JPH08329534A - Production of master disk for optical disk - Google Patents
Production of master disk for optical diskInfo
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- JPH08329534A JPH08329534A JP15842395A JP15842395A JPH08329534A JP H08329534 A JPH08329534 A JP H08329534A JP 15842395 A JP15842395 A JP 15842395A JP 15842395 A JP15842395 A JP 15842395A JP H08329534 A JPH08329534 A JP H08329534A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、ランド／グルーブ方式
の光ディスク基板の製造に使用される光ディスク用原盤
の製造方法に関し、さらに詳細には、高精度な溝幅を有
するランド／グルーブ方式の光ディスク用原盤の製造方
法及びそれに用いられる現像方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing an optical disk master used for manufacturing a land / groove type optical disk substrate, and more particularly to a land / groove type optical disk having a highly accurate groove width. TECHNICAL FIELD The present invention relates to a manufacturing method of a master disk and a developing method used therein.
【０００２】[0002]
【従来の技術】近年、コンパクトディスク（ＣＤ）や光
磁気ディスク等の光ディスクの開発が盛んに行われてい
る。光ディスク用の基板には、射出成形によりプレフォ
ーマットされたポリカーボネート基板等が用いられてい
る。かかる基板を製造するために、通常、光ディスク用
原盤が次のような工程に従って作製される。最初に光学
研磨を施したガラス基板を洗浄、乾燥し、基板面上にフ
ォトレジスト材料を均一に塗布した後、熱処理を施して
フォトレジスト膜を形成する。次に、フォトレジスト膜
の表面にレーザ光を照射して案内溝やピットが形成され
る部分を露光する。露光されたフォトレジスト膜をアル
カリ性現像液で現像して案内溝やピット形状を得る。最
後に、紫外線照射と高温熱処理を施してレジスト層を強
固に硬化させ、放冷して光ディスク原盤を得る。2. Description of the Related Art In recent years, optical discs such as compact discs (CDs) and magneto-optical discs have been actively developed. A polycarbonate substrate pre-formatted by injection molding or the like is used as a substrate for an optical disc. In order to manufacture such a substrate, an optical disk master is usually manufactured according to the following steps. First, a glass substrate that has been optically polished is washed and dried, and a photoresist material is uniformly applied to the substrate surface, and then heat treatment is performed to form a photoresist film. Next, the surface of the photoresist film is irradiated with laser light to expose the portion where the guide groove and the pit are formed. The exposed photoresist film is developed with an alkaline developer to obtain guide grooves and pit shapes. Finally, ultraviolet irradiation and high-temperature heat treatment are performed to harden the resist layer firmly and allow it to cool to obtain an optical disc master.
【０００３】上記現像工程において、通常、現像液が露
光部分を溶出して光ディスクの案内溝部分を形成する。
しかしながら、露光に使われるレーザ光はガウス分布曲
線に従う空間的強度分布を有するために、露光部分と未
露光部分との境界は必ずしも明確ではなく、現像時間が
長くなれば溶出される溝部の面積は徐々に増す。従っ
て、正確な溝幅の案内溝を得るには、レジストを現像液
に接触させる時間、すなわち現像時間を調整しなければ
ならなかった。特に、光ディスクでは、溝幅の誤差は記
録・再生信号のＣ／Ｎ比やトラッキングに影響を与える
ので高精度に溝を形成する必要がある。In the developing step, the developing solution usually elutes the exposed portion to form the guide groove portion of the optical disk.
However, since the laser beam used for exposure has a spatial intensity distribution that follows a Gaussian distribution curve, the boundary between the exposed portion and the unexposed portion is not always clear, and the area of the groove portion eluted when the developing time is long Gradually increase. Therefore, in order to obtain a guide groove having an accurate groove width, it was necessary to adjust the time for contacting the resist with the developing solution, that is, the developing time. Particularly, in an optical disc, the groove width error affects the C / N ratio of the recording / reproducing signal and the tracking, and therefore it is necessary to form the groove with high accuracy.
【０００４】従来、この溝幅を調整するために、レジス
トが形成された原盤を現像しながら、案内溝が形成され
る領域にレーザ光を照射してそこからの回折光強度をモ
ニターして、その強度が所定の強度に達したときに現像
を終了させていた。すなわち、案内溝が周期的に形成さ
れた基板は回折格子として作用するため、基板側から光
を照射して回折光強度から溝幅及び溝深さの変動を調整
していた。Conventionally, in order to adjust the groove width, while developing a master on which a resist is formed, a region where a guide groove is formed is irradiated with laser light and the intensity of diffracted light therefrom is monitored, The development was terminated when the strength reached a predetermined strength. That is, since the substrate in which the guide grooves are periodically formed acts as a diffraction grating, light is irradiated from the substrate side to adjust variations in the groove width and the groove depth from the intensity of the diffracted light.
【０００５】[0005]
【発明が解決しようとする課題】ところで、光磁気ディ
スクの分野では、クロストークを低下しつつ高密度記録
を達成するために、記録トラック領域を陸部と溝部とか
ら構成し、溝部の幅を溝ピッチ（トラックピッチ）の約
５０％にしたいわゆるランド／グルーブ方式が考案され
ている。このランド／グルーブ方式の光ディスク用の原
盤を製造する際、上記現像工程においては溝幅の目標値
が溝ピッチの約５０％となる。しかしながら、回折格子
においてスリット幅が格子定数の５０％近傍になると、
スリット幅に対する回折光強度の変化が最も小さくなる
ことが理論的にわかっている。このため、従来の回折光
強度をモニターして現像時間を調整する方法では、ラン
ド／グルーブ方式の光ディスク用原盤からの溝幅の変動
に対する回折光強度変化が小さすぎるために、溝幅の精
密な調整が困難である。In the field of magneto-optical disks, in order to achieve high density recording while reducing crosstalk, the recording track area is composed of a land portion and a groove portion, and the width of the groove portion is reduced. A so-called land / groove method has been devised in which the groove pitch (track pitch) is set to about 50%. When manufacturing the master for the land / groove type optical disk, the target value of the groove width is about 50% of the groove pitch in the developing step. However, when the slit width in the diffraction grating is close to 50% of the grating constant,
It is theoretically known that the change in the diffracted light intensity with respect to the slit width is the smallest. Therefore, in the conventional method of monitoring the diffracted light intensity and adjusting the development time, the change in the diffracted light intensity with respect to the fluctuation of the groove width from the master of the land / groove type optical disc is too small. Adjustment is difficult.
【０００６】本発明の目的は、高精度な溝幅を有する案
内溝が形成されたランド／グルーブ方式の光ディスク用
原盤の製造方法を提供することにある。An object of the present invention is to provide a method of manufacturing a land / groove type optical disc master in which a guide groove having a highly accurate groove width is formed.
【０００７】本発明の別の目的は、ランド／グルーブ方
式の光ディスク用原盤をフォトリソグラフィー技術によ
り製造する際に、溝幅を現像時間により精密に制御でき
る現像方法を提供することにある。Another object of the present invention is to provide a developing method capable of precisely controlling a groove width by a developing time when a land / groove type optical disk master is manufactured by a photolithography technique.
【０００８】[0008]
【課題を解決するための手段】本発明の第１の態様に従
えば、案内溝の溝幅が溝ピッチの約５０％であるランド
／グルーブ方式の光ディスク用原盤の製造方法であっ
て、基板上に感光膜を形成する工程と、感光膜の光ディ
スクのデータ記録領域に対応する領域を光照射して露光
するとともに、該データ記録領域に対応する領域とは異
なる領域の一部を、溝幅／溝ピッチ比が該データ記録領
域に対応する領域における溝幅／溝ピッチ比とは異なる
ように光照射して露光する工程と、上記感光膜が形成さ
れた基板を現像する工程を含み、上記現像工程の間に、
上記データ記録領域に対応する領域とは異なる上記領域
の一部に光照射して回折光の強度を観測することによっ
て現像時間を調節する上記ランド／グルーブ方式の光デ
ィスク用原盤の製造方法が提供される。According to a first aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a land / groove type optical disc master in which a groove width of a guide groove is about 50% of a groove pitch. The step of forming a photosensitive film on the upper surface and the area corresponding to the data recording area of the optical disk of the photosensitive film are irradiated with light to be exposed, and a part of the area different from the area corresponding to the data recording area is formed into a groove width. / Groove pitch ratio is different from the groove width / groove pitch ratio in the area corresponding to the data recording area, and light exposure is performed, and the step of developing the substrate on which the photosensitive film is formed is included. During the development process,
Provided is a method for manufacturing a land / groove type optical disc master in which a development time is adjusted by irradiating a part of the area different from the area corresponding to the data recording area and observing the intensity of diffracted light. It
【０００９】上記ランド／グルーブ方式の光ディスク用
原盤の製造方法において、予め作製した所望の溝幅を有
する光ディスク用の原盤モデルからの回折光強度を測定
し、該測定値と上記データ記録領域に対応する領域とは
異なる上記領域からの回折光の強度を比較することによ
って現像時間を調節するのが好ましい。データ記録領域
に対応する領域とは異なる領域の一部を、溝幅／溝ピッ
チ比がデータ記録領域に対応する領域の溝幅／溝ピッチ
比と異なる比、すなわち、溝幅が溝ピッチの約５０％と
は異なる割合になるように光照射する方法として、溝ピ
ッチをデータ記録領域における溝ピッチと異なる間隔に
変えて光照射することが好ましい。In the method of manufacturing a master for an optical disk of the land / groove system, the intensity of diffracted light from a master disk model for an optical disk having a desired groove width, which is prepared in advance, is measured, and the measured value and the data recording area are associated with each other. It is preferable to adjust the development time by comparing the intensities of the diffracted light from the above-mentioned areas different from the above-mentioned areas. A part of the area different from the area corresponding to the data recording area is set to have a groove width / groove pitch ratio different from the groove width / groove pitch ratio of the area corresponding to the data recording area, that is, the groove width is about the groove pitch. As a method of irradiating light so as to have a ratio different from 50%, it is preferable to change the groove pitch to an interval different from the groove pitch in the data recording area and perform light irradiation.
【００１０】上記ランド／グルーブ方式の光ディスク用
原盤の製造方法において、上記データ記録領域に対応す
る領域とは異なる領域の一部を、溝ピッチの約５０％未
満の溝幅を有する複数の溝部が形成されるように露光す
ることが好ましい。一層好ましくは、溝ピッチの約１０
〜４５％の溝幅を有する複数の溝部が形成されるように
露光することが好ましい。In the method of manufacturing the land / groove type optical disc master, a part of the area different from the area corresponding to the data recording area is provided with a plurality of groove portions having a groove width of less than about 50% of the groove pitch. It is preferably exposed as it is formed. More preferably, the groove pitch is about 10
It is preferable to expose so as to form a plurality of groove portions having a groove width of ˜45%.
【００１１】本発明の第２の態様に従えば、ランド／グ
ルーブ方式の光ディスク用原盤をフォトリソグラフィー
技術により製造する際の現像方法であって、予め、光デ
ィスクのデータ記録領域に対応する領域を溝ピッチの約
５０％の溝幅を有する案内溝が形成されるように光照射
により露光し且つデータ記録領域に対応する領域とは異
なる領域の一部を溝幅／溝ピッチ比がデータ記録領域に
対応する領域における溝幅／溝ピッチ比とは異なるよう
に光照射して露光する工程と、上記露光された感光膜を
有する基板を現像する工程とを含み、上記現像工程の間
に、上記データ記録領域に対応する領域とは異なる領域
の一部にレーザ光を照射して回折光の強度を観測し、観
測された回折光強度が予め作製した所望の溝幅を有する
光ディスク用の原盤モデルからの回折光強度と一致した
ときに現像操作を終了する上記現像方法が提供される。
データ記録領域に対応する領域とは異なる領域の一部
を、溝幅／溝ピッチ比がデータ記録領域に対応する領域
における溝幅／溝ピッチ比とは異なる比、すなわち、溝
幅が溝ピッチの約５０％とは異なる割合になるように光
照射する方法として、溝ピッチをデータ記録領域におけ
る溝ピッチと異なる間隔に変えて光照射することが好ま
しい。According to a second aspect of the present invention, there is provided a developing method for manufacturing a land / groove type optical disk master by a photolithography technique, wherein an area corresponding to a data recording area of the optical disk is previously grooved. A part of an area different from the area corresponding to the data recording area is exposed by light irradiation so that a guide groove having a groove width of about 50% of the pitch is formed, and the groove width / groove pitch ratio becomes the data recording area. And a step of developing the substrate having the exposed photosensitive film by irradiating with light so as to have a different groove width / groove pitch ratio in a corresponding region, and the step of developing the data during the developing step. A portion of a region different from the region corresponding to the recording region is irradiated with laser light to observe the intensity of the diffracted light, and the observed intensity of the diffracted light is a pre-produced original for an optical disc having a desired groove width. The developing method for terminating the development operation when a match with the diffracted light intensity from the model is provided.
A part of the area different from the area corresponding to the data recording area is set to have a groove width / groove pitch ratio different from the groove width / groove pitch ratio in the area corresponding to the data recording area, that is, the groove width is equal to the groove pitch. As a method of irradiating light so as to have a ratio different from about 50%, it is preferable to change the groove pitch to an interval different from the groove pitch in the data recording area and perform light irradiation.
【００１２】本明細書において光ディスクとは、コンパ
クトディスク（ＣＤ）、光磁気ディスク、相変化型光デ
ィスク等の再生専用、追記型及び書き換え型の全ての光
記録媒体を含む概念である。In the present specification, the optical disc is a concept including all read-only, write-once and rewritable optical recording media such as compact disc (CD), magneto-optical disc, phase change type optical disc and the like.
【００１３】[0013]
【作用】本発明のランド／グルーブ方式の光ディスク用
原盤の製造方法によると、原盤のデータ記録領域に対応
する領域とは異なる領域に、現像処理によって所望の案
内溝幅が得られるように現像終点を判断するためのモニ
ター用の露光領域を設ける。このモニター用の露光領域
には、現像後に溝ピッチの約５０％以外、例えば約２５
％の溝幅を有する溝が形成されるようにレーザ光が照射
される。ランドグルーブ方式の光磁気ディスクでは、溝
幅の目標値が溝ピッチのほぼ５０％であるために、光磁
気ディスク用原盤を回折格子とみた場合に、目標値近傍
ではスリット幅である溝幅の変化、すなわち現像時間に
対する回折光強度の変化は極めて小さい（図５参照）。
そこで、本発明では溝幅の変化（現像時間）に対する回
折光強度の変化が大きいモニター領域を露光段階で形成
した（図４参照）。According to the method of manufacturing a master for an optical disk of the land / groove system of the present invention, the development end point is provided so that a desired guide groove width can be obtained by the development process in an area different from the area corresponding to the data recording area of the master. An exposure area for monitoring is provided for determining In the exposure area for this monitor, after development, other than about 50% of the groove pitch, for example, about 25%.
The laser light is irradiated so as to form a groove having a groove width of%. In the land-groove type magneto-optical disk, the target value of the groove width is approximately 50% of the groove pitch. Therefore, when the master disk for the magneto-optical disk is regarded as a diffraction grating, the groove width of the groove width, which is the slit width, is close to the target value. The change, that is, the change in the diffracted light intensity with respect to the development time is extremely small (see FIG. 5).
Therefore, in the present invention, a monitor region in which the change in diffracted light intensity with respect to the change in groove width (development time) is large is formed in the exposure step (see FIG. 4).
【００１４】本発明のランド／グルーブ方式の光ディス
ク用原盤をフォトリソグラフィー技術により製造する際
の現像方法によると、予め作製した所望の溝幅を有する
モデル原盤からの回折光強度とモニター領域からの回折
光強度とを比較することによって現像終点を容易に且つ
正確に判断することができる。According to the developing method for manufacturing the land / groove type optical disk master according to the present invention by the photolithography technique, the diffracted light intensity from the model master having a desired groove width and the diffraction from the monitor area are produced in advance. The development end point can be easily and accurately determined by comparing with the light intensity.
【００１５】[0015]
【実施例】以下、本発明の実施例を図面を参照しながら
説明する。この実施例では、開口率（陸部：溝部比）が
５０％のランド／グルーブ方式の光磁気ディスク用原盤
を製造する。直径２００ｍｍ，厚さ１０ｍｍのガラス原
盤上にポジ型フォトレジスト（シップレイ社製ＡＺ１４
００）を約１４０ｎｍの厚さで塗布した。その後、べー
ク炉中で８０℃の温度で残留溶剤を蒸発させてフォトレ
ジスト膜を形成した。この原盤を音響光学変調器及び音
響光学偏向器を備えたレーザ書き込み装置に装着し、原
盤を回転させながら入力信号に基づいて変調及び偏向さ
れたレーザ光を照射して、光スポット案内溝とヘッダ信
号ピットを形成する部分を露光させた。ここでは、光ス
ポット案内溝の線幅は０．７５μｍ、トラックピッチは
１．５μｍを目標値とした（開口率５０％）。さらに、
図２に示したように、原盤１の光ディスクのデータ記録
領域となる領域１１の外側の領域（モニター領域）１２
に線幅が０．７５μｍ、トラックピッチが３．０μｍの
溝が約１０００本形成されるように露光した（開口率２
５％）。すなわち、前記光スポット案内溝が形成される
領域に対して１トラックおきに溝が形成されるような周
期で露光した。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. In this embodiment, a land / groove type master disk for magneto-optical disk having an aperture ratio (land portion: groove portion ratio) of 50% is manufactured. Positive photoresist (AZ14 manufactured by Shipley Co., Ltd.) on a glass master with a diameter of 200 mm and a thickness of 10 mm.
00) was applied in a thickness of about 140 nm. Then, the residual solvent was evaporated at a temperature of 80 ° C. in a baking oven to form a photoresist film. This master is mounted on a laser writing device equipped with an acousto-optic modulator and an acousto-optic deflector, and while rotating the master, a laser beam modulated and deflected based on an input signal is applied to the laser spot guide groove and header. The portion forming the signal pit was exposed. Here, the line width of the light spot guide groove was 0.75 μm, and the track pitch was 1.5 μm as target values (aperture ratio 50%). further,
As shown in FIG. 2, an area (monitor area) 12 outside the area 11 which is the data recording area of the optical disc of the master 1.
It was exposed so that about 1000 grooves having a line width of 0.75 μm and a track pitch of 3.0 μm were formed (aperture ratio 2
5%). That is, exposure was performed in a cycle such that grooves were formed every other track in the area where the light spot guide groove was formed.
【００１６】上記のようにして露光された原盤を、図３
に示す回折光センサー付き現像装置１０に装着して現像
処理を行った。この現像装置１０において、原盤１をス
ピンドル５で６００回転／分の回転速度で回転させなが
ら、原盤の上方に装着されたノズル７からアルカリ現像
液８のシャワーを５０ｍｌ／秒の流量で原盤１の表面に
注ぐ。このとき、原盤のモニター領域１２の下方からレ
ーザ光源３（λ＝６８０ｎｍ）でレーザ光を照射して、
モニター領域１２を透過した０次光をモニター領域１２
の真上に設置したセンサー４で検出するとともに、１次
回折光をモニター領域１２の斜め上方に設置したセンサ
ー４’で検出した。The original master exposed as described above is shown in FIG.
It was mounted on the developing device with a diffractive light sensor 10 shown in FIG. In this developing device 10, while rotating the master 1 with a spindle 5 at a rotation speed of 600 rpm, a shower of the alkaline developer 8 is supplied from a nozzle 7 mounted above the master at a flow rate of 50 ml / sec to the master 1. Pour on the surface. At this time, laser light is emitted from the laser light source 3 (λ = 680 nm) from below the monitor area 12 of the master,
The 0th-order light transmitted through the monitor area 12
The sensor 4 installed directly above the sensor 1 detects the first-order diffracted light with the sensor 4 ′ installed diagonally above the monitor region 12.
【００１７】図４に現像時間すなわち、アルカリ現像液
を注いだ時間に対する回折光強度の変化を示す。図中、
目標値は予め作製した目標とする溝幅及び溝深さを有す
る原盤のモデルからの回折光強度である。このモデル原
盤は、この実施例と同一の材料及び寸法で作製されてお
り、原盤上に開口率５０％の溝と２５％の溝が別の領域
に形成されている。従って、モデルからの回折光強度と
同一の回折光強度が得られたときに現像処理を終了する
ことによりモデル原盤と同一の溝幅の案内溝が得られ
る。図３より、現像時間に対して回折光強度は回折光の
目標値付近では充分な変化率を有しており、現像時間、
すなわち溝幅を回折光強度により高精度に調節すること
ができることがわかる。また、現像時に、レーザ光をモ
ニター領域１２ではなく、光ディスクのデータ記録領域
に対応する領域に照射して回折光強度変化を測定した結
果を図５に示す。原盤表面を回折格子としてみた場合、
データ記録領域では開口率が５０％となるように設計さ
れているため、回折光強度変化は目標値付近で変化が小
さくなり、目標とする溝幅への精密な制御は困難である
ことがわかる。FIG. 4 shows the change in the diffracted light intensity with respect to the developing time, that is, the time when the alkali developing solution is poured. In the figure,
The target value is the intensity of diffracted light from a model of a master having a target groove width and groove depth that is prepared in advance. This model master is made of the same material and dimensions as in this embodiment, and a groove having an aperture ratio of 50% and a groove having a hole ratio of 25% are formed in different regions on the master. Therefore, when the intensity of the diffracted light that is the same as the intensity of the diffracted light from the model is obtained, the guide groove having the same groove width as that of the model master can be obtained by ending the developing process. From FIG. 3, the diffracted light intensity has a sufficient rate of change near the target value of the diffracted light with respect to the developing time.
That is, it is understood that the groove width can be adjusted with high accuracy by the diffracted light intensity. Further, FIG. 5 shows the result of measuring the change in the diffracted light intensity by irradiating not the monitor area 12 but the area corresponding to the data recording area of the optical disc during development. If you see the master surface as a diffraction grating,
Since the aperture ratio is designed to be 50% in the data recording area, the change in the diffracted light intensity is small near the target value, and it is difficult to precisely control the target groove width. .
【００１８】現像処理が終了した後、紫外線を原盤全面
に照射して未反応のフォトレジストを反応させた後、１
２０℃のべーク炉中で１時間加熱してレジストを強固に
硬化させた。得られた原盤のデータ記録領域に対応する
部分の拡大斜視図を図１に示す。所望とする溝幅０．７
５μｍ及びトラックピッチ１．５μｍを有する原盤が得
られた。After the development process is completed, the whole surface of the master is irradiated with ultraviolet rays to react the unreacted photoresist, and then 1
The resist was hardened by heating in a baking oven at 20 ° C. for 1 hour. FIG. 1 shows an enlarged perspective view of a portion corresponding to the data recording area of the obtained master. Desired groove width 0.7
A master having 5 μm and a track pitch of 1.5 μm was obtained.
【００１９】この実施例では案内溝を１トラックおきに
形成したモニター領域を設けたが、本発明はこれに限定
されるものでなく、例えば１トラック中に案内溝を形成
しない領域を作ることもできる。開口率も２５％に限ら
ず、５０％未満または５０％を超える開口率であって且
つ溝幅の変化に対する回折強度変化が比較的大きくなる
開口率を選択し得る。また、モニター領域１２は、光磁
気ディスクのデータ記録領域の外側の領域のみならず、
図２に示したように、データ記録領域の内側の領域１３
に作製してもよい。この場合、スピンドル５を照射光が
透過できるようにスピンドル５の材料または構造を変更
できる。また、上記実施例においてはトラックピッチ
（溝ピッチ）を変更することによってトラックピッチに
対する溝幅を調節したが、溝幅を変更することによって
も調節可能である。In this embodiment, the monitor area having the guide groove formed every other track is provided. However, the present invention is not limited to this, and for example, an area in which the guide groove is not formed may be formed in one track. it can. The aperture ratio is not limited to 25%, and an aperture ratio which is less than 50% or more than 50% and in which the diffraction intensity change relative to the groove width change is relatively large can be selected. Further, the monitor area 12 is not limited to the area outside the data recording area of the magneto-optical disk,
As shown in FIG. 2, the area 13 inside the data recording area
You may produce it. In this case, the material or structure of the spindle 5 can be changed so that the irradiation light can be transmitted through the spindle 5. Further, in the above embodiment, the groove width with respect to the track pitch is adjusted by changing the track pitch (groove pitch), but it can also be adjusted by changing the groove width.
【００２０】[0020]
【発明の効果】本発明のランド／グルーブ方式の光ディ
スク用原盤の製造方法によれば、高精度な溝幅を有する
案内溝が形成されたランド／グルーブ方式の光ディスク
用原盤を得ることができる。本発明のランド／グルーブ
方式の光ディスク用原盤をフォトリソグラフィー技術に
より製造する際の現像方法によれば、案内溝幅を現像時
間を使って容易且つ精密に制御できる。According to the method for manufacturing a land / groove type optical disc master of the present invention, it is possible to obtain a land / groove type optical disc master in which guide grooves having a highly accurate groove width are formed. According to the developing method for manufacturing the land / groove type optical disc master of the present invention by the photolithography technique, the guide groove width can be easily and precisely controlled by using the developing time.
【図１】実施例により得られた光磁気ディスク用原盤の
データ記録領域に対応する部分の拡大斜視図である。FIG. 1 is an enlarged perspective view of a portion corresponding to a data recording area of a master for a magneto-optical disk obtained in an example.
【図２】実施例により得られた光磁気ディスク用原盤の
平面図である。FIG. 2 is a plan view of a master disk for a magneto-optical disk obtained in an example.
【図３】光ディスク用原盤の現像装置を用いた現像処理
の様子を示す概念図である。FIG. 3 is a conceptual diagram showing a state of development processing using a developing device for an optical disk master.
【図４】実施例の現像工程において、モニター領域から
の回折光強度と現像時間との関係を示すグラフである。FIG. 4 is a graph showing the relationship between the diffracted light intensity from the monitor area and the developing time in the developing process of the example.
【図５】実施例の現像工程において、データ記録領域に
対応する領域からの回折光強度と現像時間との関係を示
すグラフである。FIG. 5 is a graph showing the relationship between the diffracted light intensity from the area corresponding to the data recording area and the developing time in the developing process of the example.
１ ガラス基板 ２ フォトレジスト ３ レーザ光源 ４ センサー ５ スピンドル ７ ノズル ８ アルカリ性現像液 １０ 現像装置 １１ データ記録領域 １２ モニター領域 １３ モニター領域 1 Glass Substrate 2 Photoresist 3 Laser Light Source 4 Sensor 5 Spindle 7 Nozzle 8 Alkaline Developer 10 Developing Device 11 Data Recording Area 12 Monitor Area 13 Monitor Area
Claims (7)
るランド／グルーブ方式の光ディスク用原盤の製造方法
であって、 基板上に感光膜を形成する工程と、 感光膜の光ディスクのデータ記録領域に対応する領域を
光照射により露光するとともに、該データ記録領域に対
応する領域とは異なる領域の一部を、溝幅／溝ピッチ比
が該データ記録領域に対応する領域における溝幅／溝ピ
ッチ比とは異なるように光照射して露光する工程と、 上記感光膜が形成された基板を現像する工程を含み、 上記現像工程の間に、上記データ記録領域に対応する領
域とは異なる上記領域の一部に光照射して回折光の強度
を観測することによって現像時間を調節する上記ランド
／グルーブ方式の光ディスク用原盤の製造方法。1. A method of manufacturing a land / groove type optical disc master in which the groove width of the guide groove is about 50% of the groove pitch, the method comprising: forming a photosensitive film on a substrate; The area corresponding to the data recording area is exposed by light irradiation, and a part of the area different from the area corresponding to the data recording area is formed in the groove width / groove pitch ratio in the area corresponding to the data recording area. A step of irradiating with light so as to be different from the groove / groove pitch ratio, and a step of developing the substrate on which the photosensitive film is formed. During the developing step, the area corresponding to the data recording area is The method for manufacturing an optical disk master of the land / groove system, wherein the developing time is adjusted by irradiating a part of the different area with light and observing the intensity of the diffracted light.
スク用原盤モデルからの回折光強度を測定し、該測定値
と上記データ記録領域に対応する領域とは異なる上記領
域からの回折光強度を比較することによって現像時間を
調節することを特徴とする請求項１の光ディスク用原盤
の製造方法。2. The diffracted light intensity from a prefabricated optical disc master model having a desired groove width is measured, and the diffracted light intensity from the area different from the measured value and the area corresponding to the data recording area is measured. The method of manufacturing an optical disk master according to claim 1, wherein the developing time is adjusted by comparing.
異なる領域の一部を露光する際に、溝ピッチがデータ記
録領域における溝ピッチとは異なる間隔になるように光
照射することによって露光する請求項１または２の光デ
ィスク用原盤の製造方法。3. When exposing a part of an area different from the area corresponding to the data recording area, light exposure is performed so that the groove pitch is different from the groove pitch in the data recording area. A method for manufacturing an optical disc master according to claim 1 or 2.
異なる上記領域の一部を、溝ピッチの約５０％未満の溝
幅を有する溝部が形成されるように露光することを特徴
とする請求項１〜３のいずれか一項の光ディスク用原盤
の製造方法。4. A part of the area different from the area corresponding to the data recording area is exposed to form a groove portion having a groove width of less than about 50% of the groove pitch. Item 4. A method for manufacturing an optical disc master according to any one of Items 1 to 3.
異なる上記領域の一部を、溝ピッチの約１０〜４５％の
溝幅を有する溝部が形成されるように露光することを特
徴とする請求項１〜４のいずれか一項の光ディスク用原
盤の製造方法。5. A part of the area different from the area corresponding to the data recording area is exposed so that a groove portion having a groove width of about 10 to 45% of the groove pitch is formed. A method for manufacturing an optical disc master according to claim 1.
盤をフォトリソグラフィー技術により製造する際の現像
方法であって、 予め、光ディスクのデータ記録領域に対応する領域を溝
ピッチの約５０％の溝幅を有する案内溝が形成されるよ
うに光照射して露光し且つ該データ記録領域に対応する
領域とは異なる領域の一部を、溝幅／溝ピッチ比が該デ
ータ記録領域に対応する領域における溝幅／溝ピッチ比
とは異なるように光照射して露光する工程と、 上記露光された感光膜を有する基板を現像する工程とを
含み、 上記現像工程の間に、上記データ記録領域に対応する領
域とは異なる上記領域の一部に光照射して回折光の強度
を観測し、観測された回折光強度が予め作製した所望の
溝幅を有する光ディスク用の原盤モデルからの回折光強
度と一致したときに現像操作を終了する上記現像方法。6. A development method for manufacturing a land / groove type optical disc master by a photolithography technique, wherein a region corresponding to a data recording region of the optical disc is previously provided with a groove width of about 50% of a groove pitch. A part of an area different from the area corresponding to the data recording area is exposed by light irradiation so as to form a guide groove, and the groove in the area corresponding to the data recording area has a groove width / groove pitch ratio. The method includes the steps of irradiating with light so as to have a different width / groove pitch ratio, and developing the substrate having the exposed photosensitive film, and corresponding to the data recording area during the developing step. Observe the intensity of the diffracted light by irradiating a part of the above-mentioned region different from the region, and the diffracted light intensity from the master disc model for the optical disc having the desired groove width in which the observed diffracted light intensity is produced The above-mentioned developing method in which the developing operation is terminated when the two coincide.
異なる領域の一部を露光する際に、溝ピッチがデータ記
録領域における溝ピッチとは異なる間隔になるように光
照射することによって露光する請求項６の現像方法。7. When exposing a part of an area different from the area corresponding to the data recording area, light irradiation is performed so that the groove pitch is different from the groove pitch in the data recording area. The developing method according to claim 6.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15842395A JPH08329534A (en) | 1995-06-01 | 1995-06-01 | Production of master disk for optical disk |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15842395A JPH08329534A (en) | 1995-06-01 | 1995-06-01 | Production of master disk for optical disk |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08329534A true JPH08329534A (en) | 1996-12-13 |
Family
ID=15671442
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15842395A Withdrawn JPH08329534A (en) | 1995-06-01 | 1995-06-01 | Production of master disk for optical disk |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08329534A (en) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001029502A1 (en) * | 1999-10-20 | 2001-04-26 | Steag Eta-Optik Gmbh | Method for determining geometric structures on or in a substrate as well as material parameters |
| US7648671B2 (en) | 2002-11-20 | 2010-01-19 | Sony Corporation | Method of making master for manufacturing optical disc and method of manufacturing optical disc |
| US20100136468A1 (en) * | 2007-03-02 | 2010-06-03 | Josephus Marinus Wijn | Diffraction order measurement |
| US8119043B2 (en) | 2003-01-09 | 2012-02-21 | Sony Corporation | Method of making master for manufacturing optical disc and method of manufacturing optical disc |
-
1995
- 1995-06-01 JP JP15842395A patent/JPH08329534A/en not_active Withdrawn
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001029502A1 (en) * | 1999-10-20 | 2001-04-26 | Steag Eta-Optik Gmbh | Method for determining geometric structures on or in a substrate as well as material parameters |
| US7648671B2 (en) | 2002-11-20 | 2010-01-19 | Sony Corporation | Method of making master for manufacturing optical disc and method of manufacturing optical disc |
| US8119043B2 (en) | 2003-01-09 | 2012-02-21 | Sony Corporation | Method of making master for manufacturing optical disc and method of manufacturing optical disc |
| US20100136468A1 (en) * | 2007-03-02 | 2010-06-03 | Josephus Marinus Wijn | Diffraction order measurement |
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