900mg)をエタノール−
酢酸エチル（１：１，45ml）に懸濁し、室温、 3.0kg／
cm2 に水素加圧下10％パラジウム／炭素で水素化した。
反応液を濾過、濃縮し残留物をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（展開溶媒 塩化メチレン：メタノール＝
50：１）で精製し、目的化合物を結晶として 709mg（78
％）得た。更にこのものを酢酸エチルから再結晶し、無
色プリズム晶として精製した目的化合物を得た。融点 2
17.5〜219.0 ℃
【００５１】
【００５２】実施例17〜22 実施例16と同様にして表２の化合物を得た。
【００５３】
【表２】
【００５４】実施例23 Ｎ−（４−ｔ−ブチルフェニル）−５−（２，４−ジオ
キソチアゾリジン−５−イル）メチル−２−ヒドロキシ
ベンズアミド
キソチアゾリジン−５−イル）メチル−２−ヒドロキシ
ベンズアミド
【００５５】Ｎ−（４−ｔ−ブチルフェニル）−５−
（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イル）メチル−
２−メトキシベンズアミド（404mg)の無水塩化メチレン
（12ml）懸濁液にアルゴン雰囲気、ドライアイス−アセ
トン冷却攪拌下、 1.0Ｎ三臭化ホウ素−塩化メチレン溶
液（0.12ml）をゆっくり滴下した。室温で５時間攪拌し
た後、３時間放置した。反応液に水を加え、塩化メチレ
ン−メタノール（10：１）で抽出した。有機層を飽和食
塩水で洗い、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧
下濃縮した。残留物に塩化メチレン−ジイソプロピルエ
ーテルを加え結晶を濾取、塩化メチレン−ジイソプロピ
ルエーテル（１：１）で洗浄した後、乾燥し、目的化合
物を結晶として 154mg（39％）得た。融点 238.0〜241.
0 ℃
（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イル）メチル−
２−メトキシベンズアミド（404mg)の無水塩化メチレン
（12ml）懸濁液にアルゴン雰囲気、ドライアイス−アセ
トン冷却攪拌下、 1.0Ｎ三臭化ホウ素−塩化メチレン溶
液（0.12ml）をゆっくり滴下した。室温で５時間攪拌し
た後、３時間放置した。反応液に水を加え、塩化メチレ
ン−メタノール（10：１）で抽出した。有機層を飽和食
塩水で洗い、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧
下濃縮した。残留物に塩化メチレン−ジイソプロピルエ
ーテルを加え結晶を濾取、塩化メチレン−ジイソプロピ
ルエーテル（１：１）で洗浄した後、乾燥し、目的化合
物を結晶として 154mg（39％）得た。融点 238.0〜241.
0 ℃
【００５６】
【００５７】試験例１ 遺伝性肥満マウス（Ｃ５７ＢＬ ｏｂ／ｏｂ）を用い、
試験前に尾静脈より採血して血糖値を測定した。血糖値
に差がないように群分けし、実施例17、18及び19の化合
物を10mg／kgの用量で５日間経口投与した。耐糖能試験
は一晩絶食した後、グルコースの２ｇ／kgを経口投与
し、０分、30分及び60分の血糖値を測定し。血糖低下率
は下記式より求めた。
試験前に尾静脈より採血して血糖値を測定した。血糖値
に差がないように群分けし、実施例17、18及び19の化合
物を10mg／kgの用量で５日間経口投与した。耐糖能試験
は一晩絶食した後、グルコースの２ｇ／kgを経口投与
し、０分、30分及び60分の血糖値を測定し。血糖低下率
は下記式より求めた。
【００５８】
【００５９】結果を表３に示す。これらの結果より、本
発明化合物は強力な血糖低下作用を有することが示され
た。
発明化合物は強力な血糖低下作用を有することが示され
た。
【００６０】
【表３】
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成８年５月１６日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正内容】
【００４３】３−ホルミル安息香酸メチル（１．９０
ｇ）、チアゾリジン−２，４−ジオン（２．４８ｇ）、
酢酸アンモニウム（１．８４ｇ）、酢酸（３．７０ｍ
ｌ）、ベンゼン（６０ｍｌ）の混合物をディーンスター
ク脱水装置を付して６時間加熱還流した。冷後、析出し
た結晶を濾取し水洗した後、この結晶を酢酸−濃塩酸
（１：１，６０ｍｌ）に懸濁し、６時間加熱還流した。
冷後、水（１５０ｍｌ）を加え、結晶を濾取し、水洗
後、乾燥し、目的化合物を結晶として２．３８ｇ（８２
％）得た。 ＭＳ（ｍ／ｚ）：２４９（Ｍ＋）
ｇ）、チアゾリジン−２，４−ジオン（２．４８ｇ）、
酢酸アンモニウム（１．８４ｇ）、酢酸（３．７０ｍ
ｌ）、ベンゼン（６０ｍｌ）の混合物をディーンスター
ク脱水装置を付して６時間加熱還流した。冷後、析出し
た結晶を濾取し水洗した後、この結晶を酢酸−濃塩酸
（１：１，６０ｍｌ）に懸濁し、６時間加熱還流した。
冷後、水（１５０ｍｌ）を加え、結晶を濾取し、水洗
後、乾燥し、目的化合物を結晶として２．３８ｇ（８２
％）得た。 ＭＳ（ｍ／ｚ）：２４９（Ｍ＋）
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５０
【補正方法】変更
【補正内容】
【００５０】Ｎ−（４−ｔ−ブチルフェニル）−５−
（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イリデン）メチ
ル−２−メトキシベンズアミド（９００ｍｇ）をエタノ
ール−酢酸エチル（１：１，４５ｍｌ）に懸濁し、室
温、３．０ｋｇ／ｃｍ２に水素加圧下１０％パラジウム
／炭素（９００ｍｇ）で水素化した。反応液を濾過、濃
縮し残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展
開溶媒 塩化メチレン：メタノール＝５０：１）で精製
し、目的化合物を結晶として７０９ｍｇ（７８％）得
た。更にこのものを酢酸エチルから再結晶し、無色プリ
ズム晶として精製した目的化合物を得た。融点２１７．
５〜２１９．０℃
（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イリデン）メチ
ル−２−メトキシベンズアミド（９００ｍｇ）をエタノ
ール−酢酸エチル（１：１，４５ｍｌ）に懸濁し、室
温、３．０ｋｇ／ｃｍ２に水素加圧下１０％パラジウム
／炭素（９００ｍｇ）で水素化した。反応液を濾過、濃
縮し残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展
開溶媒 塩化メチレン：メタノール＝５０：１）で精製
し、目的化合物を結晶として７０９ｍｇ（７８％）得
た。更にこのものを酢酸エチルから再結晶し、無色プリ
ズム晶として精製した目的化合物を得た。融点２１７．
５〜２１９．０℃
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｃ 69/84 Ｃ０７Ｃ 69/84 69/92 69/92 Ｃ０７Ｄ 417/12 ３１７ Ｃ０７Ｄ 417/12 ３１７ (72)発明者 佐藤 浩也 栃木県下都賀郡野木町友沼4660−４ (72)発明者 村上 浩二 栃木県下都賀郡野木町丸林386−２ プレ シーン野木ハイランズ704 (72)発明者 角田 雅樹 栃木県下都賀郡野木町友沼5932
Claims (10)
- 【請求項１】 一般式（１） ［式中、Ｒ1 ，Ｒ2 は同一又は異なって、水素、炭素数
１〜４の低級アルキル基、炭素数１〜３の低級アルコキ
シ基、炭素数１〜３の低級ハロアルキル基、炭素数１〜
３の低級ハロアルコキシ基、ハロゲン原子、水酸基、ニ
トロ基、炭素数１〜３の低級アルキル基で置換されても
良いアミノ基、及びヘテロ環を、あるいはＲ1 とＲ2 が
結合しメチレンジオキシ基を、Ｒ3 は水素、炭素数１〜
３の低級アルコキシ基、水酸基、ハロゲン原子を、Ｒ4
は水素、炭素数１〜４の低級アルキル基を、点線は二重
結合又は単結合を、ｎは０〜２の整数を示す］で表され
るＮ−置換ジオキソチアゾリジルベンズアミド誘導体及
びその薬理学的に許容しうる塩。 - 【請求項２】 一般式（２） ［式中、Ｒ3 は水素、炭素数１〜３の低級アルコキシ
基、水酸基、ハロゲン原子を、Ｒ5 は水素、炭素数１〜
３の低級アルキル基を示す］で表される化合物に式
（３） で表される化合物を作用させることを特徴とする一般式
（４） ［式中、Ｒ3 ，Ｒ5 は前述の通り］で表される化合物の
製造法。 - 【請求項３】 一般式（４） ［式中、Ｒ3 は水素、炭素数１〜３の低級アルコキシ
基、水酸基、ハロゲン原子を、Ｒ5 は水素、炭素数１〜
３の低級アルキル基を示す］で表される化合物を還元す
ることを特徴とする一般式（５） ［式中、Ｒ3 ，Ｒ5 は前述の通り］で表される化合物の
製造法。 - 【請求項４】 一般式（６） ［式中、Ｒ3 は水素、炭素数１〜３の低級アルコキシ
基、水酸基、ハロゲン原子を示し、Ｒ6 は炭素数１〜３
の低級アルキル基を、点線は二重結合又は単結合を示
す］で表される化合物を加水分解することを特徴とする
一般式（７） ［式中、Ｒ3 、点線は前述の通り］で表される化合物の
製造法。 - 【請求項５】 一般式（８） ［式中、Ｒ3 は水素、炭素数１〜３の低級アルコキシ
基、水酸基、ハロゲン原子を、Ｒ6 は炭素数１〜３の低
級アルキル基を示す］で表される化合物をハロゲン化水
素の存在下にジアゾニウム塩とした後に一般式（９） ［式中、Ｒ7 は炭素数１〜３の低級アルキル基を示す］
で表される化合物を作用させることを特徴とする一般式
（10） ［式中、Ｒ3 ，Ｒ6 ，Ｒ7 は前述の通りであり、Ｘはハ
ロゲン原子を示す］で表される化合物の製造法。 - 【請求項６】 一般式（10） ［式中、Ｒ3 は水素、炭素数１〜３の低級アルコキシ
基、水酸基、ハロゲン原子を、Ｒ6 は炭素数１〜３の低
級アルキル基を、Ｒ7 は炭素数１〜３の低級アルキル基
を示し、Ｘはハロゲン原子を示す］で表される化合物に
チオ尿素を作用させた後、加水分解することを特徴とす
る一般式（7a） ［式中、Ｒ3 は前述の通り］で表される化合物の製造
法。 - 【請求項７】 一般式（７） 式中、Ｒ3 は水素、炭素数１〜３の低級アルコキシ基、
水酸基、ハロゲン原子を、点線は二重結合又は単結合を
示す］で表される化合物に一般式（11） ［式中、Ｒ1 ，Ｒ2 は同一又は異なって、水素、炭素数
１〜４の低級アルキル基、炭素数１〜３の低級アルコキ
シ基、炭素数１〜３の低級ハロアルキル基、炭素数１〜
３の低級ハロアルコキシ基、ハロゲン原子、水酸基、ニ
トロ基、炭素数１〜３の低級アルキル基で置換されても
良いアミノ基、及びヘテロ環を、あるいはＲ1 とＲ2 が
結合しメチレンジオキシ基を、Ｒ4 は水素、炭素数１〜
４の低級アルキル基を、ｎは０〜２の整数を示す］で表
される化合物を作用させることを特徴とする一般式
（１） ［式中、Ｒ1 ，Ｒ2 ，Ｒ3 ，Ｒ4 、点線、ｎは前述の通
り］で表されるＮ−置換ジオキソチアゾリジルベンズア
ミド誘導体の製造法。 - 【請求項８】 一般式（1a） ［式中、Ｒ1 ，Ｒ2 は同一又は異なって、水素、炭素数
１〜４の低級アルキル基、炭素数１〜３の低級アルコキ
シ基、炭素数１〜３の低級ハロアルキル基、炭素数１〜
３の低級ハロアルコキシ基、ハロゲン原子、水酸基、ニ
トロ基、炭素数１〜３の低級アルキル基で置換されても
良いアミノ基、及びヘテロ環を、あるいはＲ1 とＲ2 が
結合しメチレンジオキシ基を、Ｒ3 は水素、炭素数１〜
３の低級アルコキシ基、水酸基、ハロゲン原子を、Ｒ4
は水素、炭素数１〜４の低級アルキル基を、ｎは０〜２
の整数を示す］を還元することを特徴とする一般式（1
b） ［式中、Ｒ1 ，Ｒ2 ，Ｒ3 ，Ｒ4 、ｎは前述の通り］で
表されるＮ−置換ジオキソチアゾリジルベンズアミド誘
導体の製造法。 - 【請求項９】 一般式（1c） ［式中、Ｒ1 ，Ｒ2 は同一又は異なって、水素、炭素数
１〜４の低級アルキル基、炭素数１〜３の低級アルコキ
シ基、炭素数１〜３の低級ハロアルキル基、炭素数１〜
３の低級ハロアルコキシ基、ハロゲン原子、水酸基、ニ
トロ基、炭素数１〜３の低級アルキル基で置換されても
良いアミノ基、及びヘテロ環を、あるいはＲ1 とＲ2 が
結合しメチレンジオキシ基を、Ｒ4 は水素、炭素数１〜
４の低級アルキル基を、点線は二重結合又は単結合を、
ｎは０〜２の整数を示す］で表される化合物にルイス酸
を作用させることを特徴とする一般式（1d） ［式中、Ｒ1 ，Ｒ2 、Ｒ4 、点線、ｎは前述の通り］で
表されるＮ−置換ジオキソチアゾリジルベンズアミド誘
導体の製造法。 - 【請求項１０】 一般式（１） ［式中、Ｒ1 ，Ｒ2 は同一又は異なって、水素、炭素数
１〜４の低級アルキル基、炭素数１〜３の低級アルコキ
シ基、炭素数１〜３の低級ハロアルキル基、炭素数１〜
３の低級ハロアルコキシ基、ハロゲン原子、水酸基、ニ
トロ基、炭素数１〜３の低級アルキル基で置換されても
良いアミノ基、及びヘテロ環を、あるいはＲ1 とＲ2 が
結合しメチレンジオキシ基を、Ｒ3 は水素、炭素数１〜
３の低級アルコキシ基、水酸基、ハロゲン原子を、Ｒ4
は水素、炭素数１〜４の低級アルキル基を、点線は二重
結合又は単結合を、ｎは０〜２の整数を示す］で表され
るＮ−置換ジオキソチアゾリジルベンズアミド誘導体及
びその薬理学的に許容しうる塩の少なくとも１種類以上
を有効成分とする血糖降下薬。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15978295A JP3929512B2 (ja) | 1995-06-02 | 1995-06-02 | Ｎ−置換ジオキソチアゾリジルベンズアミド誘導体及びその製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15978295A JP3929512B2 (ja) | 1995-06-02 | 1995-06-02 | Ｎ−置換ジオキソチアゾリジルベンズアミド誘導体及びその製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08333355A true JPH08333355A (ja) | 1996-12-17 |
| JP3929512B2 JP3929512B2 (ja) | 2007-06-13 |
Family
ID=15701158
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15978295A Expired - Fee Related JP3929512B2 (ja) | 1995-06-02 | 1995-06-02 | Ｎ−置換ジオキソチアゾリジルベンズアミド誘導体及びその製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
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