JPH08327996A - Production of liquid crystal display device - Google Patents
Production of liquid crystal display deviceInfo
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- JPH08327996A JPH08327996A JP13224795A JP13224795A JPH08327996A JP H08327996 A JPH08327996 A JP H08327996A JP 13224795 A JP13224795 A JP 13224795A JP 13224795 A JP13224795 A JP 13224795A JP H08327996 A JPH08327996 A JP H08327996A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は液晶表示装置の製造方法
にかかり、特に一対の基板の一方に有機材料のブラック
マトリクスを用いたカラーフィルタと第１の透明電極と
を有し、他方の基板に第２の透明電極を有し、両基板間
に液晶層を封止してなる液晶表示装置の製造方法に関す
る。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a liquid crystal display device, and in particular, it has a color filter using a black matrix of an organic material and a first transparent electrode on one of a pair of substrates, and the other substrate. The present invention relates to a method for manufacturing a liquid crystal display device having a second transparent electrode and sealing a liquid crystal layer between both substrates.
【０００２】[0002]
【従来の技術】パソコンやワープロ、その他の情報機器
の表示手段として、薄型，軽量かつ低消費電力の大容量
表示が可能な液晶表示装置が広く用いられるようになっ
ている。2. Description of the Related Art A liquid crystal display device, which is thin, lightweight, and has low power consumption and is capable of large-capacity display, has been widely used as a display means for personal computers, word processors, and other information devices.
【０００３】液晶表示装置は、少なくとも一対の基板に
一方に形成した第１の電極と他方の基板に形成した第２
の電極とで形成されるマトリクスと、上記両電極間に挟
持させた液晶組成層（以下、単に液晶層または液晶とも
言う）を有し、両電極の交差部分で画素を構成して２次
元画像を表示するものである。A liquid crystal display device includes a first electrode formed on at least one pair of substrates and a second electrode formed on the other substrate.
And a liquid crystal composition layer (hereinafter also simply referred to as a liquid crystal layer) sandwiched between both electrodes, and a pixel is formed at the intersection of both electrodes to form a two-dimensional image. Is displayed.
【０００４】この種の液晶表示装置には、水平と垂直の
電極に印加するパルスのタイミングで所定の画素を選択
する所謂単純マトリクス方式と、各画像に薄膜トランジ
スタ（ＴＦＴ）等の非線型素子（スイッチング素子）を
配置して所定の非線型素子を選択することにより所定の
画素を点灯させる所謂アクティブ・マトリクス方式とが
ある。In this type of liquid crystal display device, a so-called simple matrix system in which predetermined pixels are selected at timings of pulses applied to horizontal and vertical electrodes, and a non-linear element (switching) such as a thin film transistor (TFT) for each image. There is a so-called active matrix system in which predetermined pixels are lit by arranging elements) and selecting predetermined non-linear elements.
【０００５】そして、これをカラー表示を可能とするた
めに、上記一方の基板に複数色（一般には、赤、緑、青
の３原色）のカラーフィルタを１組とした多数のカラー
画素を具備させる。In order to enable color display, a large number of color pixels each having a set of color filters of a plurality of colors (generally, three primary colors of red, green and blue) are provided on the one substrate. Let
【０００６】このカラーフィルタを具備した側の基板を
カラーフィルタ基板とも称し、上記ブラックマトリクス
は個々のカラーフィルタ間の遮光効果を与えることで表
示画像の鮮明度を向上させる作用を持つ。従来、このブ
ラックマトリクスは金属クロム（Ｃｒ）等の無機材料を
用いたものが主流であったが、反射率が大きく表示品質
を高くできないという問題があり、また製造コストの低
減の要請があり、有機材料を用いた所謂有機ブラックマ
トリクス（有機ＢＭ）が採用される傾向にある。The substrate provided with this color filter is also referred to as a color filter substrate, and the black matrix has a function of improving the sharpness of a display image by providing a light shielding effect between the individual color filters. Conventionally, this black matrix has been mainly made of an inorganic material such as metal chromium (Cr), but there is a problem that the reflectance is large and the display quality cannot be improved, and there is a demand for reducing the manufacturing cost. A so-called organic black matrix (organic BM) using an organic material tends to be adopted.
【０００７】有機ＢＭの形成方法としては従来、大別し
て下記（１）（２）の２つの方法が知られている。Conventionally, the following two methods (1) and (2) are known as the methods for forming the organic BM.
【０００８】（１）有機ブラックマトリクス材料のレジ
ストをスピンコート等の方法で基板の全面に塗布してレ
ジスト薄層を形成し、その上に感光性レジスト（フォト
レジスト）を塗布して既知のフォトリソグラフィー技術
でパターニングした後、上記フォトレジストを除去し、
ベーキング処理等で硬化することによりブラックマトリ
クスを得る。(1) A resist of an organic black matrix material is applied to the entire surface of the substrate by a method such as spin coating to form a thin resist layer, and a photosensitive resist (photoresist) is applied thereon to form a known photo resist. After patterning with lithography technology, the photoresist is removed,
A black matrix is obtained by curing with a baking treatment or the like.
【０００９】（２）有機ブラックマトリクス材料に感光
性を持たせ、これを基板に塗布しフォトリソグラフィー
技術でパターニングした後、ベーキング処理等で硬化す
ることによりブラックマトリクスを得る。(2) An organic black matrix material is made to have photosensitivity, and this is coated on a substrate, patterned by a photolithography technique, and then cured by baking or the like to obtain a black matrix.
【００１０】図９は上記従来技術によるブラックマトリ
クスの製造方法の概略を説明する製造工程図である。FIG. 9 is a manufacturing process diagram for explaining an outline of a method for manufacturing a black matrix according to the above-mentioned conventional technique.
【００１１】同図において、まず、（ａ）基板に感光性
の有機材料からなるブラックマトリクス材料のレジスト
薄層を塗布する。In FIG. 1, first, (a) a substrate is coated with a thin resist layer of a black matrix material made of a photosensitive organic material.
【００１２】（ｂ）このレジスト薄層をフォトマスクを
介して露光し、（ｃ）現像して非露光部分のレジスト薄
層を除去した後、（ｄ）ベーキング等の加熱処理でブラ
ックマトリクスを硬化する。(B) This resist thin layer is exposed through a photomask, (c) developed to remove the resist thin layer in the unexposed portion, and (d) the black matrix is cured by heat treatment such as baking. To do.
【００１３】（ｅ）こうして得たブラックマトリクス形
成基板に既知のフォトリソグラフィー技術で所要の化フ
ィルタを形成し、さらに第１の透明電極や配向膜等を成
膜し、第２の電極や配向膜を形成した第２の基板と重ね
合わせ、両基板間に液晶層を封止して液晶表示装置を組
み立てる。(E) The black matrix forming substrate thus obtained is formed with a required filter by a known photolithography technique, and then a first transparent electrode, an alignment film and the like are formed, and a second electrode and an alignment film are formed. The second substrate on which is formed is overlapped, and a liquid crystal layer is sealed between both substrates to assemble a liquid crystal display device.
【００１４】上記（１）（２）のうち、工程数が少ない
ことや設備が簡略であることで（２）の方法が広く採用
されている。Among the above (1) and (2), the method (2) is widely adopted due to the small number of steps and the simple equipment.
【００１５】なお、この種の液晶表示装置に関する従来
技術を開示したものとしては、特開平３−１１８５１８
号公報、特開平３−９４２３０号公報を挙げることがで
きる。As a disclosure of the prior art relating to this type of liquid crystal display device, Japanese Patent Application Laid-Open No. 3-118518.
Japanese Patent Laid-Open Publication No. 3-94230.
【００１６】[0016]
【発明が解決しようとする課題】有機ブラックマトリク
スの形成においては、ブラックマトリクスの基本的な特
性である遮光性を維持させるために、基板上の塗布厚は
２μｍ程度は必要であること、また、材料自体に遮光性
があるために露光時に材料による露光光の吸収があって
解像度が劣化し、微小パターンの高精細度作成が困難で
あるという問題がある。In the formation of the organic black matrix, the coating thickness on the substrate needs to be about 2 μm in order to maintain the light-shielding property which is a basic characteristic of the black matrix. Since the material itself has a light-shielding property, the exposure light is absorbed by the material at the time of exposure and the resolution deteriorates, which makes it difficult to create a fine pattern with high definition.
【００１７】また、フォトリソグラフィー技術によるパ
ターニング後のブラックマトリクスのエッジはテーパー
形状になり、エッジがぼけて見えるという問題もある。There is also a problem that the edges of the black matrix after patterning by the photolithography technique are tapered and the edges appear blurred.
【００１８】さらに、近年、液晶表示装置のコストダウ
ンを目的として、原板ガラス（マザーガラス）を大型化
し、所謂多面取りを採用する傾向にある。ガラスサイズ
が大型化すると、基板上に形成する上記ブラックマトリ
クスを始め、複数の化フィルタの形成、および他方側の
基板との位置合わせのために設ける製造用パターン（ア
ライメントマークのパターン）にも高精度が要求され
る。Further, in recent years, there has been a tendency to increase the size of the original glass (mother glass) and adopt so-called multiple chamfering in order to reduce the cost of the liquid crystal display device. As the glass size increases, the manufacturing process (alignment mark pattern) provided for the formation of multiple conversion filters and alignment with the other substrate, including the black matrix formed on the substrate, becomes higher. Precision is required.
【００１９】アライメントマークはブラックマトリクス
の形成と同時に形成されるが、そのアライメントマーク
には金属クロムを用いたブラックマトリクスの形成並み
の精度が必要である。The alignment mark is formed at the same time as the formation of the black matrix, but the alignment mark must be as accurate as the formation of the black matrix using metallic chromium.
【００２０】しかし、有機材料を用いたブラックマトリ
クスの形成工程でアライメントマークを無機材料を用い
た場合と同等の精度で形成することは不可能である。However, it is impossible to form the alignment mark with the same accuracy as in the case of using the inorganic material in the step of forming the black matrix using the organic material.
【００２１】本発明の目的は、上記従来技術の諸問題を
解消し、有機材料を用いたブラックマトリクス用薄層に
高精度のアライメントマークのパターンを形成して高品
質の画像表示を可能とした液晶表示装置の製造方法を提
供することにある。An object of the present invention is to solve the above-mentioned problems of the prior art and to form a highly accurate alignment mark pattern on a thin layer for a black matrix using an organic material to enable high quality image display. It is to provide a method for manufacturing a liquid crystal display device.
【００２２】[0022]
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明は、基板の上に成膜した有機ブラックマトリ
クス用の薄層にフォトリソグラフィー技術でブラックマ
トリクスのパターンを形成する前工程として、アライメ
ントマークのみをエキシマレーザー等の高エネルギーの
レーザー加工で微細加工することを特徴とする。In order to achieve the above object, the present invention provides a method for forming a black matrix pattern on a thin layer for an organic black matrix formed on a substrate by a photolithography technique as a pre-process. The feature is that only the alignment mark is finely processed by high energy laser processing such as an excimer laser.
【００２３】すなわち、請求項１に記載の第１の発明
は、ブラックマトリクスで区画された複数のカラーフィ
ルタと前記カラーフィルタ上に形成した第１の透明電極
とを少なくとも有する第１の基板と、前記第１の透明電
極と対をなして画素を構成する第２の透明電極を有する
第２の基板と、前記第１の基板と第２の基板の間に液晶
層を封止してなる液晶表示装置の製造方法において、前
記第１の基板に形成した吸光物質を混入した有機材料を
主体としたネガ型の感光性レジストの薄層にレーザー加
工で製造用の位置設定手段であるアライメントマークを
形成することを特徴とする。That is, the first invention according to claim 1 is a first substrate having at least a plurality of color filters partitioned by a black matrix and a first transparent electrode formed on the color filters, A second substrate having a second transparent electrode forming a pixel in pairs with the first transparent electrode, and a liquid crystal obtained by sealing a liquid crystal layer between the first substrate and the second substrate. In the method for manufacturing a display device, an alignment mark, which is a position setting means for manufacturing, is formed on a thin layer of a negative photosensitive resist mainly composed of an organic material mixed with a light absorbing material formed on the first substrate by laser processing. It is characterized by forming.
【００２４】また、請求項２に記載の第２の発明は、上
記第１の発明において、前記第１の基板に、吸光物質を
混入した有機材料を主体としたネガ型の感光性レジスト
の薄層を形成するレジスト塗布工程と、前記第１の基板
の有効領域外の所定部分の前記感光性レジスト薄層をレ
ーザー加工によりアライメントマーク部分を残して除去
加工するアライメントマーク加工工程と、前記アライメ
ント加工を施した第１の基板の感光性レジスト薄層をブ
ラックマトリクスパターンおよび前記アライメントマー
ク部分とに対応する開口を有する露光マスクを用いて露
光するブラックマトリクス露光工程と、露光後の前記第
１の基板の感光性レジストを現像して前記アライメント
マークおよびブラックマトリクスを形成する現像工程
と、前記アライメントマークおよびブラックマトリクス
を形成した前記第１の基板をベーキングして前記アライ
メントマークおよびブラックマトリクスを硬化する硬化
工程と、前記第１の基板に前記ブラックマトリクスで区
画された複数のカラーフィルタを形成するカラーフィル
タ形成工程とを少なくとも含むことを特徴とする。A second aspect of the present invention is the same as the first aspect of the present invention, wherein the first substrate is a thin negative photosensitive resist mainly made of an organic material mixed with a light absorbing substance. A resist coating step of forming a layer, an alignment mark processing step of removing a predetermined portion of the photosensitive resist thin layer outside the effective region of the first substrate by laser processing while leaving an alignment mark portion, and the alignment processing And a black matrix exposure step of exposing the photosensitive resist thin layer of the first substrate using an exposure mask having openings corresponding to the black matrix pattern and the alignment mark portion, and the first substrate after exposure. Developing the photosensitive resist to form the alignment mark and the black matrix, and the alignment step. A curing step of curing the alignment mark and the black matrix by baking the first substrate on which the mark and the black matrix are formed, and a color forming a plurality of color filters partitioned by the black matrix on the first substrate. And a filter forming step.
【００２５】さらに、請求項３に記載の第３の発明は、
上記第１の発明において、前記第１の基板に、吸光物質
を混入した有機材料を主体としたレジストの薄層を形成
する工程と、前記第１の基板の有効領域外の所定部分の
前記レジスト薄層をレーザー加工によりアライメントマ
ーク部分を残して除去加工するアライメントマーク加工
工程と、前記アライメントマーク加工を施した第１の基
板の前記ブラックマトリクス用薄層を覆ってネガ型の感
光性レジストを塗布する感光性レジスト塗布工程と、前
記感光性レジストをブラックマトリクスパターンと前記
アライメントマークに対応する開口を有する露光マスク
を用いて露光するブラックマトリクス露光工程と、露光
後の前記第１の基板の感光性レジストを現像して前記ア
ライメントマークおよびブラックマトリクス部分に感光
性レジストを残存させる現像工程と、前記現像後の第１
の基板をベーキングして前記残存した感光性レジストを
除去すると共に前記アライメントマークおよびブラック
マトリクスを硬化する硬化工程と、前記第１の基板に前
記ブラックマトリクスで区画された複数のカラーフィル
タを形成するカラーフィルタ形成工程とを少なくとも含
むことを特徴とする。Further, the third invention according to claim 3 is
In the above-mentioned first invention, a step of forming a thin layer of a resist mainly composed of an organic material mixed with a light-absorbing substance on the first substrate, and a predetermined portion of the resist outside the effective region of the first substrate. An alignment mark processing step of removing a thin layer by laser processing leaving an alignment mark portion, and a negative photosensitive resist is applied to cover the black matrix thin layer of the first substrate on which the alignment mark processing has been performed. A photosensitive resist coating step, a black matrix exposure step of exposing the photosensitive resist using an exposure mask having openings corresponding to the black matrix pattern and the alignment marks, and the photosensitivity of the first substrate after exposure. The resist is developed and the photosensitive resist remains on the alignment mark and the black matrix part. A developing step of, first after the development
A step of baking the substrate to remove the remaining photosensitive resist and curing the alignment mark and the black matrix; and a color for forming a plurality of color filters partitioned by the black matrix on the first substrate. And a filter forming step.
【００２６】なお、上記拡散板発明において、フォトリ
ソグラフィー処理にネガ型の感光性レジストを用いるも
のとしたが、本発明はこれに限るものではなく、ポジ型
の感光性レジストと共に、上記と反対の開口パターンを
持つ露光マスクを用いることも可能である。In the invention of the diffusion plate described above, the negative type photosensitive resist is used for the photolithography process, but the present invention is not limited to this, and the negative type photosensitive resist is used together with the opposite of the above. It is also possible to use an exposure mask having an opening pattern.
【００２７】[0027]
【作用】上記第１の発明の構成において、前記第１の基
板に形成した吸光物質を混入した有機材料を主体とした
ネガ型の感光性レジストの薄層をレーザー加工で製造用
の位置設定手段であるアライメントマークを形成するこ
とにより、有機材料の薄層に高精度で上記アライメント
マークが得られる。In the structure of the first invention, the position setting means for manufacturing the thin layer of the negative type photosensitive resist mainly made of the organic material mixed with the light absorbing substance formed on the first substrate by laser processing. By forming the alignment mark, the alignment mark can be obtained with high accuracy in a thin layer of an organic material.
【００２８】また、上記第２の発明の構成において、レ
ジスト塗布工程では、前記第１の基板に吸光物質を混入
した有機材料を主体としたネガ型の感光性レジストの薄
層を形成する。In the structure of the second aspect of the invention, in the resist coating step, a thin layer of a negative photosensitive resist mainly composed of an organic material mixed with a light absorbing substance is formed on the first substrate.
【００２９】アライメントマーク加工工程では、前記第
１の基板の有効領域外の所定部分の前記感光性レジスト
薄層をレーザー加工によりアライメントマーク部分を残
して除去加工する。In the alignment mark processing step, a predetermined portion of the photosensitive resist thin layer outside the effective area of the first substrate is removed by laser processing while leaving an alignment mark portion.
【００３０】ブラックマトリクス露光工程では、前記ア
ライメント加工を施した第１の基板の感光性レジスト薄
層をブラックマトリクスパターンおよび前記アライメン
トマーク部分とに対応する開口を有する露光マスクを用
いて露光する。このとき、アライメントマーク部分の感
光性レジストも露光により架橋反応が行われて現像液に
不溶性となる。In the black matrix exposure step, the photosensitive resist thin layer of the first substrate subjected to the alignment processing is exposed using an exposure mask having openings corresponding to the black matrix pattern and the alignment mark portions. At this time, the photosensitive resist in the alignment mark portion also undergoes a crosslinking reaction by exposure and becomes insoluble in the developer.
【００３１】現像工程では、露光後の前記第１の基板の
感光性レジストを現像して前記アライメントマークおよ
びブラックマトリクスを形成する。In the developing step, the photosensitive resist on the exposed first substrate is developed to form the alignment marks and the black matrix.
【００３２】硬化工程では、前記アライメントマークお
よびブラックマトリクスを形成した前記第１の基板をベ
ーキングして前記アライメントマークおよびブラックマ
トリクスを硬化する。In the curing step, the alignment mark and the black matrix are cured by baking the first substrate on which the alignment mark and the black matrix are formed.
【００３３】そして、カラーフィルタ形成工程では、前
記第１の基板に前記ブラックマトリクスで区画された複
数のカラーフィルタを形成する。Then, in the color filter forming step, a plurality of color filters partitioned by the black matrix are formed on the first substrate.
【００３４】さらに、上記第３の発明の構成において、
レジスト塗布工程では、前記第１の基板に吸光物質を混
入した有機材料を主体としたレジストの薄層を形成す
る。Further, in the configuration of the third invention,
In the resist coating step, a thin layer of resist mainly composed of an organic material mixed with a light absorbing substance is formed on the first substrate.
【００３５】アライメントマーク加工工程では、前記第
１の基板の有効領域外の所定部分の前記レジスト薄層を
レーザー加工によりアライメントマーク部分を残して除
去加工する。In the alignment mark processing step, a predetermined portion of the resist thin layer outside the effective area of the first substrate is removed by laser processing while leaving an alignment mark portion.
【００３６】感光性レジスト塗布工程では、前記アライ
メントマーク加工を施した第１の基板の前記ブラックマ
トリクス用薄層を覆ってネガ型の感光性レジストを塗布
する。In the photosensitive resist coating step, a negative photosensitive resist is coated so as to cover the black matrix thin layer of the first substrate on which the alignment mark processing has been performed.
【００３７】ブラックマトリクス露光工程では、前記感
光性レジストをブラックマトリクスパターンと前記アラ
イメントマークに対応する開口を有する露光マスクを用
いて露光する。In the black matrix exposure step, the photosensitive resist is exposed using an exposure mask having openings corresponding to the black matrix pattern and the alignment marks.
【００３８】現像工程では、露光後の前記第１の基板の
感光性レジストを現像して前記アライメントマークおよ
びブラックマトリクス部分に被覆された露光済みの感光
性レジストを残存させる。In the developing step, the photosensitive resist on the first substrate after exposure is developed to leave the exposed photosensitive resist coated on the alignment marks and the black matrix portion.
【００３９】硬化工程では、前記アライメントマークお
よびブラックマトリクスを形成した前記第１の基板をベ
ーキングして前記残存した感光性レジストを除去すると
共に前記アライメントマークおよびブラックマトリクス
を硬化する。In the curing step, the first substrate on which the alignment marks and the black matrix are formed is baked to remove the remaining photosensitive resist, and the alignment marks and the black matrix are cured.
【００４０】そして、カラーフィルタ形成工程では、前
記第１の基板に前記ブラックマトリクスで区画された複
数のカラーフィルタを形成する。Then, in the color filter forming step, a plurality of color filters partitioned by the black matrix are formed on the first substrate.
【００４１】上記各本発明により、有機ブラックマトリ
クス材料の薄層に高精度の製造用のアライメントマーク
を形成でき、このアライメントマークを用いて組み立て
ることにより、高品質の画像を表示できる液晶表示装置
が得られる。According to each of the above inventions, a highly accurate alignment mark for manufacturing can be formed on a thin layer of an organic black matrix material, and by assembling using this alignment mark, a liquid crystal display device capable of displaying a high quality image is provided. can get.
【００４２】[0042]
【実施例】以下、本発明の実施例につき、図面を参照し
て詳細に説明する。Embodiments of the present invention will now be described in detail with reference to the drawings.
【００４３】図１は本発明による液晶表示装置の製造方
法の第１実施例を説明する概略工程図であって、まず、
工程（ａ）では、カラーフィルタ基板となる第１のガラ
ス基板に吸光物質を混入した感光性の有機材料を主体と
したブラックマトリクス材料を塗布して感光性レジスト
薄層を形成する。FIG. 1 is a schematic process diagram for explaining a first embodiment of a method of manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention.
In the step (a), a black matrix material composed mainly of a photosensitive organic material mixed with a light-absorbing substance is applied to the first glass substrate to be a color filter substrate to form a photosensitive resist thin layer.
【００４４】工程（ｂ）では、第１の基板の有効領域外
の所定部分の前記感光性レジスト薄層をレーザー加工に
よりアライメントマーク部分を残して除去加工する。In the step (b), a predetermined portion of the photosensitive resist thin layer outside the effective region of the first substrate is removed by laser processing while leaving an alignment mark portion.
【００４５】工程（ｃ）では、前記アライメント加工を
施した第１の基板の感光性レジスト薄層をブラックマト
リクスパターンおよび前記アライメントマーク部分とに
対応する開口を有する露光マスクを用いて露光する。In the step (c), the photosensitive resist thin layer of the first substrate subjected to the alignment process is exposed by using an exposure mask having openings corresponding to the black matrix pattern and the alignment mark portions.
【００４６】工程（ｄ）では、露光後の前記第１の基板
の感光性レジストを現像して前記アライメントマークお
よびブラックマトリクスを形成する。In step (d), the photosensitive resist on the first substrate after exposure is developed to form the alignment marks and the black matrix.
【００４７】工程（ｅ）では、前記アライメントマーク
およびブラックマトリクスを形成した前記第１の基板を
ベーキングして前記アライメントマークおよびブラック
マトリクスを硬化する。In the step (e), the alignment mark and the black matrix are cured by baking the first substrate on which the alignment mark and the black matrix are formed.
【００４８】そして、工程（ｆ）では、前記第１の基板
に前記ブラックマトリクスで区画された複数のカラーフ
ィルタを形成する。この工程（ｆ）は感光性レジストの
塗布とフォトマスクを用いた既知のフォトリソグラフィ
ー技術によるパターニングを必要とする複数色のカラー
フィルタについて実行する。Then, in the step (f), a plurality of color filters partitioned by the black matrix are formed on the first substrate. This step (f) is executed for a color filter of a plurality of colors that requires application of a photosensitive resist and patterning by a known photolithography technique using a photomask.
【００４９】その後、カラーフィルタの上に平滑層、第
１の透明電極、配向膜等の必要とする成膜を行い、別途
作成した第２の基板と重ね合わせ、両基板間に液晶層を
封入して液晶表示装置を完成させる。After that, a required layer such as a smooth layer, a first transparent electrode, and an alignment film is formed on the color filter, and the second substrate prepared separately is superposed, and a liquid crystal layer is sealed between both substrates. Then, the liquid crystal display device is completed.
【００５０】図２、図３、図４は本発明による液晶表示
装置の製造方法の第１実施例を詳細に説明する概略工程
図であって、図２の工程（ａ）〜図４の工程（ｋ）でカ
ラーフィルタ基板が製造される。FIGS. 2, 3 and 4 are schematic process diagrams for explaining in detail the first embodiment of the method for manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention, wherein steps (a) to FIG. 4 in FIG. A color filter substrate is manufactured in (k).
【００５１】同図において、ＳＵＢ１は第１の基板、Ｂ
Ｍはブラックマトリクス、ＢＭ’はブラックマトリクス
用の感光性レジスト薄層、ＬＰはレーザー光、ＭＡＳＫ
−０はアライメントマーク用フォトマスク、ＡＭはアラ
イメントマーク、ＭＡＳＫ−１はブラックマトリクス用
フォトマスク、ＵＶは紫外線、ＦＩＬ（Ｒ）’は赤色カ
ラーフィルタ用感光性レジスト、ＭＡＳＫ−２は赤色カ
ラーフィルタ用フォトマスク、ＦＩＬ（Ｒ）は赤色カラ
ーフィルタ、ＦＩＬ（Ｇ）は緑色用カラーフィルタ、Ｆ
ＩＬ（Ｂ）は青色用カラーフィルタ、ＯＣは保護層（平
滑層またはオーバーコート）、ＩＴＯは第１の透明電極
である。In the figure, SUB1 is the first substrate, B
M is a black matrix, BM 'is a thin photosensitive resist layer for the black matrix, LP is a laser beam, MASK
-0 is an alignment mark photomask, AM is an alignment mark, MASK-1 is a black matrix photomask, UV is ultraviolet rays, FIL (R) 'is a photosensitive resist for a red color filter, and MASK-2 is a red color filter. Photomask, FIL (R) is red color filter, FIL (G) is green color filter, F
IL (B) is a blue color filter, OC is a protective layer (smooth layer or overcoat), and ITO is a first transparent electrode.
【００５２】先ず、図２の（ａ）では、第１の基板ＳＵ
Ｂ１上に黒色顔料を分散したネガ型感光性レジスト薄層
をスピンコートしてブラックマトリクス用の感光性レジ
スト薄層ＢＭ’を成膜する。First, in FIG. 2A, the first substrate SU is
A negative type photosensitive resist thin layer in which a black pigment is dispersed is spin-coated on B1 to form a photosensitive resist thin layer BM 'for a black matrix.
【００５３】（ｂ）第１の基板ＳＵＢ１の所定の位置に
アライメントマークの開口を有する耐レーザーのフォト
マスクＭＡＳＫ−０を用いて上記感光性レジスト薄層Ｂ
Ｍ’をレーザーＬＰを照射して加工し、（ｃ）に示した
ように所定のアライメントマーク形状を形成する。(B) Using the laser resistant photomask MASK-0 having an alignment mark opening at a predetermined position of the first substrate SUB1, the above-mentioned photosensitive resist thin layer B is used.
M'is irradiated with a laser LP to be processed to form a predetermined alignment mark shape as shown in (c).
【００５４】次に、（ｄ）ブラックマトリクスの開口パ
ターンと上記アライメントマーク形状部分に開口を有す
るブラックマスク用のフォトマスクＭＡＳＫ−１を介し
て紫外線ＵＶで露光し、現像し、さらにベーキングを施
して、（ｅ）に示したようにブラックマトリクスＢＭと
アライメントマークＡＭを形成する。Next, (d) the substrate is exposed to ultraviolet rays UV through a black mask opening pattern and a photomask MASK-1 for a black mask having an opening in the alignment mark shape portion, developed, and baked. , The black matrix BM and the alignment mark AM are formed as shown in FIG.
【００５５】上記のようにして製作したブラックマトリ
クスＢＭとアライメントマークＡＭを形成した第１の基
板ＳＵＢ１に所要のカラーフィルタを形成する。A required color filter is formed on the first substrate SUB1 on which the black matrix BM and the alignment mark AM formed as described above are formed.
【００５６】図３の（ｆ）は第１色のカラーフィルタＦ
ＩＬ（Ｒ）用の顔料を分散した感光性レジストＦＩＬ
（Ｒ）’を塗布し、（ｇ）ＦＩＬ（Ｒ）用のフォトマス
クＭＡＳＫ−２を介して紫外線ＵＶを照射し、現像して
（ｈ）に示したように第１色のカラーフィルタＦＩＬ
（Ｒ）を形成する。FIG. 3F shows the color filter F for the first color.
Photosensitive resist FIL in which a pigment for IL (R) is dispersed
(R) ′ is applied, (g) UV light is radiated through a photomask MASK-2 for FIL (R), and development is performed to develop a color filter FIL of the first color as shown in (h).
(R) is formed.
【００５７】同様にして、（ｉ）第２色のカラーフィル
タＦＩＬ（Ｇ）と第３色のカラーフィルタＦＩＬ（Ｂ）
を形成する。Similarly, (i) second color filter FIL (G) and third color filter FIL (B)
To form.
【００５８】そして、（ｊ）カラーフィルタＦＩＬ
（Ｒ）、ＦＩＬ（Ｇ）、ＦＩＬ（Ｂ）を覆ってオーバー
コートＯＣを形成し、図４の（ｋ）に示したように第１
の透明電極ＩＴＯを成膜してカラーフィルタ基板を得
る。Then, (j) the color filter FIL
An overcoat OC is formed so as to cover (R), FIL (G), and FIL (B), and then, as shown in (k) of FIG.
A transparent electrode ITO is deposited to obtain a color filter substrate.
【００５９】なお、上記第１の透明電極ＩＴＯの上に、
必要に応じて配向膜を塗布し、別途製作した他方の基板
（第２の基板）と貼り合わせ、両基板の間に液晶を封入
して液晶表示装置を組み立てる。On the first transparent electrode ITO,
If necessary, an alignment film is applied and bonded to the other substrate (second substrate) separately manufactured, and liquid crystal is sealed between both substrates to assemble a liquid crystal display device.
【００６０】上記実施例により、第１の基板に成膜する
各種の構造層の位置を高精度で位置合わせできると共
に、第２の基板との間の位置も正確に位置ずけすること
が可能となる。According to the above-described embodiment, the positions of various structural layers formed on the first substrate can be aligned with high accuracy, and the position between the structural substrate and the second substrate can be accurately aligned. Becomes
【００６１】図５は本発明によって形成するアライメン
トマークの基板上の代表的な位置を説明するマザー基板
の平面図であって、ＳＵＢ１’はマザー基板、〜は
第１の基板、Ａ〜Ｊはアライメントマークの位置であ
る。FIG. 5 is a plan view of a mother substrate for explaining typical positions on the substrate of alignment marks formed according to the present invention. SUB1 ′ is a mother substrate, is a first substrate, and A to J are. This is the position of the alignment mark.
【００６２】この例は所謂４枚取りのマザー基板であ
り、１枚のマザー基板ＳＵＢ１’から４枚の第１の基板
、、、を得るものである。This example is a so-called four-piece mother substrate, and one mother substrate SUB1 ′ to four first substrates are obtained.
【００６３】同図において、このマザー基板ＳＵＢ１’
に形成する製造用のアライメントマークＡ〜Ｊは、図示
したように当該マザー基板の隅部、および各第１の基板
、、、の隅部あるいは辺縁に形成される。In this figure, this mother substrate SUB1 '
The manufacturing alignment marks A to J to be formed on the first substrate are formed on the corners of the mother substrate and the corners or edges of the respective first substrates, as shown in FIG.
【００６４】なお、図示したアライメントマークの位置
はあくまで一例であり、この他に必要とする位置に適宜
形成する。The positions of the alignment marks shown in the figure are merely examples, and the positions of the alignment marks are appropriately formed at other required positions.
【００６５】図６は本発明において形成されるアライメ
ントマークの形状例を説明する模式図であって、ＡＲ１
は第１の基板に形成されるアライメントマーク、ＡＲ２
は第２の基板に形成されるアライメントマークである。FIG. 6 is a schematic diagram for explaining an example of the shape of the alignment mark formed in the present invention.
Is an alignment mark formed on the first substrate, AR2
Is an alignment mark formed on the second substrate.
【００６６】ここでは、第１の基板と第２の基板の位置
合わせにアライメントマークＡＲ１とＡＲ２を用いる。Here, the alignment marks AR1 and AR2 are used to align the first substrate and the second substrate.
【００６７】アライメントマークＡＲ１，ＡＲ２を構成
する線幅は１０μｍ、両者を正確に重ね合わせたときの
マーク間の間隔は５μｍとしている。The line width forming the alignment marks AR1 and AR2 is 10 μm, and the distance between the marks when both are accurately superimposed is 5 μm.
【００６８】本発明によるアライメントマークはレーザ
ー加工で形成するため、アライメントマークのエッジは
シャープであり、上記の寸法は正確に出すことができ、
製造した液晶表示装置は高精度を持つものとなる。Since the alignment mark according to the present invention is formed by laser processing, the edge of the alignment mark is sharp and the above dimensions can be accurately obtained.
The manufactured liquid crystal display device has high accuracy.
【００６９】なお、同図のアライメントマークＡＲ２は
第２の基板に付してあるが、このマークをブラックマト
リクスＢＭや各カラーフィルタＦＩＬ（Ｒ）、ＦＩＬ
（Ｇ）、ＦＩＬ（Ｂ）を露光する際のフォトマスクＭＡ
ＳＫ−１，ＭＡＳＫ−２の位置合わせのために当該フォ
トマスクに付して置くこともできる。Although the alignment mark AR2 in the figure is attached to the second substrate, this mark is used as the black matrix BM and each color filter FIL (R), FIL.
(G), FIL (B) photomask MA for exposure
It can also be attached to the photomask for alignment of SK-1 and MASK-2.
【００７０】図７は本発明による液晶表示装置の製造方
法の第２実施例を説明する概略工程図であって、まず、
工程（ａ）では、カラーフィルタ基板となる第１のガラ
ス基板に吸光物質を混入した有機材料を主体としたブラ
ックマトリクス材料を塗布してレジスト薄層を形成す
る。FIG. 7 is a schematic process diagram for explaining the second embodiment of the method of manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention.
In the step (a), a black matrix material composed mainly of an organic material mixed with a light-absorbing substance is applied to the first glass substrate to be a color filter substrate to form a resist thin layer.
【００７１】工程（ｂ）では、第１の基板の有効領域外
の所定部分の前記レジスト薄層をレーザー加工によりア
ライメントマーク部分を残して除去加工する。In the step (b), a predetermined portion of the resist thin layer outside the effective region of the first substrate is removed by laser processing while leaving an alignment mark portion.
【００７２】工程（ｃ）では、前記アライメント加工を
施した第１の基板に感光性レジストを塗布し、（ｄ）こ
れをブラックマトリクスパターンおよび前記アライメン
トマーク部分とに対応する開口を有する露光マスクを用
いて露光する。In step (c), a photosensitive resist is applied to the first substrate subjected to the alignment process, and (d) an exposure mask having openings corresponding to the black matrix pattern and the alignment mark portions is applied. Use to expose.
【００７３】工程（ｅ）では、露光後の前記第１の基板
の感光性レジストを現像して前記アライメントマークお
よびブラックマトリクス部分を残して非露光部分の感光
性レジストを除去する。In step (e), the photosensitive resist on the first substrate after exposure is developed to remove the photosensitive resist on the non-exposed portions, leaving the alignment marks and the black matrix portion.
【００７４】工程（ｆ）では、前記アライメントマーク
およびブラックマトリクスを露光現像で残された感光性
レジストと共に前記第１の基板をベーキングして感光性
レジストを焼失させ、前記アライメントマークおよびブ
ラックマトリクスを硬化する。In step (f), the alignment mark and the black matrix are baked together with the photosensitive resist left after exposure and development to burn off the photosensitive resist, and the alignment mark and the black matrix are cured. To do.
【００７５】そして、工程（ｇ）では、前記第１の基板
に前記ブラックマトリクスで区画された複数のカラーフ
ィルタを形成する。この工程（ｇ）は感光性レジストの
塗布とフォトマスクを用いた既知のフォトリソグラフィ
ー技術によるパターニングを必要とする複数色のカラー
フィルタについて実行するもので、前記図２〜図３
（ｉ）で説明したものと同様の工程からなる。Then, in step (g), a plurality of color filters partitioned by the black matrix are formed on the first substrate. This step (g) is performed for a color filter of a plurality of colors that requires application of a photosensitive resist and patterning by a known photolithography technique using a photomask.
The steps are the same as those described in (i).
【００７６】その後、前記図３（ｊ）と図４（ｋ）と同
様に、カラーフィルタの上に平滑層、第１の透明電極、
配向膜等の必要とする成膜を行い、別途作成した第２の
基板と重ね合わせ、両基板間に液晶層を封入して液晶表
示装置を完成させる。Thereafter, as in the case of FIG. 3 (j) and FIG. 4 (k), the smoothing layer, the first transparent electrode, and
A necessary film formation such as an alignment film is performed, and the second substrate is separately prepared, and the liquid crystal layer is sealed between both substrates to complete the liquid crystal display device.
【００７７】上記実施例により、第１の基板に成膜する
各種の構造層の位置を高精度で位置合わせできると共
に、第２の基板との間の位置も正確に位置ずけすること
が可能となる。According to the above-mentioned embodiment, the positions of various structural layers to be formed on the first substrate can be aligned with high precision, and the position between the second substrate and the second substrate can be accurately aligned. Becomes
【００７８】図８は本発明の製造方法で製造した液晶表
示装置の全体構造例を説明する展開斜視図であって、６
１は上フレーム、６２は下フレーム、６３は表示領域で
形成される液晶表示窓、６４は一方の基板にカラーフィ
ルタを具備して偏光フィルム等の光学材を組み合わせて
なる表示パネル（液晶表示素子）、６５は駆動回路基
板、６８はスペーサ、６９は光拡散板と導光板および反
射板からなる導光体組立、７０は線状のバックライト光
源を搭載する中間フレーム、７６は冷陰極管からなる線
形上のバックライト光源（ランプ）、７７はランプカバ
ー、である。FIG. 8 is a developed perspective view illustrating an example of the overall structure of the liquid crystal display device manufactured by the manufacturing method of the present invention.
1 is an upper frame, 62 is a lower frame, 63 is a liquid crystal display window formed in a display area, 64 is a display panel (liquid crystal display element) which is provided with a color filter on one substrate and is combined with an optical material such as a polarizing film. ), 65 is a drive circuit board, 68 is a spacer, 69 is a light guide assembly composed of a light diffusion plate, a light guide plate and a reflection plate, 70 is an intermediate frame on which a linear backlight light source is mounted, and 76 is a cold cathode tube. Is a linear backlight light source (lamp), and 77 is a lamp cover.
【００７９】また、７２は駆動回路基板６５に形成され
たグランドパット７１に接触される切り起こし片、７３
は下フレームに形成した爪受け７４に固定する爪、７５
は上フレーム６１と液晶表示パネル６４を固定する粘着
テープ、８０，８１はバックライトの中央部に直交する
線に対称な位置に設けた切り抜き部、８２，８３はバッ
クライト光源７６の長手方向に設けた切り抜き部、７
８，７９はバックライト光源７５の両端部の下方部分に
設けた切欠きである。また、上フレーム６１は例えば
０．８ｍｍ厚の鋼板で、下フレーム６２は鋼板あるいは
相当厚例えば０．５ｍｍ厚のアルミニウムで構成され
る。Reference numeral 72 is a cut-and-raised piece which comes into contact with the ground pad 71 formed on the drive circuit board 65, and 73.
Is a claw fixed to a claw receiver 74 formed on the lower frame, 75
Is an adhesive tape for fixing the upper frame 61 and the liquid crystal display panel 64, 80 and 81 are cutouts provided at positions symmetrical to a line orthogonal to the central portion of the backlight, and 82 and 83 are in the longitudinal direction of the backlight light source 76. Cutouts provided, 7
Reference numerals 8 and 79 are notches provided at lower portions of both ends of the backlight light source 75. The upper frame 61 is made of a steel plate having a thickness of 0.8 mm, for example, and the lower frame 62 is made of a steel plate or aluminum having a considerable thickness of, for example, 0.5 mm.
【００８０】同図において、液晶表示素子６５は図に示
される順序で上フレーム６１と下フレーム６２とで挟持
固定される。中間フレーム７０の一端側には冷陰極管か
らなる線状光源（バックライト光源）７６が設置され、
ランプカバー７７で液晶表示パネル６４方向への直接光
を遮断し、その発光光を光拡散板と導光板からなる導光
体組立３７側に指向させる。In the figure, the liquid crystal display element 65 is sandwiched and fixed by the upper frame 61 and the lower frame 62 in the order shown. A linear light source (backlight light source) 76 including a cold cathode tube is installed on one end side of the intermediate frame 70.
The lamp cover 77 blocks direct light in the direction of the liquid crystal display panel 64, and directs the emitted light toward the light guide assembly 37 side including the light diffusion plate and the light guide plate.
【００８１】スペーサ６８は中間フレーム７０に形成さ
れた凹部に設置される導光体組立６９と液晶表示パネル
６４との間に介在して表示領域を確定する。The spacer 68 is interposed between the light guide assembly 69 installed in the recess formed in the intermediate frame 70 and the liquid crystal display panel 64 to define the display area.
【００８２】下フレーム６２の前記バックライト光源７
６と直交する方向に少なくとも前記液晶表示パネル６４
の領域にわたって上記バックライト光源の中央部に直交
する線に対称な位置に少なくとも一対の切り抜き部８
０，８１が設けられ、前記バックライト光源７６の直下
に当該バックライト光源７６の長手方向に設けた少なく
とも２つの切り抜き部８２，８３と、前記バックライト
光源７６の両端部の下方部分に設けた切欠き７８，７９
とが形成されている。The backlight light source 7 of the lower frame 62
6 at least in the direction orthogonal to the liquid crystal display panel 64
Over at least a pair of cutouts 8 at positions symmetrical to a line orthogonal to the central portion of the backlight light source.
0 and 81 are provided, and at least two cutouts 82 and 83 provided in the longitudinal direction of the backlight light source 76 are provided directly below the backlight light source 76, and are provided at lower portions of both ends of the backlight light source 76. Notches 78, 79
And are formed.
【００８３】上フレーム６１をステンレス薄板で、下フ
レーム６２をアルミニウム薄板で構成することで液晶表
示装置の剛性を低下させることなく薄型，軽量化を達成
すると共に、バックライト光源７６と直交する方向に少
なくとも液晶表示パネル６４の領域にわたって上記バッ
クライト光源の中央部に直交する線に対称な位置に設け
た切り抜き部８０，８１、バックライト光源７６の直下
に当該バックライト光源の長手方向に設けた切り抜き部
８２，８３、前記バックライト光源７６の両端部の下方
部分に設けた切欠き７８，７９とで放熱効果が向上し、
液晶表示パネル６４の全面に均一な温度分布を形成し、
表示むらの発生が防止される。By constructing the upper frame 61 with a stainless thin plate and the lower frame 62 with an aluminum thin plate, the liquid crystal display device can be made thin and lightweight without lowering its rigidity, and in the direction orthogonal to the backlight light source 76. Cutouts 80, 81 provided at positions symmetrical to a line orthogonal to the central portion of the backlight light source over at least the region of the liquid crystal display panel 64, and a cutout provided immediately below the backlight light source 76 in the longitudinal direction of the backlight light source. The heat dissipation effect is improved by the portions 82 and 83 and the notches 78 and 79 provided in the lower portions of both ends of the backlight light source 76,
Forming a uniform temperature distribution on the entire surface of the liquid crystal display panel 64,
The occurrence of display unevenness is prevented.
【００８４】バックライト光源７６の両端部は、特に、
温度低下を起因とする輝度の低下を招く部分であり、液
晶表示パネルの温度分布の均一化を維持できる範囲で、
温度を高くしておく必要がある。そこで、切欠き７８，
７９を設け、液晶表示パネルの温度分布の均一化を図り
つつ、輝度の低下を防止している。機能的には上記切り
抜き部８２，８３と同様の効果を生じる。Both ends of the backlight light source 76 are
This is a part that causes a decrease in brightness due to a decrease in temperature, and within the range in which the temperature distribution of the liquid crystal display panel can be maintained uniform.
It is necessary to keep the temperature high. Therefore, the notch 78,
By providing 79, the temperature distribution of the liquid crystal display panel is made uniform and the luminance is prevented from being lowered. Functionally, the same effect as the cutouts 82 and 83 is produced.
【００８５】そして、液晶表示パネル６４の領域にわた
って上記バックライト光源の中央部に直交する線に対称
な位置に設けた切り抜き部８０，８１は、下フレーム６
２の重量を軽くするとともに、液晶表示パネルの温度分
布の均一化を図っている。Then, the cutouts 80, 81 provided at positions symmetrical with respect to the line orthogonal to the central portion of the backlight light source over the area of the liquid crystal display panel 64 are the lower frame 6
In addition to reducing the weight of item 2, the temperature distribution of the liquid crystal display panel is made uniform.
【００８６】前記液晶パネル６４は本発明の製造方法に
より製作され、高品質の画像表示が得られる。The liquid crystal panel 64 is manufactured by the manufacturing method of the present invention, and high quality image display can be obtained.
【００８７】[0087]
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
高精細加工が必要とされるアライメントマークのみをレ
ーザー加工するものであるため、この工程が追加となっ
ても製造プロセスのスタンダードタイムは大幅に増大す
ることはなく、高解像度のアライメントマークが得られ
ることで設計マージンが広がり、開口率の向上に寄与す
るという大きな効果がある。As described above, according to the present invention,
Since only the alignment marks that require high-definition processing are laser processed, the standard time of the manufacturing process does not increase significantly even if this step is added, and high-resolution alignment marks can be obtained. This has a great effect that the design margin is widened and contributes to the improvement of the aperture ratio.
【００８８】また、製造工程における位置合わせ精度が
上がることにより、製品の歩留りが著しく向上し、高品
質の液晶表示装置を低コストで製造することが可能とな
る。Further, since the positioning accuracy in the manufacturing process is improved, the product yield is remarkably improved, and a high quality liquid crystal display device can be manufactured at low cost.
【図１】本発明による液晶表示装置の製造方法の第１実
施例を説明する概略工程図である。FIG. 1 is a schematic process diagram illustrating a first embodiment of a method of manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention.
【図２】本発明による液晶表示装置の製造方法の第１実
施例を詳細に説明する概略部分工程図である。FIG. 2 is a schematic partial process diagram for explaining the first embodiment of the method of manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention in detail.
【図３】本発明による液晶表示装置の製造方法の第１実
施例を詳細に説明する概略部分工程図である。FIG. 3 is a schematic partial process diagram for explaining the first embodiment of the method of manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention in detail.
【図４】本発明による液晶表示装置の製造方法の第１実
施例を詳細に説明する概略部分工程図である。FIG. 4 is a schematic partial process diagram for explaining the first embodiment of the method of manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention in detail.
【図５】本発明によって形成するアライメントマークの
基板上の代表的な位置を説明するマザー基板の平面図で
ある。FIG. 5 is a plan view of a mother substrate illustrating typical positions on the substrate of alignment marks formed according to the present invention.
【図６】本発明において形成されるアライメントマーク
の形状例を説明する模式図である。FIG. 6 is a schematic diagram illustrating an example of the shape of an alignment mark formed in the present invention.
【図７】本発明による液晶表示装置の製造方法の第２実
施例を説明する概略工程図である。FIG. 7 is a schematic process diagram illustrating a second embodiment of the method of manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention.
【図８】本発明の製造方法で製造した液晶表示装置の全
体構造例を説明する展開斜視図である。FIG. 8 is a developed perspective view illustrating an example of the overall structure of a liquid crystal display device manufactured by the manufacturing method of the present invention.
【図９】従来技術によるブラックマトリクスの製造方法
の概略を説明する製造工程図である。FIG. 9 is a manufacturing process diagram illustrating the outline of a method for manufacturing a black matrix according to a conventional technique.
ＳＵＢ１ 第１の基板 ＢＭ ブラックマトリクス ＢＭ’ ブラックマトリクス用の感光性レジスト薄層 ＬＰ レーザー光 ＭＡＳＫ−０ アライメントマーク用フォトマスク ＡＭ アライメントマーク ＭＡＳＫ−１ ブラックマトリクス用フォトマスク ＵＶ 紫外線 ＦＩＬ（Ｒ）’ 赤色カラーフィルタ用感光性レジスト ＭＡＳＫ−２ 赤色カラーフィルタ用フォトマスク ＦＩＬ（Ｒ） 赤色カラーフィルタ ＦＩＬ（Ｇ） 緑色用カラーフィルタ ＦＩＬ（Ｂ） 青色用カラーフィルタ ＯＣ 保護層（平滑層またはオーバーコート） ＩＴＯ 第１の透明電極。 SUB1 First substrate BM Black matrix BM 'Photosensitive resist thin layer for black matrix LP Laser light MASK-0 Photomask for alignment mark AM Alignment mark MASK-1 Photomask for black matrix UV UV FIL (R)' Red color Photosensitive resist for filter MASK-2 Photomask for red color filter FIL (R) Red color filter FIL (G) Color filter for green FIL (B) Color filter for blue OC Protective layer (smooth layer or overcoat) ITO No. 1 Transparent electrode.
フロントページの続き (72)発明者 佐藤 敏男 千葉県茂原市早野3681番地 日立デバイス エンジニアリング株式会社内 (72)発明者 大和田 淳一 千葉県茂原市早野3300番地 株式会社日立 製作所電子デバイス事業部内Front Page Continuation (72) Inventor Toshio Sato 3681 Hayano, Mobara-shi, Chiba Hitachi Device Engineering Co., Ltd. (72) Junichi Owada 3300 Hayano, Mobara-shi, Chiba Hitachi, Ltd. Electronic Devices Division
Claims (3)
ラーフィルタと前記カラーフィルタ上に形成した第１の
透明電極とを少なくとも有する第１の基板と、前記第１
の透明電極と対をなして画素を構成する第２の透明電極
を有する第２の基板と、前記第１の基板と第２の基板の
間に液晶層を封止してなる液晶表示装置の製造方法にお
いて、 前記第１の基板に形成した吸光物質を混入した有機材料
を主体としたネガ型の感光性レジストの薄層にレーザー
加工で製造用の位置設定手段であるアライメントマーク
を形成することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。1. A first substrate having at least a plurality of color filters partitioned by a black matrix and a first transparent electrode formed on the color filters; and the first substrate.
A second substrate having a second transparent electrode which forms a pixel by forming a pair with the transparent electrode, and a liquid crystal display device in which a liquid crystal layer is sealed between the first substrate and the second substrate. In the manufacturing method, forming an alignment mark, which is a position setting means for manufacturing, by laser processing on a thin layer of a negative photosensitive resist mainly composed of an organic material mixed with a light-absorbing substance formed on the first substrate. A method for manufacturing a liquid crystal display device, comprising:
光物質を混入した有機材料を主体としたネガ型の感光性
レジストの薄層を形成するレジスト塗布工程と、 前記第１の基板の有効領域外の所定部分の前記感光性レ
ジスト薄層をレーザー加工によりアライメントマーク部
分を残して除去加工するアライメントマーク加工工程
と、 前記アライメント加工を施した第１の基板の感光性レジ
スト薄層をブラックマトリクスパターンおよび前記アラ
イメントマーク部分とに対応する開口を有する露光マス
クを用いて露光するブラックマトリクス露光工程と、 露光後の前記第１の基板の感光性レジストを現像して前
記アライメントマークおよびブラックマトリクスを形成
する現像工程と、 前記アライメントマークおよびブラックマトリクスを形
成した前記第１の基板をベーキングして前記アライメン
トマークおよびブラックマトリクスを硬化する硬化工程
と、 前記第１の基板に前記ブラックマトリクスで区画された
複数のカラーフィルタを形成するカラーフィルタ形成工
程とを少なくとも含むことを特徴とする液晶表示装置の
製造方法。2. The resist coating step of forming a thin layer of a negative photosensitive resist mainly composed of an organic material mixed with a light-absorbing substance on the first substrate, the first substrate according to claim 1. An alignment mark processing step of removing a predetermined portion of the photosensitive resist thin layer outside the effective region of the substrate by laser processing while leaving an alignment mark portion, and a photosensitive resist thin layer of the first substrate subjected to the alignment processing. A black matrix exposure step of exposing using an exposure mask having openings corresponding to the black matrix pattern and the alignment mark portion; and the alignment mark and the black matrix by developing the photosensitive resist of the first substrate after the exposure. And a developing process for forming the alignment mark and the black matrix. At least a curing step of baking the first substrate to cure the alignment mark and the black matrix, and a color filter forming step of forming a plurality of color filters partitioned by the black matrix on the first substrate. A method of manufacturing a liquid crystal display device, comprising:
光物質を混入した有機材料を主体としたレジストの薄層
を形成するレジスト塗布工程と、 前記第１の基板の有効領域外の所定部分の前記レジスト
薄層をレーザー加工によりアライメントマーク部分を残
して除去加工するアライメントマーク加工工程と、 前記アライメントマーク加工を施した第１の基板の前記
ブラックマトリクス用薄層を覆ってネガ型の感光性レジ
ストを塗布する感光性レジスト塗布工程と、 前記感光性レジストをブラックマトリクスパターンと前
記アライメントマークに対応する開口を有する露光マス
クを用いて露光するブラックマトリクス露光工程と、 露光後の前記第１の基板の感光性レジストを現像して前
記アライメントマークおよびブラックマトリクス部分に
感光性レジストを残存させる現像工程と、 前記現像後の第１の基板から前記残存した感光性レジス
トを除去すると共に前記アライメントマークとブラック
マトリクスを硬化する硬化工程と、 前記第１の基板に前記ブラックマトリクスで区画された
複数のカラーフィルタを形成するカラーフィルタ形成工
程とを少なくとも含むことを特徴とする液晶表示装置の
製造方法。3. The resist coating step of forming a thin layer of a resist mainly composed of an organic material mixed with a light-absorbing substance on the first substrate, and the step of applying a resist outside the effective area of the first substrate. An alignment mark processing step of removing a predetermined portion of the resist thin layer by laser processing while leaving an alignment mark portion, and a negative type covering a black matrix thin layer of the first substrate on which the alignment mark processing is performed. A photosensitive resist applying step of applying a photosensitive resist; a black matrix exposing step of exposing the photosensitive resist using an exposure mask having openings corresponding to a black matrix pattern and the alignment marks; Develop the photosensitive resist on the substrate of the A developing step of leaving the photosensitive resist remaining, a curing step of removing the remaining photosensitive resist from the first substrate after the developing and hardening the alignment marks and the black matrix, and the black on the first substrate. A method for manufacturing a liquid crystal display device, comprising at least a color filter forming step of forming a plurality of color filters partitioned by a matrix.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13224795A JPH08327996A (en) | 1995-05-30 | 1995-05-30 | Production of liquid crystal display device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13224795A JPH08327996A (en) | 1995-05-30 | 1995-05-30 | Production of liquid crystal display device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08327996A true JPH08327996A (en) | 1996-12-13 |
Family
ID=15076814
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13224795A Pending JPH08327996A (en) | 1995-05-30 | 1995-05-30 | Production of liquid crystal display device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08327996A (en) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20000021037A (en) * | 1998-09-25 | 2000-04-15 | 손욱 | Method for fabricating black matrix for liquid crystal display |
| US6143450A (en) * | 1997-09-05 | 2000-11-07 | Canon Kabushiki Kaisha | Color filter substrate manufacturing method, color filter substrate manufactured by this manufacturing method, and liquid crystal element using this color filter substrate |
| JP2003084121A (en) * | 2001-09-14 | 2003-03-19 | Dainippon Printing Co Ltd | Color filter and method for manufacturing the same |
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| US20140268088A1 (en) * | 2013-03-12 | 2014-09-18 | Micronic Mydata AB | Mechanically produced alignment fiducial method and device |
-
1995
- 1995-05-30 JP JP13224795A patent/JPH08327996A/en active Pending
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| US9459540B2 (en) * | 2013-03-12 | 2016-10-04 | Mycronic AB | Mechanically produced alignment fiducial method and device |
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