JPH08330377A

JPH08330377A - 基板搬送装置及び半導体製造方法

Info

Publication number: JPH08330377A
Application number: JP7129998A
Authority: JP
Inventors: Hideo Kashima; 秀夫鹿島; Toshimitsu Miyata; 敏光宮田; Masabumi Kanetomo; 正文金友; Takamichi Suzuki; 高道鈴木; Tetsuo Ito; 徹雄伊東
Original assignee: Hitachi Ltd; Hitachi Video and Information System Inc
Current assignee: Hitachi Ltd; Hitachi Advanced Digital Inc
Priority date: 1995-05-29
Filing date: 1995-05-29
Publication date: 1996-12-13

Abstract

(57)【要約】【目的】基板を保持し展開するアームにしゅう動機構
を持たない低発塵性、完全ドライな搬送装置を提供する
ことにある。【構成】大気側に置かれたモータ１ａ、１ｂの動力
を、大気側と真空フランジ５の薄い隔壁を挟んで真空側
に、各々独立に磁気回路を形成するように置いた永久磁
石６ａ、６ｂ及び７ａ、７ｂを介して、真空雰囲気に維
持された搬送室内部に導入する。真空側の永久磁石６
ｂ、７ｂは従動軸８ａ、８ｂに保持されており、従動軸
３ａ、３ｂの円周上には、回転アーム１１ａ、１１ｂを
介して、複数の弾性材料から成る板バネ１３、１５を重
力方向の剛性が得られる姿勢で取付ける。板バネ１３、
１５のもう一方の端は基板１６を保持するハンド１４に
締結する。【効果】基板を保持し展開するハンド及びアームに
は、転がり軸受けなどの一切のしゅう動機構を必要とし
ないため、低発塵性、高信頼性で展開率が大きく、また
展開率の自由度の高い安価な搬送装置が実現できる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、半導体製造装置に係
り、特に異種類の処理室を複数連結した半導体製造装置
及びその中での基板搬送手段に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】サブミクロンオーダのパターンルールが
要求される半導体デバイスの製造装置には、プロセス装
置の低発塵化、コンタミネーション低減化及び小型（小
容量）であることが要求される。この理由はデバイス欠
陥の主な原因が装置及びその周辺から生じる塵埃であ
り、また製造装置はその建設及びその維持に多大な費用
を要するクリーンルームに置かれることにある。このよ
うな背景から、特開平５ー３０４１９７記載のような搬
送室を中心に、洗浄、成膜、エッチング、アニールなど
異種の複数の処理室を備え、大気から隔離した雰囲気下
で各種のプロセスを一貫して行なうことで基板１６への
汚染を防止し、半導体装置の性能向上を狙ったマルチプ
ロセス装置が提案されている。このマルチプロセス装置
用として、例えば特開昭６１ー２２６４２、特開平４ー
１９９７３０、特開平４ー２５４３５１、特開平６ー２
７５７０２記載の様なアーム型や蛙足型といった、従来
の搬送装置と比較して小型でクリーンな搬送装置が開発
されてきた。図２０は、これらの従来の一般的なアーム
型の搬送装置を示したものである。

【０００３】アーム型搬送装置は、大気側に置かれたモ
ータ１ａ、１ｂの動力を、磁性流体シール４３によって
圧力を遮断しながら、アーム３３、ベルト４４及びプー
リ４５に伝達し、各アーム３３を各回転軸を中心に回転
させアーム部１０を屈伸駆動又は回転駆動させること
で、基板１６を任意の位置に搬送する。従って各アーム
３３の回転軸部には、回転自在な転がり軸受け３６、ベ
ルト４４、プーリ４５のしゅう動機構及び妨塵機能を期
待した磁性流体シール４３が必要不可欠であった。また
図２１に示す蛙足型搬送装置においては、関節部の転が
り軸受け３６は露出しており、さらに基板近傍のハンド
１４とアーム３３が接続する部署には複数の歯車３５及
び転がり軸受け３６を必要としていた。

【０００４】これに対しアーム部１０にしゅう動部を必
要としない搬送装置として、特開平５−３１８３４５記
載の搬送装置が開発されている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
てきたいずれの型の搬送装置に使用している圧力遮蔽用
の磁性流体シールは、恒常的に突発的な気密漏れ、一般
的な表現ではリークの恐れがある。また磁性流体シール
は、基本的にその主成分が油であることから、真空中に
置いては絶えず蒸発している。このため磁性流体シール
自体から蒸発する油成分、主にカーボンは、容易に除去
が困難なハイドロカーボンとなり、これが基板に付着し
た場合、内部に拡散し、深い準位を形成するなどで塵埃
とは別のデバイス欠陥の原因となる。さらに磁性流体シ
ールを使用した搬送装置を収納する搬送容器の到達圧力
は、およそ１.３×１０^-4Ｐａ程度と、薄膜形成装置な
どの処理容器の圧力より高くならざるをえない。この場
合、薄膜形成装置へ基板を搬送する際、薄膜形成装置と
搬送容器の圧力差によって塵埃の拡散が生じる。これら
の塵埃が基板表面に付着した場合、パターン間の絶縁不
良等の様々な欠陥を誘発する主原因となる。

【０００６】また、従来のアーム型搬送装置及びフロッ
グレッグ型搬送装置の問題点は、真空雰囲気下に基板を
保持するアーム部及び基板の極近傍に、上述した複雑な
しゅう動機構を必要としている点にある。一般に真空雰
囲気下におけるしゅう動部の摩擦力は、大気中に置かれ
た場合の摩擦力と比較して格段に増加することが知られ
ている。しゅう動部における摩擦力の増加は、しゅう動
部から生じる塵埃の増加を招き、さらにしゅう動部の凝
着現象等（一般的な表現ではかじり現象）が生じやすく
なる。この場合、基板への塵埃による汚染が深刻となる
他、アームは正常な屈伸動作を行わなくなることから、
基板搬送位置の再現精度が低下することにつながる。上
記かじり現象を防ぐ目的で転がり軸受けに多量の潤滑グ
リースを塗布する例が見られるが、この場合上述してき
た磁性流体シールと同様にコンタミネーションが増加す
ることになる。さらに従来の搬送装置ではその複雑なし
ゅう動部構成から、ハロゲン族を含む腐食性ガス雰囲気
下、有機金属ガス雰囲気下、高温雰囲気下さらに湿式洗
浄工程での搬送には向いていなかった。

【０００７】以上の問題に対して、アーム部に弾性材料
からなる弾性アーム使用した搬送装置は、アームに全く
しゅう動部を持たない点で優れている。しかしハンドは
弾性材の弾性アームでのみ支持された状態で移動が行わ
れことになる。この場合、アーム部剛性がに脆弱となる
ため、搬送過程におけるハンドの振動が長時間発生し、
さらにそれに伴うハンドの重力方向のたわみが問題とな
っていた。

【０００８】

【課題を解決するための手段】真空雰囲気に保持された
搬送容器内に、基板を保持するハンドと、ハンドの両端
に、少なくともその一部が弾性材料から成る弾性変形可
能なバネを、重力方向の剛性が得られる姿勢で固定す
る。各々のバネのもう一方の端を、真空容器に各々回転
自在な回転軸受けを介して支持した円筒状の従動軸の円
周上に支持した回転アームの一端に、基板の中心と従動
軸の中心を結ぶ中心線に対して左右対象となるように固
定する。各々の従動軸の同芯円上に永久磁石を配する。
各々の従動軸に配した永久磁石と、各々磁気回路を形成
するように、搬送容器の薄い隔壁を挟んで大気側の位置
に、第２の永久磁石を各々２対垂直に配する。大気側に
置かれた各々の第２の永久磁石は、それぞれ独立に任意
の方向に任意の角度、速度を同期して駆動可能な２つの
駆動部の各々の出力軸の同芯円上に保持する。ここで一
対のバネは、単一のバネ構成である必要はなく、所定の
間隔で置かれた短冊状の板の間に上下に互いに接触しな
いように交差するように配置した複数のバネから成る第
１の構成と、ハンドと接続する帯状の板バネから成る第
２の構成から形成する。特にハンドと接続する弾性アー
ムは、短冊状の板の両側面とハンドの接続、結合材を介
して互いに結合する。以上の構成から成る弾性アームの
バネ硬さは、ハンドから回転アームに向けて徐々に硬く
なるように各板バネの厚さ、または幅、または数を増加
することが望ましい。尚、弾性ームを形成する第１の構
成を、２本の帯状の板バネを任意の回数、一方向に所定
の長さ所定の角度で折曲げた箇所と、次いで逆方向に所
定の長さ所定の角度で折曲げた箇所で形成し、これらを
上下に互いに接触しない様に、折曲げた箇所が交差する
様に配し、かつ、上下の板バネを所定の間隔で連結した
構成としても良い。

【０００９】また回転アームの弾性アームの取付け面
を、円弧状の円周面を有する形状とし、円周面にバネが
固定される構造としてもよい。また回転アームと同期し
て回転運動を行なう別のアームを、ハンドが所定の位置
に移動した際にその側面近傍または当接するように所定
の位置に備える。この時、アームがハンドと接触しない
位置に備える場合は、アームに磁石を備え、ハンドは磁
性材で構成し、磁石とハンドの磁性材が磁気回路を形成
する位置とする。またアームとハンドが当接する場合
は、ハンドと当接する部分に回転自在なプーリもしくは
バネを設ける。

【００１０】さらに従来の蛙足型搬送装置において、蛙
足を形成する２つのアームとハンドを、重力方向の剛性
を備えた弾性板を介して接続することでもよい。尚以上
の手段からなる搬送装置において、弾性アームとハンド
を複数個備え、各々を同期してまたは独立して駆動する
構成としても良い。

【００１１】以上の手段からなる搬送装置は、下面に真
空シール機能を有したフランジの面積以下に全て保持さ
れ、搬送装置を収納する搬送室上面には、このフランジ
が通過可能な開口部を設ける。

【００１２】

【作用】大気側に置かれた駆動部の駆動源の動力の、薄
い隔壁を介した大気側から真空側への伝達は、駆動部の
出力軸に配した第２の永久磁石が、駆動源の回転に応じ
て回転するに従い、真空側の従動軸に保持された永久磁
石との間に回転磁界を生じさせることで行われる。回転
磁界によって、従動軸に保持された永久磁石が駆動源の
出力軸に配した第２の永久磁石に同期して回転する。各
々の従動軸を逆方向に回転駆動し、回転アームの円周上
に固定されている各々の弾性アームが、回転アームの回
転中心周りに円弧状に弾性変形することで、弾性アーム
のもう一方の端に固定している基板を保持しているハン
ドが、ハンドの中心と従動軸の中心を結ぶ中心線上に沿
って従動軸側に直進移動する。ハンドの直進移動量は、
回転アームの回転角と回転半径で決定する。ハンドの伸
張は、各々の従動軸を逆回転させることで行われる。以
上の構成を採ることによって、従来の搬送装置に必要不
可欠であったしゅう動機構、及び防塵、圧力遮蔽用の磁
性流体シールは不要となる。

【００１３】ところでハンド部の横方向の剛性は、これ
までの実験結果から、弾性アームの曲げ剛性をハンド部
から回転アームの方向に向けて強化することで、最も効
果的に強化が実現できることがわかっている。

【００１４】弾性アームを構成する各々の板バネを、ハ
ンドの直進移動軌道に対して互いに逆方向に傾斜した姿
勢で取付けることで、ハンドに加わる横方向の力は分解
されるため、結果として弾性アームの横方向の剛性が著
しく向上する。本発明による弾性アームは、所定の間隔
で置かれた短冊状の板の間に上下に互いに接触しないよ
うに交差するように配置した複数のバネからなる第１の
構成と、短冊状の板の両側面とハンドの接続位置を結
び、三角形を形成する２枚の帯状の板バネから成る第２
の構成から形成する。ここで第１の構成の各板バネの厚
さまたは幅を、ハンドから回転アームに向けて増加させ
ることで、弾性アームの剛性を効果的に強化できる。さ
らに各々の弾性アームの第２の構成の２枚の帯状のバネ
の厚さを可変し、また各々をその中間で部材を介して結
合する。この構造とすることで、搬送過程における先端
の帯状の板バネの弾性変形が抑制されることから、ハン
ド部と接続する帯状の板バネの板厚横方向の剛性の変化
は皆無となる。尚、弾性アームを形成する第１の構成
を、２枚の単一の帯状の板バネを折曲げて形成すること
で、弾性アームの剛性を損なわず、さらに簡易な構造及
び安価とすることができる。

【００１５】一方回転アームを円弧状の円周面を有する
形状とすることで、弾性アームが回転アームの回転に伴
い回転アームの円周面に巻き取られるため、弾性アーム
の曲げ強さを前述の手段のように強化しなくてもハンド
の搬送過程における横方向の剛性、特にハンドが最も退
避した位置における横方向の剛性を著しく強化できる。
また別の手段として、回転アームとは別に、駆動軸に先
端に磁石を備えたアームを備える。ハンドが退避位置に
移動した際に、磁性材からなるハンドの側面近傍の対向
する位置に磁気回路を形成するように、アームに取付け
た磁石が移動する様にアームを備えることで、ハンドの
横方向の剛性は磁石と磁性材料の磁気力で強化される。
ここでハンドに、アームに備えた磁石と同一の極性同士
が対向するように磁石を備えてもよい。また磁石ではな
く回転自在なプーリもしくは弾性アームをアーム先端に
備えることでも同様の効果が得られる。この時はアーム
はハンドに当接するような配置とする必要がある。

【００１６】ところで従来の蛙足型搬送装置において、
蛙足型を形成する２つのアームとハンドを、重力方向の
剛性を備えた弾性板を介して接続することで、搬送過程
におけるハンドの姿勢は、弾性板が弾性変形することで
常に搬送方向に保持される。このため従来ハンドの姿勢
保持用に不可欠であった歯車、転がり軸受けなどのしゅ
う同部は一切不要な構成となる。また弾性アームとハン
ドからなるアーム部を複数個備え、各々独立にまたは同
期して伸縮、回転移動させることで、搬送のスループッ
トが著しく向上する。

【００１７】以上の手段からなる搬送装置は、下面に真
空シール機能を有したフランジの面積以下に全て収納さ
れるため、搬送室上面に設けた開口部を介して搬送装置
全体の取り外しまたは取付けが容易に行なわれる。

【００１８】

【実施例】図１は本発明の一実施例を示している。尚、
以下に示す図において同一符号を用いた部材は、同等の
機能を有することを示唆している。

【００１９】駆動用のモータ１ａ、１ｂなどの機構部１
は、真空容器（図示せず）と接続し真空シール機能を有
する真空フランジ５の大気側に固定される。真空フラン
ジ５の真空側には、基板１６を保持し、任意の位置に搬
送するアーム部１０が支持される。機構部１は真空フラ
ンジ５の真空シール部の内面積の範囲に納められてい
る。

【００２０】モータ１ａ、１ｂには歯車２ａ、２ｂが固
定されており、歯車２ａ、２ｂは駆動軸３ａ、３ｂの歯
車と噛み合う。駆動軸３ａ、３ｂは、回転自在な転がり
軸受け４ａ、４ｂを介して別の駆動軸３ｂ及び真空フラ
ンジ５の大気側に各々支持されている。各々のモータ１
ａ、１ｂは、無通電時に各々の駆動軸３ａ、３ｂが停止
時の姿勢を保持する機能を有している。駆動軸３ａ、３
ｂの同芯円上には、等間隔で永久磁石６ａ、６ｂが固定
されている。永久磁石６ａ、６ｂの真空フランジ５を挟
んで真空側の各々の対向する位置に、永久磁石７ａ、７
ｂを永久磁石６ａ、６ｂと各々独立に磁気回路を形成す
るように従動軸８ａ、８ｂの同芯円上に配置する。従動
軸８ｂは、回転自在な転がり軸受け９ｂを介して別の従
動軸８ａに支持され、従動軸８ａは回転自在なの転がり
軸受け９ａを介して、真空フランジ５の真空側に支持さ
れる。

【００２１】弾性アーム１０ａ、１０ｂは、回転アーム
１１ａ、１１ｂと接続し所定の間隔で置かれた短冊状の
中継板１２と、中継板１２と中継板１２の間に上下に互
いに接触しないように交差するように配置した２枚のバ
ネ１３からなる箇所（以下ユニットと呼称する）と、ハ
ンド１４と接続する帯状の平板バネ１５から構成する。
特にハンド１４と接続する平板バネ１５は、中継板１２
の両側面とハンド１４の接続位置を結ぶ三角形を形成す
るように２つ接続する。

【００２２】本実施例では、回転アーム１１ａ、１１ｂ
と接続する第１のユニットを構成する板バネ１３の厚さ
を１.１ｍｍ、第１のユニットと接続する第２のユニッ
トの板バネ１３の厚さを１ｍｍ、その他のユニットの板
バネ１３の厚さを０.８ｍｍ、幅を２５ｍｍ、中継板１
２の間隔を５０ｍｍ、中継板１２の幅を２０ｍｍとし、
５ユニットを直列に配している。また終端のユニットの
中継板１２とハンド１４を接続する平板バネ１５は、厚
さを０.６ｍｍと１ｍｍ、幅を２５ｍｍとし、同位相に
配している。板バネ１３、１５は、真空雰囲気下におけ
る放出ガス量が比較的少ないステンレス鋼で製作してい
る。回転アーム１１ａ、１１ｂの回転半径は２００ｍｍ
である。

【００２３】基板１６の直進移動は、モータ１ａ、１ｂ
を互いに逆に駆動する。各々の駆動軸３ａ、３ｂの回転
に伴い、永久磁石６ａ、６ｂと永久磁石７ａ、７ｂの間
に回転磁界が生じる。その結果駆動軸３ａ、３ｂの回転
に同期して真空フランジ５の真空側の永久磁石７ａ、７
ｂを保持している従動軸８ａ、８ｂが互いに逆方向に回
転する。各々の従動軸８ａ、８ｂの回転に従い、従動軸
８ａ、８ｂに固定した各々の回転アーム１１ａ、１１ｂ
に締結された各々の弾性アーム１０ａ、１０ｂは、各々
の回転アーム１１ａ、１１ｂの回転中心周りに円弧状に
弾性変形する。その結果、弾性アーム１０ａ、１０ｂの
もう一方の端に取付けてあるハンド１４が、ハンド１４
と従動軸８ａ、８ｂの中心を結ぶ中心線に沿って従動軸
８ａ、８ｂ側に直進移動する。基板１６の旋回移動は、
各々のモータ１ａ、１ｂを同方向に回転し従動軸８ａ、
８ｂを同方向に回転させることで、旋回開始時の姿勢を
保持した状態で３６０度の任意方向に回転移動できる。

【００２４】ハンド１４部の横方向の剛性の強化は、前
述したようにハンド１４から回転アーム１１ａ、１１ｂ
に向けて、弾性アーム１０ａ、１０ｂの曲げ強さが強化
するように、第１の構成、第２の構成の各板バネを選択
することで最も効果が得られる。本構造とすることで、
ハンドに加わる横方向の力は、ハンドの直進移動軌道に
対して傾斜した姿勢で取付けた第１の構成、第２の構成
の各板バネに分解されて加わるため、結果として弾性ア
ームの横方向の剛性が著しく向上する。

【００２５】ここで図２の第２の実施例に示すように先
端の三角形状に配した平板バネ１５を連結部材１７を介
して結合することで、搬送過程における平板バネ１５の
弾性変形が抑制される。すなわち搬送過程における平板
バネ１５の姿勢変化に起因した、ハンド１４の重力方向
のたわみ及び剛性の低下が一層低減される。

【００２６】また、第１の実施例で示したユニットを構
成する板バネ１３の厚さを、ハンド１４から回転アーム
１１ａ、１１ｂに向けて増加させる他、図３に示す第３
の実施例のようにハンド１４から回転アーム１１ａ、１
１ｂに向けて板バネ１３の幅を断続的にまたは連続して
増加させる方法、または、図４に示す第４の実施例の弾
性アーム１０ａ、１０ｂのように、回転アーム１１ａ、
１１ｂ直結する１ユニットのみ三角立方体をなすように
板バネ１８を追加するなどの方法で、弾性アーム１０
ａ、１０ｂのバネ硬さを硬くすることで、尚一層のハン
ド１４の剛性の強化が実現できるとともに、弾性アーム
１０ａ、１０ｂに生じる最大応力を低減することができ
る。

【００２７】また、図５の第５の実施例に示すように、
回転アーム１１ａ、１１ｂの側面に底面が円弧状の切り
込み１９を垂直方向にいれる他、図６の第６の実施例に
示すように回転アーム１１ａ、１１ｂの一部に弾性材料
からなるバネ２０を使用し、回転アーム１１ａ、１１ｂ
自体も弾性変形可能とすることで、弾性アーム１０ａ、
１０ｂに生じる最大応力の低減に尚一層の効果がある。
この時回転アーム１１ａ、１１ｂのバネ硬さは、弾性ア
ーム１０ａ、１０ｂのバネ硬さよりも硬い必要がある。

【００２８】さらに図７の第７の実施例に示すように、
回転アーム１１ａ、１１ｂの弾性アーム１０ａ、１０ｂ
取付け面を円弧状としてもよい。図７は三角投影法で図
示する平面図で記載している。この場合弾性アーム１０
ａ、１０ｂは、回転アーム１１ａ、１１ｂと接触する箇
所のみ平板バネ２１を使用することになる。本実施例で
は、回転アーム１１ａ、１１ｂの半径を２００ｍｍ、円
弧角を３０度、第１の実施例で示した３つのユニットの
片面に平板バネ２１を追加した構成としている。この３
ユニットを構成する各々の板バネ１３、２１の板厚は
０.３ｍｍである。回転アーム１１ａ、１１ｂが回転
し、ハンド１４の横方向の剛性低下の一因となってい
る、最も大きく変形する回転アーム１１ａ、１１ｂ近傍
のユニットが、回転アーム１１ａ、１１ｂの円周に巻き
取られる。この結果、弾性アーム１０ａ、１０ｂの回転
アーム１１ａ、１１ｂ近傍のユニットが、回転アーム１
１ａ、１１ｂの円周に巻き取られることでその自由度が
規制され、ハンド１４の搬送過程における横方向の剛
性、特にハンド１４が最も縮退した位置における横方向
の剛性を著しく強化できる。尚本実施例では、回転アー
ム１１ａ、１１ｂを扇形状としているが、円筒状として
も問題はない。

【００２９】図８は本発明の別の実施例を示している。
図８は、アーム部１０のみを抜粋して三角投影法で図示
する正面図で記載している。弾性アーム１０ａ、１０ｂ
（図示せず）は基本的に単一の帯状の板バネ２２からな
っている。本実施例では板厚は１ｍｍとし、板幅が回転
アーム１１ａ、１１ｂ（図示せず）取付け部が１００ｍ
ｍ、ハンド１４部取付け部が２５ｍｍとし、その間は傾
斜した形状である。板バネ２２の側面には、幅３ｍｍ、
板厚１ｍｍの複数の帯状の板バネ２２ａが網目状に取付
けている。本実施例では、ハンド１４部から回転アーム
１１ａ、１１ｂにかけて網目が緻密になるように配して
いる。本構造とすることで、弾性アーム１０ａ、１０ｂ
の曲げ強さが強化され、搬送過程におけるハンド１４の
剛性が強化される。

【００３０】図９は本発明の別の実施例を示している。
アーム２３ａ、２３ｂの両側面に、アーム２３ａ、２３
ｂが大変形可能な程度、及び変形時の主応力が材料の許
容応力範囲に収まるように、底面が円弧状の切り込み１
９を複数個行なう。本構成の弾性アームとすることで、
弾性変形を行なうバネ部は極限られた範囲となり、板バ
ネを使用した弾性アームと比較し、搬送過程におけるハ
ンド１４の変位が極微量で、剛性が高い搬送装置とする
ことができる。図１０は本発明の別の実施例を示してい
る。図１０は、三角投影法で図示する平面図で記載して
いる。ハンド１４の両側面を磁性材料で構成する。従動
軸８ａ（図示せず）、８ｂには回転アーム１１ａ、１１
ｂとは別に、先端に磁石を備えたアーム２４ａ、２４ｂ
を設ける。このアーム２４ａ、２４ｂは、ハンド１４が
退避位置に移動した際に、磁性材から成るハンド１４の
側面近傍の対向し、ハンド１４の磁性材と磁気回路を形
成する位置に、アーム２４ａ、２４ｂ先端に備えた磁石
２５ａ、２５ｂが移動するように従動軸８ａ、８ｂに保
持している。本構造とすることによって、新たな従動軸
８ａ、８ｂを設けることなくハンド１４の退避位置にお
けるハンド１４の横方向の剛性を、磁石２５ａ、２５ｂ
とハンド１４の磁性材料の磁気力で強化できる。従って
ハンド１４の回転移動時の振動が効果的に抑制され、ハ
ンド１４の回転移動速度を著しく高速にすることが可能
となる。また本実施例では、ハンド１４側面にアーム２
４ａ、２４ｂが移動するような構造としているが、ハン
ド１４下面にアーム２４ａ、２４ｂが移動する構造でも
同様の効果が得られる。

【００３１】ここでハンド１４に、アーム２４ａ、２４
ｂに備えた磁石２５ａ、２５ｂと同一の極性が対向する
ように磁石を備えてもよい。また図１１に示す別の実施
例のように、アーム２４ａ、２４ｂにバネ２７もしくは
回転自在なプーリ２８を備えることでも同様の効果が得
られる。しかしこの場合は、アーム２４ａ、２４ｂに備
えたバネ２７もしくはプーリがハンド１４に当接するよ
うな配置とする必要がある。

【００３２】図１２は本発明の搬送装置において、弾性
アーム１０ａ、１０ｂ及びハンド１４部を加熱可能な構
成とした一実施例を示している。図１２は、三角投影法
で図示する正面図で記載している。

【００３３】駆動軸３ａは中空となっており、駆動軸３
ａの回転中心線上の真空フランジ５に、大気側から真空
側への電流の導入が可能な電気導入端子２９を気密性を
保持するように取付ける。電気導入端子２９の大気側の
端子は、駆動軸３ａの内部を通したケーブル２９ａを介
して電源３０に接続している。電気導入端子２９の真空
側の端子は、少なくとも３６０度以上の回転に対して追
随可能なように配線したケーブル２９ａを介して弾性ア
ーム１０ａ、１０ｂ（図示せず）に取付けた弾性の通電
材３２に接続している。ここで通電材３２は第３の実施
例で示した帯状のバネ２２ａと同様の軌跡で板バネ２２
に取付けることで、弾性アーム１０ａ、１０ｂのバネ硬
さの強化する効果も上げられる。通電材３２は、通電機
能を有する芯材と、芯材を絶縁する絶縁材と、芯材、絶
縁材を密封する外殻から構成され、弾性アーム１０ａ、
１０ｂには通電されないようにした構造が望ましい。ハ
ンド１４部にはヒータ３１が埋め込まれており、弾性ア
ーム１０ａ、１０ｂ部に取付けた通電材をこのヒータ３
１に接続する。以上の構成を採ることによって、ハンド
１４部のみを加熱できる。また通電材３２の代わりに、
弾性のヒータを弾性アーム１０ａ、１０ｂに取付けるこ
とによって、弾性アーム１０ａ、１０ｂも伝熱加熱する
ことが可能である。また本実施例では電気導入端子２９
を介して電流を真空側に導入しているが、妨塵処理を施
したスリップリングまたは回転可能な電気導入端子を使
用してもよい。もちろん従来の磁性流体シールを使用し
た動力伝達方式を採用した場合、駆動軸３ａ、３ｂに通
電機能を兼用させることも可能である。

【００３４】以上の構成を取ることによって、基板１６
を保持し、展開するハンド１４及びアーム部１０には転
がり軸受けなどの一切のしゅう動機構を必要とせず、ア
ーム部１０からの塵埃による基板１６の汚染は皆無とな
り、磁性流体シールなどの防塵機構を必要としない高剛
性の安価で小型（小容量）の搬送装置を実現できる。ま
たモータ１ａ、１ｂの動力の真空側への伝達を永久磁石
６ａ、６ｂ永久磁石７ａ、７ｂで行うことによって、機
構部１と基板１６を搬送する真空側とは薄い隔壁によっ
て完全に隔離されるため、機構部１から発生する塵埃に
よって汚染されることは全く無い。この時機構部１を密
閉し、必要に応じて排気することで、機構部１からのク
リーンルームへの塵埃の拡散は完全に抑制される。また
薄い隔壁は圧力も完全に、確実に遮断することから、搬
送容器の真空雰囲気は意図的にリークを行わないかぎり
常に保持される。従って本構成による搬送装置は磁性流
体シールを全く使用しないので、ハイドロカーボンなど
による汚染が全く無い完全にドライでクリーンな搬送装
置とすることができる他、さらに清浄で超高真空雰囲気
の作成に不可欠な加熱脱ガス処理（一般的にはベーキン
グ処理）が可能となる。つまり本構成による搬送装置
は、従来の搬送装置が１.３×１０^-4Ｐａ程度の圧力下
での動作が限界であったのに対して、１.３×１０^-8Ｐ
ａ以下の超高真空下でかつキューリー点以下の温度雰囲
気での動作が可能となる。また図１４に示す別の実施例
のように、アーム部１０を２対設けた構造とすること
で、各々のアームを同期して展開、回転移動が行なえ
る。本実施例の構成とすることで、同時に２枚の基板１
６の搬送が可能となり、搬送のスループットが向上す
る。本実施例では２対のアームは同一の従動軸８ａ、８
ｂに接続しているが、別途従動軸を備えることで各々の
独立に搬送が可能となり。さらなる搬送のスループット
向上が実現する。

【００３５】また上述してきた実施例では、弾性アーム
１０ａ、１０ｂを形成する第１の構成の板バネ１３を複
数個備え、中継板１２を介して互いに接続する構造とし
ているが、２本の単一の帯状の板バネを、任意の回数、
一方向に所定の角度、所定の長さ折曲げた箇所と、次い
で逆方向に同様に所定の角度、所定の長さ折曲げた箇所
で構成し、これらを上下に互いに接触しない様に、互い
に交差する様に配し、さらにこれらの２枚の板バネを、
所定の間隔で連結する構成としても良い。本構成とする
ことで、弾性アーム１０ａ、１０ｂを、剛性を損なわず
にさらに簡易な構造となる他、安価に提供できる。

【００３６】さらに、機構部１の真空フランジ５への取
付け面積を、真空シール部より内側の範囲にすることに
よって、本発明による搬送装置はアーム部１０を取付け
た状態で、搬送室（図示せず）上側からの取付け、取り
外しが可能となり、搬送装置の定期メンテナンスが容易
となる。

【００３７】尚以上述べてきた実施例では、永久磁石６
ａ、６ｂ永久磁石７ａ、７ｂによるモータ１ａ、１ｂの
動力の伝達を行っているが、従来のアーム型、フロッグ
レッグ型の搬送装置において、機構部１以外の基板１６
を保持するアーム部１０のみを本発明による従動軸８
ａ、８ｂと弾性アーム１０ａ、１０ｂに喚装することで
も、本発明と同様に小型で高信頼性の搬送装置とするこ
とができるのは言うまでもない。また転がり軸受けのほ
か、完全非接触の磁気軸受けを使用することで尚一層の
発塵量の低減に効果がある。また以上述べてきた実施例
を組み合わせて使用することでも、何ら問題はなく、そ
の際は上述した同様の効果が得られることは当然であ
る。

【００３８】図１３は本発明の別の実施例を示してい
る。図１３は三角投影法で示す平面図で記載している。
蛙足型搬送装置であるが、ハンド１４と２本のアーム３
３の接続部にステンレス製の板バネ３４を使用している
点に特長がある。搬送過程におけるハンド１４とアーム
３３のなす角度の変化によるハンド１４の姿勢の変化
は、板バネ３４が弾性変形することで吸収されることか
ら、常に一定の姿勢に保持される。従って図２１に示す
従来の蛙足型搬送装置に不可欠であった、ハンド１４と
アームの接続部の歯車３５及び転がり軸受け３６等のし
ゅう動機構が一切不要となり、著しい構造の簡易化、ハ
ンド１４の軽量化が可能となる。この結果基板１６近傍
にはしゅう動部が無い、極めてクリーンで高剛性の高速
搬送が可能な蛙足型搬送装置が実現できる。もちろん従
来の蛙足型の搬送装置において、基板１６を保持するア
ーム部とハンド１４のみを本発明の方法による弾性板バ
ネ３４で結合することで、本発明と同様の効果が得られ
る搬送装置とすることができるのは言うまでもない。
本発明による半導体製造装置の実施例を、文献月刊Ｓｅ
ｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒＷｏｒｌｄ増刊号「’９４
最新半導体プロセス技術」の２３頁から３１頁記載のス
タック型ＤＲＡＭの工程を参考に示す。通常半導体装置
の機能は、基板１６段差形成、ウエル形成、アイソレー
ション、トランジスタ形成、ビット線形成、キャパシタ
形成、配線形成を反復することで形成される。これらの
プロセスは、リソグラフイ処理、エッチング処理、酸
化、アニール、拡散などの熱処理、イオン注入処理、Ｃ
ＶＤ、スパッタリング、蒸着等の薄膜形成処理、レジス
ト除去、溶液等の洗浄処理、検査処理等を適用組み合わ
せて構成される。図１５は、本発明による搬送装置を使
用したマルチプロセス装置の一例を示している。一般に
マルチプロセス装置は、搬送室５３と、エッチング処理
などの１０^-6Ｐａ程度の高真空領域に保持されている処
理室５０からなるユニットと、バッファ室５１を挟んで
清浄な１０^-8Ｐａ程度の雰囲気を必要とするスパッタリ
ング等の処理室５２からなるユニットから構成される。
従来の磁性流対シールを多用した搬送装置を用いた搬送
室では、前述したように搬送中の圧力が１０^-4Ｐａ程度
まで上昇していた。この結果、１０^-8Ｐａ程度の処理室
内への基板搬入出の際は、一旦処理室内の圧力を搬送室
内圧力とほぼ同等となるように調整する待機時間を必要
とした他、さらに処理室内のケミカル汚染も発生してい
た。１０^-8Ｐａ程度の雰囲気下での動作が可能な本発明
の搬送装置を使用することで、上述した待機時間が不要
となり工程の短縮化が実現しさらに清浄な雰囲気を保持
したまま搬送が可能となる。

【００３９】図１７は、従来の搬送装置を使用した高温
処理の一例を示している。自然酸化膜の影響を除去し
て、耐酸化性に優れた極薄のシリコン窒化膜の形成処理
工程である。工程は前処理３７と後処理３８の２工程に
わかれており、互いに別の処理室にて行なわれる。本例
に示すように、従来のアーム型または蛙足型搬送装置で
は、その複雑なしゅう動機構を有することから２処理室
間の基板１６の搬送は、基板１６の温度が４００度以
下、実際の搬送時の温度は１５０度程度で行わなければ
ならなかった。以上の理由から従来の搬送装置を用いた
場合の本工程に要する処理室間の搬送時間は、全体の処
理時間の約２０％を占めていた。図１６は本発明による
搬送装置を本工程に応用した際の図１７と同一の処理工
程を示している。単純なアーム構成からなる本搬送装置
を本工程に使用することによって、５００度以上の高温
雰囲気下での搬送が可能となり、工程時間の大幅な短縮
が可能となる。

【００４０】また塩素系などのハロゲン元素を含むガス
を用いたエッチング処理室への搬入出の際も、従来の箱
型のアーム構造を有する搬送装置では、処理室内に残留
しているガスがアーム内部に拡散侵入し、内部のしゅう
動部を侵食するなどの甚大な問題が生じていた。しかし
本発明による搬送装置は、アーム部１０にしゅう動部を
持たないことから、前述したような腐食性雰囲気下の搬
送においても何ら問題は生じない。さらに本搬送装置で
は、搬送室を清浄な超高真空雰囲気に維持することが可
能であること、アーム部１０が任意の温度に加熱可能で
あることで、基板１６表面もしくはアーム１０に付着し
たエッチャント等の吸着分子は、搬送過程において効果
的に加熱離脱が促進され、基板１６表面へのコンタミネ
ーションが抑制される。この時ハンド１４部及びアーム
部の温度調節は厳密に行なう必要がなく、あらかじめ電
流通電量と、ハンド１４部またはアーム部１０の到達温
度の相関関係を把握しておくことで、凡その温度制御が
行なえる程度で問題はない。もちろん別途に熱電対等の
温度計測手段を設けることで厳密に温度制御を行なって
も問題はない。

【００４１】またアーム部１０及びハンド１４部に表面
処理などの使用溶液に対する妨錆処理を行なうことで、
アンモニア過水、希フッ酸、塩素過水などの雰囲気化で
も、上述した同様効果が得られることは言うまでもな
い。

【００４２】図１９は従来の搬送装置を用いた化合物半
導体薄膜形成装置の基本構成を示している。一般に化合
物半導体薄膜の形成は１０^-8Ｐａ台の超高真空雰囲気中
において行なわれることから、その装置構成は到達圧力
が１０^-4Ｐａ程度の基板導入室３９、１０^-6Ｐａ程度の
中間室４０、１０^-8Ｐａ程度の成長室４１の３室構成が
主流である。図２０及び図２１で示した型の搬送装置で
は、前述したように１０^-4Ｐａ程度の圧力以下での搬送
は不可能であることから、図１９に示すような直進式の
搬送装置４２を複数使用せざるを得なく、装置の大型化
が避けられなかった。図１８は本発明による搬送装置
を、化合物半導体薄膜形成装置に適用した例を示してい
る。１０^-8Ｐａ台での搬送が可能な本搬送装置を中間室
４０内に設置することで直進式搬送装置４２は不要とな
り、装置の小型化に著しい効果がある。さらにハンド１
４部を加熱し、ハンド１４上の基板１６を２００度程度
に加熱保持することで、従来中間室４０に設けていた予
備加熱試料台も不要となり、安価な化合物半導体薄膜形
成装置を実現できる。この場合は、ハンド１４上の基板
１６の温度制御は精密に行なう必要があることから、中
間室上に設けた覗き窓から赤外線放射温度計にて基板１
６表面の温度を測定し、電源からのハンド１４部のヒー
タへの電流通電量を制御する等の手段が別途必要とな
る。

【００４３】尚本発明は半導体製造装置に限定されるも
のではなく、薄膜トランジスタ（ＴｈｉｎＦｉｌｍ
Ｔｒａｎｉｓｔｏｒ）を用いた液晶パネルの生産ライン
にも適用可能であることは言うまでもない。

【００４４】

【発明の効果】以上述べてきた構成を採ることによっ
て、基板１６を保持し展開するハンド１４及びアームに
は転がり軸受けなどの一切のしゅう動機構を持たないた
め、ハンド１４及びアーム部からの発塵による基板１６
の汚染が皆無な、高い展開率を有する、安価で小型の低
発塵搬送装置が実現できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施例を示す一実施例の搬送装
置の斜視図である。

【図２】本発明の第２の実施例を示す一実施例の搬送装
置の弾性アーム部を抜粋した斜視図である。

【図３】本発明の第３の実施例を示す一実施例の搬送装
置の弾性アーム部を抜粋した斜視図である。

【図４】本発明の第４の実施例を示す一実施例の搬送装
置の弾性アーム部を抜粋した斜視図である。

【図５】本発明の第５の実施例を示す一実施例の搬送装
置の弾性アーム部を抜粋した斜視図である。

【図６】本発明の第６の実施例を示す一実施例の搬送装
置の弾性アーム部を抜粋した斜視図である。

【図７】本発明の第７の実施例を示す搬送装置の平面図
である。

【図８】本発明の第８の実施例を示す搬送装置の正面図
である。

【図９】本発明の第９の実施例を示す搬送装置の弾性ア
ーム部を抜粋した斜視図である。

【図１０】本発明の第１０の実施例を示す搬送装置の平
面図である。

【図１１】本発明の第１０の実施例を示す搬送装置の平
面図である。

【図１２】本発明の第１２の実施例を示す搬送装置の正
面図である。

【図１３】本発明の第１３の実施例を示す搬送装置の平
面図である。

【図１４】本発明の第１４の実施例を示す搬送装置の斜
視図である。

【図１５】本発明の搬送装置を使用したマルチプロセス
装置の平面図である。

【図１６】本発明の搬送装置を使用した高温処理工程図
である。

【図１７】従来の搬送装置を使用した高温処理工程図で
ある。

【図１８】本発明の搬送装置を使用した化合物半導体薄
膜形成装置の平面図である。

【図１９】従来の搬送装置を使用した化合物半導体薄膜
形成装置の平面図である。

【図２０】従来のアーム型搬送装置の平面図である。

【図２１】従来の蛙足型搬送装置の平面図である。

【符号の説明】

1...機構部、１ａ...モータ、１ｂ...モータ、２ａ...
歯車、２ｂ...歯車、３ａ...駆動軸、３ｂ...駆動軸、
４ａ..転がり軸受け、４ｂ..転がり軸受け、５...真空
フランジ、６ａ....永久磁石、６ｂ....永久磁石、７
ａ....永久磁石、７ｂ....永久磁石、８ａ...従動軸、
８ｂ...従動軸、９ａ...転がり軸受け、９ｂ...転がり
軸受け、１０...アーム部、１０ａ...弾性アーム、１０
ｂ.....弾性アーム、１１ａ...回転アーム、１１ｂ...
回転アーム、１２...中継板、１３...板バネ、１４...
ハンド、１５...平板バネ、１６...基板、１７...連結
部材、１８...板バネ、１９...切り込み、２０...バ
ネ、２１...平板バネ、２２....板バネ、２２ａ....板
バネ、２３ａ...アーム、２３ｂ...アーム、２４ａ...
アーム、２４ｂ...アーム、２５ａ...磁石、２５ｂ...
磁石、２６ａ...磁石、２６ｂ...磁石、２７...バネ、
２８...プーリ、２９....電気導入端子、２９ａ....ケ
ーブル、３０...電源、３１...ヒータ、３２...通電
材、３３...アーム、３４...板バネ、３５...歯車、３
６......転がり軸受け、３７...前処理、３８...後処
理、３９...基板導入室、４０...中間室、４１...成長
室、４２...直進搬送装置、４３...磁性流体シール、４
４...ベルト、４５...プーリ、４６...回転軸、５０..
処理室、５１...バッファ室、５２...処理室、５３...
搬送室、５４...搬送工程。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者金友正文東京都国分寺市東恋ケ窪１丁目280番地株式会社日立製作所中央研究所内 (72)発明者鈴木高道神奈川県横浜市戸塚区吉田町292番地株式会社日立製作所生産技術研究所内 (72)発明者伊東徹雄神奈川県横浜市戸塚区吉田町292番地株式会社日立画像情報システム内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】互いに隣接し、互いに異なる雰囲気条件の
少なくとも一つ以上の処理室や、基板移動、授受手段と
して、基板を保持するハンド部、及び一端が前記ハンド
と接続し、他端が少なくとも一つ以上の独立にまたは同
期して駆動可能な駆動軸と接続し、直進、回転移動を行
なう腕を少なくとも一つ以上備えた搬送手段を納める搬
送室を、少なくとも一つ以上有した半導体製造装置にお
いて、前記ハンドと前記腕の全てもしくはその一部に弾
性材料を使用しており、かつ、または前記ハンドと前記
腕との接続部に一切のしゅう動部を持たない搬送手段を
少なくとも一つ以上有した半導体製造装置。
【請求項２】請求項１記載の搬送手段において、前記腕
が複数の弾性材料から成る弾性板で構成され、前記複数
の弾性板が各々前記ハンドの直進移動軌道に対して任意
の角度傾斜した姿勢で、前記駆動軸と前記ハンドと接続
した搬送手段を少なくとも一つ以上有した半導体製造装
置。
【請求項３】請求項１記載の搬送手段において、前記腕
が、少なくとも一つ以上の、所定の間隔で鉛直方向に配
置した短冊状の板と、前記短冊状の板と板の間に上下に
互いに接触しないように、所定の角度で交差する様に配
置した矩形の弾性材料からなる弾性板を固定した第１の
構成と、前記ハンドと前記構成の終端に置かれた前記短
冊状の板を鋏むように帯状の弾性板を少なくとも二つ以
上接続した第２の構成からなる搬送手段を少なくとも一
つ以上有した半導体製造装置。
【請求項４】請求項１記載の搬送手段において、前記ハ
ンドから前記駆動軸に向けて前記腕の曲げ強さが増加す
るように、前記腕を構成する第１の構成、第２の構成の
各々の弾性板の板幅、板厚及び前記短冊状の板の間隔、
前記短冊状の板の幅を任意に可変したことを特長とする
搬送手段を少なくとも一つ以上有した半導体製造装置。
【請求項５】請求項１記載の搬送手段において、前記駆
動軸の回転運動を、前記搬送室外に置かれた駆動源の出
力軸の一端の円周上に配された永久磁石と、前記永久磁
石と前記容器の薄い隔壁を挟んで対向する前記搬送室の
内側の位置に、前記永久磁石と磁気回路を形成するよう
に前記駆動軸の同芯円上に保持した第２の永久磁石で行
われる搬送手段を少なくとも一つ以上有した半導体製造
装置。
【請求項６】請求頁１記載の搬送手段において、前記
腕、前記ハンドから構成されるアーム部を複数対備え、
前記複数対のアーム部を同期して、または各々独立に駆
動させる駆動部を有した搬送手段を少なくとも一つ以上
有した半導体製造装置。
【請求項７】請求頁１記載の搬送手段において、前記弾
性アームまたは前記ハンドもしくはその両方が所望の温
度に加熱及び、または保持が可能なことを特長とする搬
送手段を少なくとも一つ以上有した半導体製造装置。
【請求項８】請求項１記載の搬送手段が、１.３×１０
^-8Ｐａ以下の真空領域で動作が可能であることを特長と
する搬送手段を少なくとも一つ以上有した半導体製造装
置。
【請求項９】請求項１記載の搬送手段が、前記永久磁石
のキューリー点以下の温度領域で動作が可能であること
を特長とする搬送手段を少なくとも一つ以上有した半導
体製造装置。
【請求項１０】請求項１搬送手段において、前記搬送手
段が、前記腕が取付けられている面の裏面に気密機能を
有するフランジの気密シール面積以内に保持されてお
り、前記搬送室上面に前記フランジを前記搬送室内部に
搬入、搬出可能な開口部を有し、前記搬送手段が前記搬
送室上面から前記開口部を介して前記搬送室内に固定、
離脱可能な搬送手段であることを特長とする搬送手段を
少なくとも一つ以上有した半導体製造装置。
【請求項１１】請求項１記載の搬送手段において、前記
腕の第２の構成の帯状の弾性板のそれぞれの板厚が異な
ることを特長とする搬送手段を少なくとも一つ以上有し
た半導体製造装置。
【請求項１２】請求項１記載の搬送手段において、前記
腕を構成する第２の構成の二つ以上の帯状の弾性板を、
互いに薄板を介して接続したことを特長とする搬送手段
を少なくとも一つ以上有した半導体製造装置。
【請求項１３】請求項１記載の搬送手段において、前記
腕の一部またはその全ての側面または両面に帯状の弾性
材を付加したことを特長とする搬送手段を少なくとも一
つ以上有した半導体製造装置。
【請求項１４】請求項１記載の搬送手段において、前記
回転アームに直接接続し、所定の間隔で鉛直方向に配置
した短冊状の板と、前記短冊状の板と板の間に上下に互
いに接触しないように所定の角度で交差する様に配置し
た矩形の弾性材料からなる弾性板と、前記短冊状の板と
板の間に配置した少なくとも一方の前記弾性板と立体ト
ラス形状となるように配置した弾性材料からなる別の弾
性板からなる第３の構成を少なくとも一つ以上と前記第
１の構成及び前記第２の構成からなる搬送手段を少なく
とも一つ以上有した半導体製造装置。
【請求項１５】請求項１記載の搬送手段において、前記
腕が剛体で形成されており、その一部またはその全ての
側面または両面に所定の深さ、所定のピッチで鉛直方向
に円弧状の切り欠きを設けていることを特長とする搬送
手段を少なくとも一つ以上有した半導体製造装置。
【請求項１６】請求項１記載の搬送手段が、前記各々の
駆動軸の一端に基板の直進方向に対して対称となるよう
に、一対の回転アームを保持し、前記弾性材料からなる
腕の一端が前記回転アームの一端と接続し、他端が前記
ハンドと接続した構成からなり、前記駆動軸を各々逆方
向に任意の角度を任意の速度で同期回転駆動し前記腕を
前記回転アームの回転軸周りに弾性変形させることで前
記ハンドを直進移動させる搬送手段であって、前記回転
アームが前記腕が弾性変形した際の最小曲率と同等の曲
率もしくはそれ以上の曲率または、弾性変形した前記腕
の曲率と同一またはその近似した曲率で所定の円弧長有
した回転アームであることを特長とする搬送手段を少な
くとも一つ以上有した半導体製造装置。
【請求項１７】請求項１記載の搬送手段において、前記
回転アームの全てもしくはその一部が弾性材料、また
は、その一部またはその全ての側面または両面に所定の
深さ、所定のピッチで鉛直方向に円弧状の切り欠きを設
けていることを特長とする搬送手段を少なくとも一つ以
上有した半導体製造装置。
【請求項１８】請求項１記載の搬送手段において、前記
ハンドのすべてもしくはその両側面もしくは一方の側面
のすべてもしくはその一部が磁性材料からなるハンドで
あり、前記駆動軸または前記回転アームに保持され、そ
の一端に磁石を保持した、前記回転アームに同期して回
転移動する第２の回転アームを少なくとも一つ以上有
し、前記第２の回転アームに保持した磁石が、前記回転
アームが回転し前記ハンドが前記腕の弾性変形によって
所定の退避位置に到達した際に、前記ハンドの磁性材と
に対向し磁気回路を形成する位置に回転移動することを
特長とする搬送手段を少なくとも一つ以上有した半導体
製造装置。
【請求項１９】請求項１８記載の搬送手段において、前
記ハンドの両側面もしくは一方の側面のすべてもしくは
その一部が磁石からなるハンドであり、前記駆動軸また
は前記回転アームに保持され、その一端に磁石を保持し
た前記回転アームに同期して回転移動する第２の回転ア
ームを少なくとも一つ以上有し、前記第２の回転アーム
に保持した磁石が、前記回転アームが回転し前記ハンド
が前記腕の弾性変形によって所定の退避位置に到達した
際に、前記ハンドの磁石と対向し磁気回路を形成する位
置に回転移動することを特長とする搬送手段を少なくと
も一つ以上有した半導体製造装置。
【請求項２０】請求項１８記載の搬送手段において、前
記駆動軸または前記回転アームに保持され、その一端に
回転自在なプーリもしくは弾性材からなるバネを備えた
前記回転アームに同期して回転移動する第２の回転アー
ムを少なくとも一つ以上有し、前記第２の回転アームに
保持したプーリもしくはバネが、前記回転アームが回転
し前記ハンドが前記腕の弾性変形によって所定の退避位
置に到達した際に、前記ハンドの一部と当接する位置に
回転移動することを特長とする搬送手段を少なくとも一
つ以上有した半導体製造装置。
【請求項２１】請求頁１記載の搬送手段において、前記
腕を構成する第１の構成の板バネが、Ｚ字型に一括でま
たは各々の構成毎に連続で折曲げて成る搬送手段を少な
くとも一つ以上有した半導体製造装置。
【請求項２２】請求項１記載の搬送手段において、前記
腕が一対の蛙足形状をなすように複数の腕が連結した搬
送手段であって、前記ハンドと前記蛙足形状をなす一方
の腕を、弾性変形する弾性板を介して接続することを特
長とする搬送手段を少なくとも一つ以上有した半導体製
造装置。
【請求項２３】請求項１記載の半導体製造装置におい
て、処理室として、所望のガスまたは励起した所望のガ
スを使用し、基板面に所望のパターンを形成する励起手
段を有することを特長とする半導体製造装置。
【請求項２４】請求項１記載の半導体製造装置におい
て、処理室として所望のガスの給排気により該処理室内
を洗浄制御を行なうガス洗浄手段を有することを特長と
する半導体製造装置。
【請求項２５】請求項２３及び請求項２４記載の所望の
ガスを構成する元素の少なくとも一つにハロゲン族、II
I族、Ｖ族、II族、IV族、VI族に属する元素、水素、酸
素、窒素を含むことを特長とする半導体製造装置。
【請求項２６】請求項１記載の半導体製造装置におい
て、処理室として常温以外の温度雰囲気にて前記基板の
処理を行なうことを特長とする半導体製造装置。
【請求項２７】請求項１記載の半導体製造装置におい
て、処理室として所望のパターンの自己成長処理を行な
う育成手段を有することを特長とする半導体製造装置。
【請求項２８】請求項１記載の半導体製造装置におい
て、処理室として所望のパターンの除去加工処理を行な
う除去加工手段を有することを特長とする半導体製造装
置。
【請求項２９】請求項１記載の半導体製造装置におい
て、処理室として所望のパターンの堆積加工処理を行な
う堆積加工手段を有することを特長とする半導体製造装
置。
【請求項３０】請求項１記載の半導体製造装置におい
て、処理室として所望の溶液を用いた湿式基板洗浄処理
室であることを特長とする半導体製造装置。
【請求項３１】請求項１記載の半導体製造装置におい
て、前記所望の溶液が、アンモニア過水、純粋、希フッ
酸、塩素過水、の少なくとも一つ以上使用した湿式基板
洗浄処理室であることを特長とする半導体製造装置。